JPH01315423A - 高硬度樹脂の製造方法 - Google Patents

高硬度樹脂の製造方法

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JPH01315423A
JPH01315423A JP63146810A JP14681088A JPH01315423A JP H01315423 A JPH01315423 A JP H01315423A JP 63146810 A JP63146810 A JP 63146810A JP 14681088 A JP14681088 A JP 14681088A JP H01315423 A JPH01315423 A JP H01315423A
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Atsunori Yaguchi
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は高硬度樹脂の製造方法に関し、詳しくは特定の
光重合開始剤の存在下で、硬化性ホスフアゼン化合物に
紫外線等の活性エネルギー線を照射することによって、
極めて硬度の大きい樹脂を効率よく製造する方法に関す
る。
〔従来の技術および発明が解決しようとする課題〕従来
から、ガラス代替品として軽量で加工性にすぐれた各種
の透明プラスチック材料が、レンズをはじめとする光学
製品あるいは板状の構造材等として使用されている。し
かし、これらのプラスチック材料は、透明性にはすぐれ
ているものの、表面硬度が充分でなく、実用上様々な問
題がある。
そのため、この硬度不足を補う目的で、これらの透明プ
ラスチック表面に保護膜を形成することが行われている
。この保護膜の形成には、様々な手法が使用されている
が、通常は真空蒸着法、スパッタリング法、PVD法(
物理吸着法)等によりクロム、酸化クロム、シリコン、
タンタルなどの無機系の薄膜を形成し、硬化被膜を形成
している。
しかしながら、このような方法は、薄膜形成の際、系内
を真空にするなどの手間がかかる上に、装置も比較的高
価で大型のものを使用しなければならないなど様々な問
題がある。
また、薄膜形成後、活性エネルギー線の照射や加熱を行
うことによって、硬化被膜の形成が行われている1例え
ば、アクリル系のコーティング基 。
材の場合には、必要に応じて基材にプライマー処理を行
って、基材に対する被膜の接着性を高めることが必要で
あり、またシリコーン系のコーティング基材の場合には
、熱による硬化処理が必要であるため、熱に弱い基材に
は適用できないなど多くの問題がある。
そこで、本発明者は、上記従来技術の問題を解消し、簡
単な操作ならびに安価の装置にて高硬度の透明性樹脂を
製造することのできる方法を開発すべく鋭意研究を重ね
た。
〔課題を解決するための手段〕
その研究過程において、硬化性のホスファゼン化合物に
光や熱等のエネルギーを加えて硬化させたものが、透明
性にすぐれしかも硬度が比較的大きいものになることが
判明した。本発明者は、このような事実に基いてさらに
研究を続けたところ、硬化性ホスファゼン化合物に紫外
線等の活性エネルギー線を照射するとともに、光重合開
始剤としてモルフォリン系化合物を用いることによって
、−層硬度の大きい透明性樹脂が得られることを見出し
た。
本発明はかかる知見に基いて完成したものである。すな
わち本発明は、硬化性ホスファゼン化合物に、モルフォ
リン系化合物からなる光重合開始剤の存在下で活性エネ
ルギー線を照射することを特徴とする高硬度樹脂の製造
方法を提供するものである。
本発明の方法に用いる硬化性ホスファゼン化合物は各種
のものがあるが、通常は一般式%式%() 〔式中、a、bはa>0.b≧0であり、かつa+b=
2を満たす実数を示し、Aは重合硬化性基を示し、Bは
非重合硬化性基を示す。]で表わされる繰返し単位を有
し、重合度が3以上のものが好適に使用される。この硬
化性ホスファゼン化合物の有する繰返し単位を表示する
一般式(1)は、単一の化合物を表示するものではなく
、数種の化合物の混合物の平均値としての表示である。
したがって、各基の数を示すaおよびbは必ずしも整数
に限定されず、小数をも含む実数である。また、重合度
についても同様に3以上の範囲の整数のみならず、小数
をも含む実数である。
上記一般式CI)の繰返し単位をもつホスファゼン化合
物は、各置換基の種類により様々なものがある。
式中、Aは重合硬化性基を示すが、この重合硬化性基と
は、紫外線、可視光線、電子線、X線等の活性エネルギ
ー線の照射により反応して硬化する官能基を意味し、通
常は反応性二重結合を有する基である。この反応性二重
