JPH01319727A - 光学装置 - Google Patents

光学装置

Info

Publication number
JPH01319727A
JPH01319727A JP15382388A JP15382388A JPH01319727A JP H01319727 A JPH01319727 A JP H01319727A JP 15382388 A JP15382388 A JP 15382388A JP 15382388 A JP15382388 A JP 15382388A JP H01319727 A JPH01319727 A JP H01319727A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
intensity distribution
parallel light
light
parallel beam
parallel
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP15382388A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshiyuki Samejima
俊之 鮫島
Takashi Tomita
尚 冨田
Setsuo Usui
碓井 節夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP15382388A priority Critical patent/JPH01319727A/ja
Publication of JPH01319727A publication Critical patent/JPH01319727A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光学装置に関し、特に、均一強度の光照射を
行う場合に適用して好適なものである。
〔発明の概要〕
本発明の光学装置は、部分透過ミラーと、平行光の強度
分布を上記平行光の平行度を維持しつつ上記平行光に対
して垂直な所定の直線に関して反転または互いに逆方向
に移動させるための反転または移動手段とを有し、不均
一強度分布を有する入射平行光を上記部分透過ミラーに
より上記部分透過ミラーで反射される平行光と上記部分
透過ミラーを透過する平行光とに分割し、上記部分透過
ミラーを透過した上記平行光の強度分布を上記反転また
は移動手段により上記所定の直線に関して反転または互
いに逆方向に移動させ、上記強度分布が反転または互い
に逆方向に移動された上記平行光と上記部分透過ミラー
で反射された上記平行光とを重ね合わせることにより均
一強度分布の平行光を得るようにしている。これによっ
て、不均−強度分布を有する平行光を均一強度分布を有
する平行光に変換することができる。
〔従来の技術〕
縮小投影露光装置やレーザーアニール装置のようにラン
プやレーザーを光源として用いて光照射を行う装置にお
いては、照射場所による光量のばらつきを少なくするた
めに照射光量の均一化を行う必要がある。この照射光量
の均一化を行うためのビームホモジナイザーとして、第
11図に示すように、小さなレンズを蜂の巣状に多数配
列したフライアイ(fly−eye)レンズLyを用い
たものが知られている。この従来のビームホモジナイザ
ーによれば、フライアイレンズLrに平行ビームAを入
射させ、このフライアイレンズLFを構成する各レンズ
によって拡散された光を重ね合わせることにより、照射
面上での照射光量の均一化を行[発明が解決しようとす
る課題] 上述の従来のビームホモジナイザーにおいては、フライ
アイレンズL、によって光が拡散されることから、入射
光として平行ビームAを用いても出射光は平行ビームと
はならず、発散してしまう。
この結果、照射面上での単位面積当たりの光強度は低く
、従ってレーザーアニール等の高エネルギー密度の光照
射を行うことが必要な用途には上述の従来のビームホモ
ジナイザーは不向きであった。
従って本発明の目的は、不均一強度分布を有する平行光
を均一強度分布を有する平行光に変換することができる
光学装置を提供することにある。
〔課題を解決するための手段] 上記課題を解決するため、本発明の光学装置は、部分透
過ミラー(M)と、平行光の強度分布を平行光の平行度
を維持しつつ平行光に対して垂直な所定の直線に関して
反転または互いに逆方向に移動させるための反転または
移動手段(Lc、Lc′、P3、P3 ”)とを有し、
不均一強度分布を有する入射平行光(A)を部分透過ミ
ラー(M)により部分透過ミラー(M)で反射される平
行光と部分透過ミラー(M)を透過する平行光とに分割
し、部分透過ミラー(M)を透過した平行光の強度分布
を反転または移動手段(LC,Le ’、P3、P:+
  ′)により所定の直線に関して反転または互いに逆
方向に移動させ、強度分布が反転または互いに逆方向に
移動された平行光と部分透過ミラー(M)で反射された
