JPH013009A - 超電導材料とその製造方法 - Google Patents

超電導材料とその製造方法

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JPH013009A
JPH013009A JP63-66899A JP6689988A JPH013009A JP H013009 A JPH013009 A JP H013009A JP 6689988 A JP6689988 A JP 6689988A JP H013009 A JPH013009 A JP H013009A
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藤田 順彦
忠一 小林
糸崎 秀夫
三郎 田中
矢津 修示
哲司 上代
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住友電気工業株式会社
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は超電導材料に関する。より詳細には、高い超電
導臨界温度を有し、超電導臨界温度と相転移の終了温度
との差が小さく、且つ、超電導特性が安定した新規な超
電導材料とその製造方法に関する。
従来の技術 超電導現象下の物質は完全な反磁性を示し、内部で有限
な定常電流が流れているにも関わらず電位差が現れなく
なる。そこで、超電導体は電力損失の全くない伝送媒体
として各種の応用が提案されている。
即ち、MHD発電、電力送電、電力貯蔵等の電力分野、
或いは、磁気浮上列車、電磁気推進船舶等の動力分野、
更に、磁場、マイクロ波、放射線等の超高感度センサと
してNMR1π中間子治療、高エネルギー物理実験装置
などの計測の分野等、極めて多くの利用分野を挙げるこ
とができる。
また、ジョセフソン素子に代表されるエレクトロニクス
の分野でも、単なる消費電力の低減のみならず、極めて
高速な動作を実現し得る技術として期待されている。
ところで、これまで超電導現象は超低温下においてのみ
観測されていた。即ち、従来の超電導材料として最も高
い超電導臨界温度Tcを有するといわれているNb3G
eにおいても23.2 Kに止まっている。そこで、従
来は、超電導現象を実現するために沸点が4.2にの液
体ヘリウムを用いて超電導材料をTc以下まで冷却して
いた。しかしながら、液体ヘリウムの使用は、液化設備
を含めた冷却設備による技術的負担並びにコスト的負担
が極めて大きく、超電導技術の実用化への妨げとなって
いた。
とこ、ろが、1986年秋にむつ高いT。をもつ超電導
酸化物が発見されるにいたって、高温超電導の可能性が
大きく開けてきた(Bednorz、 !、1all、
er、 ”Phys。
864(1986) 189)。この酸化物超電導体は
〔La、 Ba〕2Cub、または〔La、 Srl 
2Cu○4で表され、K2NIF4型酸化物呼ばれるも
ので、従来から知られていたペロブスカイト型超電導酸
化物と結晶構造が似ている。これらの物質のT。は30
〜50にと、従来に比べて飛躍的に高い値である。Tc
がこの温度に達すると、超電導を起こさせるための冷媒
として液体水素(沸点20.4 K )または液体ネオ
ン(沸点27、3 K )が使えるようになる。
更に、1987年2月になって、チュー達によって90
にクラスの臨界温度を示すBa−Y系の複合酸化物が発
見されたことが新聞報道され、非低温超電導体実現の可
能性が俄かに高まっている。
発明が解決しようとする課題 Tcは一般に超電導現象の開始温度あるいは超電導を維
持できなくなる臨界温度を意味するが、物質によっては
、その物質が完全な超電導体となる相転移の終了温度T
cfがTcと大きく隔たっている。従って、実際にはT
cよりもかなり低い温度まで冷却する必要があり、この
点からTcとTcfとの差をできるだけ小さくすること
が望まれている。
更に、超電導体は、一定量上の強度の磁場中では超電導
効果を失うことが知られている。この超電導体がその特
性を失う臨界磁場は、一般にその物質の臨界温度と共に
上下することが知られており、特に高磁場電磁石等への
