JPH01298860A - 静電潜像読み取り入力スキャナー - Google Patents
静電潜像読み取り入力スキャナーInfo
- Publication number
- JPH01298860A JPH01298860A JP63129310A JP12931088A JPH01298860A JP H01298860 A JPH01298860 A JP H01298860A JP 63129310 A JP63129310 A JP 63129310A JP 12931088 A JP12931088 A JP 12931088A JP H01298860 A JPH01298860 A JP H01298860A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- charge
- layer
- photoreceptor
- potential
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 claims description 76
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 abstract description 18
- 230000008859 change Effects 0.000 abstract description 11
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract description 7
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 152
- 238000000034 method Methods 0.000 description 78
- 239000010408 film Substances 0.000 description 66
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 49
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 43
- 239000000463 material Substances 0.000 description 35
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 28
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 25
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 23
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 23
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 22
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 22
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 19
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 18
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 17
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 15
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 14
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 14
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 13
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 12
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 11
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 11
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 11
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 10
- -1 silver halide Chemical class 0.000 description 10
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 10
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 8
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 8
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 8
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 8
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 7
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 7
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 7
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 6
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 6
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 6
- 150000007857 hydrazones Chemical class 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 6
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 6
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 235000010582 Pisum sativum Nutrition 0.000 description 5
- 240000004713 Pisum sativum Species 0.000 description 5
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 5
- 238000005421 electrostatic potential Methods 0.000 description 5
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 5
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 5
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 5
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 5
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 5
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 5
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 4
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 4
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 4
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 4
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 4
- FKNIDKXOANSRCS-UHFFFAOYSA-N 2,3,4-trinitrofluoren-1-one Chemical compound C1=CC=C2C3=C([N+](=O)[O-])C([N+]([O-])=O)=C([N+]([O-])=O)C(=O)C3=CC2=C1 FKNIDKXOANSRCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 3
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 238000002591 computed tomography Methods 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 3
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 3
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 3
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N pyrazoline Chemical compound C1CN=NC1 DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- PCCVSPMFGIFTHU-UHFFFAOYSA-N tetracyanoquinodimethane Chemical compound N#CC(C#N)=C1C=CC(=C(C#N)C#N)C=C1 PCCVSPMFGIFTHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QLNFINLXAKOTJB-UHFFFAOYSA-N [As].[Se] Chemical compound [As].[Se] QLNFINLXAKOTJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 2
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 2
- 229920002457 flexible plastic Polymers 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- SJHHDDDGXWOYOE-UHFFFAOYSA-N oxytitamium phthalocyanine Chemical compound [Ti+2]=O.C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 SJHHDDDGXWOYOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 2
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical compound C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 2
- 229940065287 selenium compound Drugs 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 2
