JPH01313564A - 潜錫触媒を含有し薄層として架橋され得るポリオルガノシロキサン組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の分野 本発明は、潅腸触媒を含有しそして薄層として架橋され
得るオルガノポリシロキサン組成物に関する。

発明の背景 この種の組成物は、周知であり、そしてシラノール末端
基を有するポリオルガノシロキサン（Ａ）と分子当り少
なくとも３個のＳｉＨ（水素化けい素）基を含有するポ
リジオルガノシロキサン（Ｂ）との間の重縮合反応によ
って錫又は白金触媒（Ｃ）の存在下に架橋する。

これらの組成物（一般には無機充填剤を含まない）は、
シリコーン被覆（薄層）（この厚さは約１μ度〜数ａｍ
の間を変動してよい）を付着させる目的で種々の基体（
担体）上に特に紙やポリオレフィン、ポリエステル、再
生セルロースの如きプラスチック物質又は金属等から作
ったフィルム上に非付着性及び（又は）撥水性エラスト
マー被覆を形成するのに使用することができる。

公知の工業用組成物は、３つの大きな群に分けることが
できる。

第一の群は、重合体（Ａ）及び（Ｂ）を塊状で用いて即
ち実質上有機溶剤を用いないで作られる溶剤不含組成物
である。この種の組成物は特に英国特許第１．３７４．
７９２号及び同第１．５０４．７１６号に記載されてお
り、これらの特許では触媒（Ｃ）は白金化合物である。

この場合に、重合体（Ａ）及び（Ｂ）の混合物は２５°
Ｃにおいて約５．０００ｍＰａｓの粘度を示さなければ
ならない。

第二の群は、有機溶剤中に溶解させた溶液状態にある組
成物である。この場合に、重合体（’Ａ）及び（Ｂ）は
、極めて高い粘度を示してよい（これは、被覆の品質を
向上させることができる）。溶剤は、架橋間に加熱する
ことによって除去される。錫触媒（Ｃ）を含有するかか
る組成物は、例えば米国特許第３．０６１．５６７号及
び英国特許第１．５０４．７１６号に記載されている。

第三の群は、３つの成分（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）の他
に水及び乳化剤を含有する水性エマルジョン組成物であ
る。水は、架橋間に加熱することによって除去される。

この種の組成物は、例えば米国特許第４．１２７．４６
０号、同第４．２８８．３５６号、及び同第４、６２４
．９００号に記載されている。

上記種類の公知組成物はすべて、長期間の貯蔵において
十分なだけ安定でないという特性を示す。

この理由で、商業的な形態ではそれらはすべて少なくと
も２つの成分（又は２つのパック）として存在し、そし
てユーザーは必要時にそれらを混合しなければならない
。混合後には、この組成物は、一般には４８時間よりも
長くない可使寿命を有する。

この少なくとも２つのバック状態にある包装は、製造業
者とりわけ組成物のユーザーに対して制限を課すことが
当業者には明らかである。

実際に混合を行なうに当って、特にユーザーは、量って
分配する際に間違いをしたりそして（又は）実際の必要
量よりも多過ぎる量の混合物を調製する場合がある。こ
のことは、製品の損失をもたらし、ゲル化を招き、それ
故に一旦可使寿命の期間が切れると不安定になる。

発明の概要 本発明の主な目的は、周囲温度において不活性であり且
つ温度を上げたときに活性になる潅腸触媒を含む上記種
類の組成物を提供することである。

本発明の他の目的は、改善された期間好ましくは４８時
間よりも長い可使寿命を有する上記種類の組成物を提供
することである。

本発明の他の目的は、その最もよい具体例では、単一包
装において６ケ月以上の貯蔵安定性を与えることができ
る上記種類の組成物を提供することである。

本発明の更に他の目的は、５０〜２００　”Ｃ好ましく
は６０〜１８０℃の温度で架橋して所望の非粘着性及び
（又は）撥水性を示すエラストマー被覆になる上記種類
の組成物を提供することである。

これらの目的及び他の目的は、本発明に従ったポリオル
ガノシロキサン組成物に関する本発明によって達成され
るが、このポリオルガノシロキサン組成物は、 Ａ、シラノール末端基を有する１００重量部のポリジオ
ルガノシロキサン、 Ｂ　分子当り少なくとも３個のＳ　ｉ　ＩＩ基を有する
０、１〜２５重量部のポリオルガノヒドロシロキサン、
及び Ｃ１式（１） ［式中、 Ｒは、同種又は異種であって、線状又は分枝状Ｃ１〜Ｃ
２゜アルキル基、及び単核アリール、アリールアルキル
及びアルキルアリール基（ここで、アルキル部分はＣ，
−Ｃ，である）から選択され、Ｒ，及びＲ２基は、同種
又は異種であって、水素原子、シアノ基、Ｃ１〜Ｃｓア
ルキル基及びアルフキジカルボニル基（ここで、アルキ
ル部分はＣＩ〜Ｃ６である）から選択され、更にＲ，及
びＲ２は互いに結合して５〜８個の炭素原子を有する飽
和炭化水素環を形成することもでき、 Ｒ３基は、水素原子、及び線状又は分枝状ＣＩ〜Ｃ７゜
アルキル基から選択される］を有する触媒的有効量の潅
腸触媒、 を含むことを特徴とするものである。

発明の詳細な記述 本発明の範囲内で好ましいＲ，Ｒ，、Ｒ，、及びＲ３基
は、 Ｒニブチル、オクチル及びフェニル、 Ｒ、：　Ｈｌ Ｒ，：　Ｈ，メチル及びシアン、 Ｒ，：１４、メチル、ウンデカノイル、２−エチルペン
チル及びノニル、 である。

式（１）に従った好ましい化合物は、 式（１）においてＲ＝ニブチルＲ，＝Ｒ，＝Ｈ。

Ｒ，＝メチルのビス（２−アセトキシエチル）ジブチル
錫、 式（１）においてＲ−オクチル、Ｒ＋　＝Ｒｔ　＝　Ｈ
。

Ｒ，＝メチルのビス（２−アセトキシエチル）ジオクチ
ル錫、 式（１）においてＲ＝ニブチルＲＩ＝　Ｒｔ　＝　Ｈ。

Ｒ３＝ウンデカメイルのビス（２−ラウロイルオキシエ
チル）ジブチル錫、 式（１）においてＲ−オクチル、ＲＩ＝Ｒｔ　＝Ｈ。

Ｒ１＝ウンデカ／イルのビス（２−ラウロイルオキシエ
チル）ジオクチル錫、 式（１）においてＲ＝ニブチルＲ、＝　Ｒ、＝　Ｈ１Ｒ
１＝２−エチルペンチルのビス［２−（２−エチルヘキ
サノイルオキシ）エチルペンチル錫、式（１）において
Ｒ−オクチル、Ｒ，＝Ｒ，＝Ｈ。