平行光とを重ね合わせることにより均一強度分布の平行
光(B)を得るようにしている。
〔作用〕
第り図に示すビームホモジナイザーを例にとって本発明
の詳細な説明する。第1図に示すように、このビームホ
モジナイザーは、例えば誘電体多層膜から成る部分透過
ミラーMと、直角プリズムP6、P2と、互いに対向し
、かつ同軸に設けられた一対のシリンドリカルレンズ(
円柱レンズ)LClLC′とから成る。これらのシリン
ドリカルレンズLc 、Lc  ’は、平行光の強度分
布をその平行度を維持しつつこの平行光の中心軸に対し
て垂直でかつこの中心軸を通る直線に関して反転させる
ことができるように構成されている。
今、第2図Aに示すような不均一強度分布を有する平行
ビームAを部分透過ミラーMに対し45゜の角をなす方
向から入射させると、この入射平行ビームAはこの部分
透過ミラーMで反射される平行ビームと、この部分透過
ミラーMを透過して直進する平行ビームとに分割される
。入射平行ビームへの強度を1とすると、この部分透過
ミラーMの反射率がRである場合、この部分透過ミラー
Mで反射された平行ビームの強度はRであり、この部分
透過ミラーMを透過した平行ビームの強度は1−Rであ
る。この部分透過ミラーMを透過した平行ビームは、直
角プリズムP、により180゜曲げられた後、シリンド
リカルレンズLc、Lc′に入射する。このシリンドリ
カルレンズし6、Le  ’に入射した平行ビームは、
その平行度を維持しつつこの平行ビームの中心軸に対し
て垂直でかつこの中心軸を通る直線に関してその強度分
布が反転される。すなわち、このシリンドリカルレンズ
Lc、Lc”を通った後の平行ビームの強度分布は第2
図Bに示すようになる。次に、このシリンドリカルレン
ズLc、Lc”を通った平行ビームは直角プリズムPg
により90°曲げられた後、部分透過ミラーMに入射し
、この部分透過ミラーMで反射される平行ビームと、こ
の部分透過ミラーMを透過する平行ビームとに分割され
る。
この場合、この部分透過ミラーMで反射された平行ビー
ムの強度はR(1−R)であり、この部分透過ミラーM
を透過した平行ビームの強度は(1−R)2である。こ
の部分透過ミラーMで反射された平行ビームは再び直角
プリズムP+を通ってシリンドリカルレンズLc 、L
c  ”に入射し、このシリンドリカルレンズL6、L
c ′によって強度分布が再び反転されて第2図Aに示
すと同様な強度分布になった後、直角プリズムP2を通
って部分透過ミラーMに再び入射する。そして、この部
分透過ミラーMに入射する平行ビームは再び、この部分
透過ミラーMで反射される平行ビームと、この部分透過
ミラーMを透過する平行ビームとに分割され、以後これ
と同様なことが繰り返される。
以上のことかられかるように、第1図に示すビームホモ
ジナイザーにより得られる出射平行ビームBは、入射平
行ビームAの部分透過ミラーMによる反射平行ビームと
、部分透過ミラーMから直角プリズムP(、シリンドリ
カルレンズLc、、L、′及び直角プリズムP2を通っ
て部分透過ミラーMに至る経路をそれぞれ1周、2周、
3周、・−・−シた後にこの部分透過ミラーMを透過す
る平行ビームとが重ね合わされたものとなる。この場合
、上記経路を通った後に部分透過ミラーMを透過する各
平行ビームは、上記シリンドリカルレンズしC%LC′
を通った回数が奇数の場合には第2図已に示すと同様な
強度分布を有し、一方、上記シリンドリカルレンズLc
、Lc’を通った回数が偶数の場合には第2図Aに示す
と同様な強度分布を有する。従って、出射平行ビームB
の強度分布は、強度分布が互いに対称の関係にあるこれ
らの平行ビームが重ね合わされる結果、均一化される。
二の場合、強度分布の均一化を効率良く行うためには、
出射平行ビームBを構成する各平行ビームのうち第2図
Aに示すと同様な強度分布を有するものと、第2図Bに
示すと同様な強度分布を有するものとが同じ強度になる
ように部分透過ミラーの反射率Rを決める必要がある。
そこで、この反射率Rの決定方法について説明する。今
、実際には直角プリズムP、 、P!、シリンドリカル
レンズLc、Lc’等を通る過程での光損失があること
を考慮して、部分透過ミラーMから直角プリズムPl、
シリンドリカルレンズLc、Lc”及び直角プリズムP
2を通って部分透過ミラーMに至る経路を1周したとき
の光強度の減衰率をαとすると、出射平行ビームBを構
成する各平行ビームのうち第2図Aに示すと同様な強度
分布を有するもの(以下、正転平行ビームという)及び
第2図Bに示すと同様な強度分布を有するもの(以下、
反転平行ビームという)の強度は次式で表すことができ
る。
正転平行ビームの強度 −R+R(1−R)”  (1−α)”  (1+R2
(1−α)”+R’(1−α) 4  +、−−−−−
−−・)−−−−・−−−−・−(1) 反転平行ビームの強度 =(1−R)”  (1−α)(1+R”  (1−α