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoroethene Chemical group FC=C(F)F MIZLGWKEZAPEFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYUNTGBISCIYPW-UHFFFAOYSA-N 2-chloroprop-2-enenitrile Chemical compound ClC(=C)C#N OYUNTGBISCIYPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCGKJPVUGMBDDS-UHFFFAOYSA-N 3-(6-azabicyclo[3.1.1]hepta-1(7),2,4-triene-6-carbonyl)benzamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC(C(=O)N2C=3C=C2C=CC=3)=C1 YCGKJPVUGMBDDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJYCALFJFALYAH-UHFFFAOYSA-N 4-[[2-chloro-4-[3-chloro-4-[[2-hydroxy-3-(phenylcarbamoyl)naphthalen-1-yl]diazenyl]phenyl]phenyl]diazenyl]-3-hydroxy-N-phenylnaphthalene-2-carboxamide Chemical compound OC1=C(N=NC2=CC=C(C=C2Cl)C2=CC(Cl)=C(C=C2)N=NC2=C(O)C(=CC3=C2C=CC=C3)C(=O)NC2=CC=CC=C2)C2=C(C=CC=C2)C=C1C(=O)NC1=CC=CC=C1 XJYCALFJFALYAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100021394 CST complex subunit CTC1 Human genes 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical group [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000238557 Decapoda Species 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010016275 Fear Diseases 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000894433 Homo sapiens CST complex subunit CTC1 Proteins 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical group [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical group [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000571 Nylon 11 Polymers 0.000 description 1
- 229920003188 Nylon 3 Polymers 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N Stilbene Natural products C=1C=CC=CC=1/C=C/C1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical group [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 229920006311 Urethane elastomer Polymers 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical group [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical class [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical group [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000000988 bone and bone Anatomy 0.000 description 1
- MPFUOCVWJGGDQN-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;1,2-xylene Chemical compound CCCCO.CC1=CC=CC=C1C MPFUOCVWJGGDQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004422 calculation algorithm Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- QPJDMGCKMHUXFD-UHFFFAOYSA-N cyanogen chloride Chemical compound ClC#N QPJDMGCKMHUXFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013480 data collection Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N diethylzinc Chemical compound CC[Zn]CC HQWPLXHWEZZGKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- AXAZMDOAUQTMOW-UHFFFAOYSA-N dimethylzinc Chemical compound C[Zn]C AXAZMDOAUQTMOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N ethene;prop-1-ene Chemical group C=C.CC=C HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229920001973 fluoroelastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N helium neon Chemical compound [He].[Ne] CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002681 hypalon Polymers 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003863 metallic catalyst Substances 0.000 description 1
- LAQFLZHBVPULPL-UHFFFAOYSA-N methyl(phenyl)silicon Chemical compound C[Si]C1=CC=CC=C1 LAQFLZHBVPULPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002828 nitro derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical compound C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001392 phosphorus oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- LFGREXWGYUGZLY-UHFFFAOYSA-N phosphoryl Chemical class [P]=O LFGREXWGYUGZLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920005559 polyacrylic rubber Polymers 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 1
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 1
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 1
- 150000003097 polyterpenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 1
- 229920002717 polyvinylpyridine Polymers 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000941 radioactive substance Substances 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 238000012958 reprocessing Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229920006268 silicone film Polymers 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000010186 staining Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021286 stilbenes Nutrition 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- XSOKHXFFCGXDJZ-UHFFFAOYSA-N telluride(2-) Chemical compound [Te-2] XSOKHXFFCGXDJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical group [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000001018 xanthene dye Substances 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L zinc stearate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は画像を静電的に記録し、任意の時点で静電潜像
を静電的に読み出すことが可能な電荷保持媒体を印刷画
像処理システムの入力スキャナとして用いるようにした
静電潜像読み取り入力スキャナーに関するものである。
を静電的に読み出すことが可能な電荷保持媒体を印刷画
像処理システムの入力スキャナとして用いるようにした
静電潜像読み取り入力スキャナーに関するものである。
従来、原稿走査部で原稿を読み取って色修正やシャープ
ネス等の適当な画像処理を施し、フィルム上へ記録する
手段としてスキャナーが使用されている0例えば、カラ
ースキャナーの場合について説明すると、原稿走査部で
は所与のカラー原稿を光電走査して未修正の赤(R)、
緑(G)、青(B)の3色分解信号を得て、これらの信
号に色修正、調子修正等の各種処理を施し、修正済みの
シアン(C)、マゼンダ(M)、黄(Y)、墨(Bk)
4色分解信号を作り出す演算部がある。
ネス等の適当な画像処理を施し、フィルム上へ記録する
手段としてスキャナーが使用されている0例えば、カラ
ースキャナーの場合について説明すると、原稿走査部で
は所与のカラー原稿を光電走査して未修正の赤(R)、
緑(G)、青(B)の3色分解信号を得て、これらの信
号に色修正、調子修正等の各種処理を施し、修正済みの
シアン(C)、マゼンダ(M)、黄(Y)、墨(Bk)
4色分解信号を作り出す演算部がある。
そして露光記録部では、それらの信号を原稿走査に同期
してフィルムに走査露光を与えて修正済み4色分解画像
を出力として得ることができる。
してフィルムに走査露光を与えて修正済み4色分解画像
を出力として得ることができる。
ところで、従来のスキャナーシステムにおいては、画像
データをコンピュータに取り込めるインターフェースを
介して磁気ディスクに一旦記憶した後、この画像データ
を保存しておく必要性から一旦磁気テープに記憶させて
おき、これを読み出し、再度磁気ディスクに記憶して利
用するようになっており、磁気テープへ記録するための
時間、磁気テープから読み出す時間が非常にかかり、ま
た磁気テープの広い保管場所等が必要であるという問題
があった。また原稿を円筒状の読み取りシリンダーにセ
ントする場合のボジショニング作業が必要となり、また
原稿を所定角度回転させたい場合、正確な回転角度で読
取りシリンダにセットするのが困難であると共に、画像
データの回転をコンピュータ上で演算処理して行なうと
、データ量が膨大であるために多大な処理時間を要する
。
データをコンピュータに取り込めるインターフェースを
介して磁気ディスクに一旦記憶した後、この画像データ
を保存しておく必要性から一旦磁気テープに記憶させて
おき、これを読み出し、再度磁気ディスクに記憶して利
用するようになっており、磁気テープへ記録するための
時間、磁気テープから読み出す時間が非常にかかり、ま
た磁気テープの広い保管場所等が必要であるという問題
があった。また原稿を円筒状の読み取りシリンダーにセ
ントする場合のボジショニング作業が必要となり、また
原稿を所定角度回転させたい場合、正確な回転角度で読
取りシリンダにセットするのが困難であると共に、画像
データの回転をコンピュータ上で演算処理して行なうと
、データ量が膨大であるために多大な処理時間を要する
。