Ｒ３＝２−エチルペンチルのビス［２−（２−エチルヘ
キサノイルオキシ）エチル］ジオクチル錫、式（１）に
おいてＲ＝ニブチルＲ，＝Ｒ，＝Ｈ１Ｒｓ　”ノニル（
ｌ−位置に第四炭素を有する）のビス（２−デカノイル
オキシエチル）ジブチル錫、式（１）においてＲ＝ニブ
チルＲ，＝ＨＳＲ，＝Ｒ，＝メチルのビス（２−アセト
キシ−２−メチルエチル）ジブチル錫、 式（１）においてＲ＝ニブチルＲ、＝　Ｈ、Ｒ、＝ＣＮ
。

Ｒ，＝メチルのビス（２−アセトキシ−２−シアノエチ
ル）ジブチル錫、 式（ｒ）においてＲ＝ニブチルＲ，＝Ｒ，＝Ｒ，＝Ｈの
ビス（２−ホルミルオキシエチル）ジブチル錫、 式（１）においてＲ＝ニブチルＲ，＝Ｒ，＝Ｈ。

Ｒ，＝エトキシのビス（２−エトキシカルボニルオキシ
エチル）ジブチル錫、 式（１）においてＲ＝フェニル、Ｒ，＝Ｒ，＝Ｈ。

Ｒ，＝メチルのビス（２−アセトキシエチル）ジフェニ
ル錫、 式（１）においてＲ＝フェニル、Ｒ，＝Ｒ，＝Ｈ。

Ｒ３＝ウンデカノイルのビス（２−ラウロイルオキシエ
チル）ジフェニル錫、 である。

式（１）の化合物は、式（ＩＩ） （Ｒ）ｚｓ　ｎＨｔ　　　　　　（ＩＩ　）Ｃ式中、Ｒ
は、同種又は異種であってよく、そして上記式（１）に
おけると同じ意味を有する］のジオルガノ錫シバライド
と、式（ＩＩＩ）Ｃ式中、Ｒ１、Ｒ１及びＲ３基並びに
ａは上記式（１）におけると同じ意味を有する］のエノ
ールカルボキシレートとの間の付加反応によって製造す
ることができる。

式（ＩＩ）のシバイドライドの多くは、文献において知
られ且つ記載されている。これらが新規化合物であると
きには、これらは、対応するジオルガノ錫ジクロリドを
水素化リチウムアルミニウムと反応させることによって
得ることができる。

他の方法は、対応するジオルガノ錫オキシドをＳｉＨ官
能基を持つポリオルガノシロ牛サン例えば各末端にトリ
メチルシリル基を持つポリ水素化メチルシロキサンで還
元することよりなる。

式（ＩＩ［）のカルボキシレートの大部分は、文献にお
いて知られ且つ記載されている。

かくして、式 ）１１Ｃ＝Ｃ）１０−Ｃ−Ｒ，（式（ＩＩＩ）でＲ，＝
Ｒ１−）１）のビニルカルボキシレートは、酸媒体中に
おける酢酸ビニルと酸Ｒ３Ｃ０ＯＨとのエステル交換に
よって得られる。

式 のエノールカルボキシレートは、酸媒体中におけるケト
ン１ＬｃｃＯＲ２と酢酸インプロペニルとの反応によっ
て得られる。

式（ＩＩ）の化合物と式（ＩＩＩ）の化合物との間のヒ
ドロスタンネーション反応（ｈｙｄｒｏｓｔａｎｎａｔ
ｉｏｎ　ｒｅａｃ−ｔ　１ｏｎ）は、好ましくは、シク
ロヘキサンの如き有機炭化水素溶剤中において１モルの
式（Ｉ［）の化合物を２モルの式（ＩＩＩ）の化合物と
周囲温度において反応させることによって実施される。

反応混合物は、ＵＶ照射（３６０ｎ１１）を施こされる
。

また、ヒドロスタンネーション反応は、遊離基発生剤の
存在下に例えばＡＩＢＮ　（アゾビスイソブチロニトリ
ル）の存在下に７０〜８０℃の温度で溶剤を用いずに実
施することもできる。

式（１）の錫化合物（これは、一般には、周囲温度にお
いて液状である）は、ＩＲ（赤外）スペクトル及びＮＭ
Ｒ（核磁気共鳴１１６３．１０Ｃ及びＩＨ）の分析技術
によって並びにＭＯＳ５ＢＡＵＥＲ効果の質量スペクト
ル分析及び測定によって同定することができる。。

しかしながら、現状の分析技術の知識では、特にＡＣＡ
ＤＥＭＩＣＰＲＥＳＳのＡＮＮＵＡＬ　ＲＥＰＯＲＴＳ
　ＯＮ　ＮＭＲ５ＰＥ−ＣＴＲＯＣＳＯＰＹ（Ｖｏｌ、
　８．１９７８）に発表されたピータ−・ジェイ・スミ
ス氏の報文“ＣＨＥＭＩＣＡＬ　ＳＨＩＦＴＳ　ＯＦ”
＠Ｓｎ　ＮＵＣＬＥＩ　　ＩＮ　０ＲＧＡＮＯＴＩＮ　
ＣＯＭＰＯＵＮＤＳ”に記載される如きＮ　Ｍ　Ｒ”　
”　Ｓ　ｎ分析法は、混合物特に反応混合物中に存在す
る各種錫化合物を特徴づけ、且つこれらの化合物の大部
分の化学式を定めることができるのに十分なだけ正確な
方法であると思われる。

Ｎ　Ｍ　Ｒ”　’　Ｓ　ｎによって評価される基本パラ
メーターは、基準物質（一般にはテトラメチル錫）と比
較した化学置換値（ｐｐｍ単位で表わされる）である。

化学置換値δは、錫原子が担持する基の電気陰性度及び
錫原子の配位数の変動に特に敏感である。

Ｎ　Ｍ　Ｒ日”　Ｓ　ｎを基にした有機錫誘導体の特性
決定に関する特定の研究については、特にアール・ジー
・デービス及びピー・ジェイ・スミス両氏がＣｏｍｐｒ
ｅｈｅｎｓｉｖｅ　Ｏｒｇａｎｏ　Ｍｅｔａｌｌｉｃ　
Ｃｈｅ＋＋１ｓｔｒｙ　１１Ｔｉｎ”の第５２３〜５２
９頁に、またジエイ・ジエイ・オテラ氏が“Ｏｒｇａｎ
ｏｍｅＬ、　Ｃｈｅｗ、　２２１”の第５７〜６１頁（
１９８１）にそれぞれ記載している。

