JPH01316129A - Finishing work through electrolytic working - Google Patents

Finishing work through electrolytic working

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JPH01316129A
JPH01316129A JP1002499A JP249989A JPH01316129A JP H01316129 A JPH01316129 A JP H01316129A JP 1002499 A JP1002499 A JP 1002499A JP 249989 A JP249989 A JP 249989A JP H01316129 A JPH01316129 A JP H01316129A
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JP
Japan
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current
electrode
workpiece
machining
value
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Pending
Application number
JP1002499A
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Japanese (ja)
Inventor
Yohei Kuwabara
桑原 陽平
Teruo Asaoka
浅岡 輝雄
Shogo Yoshioka
省吾 吉岡
Haruki Sugiyama
治樹 杉山
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Shizuoka Seiki Co Ltd
Original Assignee
Shizuoka Seiki Co Ltd
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Publication date
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  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain the surface roughness with high precision in a short time by surely removing an oxidized film by comparing the between-electrode current detection value and the electric current value set according to the property, etc. of a workpiece and increasing and decreasing the electric current density of the pulse current supplied between the electrodes. CONSTITUTION:The electric pulse current having a prescribed electric current density is supplied into an electrode gap 17 between an electrode 2 and a workpiece 4 which are oppositely arranged through a static electrolytic solution, and the between-electrode current value is detected by a working condition control part 10 through an electric charge/discharge part 26. When the electric current value reduces to a prescribed current value by the formation of the oxidized film of a worked surface 4a, the automatic switching to the electric pulse current having a high current density is performed, and the electric pulse current is supplied in a prescribed number of times, and after the oxidized film on the worked surface 4a is removed, the electric pulse current having a prescribed electric current density is restored. Further, the above specific current value is automatically set according to the between-electrode current value and the property of the workpiece 4 at the start of working. Thus, the surface roughness of the worked surface can be improved with high precision in a short time.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ この発明は、電解加工による仕上げ加工方法に係り、特
に三次元形状の被加工面を短時間かつ高精度に仕上げて
、鏡面状の光沢面か得られる電解加工による仕上げ加工
方法に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Field of Application] This invention relates to a finishing method using electrolytic processing, and in particular, it can finish a three-dimensionally shaped work surface in a short time and with high precision to create a mirror-like glossy surface. The present invention relates to a finishing method using electrolytic machining.

[従来の技術] 従来の金属加工方法としては電解加工方法が知られてい
る。この電解加工方法は、被加工物と電極との間隙に硝
酸ナトリウムや塩化すトリウム等の電解液を満たし、こ
の電解液を高速で流すとともに、安定した電解作用を阻
害する電解生成物、即ち溶出した金属化合物や金属イオ
ン及び水素カス等を除去しながら、直流電流を被加工物
から電極に流して加工するものである。(特開昭61−
71921号公報及び特開昭60−44228号公報参
照) [発明が解決しようとする問題点コ しかしながら、この電解加工方法にあっては、機械加工
手段として致命的な欠陥がある。即ち、特に三次元形状
の底付き加工(凹窩状に形成された三次元構造のものに
対する加工をいう〉において、被加工物と電極との間隙
力4反に一定であったとしても、電解液の流入口の位置
、流入口からの距離あるいは被加工物の三次元形状の被
加工面の屈曲度等により間隙の流路抵抗が変1ヒし、電
解液を間隙に−様な流速で流すのが不可能である。
[Prior Art] As a conventional metal processing method, an electrolytic processing method is known. In this electrolytic processing method, the gap between the workpiece and the electrode is filled with an electrolytic solution such as sodium nitrate or thorium chloride, and this electrolytic solution is flowed at high speed. This process involves passing a direct current from the workpiece to the electrode while removing metal compounds, metal ions, hydrogen scum, etc. (Unexamined Japanese Patent Publication No. 1986-
71921 and Japanese Patent Laid-Open No. 60-44228) Problems to be Solved by the Invention However, this electrolytic machining method has a fatal flaw as a machining means. In other words, especially in bottom machining of a three-dimensional shape (machining of a three-dimensional structure formed in the shape of a concave hole), even if the gap force between the workpiece and the electrode is constant at 4, the electrolytic The flow path resistance of the gap changes depending on the position of the liquid inlet, the distance from the inlet, the degree of curvature of the three-dimensional shape of the workpiece surface, etc., and the electrolyte can be flowed into the gap at a different flow rate. It is impossible to flush.

したがって、間隙に生成される電解生成物の排除効果が
位置によって異なり、加工の進行状況に差異が生じて被
加工物に電極の精密な転写を行うことか困難で、光沢面
等の高精度な表面品質を得たい場合、別の研磨工程を必
要とするなど、被加工面の仕上げに多くの時間と労力が
かかるという不都合があった。
Therefore, the removal effect of electrolytic products generated in the gap differs depending on the position, and the progress of processing differs, making it difficult to precisely transfer the electrode to the workpiece. If surface quality is desired, another polishing step is required, which is disadvantageous in that it takes a lot of time and effort to finish the surface to be machined.

そこで当山願人は、これらの不都合を除去するものとし
て、電解液を静止状態として電極と被加工物との極間に
、仕上げ加工の前期には低電流密度のパルス電流を供給
して被加工面の面粗度を向上させるとともに、この加工
中に高電流密度のパルス電流を間欠的に供給して、加工
中に被加工面に生成される酸化皮膜を除去し、また仕上
げ加工の後期には高電流密度のパルス電流を供給して光
沢面を得る電解加工による仕上げ加工方法を出願(特願
昭62−117486号参照)シ・た。
Therefore, in order to eliminate these inconveniences, Kanto Toyama devised a solution that could be applied to the workpiece by keeping the electrolyte in a static state and supplying a pulsed current with a low current density between the electrode and the workpiece during the early stage of finishing. In addition to improving the surface roughness of the surface, a pulsed current with high current density is intermittently supplied during this machining to remove the oxide film that is generated on the workpiece surface during machining, and also to filed an application (see Japanese Patent Application No. 117486/1986) for a finishing method using electrolytic processing to obtain a glossy surface by supplying a pulsed current with a high current density.

しかしながら、この電解加工による仕上げ加工方法にあ
っては、仕上げ加工前期の加工中に、酸化皮膜除去用の
高電流密度のパルス電流を、一定周門て供給しているが
、被加工面に生成される酸化皮膜の生成度合が、被加工
物の形状、電解生成物の排除手段の違い等によって異な
るため、例えは前記周期を短くして、高電流密度のパル
ス電流に切換えるタイミングを早くすると、面粗度の向
上進行が遅れて加工時間が長くかかり、また周期を長く
してタイミングを遅くすると、部分的に電気抵抗の大き
い酸化皮膜が成長して各部に流れる電流密度が変化し、
面積当たりの加工量が変動して加工形状の精度を狂わせ
、高精度の表面品質が得られにくいなど、パルス電流の
切換え時期を最適加工条件に設定するのが困難であると
いう不都合があった。
However, in this finishing method using electrolytic processing, a pulsed current with a high current density is supplied at regular intervals to remove the oxide film during the first half of the finishing process. The degree of formation of the oxide film differs depending on the shape of the workpiece, the means for removing electrolytic products, etc. Therefore, for example, if the cycle is shortened and the timing of switching to the high current density pulse current is earlier, The progress of improving the surface roughness is delayed, resulting in longer machining time, and if the cycle is lengthened and the timing is delayed, an oxide film with high electrical resistance will grow locally, changing the current density flowing through each part.
There have been disadvantages in that it is difficult to set the pulse current switching timing to the optimum processing conditions, such as fluctuations in the amount of processing per area, which disrupts the accuracy of the processed shape and makes it difficult to obtain high-precision surface quality.

また、高電流密度のパルス電流へ切換える時期、あるい
は高電流密度から元の低電流密度のパルス電流へ切換え
る時期を、被加工物の形状、加工面積、電解生成物の排
除手段の種類等に応じて一々設定しなければならず、仕
上げ加工の作業能率が劣るという不都合があった。
In addition, the timing to switch to a pulsed current with a high current density, or the timing to switch from a high current density to a pulsed current with a low current density, is determined depending on the shape of the workpiece, the processing area, the type of means for removing electrolytic products, etc. This has the disadvantage of lowering the work efficiency of finishing machining.

そこで、この発明の目的は、パルス電流の切換え時期を
最適条件にし得るとともに、作業能率を向上させ得て、
特に三次元形状の被加工面を短時間かつ高精度に仕上げ
て、鏡面状の光沢面を得ることができる電解加工による
仕上げ加工方法を実現するにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to optimize the switching timing of the pulse current, and to improve work efficiency.
In particular, it is an object of the present invention to realize a finishing method using electrolytic machining that can finish a three-dimensionally shaped work surface in a short time and with high precision to obtain a mirror-like glossy surface.

[課題を解決するための手段] この目的を達成するために、この出願の第1発明は、被
加工物とこの被加工物の被加工面に倣った電極面を有す
る電極とを静止した電解液を介して対設させ、その極間
に所定の電流密度を有するパルス電流を供給するステッ
プと、このパルス電流に基づく極間電流値を検出するス
テップと、この極間電流値と前記被加工物の性状によっ
て設定した所定の電流値とを比較し、その比較結果に基
づき前記パルス電流の電流密度を増減させるステップと
、この増減させたパルス電流を前記極間に供給するステ
ップとを具備することを特徴とする。
[Means for Solving the Problem] In order to achieve this object, the first invention of this application is to electrolyze a workpiece and an electrode having an electrode surface patterned after the surface of the workpiece in a stationary state. a step of supplying a pulsed current having a predetermined current density between the machining electrodes and detecting a current value between the electrodes based on the pulsed current; The method comprises the steps of: comparing the current value with a predetermined current value set depending on the properties of the object; and increasing/decreasing the current density of the pulse current based on the comparison result; and supplying the increased/decreased pulse current between the electrodes. It is characterized by

また、第2発明は、被加工物とこの被加工物の被加工面
に倣った電極面を有する電極とを静止した電解液を介し
て対設させ、その極間に所定の電流密度を有するパルス
電流を供給するステップと、このパルス電流に基づく極
間電流値を検出するステップと、加工開始の初期に、前
記極間電流値と前記被加工物の性状とにより下限電流値
を設定するとともに、加工中に、前記極間電流値と前記
下限電流値とを比較し、その比較結果に基づき前記パル
ス電流の電流密度を増減させるステップとを具備するこ
とを特徴とする。
In addition, a second invention provides a method in which a workpiece and an electrode having an electrode surface patterned after the surface of the workpiece are placed opposite to each other via a stationary electrolyte solution, and a predetermined current density is applied between the electrodes. a step of supplying a pulsed current, a step of detecting a current value between machining points based on the pulsed current, and a step of setting a lower limit current value based on the current value between machining holes and the properties of the workpiece at the beginning of machining. The method is characterized by comprising a step of comparing the gap current value and the lower limit current value during processing, and increasing or decreasing the current density of the pulse current based on the comparison result.