結合を有する基としては、各種のものがあるが、例えば
アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基あるいは
アリル基を含む官能基があげられる。
上記アクリロイル基を含む官能基あるいはメタクリロイ
ル基を含む官能基は、アクリ口イルオキシ基やメタクリ
ロイルオキシ基、さらには一般式〔式中、R4は水素原
子またはメチル基を示し、Rsは炭素数1〜12(好ま
しくは1〜5)のアルキレン基(分岐アルキレン基を含
む)を示す。〕 で表わされるものである。
また、このアクリロイル基やメタクリロイル基を含む官
能基は、上述の一般式(U)のもののほかに、 一般式 〔式中、R4及びRSは前記と同じである。〕で表わさ
れる官能基、すなわちヒドロキシアルキル置換(メタ)
アクリルアミドの水酸基から水素原子を除いた残基、さ
らに一般式 〔式中、R4は前記と同じである。〕 で表わされる官能基、即ちアクリルアミドやメタクリル
アミドのアミノ基から水素原子を一個除いた残基をあげ
ることができる。
また、アリル基を含む官能基としては、アリル基そのも
ののほか、例えばアリルオキシ基(CH!=CH−CH
,O−”)があるが、このアリルオキシ基に限らず、広
く、 一般式 〔式中、R4−R6は前記と同じである。〕で表わされ
る官能基、即ち水酸基を一個有するアリル化合物の水酸
基から水素原子を除いた残基をあげることができる。
一方、−i式(1)中のBは、非重合硬化性基であり、
例えば一般式 %式%() あるいは一般式 で表わされる基を示す。ここで、式(■)中Mは酸素原
子、硫黄原子又はイミノ基を示し、R7は炭素数1〜1
8のアルキル基あるいは炭素数1〜1Bのハロゲン化ア
ルキル基を示す。また、式(IX)中Mは前記と同じで
あり、R@〜RI!はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲ
ン原子、炭素数1〜4のアルキル基又は炭素数1〜4の
ハロゲン化アルキル基を示す。さらに、前述の一般式(
1)%式% であり、かつa+bw2を満たす実数であればよいが、
好ましくは0.6≦a≦2.O≦b≦1.4である。
なお置換基Aは、一般式(I)のホスファゼン化合物に
活性エネルギー線を照射した際に、該ホスファゼン化合
物を重合硬化させる作用を示す基であり、また置換基B
は、得られる硬化樹脂の物性を調節するとともに、重合
性能を調節する作用を示す基である。したがって、a、
bを適宜選定することにより、このホスファゼン化合物
の硬化体からなる樹脂の諸物性が規定されることとなる
但し、a=Oのものは硬化性を有しないので、このよう
なホスファゼン化合物は、本発明の硬化性ホスファゼン
化合物からは除外される。しかし、a=2.b=oのも
の、即ち、 一般式  +NP(A)r)−・・・ (I゛)で表わ
される繰返し単位を有するホスファゼン化金物は、本発
明の硬化性ホスファゼン化合物として利用できる。
本発明における硬化性ホスファゼン化合物は、上述の一
般式(1)の繰返し単位を有するものであるが、その重
合度は3以上、好ましくは3〜10000の範囲、さら
に好ましくは3〜18の範囲であり、とりわけ3あるい
は4もしくはそれらの混合物が最適である。また、一般
式(1)の繰返し単位が鎖状に結合(重合)したものも
あるが、好ましくは環状に結合(重合)したものである
本発明の方法では、上記の如き硬化性ホスファゼン化合
物が用いられるが、さらに必要に応じて、これらのホス
ファゼン化合物に無機微粒子、例えばTi0g、ZnO
,S iNa、Aj!zoz、SnO+、Y2O3゜Z
rO,、Nb0zなどの粒径200mμ以下、好ましく
は20mμ以下の無機酸化物微粒子を適量配合してもよ
い。その配合量は、特に制限はないが、通常は硬化性ホ
スファゼン化合物100重量部に対して5〜150重量
部、好ましくは10〜100重量部の範囲で選定する。
本発明の方法では、上記の硬化性ホスファゼン化合物あ
るいはこれに無機微粒子を配合したものに、活性エネル
ギー線、例えば紫外線、電子線。
X線、T線あるいは可視光線等、特に好ましくは紫外線
を照射するが、この際にモルフォリン系化合物からなる
光重合開始剤を存在させることが必要である。このモル
フォリン系化合物は様々なものが使用可能であるが、例
えば 一般式で表わされるものを好適なものとしてあげ
ることができる。この一般式(X)において、Rt、 
RzおよびR3はそれぞれ水素、炭素数1〜8のアルキ
ル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、オクチル基など)、炭素数6〜10のアリール基
(フェニル基、p−)リル基など)。