また、色修正、マスキング、シャープネス処理など印刷
製版に必要な処理をコンピュータの演算で行っているた
めに膨大な演算処理の可能な高性能なコンピュータが必
要となり、装置が大掛かりと八って高価格化するという
問題があった。
製版に必要な処理をコンピュータの演算で行っているた
めに膨大な演算処理の可能な高性能なコンピュータが必
要となり、装置が大掛かりと八って高価格化するという
問題があった。
本発明は上記問題点を解決するためのもので、原稿の読
み取り記録のための時間を短縮すると共に、原稿のポジ
シ町ニングを自動化し、色修正、マスクキング、シャー
プネス処理等を光学的に容易に行うことができ、また、
原稿を静電潜像として記録しておくことにより原稿を再
入力する必要があるときに何度ども読み取りが可能であ
ると共に、必要な画像の色調、階調修正が何度でも可能
で、装置をコンパクト化し、安価にすることが可能な静
電層像読み取り入力スキャナーを提供することを目的と
する。
み取り記録のための時間を短縮すると共に、原稿のポジ
シ町ニングを自動化し、色修正、マスクキング、シャー
プネス処理等を光学的に容易に行うことができ、また、
原稿を静電潜像として記録しておくことにより原稿を再
入力する必要があるときに何度ども読み取りが可能であ
ると共に、必要な画像の色調、階調修正が何度でも可能
で、装置をコンパクト化し、安価にすることが可能な静
電層像読み取り入力スキャナーを提供することを目的と
する。
第1図は本発明の電荷保持媒体による記録方法を説明す
るための図で、図中、1は感光体、3は電荷保持媒体、
5は光導電層支持体、7は感光体電極、9は光導電層、
11は絶縁層、13は電荷保持媒体電極、15は絶縁層
支持体、17は電源である。
るための図で、図中、1は感光体、3は電荷保持媒体、
5は光導電層支持体、7は感光体電極、9は光導電層、
11は絶縁層、13は電荷保持媒体電極、15は絶縁層
支持体、17は電源である。
第1図においては、感光体1側から露光を行う態様であ
り、まず1■厚のガラスからなる光導電層支持体5上に
1000人厚のA2Oからなる透明な感光体電極7を形
成し、この上に10μm程度の光導電層9を形成して感
光体1を構成している。この感光体lに対して、10p
n程度の空隙を介して電荷保持媒体3が配置される。電
荷保持媒体3は1龍厚のガラスからなる絶縁層支持体1
5上に1000人厚のA2電極13を蒸着により形成し
、この電極13上に10pm厚の絶縁層11を形成した
ものである。
り、まず1■厚のガラスからなる光導電層支持体5上に
1000人厚のA2Oからなる透明な感光体電極7を形
成し、この上に10μm程度の光導電層9を形成して感
光体1を構成している。この感光体lに対して、10p
n程度の空隙を介して電荷保持媒体3が配置される。電
荷保持媒体3は1龍厚のガラスからなる絶縁層支持体1
5上に1000人厚のA2電極13を蒸着により形成し
、この電極13上に10pm厚の絶縁層11を形成した
ものである。
先ず、第1図(イ)に示すように感光体lに対して、l
Oμm程度の空隙を介して電荷保持媒体3をセットし、
第1図(ロ)に示すように電源17により電極7.13
間に電圧を印加する。暗所であれば光導電層9は高抵抗
体であるため、電極間には何の変化も生じない、感光体
l側より光が入射すると、光が入射した部分の光導電層
9は導電性を示し、絶縁層11との間に放電が生じ、絶
縁層11に電荷が蓄積される。
Oμm程度の空隙を介して電荷保持媒体3をセットし、
第1図(ロ)に示すように電源17により電極7.13
間に電圧を印加する。暗所であれば光導電層9は高抵抗
体であるため、電極間には何の変化も生じない、感光体
l側より光が入射すると、光が入射した部分の光導電層
9は導電性を示し、絶縁層11との間に放電が生じ、絶
縁層11に電荷が蓄積される。
露光が終了したら、第1図(ハ)に示すように電圧をO
FFにし、次いで、第1図(ニ)に示すように電荷保持
媒体3を取り出すことにより静電潜像の形成が終了する
。
FFにし、次いで、第1図(ニ)に示すように電荷保持
媒体3を取り出すことにより静電潜像の形成が終了する
。
なお、感光体1と電荷保持媒体3とは上記のように非接
触でなく接触式でもよく、接触式の場合には、感光体電
極7側から光導電層9の露光部に正または負の電荷が注
入され、この電荷は電荷保持媒体3側の電極13に引か
れて光導電層9を通過し、絶縁層11面に達した所で電
荷移動が停止し、その部位に注入電荷が蓄積される。そ
して、感光体lと電荷保持媒体3とを分離すると、絶縁
層11は電荷を蓄積したままの状態で分離される。
触でなく接触式でもよく、接触式の場合には、感光体電
極7側から光導電層9の露光部に正または負の電荷が注
入され、この電荷は電荷保持媒体3側の電極13に引か
れて光導電層9を通過し、絶縁層11面に達した所で電
荷移動が停止し、その部位に注入電荷が蓄積される。そ
して、感光体lと電荷保持媒体3とを分離すると、絶縁
層11は電荷を蓄積したままの状態で分離される。
この記録方法は面状アナログ記録とした場合、銀塩写真
法と同様に高解像度が得られ、また形成される絶縁il
l上の表面電荷は空気環境に曝されるが、空気は良好な
絶縁性能を持っているので、明所、暗所に関係なく放電
せず長期間保存される。
法と同様に高解像度が得られ、また形成される絶縁il
l上の表面電荷は空気環境に曝されるが、空気は良好な
絶縁性能を持っているので、明所、暗所に関係なく放電
せず長期間保存される。
この絶縁[11上の電荷保存期間は、絶縁体の性質によ
って定まり、空気の絶縁性以外に絶縁体の電荷捕捉特性
が影響する。前述の説明では電荷は表面電荷として説明
しているが、注入電荷は単に表面に蓄積させる場合もあ
り、また微視的には絶縁体表面付近内部に侵入し、その
物質の構造内に電子またはホールがトラップされる場合
もあるので長期間の保存が行われる。また電荷保持媒体
の物理的損傷や湿度が高い場合の放電等を防ぐために絶
縁層11の表面を絶縁性フィルム等で覆って保存するよ
うにしてもよい。
って定まり、空気の絶縁性以外に絶縁体の電荷捕捉特性
が影響する。前述の説明では電荷は表面電荷として説明
しているが、注入電荷は単に表面に蓄積させる場合もあ
り、また微視的には絶縁体表面付近内部に侵入し、その
物質の構造内に電子またはホールがトラップされる場合
もあるので長期間の保存が行われる。また電荷保持媒体
の物理的損傷や湿度が高い場合の放電等を防ぐために絶
縁層11の表面を絶縁性フィルム等で覆って保存するよ
うにしてもよい。
以下、本願発明に用いられる感光体、および電荷保持媒
体の構成材料について説明する。
体の構成材料について説明する。
光導電層支持体5としては、感光体を支持することがで
きるある程度の強度を有していれば、その材質、厚みは
特に制限がなく、例えば可撓性のあるプラスチックフィ
ルム、金属箔、紙、或いは硝子、プラスチックシート、
金属板(電極を兼ねることもできる)等の剛体が使用さ
れる。但し、感光体側から光を入射して情報を記録する
装置に用いられる場合には、当然その光を透過させる特
性が必要となり、例えば自然光を入射光とし、感光体側
から入射するカメラに用いられる場合には、厚み1mm
程度の透明なガラス板、或いはプラスチックのフィルム
、シートが使用される。
きるある程度の強度を有していれば、その材質、厚みは
特に制限がなく、例えば可撓性のあるプラスチックフィ
ルム、金属箔、紙、或いは硝子、プラスチックシート、
金属板(電極を兼ねることもできる)等の剛体が使用さ
れる。但し、感光体側から光を入射して情報を記録する
装置に用いられる場合には、当然その光を透過させる特
性が必要となり、例えば自然光を入射光とし、感光体側
から入射するカメラに用いられる場合には、厚み1mm
程度の透明なガラス板、或いはプラスチックのフィルム
、シートが使用される。
感光体電極7は、光導電層支持体5に金属のものが使用
される場合を除いて光導電層支持体5に形成され、その
材質は比抵抗値が10’Ω・C−以下であれば限定され
なく、無機金属導電膜、無機金属酸化物導電膜等である
。このような感光体電極7は、光導電層支持体5上に、
蒸着、スパッタリング、CVD、コーティング、メツキ
、ディッピング、電解重合等により形成される。またそ
の厚みは、感光体電極7を構成する材質の電気特性、お
よび情報の記録の際の印加電圧により変化させる必要が
あるが、例えばアルミニウムであれば、100〜300
0人程度である。この感光体電極7も先導Ti層支持体
5と同様に、情報光を入射させる必要がある場合には、
上述した光学特性が要求され、例えば情報光が可視光(
400〜700nm)であれば、I T O(Ir+、
0l−5nO1) 、S n Ot等をスパッタリング
、蒸着、またはそれらの微粉末をバインダーと共にイン
キ化してコーティングしたような透明電極や、Au、A
I、Ag、Ni、Cr等を蒸着、またはスパッタリング
で作製する半透明電極、テトラシアノキノジメタン(T
CNQ)、ポリアセチレン等のコーティングによるを機
透明電極等が使用される。
される場合を除いて光導電層支持体5に形成され、その
材質は比抵抗値が10’Ω・C−以下であれば限定され
なく、無機金属導電膜、無機金属酸化物導電膜等である
。このような感光体電極7は、光導電層支持体5上に、
蒸着、スパッタリング、CVD、コーティング、メツキ
、ディッピング、電解重合等により形成される。またそ
の厚みは、感光体電極7を構成する材質の電気特性、お
よび情報の記録の際の印加電圧により変化させる必要が
あるが、例えばアルミニウムであれば、100〜300
0人程度である。この感光体電極7も先導Ti層支持体
5と同様に、情報光を入射させる必要がある場合には、
上述した光学特性が要求され、例えば情報光が可視光(
400〜700nm)であれば、I T O(Ir+、
0l−5nO1) 、S n Ot等をスパッタリング
、蒸着、またはそれらの微粉末をバインダーと共にイン
キ化してコーティングしたような透明電極や、Au、A
I、Ag、Ni、Cr等を蒸着、またはスパッタリング
で作製する半透明電極、テトラシアノキノジメタン(T
CNQ)、ポリアセチレン等のコーティングによるを機
透明電極等が使用される。
また情報光が赤外(700nm以上)光の場合も上記電
極材料が使用できるが、場合によっては可視光をカット
するために、着色された可視光吸収電極も使用できる。
極材料が使用できるが、場合によっては可視光をカット
するために、着色された可視光吸収電極も使用できる。
更に、情報光が紫外(400nm以下)光の場合も、上
記電極材料を基本的には使用できるが、電極基板材料が
紫外光を吸収するもの(有機高分子材料、ソーダガラス
等)は好ましくなく、石英ガラスのような紫外光を透過
する材料が好ましい。
記電極材料を基本的には使用できるが、電極基板材料が
紫外光を吸収するもの(有機高分子材料、ソーダガラス
等)は好ましくなく、石英ガラスのような紫外光を透過
する材料が好ましい。
光導電N9は、光が照射されると照射部分で光キャリア
(電子、正孔)が発生し、それらのキャリアが層幅を移
動することができる導電性層であり、特に電界が存在す
る場合にその効果が顕著である層である。材料は無機光
導電材料、有機光導電材料、有機無機複合型光導電材料
等で構成され以下、これら光導電材料、および光導電層
の形成方法について説明する。
(電子、正孔)が発生し、それらのキャリアが層幅を移
動することができる導電性層であり、特に電界が存在す
る場合にその効果が顕著である層である。材料は無機光
導電材料、有機光導電材料、有機無機複合型光導電材料
等で構成され以下、これら光導電材料、および光導電層
の形成方法について説明する。
(A)無機感光体(光導電体)
無機感光体材料としてはアモルファスシリコン、アモル
ファスセレン、硫化カドミウム、酸化亜鉛等がある。
ファスセレン、硫化カドミウム、酸化亜鉛等がある。
(イ)アモルファスシリコン感光体
アモルファスシリコン感光体としては
■水素化アモルフテスシリコン(a −5i : H)
■フッ素化アモルファスシリコン(a−5i:F)・こ
れらに対して不純物をドーピングしないもの、 ・B、Al5Ga、In、TI等をドーピングによりP
型(ホール輸送型)にしたもの、・PXAg、Sb、B
i等をドーピングによりN型(電子輸送型)にしたも
の、 がある。
■フッ素化アモルファスシリコン(a−5i:F)・こ
れらに対して不純物をドーピングしないもの、 ・B、Al5Ga、In、TI等をドーピングによりP
型(ホール輸送型)にしたもの、・PXAg、Sb、B
i等をドーピングによりN型(電子輸送型)にしたも
の、 がある。
感光体層の形成方法としては、シランガス、不純物ガス
を水素ガスなどと共に低真空中に導入し(104〜I
Torr) 、グロー放電により加熱、或いは加熱しな
い電極基板上に堆積して成膜するか、単に加熱した′r
H,極基板上に熱化学的に反応形成するか、或いは固体
原料を蒸着、スパッター法により成膜し、単層、或いは
積層で使用する。膜厚は1〜50μmである。
を水素ガスなどと共に低真空中に導入し(104〜I
Torr) 、グロー放電により加熱、或いは加熱しな
い電極基板上に堆積して成膜するか、単に加熱した′r
H,極基板上に熱化学的に反応形成するか、或いは固体