)2+R’  (1−α)4+−・−・−)−・−−−
−−・・−(2) ここで、正転平行ビームの強度−反転平行ビームの強度
とおくと次式が得られる。
(1−α)” R3−2(1−α)(2−α)R2+(
2−α)”R−(1−α)−〇 −−−−−=−・−・(3) この(3)式より、部分透過ミラーの反射率Rを求める
ことができる。そこで、この(3)式により、種々の減
衰率αの値に対する反射率Rの値を計算すると、この減
衰率αと反射率Rとの関係は次表のようになる。
以上より、上表に基づいて部分透過ミラーMの反射率R
を決めることにより、第2図Aに示すような不均一強度
分布を有する入射平行ビームAを第2図Cに示すような
均一強度分布を有する出射平行ビームBに変換すること
ができる。
次に、第1図に示すビームホモジナイザーにおいては、
シリンドリカルレンズL、、Lc ’は平行ビームの中
心軸を通りかつこの中心軸に対して垂直な直線に関して
強度分布を反転させるため、入射平行ビームAが例えば
第3図Aに示すガウス分布のように軸対称な強度分布を
有する場合には、上述のように強度分布を反転させても
第3図Bに示すように強度分布は変化しない。従って、
これらの第3図A及び第3図Bに示す強度分布の重ね合
わせにより得られる強度分布も第3図Cに示すようにな
り、結局、第3図Aに示すような軸対称な強度分布は第
1図に示すビームホモジナイザーを用いても均一化する
ことはできない。
この問題は、上述のシリンドリカルレンズし。
、Lc  ’の代わりに、第4図に示すような一対のプ
リズムP3、P3  ′を用いることにより解決するこ
とができる。この場合には、このプリズムP3 、P 
:l  ′に入射する平行ビームはまずこのプリズムP
、によりその中心軸に対して垂直でかつこの中心軸を通
る直線に関して2分割された後、これらの2分割された
平行ビームのそれぞれは上述のプリズムPz、Pi  
′により、上記直線に関してその幅(プリズムP3、P
i’に入射する平行ビームの幅の1/2)と等しい距離
だけ互いに逆方向に移動される。この結果、入射平行ビ
ームAが第5図Aに示すような強度分布を有する場合、
このプリズムP3、P3’を通った後の平行ビームの強
度分布は第5図Bに示すようになる。従って、既に述べ
たと同様に、第5図Aに示す強度分布を有する平行ビー
ムと第5図Bに示す強度分布を有する平行ビームとの重
ね合わせにより、第5図Cに示すような均一な強度分布
を有する出射平行ビームBを得ることができる。
〔実施例〕
以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明
する。
1旌炎上 第6図は本発明の実施例■によるビームホモジナイザー
を示す。この実施例Iは、X軸方向及びY軸方向の光強
度分布の均一化を行う場合に本発明を適用した実施例で
ある。
第6図に示すように、この実施例Iによるビームホモジ
ナイザーは、部分透過ミラーMX%直角プリズムP I
X  % P !K  及び1対のシリンドリカルレン
ズLCX% LCX′から成るX軸方向ホモジナイザー
と、部分透過ミラーMY、直角プリズムP+v−,Pz
y及びシリンドリカルレンズLCv% LCY′から成
るY軸方向ホモジナイザーとにより構成されている。こ
こで、上記シリンドリカルレンズし。、LCX′の中心
軸と上記シリンドリカルレンズL CY% L CY′
の中心軸とは互いに直交している。
この実施例■においては、上記部分透過ミラーMxに対
して45°の角をなす方向から例えば第2図Aに示すよ
うな不均一強度分布を有する平行ビームAを入射させる
場合、この入射平行ビームへの強度分布はまずX軸方向
ホモジナイザーにより既に述べた原理に基づいてX軸方
向に均一化され、X軸方向の強度分布は第2図已に示す
ようになる。次に、このようにしてX軸方向の強度分布
が均一化された平行ビームは部分透過ミラーMvに入射
した後、Y軸方向ホモジナイザーによりY軸方向の強度
分布も均一化され、Y軸方向の強度分布も第2図Cに示
すようになる。このようにして、X軸方向及びY軸方向
に強度分布が均一化された平行ビームBがY軸方向ホモ
ジナイザーから出射される。
以上のように、この実施例Iによれば、不均一強度分布
を存する入射平行ビームAをX軸方向及びY軸方向に均
一強度分布を有する出射平行ビームBに変換することが
できる。従って、この均一強度分布を有する出射平行ビ
ームBを用いて、均一強度の光照射を行うことができる
。また、入射平行ビームAはその平行度を維持しつつ出
射平行ビーム已に変換されるので、既に述べた従来技術
のようにビームの拡散による単位面積当たりの光強度の
低下が生じることがなく、従ってレーザーアニール等の
高エネルギー密度の光照射を行う場合にも適している。
実施皿l 第7図は本発明の実施例■によるビームホモジナイザー
を示す。
第7図に示すように、この実施例■によるビームホモジ
ナイザーは、部分透過ミラーM5、直角プリズムP+、