アリル基、炭素数2〜8のアルケニル基、炭素数1〜8
のヒドロキシアルキル基あるいは炭素数1〜8のメルカ
プトアルコキシアルキル基などを示す、この一般式(X
)のモルフォリン系化合物の具体例を示せば、 で表わされる2−メチル〔トリルチオメチルチオ)フェ
ニル〕−2−モルフォリノ−1−プロパノン。
で表わされる2−メチル〔トリルチオメルカプト)フェ
ニル〕−2−モルフォリノ−1−プロパノン。
で表わされる2−メチル〔トリルチオメチルチオ)フェ
ニル〕−2−モルフォリノ−1−ブタノン。
で表わされる2−メチル〔トリルチオアリルチオ)フェ
ニル〕−2−モルフォリノ−1−ペンタノン。
で表わされる2−メチル(トリルチオ)リルチオ)フェ
ニル〕−2−モルフォリノ−1−プロパノンをあげるこ
とができる。
また、本発明の方法で使用可能なモルフォリン系化合物
としては、上記−喰式(X)で表わされるもの以外に、
さらに で表わされる1−フェニル−2−メチル−2−モルフォ
リノ−1−プロパノン。
で表わされる2−メチル(トリルチオクロロ)フエニル
〕−2−モルフォリノー1−プロパノン。
で表わされる2−メチル〔トリルチオブロモ)フェニル
ツー2−モルフォリノ−1−プロパノン。
で表わされる2−メチル〔トリルチオベンジル)フェニ
ルツー2−モルフォリノ−1−プロパノンなどをあげる
ことができる。
本発明の方法では、光重合開始剤として上述した如きモ
ルフォリン系化合物の一種類あるいは二種類以上を混合
して使用することが必要であり、他の光重合開始剤では
、得られる硬化樹脂の硬度が充分高くならず、また硬化
に要する時間が長くなるなどの不都合が生ずる。また、
このモルフォリン系化合物の使用量は、活性エネルギー
線を前記の硬化性ホスファゼン化合物に照射したときに
、光重合が速やかに開始するに充分な量とすればよい、
具体的には、硬化性ホスファゼン化合物100重量部に
対して0.01〜10重量部の範囲で選定すればよい。
上記硬化性ホスファゼン化合物に照射すべき活性エネル
ギー線の照射量は、光重合の対象である硬化性ホスファ
ゼン化合物の形状等により異なるが、通常は100mJ
/cd 〜5X10’mJ/c+i。
好ましくは500mJ/c艷〜10100O/cdの範
囲で適宜定めればよい。
本発明の方法を行うにあたっては、ベンゼン。
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、メタノ
ール、エタノール、プロパツール等のアルコール類、シ
クロヘキサン等の脂環族炭化水素などの希釈剤、あるい
はスチレン、ヒドロキシエチルアクリレート ジビニル
ベンゼン、トリメチルエタントリメタクリレート等の反
応型希釈剤、n−ブチルアミン、尿素、ナトリウムジエ
チルジホスフェート、四塩化炭素などの増悪剤等を適宜
加え、また、さらに重合禁止剤、紫外線吸収剤、顔料、
各種充填剤を添加することも有効である。
〔実施例〕
次に、本発明を実施例および比較例によりさらに詳しく
説明する。
製造例 21のフラスコ内でヘキサクロロシクロトリホスファゼ
ン86.8gを脱水したベンゼン338gに溶解した。
このベンゼン溶液に、155gのピリジンおよび0.2
3gのヒドロキノンを加え窒素気流中で撹拌した。
別に2−ヒドロキシエチルメタクリレート200dを2
37111のベンゼンに溶解し、この溶液を上記のフラ
スコ中に滴下し、50°Cで20時間かけて反応させた
反応終了後、濾過をして、ピリジンの塩酸塩を除去した
濾液を水洗し次いで芒硝を用いて乾燥させ、減圧蒸溜に
より溶剤を除去して、無色透明で粘稠性の1. 1.3
.3.5.5−へキサ(メタクリロイルエチレンジオキ
シ)シクロトリホスファゼン200gを得た。
実施例1 上記製造例で得られた無色透明粘稠液体30gに、2−
メチル〔トリルチオメチルチオ)フェニルツー2−モル
フォリノ−1−プロパノン(商品名:Irgacure
 907 、チバガイギー製)を0.9g添加し、撹拌
溶解した。これを硬化性モノマーAとする。
次に、ガラス製型に上記硬化性モノマーAを流し込み、
真空下で20分脱気処理を施した後、紫外線照射装置を
用い、出力80W/Calで30秒間紫外線を照射して
、硬化樹脂(寸法15X15X3m)を得た。これを硬
化物Aとする。
又、内径5aaのガラス管(肉厚1■)に硬化性モノマ
ーAを流し込み、硬化物Aと同様の条件で紫外線を照射
し、硬化樹脂(寸法:直径5mX長さ10++++n)
を得た。これを硬化物Bとする。
比較例1 市販のアクリル系紫外線硬化樹脂(光重合開始剤無添加
品)30gに、2−メチル〔トリルチオメチルチオ)フ
ェニルシー2−モルフォリノ−1−プロパノンを0.9
g添加し、撹拌溶解した。