用途を考えた場合には、臨界磁場下での超電導の安定性
を向上させる必要性が論じられている。
そこで、本発明の目的は、上記従来技術の課題を解決し
、高いTcを維持したまま、高磁場下でも超電導効果を
失うことが無く、TcとTcfとの差が小さい新規な超
電導材料と、その超電導材料を得るための製造方法を提
供することにある。
尚、以下の記述において、超電導材料の超電導開始温度
あるいは臨界温度をTc 、材料の電気抵抗が完全に零
となる相転移終了温度をTcf、 Tcと′丁Cf±・
コ)差をΔ′1゛と表す。
課題を解決するだめの手段 木先明H達:よ、最近発見された上記のような室i”’
+A詔電4qj、i料に池の添加元素を添加することに
よ−3て、L諸課題を解決しようと試みた。即ち、他(
′・)元素を添加することによって上記超電導材料の諸
特性が改Jηされ、結果的に、臨界電流密度Jcの向1
−1高磁場下でのJcの安定化等の超電導の諸特i11
を改善することを試みた。
、、N、Q Jす]者:よ実験の結末、V、Ta、Nb
、Cr、 Ga。
In、 II’:d、 Sn、 Tl、Pb、 責、t
o、 WtたはZnの1種または2種以十を添加するこ
とによって高いTcを維持したまま、高磁場下でも超電
導効果を失うことが;l(<、TcとTcfとの差が小
さい超電導材料が得られることを見出した。
そこで、本発明に従い、 一船式: α、βvrw δ8 ε。
(但し、αは周期律表1’Ja、l1la族元素から選
択された1種であり、 βはj^1期律表IIa、ma族元素てαと同じものを
含む元素から選択された1種であり、δは周期律表1b
、nb、mb、■a族元素から選択された1種であり、 εはO,B、C1N、F及びSのうちから選択された少
なくとも1種であり、 TはV、 Ta、 Nb、 [r、、Ga、 In、 
Cd、、 Sn、 Tl、Pb。
\;Io、 W、 Znからなる群から選択した少なく
とも1種であり、 u) vS”% χは0以上1以下の数であり、yは1
以上4以下の数である) で表される組成を有する超電導材料が提供される。
上記本発明に係ろMi電導材料として、具体的には以下
のような化合物を代表的な例として挙げることができる
■ 上記一般式中のεがOであり、上記超電導材料は複
合酸化物である超電導材料。
■ 上記一般式中のδがCuであり、上記一般式で示さ
れる複合酸化物がペロブスカイト型酸化物または擬似ペ
ロブスカイト型酸化物であることを特徴とする超電導材
料 ■ トロ記αが周期律表IIa族元素であり、βが周期
律表111 a b元素であることを特徴とする超電導
材料っ 本発明の一悼ト策に従えば、に記超電導材料は、例を−
ば焼結体として得られる。また、他の態様に従えば、気
相合成により形成された薄膜きしても形成されろ。
lipら、本発明:こ従い、上記超電導材料を製造する
方法とし、で、周期律表11a、1TIa族元素から選
択された1種の元素αと、周期律表IIa、IIIa族
元素てαと同じものを含む元素から選択された1種の元
二÷9〜と、V、Ta、\bSCr、Ga、 In、C
dXSn。
rl、)〕)〕、へ、10、W、Znからなる群から選
択した少なくとも1種の元来Tと、周期律表1b、lI
b、■b 、 ′’FJ、 a 族元素から選択された
1種の元素δとの各々の酸化物、炭酸塩、硫酸塩あるい
は硝酸塩の粉末の混合物を焼結することを特徴とする複
合酸化物からなる超iu導材料の製造方法が提供される
十1.妃本発明に(系る裂造方ブ去により得られる超電
導材料としては、上記一般式中のδがCuであり、上記
複合酸化物がペロブスカイト型酸化物または擬似ペロブ
スカイト型酸化物である超電導材料、あるいは、−1−
記αが周期律表Ua族元素であり、βが周期律表ma族
元素である超電導材料が具体的に例示できる。
更に具体的には、上記αがBaであり、βがYである超
電導材料が挙げられ、本発明の1態様に従えば、[3a
、 Y、、C14および上記記号Tで示される元素の原
子比が (0,5〜2):(0゜5〜3):(1〜4)
  :  (0,01〜0.1>となるようBa、 Y
、 CIJおよび元素δの酸化物、炭酸塩、硝酸塩また