Pz及び4組のシリンドリカルレンズ対(Lan、 L
an ” )、CLcz、 Lcz ’ ) 。
(LC3、LC3”)、(LC4、LC4′)から成る
1段目のホモジナイザーと、部分透過ミラーM!、直角
プリズムP=、Ps及び2組のシリンドリカルレンズ対
(LC5,LC!1 ’ )、CLcb、L、1)から
成る2段目のホモジナイザーとにより構成されている。
この実施例■においては、上記部分透過ミラーM、に対
して45°の角をなす方向から例えば第8図Aに示すよ
うな不均一強度分布を有する平行ビームAを入射させる
場合、この入射平行ビームAの強度分布はまず1段目の
ホモジナイザーにより次のようにして均一化される。す
なわち、部分透過ミラーM+を透過した後、直角プリズ
ムP。
により180°曲げられた平行ビームはシリンドリカル
レンズLCI、LC2、LC3、Lanに入射し、これ
らのシリンドリカルレンズLC1% LC!、LC3、
LC4により4分割される。この4分割された平行ビー
ムのそれぞれは各シリンドリカルレンズ対(Lan、 
Lan ′)、(L、2、Lcz”)、(Lcs、Le
3’)、(L、4、LC4’)により、既に述べた原理
に基づいて強度分布が反転される。すなわち、例えばシ
リンドリカルレンズ対(L、1、LC,’)に入射する
平行ビームは、その中心軸に垂直でかつ二の中心軸を通
る直線(第8図Bの1番左側の破線)に関して強度分布
が反転される。その他のシリンドリカルレンズ対(L、
2、t、cz′)、(しわ1、Lc3′)、(Lca、
LC4”)に入射する平行ビームも同様にして強度分布
が反転される。この結果、この4組のシリンドリカルレ
ンズ対(LC,、Lan”)、(L、2、Lcz′)、
(Lci、Lcs”)、(LC4、しわ、′)を通った
後の平゛行ビームの強度分布は第8図Bに示すようにな
る。従って、この1段目のホモジナイザーから出射され
る平行ビームの強度分布は、第8図Aに示す強度分布と
第8図Bに示す強度分布との重ね合わせにより得られる
第8図Cに示すような強度分布となる。
次に、この第8図Cに示す強度分布を有する平行ビーム
は、2段目のホモジナイザーにより再び強度分布が均一
化される。この場合、部分透過ミラーM2を透過した後
、直角プリズムP4により180’曲げられた平行ビー
ムはシリンドリカルレンズLC5、LChに入射し、こ
れらのシリンドリカルレンズLC5、LC6により2分
割される。この2分割された平行ビームのそれぞれは各
シリンドリカルレンズ対(Lcs、 Lcs ’ )、
(LCh、LC&′)により上述と同様にして強度分布
が反転される。この結果、この2組のシリンドリカルレ
ンズ対(L03、Lcs′)、(LCh、LCh”)を
通った後の平行ビームの強度分布は第8図りに示すよう
になる。従って、この2段目のホモジナイザーから出射
される平行ビームの強度分布は、第8図Cに示す強度分
布と第8図りに示す強度分布との重ね合わせにより得ら
れる第8図已に示すような極めて均一な強度分布となる
このように、この実施例■によれば、2段のホモジナイ
ザーにより、不均一でかつ軸対称な強度分布を有する入
射平行ビームAを極めて均一な強度分布を有する出射平
行ビームBに変換することができる。
裏旌五l 第9図は本発明の実施例■によるビームホモジナイザー
を示す。
第9図に示゛すように、この実施例■によるビームホモ
ジナイザーは、第7図に示す実施例■によるビームホモ
ジナイザーのシリンドリカルレンズ対(Lc、、Lc+
′)、(Lcz、Lcz′)、(Lc3、L、′)、(
Lc4、LC4’)の代わりに2組のプリズム対(P、
 、P、  ′)、(P?、P7’)を用い、シリンド
リカルレンズ対(Lcs、 Lcs ” )、(Lcb
、Lc6Nの代わりにプリズム対(Pal、P8 ′)
を用いていることを除いて、実施例■によるビームホモ
ジナイザーと同様な構成を有する。
この実施例■においては、部分透過ミラーM1に対して
45°の角をなす方向から例えば第10図Aに示すよう
な不均一強度分布を有する平行ビームAを入射させる場
合、この入射平行ビームへの強度分布はまず1段目のホ
モジナイザーにより次のようにして均一化される。すな
わち、部分透過ミラーM1を透過した後、直角プリズム
P1により180°曲げられた平行ビームはプリズム対
(P、、Ph  ′)、(P、 、P) ′)に入射し
、これらのプリズム対(Pa、Pa  ′)、(p’r
、P、′)により既に述べた原理に基づいて強度分布が
移動される。この結果、このプリズム対(P、、P、′
)、(pt、pt  ′)を通った後の平行ビームの強
度分布は第10図Bに示すようになる。従って、この1
段目のホモジナイザーから出射される平行ビームの強度
分布は、第10図Aに示す強度分布と第10図Bに示す
強度分布との重ね合わせにより得られる第10図Cに示
すような強度分布となる。
次に、この第10図Cに示す強度分布を有する平行ビー
ムは、2段目のホモジナイザーにより再び強度分布が均