[作 用コ この出願の第1発明の構成によれば、静止した電解液を
介して対設した電極と被加工物との極間に所定の電流密
度を有するパルス電流を供給するとともに、このパルス
電流に基づく極間電流値を検出し、この電流値が、例え
ば被加工面の酸化皮膜の生成によって低下し、予め設定
した所定の電流値以下になった時に、極間に供給するパ
ルス電流の電流密度を高電流密度のパルス電流に自動的
に切換え、このパルス電流を所定回数供給して被加工面
の酸化皮膜を除去した後、再び所定の電流密度を有する
パルス電流を供給するため、被加工面の酸化皮膜の生成
度合に応じてパルス電流の電流密度を切換えることがで
き、被加工面を短時間かつ高精度に仕上けることができ
る。
[Function] According to the configuration of the first invention of this application, a pulse current having a predetermined current density is supplied between the opposed electrodes and the workpiece through a stationary electrolyte, and Detects the current value between the machining areas based on the pulsed current, and when this current value decreases due to the formation of an oxide film on the workpiece surface and becomes less than a predetermined current value, the pulsed current is supplied between the machining areas. Automatically switches the current density to a pulsed current with a high current density, supplies this pulsed current a predetermined number of times to remove the oxide film on the workpiece surface, and then supplies a pulsed current with a predetermined current density again. The current density of the pulse current can be changed according to the degree of formation of an oxide film on the surface to be processed, and the surface to be processed can be finished in a short time and with high precision.

また、第2発明の構成によれば、加工開始時の極間電流
値と被加工物の性状とにより、下限電流値を自動的に算
出し、この下限電流値と加工中の極間電流値とを比較し
てパルス電流の電流密度を切換えるため、切換え時期を
入力する必要もなく、作業能率を向上させ得る。
Further, according to the configuration of the second invention, the lower limit current value is automatically calculated based on the machining current value at the start of machining and the properties of the workpiece, and the lower limit current value and the machining current value during machining are Since the current density of the pulse current is switched by comparing the current density with the current density of the pulse current, there is no need to input the switching timing, and work efficiency can be improved.

[実施例] 以下、図面を参照してこの発明の実施例を詳細かつ具体
的に説明する。
[Embodiments] Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail and specifically with reference to the drawings.

第1〜7図は、この発明の一実施例を示すものである。1 to 7 show one embodiment of this invention.

第1.2図において、この発明を実施し得る電解仕上げ
加工装置1は、電極2を固定する電極固定装置3、被加
工物4を固定する被加工物固定装置5、電極駆動部60
回転運動を往復運動に変換する駆動変換部7、パルス電
流を発生する電源装置8、モータ駆動制御部9と加工条
件制御部10と電解液流制御部11等からなる制御装置
12、被加工物4に関する各種データ等を入力する入力
装置13、電解液を濾過する電解液濾過装置14、加工
槽15等からなる。
In FIG. 1.2, an electrolytic finishing apparatus 1 capable of carrying out the present invention includes an electrode fixing device 3 for fixing an electrode 2, a workpiece fixing device 5 for fixing a workpiece 4, and an electrode drive unit 60.
A control device 12 consisting of a drive conversion section 7 that converts rotational motion into reciprocating motion, a power supply device 8 that generates a pulse current, a motor drive control section 9, a processing condition control section 10, an electrolyte flow control section 11, etc., and a workpiece. 4, an electrolyte filtration device 14 for filtering the electrolyte, a processing tank 15, and the like.

前記電極固定装置3は、その下部に設けたロッド16の
下端に、例えば純銅もしくはグラファイトからなる電極
2を、その電極面2aと被加工物4の被加工面4aとが
三次元方向に−様な間隙17を保つように固定する。そ
して、前記電極固定装置3は、電極駆動部6と駆動変換
部7とにより前記間隙17を所定値に設定すべく上下動
する。即ち、電極駆動部6のロータリーエンコーダ18
とタコジェネレータ19からの信号により前記モータ駆
動制御部9から出力される制御信号により、モータ20
を回転制御して、前記電極固定装置3を上下動させ、電
極面2aと被加工面4aとを所定の間隙17に設定する
The electrode fixing device 3 has an electrode 2 made of, for example, pure copper or graphite attached to the lower end of a rod 16 provided at its lower part, so that the electrode surface 2a and the processed surface 4a of the workpiece 4 are aligned three-dimensionally. It is fixed so that a gap 17 is maintained. The electrode fixing device 3 is moved up and down by the electrode driving section 6 and the drive conversion section 7 to set the gap 17 to a predetermined value. That is, the rotary encoder 18 of the electrode drive unit 6
The motor 20 is controlled by a control signal outputted from the motor drive control section 9 in response to a signal from the tachogenerator 19.
is rotated to move the electrode fixing device 3 up and down to set a predetermined gap 17 between the electrode surface 2a and the surface to be processed 4a.

前記被加工物固定装置5は、絶縁性の高いグラナイトも
しくはセラミックス製のテーブルで、電解仕上げ加工装
置1のX−Yテーブル21のXテーブルぐ図示せず)上
に加工槽15の底板とともにボルト等により固定する。
The workpiece fixing device 5 is a table made of highly insulating granite or ceramics, and is mounted on the X-Y table 21 (not shown) of the electrolytic finishing device 1 together with the bottom plate of the processing tank 15, such as bolts, etc. Fix it by.

また、この被加工物固定装置5の上面には被加工物4が
ボルト22等により固定され、これにより、被加工物4
、被加工物固定装置5、加工槽15がX−Yテーブル2
1の移動用ツマミ23.240回転操作によりX方向及
びX方向に一体的に移動する。
Further, the workpiece 4 is fixed to the upper surface of the workpiece fixing device 5 with bolts 22, etc., so that the workpiece 4
, the workpiece fixing device 5 and the processing tank 15 are connected to the X-Y table 2
It moves integrally in the X direction and the X direction by rotating the moving knob 23 and 240 of No. 1.

前記電極2と被加工物4との極間に、所定のパルス電流
を供給する電源装置8と、この電源装置8を制御する前
記制御装置12の加工条件制御部10は、例えば第3図
に示す如く構成する。
A power supply device 8 that supplies a predetermined pulse current between the electrode 2 and the workpiece 4, and a processing condition control unit 10 of the control device 12 that controls the power supply device 8 are configured as shown in FIG. 3, for example. Configure as shown.

即ち、電源装置8は直流電源部25と充放電部26とて
構成され、直流電源部25は、変圧器27と整流器28
とからなり、変圧器27により電圧を所定値に降下させ
整流器28により整流して直流電流を得て、後述する蓄
電器29−1〜29−nに供給する。
That is, the power supply device 8 includes a DC power supply unit 25 and a charging/discharging unit 26, and the DC power supply unit 25 includes a transformer 27 and a rectifier 28.
The voltage is lowered to a predetermined value by a transformer 27 and rectified by a rectifier 28 to obtain a direct current, which is supplied to capacitors 29-1 to 29-n, which will be described later.

また、充放電部26は、極間に電荷を放電する複数個の
蓄電器29−1〜29−nと、これらの各蓄電器29−
1〜29−nに接続し直流電源部25側への電荷の逆流
を阻止するダイオード30−1〜30−nと、蓄電器2
9−1〜29−nの電荷を放電させるべく開閉される放
電スイッチ3111〜31−nと、前記各蓄電器29−
1〜29−nを所定に充電すべく前記直流電源部25か
らの電源を給新する充電スイッチ32等からなる。
The charging/discharging unit 26 also includes a plurality of capacitors 29-1 to 29-n that discharge charges between electrodes, and each of these capacitors 29-
Diodes 30-1 to 30-n connected to diodes 1 to 29-n to prevent backflow of charges to the DC power supply section 25 side, and capacitor 2
Discharge switches 3111 to 31-n that are opened and closed to discharge the charges of 9-1 to 29-n, and each of the capacitors 29-
It consists of a charging switch 32 and the like that supplies power from the DC power supply section 25 to charge the batteries 1 to 29-n to a predetermined value.

この充放電部26を制御する加工条件制御部10は、蓄
電器29−1〜29−nの充電電圧値を検出する電圧検
出器33と、この電圧検出器33て検出した充電電圧値
とD/A変換器34からの出力値とを比較する電圧比較
器35と、この電圧比較器35からの出力信号により前
記蓄電器29−1〜29−nの充電の完了及び開始を検
出する充電検出器36と、極間に放電される電荷の極間
電流値を検出する電流検出器37ど、この電流検出器3
7で検出した極間電流値のピーク値をホールトするピー
クホールド回路38と、このピークホールド回路38て
ホールドしたピーク値とD/A変換器39の出力値とを
比較する電流比較器40と、所定時間幅のパルスを発生
するパルス発生器41と極間に放電する電荷の電流波形
を設定する電流波形設定器42からの人力信号により前
記各放電スイッチ31−1〜31−nに開閉駆動信号を
出力するゲート回路43と、前記各蓄電器29−1〜2
9−nへ供給する充電電圧値を設定しその信号を前記D
/A変換器34に出力する充電電圧設定器44と、極間
電流値を設定しその信号を前記D/A変換器39に出力
する電流設定器45と、前記入力装置13の入力データ
等に基づき加工条件等を演算・処理するCPU46と、
電極2と被加工物4の接触を検知する接触検知器47等
からなる。なお、図中符号48は放電スイッチ31−1
〜31−nの開時に逆起電力により各放電スイッチ31
−1〜31nが破壊するのを防止するダイオードである
The machining condition control unit 10 that controls the charging/discharging unit 26 includes a voltage detector 33 that detects the charging voltage values of the capacitors 29-1 to 29-n, and a D/D ratio between the charging voltage values detected by the voltage detector 33 and A voltage comparator 35 that compares the output value from the A converter 34, and a charging detector 36 that detects the completion and start of charging of the capacitors 29-1 to 29-n based on the output signal from the voltage comparator 35. and a current detector 37 that detects the inter-electrode current value of the charge discharged between the electrodes.
a current comparator 40 that compares the peak value held by the peak hold circuit 38 with the output value of the D/A converter 39; Opening/closing drive signals are provided to each of the discharge switches 31-1 to 31-n by human signals from a pulse generator 41 that generates pulses with a predetermined time width and a current waveform setting device 42 that sets the current waveform of the charge discharged between the poles. a gate circuit 43 that outputs
Set the charging voltage value to be supplied to 9-n and send that signal to the D
a charging voltage setter 44 that outputs to the /A converter 34; a current setter 45 that sets a current value between electrodes and outputs the signal to the D/A converter 39; and input data of the input device 13, etc. A CPU 46 that calculates and processes processing conditions etc. based on the
It consists of a contact detector 47 and the like that detect contact between the electrode 2 and the workpiece 4. In addition, the reference numeral 48 in the figure is the discharge switch 31-1.
~31-n is opened, each discharge switch 31 is
This is a diode that prevents -1 to 31n from being destroyed.