は硫酸塩の粉末を混合することが挙げられる。
上記本発明の製造方法において、本発明の好ましい態様
に従えば、上記焼結を700〜1600℃、好ましくは
800〜1000℃の範囲の温度で実施することが好ま
しい。
また、上記焼結を、前、記混合粉末を予め焼成する予備
焼結と、予備焼結後の焼成体を粉砕、成形した後焼結す
る本焼結との少なくとも2段階で実施することか有利で
ある。
ここで、本発明の好ましい態様に従えば、上記予備焼結
を550〜950℃の範囲の温度で、本焼結を800〜
930℃の範囲の温度でそれぞれ実施することが有利で
ある。
また、上記焼結後、直ちに急冷する、または焼結後、7
00〜930℃の範囲に再加熱し、急冷する工程を含む
処理を行うことも好ましい。
更に、本発明に従って、周期律表[a、IIIa族元素
から選択された1種の元素αと、周期律表■a、■a族
元素でαと同じものを含む元素から選択された1種の元
素β、VSTa、 Nb5CrSGa、 In。
Cd、 5nSTl、 Pb、 Mo、W、Znからな
る群から選択した少なくとも1種の元素Tと、周期律表
1b。
nb、mb、■a族元素から選択された1種の元素δと
を含有する酸化物をターゲットとして物理蒸着を行い、
ペロブスカイト型酸化物または擬似ペロブスカイト型酸
化物の薄膜を形成することを特徴とする超電導薄膜の作
製方法が提供される。
ここで、本発明の好ましい態様によれば、上記ターゲッ
トがペロブスカイト型酸化物または擬似ペロブスカイト
型酸化物であることが挙げられる。
上記方法において、本発明の−B、Kに従えば、上記元
素αがBaであり、元素βがYであり、元素δがCuで
ある。ここで、Ba、 Y、 Cuおよび上記記号Tで
示される元素の原子比が(0,5〜2m(0,5〜3)
  :(1〜4)  :  (0,01〜0.1)とな
るようBa、YSCuおよび元素δの酸化物、炭酸塩、
硝酸塩または硫酸塩の粉末を調製することが有利である
また、上記ターゲットは、Ba、 Y、 Cuおよび上
記元素δの酸化物、炭酸塩、硝酸塩または硫酸塩の混合
粉末を250〜1200℃の温度で焼成したものであり
得、更に、上記ターゲットが、上記焼成後、更に700
〜1000℃の範囲の温度で本焼結したものであること
が有利である。
ターゲットとしては、上記ターゲットが本焼結体または
仮焼結体の粉末を用いてもよいし、ブロックとして使用
してもよい。
また、複数のターゲットを使用することもでき、この場
合、本発明の一態様に従えば、上記ターゲットはそれぞ
れHa、 YSCuおよび元素δの酸化物であり得る。
ここで、本発明の好ましい態様に従えば、ターゲットの
Ba、 Y、 Cuおよび元素δの原子比が、形成され
る薄膜のBaXYおよびCuの原子比を基準として、B
a、 y、 Cuおよび元素δの蒸着効率に応じて調整
されていることが有利である。
また、蒸着雰囲気はArと02とを含み、Ar分圧をl
Xl0−3乃至3 X 10− ’Torrの範囲内、
02分圧を1.OXl0−3乃至3 Xl0−’Tor
rの範囲内とすることが好ましい。
また、上記物理蒸着はRFスパッタリングであり得、こ
の場合、スパッタリング時の高周波電力は104W/c
++を以下であることが好ましい。
また、マグネトロンスパッタリングで蒸着を実施するこ
ともできる。
尚、本発明の好ましい態様に従えば、スパッタリング時
に、基板をヒータにより加熱することがを利であり、こ
の加熱温度としては260〜1500℃の範囲であるこ
とが有利である。
本発明の一態様に従えば、上記基板として、ガラス、石
英、S11ステンレス鋼およびセラミックスからなる群
より選択された1種を使用することができる。
また、蒸着時の基板とターゲットと間の距離は3〜23
h+mの範囲であることが好ましい。
更に、上記物理蒸着はイオンブレーティング、真空蒸着
、イオンビーム蒸着、分子線蒸着のいずれか1種であり
得る。
前述のように、本発明によって焼結体あるいは薄膜とし
て得られた超電導材料は、更に、熱処理することが好ま
しい。ここで、本発明の一態様に従えば、上記加熱温度
は750〜1500℃の範囲内であることが好ましく、
750〜930℃の範囲の温度範囲内であることが更に