原料を蒸着、スパッター法により成膜し、単層、或いは
積層で使用する。膜厚は1〜50μmである。
また、透明電極7から電荷が注入され、露光してないの
にもかかわらず恰も露光したような帯電を防止するため
に、感光体電極7の表面に電荷注入防止層を設けること
ができる。この電荷注入防止層として、電極基板上と感
光体最上層(表面N)の一方或いは両方に、グロー放電
、蒸着、スパッター法等によりa−3iN層、a−5i
C層、5ift層、Affi!03層等の絶縁層を設け
るとよい。この絶縁層を余り厚<シすぎると露光したと
き電流が流れないので、少なくとも1000Å以下とす
る必要があり、作製し易さ等を考慮すると400〜50
0人程度が望ましい。
にもかかわらず恰も露光したような帯電を防止するため
に、感光体電極7の表面に電荷注入防止層を設けること
ができる。この電荷注入防止層として、電極基板上と感
光体最上層(表面N)の一方或いは両方に、グロー放電
、蒸着、スパッター法等によりa−3iN層、a−5i
C層、5ift層、Affi!03層等の絶縁層を設け
るとよい。この絶縁層を余り厚<シすぎると露光したと
き電流が流れないので、少なくとも1000Å以下とす
る必要があり、作製し易さ等を考慮すると400〜50
0人程度が望ましい。
また、電荷注入防止層として、整流効果を利用して電極
基板上に電極基板における極性と逆極性の電荷輸送能を
有する電荷輸送層を設けるとよく、電ltがマイナスの
場合はホール輸送層、電極がプラスの場合は電子輸送層
を設ける。例えば、Siにボロンをドープしたa−3i
: H(n” )は、ホールの輸送特性が上がって整
流効果が得られ、電荷注入防止層として機能する。
基板上に電極基板における極性と逆極性の電荷輸送能を
有する電荷輸送層を設けるとよく、電ltがマイナスの
場合はホール輸送層、電極がプラスの場合は電子輸送層
を設ける。例えば、Siにボロンをドープしたa−3i
: H(n” )は、ホールの輸送特性が上がって整
流効果が得られ、電荷注入防止層として機能する。
(ロ)アモルファスセレン感光体
アモルファスセレン感光体としては、
■アモルファスセレン(a−3e)
■アモルファスセレンテルル(a −3s−Te)■ア
モルファスひ素セレン化合物(a −AS!5O3)■
アモルファスひ素セレン化合物+ T eがある。
モルファスひ素セレン化合物(a −AS!5O3)■
アモルファスひ素セレン化合物+ T eがある。
この感光体は蒸着、スパッター法により作製し、また電
荷注入阻止層として5iO1A lx’s 、5iC1
SiN層を蒸着、スパッター、グロー放電法等により電
極基板上に設けられる。また上記■〜■を組み合わせ、
積層型感光体としてもよい。感光体層の膜厚はアモルフ
ァスシリコン感光体と同様である。
荷注入阻止層として5iO1A lx’s 、5iC1
SiN層を蒸着、スパッター、グロー放電法等により電
極基板上に設けられる。また上記■〜■を組み合わせ、
積層型感光体としてもよい。感光体層の膜厚はアモルフ
ァスシリコン感光体と同様である。
(ハ)硫化カドミウム(CdS)
この感光体は、コーティング、蒸着、スパッタリング法
により作製する。蒸着の場合はCdSの固体粒をタング
ステンボードにのせ、抵抗加熱により蒸着するか、EB
(エレクトロンビーム)蒸着により行う。またスバ・ツ
タリングの場合はCdSターゲットを用いてアルゴンプ
ラズマ中で基板上に堆積させる。この場合、通常はアモ
ルファス状態でCdSが堆積されるが、スパッタリング
条件を選択することにより結晶性の配向膜(膜厚方向に
配向)を得ることもできる。コーティングの場合は、C
dS粒子(粒径1〜lOOμm)をバインダー中に分散
させ、溶媒を添加して基板上にコーティングするとよい
、。
により作製する。蒸着の場合はCdSの固体粒をタング
ステンボードにのせ、抵抗加熱により蒸着するか、EB
(エレクトロンビーム)蒸着により行う。またスバ・ツ
タリングの場合はCdSターゲットを用いてアルゴンプ
ラズマ中で基板上に堆積させる。この場合、通常はアモ
ルファス状態でCdSが堆積されるが、スパッタリング
条件を選択することにより結晶性の配向膜(膜厚方向に
配向)を得ることもできる。コーティングの場合は、C
dS粒子(粒径1〜lOOμm)をバインダー中に分散
させ、溶媒を添加して基板上にコーティングするとよい
、。
(ニ)酸化亜鉛(Zn O)
この感光体はコーティング法、或いはCVD法で作製さ
れる。コーティング法としては、ZnS粒子(粒径1〜
100μm)をバインダー中に分ntさせ、溶媒を添加
して基板上にコーティングを行って得られる。またCV
D法としては、ジエチル亜鉛、ジメチル亜鉛等の有機金
属と酸素ガスを低真空中(10−”〜I Tart)で
混合し、加熱した電極基板(150〜400°C)上で
化学反応させ、酸化亜鉛膜として堆積させる。この場合
も膜厚方向に配向した膜が得られる。
れる。コーティング法としては、ZnS粒子(粒径1〜
100μm)をバインダー中に分ntさせ、溶媒を添加
して基板上にコーティングを行って得られる。またCV
D法としては、ジエチル亜鉛、ジメチル亜鉛等の有機金
属と酸素ガスを低真空中(10−”〜I Tart)で
混合し、加熱した電極基板(150〜400°C)上で
化学反応させ、酸化亜鉛膜として堆積させる。この場合
も膜厚方向に配向した膜が得られる。
(B)有機感光体
有機感光体としては、単層系感光体、機能分離型感光体
とがある。
とがある。
(イ)単層系感光体
単層系感光体は電荷発生物質と電荷輸送物質の混合物か
らなっている。
らなっている。
く電荷発生物質系〉
光を吸収して電荷を生じ易い物質であり、例えば、アゾ
系顔料、ジスアゾ系顔料、トリスアゾ系顔料、フタロシ
アニン系顔料、ペリレン系顔料、ピリリウム染料系、シ
アニン染料系、メチン染料系が使用される。
系顔料、ジスアゾ系顔料、トリスアゾ系顔料、フタロシ
アニン系顔料、ペリレン系顔料、ピリリウム染料系、シ
アニン染料系、メチン染料系が使用される。
〈電荷輸送物質系〉
電離した電荷の輸送特性がよい物質であり、例えばヒド
ラゾン系、ピラゾリン系、ポリビニルカルバゾール系、
カルバゾール系、スチルヘン系、アントラセン系、ナフ
タレン系、トリジフェニルメタン系、アジン系、アミン
系、芳香族アミン系等がある。
ラゾン系、ピラゾリン系、ポリビニルカルバゾール系、
カルバゾール系、スチルヘン系、アントラセン系、ナフ
タレン系、トリジフェニルメタン系、アジン系、アミン
系、芳香族アミン系等がある。
また、電荷発生系物質と電荷輸送系物質により錯体を形
成させ、電荷移動錯体としてもよい。
成させ、電荷移動錯体としてもよい。
通常、感光体は電荷発生物質の光吸収特性で決まる感光
特性を有するが、電荷発生物質と電荷輸送物質とを混ぜ
て錯体をつくると、光吸収特性が変わり、例えばポリビ
ニルカルバゾール(PVK)は紫外域でしか感ぜず、ト
リニトロフルオレノン(TNF)は400 nm波長近
傍しか感じないが、PVK−TNF錯体は650nm波
長域まで感じるようになる。
特性を有するが、電荷発生物質と電荷輸送物質とを混ぜ
て錯体をつくると、光吸収特性が変わり、例えばポリビ
ニルカルバゾール(PVK)は紫外域でしか感ぜず、ト
リニトロフルオレノン(TNF)は400 nm波長近
傍しか感じないが、PVK−TNF錯体は650nm波
長域まで感じるようになる。
このような単層系感光体の膜厚は、10〜50μmが好
ましい。
ましい。
(ロ)機能分離型感光体
電荷発生物質は光を吸収し易いが、電荷をトラップする
性質があり、電荷輸送物質は電荷の輸送特性はよいが、
光吸収特性はよくない、そのため両者を分離し、それぞ
れの特性を十分に発揮させようとするものであり、電荷
発生層と電荷輸送層を積層したタイプである。
性質があり、電荷輸送物質は電荷の輸送特性はよいが、
光吸収特性はよくない、そのため両者を分離し、それぞ
れの特性を十分に発揮させようとするものであり、電荷
発生層と電荷輸送層を積層したタイプである。
く電荷発生層)
電荷発生層を形成する物質としては、例えばアゾ系、ジ
スアゾ系、トリスアゾ系、フタロシアニン系、酸性ザン
セン染料系、シアニン系、スチリル色素系、ピリリウム
色素系、ペリレン系、メチン系、a−3e 、 a−5
i 、アズレニウム塩系、スクアリウム塩基等がある。
スアゾ系、トリスアゾ系、フタロシアニン系、酸性ザン
セン染料系、シアニン系、スチリル色素系、ピリリウム
色素系、ペリレン系、メチン系、a−3e 、 a−5
i 、アズレニウム塩系、スクアリウム塩基等がある。
〈電荷輸送層〉
電荷輸送層を形成する物質としては、例えばヒドラゾン
系、ピラゾリン系、PVK系、カルバゾール系、オキサ
ゾール系、トリアゾール系、芳香族アミン系、アミン系
、トリフェニルメタン系、多環芳香族化合物系等がある
。
系、ピラゾリン系、PVK系、カルバゾール系、オキサ
ゾール系、トリアゾール系、芳香族アミン系、アミン系
、トリフェニルメタン系、多環芳香族化合物系等がある
。
機能分離型感光体の作製方法としては、まず電荷発生物
質を溶剤に溶かして、電極上に塗布し、次に電荷輸送層
を溶剤に溶かして電荷輸送層に塗布し、電荷発生層を0
.1〜10μm、電荷輸送層を10〜50μmの膜厚と
するとよい。
質を溶剤に溶かして、電極上に塗布し、次に電荷輸送層
を溶剤に溶かして電荷輸送層に塗布し、電荷発生層を0
.1〜10μm、電荷輸送層を10〜50μmの膜厚と
するとよい。
なお、単層系感光体、機能分離型感光体の何れの場合に
も、バインダーとしてシリコーン樹脂、スチレン−ブタ
ジェン共重合体樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、飽
和又は不飽和ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂
、ポリビニルアセクール樹脂、フェノール樹脂、ポリメ
チルメタアクリレート(PMMA)樹脂、メラミン樹脂
、ポリイミド樹脂等を電荷発生材料と電荷輸送材料名1
部に対し、0.1〜10部添加して付着し易いようにす
る。コーティング法としては、ディッピング法、蒸着法
、スパッター法等を使用することができる。
も、バインダーとしてシリコーン樹脂、スチレン−ブタ
ジェン共重合体樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、飽
和又は不飽和ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂
、ポリビニルアセクール樹脂、フェノール樹脂、ポリメ
チルメタアクリレート(PMMA)樹脂、メラミン樹脂
、ポリイミド樹脂等を電荷発生材料と電荷輸送材料名1
部に対し、0.1〜10部添加して付着し易いようにす
る。コーティング法としては、ディッピング法、蒸着法
、スパッター法等を使用することができる。
次ぎに、電荷注入防止層について詳述する。
電荷注入防止層は、光導電層9の両表面の少なくとも一
方か、両方の面に、光導電N9の電圧印加時の暗電流(
電極からの電荷注入)、すなわち露光していないにもか
かわらず恰も露光したように感光層中を電荷が移動する
現象を防止するために設けることができるものである。
方か、両方の面に、光導電N9の電圧印加時の暗電流(
電極からの電荷注入)、すなわち露光していないにもか
かわらず恰も露光したように感光層中を電荷が移動する
現象を防止するために設けることができるものである。
この電荷注入防止層は、いわゆるトンネリング効果を利
用した層と整流効果を利用した層との二種類のものがあ
る。まず、いわゆるトンネリング効果を利用したものは
、電圧印加のみではこの電荷注入防止層により、光導電
層、あるいは絶縁層表面まで電流が流れないが、光を入
射した場合には、入射部分に相当する電荷注入防止層に
は光導電層で発生した電荷の一方(電子、またはホール
)が存在するため高電界が加わり、トンネル効果を起こ
して、電荷注入防止層を通過して電流が流れるものであ
る。このような電荷注入防止層は無機絶縁性膜、有機絶
縁性高分子膜、絶縁性単分子膜等の単層、あるいはこれ
らを積層して形成され、無機絶縁性膜としては、例えば
As5es 、 Bias、BizOi 、CdS s
CaO、Cent、Crabs 、CoO、Ge01
、HfO,、Fears 、Lat03 、MgO%
Mn01、Nd1Oz 、NbzOs 、PbO,5b
zOs 、Sing、 5eOx、TazOSs Ti
0z、WO2、V!05S’lx’s、YgOs、Zr
O2、BaTi0z、A1.O。
用した層と整流効果を利用した層との二種類のものがあ
る。まず、いわゆるトンネリング効果を利用したものは
、電圧印加のみではこの電荷注入防止層により、光導電
層、あるいは絶縁層表面まで電流が流れないが、光を入
射した場合には、入射部分に相当する電荷注入防止層に
は光導電層で発生した電荷の一方(電子、またはホール
)が存在するため高電界が加わり、トンネル効果を起こ
して、電荷注入防止層を通過して電流が流れるものであ
る。このような電荷注入防止層は無機絶縁性膜、有機絶
縁性高分子膜、絶縁性単分子膜等の単層、あるいはこれ
らを積層して形成され、無機絶縁性膜としては、例えば