なお、ここで、蓄電器29−1〜29−nが充放電する
際の前記CPU46の制御について説明する。まずCP
U46は、予め入力装置13によって入力された被加工
物4の加工面積Sと、極間に供給する単一パルス電流の
オンタイムton(以下パルス幅という)とに基づき、
供給するパルス電流のピーク電流密度が所定値となる充
電電圧値を、予め記憶装置に入力されている特性表によ
り算出し、加工条件制御部10の充電電圧設定器44に
出力する。この設定電圧値■は、例えば次の式によって
算出する。
Note that the control of the CPU 46 when the capacitors 29-1 to 29-n are charged and discharged will be explained here. First, CP
U46 is based on the machining area S of the workpiece 4 inputted in advance by the input device 13 and the on-time ton (hereinafter referred to as pulse width) of the single pulse current supplied between the poles.
A charging voltage value at which the peak current density of the supplied pulse current becomes a predetermined value is calculated using a characteristic table input in advance to the storage device, and is output to the charging voltage setter 44 of the processing condition control section 10. This set voltage value ■ is calculated, for example, by the following formula.

V=VQ+ (KIXδx r ) + (K2+ T
 +S)但し、 VO二 固定電圧 Kl、に2:  定数 δ  : 電極間隙 ■  : 電流密度 S  : 加工面積 そして、蓄電器29−1〜29−nが所定の充電電圧値
で充電されると、充電完了信号が充電検出器36からC
PU46に入力される。この信号によりCPO46は、
パルス発生器41及び電流波形設定器42に制御信号を
出力してゲート回路43をオンさせて、放電スイッチ3
1−1〜31−nの全部又は一部を同時にオンさせ、極
間に所定のパルス電流を供給する。そして、このパルス
電流に基づく極間電流値が電流検出器37により検出さ
れ、その時のピーク値がピークホールド回路38により
ホールドされる。このホールドされたピーク値と、前記
電流設定器45のデジタル信号をD/A変換器39でア
ナログ変換した信号値とが電流比較器40て比較され、
その結果がCPU46に入力される。この場合の電流比
較器40の比較方法は、電流設定器450カウンタ(図
示せず)の計数値を0から1ステツプずつ上昇させ、二
の値をD/A変換した値がピークホールド回路3日のピ
ーク値を超えた時に、電流比較器40の出力が反転し、
その時のカウンタの計数値が極間電流値のピーク値とし
てCPU46に記憶される。
V=VQ+ (KIXδx r ) + (K2+ T
+S) However, VO2 Fixed voltage Kl, 2: Constant δ: Electrode gap ■: Current density S: Machining area And when the capacitors 29-1 to 29-n are charged at a predetermined charging voltage value, charging is completed. The signal is C from the charge detector 36.
It is input to PU46. This signal causes CPO46 to
A control signal is output to the pulse generator 41 and the current waveform setting device 42 to turn on the gate circuit 43, and the discharge switch 3 is turned on.
All or part of 1-1 to 31-n are turned on at the same time, and a predetermined pulse current is supplied between the electrodes. A current value between electrodes based on this pulse current is detected by a current detector 37, and a peak value at that time is held by a peak hold circuit 38. This held peak value is compared with a signal value obtained by converting the digital signal of the current setting device 45 into an analog signal by a D/A converter 39 by a current comparator 40,
The result is input to the CPU 46. In this case, the comparison method of the current comparator 40 is to increase the count value of the current setter 450 counter (not shown) one step at a time from 0, and the value obtained by D/A converting the second value is the peak hold circuit 3 days. When the peak value of is exceeded, the output of the current comparator 40 is inverted,
The count value of the counter at that time is stored in the CPU 46 as the peak value of the inter-electrode current value.

CPU46は、この記憶したピーク値に基づき、充電電
圧設定器44の設定電圧値Vの補正(例えば記憶したピ
ーク値が仮に設定した設定電流値以下の場合には設定電
圧値■を増加、ピーク値が設定電流値より大きい場合は
設定電圧値Vを減少)を行うとともに、例えばピーク値
に被加工物4の材質、加工面積S等の性状に基づいて定
めた定数を乗じて下限電流値を算出し、これを前記電流
設定器45に設定する。
Based on the stored peak value, the CPU 46 corrects the set voltage value V of the charging voltage setter 44 (for example, if the stored peak value is lower than the provisionally set set current value, the set voltage value ■ is increased, the peak value is larger than the set current value, the set voltage value V is decreased), and the lower limit current value is calculated by multiplying the peak value by a constant determined based on the properties such as the material and processing area S of the workpiece 4, etc. This is then set in the current setting device 45.

そして、補正された設定電圧値Vに基づいて充電された
蓄電器29−1〜29−nから、所定のピーク電流密度
のパルス電流を極間に再び供給して、電流検出器37で
極間電流値を検出するとともに、前記ピークホールド回
路38てピーク値をホールドし、このピーク値と電流設
定器45て設定した下限電流値とを電流比較器40が比
較し、ピーク値が下限電流値以下になった時にCPU4
6に信号を出力する。
Then, a pulse current of a predetermined peak current density is again supplied between the electrodes from the capacitors 29-1 to 29-n charged based on the corrected set voltage value V, and the current detector 37 detects the current between the electrodes. While detecting the value, the peak hold circuit 38 holds the peak value, and the current comparator 40 compares this peak value with the lower limit current value set by the current setting device 45, and the peak value is lower than the lower limit current value. CPU4 when
A signal is output to 6.

CPU46は、電流比較器40からのこの出力信号によ
り、充電電圧設定器44の設定電圧値■を、高電流密度
のパルス電流が得られる電圧値に増加させる。以上がC
PtJ46の制御である。
Based on this output signal from the current comparator 40, the CPU 46 increases the set voltage value ■ of the charging voltage setter 44 to a voltage value at which a pulse current with a high current density is obtained. The above is C
This is control of PtJ46.

第4図は、第3図の概略構成図を具体化した回路構成図
であり、以下これについて、第3図と同一部位には同一
符号を付して説明する。
FIG. 4 is a circuit configuration diagram embodying the schematic configuration diagram of FIG. 3, and the same parts as in FIG. 3 will be described below with the same reference numerals.

前記直流電源部25は、変圧器27の各コイル27−1
〜27−3により所定に電圧を降下させ、各ダイオード
28−1〜28−3により整流して直流電源を得て、抵
抗50を介して出力する。
The DC power supply section 25 includes each coil 27-1 of the transformer 27.
27-3 to drop the voltage to a predetermined value, and rectify it by each of the diodes 28-1 to 28-3 to obtain a DC power source, which is output via the resistor 50.

前記放電スイッチ311 (放電スイッチ31−1〜3
1−nは全て同一構成であるため放電スイッチ31−1
について説明する)は、5個のトランジスタ51−1〜
55−1と、6個の抵抗56−1〜61−1で構成し、
前記ゲート回路43のANDゲー)62−1から入力さ
れる開閉駆動信号により、各トランジスタ51−1〜5
5−1を順次オンし、蓄電器29−1の電荷を放電する
。図中符号63−1は蓄電器29−1と並列に接続した
抵抗である。
The discharge switch 311 (discharge switch 31-1 to 31-3
1-n all have the same configuration, so the discharge switch 31-1
) are five transistors 51-1 to 51-1.
55-1 and six resistors 56-1 to 61-1,
Each of the transistors 51-1 to 5
5-1 are turned on one after another to discharge the charge in the capacitor 29-1. Reference numeral 63-1 in the figure is a resistor connected in parallel with the capacitor 29-1.

また、前記充電スイッチ32は、4個のトランジスタ6
4〜67と、5個の抵抗68〜72で構成し、電圧比較
器35の出力により各トランジスタ64〜67をオン・
オフして直流電源部25からの電源を給断し、各蓄電器
29−1〜29−nを所定に充電する。なお、前記直流
電源部25と充電スイッチ32との間には、充電スイッ
チ32の侃護のために、一端を接続したダイオード73
の他端をコンデンサ74と抵抗75とを介して接地する
Further, the charging switch 32 includes four transistors 6
4 to 67 and five resistors 68 to 72, each transistor 64 to 67 is turned on and off by the output of the voltage comparator 35.
It is turned off to supply and disconnect power from the DC power supply unit 25, and charge each of the capacitors 29-1 to 29-n to a predetermined value. Note that a diode 73 with one end connected is connected between the DC power supply section 25 and the charging switch 32 to protect the charging switch 32.
The other end is grounded via a capacitor 74 and a resistor 75.