好ましい。
作用 本発明の提供する超電導材料は、 一役式:α0β7γ0δ8εy (但し、αは周期律表■a、■a族元素から選択された
1種であり、 β:よ周期律表′Ll 2(、lp a族元末てαと同
じものを含む元素から選択された1種であり、δはj)
、j期律表1 b、nb、III b、■aa族元素ら
選択された1種であり、 εは0、iq、、C,N、F及びSのうぢから選択され
ブこ少なくとも1種であり、 r :iV、 Ta、 Nb、CrXGa5In5[:
d、5nSTl、Pb。
肋、〜′、7nからなる群から選択した少なくとも11
車て゛あり、 1+、■、W、XはO以−L1以下の数であり、y:ま
1以−114以下の数である) で表される組成を有する。
一般に、L記元素εは酸素(0)であるが、そ5つ一部
をB(硼素)、C(炭素)、N(窒素)、弗素ロバ)及
び硫黄(S)の中から選択される他の元窓、特に弗素(
F)で置換してもよい。
また、上記元素δは一般に洞(Cu)であるが、その一
部を周期律表Ib、Hb、l1lb、■族元素から選択
された他の元素、例えば、チタン(Ti)等で置換した
ものでもよい。
更に、上記元素αは一般に周期律表■、3族元黍であり
、上記元素βは一般に周期律表■aa族元素あり、特に
好ましい組合せはとしては、αが[3aで、βがYであ
るBa−Yの絹合せ、αがS「て、βが1.aである5
r−1,、aの組合せを挙げることができろ13さらに
、これらαおよびβの一部を周期律表II a族元素の
他の元素、例えば、カルシウム(Ca)等で置換しても
よい。
上記元素α、β、Tおよびδの原子比ずなわちu、v、
wおよびXは0以上1以下の数であり、各元素の組合せ
に応じて適宜選択される。例えば、Ba−Y−Cu−T
系の複合酸化物の場合には、Ba、Y、Cuおよび上記
記号Tて示される元素の原子比Ba:Y:Cu:rが(
0,5〜2):(0,5〜3):  (1〜4)  :
  (0,01〜0.1)となるように選択する。即ち
、各元素の原子比が一ヒ記範囲を見たしかときに、有効
な超電導特性を発揮するペロブスカイト型または擬似ペ
ロブスカイト型の結晶構造が形成される確率が高くなる
このような本発明に係る超電導材料は、以下の。ように
(7て作製することができる。
!lfl ラ、ひさつの方法としては、周期律表■a、
l11aj契尾素から選択された1種の元素αと、周期
律51]a、1lla族元素でαと同じものを含む元素
か″)選択された1種の元素βと、V、 Ta、 Nb
XCr。
1)3〕、旨、(ld、 Sn、 Tl、pb、 %t
o、 W、、Znからなる群から選択した少なくとも1
種の元Xrと、周期律表11〕、nb、■b1■a族元
素から選択された1種の元素δとの各々の酸化物、炭酸
塩、硫酸塩あるシ);ま硝酸塩の粉末を焼結する。
リ−で、上記元素α、β、γおよびδ並びにこれあ元素
の原r比ずなわち]」、vSwおよびXは焼結後に前記
定義が満たされるように調整される。
このようにして得られる焼結体は、上記元素α、β、T
およびδを含む複合酸化物である。既に述べたように、
この複合酸化物の酸素の一部を酸素以外のヒ、記元素ε
の中から選択される他の元素ずなわら、B(硼素)、C
(炭素)、N(窒素)、弗素(r−″)および/または
硫黄(S)、特に弗素(I:′)で置換することもでき
る。これらの元素は一般に窒化物の形の粉末、例えばB
N、CNで原料粉末混合物に添加するか、L記元素α、
β、Tおよびδのフン化物あるいは硫化物、例えばフン
化バリウム、フン化インドリウムの形で原料粉末混合物
に添加することができる。さらに、これら元素またはそ
の化合物を気体状で直接添加することもてきる。
上記焼結は700〜1600℃、好ましくは800〜1
000℃の範囲の温度で実施ずろことが好ましい。即し
、焼結温度が該範囲1ご達しない場合は、有効な固相反
応の進行が進まない、あるいは極端に遅くなる。
一方、上記範囲を越えた場合は、原料粉末の一郭が溶融
して、ペロブスカイトまたは擬似ペロブスカイト型の結
晶構造の形成が阻害される。
また、この焼結操作は、4二記扮末の混合物を、予め焼
成する予備焼結と、予備焼結後の焼成体を粉砕し、成形