As5es 、 Bias、BizOi 、CdS s
CaO、Cent、Crabs 、CoO、Ge01
、HfO,、Fears 、Lat03 、MgO%
Mn01、Nd1Oz 、NbzOs 、PbO,5b
zOs 、Sing、 5eOx、TazOSs Ti
0z、WO2、V!05S’lx’s、YgOs、Zr
O2、BaTi0z、A1.O。
、旧zTiOs 5CaO−3rO、Ca0−Y、O,
、Cr−5iO1LiTa03、 PbTiOs、 P
bZrO3、Zr0z−Co 、、 ZrO2−3i
02 、 八1N 、BN、NbN 、5isL
、TaN S TiN 、VN、ZrN 。
、Cr−5iO1LiTa03、 PbTiOs、 P
bZrO3、Zr0z−Co 、、 ZrO2−3i
02 、 八1N 、BN、NbN 、5isL
、TaN S TiN 、VN、ZrN 。
SiC、Tic 、札、A1.C,等をグロー放電、蒸
着、スパッタリング等により形成される。尚、この層の
膜厚は電荷の注入を防止する絶縁性と、トンネル効果の
点を考慮して使用される材質ごとに決められる0次ぎに
整流効果を利用した電荷注入防止層は、整流効果を利用
して電極基板の極性と逆極性の電荷輸送能を有する電荷
輸送層を設ける。即ち、このような電荷注入防止層は無
機光導電層、有機光導電層、有機無機複合型光導1tN
で形成され、その膜厚は0.1〜10μm程度である。
着、スパッタリング等により形成される。尚、この層の
膜厚は電荷の注入を防止する絶縁性と、トンネル効果の
点を考慮して使用される材質ごとに決められる0次ぎに
整流効果を利用した電荷注入防止層は、整流効果を利用
して電極基板の極性と逆極性の電荷輸送能を有する電荷
輸送層を設ける。即ち、このような電荷注入防止層は無
機光導電層、有機光導電層、有機無機複合型光導1tN
で形成され、その膜厚は0.1〜10μm程度である。
具体的には、電極がマイナスの場合はB、A1.、Ga
、In等をドープしたアモルファスシリコン光導電層、
アモルファスセレン、またはオキサジアゾール、ピラゾ
リン、ポリビニルカルバゾール、スチルベン、アントラ
セン、ナフタレン、トリジフェニルメタン、トリフェニ
ルメタン、アジン、アミン、芳香族アミン等を樹脂中に
分散して形成した有機光導電層、電極がプラスの場合は
、P、N、As、Sb、B i等をドープしたアモルフ
ァスシリコン光導電層、ZnO光導電層等をグロー放電
、蒸着、スパッタリング、CVD、コーティング等の方
法により形成される。
、In等をドープしたアモルファスシリコン光導電層、
アモルファスセレン、またはオキサジアゾール、ピラゾ
リン、ポリビニルカルバゾール、スチルベン、アントラ
セン、ナフタレン、トリジフェニルメタン、トリフェニ
ルメタン、アジン、アミン、芳香族アミン等を樹脂中に
分散して形成した有機光導電層、電極がプラスの場合は
、P、N、As、Sb、B i等をドープしたアモルフ
ァスシリコン光導電層、ZnO光導電層等をグロー放電
、蒸着、スパッタリング、CVD、コーティング等の方
法により形成される。
次ぎに、電荷保持媒体材料、および電荷保持媒体の作製
方法について説明する。
方法について説明する。
電荷保持媒体3は感光体1と共に用いられて、電荷保持
媒体3を構成する絶縁層11の表面、もしくはその内部
に情報を静電荷の分布として記録するものであるから、
電荷保持媒体自体が記録媒体として使用されるものであ
る。従って記録される情報、あるいは記録の方法により
この電荷保持媒体の形状は種々の形状をとることができ
る。例えば静電カメラ(同一出願人による同日出願)に
用いられる場合には、一般のフィルム(単コマ、連続コ
マ用)形状、あるいはディスク状となり、レーザー等に
よりデジタル情報、またはアナログ情報を記録する場合
には、テープ形状、ディスク形状、或いはは−ド形状と
なる。
媒体3を構成する絶縁層11の表面、もしくはその内部
に情報を静電荷の分布として記録するものであるから、
電荷保持媒体自体が記録媒体として使用されるものであ
る。従って記録される情報、あるいは記録の方法により
この電荷保持媒体の形状は種々の形状をとることができ
る。例えば静電カメラ(同一出願人による同日出願)に
用いられる場合には、一般のフィルム(単コマ、連続コ
マ用)形状、あるいはディスク状となり、レーザー等に
よりデジタル情報、またはアナログ情報を記録する場合
には、テープ形状、ディスク形状、或いはは−ド形状と
なる。
絶縁層支持体15は、上記のような電荷保持媒体3を強
度的に支持するものであるが、基本的には光導電層支持
体5と同様な材質で構成され、光透過性も同様に要求さ
れる場合がある。具体的には、電荷保持媒体3がフレキ
シブルなフィルム、テープ、ディスク形状をとる場合に
は、フレキシブル性のあるプラスチックフィルムが使用
され、強度が要求される場合には剛性のあるシート、ガ
ラス等の無機材料等が使用される。
度的に支持するものであるが、基本的には光導電層支持
体5と同様な材質で構成され、光透過性も同様に要求さ
れる場合がある。具体的には、電荷保持媒体3がフレキ
シブルなフィルム、テープ、ディスク形状をとる場合に
は、フレキシブル性のあるプラスチックフィルムが使用
され、強度が要求される場合には剛性のあるシート、ガ
ラス等の無機材料等が使用される。
電荷保持媒体電極13は、基本的には感光体電極7と同
じでよく、上述した感光体電極7と同様の形成方法によ
って、絶縁層支持体15上に形成される。
じでよく、上述した感光体電極7と同様の形成方法によ
って、絶縁層支持体15上に形成される。
絶縁層11は、その表面、もしくはその内部に情報を静
電荷の分布として記録するものであるから、電荷の移動
を抑えるため高絶縁性が必要であり、比抵抗でIQI4
Ω・cm以上の絶縁性を有することが要求される。この
ような絶縁N11は、樹脂、ゴム類を溶剤に溶解させ、
コーティング、ディッピングするか、または蒸着、スパ
ッタリング法により層形成させることができる。
電荷の分布として記録するものであるから、電荷の移動
を抑えるため高絶縁性が必要であり、比抵抗でIQI4
Ω・cm以上の絶縁性を有することが要求される。この
ような絶縁N11は、樹脂、ゴム類を溶剤に溶解させ、
コーティング、ディッピングするか、または蒸着、スパ
ッタリング法により層形成させることができる。
ここで、上記樹脂、ゴムとしては、例えばポリエチレン
、ポリプロピレン、ビニル樹脂、スチロール樹脂、アク
リル樹脂、ナイロン66、ナイロン6、ポリカーボネー
トアセタールホモポリマー、弗素樹脂、セルロース樹脂
、フェノール樹脂。
、ポリプロピレン、ビニル樹脂、スチロール樹脂、アク
リル樹脂、ナイロン66、ナイロン6、ポリカーボネー
トアセタールホモポリマー、弗素樹脂、セルロース樹脂
、フェノール樹脂。
ユリア樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂。
可撓性エポキシ樹脂、メラミン樹脂、シリコン樹脂、フ
ェノオキシ樹脂、芳香族ポリイミド、PPO,ポリスル
ホン等、またポリイソプレン、ポリブタジェン、ポリク
ロロプレン、イソブチレン。
ェノオキシ樹脂、芳香族ポリイミド、PPO,ポリスル
ホン等、またポリイソプレン、ポリブタジェン、ポリク
ロロプレン、イソブチレン。
極高ニトリル、ポリアクリルゴム、クロロスルホン化ポ
リエチレン、エチレン・プロピレンラバー。
リエチレン、エチレン・プロピレンラバー。
弗素ゴム、シリコンラバー、多硫化系合成ゴム。
ウレタンゴム等のゴムの単体、あるいは混合物が使用さ
れる。
れる。
またシリコンフィルム、ポリエステルフィルム、ポリイ
ミドフィルム、含弗素フィルム、ポリエチレンフィルム
、ポリプロピレンフィルム、ポリパラバン酸フィルム、
ポリカーボネートフィルム、ポリアミドフィルム等を電
荷保持媒体電極13上に接着剤等を介して貼着すること
により層形成させるか、あるいは熱可塑性樹脂、熱硬化
性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、ゴム等
に必要な硬化剤、溶剤等を添加してコーティング、ディ
ッピングすることにより層形成してもよい。
ミドフィルム、含弗素フィルム、ポリエチレンフィルム
、ポリプロピレンフィルム、ポリパラバン酸フィルム、
ポリカーボネートフィルム、ポリアミドフィルム等を電
荷保持媒体電極13上に接着剤等を介して貼着すること
により層形成させるか、あるいは熱可塑性樹脂、熱硬化
性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、ゴム等
に必要な硬化剤、溶剤等を添加してコーティング、ディ
ッピングすることにより層形成してもよい。
また絶縁tillとして、ラングミュア−・プロシェド
法により形成される単分子膜、または単分子累積膜も使
用することができる。
法により形成される単分子膜、または単分子累積膜も使
用することができる。
またこれら絶縁層11には、電極面との間、または絶縁
Fill上に電荷保持強化層を設けることができる。電
荷保持強化層とは、強電界(104V / c m以上
)が印加された時には電荷が注入するが、低電界(10
’V/cm以下)では電荷が注入しない層のことをいう
、電荷保持強化層としては、例えばStO,、A1g0
3 、SiC、SiN等が使用でき、有機系物質として
は例えばポリエチレン蒸着膜、ポリバラキシレン蒸着膜
が使用できる。
Fill上に電荷保持強化層を設けることができる。電
荷保持強化層とは、強電界(104V / c m以上
)が印加された時には電荷が注入するが、低電界(10
’V/cm以下)では電荷が注入しない層のことをいう
、電荷保持強化層としては、例えばStO,、A1g0
3 、SiC、SiN等が使用でき、有機系物質として
は例えばポリエチレン蒸着膜、ポリバラキシレン蒸着膜
が使用できる。
また静電荷をより安定に保持させるために、絶縁層11
に、電子供与性を有する物質(ドナー材料)、あるいは
電子受容性を有する物1t(アクセプター材料)を添加
するとよい。ドナー材料としてはスチレン系、ピレン系
、ナフタレン系、アントラセン系、ピリジン系、アジン
系化合物があり、具体的にはテトラチオフルバレン(T
TF)、ポリビニルピリジン、ポリビニルナフタレン、
ポリビニルアントラセン、ボリアジン、ポリビニルピレ
ン、ポリスチレン等が使用され、一種、または混合して
用いられる。またアクセプター材料としてはハロゲン化
合物、シアン化合物、ニトロ化合物等があり、具体的に
はテトラシアノキノジメタン(TCNQ))リニトロフ
ルオレノン(TNF)等が使用され、一種、または混合
して使用される。ドナー材料、アクセプター材料は、樹
脂等に対して0.001〜10%程度添加して使用され
る。
に、電子供与性を有する物質(ドナー材料)、あるいは
電子受容性を有する物1t(アクセプター材料)を添加
するとよい。ドナー材料としてはスチレン系、ピレン系
、ナフタレン系、アントラセン系、ピリジン系、アジン
系化合物があり、具体的にはテトラチオフルバレン(T
TF)、ポリビニルピリジン、ポリビニルナフタレン、
ポリビニルアントラセン、ボリアジン、ポリビニルピレ
ン、ポリスチレン等が使用され、一種、または混合して
用いられる。またアクセプター材料としてはハロゲン化
合物、シアン化合物、ニトロ化合物等があり、具体的に
はテトラシアノキノジメタン(TCNQ))リニトロフ
ルオレノン(TNF)等が使用され、一種、または混合
して使用される。ドナー材料、アクセプター材料は、樹
脂等に対して0.001〜10%程度添加して使用され
る。
さらに電荷を安定に保持させるために、電荷保持媒体中
に元素単体微粒子を添加することができる。元素単体と
しては周期律表第1A族(アルカリ金[)、同IB族(
w4族)、同11A族(アルカリ土類金W1.)、同I
IB族(亜鉛族)、同mA族(アルミニウム族)、同1
[[B族(希土類)、同■B族(チタン族)、同VB族
(バナジウム族)、同VIB族(クロム族)、同■B族
(マンガン族)、同■族(鉄族、白金族)、また同IV
A族(炭素族)としては珪素、ゲルマニウム、錫、鉛、
同VA族(窒素族)としてはアンチモン、ビスマス、同
VIA族(M素族)としては硫黄、セレン、テルルが微
細粉状で使用される。また上記元素単体のうち金属類は
金属イオン、微細粉状の合金、有機金属、錯体の形態と
しても使用することができる。
に元素単体微粒子を添加することができる。元素単体と
しては周期律表第1A族(アルカリ金[)、同IB族(
w4族)、同11A族(アルカリ土類金W1.)、同I
IB族(亜鉛族)、同mA族(アルミニウム族)、同1
[[B族(希土類)、同■B族(チタン族)、同VB族
(バナジウム族)、同VIB族(クロム族)、同■B族
(マンガン族)、同■族(鉄族、白金族)、また同IV
A族(炭素族)としては珪素、ゲルマニウム、錫、鉛、
同VA族(窒素族)としてはアンチモン、ビスマス、同
VIA族(M素族)としては硫黄、セレン、テルルが微
細粉状で使用される。また上記元素単体のうち金属類は
金属イオン、微細粉状の合金、有機金属、錯体の形態と
しても使用することができる。
更に上記元素単体は酸化物、燐酸化物、硫酸化物、ハロ
ゲン化物の形態で使用することができる。これらの添加