前記電圧検出器33は、一端を接地したコンデンサ76
を有し、このコンデンサ76と並列に接続した2個の直
列抵抗77.78により分圧して得た充電電圧値を出力
する。この電圧検出器33の出力側は、抵抗79を介し
て電圧比較器35の比較器80の一方の入力側に接続す
る。また比較器80の他方の入力端は、前記D/A変換
器34の出力側を抵抗81を介して接続する。前記抵抗
79.81と比較器80との間には、ダイホード82.
83を接続する。比較器80の出力側には抵抗84を接
続し、この抵抗84に一端を接地したダイオード85を
接続し、前記充電スイッチ32のトランジスタ64のベ
ースに接続する。
The voltage detector 33 includes a capacitor 76 whose one end is grounded.
The charging voltage value obtained by dividing the voltage by two series resistors 77 and 78 connected in parallel with this capacitor 76 is output. The output side of this voltage detector 33 is connected to one input side of a comparator 80 of the voltage comparator 35 via a resistor 79. The other input end of the comparator 80 is connected to the output side of the D/A converter 34 via a resistor 81. Between the resistor 79.81 and the comparator 80, a dihode 82.
Connect 83. A resistor 84 is connected to the output side of the comparator 80, a diode 85 whose one end is grounded is connected to the resistor 84, and the base of the transistor 64 of the charging switch 32 is connected to the resistor 84.

この電圧比較器33は、前記D/A変換器34から出力
される設定電圧値Vsと電圧検出器33の検出した充電
電圧値V1とを比較し、その比較結果を前記充電スイッ
チ32及び後述する充電検出器36に出力する。
This voltage comparator 33 compares the set voltage value Vs outputted from the D/A converter 34 and the charging voltage value V1 detected by the voltage detector 33, and the comparison result is explained in the charging switch 32 and later. Output to charge detector 36.

前記充電検出器36は、抵抗93によって電源にプルア
ップされた2個のフリップフロップ(以下F° Fとい
う)86.87と、3個のゲート88〜90とて構成し
、前記電圧比較器35の出力側を、一方のFF86のト
リガ一端子に接続するとともに、他方のFF87のトリ
カ一端子にゲート88を介して接続する。
The charge detector 36 is composed of two flip-flops (hereinafter referred to as F° F) 86 and 87 pulled up to the power supply by a resistor 93, and three gates 88 to 90, and the voltage comparator 35 The output side of is connected to one trigger terminal of one FF 86 and to one trigger terminal of the other FF 87 via a gate 88 .

そして、FF86の一方の出力をゲート89を介してC
PtJ46の端子91に接続し、FF87の一方の出力
をケート90を介してCPU46の端子92に接続する
Then, one output of FF86 is passed through gate 89 to C
It is connected to the terminal 91 of the PtJ 46, and one output of the FF 87 is connected to the terminal 92 of the CPU 46 via the gate 90.

このように構成すれば、端子91によって充電開始信号
を、また端子92によって充電完了信号を検出すること
ができる。
With this configuration, a charging start signal can be detected through the terminal 91, and a charging completion signal can be detected through the terminal 92.

前記電流検出器37は、電極2の接地側に抵抗94を設
け、この抵抗94の電極2側を、2個のコイル95.9
6とコンデンサ97とからなるノイズカット用のフィル
タと、このフィルタに直列接続した抵抗98とを介して
増幅器99の一方の入力側に接続するとともに、この増
幅器99の他方の入力端を抵抗100を介して接地する
。この増幅器99は、その出力側を前記抵抗98を接続
した入力端に抵抗101を介して接続するとともに、出
力側を増幅器102の一方の入力端に接続する。増幅器
102は、他方の入力端を抵抗103を介して接地する
とともに、その出力側を一方の入力端に抵抗104を介
して接続し、極間電流値を検出して出力する。
The current detector 37 has a resistor 94 on the ground side of the electrode 2, and connects the resistor 94 on the electrode 2 side with two coils 95.9.
6 and a capacitor 97, and a resistor 98 connected in series with this filter, to one input side of an amplifier 99, and the other input end of this amplifier 99 is connected to a resistor 100. Ground through. This amplifier 99 has its output side connected to the input end connected to the resistor 98 via a resistor 101, and its output side connected to one input end of an amplifier 102. The amplifier 102 has the other input terminal grounded through a resistor 103, and its output side connected to one input terminal through a resistor 104, and detects and outputs a current value between electrodes.

前記ピークホールド回路38は、前記電流検出器37の
増幅器102の出力側を増幅器105の他方の入力端に
接続するとともに、この増幅器105の一方の入力端を
ダイオード106を介して出力側に接続する。また、増
幅器105の一方の入力側は抵抗107を介して増幅器
108の一方の入力側と出力側にそれぞれ接続実るとと
もに、増幅器105の出力側はダイオード109を介し
て増幅器108の他方の入力端に接続する。前記増幅器
108の他方の入力側はコンデンサ110を介して接地
し、このコンデンサ110の両端にアナログスイッチ1
11を接続する。アナログスイッチ111は前記パルス
発生器41に接続する。
The peak hold circuit 38 connects the output side of the amplifier 102 of the current detector 37 to the other input terminal of the amplifier 105, and connects one input terminal of this amplifier 105 to the output side via a diode 106. . Further, one input side of the amplifier 105 is connected to one input side and an output side of the amplifier 108 via a resistor 107, and the output side of the amplifier 105 is connected to the other input side of the amplifier 108 via a diode 109. Connecting. The other input side of the amplifier 108 is grounded via a capacitor 110, and an analog switch 1 is connected across the capacitor 110.
Connect 11. An analog switch 111 is connected to the pulse generator 41.

このピークホールド回路38は、前記電流検出器37で
検出した極間電流値のピーク値をホールド(保持)し、
この値を電流比較器40に出力するとともに、前記パル
ス発生器41のリセットパルスにより、ホールドしたピ
ーク値をリセットする。
This peak hold circuit 38 holds (retains) the peak value of the inter-electrode current value detected by the current detector 37,
This value is output to the current comparator 40, and the held peak value is reset by a reset pulse from the pulse generator 41.

前記D/A変換器39の出力側と前記ピークホールド回
路38の増幅器108の出力側は、それぞれ抵抗112
.113を介して電流比較器40の比較器114の入力
側に接続するとともに、各抵抗112.113と比較器
114との間には、それぞれダイオード115.116
を接続する。比較器114の出力側には抵抗117を接
続し、この抵抗117の一端を接地したダイオード11
8に接続するとともに、前記CPU46の端子119に
接続する。
The output side of the D/A converter 39 and the output side of the amplifier 108 of the peak hold circuit 38 are connected to a resistor 112, respectively.
.. 113 to the input side of the comparator 114 of the current comparator 40, and a diode 115, 116 is connected between each resistor 112, 113 and the comparator 114, respectively.
Connect. A resistor 117 is connected to the output side of the comparator 114, and one end of this resistor 117 is connected to a diode 11 that is grounded.
8 and is also connected to the terminal 119 of the CPU 46.

前記ゲート回路43の各ANDゲー)62−1〜62−
nは、前記電流波形設定器42の一時記憶装置42aと
前記パルス発生器41の出力端子とを接続し、−時記憶
装置42aとパルス発生器41の出力端子から入力する
信号により、蓄電器29−1〜29−nの充放電を制御
すべく各放電スイッチ31−1〜31−nを開閉駆動す
る。
Each AND game of the gate circuit 43) 62-1 to 62-
n connects the temporary storage device 42a of the current waveform setting device 42 and the output terminal of the pulse generator 41, and the capacitor 29- Each of the discharge switches 31-1 to 31-n is driven to open and close in order to control charging and discharging of the switches 1 to 29-n.

即ち、前記パルス発生器41の加工指令パルスのオン信
号により、前記各蓄電器29−1〜29−nの電荷を放
電側に所望に放電させるべく、各ANDゲー)62−1
〜62−nの全部又は一部を同時にオンさせて、放電ス
イッチ31−1〜31−nの各トランジスタ51−1〜
51−nをオンさせ、各蓄電器29−1〜29−nから
電荷を放電させるとともに、加工指令パルスのオフ信号
により、前記各蓄電器29−1〜29−nの電荷の放電
を停止させるべく、前記各ANDゲート62−1〜62
−nを同時にオフして、各放電スイッチ31−1〜31
−nの各トランジスタ51−1〜51−nをオフさせて
各蓄電器29−1〜29−nから電荷の放電を停止させ
る。
That is, in order to discharge the charge of each capacitor 29-1 to 29-n to the discharge side as desired by the ON signal of the machining command pulse of the pulse generator 41, each AND gate 62-1
~62-n are all or partially turned on at the same time, and each transistor 51-1~ of discharge switch 31-1~31-n is turned on.
51-n to discharge charges from each of the capacitors 29-1 to 29-n, and to stop the discharge of charges from each of the capacitors 29-1 to 29-n by the off signal of the processing command pulse. Each of the AND gates 62-1 to 62
-n at the same time, each discharge switch 31-1 to 31
-n transistors 51-1 to 51-n are turned off to stop discharging charges from each capacitor 29-1 to 29-n.

前記接触検知器47は、例えば第5図の如く定電流発生
部4?aと接触検出部47bどて構成する。即ち、定電
流発生部47aは、2個の増幅器121.122と、ト
ランジスタ123と、8個の抵抗124〜131と、可
変抵抗132と、コンデンサ133と、3個のダイオー
ド134〜136 (135はツェナーダイオード)等
からなり、被加工物4に接続した端子137と電極2に
接続した端子138間に接続された抵抗139(例えば
3Ωの低抵抗)に、後述するノイズカット用のフィルタ
を介して一定の電流を供給する。
The contact detector 47 is, for example, a constant current generator 4 as shown in FIG. a and a contact detection section 47b. That is, the constant current generating section 47a includes two amplifiers 121 and 122, a transistor 123, eight resistors 124 to 131, a variable resistor 132, a capacitor 133, and three diodes 134 to 136 (135 is Zener diode), etc., and is connected to a resistor 139 (for example, a low resistance of 3 Ω) between a terminal 137 connected to the workpiece 4 and a terminal 138 connected to the electrode 2, through a noise cutting filter to be described later. Provides constant current.