後、焼結する本焼結との少なくとも2段階で実施するこ
とが極めて有利である。即ち、このような操作を実施す
ることによって、焼結体の均質化と結晶の粗大化防止が
達成される。尚、好ましい処理温度と具で、上記予備焼
結を550〜950℃の範囲の温度で実施し、本焼結を
800〜930℃の範囲の温度で実施することが例示さ
れる。
また、本発明の一態様に従えば、前記本発明に係る超電
導材料は、薄膜として形成することもできる。即ち、周
期律表[a、■a族元素から選択された1種の元素α、
周期律表Ua、ma−素でαと同じものを含む元素から
選択された1種の元素β、V、 Ta5NbSCrSG
aSIn、 Cd、 Sn、 Tl、PbSMo、W、
Znからなる群から選択した少なくとも1種の元素T1
周期律表1b、nb、mb、■a族元素から選択された
1種の元素δを含有する酸化物をターゲットとして物理
蒸着を行い、ペロブスカイト型酸化物または擬似ペロブ
スカイト型の結晶構造を有すると考えられる複合酸化物
を薄膜として合成することができる。
ここで、上記ターゲットとして、それ自体がペロブスカ
イト型酸化物または擬似ペロブスカイト型酸化物である
ものを使用することによって、薄膜の結晶性はより精密
に制御される。即ち、mji玉の焼結体として得られた
超電導複合酸化物をターゲットとして使用することが極
めて有効である。
尚、ターゲットとしての複合酸化物焼結体を作製する場
合は、前述の焼結体の超電導材料を作製する場合の諸摸
作を全て適用することができる。
ターゲットは上記の本焼結体または仮焼結体の粉末でも
焼結体または仮焼結体のブロックでもよい。さらに、複
数のターゲットを使用することもできる。この場合には
、各ターゲットを、Ba5Y、Cuおよび元素δの各酸
化物にすることができる。
上記ターゲットのBa、 Y、 Cuおよび元素δの原
子比は、形成される薄膜の!、IgSThおよびCuの
原子比を基準として、Ba、 ySCuおよび元素δの
蒸着効率に応じて調整することができる。
上記薄膜はガラス、石英、Sl、ステンレス鋼およびチ
タン酸化物ストロンチウム、マグネシア、YSz等のセ
ラミックス等の基板上に行うことができる。
尚、既に述べたように、この複合酸化物の酸素の一部を
酸素以外の上記元素εの中から選択される他の元素すな
わち、B(IN素)、C(炭素)、N(窒素)、弗素(
F)および/または硫黄(S)、特に弗素(F)で置換
することもできる。この場合には、一般に、これらの元
素を窒化物の形の粉末、例えばBNSCN等の形の粉末
で原料粉末混合物に添加するか、上記元素α、β、Tお
よびδのフッ化物あるいは硫化物、例えばフッ化バリウ
ム、フッ化イツトリウムの形で原料粉末混合物に添加す
ることによって、これらの元素を薄膜中に入れることが
できる。さらに、物理蒸着雰囲気中にこれら元素または
その化合物を気体状で添加することによっても添加でき
る。
上記物理蒸着はスパッタリング、イオンブレーティング
、真空蒸着、イオンビーム蒸着、分子線蒸着で行うこと
ができるが、特に、RFスパッタリング、さらには、マ
グネトロンスパッタリングで行うのが好ましく、スパッ
タリング時の高周波電力は104W/crI以下である
のが好ましい。また、基板とターゲット間の距離は3〜
230mmの範囲にするのが好ましい。また、スパッタ
リング時に、基板をヒータにより260〜1500℃の
範囲の温度に加熱することも有効である。
物理蒸着雰囲気はArと02とを含み、Ar分圧はlX
l0−3から3 XIO’Torrの範囲にすることが
でき、この場合、02分圧を1.OXl0−3から3X
iO−’Torrの範囲とすることが有利である。
以上のような本発明による各種方法によって作製された
超電導材料は、作製後にさらに熱処理することによって
、その組成の均質化と安定化を達成することができる。
ここで、好ましい処理温度としては750〜1500℃
、好ましくは750〜930℃の温度範囲を挙げること
ができる。また、この熱処理は酸素分圧がIQ−’at
m以下の雰囲気て行うこともによって、超電導材料中の
酸素含有量を制j卸することもできる。