物は、上述した樹脂、ゴム等の電荷保持媒体にごく僅か
添加すればよく、添加量は電荷保持媒体に対して0.0
1〜10重量%程度でよい、また絶縁層11は、絶縁性
の点からは少なくても1000人(0,1μm)以上の
厚みが必要であり、フレキシビル性の点からは100μ
m以下が好ましい。
ゲン化物の形態で使用することができる。これらの添加
物は、上述した樹脂、ゴム等の電荷保持媒体にごく僅か
添加すればよく、添加量は電荷保持媒体に対して0.0
1〜10重量%程度でよい、また絶縁層11は、絶縁性
の点からは少なくても1000人(0,1μm)以上の
厚みが必要であり、フレキシビル性の点からは100μ
m以下が好ましい。
このようにして形成される絶縁層11は、破損、または
その表面の情報電荷の放電を防止するために、その表面
に保護膜を設けることができる。保護膜としては粘着性
を有するシリコンゴム等のゴム類、ポリテルペン樹脂等
の樹脂類をフィルム状にし、絶縁層11の表面に貼着す
るか、またプラスチックフィルムをシリコンオイル等の
密着剤を使用して貼着するとよく、比抵抗10I4Ω・
cm以上のものであればよく、膜厚は0.5〜30μm
程度であり、絶縁層11の情報を高解像度とする必要が
ある場合には保護膜は薄い程よい、この保護層は、情報
再生時には保i膜上から情報を再生してもよく、また保
護膜を剥離して絶縁層の情報を再生することもできる。
その表面の情報電荷の放電を防止するために、その表面
に保護膜を設けることができる。保護膜としては粘着性
を有するシリコンゴム等のゴム類、ポリテルペン樹脂等
の樹脂類をフィルム状にし、絶縁層11の表面に貼着す
るか、またプラスチックフィルムをシリコンオイル等の
密着剤を使用して貼着するとよく、比抵抗10I4Ω・
cm以上のものであればよく、膜厚は0.5〜30μm
程度であり、絶縁層11の情報を高解像度とする必要が
ある場合には保護膜は薄い程よい、この保護層は、情報
再生時には保i膜上から情報を再生してもよく、また保
護膜を剥離して絶縁層の情報を再生することもできる。
静電荷保持の方法としては、前述したような表面電荷を
蓄積するいわゆる自由電荷保持方法以外に絶縁媒体内部
に電荷の分布、分極を生じさせるニレクレットがある。
蓄積するいわゆる自由電荷保持方法以外に絶縁媒体内部
に電荷の分布、分極を生じさせるニレクレットがある。
第2図は光エレクトレットを用いた静電荷保持方法を示
す図で、第1図と同一番号は同一内容を示している。な
お、図中、19は透明電極である。
す図で、第1図と同一番号は同一内容を示している。な
お、図中、19は透明電極である。
第2図(イ)に示すようにフィルム等の支持体15上に
電極13を形成し、電極板上にZnS。
電極13を形成し、電極板上にZnS。
CdS、ZnOを、蒸着スパッター、CVD、コーティ
ング法等で1層1〜5μm形成する。そしてこの感光層
表面に透明電極19を接触あるいは非接触で重ね、電圧
印加状態で露光すると(第2図(ロ))、露光部で光に
よって電荷が発生し、電場によって分極し、電荷は電場
を取り去ってもその位置にトラップされる(第2図(ハ
))、こうして、露光量に応じたエレクトレットが得ら
れる。なお、第2図の電荷保持媒体の場合は別体の感光
体を必要としない利点がある。
ング法等で1層1〜5μm形成する。そしてこの感光層
表面に透明電極19を接触あるいは非接触で重ね、電圧
印加状態で露光すると(第2図(ロ))、露光部で光に
よって電荷が発生し、電場によって分極し、電荷は電場
を取り去ってもその位置にトラップされる(第2図(ハ
))、こうして、露光量に応じたエレクトレットが得ら
れる。なお、第2図の電荷保持媒体の場合は別体の感光
体を必要としない利点がある。
第3図は熱ニレクレットを用いた静電荷保持方法を示す
図で、第1図と同一番号は同一内容である。
図で、第1図と同一番号は同一内容である。
熱エレクトレツト材料としては、例えばポリ弗化ビニ’
)デフ (PVDF)、ポリ(VDF/三フッ化エチレ
ン)、ポリ(VDF/四フッ化エチレン)、ポリフッ化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン。
)デフ (PVDF)、ポリ(VDF/三フッ化エチレ
ン)、ポリ(VDF/四フッ化エチレン)、ポリフッ化
ビニル、ポリ塩化ビニリデン。
ポリアクリロニトリル、ポリ−α−クロロアクリロニト
リル、ポリ(アクリロニトリル/塩化ビニル)、ポリア
ミド11.ポリアミド3.ポリ−m−フェニレンイソフ
タルアミド、ポリカーボネートポリ(ビニリデンシアナ
イド酢酸ビニル)。
リル、ポリ(アクリロニトリル/塩化ビニル)、ポリア
ミド11.ポリアミド3.ポリ−m−フェニレンイソフ
タルアミド、ポリカーボネートポリ(ビニリデンシアナ
イド酢酸ビニル)。
PVDF/PZT複合体等からなり、これを電極基板1
3上に1〜50μm単層で設けるかあるいは2種類以上
のものを積層する。
3上に1〜50μm単層で設けるかあるいは2種類以上
のものを積層する。
そして露光前に抵抗加熱等で上記媒体材料のガラス転移
以上に媒体を加熱しておき、その状態で電圧印加露光を
行う(第3図(ロ))、高温ではイオンの移動度が大き
くなっており、露光部では絶縁層に高電界が加わり、熱
的に活性化されたイオンの内、負電荷は正電極に、正電
荷は負電極に集まって空間電荷を形成し、分極を生じる
。その後、媒体を冷却すると、発生した電荷は電場を取
り去ってもその位置にトラップされ露光量に応じたエレ
クトレフトを生じる(第3図(ハ))。
以上に媒体を加熱しておき、その状態で電圧印加露光を
行う(第3図(ロ))、高温ではイオンの移動度が大き
くなっており、露光部では絶縁層に高電界が加わり、熱
的に活性化されたイオンの内、負電荷は正電極に、正電
荷は負電極に集まって空間電荷を形成し、分極を生じる
。その後、媒体を冷却すると、発生した電荷は電場を取
り去ってもその位置にトラップされ露光量に応じたエレ
クトレフトを生じる(第3図(ハ))。
次ぎに、絶縁層11に情報を入力する方法の例として、
高解像度静電カメラによる方法、レーザーによる記録方
法について説明する。
高解像度静電カメラによる方法、レーザーによる記録方
法について説明する。
まず高解像度静電カメラによる方法は、通常のカメラに
使用されている写真フィルムの代わりに、前面に感光体
電極7を設けた光導電層9からなる感光体1と、感光体
1に対向し、後面に電荷保持媒体電極13を設けた絶縁
層11からなる電荷保持媒体とにより記録部材を構成し
、画電極へ電圧を印加し、入射光に応じて光導電層を導
電性として入射光量に応じて絶縁層上に電荷を蓄積させ
ることにより入射光学像の静電潜像を電荷蓄積媒体上に
形成するもので、機械的なシャッタも使用しうるし、ま
た電気的なシャッタも使用しうるちのであり、また静電
潜像は明所、暗所に関係なく長期間保持することが可能
である。またプリズムにより光情報を、R,G、B光成
分に分離し、平行光として取り出すカラーフィルターを
使用し、RlG、B分解した電荷保持媒体3セツトで1
コマを形成するか、または1平面上にR,G、、B像を
並べて1セツトで1コマとすることにより、カラー撮影
することもできる。
使用されている写真フィルムの代わりに、前面に感光体
電極7を設けた光導電層9からなる感光体1と、感光体
1に対向し、後面に電荷保持媒体電極13を設けた絶縁
層11からなる電荷保持媒体とにより記録部材を構成し
、画電極へ電圧を印加し、入射光に応じて光導電層を導
電性として入射光量に応じて絶縁層上に電荷を蓄積させ
ることにより入射光学像の静電潜像を電荷蓄積媒体上に
形成するもので、機械的なシャッタも使用しうるし、ま
た電気的なシャッタも使用しうるちのであり、また静電
潜像は明所、暗所に関係なく長期間保持することが可能
である。またプリズムにより光情報を、R,G、B光成
分に分離し、平行光として取り出すカラーフィルターを
使用し、RlG、B分解した電荷保持媒体3セツトで1
コマを形成するか、または1平面上にR,G、、B像を
並べて1セツトで1コマとすることにより、カラー撮影
することもできる。
またレーザーによる記録方法としては、光源としてはア
ルゴンレーザー(514,488nm)、ヘリウム−ネ
オンレーザ−(633nm)、半導体レーザー(780
nm、810nm等)が使用でき、感光体と電荷保持媒
体を面状で表面同志を、密着させるか、一定の間隔をお
いて対向させ、電圧印加する。この場合感光体のキャリ
アの極性と同じ極性に感光体電極をセットするとよい、
この状態で画像信号、文字信号、コード信号、線画信号
に対応したレーザー露光をスキャニングにより行うもの
である0画像のようなアナログ的な記録は、レーザーの
光強度を変調して行い、文字、コード、線画のようなデ
ジタル的な記録は、レーザー光の0N−OFF@御によ
り行う、また画像において網点形成されるものには、レ
ーザー光にドツトジェネレーター0N−OFF制御をか
けて形成するものである。尚、感光体における先導74
層の分光特性は、パンクロマティックである必要はなく
、レーザー光源の波長に感度を有していればよい。
ルゴンレーザー(514,488nm)、ヘリウム−ネ
オンレーザ−(633nm)、半導体レーザー(780
nm、810nm等)が使用でき、感光体と電荷保持媒
体を面状で表面同志を、密着させるか、一定の間隔をお
いて対向させ、電圧印加する。この場合感光体のキャリ
アの極性と同じ極性に感光体電極をセットするとよい、
この状態で画像信号、文字信号、コード信号、線画信号
に対応したレーザー露光をスキャニングにより行うもの
である0画像のようなアナログ的な記録は、レーザーの
光強度を変調して行い、文字、コード、線画のようなデ
ジタル的な記録は、レーザー光の0N−OFF@御によ
り行う、また画像において網点形成されるものには、レ
ーザー光にドツトジェネレーター0N−OFF制御をか
けて形成するものである。尚、感光体における先導74
層の分光特性は、パンクロマティックである必要はなく
、レーザー光源の波長に感度を有していればよい。
第4図は本発明の静電潜像読み取り入力スキャナーを用
いたシステムの全体構成を示す図で、図中、3は電荷保
持媒体、101は読取りヘッド、102はA/D変換器
、103はコンピュータ、105は磁気ディスク、10
6は磁気テープ(MT)、10Bはプリンタ、109は
記録ヘッド、110は記録シリンダ、111はフィルム
である。
いたシステムの全体構成を示す図で、図中、3は電荷保
持媒体、101は読取りヘッド、102はA/D変換器
、103はコンピュータ、105は磁気ディスク、10
6は磁気テープ(MT)、10Bはプリンタ、109は
記録ヘッド、110は記録シリンダ、111はフィルム
である。
図において、電荷保持媒体3には所定の原稿が記録され
ている。そして読取りヘッド101をこの電荷保持媒体
3の表面を走査して後述するような方法で電位読取りを
行い、A/D変換してコンピュータ103に読み込む、
この場合、画像データは膨大になり、多くの画像情報を
読み込むためには磁気ディスク105に格納する。Va
気ディスク105に格納された画像データは必要な処理
を施した後、再処理を考慮して、通常−旦MTIO6に
記憶させることも可能である。そして、再度処理の必要
性が生じたときにMTiO3より前記画像データを読み
出し、図示しないモニタで観察しながら色修正、倍率変
換、マスキング、デイテール強調等所定の画像処理を加
えて記録へラド109を通して記録シリンダ110にセ
ットしたフィルム111に露光記録することもできる。
ている。そして読取りヘッド101をこの電荷保持媒体
3の表面を走査して後述するような方法で電位読取りを
行い、A/D変換してコンピュータ103に読み込む、
この場合、画像データは膨大になり、多くの画像情報を
読み込むためには磁気ディスク105に格納する。Va
気ディスク105に格納された画像データは必要な処理
を施した後、再処理を考慮して、通常−旦MTIO6に
記憶させることも可能である。そして、再度処理の必要
性が生じたときにMTiO3より前記画像データを読み
出し、図示しないモニタで観察しながら色修正、倍率変
換、マスキング、デイテール強調等所定の画像処理を加
えて記録へラド109を通して記録シリンダ110にセ
ットしたフィルム111に露光記録することもできる。
なお、画像データは必要に応じてプリンタ108により
プリントアウトし、校正用プリントとして利用すること
ができる。
プリントアウトし、校正用プリントとして利用すること
ができる。
この場合、入力スキャナーを構成する電荷保持媒体3は
フラットベットタイプであるので、読取りシリンダ等を
必要とせず、構成をコンパクトにできると共に、原稿の
セット等面倒な操作が軽減される。また、電荷保持媒体
3には面露光によりアナログ情報が記録されており、こ
のままMTの代用としておけば、MTへの記録、読みだ
しに要する時間を省略することができる。
フラットベットタイプであるので、読取りシリンダ等を
必要とせず、構成をコンパクトにできると共に、原稿の
セット等面倒な操作が軽減される。また、電荷保持媒体
3には面露光によりアナログ情報が記録されており、こ
のままMTの代用としておけば、MTへの記録、読みだ
しに要する時間を省略することができる。