式（１）の化合物は、周囲温度において安定であり且つ
オルガノポリシロキサン組成物硬化用触媒として不活性
である。

他方、式（１）の化合物は、高められた温度を施こされ
ると、下記の式に従って熱分解を受けて周知の化合物即
ち対応する錫ジオルガノジカルボキシレート又は錫ジオ
ルガノジアルコラートになり同時に対応する不飽和アル
ケン化合物を離脱する。

式（１）の化合物の熱分解は、各化合物に対して特定の
温度で行われる。この温度は、一般には、５０〜２５０
℃である。

離脱されたジオルガノ錫ジカルボキシレートは、オルガ
ノポリシロキサン組成物の硬化のための活性触媒になる
。

それ故に、式（１）の潜触媒の利益は、いかなる触媒反
応も及ぼさずに出発化合物に潜触媒を混合しそしてその
混合物を潜触媒の分解温度に加熱することによって反応
の触媒作用を開始させることができることである。

それ故に、本発明は、重合体（Ａ）及び（Ｂ）並びに触
媒として有効量の式（Ｉ）の潜触媒（Ｃ）を周囲温度で
混合しそしてその混合物を潜触媒の熱分解温度以上の温
度に加熱し、場合によっては混合物中に存在する溶剤又
は水を蒸発させることからなるポリオルガノシロキサン
組成物の架橋法をも目的とする。

触媒の分解温度は、一般には、６０〜２００℃である。

これは、用いる潜触媒の種類及びポリオルガノシロキサ
ン組成物の形態に左右される。

この分解温度は、例えば、水、第二有機アミン、有機ア
ルコール、シラノール官能基を持つ有機けい素化合物及
びメルカプト官能基（ＳＨ）を持つ有機化合物の中から
選択される有効量の求核性薬剤の添加によって下げるこ
とができる。求核性薬剤の有効量とは、式（１）の錫化
合物１モル当り求核性薬剤０．００１〜１０モル又はそ
れ以上を意味する。

かくして、溶剤を含まないポリオルガノシロキサン組成
物及び有機溶剤中に溶解させた溶液状態のものの場合に
は、この分解温度は、潜触媒に特定的な固有の分解温度
に近い。これらの２つの種類の組成物の場合には、６ケ
月を越えることができる貯蔵安定期間を有する単一パッ
クの形態でかかる組成物を包装することが時には可能で
ある。

他方、水性エマルジョン組成物の場合には、この分解温
度はある場合には周囲温度に下げることができる。エマ
ルジョンは少なくとも２つのバックで包装するのが一般
には望ましく、この場合には組成物の可使寿命期間は公
知の錫触媒（特にジアルキル錫ジカルボキシレート）を
含有する組成物と比較して著しく改善される。

本発明に従えば、潜触媒の有効量とは、重合体（Ａ）及
び（Ｂ）の総固形分１００重量部当り式（１）の潜触媒
一般には０．００１〜６部好ましくは０．０１〜３部（
錫金属の重量として計算して）の含量を意味する。

本発明に従った被覆組成物は、一般には、無機充填剤を
全く含有しない。しかしながら、シリコーンエラストマ
ー組成物中に一般に用いられる充填剤好ましくはけい酸
質充填剤（沈降シリカ、熱分解法シリカ、けいそう土、
粉砕石英等）の存在は、重合体（Ａ）１００部当り充填
剤１〜５０部の割合では問題にされない。

重合体（Ａ）及び（Ｂ）は、長ら（知られており、そし
て特に上記の特許文献に記載されている。

重合体（Ａ）は、２５℃において少なくとも１０ｍＰａ
ｓの粘度を有する末端ヒドロキシル基（シラノール末端
基）含有ポリジメチルシロキサンから選択することがで
きる。これらの重合体（Ａ）は、例えばｌ　Ｑ　ａ＋Ｐ
ａｓ〜５．０００ｍＰａｓの範囲内の比較的非粘性の油
、５．　ＯＯＯ〜Ｉ　Ｑ　＠ｍＰａｓの粘性油及びＩＱ
”ｒ＠Ｐａｓよりも上の粘度の樹脂を包含する。

重合体（Ｂ）は、線状、環状又は分枝状であってよい。

実質上線状又は分枝状の重合体（Ｂ）は、次の平均一般
式単位 Ｒ１４Ｓ　１ｏ（４，、）／２　　　　　　　　　（Ｉ
Ｖ）ｙ １式中、Ｒ基は、同種又は異種でありそして上記の意味
を有するが、但し、ある種のＲ基はビニル基を示す場合
があることを除外しないものとする１を含有する。好ま
しくは、Ｒ基の少な（とも８０％はメチル基である。

記号Ｘは１−１．９９の範囲内の任意数を示し、記号ｙ
は１．１〜０．７の範囲内の任意数を示し、そしてＸと
ｙとの合計は１．７〜２．６である。メチルヒドロポリ
シロキサンをオルガノヒドロポリシロキサン（Ｂ）とし
て使用するのが好ましい。

分枝鎖重合体（Ｂ）に関して言えば、これらの各各は、
式Ｒａ５ｉＯｏ、ｓ、ＲｔＳｉＯ１Ｒ８ｉＯ＋、ｓ、Ｓ
　ｒ　Ｏｔ％ＩＩＲｔｓｉ０．、、．１ＩＲ３ｉＯ及び
ＨＳｉＯ＋、ｓのものから選択される単位の組み合わせ
よりなる。重合体を規定する各組み合わせは、式Ｒ３１
Ｏ＋、ｓ、Ｓ　ｒ　Ｏを及びｌｌ５ｉＯ８゜のものから
選択される少な（とも１個の単位を含む。しかしながら
、これらの単位、は、１個のけい素の状態にされた各重
合体の平均式が上記の平均一般式内に含まれるような態
様で分布される。

これらの重合体の粘度は、２５℃における２ａＰａｓか
ら２５℃における１０．０００口Ｐａｓに及ぶ範囲内で
ある。

溶剤を含めずに組成物を用いる場合には、重合体（Ａ）
及び（Ｂ）の粘度は、混合物即ち組成物の粘度が２５℃
において４０〜５．０００ｍＰａｓ好ましくは１００〜
３．０００ｍＰａｓになるように選択される。

本発明に従った組成物は、水中に乳化、分散若しくは希
釈することができ、又は組成物と相容性でそして例えば
アルカン、パラフィン系化合物を含有する石油留分、ト
ルエン、ヘプタン、キシレン、イソプロパツール、メチ
ルイソブチルケトン、テトラヒドロフラン、クロルベン
ゼン、クロロホルム、ｌ、ｌ、ｌ−トリクロルエタン、
モノエチレングリフール及びメチレングリコール誘導体
から選択される揮発性有機溶剤中に溶解させることがで
きる。

水又は溶剤は、使用時に分散液又は溶液の５０〜９９重
■％を構成するのが好ましい。

水又は溶剤の蒸発を伴なう架橋処理間に組成物は硬化し
、それ故にそれは、金属、紙、プラスチック、ボール紙
等より作った可撓性支持体用の被覆組成物として使用す
ることができる。