一化される。この場合、部分透過    ′ミラーM2
を透過した後、直角プリズムP4により180°曲げら
れた平行ビームはプリズム対(Ps 、p、′)に入射
し、このプリズム対(Ps、Ps’)により既に述べた
原理に基づいて強度分布が移動される。この結果、この
プリズム対(P=、Pi  ゛)を通った後の平行ビー
ムの強度分布は第10図りに示すようになる。従って、
こ02段目のホモジナイザーから出射される平行ビーム
の強度分布は、第10図Cに示す強度分布と第1O図り
に示す強度分布との重ね合わせにより得られる第10図
已に示すような均一な強度分布となる。
この実施例■によっても、実施例■と同様な利点がある
以上、本発明の実施例につき具体的に説明したが、本発
明は、上述の実施例に限定されるものではなく、本発明
の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。
例えば、強度分布の反転または移動手段を構成するシリ
ンドリカルレンズ対やプリズム対の数は必要に応じて選
定することが可能である。このシリンドリカルレンズ対
やプリズム対の数が多いほど、より均一な強度分布を有
する出射平行ビームBを得ることができる。また、上述
の実施例I、■、■においては、ホモジナイザーの段数
が2段であるが、必要に応じてホモジナイザーを3段以
上接続することも可能である。
〔発明の効果〕
本発明によれば、不均一強度分布を有する入射平行光は
平行度を維持したまま強度分布が均一化されるので、不
均一強度分布を有する平行光を均一強度分布を有する平
行光に変換することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の詳細な説明するための図、第2図Aは
入射平行ビームの光強度分布の一例を示すグラフ、第2
図Bは第2図Aに示す光強度分布が第1図Aに示すシリ
ンドリカルレンズ対により反転された後の光強度分布を
示すグラフ、第2図Cは第2図Aに示す光強度分布と第
2図已に示す光強度分布との重ね合わせにより得られる
光強度分布を示すグラフ、第3図Aは軸対称な光強度分
布の一例を示すグラフ、第3図Bは第3図Aに示す光強
度分布が第1図Aに示すシリンドリカルレンズ対により
反転された後の光強度分布を示すグラフ、第3図Cは第
3図Aに示す光強度分布と第3図Bに示す光強度分布と
の重ね合わせにより得られる光強度分布を示すグラフ、
第4図は第1図に示すビームホモジナイザーのシリンド
リカルレンズ対の代わりにプリズム対を用いたビームホ
モジナイザーを示す図、第5図Aは入射平行ビームの光
強度分布の一例を示すグラフ、第5図Bは第5図Aに示
す光強度分布が第4図に示すプリズム対により移動され
た後の光強度分布を示すグラフ、第5図Cは第5図Aに
示す光強度分布と第5図Bに示す光強度分布との重ね合
わせにより得られる光強度分布を示すグラフ、第6図は
本発明の実施例■によるビームホモジナイザーを示す図
、第7図は本発明の実施例■によるビームホモジナイザ
ーを示す図、第8図Aは第7図に示すビームホモジナイ
ザーへの入射平行ビームの光強度分布の一例を示すグラ
フ、第8図Bは第7図の1段目のホモジナイザーのシリ
ンドリカルレンズ対により反転された後の光強度分布を
示すグラフ1.第8図Cは第8図Aに示す光強度分布と
第8図Bに示す光強度分布との重ね合わせにより得られ
る光強度分布を示すグラフ、第8図りは第8図Cに示す
光強度分布が第7図の2段目のホモジナイザーのシリン
ドリカルレンズにより反転された後の光強度分布を示す
グラフ、第8図Eは第8図Cに示す光強度分布と第8図
りに示す光強度分布との重ね合わせにより得られる光強
度分布を示すグラフ、第9図は本発明の実施例■による
ビームホモジナイザーを示す図、第10図Aは第9図に
示すビームホモジナイザーへの入射平行ビームの光強度
分布の一例を示すグラフ、第10図Bは第9図の1段目
のホモジナイザーのプリズム対により移動された後の光
強度分布を示すグラフ、第10図Cは第10図Aに示す
光強度分布と第10図Bに示す光強度分布との重ね合わ
せられることにより得られる光強度分布を示すグラフ、
第10図りは第9図の2段目のホモジナイザーのプリズ
ム対により移動された後の光強度分布を示す少ラフ、第
10図Eは第10図Cに示す光強度分布と第10図りに
示す光強度分布との重ね合わせられることにより得られ
る光強度分布を示すグラフ、第1L図は従来のビームホ
モジナイザーの一例を示す図である。 図面における主要な符号の説明 M、MX 、Mv 、M+ SMz  :部分透過ミラ
ー、Lc、Lc  ゛、LCX% Lex’、Lcv、
、 Lcv’、LC1〜LC&、Let ′〜Leb 
” ニジリントリカルレンズ、  P I % P 2
 、P 11% P IY :直角プリズム、P、、P
、”、Ph〜Pa、Pb″〜P、′ニブリズム、 A:
入射平行ビーム、 B:出射平行ビーム。 代理人   弁理士 杉 浦 正 知 λ 従来例 第11図 M酊シか五盪ミラー ノ 続日ノ]σ)1号【土星 第1図 第2図A     第2図B ビームホモジナイサー 第4図 第5図C ay と 実施例■ 第B図 実方色例■ 第7図 第8図C第8−図り 第8図E 実方芭イタリ■ 第9図 第10図E

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 部分透過ミラーと、平行光の強度分布を上記平行光の平
    行度を維持しつつ上記平行光に対して垂直な所定の直線
    に関して反転または互いに逆方向に移動させるための反
    転または移動手段とを有し、不均一強度分布を有する入
    射平行光を上記部分透過ミラーにより上記部分透過ミラ
    ーで反射される平行光と上記部分透過ミラーを透過する
    平行光とに分割し、上記部分透過ミラーを透過した上記
    平行光の強度分布を上記反転または移動手段により上記
    所定の直線に関して反転または互いに逆方向に移動させ
    、上記強度分布が反転または互いに逆方向に移動された
    上記平行光と上記部分透過ミラーで反射された上記平行
    光とを重ね合わせることにより均一強度分布の平行光を
    得るようにしたことを特徴とする光学装置。
JP15382388A 1988-06-22 1988-06-22 光学装置 Pending JPH01319727A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15382388A JPH01319727A (ja) 1988-06-22 1988-06-22 光学装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15382388A JPH01319727A (ja) 1988-06-22 1988-06-22 光学装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01319727A true JPH01319727A (ja) 1989-12-26

Family

ID=15570872

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP15382388A Pending JPH01319727A (ja) 1988-06-22 1988-06-22 光学装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH01319727A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005148550A (ja) * 2003-11-18 2005-06-09 Gigaphoton Inc 光学的パルス伸長器および露光用放電励起ガスレーザ装置
JP2006024952A (ja) * 1996-02-06 2006-01-26 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 半導体装置の作製方法
JP2008505495A (ja) * 2004-06-29 2008-02-21 サイマー インコーポレイテッド ガス放電レーザの出力光の干渉性を低減させる方法及び装置
JP2009540567A (ja) * 2006-06-05 2009-11-19 サイマー インコーポレイテッド 高エネルギー・パルスレーザ用途のためのビーム形状及び対称性を安定化させるための装置及び方法
US10088762B2 (en) 2015-12-18 2018-10-02 Asml Netherlands B.V. Inspection apparatus and method

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5122239A (ja) * 1974-08-16 1976-02-21 Shusei Kensetsu Konsarutanto K Chosuichinohaishasochi

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5122239A (ja) * 1974-08-16 1976-02-21 Shusei Kensetsu Konsarutanto K Chosuichinohaishasochi

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006024952A (ja) * 1996-02-06 2006-01-26 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 半導体装置の作製方法