これを硬化性モノマーBとする。
次に実施例1と同様の操作により硬化物E(寸法: 1
5nmX 15mmX3m+a)および硬化物F(寸法
:直径5ma+X長さ10aua)をそれぞれ得た。
比較例2 市販のメタクリル樹脂を射出成型により成型し、成型物
A(寸法=15閤X15mn+X3鴫)および成型物B
(寸法:直径5即×長さ10+nm)をそれぞれ得た。
比較例3 市販のポリカーボネート樹脂を射出成型により成型し、
成型物C(寸法: 15mn+X 15mmX3mm)
および成型物D(寸法:直径5扁×長さ10mm)をそ
れぞれ得た。
比較例4 比較例3で得られた成型物Cの片面(寸法:15m++
+X 15a*)に、比較例1で用いた市販のアクリル
系コーテイング材(アクリル系紫外線硬化樹脂)をメチ
ルイソブチルケトンで希釈し、スプレー法によりコーチ
イブした。
メチルイソブチルケトンを乾燥により除いた後、紫外線
照射装置を用い、出力80W/cmで10秒間紫外線を
照射し、硬化塗膜を形成した。
これをコーテイング品A(寸法:15aamX15■×
3IIIIl)とする。
なお、照射時間を10秒以上にしても、硬化塗膜の物性
値に変化は認められなかった。
それぞれのサンプルの物性評価の結果を第1表に示す。
(以下余白) 〔発明の効果〕 以上の如く、本発明の方法によれば、透明性にすぐれる
とともに、硬度の極めて高い硬化樹脂を簡単な操作で効
率よく製造することができる。
また、本発明の方法によって製造される硬化樹脂は、薄
膜状のものから塊状のものまで様々な形状のものであり
、これらは光学レンズをはじめ光フアイバー被覆材等の
光学分野、さらにはガラス代替品としての硬質プラスチ
ックス等に幅広く、かつ有効に利用される。
手続補正書(自発) 昭和63年7月29日

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)硬化性ホスファゼン化合物に、モルフォリン系化
    合物からなる光重合開始剤の存在下で活性エネルギー線
    を照射することを特徴とする高硬度樹脂の製造方法。
  2. (2)モルフォリン系化合物が、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1、R^2およびR^3はそれぞれ水素、
    炭素数1〜8のアルキル基、炭素数6〜10のアリール
    基、アリル基、炭素数2〜8のアルケニル基、炭素数1
    〜8のヒドロキシアルキル基あるいは炭素数1〜8のメ
    ルカプトアルコキシアルキル基を示す。〕で表わされる
    ものである請求項1記載の製造方法。
  3. (3)モルフォリン系化合物が、2−メチル〔4−(メ
    チルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノ−1−プロパ
    ノン、2−メチル〔4−(メルカプト)フェニル〕−2
    −モルフォリノ−1−プロパノン、2−メチル〔4−(
    メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノ−1−ブタ
    ノン、2−メチル〔4−(アリルチオ)フェニル〕−2
    −モルフォリノ−1−ペンタノン、2−メチル〔4−(
    トリルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノ−1−プロ
    パノン、1−フェニル−2−メチル−2−モルフォリノ
    −1−プロパノン、2−メチル〔4−(クロロ)フェニ
    ル〕−2−モルフォリノ−1−プロパノン、2−メチル
    〔4−(ブロモ)フェニル〕−2−モルフォリノ−1−
    プロパノンあるいは2−メチル〔4−(ベンジル)フェ
    ニル〕−2−モルフォリノ−1−プロパノンである請求
    項1記載の製造方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1388538A1 (en) 2002-07-09 2004-02-11 MERCK PATENT GmbH Polymerisation Initiator
JP2014009173A (ja) * 2012-06-28 2014-01-20 Toray Fine Chemicals Co Ltd スルフィド化合物およびその製造方法
CN103676479A (zh) * 2012-08-30 2014-03-26 Jsr株式会社 感射线性组合物、显示元件用固化膜的形成方法、显示元件用固化膜以及显示元件

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