本発明に従った組成物は、金属、ガラス、プラスチック
又は紙のシートの如き材料をそれらが通常付着するよう
な他の物質に対して非付着性にするための組成物として
用いるのが好ましい。

それ故に、本発明は、可撓性材料シートをそれらが通常
付着するような表面に対して非付着性にすることを可能
にする方法をも目的とするが、この方法は、本発明に従
った組成物を一般には０．１〜１０９／Ｉ”表面積の量
で塗布しそしてその組成物を上記の如くして加熱するこ
とによって架橋することよりなることを特徴とする。

周囲温度でのこれらの希釈組成物及び未希釈組酸物のゲ
ル化時間（可使寿命期間）は、数週間よりも長くそして
たいていの場合には数ケ月になる場合がある。

溶剤を含まない即ち未希釈の組成物は、少量の液体を均
一に付着することができる装置の助けを借りて塗布され
る。例えば、この目的に対して、特に２つの重ねたロー
ルからなる“ロールキスコーター（ｒｏｌｌ　ｋｉｓｓ
　ｃｏａｔｅｒ）”として知られる装置を使用すること
ができる。組成物が入れられた塗布トラフ中に浸漬され
る下方ｄ−ルの機能は、上方ロールに極めて薄い層を含
浸させることであり、これに対して後者ロールの機能は
、紙に所望量の組成物を付着させて含浸することである
。この種のロールでの計量は、反対方向に回転する２つ
のロールの相対速度を調節することによって得られる。

また、フランス特許第２．２９４．７６５号に記載され
る塗布機を用いることもできる。

希釈組成物即ち溶剤中に溶解させたもの又は水性エマル
ジョンは、“マルチドツト”グラビアロールの如き工業
用紙塗被機で用いられる装置及び“リバースロール”と
して知られる装置の助けを借りて塗布することができる
。基体に一旦付着されると、組成物はエネルギー人力に
よって硬化されるが、その少なくとも一部分は、ＵＶ線
下に通すことによる数秒間のＵｖ照射によってまた約６
０〜２００℃に加熱したトンネルオーブンで供給するこ
とができる。これらの炉における滞留時間は、一般には
２〜３０秒の間である。所定のオーブン長さについて言
えば、それは被覆基体が走行するときの速度（この速度
は２００ｍ／分を越えてよい）の函数である。

基体に付着される組成物の量は、変動してよ（、たいて
いの場合に処理表面１１当り０．１〜１０９の範囲内で
ある。これらの量は、基体の性状及び所要の非付着性に
左右される。たいていの場合に、これらは非孔質基体の
場合で０．５〜１．５９／ＩＩ”である。

全く明白であることであるが、（Ａ）及び（Ｃ）を含有
する部分（１）と（Ｂ）を含有する部分（ＩＩ）とに一
般に包装される水性エマルジョン組成物は、陰イオン性
、非イオン性又は陽イオン性であってよい通常の乳化剤
又は分散剤を含む。

ポリビニルアルコールの如き非イオン性重合体物質（ロ
ース・ブーラン社からの“Ｒｈｏｄｏｖｉｏｌ■２５／
１４０”又はデュポン社からの“ＥｌｖａｎｏｌＲ５０
−４２“）が部分（１）のために特に好適である。

更に、部分（Ｉｌ）のためには、ポリアルキレングリコ
ールアルキルエーテル及びアルキルフェニルエーテル（
例えば、ロース・ブーラン社からの“Ｃｅｍｕｌｓｏｌ
■Ｏ，Ｎ、　１０−２０”又はユニオン・カーバイド社
からのＴｅｒｇｉｔｏｌ■ＮＰ−４０″が特に好適であ
る。

明細書におけるすべての粘度は２５℃において測定され
、そして部数及び百分率は特に記していなければ重量比
である。

次の実施例は本発明を例示するものであるが、本発明の
範囲を限定するものではない。

例　　ｌ ビス（２−アセトキシエチル）ジブチル錫の製造及び分
解 （ａ）　　ジブチル錫シバイドライドの製造（Ｃ４Ｈ５
）ｔＳ　ｎＨｔ ３つの管を備えたＩＱの丸底フラスコに１０．３５９の
水素化リチウムアルミニウムを入れ、そして窒素下に磁
気撹拌機で撹拌しながら２５０　ＲＱの無水エーテルを
滴下（７た。次いで、１００１１２の無水エーテル中に
溶解した５２．１９のジブチル錫ジクロリドを滴下した
。反応は、発熱的であった。添加が完了したときに、反
応混合物を２時間３０分還流下に加熱した。

次いで、５００Ｒ９のヒドロキノン及び１００峠のペン
タンを連続的に加えた。次いで、混合物を０°Ｃに冷却
し、次いで徐々に加水分解した。

有機相を回収し、そして硫酸マグネシウムで脱水した。

周囲温度で２．７　　ｋＰａの真空下に溶剤を除去した
。

０．００１３　ｋＰａの真空下に３５℃のカラムヘッド
温度でジブチル錫シバイドライドを蒸留した。

この反応は、７０％の収率でジブチル錫シバイドライド
（Ｃ４１１ｓ）−Ｓｎｌ（ｚ（ｂ、　ｐ、　＝　０．０
０１３　ｋＰａ上に３５℃）をもたらした。

スペクトル特性： ＮＭＲ’Ｉ＋　（純）δ（ｐｐｍ）＝４．６　（２Ｈ，
ｎ＋）　：　１．６５−０．９（１８８，ｍ） ＮＭＲ’　”Ｓｎ　（ＣＪｓ＋　（ＣＨ３）ａＳｎ内部
）δ＝　−２０４，０ｐｐｍ；１　’Ｊ（ＳｎＨ）ｌ　
＝１６７６　Ｈｚ；　ｌ　”Ｊ（ＳｎＨ）ｌ　＝５６１
１ｚＩＲ（フィルム）　　：　ｖ（ＳｎＨ）＝１８４０
ｃｍ−’（Ｓ）（ｂ）ビス（２−アセトキシエチル）ジ
ブチル錫のサーモスタットを２５℃に設定したバイレッ
クス■製ボウルに、２．３４９９　（０，０１モル）の
ジブチル錫シバイドライド、１．７２２９　（０，０２
モル）の蒸留酢酸ビニル及び２９の無水シクロヘキサン
を入れた。