また、前記接触検出部47bは、2個のコイル140、
■41とコンデンサ142からなる前記フィルタと、コ
イル140の一端に、コンデンサ143と一端を接地し
た直列抵抗144.145とを接続し、直列抵抗144
.145によって得られる分圧電圧を抵抗146を介し
て増幅器147の一方の入力側に供給する。この増幅器
147の一方の入力側はコンデンサ148を介して接地
する。また増幅器147の他方の入力側は抵抗149を
介してその出力側に接続するとともに、抵抗150を介
して接地する。前記増幅器147の出力側は、増幅器1
51の他方の入力側に接続し、増幅器151の一方の入
力側は可変抵抗152、抵抗153を介して電源に接続
する。
Further, the contact detection section 47b includes two coils 140,
(1) A capacitor 143 and series resistors 144 and 145 with one end grounded are connected to one end of the coil 140, and the series resistor 144 is connected to one end of the coil 140.
.. The divided voltage obtained by 145 is supplied to one input side of an amplifier 147 via a resistor 146. One input side of this amplifier 147 is grounded via a capacitor 148. The other input side of the amplifier 147 is connected to its output side via a resistor 149 and grounded via a resistor 150. The output side of the amplifier 147 is connected to the amplifier 1
One input side of the amplifier 151 is connected to a power supply via a variable resistor 152 and a resistor 153.

前記増幅器151の出力側は、抵抗154を介してFF
155のトリガ一端子に接続するとともに、抵抗156
を介してゲート157の入力側に接続する。このゲート
157の出力側はブザ一端子158に接続し、電極2が
被加工物4に接触した際に図示しないブザー等により警
報を発する。前記FF155のトリガ一端子は、コンデ
ンサ159とダイオード160によって接地し、また、
そのD端子は抵抗161によって電源にプルアップする
とともに、抵抗161には一端を接地したコンデンサ1
62を接続する。FF155の一方の出力側は抵抗16
3を介してゲート1640入力側に接続し、このゲート
164の出力側は抵抗165によって電源に接続された
ホトカプラー166に接続する。ホトカプラー166の
出力側はトランジスタ167に接続し、このトランジス
タ167のコレクタ及びエミッタはCPU46の端子1
68.169にそれぞれ接続する。なお、端子170は
FF155をリセットするためのCPU46の端子であ
る。
The output side of the amplifier 151 is connected to an FF via a resistor 154.
155, and a resistor 156.
is connected to the input side of gate 157 via. The output side of this gate 157 is connected to a buzzer terminal 158, and when the electrode 2 comes into contact with the workpiece 4, an alarm is issued by a buzzer or the like (not shown). The trigger terminal of the FF 155 is grounded through a capacitor 159 and a diode 160, and
The D terminal is pulled up to the power supply by a resistor 161, and a capacitor 1 with one end grounded is connected to the resistor 161.
Connect 62. One output side of FF155 is resistor 16
3 to the input side of a gate 1640, and the output side of this gate 164 is connected to a photocoupler 166 which is connected to the power supply by a resistor 165. The output side of the photocoupler 166 is connected to a transistor 167, and the collector and emitter of this transistor 167 are connected to the terminal 1 of the CPU 46.
Connect to 68 and 169 respectively. Note that the terminal 170 is a terminal of the CPU 46 for resetting the FF 155.

この搗触検知器47は、定電流発生部47aによって前
記端子137.138間に接続した抵抗139に定電流
を常時供給し、電極2と被加工物4の接触により前記端
子137.138間がショート状態となった際の異常電
圧値を接触検出部47bで検出し、その信号を端子16
8.169からCPU46に出力するとともに、端子1
58を介してブザー等から警報を発するものである。
This touch detector 47 constantly supplies a constant current to a resistor 139 connected between the terminals 137 and 138 by a constant current generator 47a, and when the electrode 2 and the workpiece 4 come into contact, the contact between the terminals 137 and 138 is detected. The abnormal voltage value when a short circuit occurs is detected by the contact detection section 47b, and the signal is sent to the terminal 16.
8. Output from 169 to CPU 46, and also output from terminal 1
58, an alarm is emitted from a buzzer or the like.

前記電解仕上げ加工装置10入力装置13は、被加工物
4の材質と加工面積S、仕上げ加工しろと寸法精度の等
級、供給するパルス電流のパルス幅と加ニー回(1パル
スまたは数パルス毎の加工)当たりの供給回数、電極間
隙等を入力し、これらの各信号を制御装置12のモータ
駆動制御部9及び加工条件制御部10に出力する。
The input device 13 of the electrolytic finishing processing apparatus 10 inputs information such as the material of the workpiece 4, the processing area S, the finishing allowance and the grade of dimensional accuracy, the pulse width of the supplied pulse current and the number of times of kneading (one pulse or every few pulses). The number of times of supply per machining, electrode gap, etc. are input, and these signals are output to the motor drive control section 9 and the machining condition control section 10 of the control device 12.

また、前記電解液濾過装置14は、加工で生じた電解生
成物を含む電解液を濾過するもので、例えは第6図の如
く構成する。即ち、電解液濾過装置14は、加工槽15
からの電解生成物を多く含んだ戻り電解液を電磁弁17
1を介して貯留するダーティタンク172と、このダー
ティタンク172の電解液をポンプ173て汲み上げて
遠心分離処理する遠心分離機174と、この遠心分離機
174て分離処理した電解生成物を含まない電解液を貯
留するクリーンタンク175と、このクリーンタンク1
75に内蔵され、ヒータ183とモータ184によって
回転するファン(図示せず)とを具備する液温調整器1
76と、前記クリーンタンク175の電解液を汲み上げ
るポンプ177と、この汲み上げた電解液をフィルタ1
78を通してから加工槽15へ供給するための電磁弁1
79と、フィルタ178を通した電解液を、電極2と被
加工物4との間隙に噴出ノズル180によって噴出させ
、該間隙に生じた電解生成物等を排除するための電磁弁
181と、前記フィルタ178を通した電解液を液温調
整器175に戻す絞り弁182等からなる。
The electrolytic solution filtering device 14 filters an electrolytic solution containing electrolytic products generated during processing, and is configured as shown in FIG. 6, for example. That is, the electrolyte filtration device 14 is
The return electrolyte containing a large amount of electrolytic products from the solenoid valve 17
1, a centrifugal separator 174 that pumps up the electrolytic solution in the dirty tank 172 with a pump 173 and centrifuges it, and an electrolytic solution that does not contain the electrolyzed products separated by the centrifugal separator 174. A clean tank 175 that stores liquid and this clean tank 1
75 and includes a heater 183 and a fan (not shown) rotated by a motor 184.
76, a pump 177 for pumping up the electrolyte from the clean tank 175, and a pump 177 for pumping up the electrolyte from the clean tank 175, and a pump 177 for pumping up the electrolyte from the clean tank 175, and a pump 177 for pumping up the electrolyte from the clean tank 175, and a pump 177 for pumping up the electrolyte from the clean tank 175, and a pump 177 for pumping up the electrolyte from the clean tank 175, and a pump 177 for pumping up the electrolyte from the clean tank 175, and a pump 177 for pumping up the electrolyte from the clean tank 175, and a pump 177 for pumping up the electrolyte from the clean tank 175.
Solenoid valve 1 for supplying to the processing tank 15 after passing through 78
79, an electromagnetic valve 181 for ejecting the electrolytic solution passed through the filter 178 into the gap between the electrode 2 and the workpiece 4 by a blowing nozzle 180, and removing electrolytic products generated in the gap; It consists of a throttle valve 182 and the like that returns the electrolyte that has passed through the filter 178 to the liquid temperature regulator 175.

なお、第6図中185.186はポンプ173.177
を駆動するモータ、187.188はダーティタンク1
72の液面を検出する上限フロートスイッチ及び下限フ
ロートスイッチ、189は加工槽15内の液面を検出す
るフロートスイッチ、190は遠心分離機174を駆動
するモ]夕である。
In addition, 185.186 in Fig. 6 is the pump 173.177.
The motor that drives the motor, 187.188 is the dirty tank 1
72 is an upper limit float switch and a lower limit float switch for detecting the liquid level, 189 is a float switch for detecting the liquid level in the processing tank 15, and 190 is a motor for driving the centrifuge 174.

この電解液濾過装置14を制御する電解液流制御部11
は、加工条件制御部lOからの制御信号に基づいて、加
工槽15内に電解液を供給するとともに、加工中に電極
面2aと被加工面4a間に生成した電解生成物等を排除
するために、電極2と被加工物4間に清浄な電解液(液
温調整されフィルタ178を通した電解液)を噴出ノズ
ル180によって噴出する如く、電磁弁179.181
、ポンプ173.177等を制御するが、以下これにつ
いて説明する。
Electrolyte flow control section 11 that controls this electrolyte filtration device 14
is for supplying an electrolytic solution into the machining tank 15 based on a control signal from the machining condition control unit IO, and for eliminating electrolytic products generated between the electrode surface 2a and the workpiece surface 4a during machining. Then, solenoid valves 179 and 181 are installed so that clean electrolyte (temperature-adjusted electrolyte that has passed through filter 178) is spouted between electrode 2 and workpiece 4 by jet nozzle 180.
, pumps 173, 177, etc., which will be explained below.

まず、加工槽15内の電解生成物を含んだ電解液の排出
は、図示しないオーバーフロー管により、また電解液流
制御部11の信号により電磁弁171が作動してダーテ
ィタンク172内に排出される。そして、ダーティタン
ク172内の液面レベルは、上・下のフロートスイッチ
187.18日で検出されてその信号が電解液流制御部
11に入力される。電解液)流制御部11は、ダーティ
タンク172内の液面レベルが所定値に達したら、即ち
液面レベルが上・下のフロートスイッチ187.188
間にある時、ポンプ173のモータ185に駆動信号を
出力し、ダーティタンク172内の電解液を汲み上げて
遠心分離機174に送出する。
First, the electrolytic solution containing the electrolytic products in the processing tank 15 is discharged into the dirty tank 172 by an overflow pipe (not shown) and by actuating the solenoid valve 171 in response to a signal from the electrolytic solution flow control section 11. . The liquid level in the dirty tank 172 is detected by the upper and lower float switches 187 and 18, and the signals thereof are input to the electrolyte flow control section 11. When the liquid level in the dirty tank 172 reaches a predetermined value, the electrolytic solution flow control unit 11 controls the float switches 187 and 188 to indicate whether the liquid level is above or below.
At some point in time, a drive signal is output to the motor 185 of the pump 173 to pump up the electrolyte in the dirty tank 172 and send it to the centrifuge 174.