第5図は本発明の電荷保持媒体をスキャナーシステムに
組み込んだ全体構成を示す図で、第4図と同一番号は同
一内容を示している。なお、120は読取りシリンダ、
121は読取りヘッド、122は原稿、131はレーザ
ー、132はD/A変換器、133は光変調器、134
はポリゴンミラーである。
組み込んだ全体構成を示す図で、第4図と同一番号は同
一内容を示している。なお、120は読取りシリンダ、
121は読取りヘッド、122は原稿、131はレーザ
ー、132はD/A変換器、133は光変調器、134
はポリゴンミラーである。
第5図に示すシステムにおいては、原稿読取り、露光記
録は従来のスキャナーと同じであるが、読み込んだ画像
データを一旦記録しておくMTの代わりに電荷保持媒体
を使用している。即ち、コンピュータ103に読み込ん
だ画像データをD/A変換器でアナログ情報に変換し、
この信号でレーザー131からのレーザー光を変調し、
ポリゴンミラー134で線状感光体1を照射することに
より電荷保持媒体3に順次記録する。こうして、記録し
た情報は、必要に応じて任意の時に第4図の場合と同様
に電位読取りヘッド101で読みだしてA/D変換し、
コンピュータに取り込み、必要に応じ画像処理して記録
ヘッド109を通してフィルム111へ露光記録する。
録は従来のスキャナーと同じであるが、読み込んだ画像
データを一旦記録しておくMTの代わりに電荷保持媒体
を使用している。即ち、コンピュータ103に読み込ん
だ画像データをD/A変換器でアナログ情報に変換し、
この信号でレーザー131からのレーザー光を変調し、
ポリゴンミラー134で線状感光体1を照射することに
より電荷保持媒体3に順次記録する。こうして、記録し
た情報は、必要に応じて任意の時に第4図の場合と同様
に電位読取りヘッド101で読みだしてA/D変換し、
コンピュータに取り込み、必要に応じ画像処理して記録
ヘッド109を通してフィルム111へ露光記録する。
このシステムによれば電荷保持媒体を画像データの記憶
媒体として用いているため、装置のコンパクト化、読取
り、記録に要する時間を短縮できると共に、情報の一時
的または永久保存も可能である。
媒体として用いているため、装置のコンパクト化、読取
り、記録に要する時間を短縮できると共に、情報の一時
的または永久保存も可能である。
なお、上記説明では光学変調器とポリゴンミラーとの組
み合わせにより光を変調して走査露光するようにしたが
、この他にも、例えばフライングスポットスキャナー(
FSS)等のようにCRTと偏向手段の組み合わせによ
り電子ビームを走査し、ブラウン管面の輝点からの光に
より感光体を通して走査露光するようにしてもよく、ま
た管面部に針電極群を有する一種のCRTの管面に近接
して電荷保持媒体を対向配置し、走査電子ビームが当た
った針電極を通して電荷保持媒体に直接放電記録するよ
うにしてもよい。
み合わせにより光を変調して走査露光するようにしたが
、この他にも、例えばフライングスポットスキャナー(
FSS)等のようにCRTと偏向手段の組み合わせによ
り電子ビームを走査し、ブラウン管面の輝点からの光に
より感光体を通して走査露光するようにしてもよく、ま
た管面部に針電極群を有する一種のCRTの管面に近接
して電荷保持媒体を対向配置し、走査電子ビームが当た
った針電極を通して電荷保持媒体に直接放電記録するよ
うにしてもよい。
次に第6図、第7図によりカラー画像情報を記録する方
法について説明する。
法について説明する。
第6図においては、光源141、または142で原vS
143を照射し、その反射光または透過光をカラーフィ
ルタ145を介して感光体1に面露光して電荷保持媒体
3る記録する。カラーフィルタ145はR,G、Bの3
つの要素からなっており、これを水平方向に移動させて
R,G、Bを選択し、電荷保持媒体3枚1組で1つの画
像情報の記録が完了する。
143を照射し、その反射光または透過光をカラーフィ
ルタ145を介して感光体1に面露光して電荷保持媒体
3る記録する。カラーフィルタ145はR,G、Bの3
つの要素からなっており、これを水平方向に移動させて
R,G、Bを選択し、電荷保持媒体3枚1組で1つの画
像情報の記録が完了する。
第7図においてはカラーフィルタ146を回転型とし、
これの回転によりR,G、Bを選択する以外は第6Uj
Jの場合と同様である。
これの回転によりR,G、Bを選択する以外は第6Uj
Jの場合と同様である。
以下、像電位読取り方法について説明する。
第8図は本発明における電位読み取り方法の例を示す図
で、第1図と同一番号は同一内容を示している。なお、
図中、21は電位読み取り部、23は検出電極、25は
ガード電極、27はコンデンサ、29は電圧計である。
で、第1図と同一番号は同一内容を示している。なお、
図中、21は電位読み取り部、23は検出電極、25は
ガード電極、27はコンデンサ、29は電圧計である。
電位読み取り部21を電荷保持媒体3の電荷蓄積面に対
向させると、検出電極23に電荷保持媒体3の絶縁層1
1上に蓄積された電荷によって生じる電界が作用し、検
出電極面上に電荷保持媒体上の電荷と等量の誘導電荷が
生ずる。この誘導電荷と逆極性の等量の電荷でコンデン
サ27が充電されるので、コンデンサの電極間に蓄積電
荷に応じた電位差が生じ、この値を電圧計29で読むこ
とによって電荷保持体の電位を求めることができる。そ
して、電位読み取り部21で電荷保持媒体面上を走査す
ることにより静電潜像を電気信号として出力することが
できる。なお、検出電極23だけでは電荷保持媒体の検
出電極対向部位よりも広い範囲の電荷による電界(電気
力線)が作用して分解能が落ちるので、検出電極の周囲
に接地したガード電極25を配置するようにしてもよい
。
向させると、検出電極23に電荷保持媒体3の絶縁層1
1上に蓄積された電荷によって生じる電界が作用し、検
出電極面上に電荷保持媒体上の電荷と等量の誘導電荷が
生ずる。この誘導電荷と逆極性の等量の電荷でコンデン
サ27が充電されるので、コンデンサの電極間に蓄積電
荷に応じた電位差が生じ、この値を電圧計29で読むこ
とによって電荷保持体の電位を求めることができる。そ
して、電位読み取り部21で電荷保持媒体面上を走査す
ることにより静電潜像を電気信号として出力することが
できる。なお、検出電極23だけでは電荷保持媒体の検
出電極対向部位よりも広い範囲の電荷による電界(電気
力線)が作用して分解能が落ちるので、検出電極の周囲
に接地したガード電極25を配置するようにしてもよい
。
これによって、電気力線は面に対して垂直方向を向くよ
うになるので、検出電極23に対向した部位のみの電気
力線が作用するようになり、検出電極面積に略等しい部
位の電位を読み取ることができる。電位読み取りの精度
、分解能は検出電極、ガード電極の形状、大きさ、及び
電荷保持媒体との間隔によって大きく変わるため、要求
される性能に合わせて最適条件を求めて設計する必要が
ある。
うになるので、検出電極23に対向した部位のみの電気
力線が作用するようになり、検出電極面積に略等しい部
位の電位を読み取ることができる。電位読み取りの精度
、分解能は検出電極、ガード電極の形状、大きさ、及び
電荷保持媒体との間隔によって大きく変わるため、要求
される性能に合わせて最適条件を求めて設計する必要が
ある。
第9図は電位読み取り方法の他の例を示す図で、検出電
極、ガード電極を絶縁性保護膜31上に設け、絶縁性保
護膜を介して電位を検出する点板外は第8図の場合と同
様である。
極、ガード電極を絶縁性保護膜31上に設け、絶縁性保
護膜を介して電位を検出する点板外は第8図の場合と同
様である。
この方法によれば、電荷保持媒体に接触させて検出でき
るため検出電極との間隔を一定にすることができる。
るため検出電極との間隔を一定にすることができる。
第1O図は電位読み取り方法の他の例を示す図で、針状
電極33を直接電荷保持媒体に接触させ、その部分の電
位を検出するもので、検出面積を小さくすることができ
るので、高分解能を得ることができる。なお、針状電極
を複数設けて検出するようにすれば読み取り速度を向上
させることが可能となる。
電極33を直接電荷保持媒体に接触させ、その部分の電
位を検出するもので、検出面積を小さくすることができ
るので、高分解能を得ることができる。なお、針状電極
を複数設けて検出するようにすれば読み取り速度を向上
させることが可能となる。
以上は接触または非接触で直流信号を検出する直流増幅
型のものであるが、次に交流増幅型の例を説明する。
型のものであるが、次に交流増幅型の例を説明する。
第11図は振動電極型の電位読取り方法を示す図で、2
2は検出電極、24は増幅器、26はメータである。
2は検出電極、24は増幅器、26はメータである。
検出電極22は振動し、電荷保持媒体3の帯電面に対し
て時間的に距離が変化するように駆動されており、その
結果、検出電極22における電位は、帯電面の静電電位
に応じた振幅で時間的に変化する。この時間的な電位変
化をインピーダンスZの両端の電圧変化として取り出し
、コンデンサCを通して交流骨を増幅器24で増幅し、
メータ2Gにより読み取ることにより帯電面の静電電位
を測定することができる。
て時間的に距離が変化するように駆動されており、その
結果、検出電極22における電位は、帯電面の静電電位
に応じた振幅で時間的に変化する。この時間的な電位変
化をインピーダンスZの両端の電圧変化として取り出し
、コンデンサCを通して交流骨を増幅器24で増幅し、
メータ2Gにより読み取ることにより帯電面の静電電位
を測定することができる。
第12図は回転型検出器の例を示し、図中28は回転羽
根である。
根である。
電極22と電荷保持媒体3の帯電面の間には導電性の回
転羽1jj2Bが設けられて図示しない駆動手段により
回転駆動されている。その結果、検出電極22と電荷保
持媒体3との間は周期的に電気的に遮蔽される。そのた
め、検出電極22には帯電面の静電電位に応じた振幅の
周期的に変化する電位信号が検出され、この交流成分を
増幅器24で増幅して読み取ることになる。
転羽1jj2Bが設けられて図示しない駆動手段により
回転駆動されている。その結果、検出電極22と電荷保
持媒体3との間は周期的に電気的に遮蔽される。そのた
め、検出電極22には帯電面の静電電位に応じた振幅の
周期的に変化する電位信号が検出され、この交流成分を
増幅器24で増幅して読み取ることになる。
第13図は振動容量型検出器の例を示し、28は駆動回
路、30は振動片である。
路、30は振動片である。
駆動回路28によってコンデンサーを形成する一方の電
極の振動片30を振動させて、コンデンサ容量を変化さ
せる。その結果、検出電極22により検出される直流電
位信号は変調を受け、この交流成分を増幅して検出する
。この検出器は直流を交流に変換して高感度で安定性良
く電位測定することかできる。
極の振動片30を振動させて、コンデンサ容量を変化さ
せる。その結果、検出電極22により検出される直流電
位信号は変調を受け、この交流成分を増幅して検出する
。この検出器は直流を交流に変換して高感度で安定性良
く電位測定することかできる。
第14図は電位読み取り方法の他の例を示す図で、細長
い検出電極を用い、CT平手法コンピュータ断層映像法
)を用いて電位検出を行うものである。
い検出電極を用い、CT平手法コンピュータ断層映像法
)を用いて電位検出を行うものである。
検出電極35を電荷蓄積面を横断するように対向配置す
ると、得られるデータは検出電極に沿って線積分した値
、即ちCTにおける投影データに相当するデータが得ら
れる。そこで、この検出電極を第14図(ロ)の矢印の
ように全面に行き渡るように走査し、さらに角度θを変
えて同様に走査してい(ことにより必要なデータを収集
し、収集したデータにCTアルゴリズムを用いて演算処
理を施すことにより、電荷保持体上の電位分布状態を求
めることができる。
ると、得られるデータは検出電極に沿って線積分した値
、即ちCTにおける投影データに相当するデータが得ら
れる。そこで、この検出電極を第14図(ロ)の矢印の
ように全面に行き渡るように走査し、さらに角度θを変
えて同様に走査してい(ことにより必要なデータを収集
し、収集したデータにCTアルゴリズムを用いて演算処
理を施すことにより、電荷保持体上の電位分布状態を求
めることができる。
なお、第15図に示すように検出電極を複数個並べるよ
うにすればデータ収集速度を早くすることができ、全体
としての処理速度を向上させることができる。
うにすればデータ収集速度を早くすることができ、全体
としての処理速度を向上させることができる。
第16図は集電型検出器の例を示し、図中、32は接地
型金属円筒、34は絶縁体、36は集電器である。
型金属円筒、34は絶縁体、36は集電器である。
集電器36には放射性物質が内蔵され、そこからα線が
放出されている。そのため、金属円筒内は空気が電離し
て正負のイオン対が形成されている。これらのイオンは
自然の状態では再結合および拡散によって消滅し、平衡
状態を保っているが、電界があると、熱運動による空気
分子との衝突を繰り返しながら統計的には電界の方向に
進み、電荷を運ぶ役割を果たす。
放出されている。そのため、金属円筒内は空気が電離し
て正負のイオン対が形成されている。これらのイオンは