この溶液を紫外線照射に３時間さらした。次いで、周囲
温度において真空下にシクロヘキサンを除去した。目的
化合物が純形態において定量的収率で得られた。

この操作手順は、ジブチル錫ハイドライドを不飽和化合
物に加えた場合とすべてにおいて同じである。温度及び
露出時間だけは変動してよい。

得られた生成物は、次の式 ％式％） スペクトル特性： ＮＭＲ’１１　　（ＣＣ１，、ＴＭＳ内部）δ（ｐｐｍ
）＝４．７−３．７５（４Ｈ，ｓ）　　；　１．９５（
６８，ｓ）；１．７−０．９（２２Ｈ，ｍ）ＮＭＲ’　
”Ｓｎ　（Ｃ５Ｄｓ＋　（ＣＩ＋３）ａＳｎ内部）δ＝
　−１９，８ｐｐｍ；ＩＲ（フィルム）　　：　Ｖ（Ｃ
ｏ）＝１７４０ＣＩ−’（Ｓ）（Ｃ）ビス（２−アセト
キシエチル）ジブチル錫の外層 水ボウルと連結した試験管に１８４９のビス（２−アセ
ト牛ジエチル）ジブチル錫を入れた。この管を、サーモ
スタットが１１０℃に設定された油浴に入れた。２時間
３０分の終りに２００ｃｃのガスを回収し、そしてＩＲ
スペクトル分析によって同定した。このガスのスペクト
ルは、エチレンのものと同じであった（９５０ＣＪｌ−
’において特有の強い吸収バンド）。出発化合物（１，
５９９）の分解から得られた液体を０．０１３　　ｋＰ
ａの真空下に９０°Ｃのカラムヘッド温度で蒸留した。

得られた生成物は、式（Ｃ４Ｈ−）　ｔｓｎ（ＯＣＯＣ
ＩＩｓ）ｚ　（ｂ、　り、　＝　０．０１３　ｋＰａ下
に９０℃）のジブチル錫ジアセテートであった。

スペクトル特性： ＮＭＲ’Ｈ（ＣＣ１，、ＴＭＳ内部）δ（ｐｐｍ）＝　
２．０（６Ｈ，ｓ）　；１、６５−０．９（１８Ｈ，ｍ
） ＮＭ！１１　’　”Ｓｎ　（Ｃ，Ｄｓ＋　（ＣＨ３）４
Ｓｎ内部）δ＝　−１５６，３ｐｐａ＋；ＩＲ（フィル
ム）　　：　ｖ（Ｇｏ）＝１６０５；１５７０：１４２
５ｃｉ−’（Ｓ）例　　２ ビス（２−アセトキシエチル）ジオクチル錫の製造及び
分解 こめ製造例では、ジオクチル錫シバイドライド（ＣｓＨ
＋ｔ）＊５ＩＩＨｚを予め合成することが必要である。

（ａ）ジオクチル錫シバイドライドの製造実施した操作
手順は、ジブチル錫シバイドライドの合成について例１
で用いたのと同じであったが、但しそれはジオクチル錫
ジクロリドから出発した。

生成物は、２．１０−”　ｋＰａの真空下における９０
℃（炉温度）での球管蒸留後に純形態で得られた。

ＮＭＲ’１１　（純）δ（ｐｐｍ）　＝　４．６（２１
１，ｍ）　；　１．６５−０．９（３４１１，ｍ） （ｂ）ビス（２−アセトキシエチル）ジオクチル錫Ａ聚
Ａ この化合物は、そのジブチル系列同族体即ち例１のビス
（２−アセトキシエチル）ジブチル錫と同じ態様で得ら
れた。

生成物は、次の式 ％式％）］ スペクトル特性： 口Ｒ’Ｈ（ＣＣ１，、ＴＭＳ内部）δ（ｐｐｍ）　−４
，６５−３，７（４Ｈ。

ｍ）　：　１．９５（６Ｈ，ｓ）　：　１．６５　０．
９（３８Ｈ，ｆｆ１）口Ｒ’　”Ｓｎ　（ＣｏＤｓ、　
（ＣＨＪ＋Ｓｎ内部）δ＝−２０，４ｐｐｍ（Ｃ）ビス
（２−アセトキシエチル　ジオクチル錫の分解 純化合物の分解は、１１０℃において３時間後に完全で
あった。

得られた生成物は、式 ％式％） のジオクチル錫ジアセテートであった。

スペクトル特性： ＮＭＲ’ＩＩ　（ＣＣ１，、ＴＭＳ内部）δ（ｐＰＩｌ
ｌ）　＝　２．０−０．９（４０Ｈ，ｍ）； ＮＭＲ”Ｓｎ　（Ｃ，Ｄ、、　（ＣＨｓ）、Ｓｎ内部）
δ＝　−１５６，８ｐｐ＋ａ例　　３ ２つの管を備えた１　００１１Ｑの丸底フラスコに、５
１、５９の酢酸ビニル及び２０９（０，１モル）のラウ
リン酸を入れた。加熱によって酸を溶解させ、そして０
．４９の酢酸第二水銀を窒素流れ中に加えた。

かくして、混合物を周囲温度において窒素下に磁気撹拌
機で３０分間撹拌した。次いで、２滴の硫酸（９５％）
を加え、そして反応混合物を還流で３時間加熱した。次
いで、周囲温度に戻してから、０、２１９の酢酸ナトリ
ウムを加えた。

周囲圧での蒸留によって過剰の酢酸ビニルを回収した。

０．０１３　　ｋＰａの真空下に９４°Ｃのカラムへ・
ノド温度においてラウリン酸ビニルを蒸留した。

生成物は７０％収率で得られた。これは、次の式 ％式％） スペクトル特性： 口Ｒ’Ｈ（ＣＣ１，、ＴＭＳ内部）δ（ｐｐｍ）　＝　
７．２（１８，ｄｄ）　；４．７５（ＬＨ，ｄｄ）　；
　４．４５（ＩＨ，ｄｄ）　；　２．３（２Ｈ，ｔ）　
；　１．９−０．９（２１Ｈ，ｍ） （ｂ）ビス（２−ラウロイルオキシエチル）ジブチル錫
の製造 実施した操作手順は、例１におけると同じであった。酢
酸ビニルを４．５２６９　（０，０２モル）のラウリン
酸ビニルによって置きかえた。この溶液を紫外線照射に
４時間さらした。