遠心分離機174は、電解液流制御部11の制御信号に
よりモータ190が回転し、電解液を分離処理する。そ
して、分離処理され電解生成物を含まない電解液は液温
調整器176内に貯留され、ここで基準の液温となるよ
うに調整される。この際、遠心分離処理された電解液が
基準温度以下の場合は、電解液流制御装置11の制御信
号よりヒータ183が通電されて電解液を加温し、また
、液温か基準温度を超える場合は、電解液流制御部11
の制御信号により前記モータ184が回転駆動し、その
ファンで電解液を冷却して、電解液の液温か常に一定と
なるように制御する。
In the centrifugal separator 174, a motor 190 rotates in response to a control signal from the electrolyte flow control section 11, and the centrifugal separator 174 separates the electrolyte. Then, the electrolytic solution that has been separated and does not contain electrolytic products is stored in the liquid temperature regulator 176, where it is adjusted to a reference liquid temperature. At this time, if the temperature of the centrifuged electrolyte is below the reference temperature, the heater 183 is energized by the control signal of the electrolyte flow control device 11 to heat the electrolyte, and if the temperature of the electrolyte exceeds the reference temperature, is the electrolyte flow control section 11
The motor 184 is rotated by the control signal, and the electrolyte is cooled by the fan, so that the temperature of the electrolyte is always constant.

液温調整された電解液は、クリーンタンク175内に貯
留される。そして、ポンプ177によって汲み上げられ
、フィルタ178を通った電解液は、加工を開始する際
に、電解液流制御部11の制御信号により電磁弁179
が作動して、加工槽15内に所定量供給されるとともに
、加工中においては、電解液流制御部11の制御信号に
より電磁弁181を間欠的に、例えば−回あるい数回毎
に上昇動作する電極2と同期させて動作させ、噴出ノズ
ル180から電極2と被加工物4との間隙に噴出され、
該間隙の電解生成物を排除する。なお、ポンプ177は
加工中常時作動しクリーンタンク175内の電解液を汲
み上げているが、この電解液は電磁弁181が作動して
いない場合は、紋り弁182を介して液温調整器176
内に戻される。
The temperature-adjusted electrolytic solution is stored in the clean tank 175. Then, the electrolytic solution pumped up by the pump 177 and passed through the filter 178 is transferred to the electromagnetic valve 179 by a control signal from the electrolytic solution flow control section 11 when starting processing.
is activated to supply a predetermined amount into the machining tank 15, and during machining, the solenoid valve 181 is intermittently raised by the control signal from the electrolyte flow control unit 11, for example, every - or several times. It is operated in synchronization with the operating electrode 2, and is ejected from the ejection nozzle 180 into the gap between the electrode 2 and the workpiece 4,
Eliminate electrolysis products in the gap. Note that the pump 177 is constantly operating during processing to pump up the electrolyte in the clean tank 175, but if the electrolyte is not operating, the electrolyte is pumped through the liquid temperature regulator 176 via the stop valve 182.
returned inside.

なお、電解液の供給は上記実施例に限らず、例えば直列
に連結した第1及び第2のシリンダを設け、この第1の
シリンダには加工槽15側とクリーンタンク175側へ
の電解液の逆流を阻止する一対の逆上弁を設けるととも
に、第2のシリンダにコンプレッサを接続して、このコ
ンプレッサにより第2のシリンダを作動させることによ
り第1のシリンダを作動させ、第1のシリンダ内に吸引
された電解液を電極2と被加工物4間に噴出するように
してもよい。
Note that the supply of the electrolyte is not limited to the above embodiment, and for example, first and second cylinders connected in series are provided, and the first cylinder is supplied with the electrolyte to the processing tank 15 side and the clean tank 175 side. In addition to providing a pair of reverse flow valves to prevent backflow, a compressor is connected to the second cylinder, and the compressor operates the second cylinder to operate the first cylinder. The sucked electrolyte may be jetted out between the electrode 2 and the workpiece 4.

次に、この電解仕上げ加工装置1による仕上げ加工動作
の一例について第7図のフローチャートにより説明する
Next, an example of the finishing operation performed by the electrolytic finishing apparatus 1 will be explained with reference to the flowchart shown in FIG.

仕上げ加工に際しては、電極固定装置30ロツド16の
下端に、例えば被加工物4を放電加工する際に使用した
電極2を、あるいはワイヤーカット放電加工により切り
抜かれた残部を電極2として固定するとともに、被加工
物固定装置5に被加工物4をそれぞれ固定(200) 
b、入力装置13により被加工物4の加工面積S、供給
するパルス電流のパルス幅t Onl 〜t On3、
加工回数N1、N2、電極間隙δ等のパラメータを入力
(201)する。そして、電極2を下降させてその電極
面2aを被加工面4aに接触(202)させ、前記接触
検知器47でその位置を検出しこれを原点Aとする。
During finishing, the electrode 2 used for electrical discharge machining of the workpiece 4, or the remainder cut out by wire-cut electrical discharge machining, is fixed as the electrode 2 to the lower end of the electrode fixing device 30 rod 16, Fix the workpieces 4 to the workpiece fixing device 5 (200)
b. The machining area S of the workpiece 4, the pulse width t Onl to t On3 of the supplied pulse current, using the input device 13;
Parameters such as the number of machining times N1, N2, electrode gap δ, etc. are input (201). Then, the electrode 2 is lowered to bring the electrode surface 2a into contact with the surface to be processed 4a (202), and the contact detector 47 detects the position, which is set as the origin A.

次に、前記電磁弁179を作動させて加工槽15内にク
リーンタンク175から電解液を供給(203)シ、前
記フロートスイッチ189が作動したら、電極2を上昇
させて初期電極間隙δを維持する位置に電極2を設定(
204)するとともに、電解液が電極面2aと被加工面
4a間に満ち、電解液が静止(電解液の流れ・動きが略
停止した状態をいう)したら(205) 、最初の加工
(−回目の加工)であるか否かを判断(206)する。
Next, the solenoid valve 179 is operated to supply electrolyte from the clean tank 175 into the processing tank 15 (203), and when the float switch 189 is operated, the electrode 2 is raised to maintain the initial electrode gap δ. Set electrode 2 at the position (
204), and when the electrolytic solution fills between the electrode surface 2a and the surface to be processed 4a and the electrolytic solution is stationary (meaning the state where the flow and movement of the electrolytic solution has almost stopped) (205), the first machining (-th (206).

この判断(206)でYESの場合、つまり一回目の加
工である場合は、加工条件制御部100制御信号により
、電源装置8から、被加工物4の加工面積Sに応じた所
定のピーク電流密度fptで所定のパルス幅ton、を
有する、面粗度向上用の単一のパルス電流(以下第1の
パルス電流という)を電極2と被加工物4の極間に供給
(20?)する。
If this judgment (206) is YES, that is, if this is the first machining, a predetermined peak current density corresponding to the machining area S of the workpiece 4 is transmitted from the power supply 8 by the control signal of the machining condition control unit 100. A single pulse current (hereinafter referred to as a first pulse current) for improving surface roughness having a predetermined pulse width ton in fpt is supplied (20?) between the electrode 2 and the workpiece 4.

そして極間にパルス電流が供給されると、前述したよう
に、電流検出器37が極間電流値■oを検出(208)
 L/、そのピーク値をピークホールド回路38がホー
ルドし、CPU46がこのピーク値と人力された被加工
物4の加工面積S等の性状に関するパラメータから下限
電流値■1を算出(209) L/、電流設定器45に
設定する。なお、この場合の下限電流値■1の算出は、
例えば11= IoXK3(N3は1以下の定数)よっ
て行う。
Then, when a pulse current is supplied between the electrodes, the current detector 37 detects the inter-electrode current value o (208).
L/, the peak hold circuit 38 holds the peak value, and the CPU 46 calculates the lower limit current value ■1 from this peak value and parameters related to the properties such as the machining area S of the workpiece 4 manually input (209) L/ , is set in the current setting device 45. In addition, the calculation of the lower limit current value ■1 in this case is as follows:
For example, 11=IoXK3 (N3 is a constant of 1 or less).

そして、極間に前記第1のパルス電流と同じ単一のパル
ス電流を供給(210) シ、その時の極間電流値Ii
を検出(211)する。極間電流値Iiが検出されると
、前記モータ駆動制御部9の信号によりモータ20を駆
動して電極2を上昇(212)させ、電極面2aを被加
工面4aから離間させ、電極面2aと被加工面4a間の
溶出した電解生成物を電解液とともに電解液濾過装置1
4の電磁弁181の動作により、噴出ノズル180から
電解液を噴出(213) シて排除する。
Then, a single pulse current that is the same as the first pulse current is supplied between the electrodes (210), and the current value between the electrodes Ii at that time.
is detected (211). When the inter-electrode current value Ii is detected, the motor 20 is driven by the signal from the motor drive control section 9 to raise the electrode 2 (212), separating the electrode surface 2a from the workpiece surface 4a, and increasing the electrode surface 2a. The electrolyte filtering device 1 removes the electrolytic products eluted between the
4, the electrolytic solution is ejected (213) from the ejection nozzle 180 and removed.

電解生成物を排除した後は、電極2を下降(214)せ
て、電極面2aを被加工面4aに接触させ、接触検知器
47でその位置を検出し、この位置と前記原点AとをC
PU46で比較して加工深さを測定(215)する。な
お、前記第1のパルス電流は、ピーク電流密度ip1が
15A/cm2でパルス幅七〇nlが4 m secか
らjptが100A / c m2でt Oniが10
0m5ecのパルスであれば、加工面積が1cm2がら
300cm2の被加工面4aの面粗度を著しく向上させ
得ることが実験的に確認されている。
After removing the electrolytic products, the electrode 2 is lowered (214) to bring the electrode surface 2a into contact with the surface to be processed 4a, the contact detector 47 detects the position, and this position and the origin A are connected. C
The PU 46 compares and measures the machining depth (215). The first pulse current has a peak current density ip1 of 15 A/cm2, a pulse width of 70nl of 4 msec, a jpt of 100A/cm2, and a tOni of 10
It has been experimentally confirmed that a pulse of 0 m5ec can significantly improve the surface roughness of the processed surface 4a whose processing area is 1 cm2 to 300 cm2.