以下に実施例により本発明をより具体的に詳述するが、
以下の実施例は本発明の一実施例であって、本発明の技
術的範囲を何ら制限するものではない。
実施例 先ず、本発明の方法を実1もするために用いる装置につ
いて説明するっ第1図は、本発明の超電導酸化物薄膜の
作製に用いた高周波スパックリング装置1・7の概略図
である、。
第1図に示−7−装置は、チャンバ1と、チマンバ1内
に配置されたクーゲット2およびこのクーゲットをスパ
ック原子でスパックするためにそれに併置されたスパッ
ク電源3と、原料ターゲット2に対向して設:i′られ
、表面−ヒに薄膜が形成されることになる基(反11と
から主に構成されている。チャンバ1はポート7を介し
て真空ポンプ(不図示)に接続され、内部を真空にする
ことができる。
基板4には高圧電源5を用いてバイアス電圧が印加され
る。基板4にはさらに、加熱用ヒーター6が取りつけら
れ、基板温度が調整可能である。
さらに、チャンバ1にはガス導入孔8が取りつけられて
いる。
第2図は、本発明の超電導酸化物薄膜の作製に用いた高
周波励J℃型イオンプレーテインク装置Q)+既略図で
ある。
第2図に示す装置は、チャンバ11と、チャンバ11内
に配置された原料ターゲット12および二のlj:c料
ターゲットを電子ビームで溶融、気化するためにそれに
併置された電子ガン1:3と、原料クーゲット12に対
向して設けられ、表面上に薄!漢が形成されることにな
る基板14とか・ろ主に構成され−ごいろっチャンバ1
1は真空ポンプ(不図示〉に接続され、内部を真空にす
ることができる。
基板14には高圧電源15を用いてバイアス電汁が印加
される。基板1□1にはさらに、加熱用ヒーター16が
取りつけられ、基板温度が調整可能であろ7チヤンバ1
1内にはさらに、原料ターゲット12とλl(板14の
間に蒸発粒子をおおうように高周波コイル17が設置さ
れている。さらに、チャンバ11には酸素導入用のガス
導入孔18が取りつけられている。
作製例1 純度99.9%のBa c 03 粉末59.0 gと
、純度99.9%のY 201153末45.0 gと
、純度99.99%のCuO15)末400gとの混合
物に、更に純度99.9%のV2O5扮末を2.0 g
添加し、ボールミルによって粉砕すると共によく混合し
、た。
続いて、この混合物を型押によって成形して、人気中で
成形体を930 ℃で12時間焼成した。この焼成体を
ボールミルによって粉砕した後、再び成形j〜で、大気
中で成形体を930℃、12.5時間焼結した。
こうして得られた焼結体から、約3 x 3 xlQm
mのサンプル部材を切りだし、このサンプル部材の両端
に常法に従って金蒸着による電極形成を行い、タラビオ
スタット中で冷却しながら、直流4点プローブ法による
抵抗測定を行った。温度測定はキアリブレーション済み
のAu(Fe) −Ag熱電対を用いた。
液体水素によって約21Kまで冷却した上記部材が超電
導現象を示すことを確認した後、ヒータによって部材の
温度を少しづつ上昇させながら抵抗の変化を観察したと
ころ、L足部材は52Kから抵抗を示し始め、93Kに
至って漸く常態と同じ電気抵抗を示すようになった。即
ち、この作製例において作製した超電導材料の臨界温度
Tcは93にであり、相転移の終了温度は52にである
。また、5−のことはり、メータを用いて測定したAC
帯磁率の測定結果からも確認された。
次に、上記と同様なサンプル部材に対して常法に従って
臨界電流密度、J cを測定したところ、80Kにおい
て600 A、 /cm’の電流密度値が観測さたっこ
の温度で外部磁場を上げて臨界電流密度、J cの変化
を測定したところ、1テスラの磁界で、100A/cm
2の電流密度値が観測された。
作製例2 作製例1と同じ純度99.9%のRa C03+’A末
59.Ogと、純度99.9%の¥203粉末45.[
]gと、純度99、99%のCuO粉末40.0 gと
の混合物に対して、この作製例では更に純度99゜9%
のTa2O,の粉末を5.0g添加し、ボールミルによ
って粉砕すると共によく混合した。
続いて、この混合物を型押によって成形して、大気中で
成形体を930℃で12時間焼成した。この焼成体をボ