生成物は、定量的に得られそして次の式％式％） 分解は、例１における如くして実施した。１４０℃にお
いて、それは２時間３０分後に完全であった。

分解生成物は、式 ％式％） のジブチル錫ジラウレートと同定された。

ん５ム上互上１： ＮＭＲ’Ｈ（ＣＣＩ、、　　ＴＭＳ内部）δ（ｐｐｍ、
）　＝　２．２（４Ｈ，ｔ）　；１、６−０．９（６０
ｔｌ、　ｍ） ＮＭＲ’　”Ｓｎ　（ＣＩＤｅｌ　（Ｃｌ’５）Ｊｎ内
部）δ＝　−１５２，５ｐｐｍ；既−１ （ａ）ビス（２−ラウロイルオキシエチル）ジオクチル
錫の製造 この化合物をラウリン酸ビニルのヒドロスクンネーショ
ン（ｈｙｄｒｏｓｔａｎｎａｔ　１ｏｎ）によって得た
。溶液を紫外線照射に７時間さらした。生成物は、次の
式 ％式％） スペクトル特性： 口Ｒ’）Ｉ　（ＣＣ１，、ＴＭＳ内部）δ（ｐｐｍ）　
−４，６−３，９（４Ｈ，ｍ）　；　２．４−０．９（
８４８，ｍ）ＮＭＲｌ１ｓ３ｎ（ＣＩＤｅｌ（ＣＨ３）
４Ｓｎ内部）δ＝　−２０，ｓｐｐｍ；これは、ビス（
２−ラウロイルオキシエチル）ジブチル錫と同じ条件下
に実施され、そしてジブチル錫ジラウレート （ＣＪ＋ｔ）ｔｓｎ（ＯＣＯＣ＋　＋Ｈｆｆｉ３）ｔを
もたらした。

スペクトル特性： ＮＭＲ’ＩＩ　（ＣＣＩ、、　　ＴＭＳ内部）δ（ｐｐ
ｍ）　＝　２．４−０．９（８０１１，ｍ） 例　　５ パイレックス■製管に、２．３４９９　（０，０１モル
）のジブチル錫シバイドライド、３．４０５９　　（０
，０２モル）の蒸留２−エチルヘキサノン酸ビニル及び
２．５ｇの無水シクロヘキサンを入れた。紫外線照射へ
の露出は、３０〜３５°Ｃで８時間３０分続けた。真空
下に周囲温度で溶剤を除去した。

反応生成物は、定量的に得られ、そして次のものであっ
た。

（Ｃａ１１ｓ）ｔｓｎ［ｃＨｔｃＨｔＯｃＯｃｌＩ（Ｃ
ｚｌｌｓ）　（Ｃ４Ｈ−）］　ｔん５久上水１１： ＮＭＲ’Ｈ（ＣＣ１，、ＴＭＳ内部）δ（ｐｐｍ）−４
，７−４（４Ｈ，ｏ＋）　；２、４−０．９（５２Ｈ，
ｍ） ＮＭＲ”’Ｓｎ　（Ｃ，Ｄ、、（ＣＨ３）４Ｓｎ内部）
δ＝　−２０，９ｐｐｍ：ＩＲ（フィルム）　　：　ｖ
（Ｃｏ）＝　１７３５ｃｍ−’（Ｓ）（ｂ）　ビス［２
−（２−エチルヘキサノイルオキシ）分解は、例１にお
ける如くして実施された。これは、１４０°Ｃで５時間
後に完全であった。得られた生成物は、 （Ｃ−１１−）−３ｎ［０ＣＯＣ！Ｉ（ＣｚＨｓ）　（
Ｃ４１１ｓ）Ｌと同定された。

スペクトル特性： 口Ｒ’Ｈ（ＣＣ１，、ＴＭＳ内部）δ（ｐｐｍ）　−２
，５−０，９（４８Ｌ　ｍ）　； ＮＭＲ”　’Ｓｎ　（ＣａＤｓ、　（ＣＨｓ）ｉｓｎ内
部）δ＝　−１５４，９ｐｐｍ例　　６ ２−エチルヘキサノン酸ビニルへのジオクチル錫シバイ
ドライドの添加をジブチル錫シバイドライド（例５）と
同じ態様で実施した。

これは、反応混合物を紫外線照射に１３時間さらした後
に完全であった。

生成物は、定ｍ的に得られ、そして式 ％式％）］ スペクトル特性： ＮＭＲ’■（ＣＣ１，、ＴＭＳ内部）δ（ｐｐｍ）＝　
４．７−４．０（４Ｈ，ｍ）　；　１．６−０．９（６
８Ｈ，ｍ）ＮＭＲ”　’Ｓｎ　（Ｃ−Ｄｓ、（ＣＨ３）
−３■内部）δ＝　−２１，７ｐｐ＋ａこれは、ジブチ
ル同族体（例５）の分解と同じ条件下に行われた。

分解生成物は、次の式 ％式％］ ： ビス（２−デカノイルオキシエチル）ジブチル錫ベルサ
チックアシド■１０（シェル）は、分子式Ｃ１０ＩＩ　
ｔ。鵠の酸の混合物（この少なくとも９８％は、酸官能
基に対するα−位置に第四炭素原子を含有する）である
。それ故に、式（１）におけるＲ８基は、ノニル基と同
じにすることができる。

操作手順は、ラウリン酸ビニルの製造の場合と同じであ
った。ビニルベルサテートは、蒸留によって６０％収率
で得られた。

Ｈ，Ｃ＝　ＣＨＯＣＯＣ，Ｈ，、（３，３ｋＰａ下にす
、　ｐ、　＝　１００℃）スペクトル特性： ＮＭＲ’１１　（ＣＣ１，、ＴＭＳ内部）δ（ｐｐｍ）
＝　７．２２（１■、　ｄｄ）　；４、７８（ＩＨ，ｄ
ｄ）　；　４．４５（ＩＨ，ｄｄ）　：　２．０−０．
８（１９１１，ｍ）例Ｉの操作手順を実施した。サーモ
スク、ト付きのボウルは、ＯｏＣに設定された。この溶
液を紫外線照射に２時間さらした。目的化合物が定量的
に得られた。その式は、次の如くであった。

（Ｃ−１１−）　２Ｓｎ（ＣＨｔＣＨｔＯＣＯＣｅｌｌ
　１ｓ）　ｘスペクトル特性： ＮＭＲ’１１　（ＣＣＶ、、　　ＴＭＳ内部）δ（ｐｐ
ｍ）＝　４．５−４．０（４Ｈ，ｍ）　；　２．０−０
．８（６０Ｈ，ｍ）ＮＭＲ””Ｓｎ　（ＣａＤ＠、（Ｃ
１１３）４Ｓｎ内部）δ−−２２，３ｐｐｍ：ＩＲ（フ
ィルム）　：　ｖ（Ｃｏ）＝　１７３０ｃｍ−’（Ｓ）
分解は、例１における如〈実施された。１４０℃におい
て、この化合物の６５％が４時間後に消失した（　ＮＭ
Ｒ’　”Ｓｎによって定量される百分率）。