そして、ステップ(215)で測定した加工深さと予め
設定した設定値とを比較(216) シ、加工深さが設
定値に対し所定の差(例えば1μm)に達していない場
合は、ステップ(211)で検出した極間電流値Iiが
ステップ(209)で算出した下限電流値11以下であ
るか否かを判断(217) b、1i<IIの場合(N
O)はステップ(204)に戻る。なお、この場合前記
ステップ(206)は、2回目の加工であるためNoと
なりステップ(210>ヘジャンブする。
Then, the machining depth measured in step (215) and the preset setting value are compared (216). If the machining depth does not reach a predetermined difference (for example, 1 μm) from the set value, step (211) ) is the lower limit current value 11 calculated in step (209) or less (217) b, if 1i<II (N
O) returns to step (204). In this case, since the step (206) is the second processing, the result is No, and the process returns to step (210>).

ステップ(21?)でYESの場合、つまり極間電流値
fiが下限電流値11以下になった場合は、前記電流比
較器40がCPU46に信号を出力し、この信号により
CPU46が充電電圧設定器44及び電流波形設定器4
2に制御信号を出力し、電源装置8から供給されるパル
ス電流を、前記第1のパルス電流より高いピーク電流密
度jllzで所定のパルス幅t On2を有する、酸化
皮膜除去用の単一のパルス電流(以下第2のパルス電流
という)に切換える(218)とともに、電極2を上昇
させて前記ステップ(、204)と同一位置に電極2を
設定(219)する。この場合、電極2と被加工物40
間隙は加工の進行により大きくなる。
If YES in step (21?), that is, if the inter-electrode current value fi becomes lower limit current value 11 or less, the current comparator 40 outputs a signal to the CPU 46, and this signal causes the CPU 46 to set the charging voltage setting device. 44 and current waveform setting device 4
A single pulse for oxide film removal having a predetermined pulse width tOn2 with a peak current density jllz higher than the first pulse current and a pulse current supplied from the power supply device 8. The current is switched to the current (hereinafter referred to as second pulse current) (218), and the electrode 2 is raised to set it at the same position as in the step (204) (219). In this case, the electrode 2 and the workpiece 40
The gap becomes larger as processing progresses.

そして、電極面2aと被加工面4a間の電解液が静止(
220) L/たら、前記第2のパルス電流を電極2と
被加工物4間に供給(221) L/、被加工面4aに
生成した酸化皮膜等を被加工面4aから剥離するととも
に、電極2を上昇(222)させ、間隙に電解液を噴出
(223) bて、剥離した酸化皮膜等が含まれる電解
液を該間隙から排除する。
Then, the electrolytic solution between the electrode surface 2a and the processed surface 4a remains stationary (
220) L/, the second pulse current is supplied between the electrode 2 and the workpiece 4 (221) L/, the oxide film etc. generated on the workpiece surface 4a is peeled off from the workpiece surface 4a, and the electrode 2 is raised (222) and the electrolytic solution is ejected into the gap (223) b to remove the electrolytic solution containing the peeled oxide film etc. from the gap.

そして、電極2を下降(224)させて、所定の加工回
数N1であるか否かを判断(225) シ、この判断(
225)でNOの場合はステップ(219)に戻り、第
2のパルス電流による加工を所定回数N1回行う。
Then, the electrode 2 is lowered (224) and it is determined whether or not the predetermined number of machining is N1 (225).
If NO in step 225), the process returns to step (219), and processing using the second pulse current is performed a predetermined number of times N1.

また、判断(225)でYESの場合は、電源装置8か
ら供給されるパルス電流を前記第1のパルス電流に切換
(226)え、即ちピーク電流密度を減少させて、ステ
ップ(204’)へ移り仕上げ加工を続ける。なお、こ
の第2のパルス電流は、第1のパルス電流に、ピーク電
流密度で5〜IOA/cm2、パルス幅で10〜15m
 s e cを加えた値が最適である この一連の加工により加工深さが設定値に対して所定の
差以内になった時に、ステップ(216)でYESとな
り、加工条件制御部10の制御信号により電源装置8か
ら供給されるパルス電流を加工面積Sに応じた所定のピ
ーク電流密度lp3て所定のパルス幅t on3を有す
る、光沢面形成用の単一のパルス電流(以下第3のパル
ス電流という)に切換(227)える。そして、この第
3のパルス電流で前述したステップ(219)〜(22
5’)と同様の加工を所定回数N2回繰返しく228)
〜(234)、全ての仕上げ加工を終了する( 235
 ’)。この第3のパルス電流は、ピーク電流密度ip
3が30〜50A/cm2て、パルス幅が20〜60m
5ecが最適であるが、前記第2のパルス電流と同じ条
件とすることもできる。
If the determination (225) is YES, the pulse current supplied from the power supply device 8 is switched to the first pulse current (226), that is, the peak current density is reduced, and the process proceeds to step (204'). Continue the transfer finishing process. Note that this second pulse current has a peak current density of 5 to IOA/cm2 and a pulse width of 10 to 15 m.
When the machining depth becomes within a predetermined difference from the set value through this series of machining in which the value obtained by adding sec A single pulse current (hereinafter referred to as the third pulse current) for forming a glossy surface has a predetermined peak current density lp3 and a predetermined pulse width t on3, which is a pulse current supplied from the power supply device 8 according to the processing area S. ) (227). Then, with this third pulse current, steps (219) to (22) described above are performed.
5') Repeat the same process a predetermined number of times N2228)
~(234), complete all finishing operations (235)
'). This third pulse current has a peak current density ip
3 is 30-50A/cm2, pulse width is 20-60m
Although 5 ec is optimal, the same conditions as the second pulse current can also be used.

なお、ステップ(216)におけるパルス電流を切換え
るタイミングの検出は、上記の加工深さと設定値との比
較による検出に限らず、例えば加工しろから加工終了す
るまでの単位面積当たりのり一ロン量を計算してこの値
により検出制御することもできる。
Note that the detection of the timing to switch the pulse current in step (216) is not limited to detection by comparing the machining depth and the set value described above, but also by calculating the amount of glue per unit area from the machining allowance to the end of machining, for example. Detection can also be controlled using the lever value.

また、上記実施例においては、第1〜第3のパルス電流
として単一パルスを使用する場合について説明したが、
単一パルスを複数回連続して供給するパルス列を使用す
ることもできる。さらに、上記実施例においては、所定
のパルス電流を供給後、電解生成物を排除するために、
電極2を一旦上昇させたが、例えば電極2に1個もしく
は複数個の電解液噴出孔あるいは吸引孔を設けた場合等
は、電極2を上昇させずに初期電極間隙に設定した位置
に電極2を固定した状態で、適宜の手段により前記噴出
孔から電解液を噴出あるいは吸引して電解生成物を排除
することもてきる。
Further, in the above embodiment, a case was explained in which a single pulse was used as the first to third pulse currents.
It is also possible to use pulse trains that provide multiple single pulses in succession. Furthermore, in the above embodiment, in order to eliminate electrolytic products after supplying a predetermined pulse current,
Although the electrode 2 has been raised once, if the electrode 2 is provided with one or more electrolyte jet holes or suction holes, the electrode 2 is not raised and the electrode 2 is moved to the position set at the initial electrode gap. In a fixed state, the electrolytic solution can be ejected or sucked from the ejection hole by appropriate means to remove the electrolytic products.

また、上記実施例においては、被加工物4の加工面積を
入力装置13で入力して設定したが、例えば極間に基準
電圧を供給して、その時の極間のピーク電流値を検出し
、このピーク電流値と予め実験によって求めた換算式か
ら、CPU46で自動的に算出して設定することもでき
る。
Further, in the above embodiment, the machining area of the workpiece 4 is input and set using the input device 13, but for example, by supplying a reference voltage between the machining electrodes and detecting the peak current value between the machining electrodes at that time, The CPU 46 can also automatically calculate and set the value using this peak current value and a conversion formula obtained through experiments in advance.

次に、この発明に係る電解加工による仕上げ加工方法及
び電解仕上げ加工装置による加工例を示す。
Next, an example of processing using the electrolytic finishing method and electrolytic finishing apparatus according to the present invention will be shown.

く加工例1〉 電 極       純銅 被加工物材質    工具鋼 被加工面の表面積  25cm2 電極間隙      0.1mm 加工液       硝酸ナトリウム溶液(濃度40%
) 第1のパルス電流 ピーク電流密度  15A/Cm2 パルス幅     4m5ec 第2のパルス電流 ピーク電流密度  25 A/ c m2パルス幅  
   20’m5ec 第3のパルス電流 ピーク電流密度  48 A/ c m2パルス幅  
   40m5ec 仕上げ面粗度    Rmax:1μm以下仕上げ面 
     鏡面状の光沢面 く加工例2〉 電 極       純銅 被加工物材質    工具鋼 被加工面の表面積  10m2 電極間隙      0.1mm 加工液       硝酸ナトリウム溶液(濃度40%
) 第1のパルス電流 ピーク電流密度  60A/crn2 オン時間     5m5ec 第2のパルス電流 ピーク電流密度  65A/crn2 パルス幅     15m5ec 第3のパルス電流 ピーク電流密度  48 A/ c rn2オン時間 
    40m5ec 仕上げ面粗度    Rmax:1μm以下仕上げ面、
      鏡面状の光沢面このように、上記実施例に
あっては、高電流密度の酸化皮膜除去用のパルス電流へ
の切換えを、酸化皮膜の生成による極間電流値の低下を
検出して行うため、被加工物の形状、加工面積の大きさ
等に関係なく、常に酸化皮膜の生成度合が同じ状態でパ
ルス電流を切換えることができ、被加工面4aに生成す
る酸化皮膜を確実に除去して皮膜の影響を受けることな
く短時間に面粗度を向上させることができる。なお、酸
化皮膜の生成によって降下する極間の電流値は、最初の
加工電流値を基準として、加工面積の略0.2乗に比例
することが実験的に確認されている。
Machining example 1> Electrode Pure copper workpiece material Tool steel Surface area of workpiece surface 25 cm2 Electrode gap 0.1 mm Machining fluid Sodium nitrate solution (concentration 40%)
) 1st pulse current peak current density 15A/cm2 Pulse width 4m5ec 2nd pulse current peak current density 25A/cm2 Pulse width
20'm5ec 3rd pulse current peak current density 48 A/cm m2 pulse width
40m5ec Finished surface roughness Rmax: 1μm or less Finished surface
Machining example 2 for mirror-like glossy surface Electrode Pure copper Workpiece material Tool steel Surface area of workpiece surface 10m2 Electrode gap 0.1mm Machining fluid Sodium nitrate solution (concentration 40%)
) 1st pulse current peak current density 60A/crn2 On time 5m5ec 2nd pulse current peak current density 65A/crn2 Pulse width 15m5ec 3rd pulse current peak current density 48 A/crn2 On time
40m5ec Finished surface roughness Rmax: 1μm or less Finished surface,
Mirror-like glossy surface As described above, in the above embodiment, the switching to the high current density pulse current for removing the oxide film is performed by detecting the decrease in the inter-electrode current value due to the formation of the oxide film. Regardless of the shape of the workpiece, the size of the machining area, etc., the pulse current can be switched so that the degree of oxide film formation is always the same, and the oxide film formed on the workpiece surface 4a can be reliably removed. Surface roughness can be improved in a short time without being affected by the coating. It has been experimentally confirmed that the current value between the machining electrodes that decreases due to the formation of an oxide film is approximately proportional to the 0.2 power of the machining area, with the initial machining current value as a reference.