ールミルによって粉砕した後、再び成形して、大気中で
成形体を930℃、12.5時間焼結した。
こうして得られた焼結体から、約3 x 3 XIQm
mのサンプル部材を切りだし、作製例1と同様の方法で
臨界温度並びにサンプル部材の抵抗が完全に零となる温
度を測定した。本作製例の超電導材料の臨界温度Tcは
77にであり、相転移の終了温度は76にであった。
この結果も、Lメータを用いた測定したAC帯磁率の測
定結果によって確認された。
尚、本作製例の超電導材料の臨界温度は、第1作製例の
材料の臨界温度よりも低いが、この試料では、臨界温度
と相転移終了温度との差が極めて小さいことに着目すべ
きである。
次に、上記と同様なサンプル部材に対して常法に従って
臨界電流密度Jcを測定したところ、70Kにおいて5
00A/cm2の電流密度値が観測さた。
この温度で外部磁場を上げて臨界電流密度Jcの変化を
測定したところ、1テスラの磁界で80A/cm2の電
流密度値が観測された。
作製例3 3a2CO3、Y 2 C03、CuOの粉末を、原子
比Ba/ (Ba+Y)が0.4、原子比Ba/Cuが
2/3となるように混合し、更に原子比換算でV/Ba
比が0.67となるようにV2O5粉末を添加して、成
形した後、820℃で仮焼結し、粉砕、成形後さらに1
080℃で本焼結して焼結体ブロックを得た。このブロ
ックをターゲットとし、S1単結晶基板を用いて、以下
の条件でスパッタ法による薄膜形成を行った。
酸素分圧         4 Xl0−2Torr、
Ar分圧          3 Xl0−2Torr
基板温度         700℃、基板バイアス電
圧     −60V、高周波電力        2
5 W / ci 。
基板とターゲット間の距離 49mm 成膜速度は3人/secで約1μmの厚さに成膜した。
尚、比較のために、他の条件を同一とし、全<02の含
まれていない雰囲気においても同じ操作を行って薄膜を
形成した。
次いで、得られた各々の薄膜の抵抗を測定するためサン
プルを作製した。抵抗測定を行うサンプルは、基板上に
形成された薄膜の両端部分に、さらに真空蒸着で一対の
AI電極を形成し、このAI電極にリード線をハンダ付
けした。
チャンバの内部の酸素分圧を4 Xl0−2Torrで
作製した本発明の方法による薄膜は、超電導現象の始ま
る温度が約90にであり、50に以下では完全な超電導
体となる。これに対して、チャンバに酸素を入れずに作
製した薄膜は、はぼ同じ温度で抵抗が低下し始めたが、
その低下はなだらかで、7に付近で初めて完全な超電導
体となった。このことから、成膜中に酸素をチャンバ内
に入れることにより薄膜中の酸素を適切に制御して、所
望の組成の超電導薄膜を形成できることがわかる。
本発明の薄膜サンプルの臨界電流密度Jcは、70Kに
おいて2.000 A /cm2であり、コノ温度で外
部磁場を上げて臨界電流密度Jcの変化を測定したとこ
ろ、1テスラの磁界で840 A/cm2の電流密度値
が観測された。
作製例4 Ba2COx、Y2C○3、CuOの粉末を、原子比B
a/ (Ba + Y)が0.4、原子比Ba/Cuが
2/3となるように混合し、更に原子比換算でTa/B
a比が0.77となるようにTa205粉末を添加して
、成形した後、820℃で仮焼結し、粉砕、成形後さら
に1080℃で本焼結して焼結体ブロックを得た。この
ブロックをターゲットとし、S1単結晶基板を用いて、
作製例3と同様の条件でスパッタ法による薄膜形成を行
った。以下、作製例3と同様にして、得られた各々の薄
膜の抵抗を測定するためサンプルを作製した。
この本発明の方法による薄膜は、超電導現象の始まる温
度が約76にであ一す、75にで早くも完全な超電導体
となった。このサンプルにおいても、特に臨界温度と相
転移終了温度との差が極めて小さい5二と力<ii片認
された。
この薄膜サンプルの臨界電流密度J cは70Kにおい
て:100fl A / c、m’てあり、この温度で
外部磁場を上げて臨界電流密度J cの変化を測定した
ところ1デスラの磁界で1.000 A / cm2の
電流密度渣が観測されたつ 発明の効果 以−1−詳述のように、本発明によれば、極めて高、5