分解生成物は、ジブチル錫ジベルサテートであった。

（Ｃ４１１ｓ）ｔｓｎ（ＯＣＯＣｅＨ＋ｓ）ｚスペクト
ル特性： ＮＭＲ’ＩＩ　（ＣＣ１，、ＴＭＳ内部）δ（ｐｐｍ）
　−２，０−０，８（５６Ｈ，ｆｆ１）　； ＮＭＲ”　９Ｓｏ　（ＣａＤｓ＋　（ＣＩ＋３）ａｓｎ
内部）δ−−１６２，６ｐｐｍＨ例　　８ 操作手順は、ビニルベルサテートへの添加についての例
７と同じであった。ここでは、それは２、００２９　（
０，０２モル）の酢酸インプロペニルによって置きかえ
た。反応混合物を紫外線照射に０℃で３時間３０分さら
した。生成物は、定量的に得られ、そして次の一般式 ％式％］ スペクトル特性： ＮＭＲ’Ｈ（ＣＣ１，、ＴＭＳ内部）δ（ｐｐｍ）＝　
５．６−４．６（２Ｈ，ｎ）　；　１．９５（６Ｈ，ｓ
）　；　１．８−０．９（２８１！、ｍ）　；ＮＭＲ”
’Ｓｎ　（Ｃ，ＤＢ、　（ＣＩ！３）、Ｓｒ＋内部）δ
＝−２４，９１）Ｉ）ＩＩＩ（ｂ）ビス（２−アセトキ
シ−２−メチルエチルジブチル錫の分解 純生成物を試験管において８０°Ｃに加熱した。

分解は、増時間後に完全であった。ジブチル錫ジアセテ
ートが純形態で得られた。その特性は、例１の終りに示
されている。

例　　９ 例１の操作手順に従って１−シア／ビニルアセテートへ
のジブチル錫シバイドライドの添加を行なった。紫外線
照射への露出を５時間続けた。得られた生成物は、式 ％式％］ ブチル錫と同定された。

スペクトル特性： ＮＭＲ’Ｈ（ＣＣ１，、ＴＭＳ内部）δ（ｐｐｍ）　＝
　５．４（２ｔｌ、　ｔ）　；２、１（６１１，ｓ）　
；　ｌ、６５−０．９（２２！ｌ、　ｍ）　；ＮＭＲＩ
ｌ’Ｓｎ　（ｃｏｏｓ、　（ＣＨ３）４Ｓｎ内部）δ−
−２２，６ｐｐｍ（ｂ）ビス（２−アセトキシ−２−シ
アノエチル）分解を１１０℃において例１における如く
して実施した。２時間後にジブチル錫ジアセテーとアク
リロニトリルとの混合物を得た。出発物質は少しも含ま
れていなかった。

アクリロニトリルのスペクトル特性：　ＣＨ，＝　ＣＤ
　ＣＭＮＭＲ’Ｈ（ＣＣＬ、　　ＴＭＳ内部）δ（ｐｐ
ｍ）＝　６．４−５．４（Ｃ４Ｈｓ）ｚｓｎ（ＯＣＯＣ
Ｈｓ）　ｔのものについて：例１参照例　　１０ ビス（２−ホルミルオキシエチル）ジブチル錫の製造及
び分解 （ａ）ギ酸ビニルの製造 実施した操作手順は、ラウリン酸ビニルの製造について
の例１におけると同じであった。カデイオット（Ｃａｄ
ｉｏｔ）装置（回転バンドを持つ５０ｃｍカラム）にお
いて蒸留を実施した。得られた生成物は、次の式 ％式％） スペクトル特性： ＮＭＲ’Ｈ（ＣＣ１，、ＴＭＳ内部）δ（ｐｐｍ）　＝
　８．０５（ｉｌｌ、　ｓ）　；７、３２−（１８，ｄ
ｄ）　；　４．９５（ＩＨ，ｄｄ）　；　４．６５（Ｉ
ｌｌ、　ｄｄ）例５の操作手順に従ってパイレックス■
製管においてギ酸ビニルへのジブチル錫シバイドライド
の添加を３０〜３５℃で実施した。生成物は単離しなか
った。と云うのは、それは形成時に分解したからである
。

ここにはジブチル錫ジホルメーｈ　（ＣａＬ）ｔｓｎ（
ＯＣＯＵ）ｔのスペクトル特性のみを記載する。

スペクトル特性： 口Ｒ１■（Ｃ，Ｄ、、　ＴＭＳ内部）δ（ｐｐａ＋）　
＝　８．２５（２Ｈ，ｓ）　；１、８−０．９（１８Ｈ
，ｍ）　； ＮＭＲ”　＠Ｓｎ　（ＣＪｓ＋　（Ｃ■、）、Ｓｎ内部
）δ−−１０２，５ｐｐｍ皿−−Ｌ± 実施した操作手順は、ジブチル錫シバイドライトの合成
について例１で用いたものと同じであった。この生成物
は不安定であった。これは、きれいなガラス器具（連結
部にグリースをつけない）での蒸留を必要とした。これ
は、球管において０、２７　ｋＰａの真空下に１００〜
１１０℃（炉温度）で実施された。

無水シクロヘキサンを収容するパイレックス■管に化学
量論的量のジフェニル錫シバイドライト及び酢酸ビニル
を入れた０反応混合物を紫外線照射に３０℃で１時間さ
らした。次いで、周囲温度において真空下に溶剤を除去
した。生成物は、定量的に得られそして次の式 ％式％） ： 純化合物の分解は、１５０℃で１時間後に完全であり、
そして式 ％式％） のジフェニル錫ジアセテートをもたらした。

入竺之Σ及且五： ＮＭＲＩＨ（ＣＣ１，、ＴＭＳ内部ンｔ　（ｐｐｍ）　
＝７．９−７．０　（１（１８，ｍ）　；１、８　（４
Ｈ，ｍ）　；　（６Ｈ，ｓ）　。

この化合物は、先の例ＩＩにおけると同じ条件下に得ら
れた。生成物は、次の式 ％式％） Ｌ二叉Σ及■ユニ ＮＭＲ’１１（ＣＣＩ４．ＴＭＳ内部）　ｔ　（ｐｐｍ
）　＝７．５−６．９（ＩＯＨ，ｍ）　：４．７５−３
．７（４Ｆ１．ｍ）；２．２−０．７５（５０Ｈ，ｍ）
。

１５０℃で１時間後に、この化合物は消失した。ジフェ
ニル錫ジラウレートが得られた。

（Ｃｓ＋Ｈｓ）　ｚｓｎ　（ＯＣＯＣ＋　１Ｈｚｓ）　
ｔ＆二文旦止且五： ＮＭＲ’Ｈ（ＣＣ１，、ＴＭＳ内部）ｔ　（ｐｐｍ）　
＝７．７５−７．０（ｌ叶、　ｍ）　；　２．２−０．
７５　（４６Ｈ，ｍ）　。

匠−上１ 次の混合物、即ち、 ３０Ｘ１０’ｍＰａｓの粘度を有する９０部の（α、ω
−ジヒドロキシ）ポリジメチルシロキサン樹脂、 １００　ｍＰａｓの粘度を有する２１０部の（ａ、　ω
−ジヒドロキシ）ポリジメチルシロキサン油、２０　ｍ
Ｐａｓの粘度を有する１４部のポリヒドロメチルシロキ
サン、及び ６８６部のキシレン、 を均質化し、そして上記の浴ｉ、ｏｏｏ部に４．０００
部のヘキサンを加えた。