なお、上記実施例においては、下限電流値を最初のパル
ス電流供給による極間電流値に基づいて自動的に算出し
たが、この発明はこれに何ら限定されず、例えばステッ
プ(201)において、人力装置13により被加工物の
加工面積Sに応じた下限電流値を予め算出して入力し、
CPU46の電流設定器45に設定するように、即ち第
7図のステップ(206)〜(209)を省略するよう
にしてもよい。
In the above embodiment, the lower limit current value was automatically calculated based on the inter-electrode current value obtained by the first pulse current supply, but the present invention is not limited thereto; for example, in step (201), the lower limit current value A lower limit current value corresponding to the machining area S of the workpiece is calculated and inputted in advance by the device 13,
The current setting device 45 of the CPU 46 may be set, that is, steps (206) to (209) in FIG. 7 may be omitted.

この場合の下限電流値11の算出は、例えば、既知の加
工面積Sと、この加工面fff Sに応し予め実験によ
り求めたピーク電流密度j[+とにより、極間に流れる
総電流I  (=SX i p+)を求め、この総電流
■からI+= I XK3 (K3は1以下の定数)と
して算出する。
The lower limit current value 11 in this case is calculated, for example, from the known machining area S and the peak current density j[+ determined in advance by experiment according to this machining surface fff S, the total current I ( =SX i p+) is determined, and from this total current ■, it is calculated as I+=I XK3 (K3 is a constant of 1 or less).

ま九、上記実施例においては、第1のパルス電流−によ
る極間電流値のみを検出したが、例えは第2及び第3の
パルス電流による極間電流値を検出し、この電流値と設
定した電流値とを比較し、その比較結果に基づいて、第
1のパルス電流に切換えたり、仕上げ加工を終了するよ
うにしてもよい。
9. In the above embodiment, only the inter-electrode current value due to the first pulse current was detected, but for example, the inter-electrode current value due to the second and third pulse currents may be detected, and this current value and the setting The current value may be compared with the current value, and based on the comparison result, the current may be switched to the first pulse current or the finishing process may be terminated.

ざらに、上記実施例においては、電流密度をピーク電流
密度として説明したが、電流密度として平均電流密度を
用いてもよいことはもちろんであり、また、この発明は
金型加工分野に限らず、半導体生産のシリコン単結晶や
ガリウムヒソ基材の仕上げ加工、及び磁気記憶装置のア
ルミニュウム・ディスクの単結晶ダイヤモンドによる鏡
面加工等のよう♀、機械的加工による表面の僅かな内部
応力が問題となっている分野での仕上げ加工にも応用す
ることができる。さらに、自動搬送装置と謝み合せて、
量産されるハイポイド・キャー等の熱処理後の仕上げ加
工に用いることも勿論可能である。
Generally speaking, in the above embodiments, the current density was explained as the peak current density, but it goes without saying that the average current density may be used as the current density, and the present invention is not limited to the field of mold processing. Slight internal stress on the surface due to mechanical processing has become a problem, such as finishing processing of silicon single crystal or gallium histobase materials for semiconductor production, and mirror finishing of aluminum disks for magnetic storage devices using single crystal diamond. It can also be applied to finishing processing in the field. Furthermore, in conjunction with automatic conveyance equipment,
Of course, it is also possible to use it for finishing processing after heat treatment of mass-produced hypoid cars and the like.

[発明の効果コ この出願の第1及び第2発明は、上述の通りに構成した
ので、次に記載する効果を奏する。
[Effects of the Invention] Since the first and second inventions of this application are constructed as described above, they produce the following effects.

(第1発明) 極間に供給されるパルス電流に基づく極間電流値を検出
するとともに、この極間電流値と被加工物の性状等によ
り設定した設定電流値とを比較し、その比較結果に基づ
き、パルス電流の電流密度を増減させるため、例えば面
粗度向上の加工中に生成される酸化皮膜の生成度合が常
に同じ状態で高電流密度のパルス電流に切換えることが
でき、酸化皮膜を確実に除去し得て、被加工面の面粗度
を短時間かつ高精度に向上させ得て、鏡面状の光沢面か
容易に得られる。
(First invention) Detecting the current value between the machining areas based on the pulsed current supplied between the machining areas, comparing the current value between the machining areas and a set current value set based on the properties of the workpiece, etc., and detecting the comparison result. Based on this, in order to increase or decrease the current density of the pulsed current, it is possible to switch to a pulsed current with a high current density while keeping the degree of oxide film generated during machining to improve surface roughness always the same. It can be removed reliably, the surface roughness of the processed surface can be improved in a short time and with high precision, and a mirror-like glossy surface can be easily obtained.

(第2発明) 下限電流値を、加工開始初期の極間電流直に基ついて自
動的に算出して設定するため、被加工物の形状、加工面
積の大小等の性状に応じて一々入力設定する必要がなく
、作業能率を向上させることができる。
(Second invention) Since the lower limit current value is automatically calculated and set based on the machining current value at the initial stage of machining, input settings are made one by one according to the properties such as the shape of the workpiece and the size of the machining area. There is no need to do this, and work efficiency can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明を実施し得る電解仕上げ加工装置の正
面図、第2図は同装置のブロック図、第3図はその要部
のブロック図、第4図は同要部の回路構成図、第5図は
同装置の接触検知器の回路構成図、第6図は同装置の電
解液濾過装置の概略構成図、第7図は仕上げ加工動作の
一例を示すフローチャートである。 1・・・電解仕上げ加工装置、2・・・電極、4・・・
被加工物、    8・・・電源装置−9・・・モータ
駆動制御部、lO・・・加工条件制御部、11・・・電
解液流制御部、12・・・制御装置、13・・・入力装
置、  14・・・電解液濾過装置、37・・・電流検
出器、38・・・ピークホールド回路、44・・・充電
電圧設定器、 45・・・電流設定器、46・・・CP
U。 第1 刃 /72 24 第2図
Fig. 1 is a front view of an electrolytic finishing apparatus capable of carrying out the present invention, Fig. 2 is a block diagram of the apparatus, Fig. 3 is a block diagram of its main parts, and Fig. 4 is a circuit configuration diagram of the main parts. , FIG. 5 is a circuit configuration diagram of a contact detector of the same device, FIG. 6 is a schematic configuration diagram of an electrolyte filtration device of the same device, and FIG. 7 is a flowchart showing an example of finishing operation. 1... Electrolytic finishing processing device, 2... Electrode, 4...
Workpiece, 8... Power supply device-9... Motor drive control section, 1O... Machining condition control section, 11... Electrolyte flow control section, 12... Control device, 13... Input device, 14... Electrolyte filtration device, 37... Current detector, 38... Peak hold circuit, 44... Charging voltage setter, 45... Current setting device, 46... CP
U. 1st blade/72 24 Fig. 2

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)次のステップを具備する電解加工による仕上げ加
工方法。 A、被加工物と、この被加工物の被加工面に倣った電極
面を有する電極とを静止した電解液を介して対設させ、
その極間に所定の電流密度を有するパルス電流を供給す
るステップ。 B、このパルス電流に基づく極間電流値を検出するステ
ップ。 C、この極間電流値と前記被加工物の性状によって設定
した所定の電流値とを比較し、その比較結果に基づき前
記パルス電流の電流密度を増減させるステップ。 D、この増減させたパルス電流を前記極間に供給するス
テップ。
(1) A finishing method using electrolytic machining, which includes the following steps: A. A workpiece and an electrode having an electrode surface patterned after the surface of the workpiece are placed opposite each other via a stationary electrolyte,
Supplying a pulsed current having a predetermined current density between the poles. B. Detecting a current value between electrodes based on this pulse current. C. Comparing this machining current value with a predetermined current value set according to the properties of the workpiece, and increasing or decreasing the current density of the pulsed current based on the comparison result. D. Supplying the increased or decreased pulse current between the electrodes.
(2)次のステップを具備する電解加工による仕上げ加
工方法。 イ、被加工物と、この被加工物の被加工面に倣った電極
面を有する電極とを静止した電解液を介して対設させ、
その極間に所定の電流密度を有するパルス電流を供給す
るステップ。 ロ、このパルス電流に基づく極間電流値を検出するステ
ップ。 ハ、加工開始の初期に、前記極間電流値と前記被加工物
の性状とにより下限電流値を設定するとともに、加工中
に、前記極間電流値と前記下限電流値とを比較し、その
比較結果に基づき前記パルス電流の電流密度を増減させ
るステップ。
(2) A finishing method using electrolytic machining, which includes the following steps: B. A workpiece and an electrode having an electrode surface patterned after the surface of the workpiece are placed opposite each other via a stationary electrolyte,
Supplying a pulsed current having a predetermined current density between the poles. B. A step of detecting a current value between electrodes based on this pulse current. C. At the beginning of machining, a lower limit current value is set based on the machining current value and the properties of the workpiece, and during machining, the machining current value and the lower limit current value are compared, and increasing or decreasing the current density of the pulsed current based on the comparison result;
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