JP2009206531A (ja) * 1996-02-06 2009-09-10 Semiconductor Energy Lab Co Ltd レーザー照射装置およびレーザー照射方法
JP4527018B2 (ja) * 1996-02-06 2010-08-18 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置の作製方法
JP4593671B2 (ja) * 1996-02-06 2010-12-08 株式会社半導体エネルギー研究所 レーザー照射装置およびレーザー照射方法
JP2005148550A (ja) * 2003-11-18 2005-06-09 Gigaphoton Inc 光学的パルス伸長器および露光用放電励起ガスレーザ装置
JP2008505495A (ja) * 2004-06-29 2008-02-21 サイマー インコーポレイテッド ガス放電レーザの出力光の干渉性を低減させる方法及び装置
JP2009540567A (ja) * 2006-06-05 2009-11-19 サイマー インコーポレイテッド 高エネルギー・パルスレーザ用途のためのビーム形状及び対称性を安定化させるための装置及び方法
US10088762B2 (en) 2015-12-18 2018-10-02 Asml Netherlands B.V. Inspection apparatus and method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4793694A (en) Method and apparatus for laser beam homogenization
US5048926A (en) Illuminating optical system in an exposure apparatus
US7199929B2 (en) Methods for optical beam shaping and diffusing
US5210643A (en) Wave combining apparatus for semiconductor lasers
WO2005041277A1 (ja) 照明光学装置及び投影露光装置
KR20210144842A (ko) 프로세싱 광학 유닛, 레이저 프로세싱 장치 및 레이저 프로세싱을 위한 방법
JPS5817932B2 (ja) 軸外像伝達光学系
ATE414927T1 (de) Kompensation der doppelbrechung in kubisch kristallinen projektionslinsen und optischen systemen
US6178000B1 (en) Monolithic symmetric interferometer for generation of variable-periodicity patterns for lithography
JPH01319727A (ja) 光学装置
Gotovski et al. Formation of optical needles by Pancharatnam-Berry phase element for laser-induced modifications in transparent materials
Eppich et al. Twist of coherent fields and beam quality
JP3644431B2 (ja) レーザ装置
Friberg et al. Generation of partially coherent fields with twist
JPH02187294A (ja) レーザビーム整形装置
SU1437823A1 (ru) Управл емый оптический ослабитель
JPS6161118A (ja) 実体顕微鏡
JP3479197B2 (ja) レーザ装置
JPH02166783A (ja) エキシマレーザーのホモジナイザー
Alda et al. Wavefront and amplitude profile for astigmatic beams in semiconductor lasers: analytical and graphical treatment
JPH02267516A (ja) 放射ビームの非点収差制御方法およびその装置
Gotovski et al. Effects of various misalignments and beam impurities on creation of optical needle using Pancharatnam–Berry phase elements
JPWO2020188861A1 (ja) 光学装置
CA3017188A1 (en) Optical integrator and illumination device using the same
CN117096716A (zh) 一种位相可任意编程的激光器