得られた組成物５，０００部に、 γ−アミノプロピルトリエトキシシラン及びγ−グリシ
ドオキシプロビルトリメトキシシランを等モルで付加さ
せることによって形成した生成物２０部、及び 例１で製造したビス（２−アセトキシエチル）ジブチル
錫１．７５部、 を加えた。

混合物を周囲温度（２０℃）で激しく数分間攪拌し、次
いでこの混合物をメイヤーＮｏ、１０塗布棒によって”
　Ｇｌａｃｉｎｅ　５ｉｂｉｌｌｅ■９５６２−紙上に
付着させ（約１〜３ｇ／ｍ”　）　、そしてこのシリコ
ーン組成物を１５０℃に設定した強制空気循環炉におい
て３０秒間硬化させた。架橋は完全でありそして品質が
優れていた。

１　１４〜１５　　び　　　　　１６ 例１３の操作手順を正確に反復したが、但し、机上Ａで
は、例１３の潜触媒１３部を例８で製造した１、８５部
のビス（２−アセトキシ−２−メチルエチル）ジブチル
錫で置きかえ、 跳上１では、例１３の潜触媒１．７５部を例３で製造し
た２、９５部のビス（２−ラウロイルオキシエチル）ジ
ブチル錫で置きかえ、 跳上玉では、例１３の潜触媒１．７５部を例５で製造し
た２、４５部のビス［２−（２−エチルヘキサノイルオ
キシ）エチル］ジブチル錫を置きかえ、 嵐校五ユｊでは、例１３の潜触媒１．７５部を１．５０
部のジブチル錫ジカルボキシレートで置きかえた。

例１３におけるように、架橋は完全であり、品質が優れ
ており、そして同等量の錫化合物の場合に同様であった
。

伝−−Ｌヱ この例は、次のもの、即ち、 １４．０００ｍＰａｓの粘度を有する２３部のα、ω−
ジヒドロキシポリジメチルシロキサン油、２０ｍＰａｓ
の粘度を有する１部のトリメチルシロキシル末端基含有
ポリヒドロメチルシロキサン油、及び ０．７１２ミリモルの錫化合物ｘ１ を空気中において混合することから得られた組成物に対
して潜触媒及び対応する活性触媒で得られた可使寿命を
例示するものである。

空気中での混合物の安定性は、混合物の各々が２０℃で
１５０，０００ｍＰａｓに達するのに要した時間を測定
することによって決定された。これは、サーモスタット
を２０℃に設定したコーン／プレート系が取り付けられ
ている”Ｃａｒｒｉ−Ｍｅｄ■”しオメーターで行われ
た。

得られた結果を次の表に集めた。

この表から、本発明に従った潜触媒を含む混合物は、触
媒を含まない対照混合物（３００時間）に非常に近くし
かもそれらの熱分解生成物を含有する混合物よりも常に
ずっと長い可使寿命を示すことが明らかである。

１″−Ｍ 代理人の氏名　　倉　内　基　弘 一゛＼ 同　　風間弘志。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. （１）Ａ、シラノール末端基を有する１００重量部のポ
   リジオルガノシロキサン、 Ｂ、分子当り少なくとも３個のＳｉＨ基を有する０．１
   〜２５重量部のポリオルガノヒドロシロキサン、及び Ｃ、式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ［式中、 Ｒは、同種又は異種であって、線状又は分枝状Ｃ＿１〜
   Ｃ＿２＿０アルキル基、及び単核アリール、アリールア
   ルキル及びアルキルアリール基（ここで、アルキル部分
   はＣ＿１〜Ｃ＿６である）から選択され、Ｒ＿１及びＲ
   ＿２基は、同種又は異種であって、水素原子、シアノ基
   、Ｃ＿１〜Ｃ＿８アルキル基及びアルコキシカルボニル
   基（ここで、アルキル部分はＣ＿１〜Ｃ＿８である）か
   ら選択され、更にＲ＿１及びＲ＿２は互いに結合して５
   〜８個の炭素原子を有する飽和炭化水素環を形成するこ
   ともでき、 Ｒ＿３基は、水素原子、及び線状又は分枝状Ｃ＿１〜Ｃ
   ＿２＿０アルキル基から選択される］を有する触媒的有
   効量の潜錫触媒、 を含むことを特徴とするポリオルガノシロキサン組成物
   。
2. （２）重合体（Λ）及び（Ｂ）の総固形分１００重量部
   当り０．００１〜６重量部の潜触媒（Ｃ）を含むことを
   特徴とする特許請求の範囲第１項記載の組成物。
3. （３）溶剤を含まず、しかも成分（Ａ）及び（Ｂ）の粘
   度を、組成物の粘度が４０〜５，０００ｍＰａｓになる
   ように選択したことを特徴とする特許請求の範囲第１項
   記載の組成物。
4. （４）有機溶剤中に溶解させた溶液状態にあることを特
   徴とする特許請求の範囲第１項記載の組成物。
5. （５）水性エマルジョンの形態にあることを特徴とする
   特許請求の範囲第１項記載の組成物。
6. （６）軟質材料シートをそれらが通常付着する表面に対
   して非付着性にする方法において、 被覆しようとする表面積１ｍ＾２当り、次の組成物、Ａ
   、シラノール末端基を有する１００重量部のポリジオル
   ガノシロキサン、 Ｂ、分子当り少なくとも３個のＳｉＨ基を有する０．１
   〜２５重量部のポリオルガノヒドロシロキサン、及び Ｃ、式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ［式中、 Ｒは、同種又は異種であって、線状又は分枝状Ｃ＿１〜
   Ｃ＿２＿０アルキル基、及び単核アリール、アリールア
   ルキル及びアルキルアリール基（ここで、アルキル部分
   はＣ＿１〜Ｃ＿６である）から選択され、Ｒ＿１及びＲ
   ＿２基は、同種又は異種であって、水素原子、シアノ基
   、Ｃ＿１〜Ｃ＿８アルキル基及びアルコキシカルボニル
   基（ここで、アルキル部分はＣ＿１〜Ｃ＿８である）か
   ら選択され、更にＲ＿１及びＲ＿２は互いに結合して５
   〜８個の炭素原子を有する飽和炭化水素環を形成するこ
   ともでき、 Ｒ＿３基は、水素原子、及び線状又は分枝状Ｃ＿１〜Ｃ
   ＿２＿０アルキル基から選択される］を有する触媒的有
   効量の潜錫触媒、 を含むポリオルガノシロキサン組成物を０．１〜１０ｇ
   の量で塗布し、次いで この組成物を潜触媒（Ｃ）の分解温度に少なくとも等し
   い温度で架橋させる、 ことを特徴とする軟質材料シートの非付着性化法。