ゾFcを有する新規な超電導材料が提供される。
この′ffr規な超電導桐材は、77J述のように高い
′FCを示すので、高価かつ人手の因難な液体ヘリウム
を用いる必要は最早なく、人手の容易な液体水素あるい
は液体ネオン等を用いることが可能となる。
また、液体酸素の莫大な需要に伴−っで副次的に生産さ
れている、極めて廉価な液体窒素の利用さえ実現1コ]
能であり、超電導技術の適用範囲を著しく拡大すること
ができる。
また、本発明に従う超電導材料は焼結体として得られる
ので、近年の焼結体関連分野の発展によって実現されて
いる各種の応用技(・trを用″2)るならば、様々の
形状あるいは寸法の製品を得ろこ3シニが可能である。
従って、高磁場電磁石、超電導送電線、超電導電力蓄積
器等の一ド要部材をWlj成し得ろと共に、この超電導
+)i料をクーゲットとしで用″、いて薄1漠化し、ジ
ョセフソン電子、S(■iJ I D (69東計)、
赤外センザ素子等のマイク■1エレク) 。
ニクスの分野における応用も拡大ずろ。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のツノ法を実施ずろのに用いるスパッタ
リング装置の一例の概略図であり、第2図は本発明の方
法を実す在するのjご1月いろイオンブレーティング装
置の一例の概略図である。。 〔主な参照番号〕 1.11・・・・チ ャ ン ハ、 2 、 12  ・ ・ ・ ・  タ − ゲ ン 
 ト 、3 ・・・・・・・・ スパッタ電源、4.1
4・・・・基  仮、 5.15・・・・高圧電源、 6.16・・・・[ニーター、 7 ・・・・・・・・ ボ  −  ト、8.18・・
・・ガス導入孔、 1:3・・・・・・・・電子ガン 特許出願人  住友電気工業株式会社

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式:α_uβ_vγ_wδ_xε_y(但し
    、αは周期律表IIa、IIIa族元素から選択された1種
    であり、 βは周期律表IIa、IIIa族元素でαと同じものを含む
    元素から選択された1種であり、 δは周期律表 I b、IIb、IIIb、VIIIa族元素から選
    択された1種であり、 εはO、B、C、N、F及びSのうちから選択された少
    なくとも1種であり、 γはV、Ta、Nb、Cr、Ga、In、Cd、Sn、
    Tl、Pb、Mo、W、Znからなる群から選択した少
    なくとも1種であり、 u、v、w、xは0以上1以下の数であり、yは1以上
    4以下の数である) で表される組成を有する超電導材料。
  2. (2)周期律表IIa、IIIa族元素から選択された1の
    元素αと、周期律表IIa、IIIa族元素で該元素αと同
    じものを含む元素から選択された1種の元素βと、V、
    Ta、Nb、Cr、Ga、In、Cd、Sn、Tl、P
    b、Mo、W、Znからなる群から選択された少なくと
    も1種の元素γと、周期律表 I b、IIb、IIIb、VII
    Ia族元素から選択された1種の元素δとの各々の酸化
    物、炭酸塩、硫酸塩あるいは硝酸塩の粉末の混合物を焼
    結することを特徴とする複合酸化物からなる超伝導材料
    の製造方法。
  3. (3)周期律表IIa、IIIa族元素から選択された1種
    の元素αと、周期律表IIa、IIIa族元素で該元素αと
    同じものを含む元素から選択された1種の元素βと、V
    、Ta、Nb、Cr、Ga、In、Cd、Sn、Tl、
    Pb、Mo、W、Znからなる群から選択された少なく
    とも1種の元素γと、周期律表 I b、IIb、IIIb、V
    IIIa族元素から選択された1種の元素δとを含有する
    酸化物をターゲットとして物理蒸着を行い、ペロブスカ
    イト型酸化物または擬似ペロブスカイト型酸化物の薄膜
    を形成することを特徴とする超電導薄膜の作製方法。
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