自然の状態では再結合および拡散によって消滅し、平衡
状態を保っているが、電界があると、熱運動による空気
分子との衝突を繰り返しながら統計的には電界の方向に
進み、電荷を運ぶ役割を果たす。
即ち、イオンのため空気が導電化されて、集電器36も
含めたその周りの物体の間には等価的な電気抵抗路が存
在するとみなすことでできる。
含めたその周りの物体の間には等価的な電気抵抗路が存
在するとみなすことでできる。
従って、電荷保持媒体3の帯電面と接地金属円筒32、
帯電体と集電器36、および集電器36と接地金属円筒
32の間の抵抗をそれぞれRo、R,、R,とすると、
帯電体の電位をvlとすると、集電器36の電位■、は
、定常状態では、Vz =Rz V+ / (Rt +
R1)となる。その結果、集電器36の電位を読み取る
ことによって電荷保持媒体3の電位を求めることができ
る。
帯電体と集電器36、および集電器36と接地金属円筒
32の間の抵抗をそれぞれRo、R,、R,とすると、
帯電体の電位をvlとすると、集電器36の電位■、は
、定常状態では、Vz =Rz V+ / (Rt +
R1)となる。その結果、集電器36の電位を読み取る
ことによって電荷保持媒体3の電位を求めることができ
る。
第17図は電子ビーム型の電位読取装置の例を示す図で
、37は電子銃、38は電子ビーム、39は第1ダイノ
ード、40は2次電子増倍部である。
、37は電子銃、38は電子ビーム、39は第1ダイノ
ード、40は2次電子増倍部である。
電子銃37から出た電子を図示しない静電偏向あるいは
は電磁偏向装置により偏向して91面を走査する。走査
電子ビームのうちの一部は、帯電面の電荷と結合して充
電電流が流れ、その分帯電面の電位は平衡電位に下がる
。残りの変調された電子ビームは電子銃37の方向に戻
り、第1ダイノード39に衝突し、その2次電子が2次
電子増倍部40で増幅されその陽極から信号出力として
取り出される。この戻りの電子ビームとして反射電子あ
るいは2次電子を使用する。
は電磁偏向装置により偏向して91面を走査する。走査
電子ビームのうちの一部は、帯電面の電荷と結合して充
電電流が流れ、その分帯電面の電位は平衡電位に下がる
。残りの変調された電子ビームは電子銃37の方向に戻
り、第1ダイノード39に衝突し、その2次電子が2次
電子増倍部40で増幅されその陽極から信号出力として
取り出される。この戻りの電子ビームとして反射電子あ
るいは2次電子を使用する。
電子ビーム型の場合には、走査後は媒体上には均一な電
荷が形成されるが、走査時に潜像に対応する電流が検出
される。WI像がマイナス電荷の場合は、電荷が多い部
分(露光部)ではエレクトロンによる蓄積電荷が少なく
、充電電流が小さいが、例えば電荷が存在しない部分で
は最大の充電電流が流れる。プラス電荷の場合はこの逆
でネガ型となる。
荷が形成されるが、走査時に潜像に対応する電流が検出
される。WI像がマイナス電荷の場合は、電荷が多い部
分(露光部)ではエレクトロンによる蓄積電荷が少なく
、充電電流が小さいが、例えば電荷が存在しない部分で
は最大の充電電流が流れる。プラス電荷の場合はこの逆
でネガ型となる。
第18図は電位読み取り方法の他の例を示す図で、静電
潜像が形成された電荷保持媒体3をトナー現像し、着色
した面を光ビームにより照射してスキャニングし、その
反射光を光電変換器41で電気信号に変換するものであ
り、光ビーム径を小さくすることにより高分解能を達成
することができ、また光学的に筒便に静電電位の検出を
行うことができる。
潜像が形成された電荷保持媒体3をトナー現像し、着色
した面を光ビームにより照射してスキャニングし、その
反射光を光電変換器41で電気信号に変換するものであ
り、光ビーム径を小さくすることにより高分解能を達成
することができ、また光学的に筒便に静電電位の検出を
行うことができる。
第19図は電位読み取り方法の他の例を示す図であり、
後述するような微細カラーフィルターにより形成したR
、G、8分解像をトナー現像し、着色した面を光ビーム
により照射し、その反射光によりY、M、C信号を得る
場合の例を示している。図中、43は走査信号発生器、
45はレーザー、47は反射鏡、49はハーフミラ−1
51は光電変換器、53.55.57はゲート回路であ
走査信号発生器43からの走査信号でレーザー45から
のレーザー光を、反射m47、ハーフミラ−49を介し
て着色面に当てて走査する。着色面からの反射光をハー
フミラ−49を介して光電変換器51に入射させて電気
信号に変換する。走査信号発生器43からの信号に同期
してゲート回路53.55.57を開閉制御すれば、微
細フィルタのパターンに同期してゲート回路53.55
.57が開閉制御されるので、Y、M、Cに着色してお
かなくてもY、M、Cの信号を得ることができる。
後述するような微細カラーフィルターにより形成したR
、G、8分解像をトナー現像し、着色した面を光ビーム
により照射し、その反射光によりY、M、C信号を得る
場合の例を示している。図中、43は走査信号発生器、
45はレーザー、47は反射鏡、49はハーフミラ−1
51は光電変換器、53.55.57はゲート回路であ
走査信号発生器43からの走査信号でレーザー45から
のレーザー光を、反射m47、ハーフミラ−49を介し
て着色面に当てて走査する。着色面からの反射光をハー
フミラ−49を介して光電変換器51に入射させて電気
信号に変換する。走査信号発生器43からの信号に同期
してゲート回路53.55.57を開閉制御すれば、微
細フィルタのパターンに同期してゲート回路53.55
.57が開閉制御されるので、Y、M、Cに着色してお
かなくてもY、M、Cの信号を得ることができる。
なお、カラー像が後述するように3面分割したものの場
合も、全く同様にY、M、Cの信号を得ることができ、
この場合もYSMSCに着色しておかなくてもよいこと
は同様である。
合も、全く同様にY、M、Cの信号を得ることができ、
この場合もYSMSCに着色しておかなくてもよいこと
は同様である。
第18図、第19図に示した静電電位検出法においては
、トナー像が静電潜像の帯電量に対応したγ特性を有し
ていることが必要で、そのため帯電量のアナログ的変化
に対してしきい値を持たないようにする必要がある。対
応さえとれていればγ特性が一致していなくても電気的
な処理によってTの補正を行うようにすればよい。
、トナー像が静電潜像の帯電量に対応したγ特性を有し
ていることが必要で、そのため帯電量のアナログ的変化
に対してしきい値を持たないようにする必要がある。対
応さえとれていればγ特性が一致していなくても電気的
な処理によってTの補正を行うようにすればよい。
次にカラー画像を形成するために使用するカラーフィル
タについて説明する。
タについて説明する。
第20図はプリズムによる色分解光学系を示す図で、図
中、71.73.75はプリズムブロック、77.79
.81はフィルタ、83.85は反射鏡である。
中、71.73.75はプリズムブロック、77.79
.81はフィルタ、83.85は反射鏡である。
色分解光学系は3つのプリズムブロックからなり、プリ
ズムブロック71の8面から入射した光情報は、b面に
おいて一部が分離反射され、さらに8面で反射されてフ
ィルタ77からB色光成分が取り出される。残りの光情
報はプリズムブロック73に入射し、0面まで進んで一
部が分離反射され、フィルタ79からG色光酸分、他は
直進してフィルタ81からR色光成分が取り出される。
ズムブロック71の8面から入射した光情報は、b面に
おいて一部が分離反射され、さらに8面で反射されてフ
ィルタ77からB色光成分が取り出される。残りの光情
報はプリズムブロック73に入射し、0面まで進んで一
部が分離反射され、フィルタ79からG色光酸分、他は
直進してフィルタ81からR色光成分が取り出される。
そして、G、B色光成分を、反射鏡83.85で反射さ
せることにより、R,G、B光を平行光として取り出す
ことができる。
せることにより、R,G、B光を平行光として取り出す
ことができる。
このようなフィルタ91を、第21図に示すように感光
体lの前面に配置して撮影することにより、第21図(
ロ)のようにR,G、B分解した電荷保持媒体3セツト
で1コマを形成するか、また第21図(ハ)に示すよう
に1平面上にR,G。
体lの前面に配置して撮影することにより、第21図(
ロ)のようにR,G、B分解した電荷保持媒体3セツト
で1コマを形成するか、また第21図(ハ)に示すよう
に1平面上にR,G。
B像として並べて1セツトで1コマとすることもできる
。
。
第22図は微細カラーフィルタの例を示す図で、例えば
、レジストをコーティングしたフィルムをマスクパター
ンで露光してR,G、Bストライプパターンを形成し、
それぞれR,G、B染色することにより形成する方法、
または第20図のような方法で色分解した光を、それぞ
れ細いスリットに通すことにより生じるR、G、Bの干
渉縞をホログラム記録媒体に記録させることにより形成
する方法、または光導電体にマスクを密着させて露光し
、静電潜像によるR、G、Bストライプパターンを形成
し、これをトナー現像して3回転写することによりカラ
ー合成してトナーのストライブを形成する方法等により
形成する。このような方法で形成されたフィルタのR,
G、Blmで1画素を形成し、1画素を10μm程度の
微細なものにする。このフィルタを第21図のフィルタ
91として使用することによりカラー静電潜像を形成す
ることができる。この場合、フィルタは感光体と離して
配置しても、あるいは感光体と一体に形成するようにし
てもよい。
、レジストをコーティングしたフィルムをマスクパター
ンで露光してR,G、Bストライプパターンを形成し、
それぞれR,G、B染色することにより形成する方法、
または第20図のような方法で色分解した光を、それぞ
れ細いスリットに通すことにより生じるR、G、Bの干
渉縞をホログラム記録媒体に記録させることにより形成
する方法、または光導電体にマスクを密着させて露光し
、静電潜像によるR、G、Bストライプパターンを形成
し、これをトナー現像して3回転写することによりカラ
ー合成してトナーのストライブを形成する方法等により
形成する。このような方法で形成されたフィルタのR,
G、Blmで1画素を形成し、1画素を10μm程度の
微細なものにする。このフィルタを第21図のフィルタ
91として使用することによりカラー静電潜像を形成す
ることができる。この場合、フィルタは感光体と離して
配置しても、あるいは感光体と一体に形成するようにし
てもよい。
第23図は微細カラーフィルタとフレネルレンズを組み
合わせた例を示す図で、フレネルレンズによってR,G
、Bパターンを縮小して記録することができ、また通常
のレンズに比べて薄(コンパクトなレンズ設計が可能と
なる。
合わせた例を示す図で、フレネルレンズによってR,G
、Bパターンを縮小して記録することができ、また通常
のレンズに比べて薄(コンパクトなレンズ設計が可能と
なる。
第24図はND (Neutral Density
)フィルタとR,G、Bフィルターを併用した3面分割
の例を示す図で、入射光をNDフィルター81.83及
び反射ミラー85で3分割し、それぞれRフィルター8
7、Gフィルター89、Bフィルター91を通すことに
より、R,G、B光を平行光として取り出すことができ
る。
)フィルタとR,G、Bフィルターを併用した3面分割
の例を示す図で、入射光をNDフィルター81.83及
び反射ミラー85で3分割し、それぞれRフィルター8
7、Gフィルター89、Bフィルター91を通すことに
より、R,G、B光を平行光として取り出すことができ
る。
次に本発明の電荷保持媒体をスキャナーシステムに適用
した場合の特徴的事項を第25図〜第29図により説明
する。
した場合の特徴的事項を第25図〜第29図により説明
する。
第25図は本発明の電荷保持媒体の露光量に対する像電
位変化特性を示す図で、露光量は任意の単位で対数目盛
としている。
位変化特性を示す図で、露光量は任意の単位で対数目盛
としている。
通常、CCDを用いた平面スキャナーにおいては像濃度
(照射光に対する透過光の比率の対数表示値)のダイナ
ミックレンジが2程度と狭いため、製版用には使用でき
なかった。これに対して、本発明の電荷保持媒体では第
25図に示す特性から分かるように、露光量の3桁程度
の変化に対応して像電位がほぼリニアに変化するので、
印刷製版用に必要な像濃度のダイナミックレンジ3程度
には十分対応でき、製版スキャナー用として好適である
ことが分かる。
(照射光に対する透過光の比率の対数表示値)のダイナ
ミックレンジが2程度と狭いため、製版用には使用でき
なかった。これに対して、本発明の電荷保持媒体では第
25図に示す特性から分かるように、露光量の3桁程度
の変化に対応して像電位がほぼリニアに変化するので、
印刷製版用に必要な像濃度のダイナミックレンジ3程度
には十分対応でき、製版スキャナー用として好適である
ことが分かる。
第26回は原稿を所定角度回転する場合を示す図である
。
。
従来、画像を回転して露光記録する場合は、コンピュー
タによる演算で行うとその演算処理が大変であるので、
原稿そのものをドラムスキャナーの読取りシリンダに所
定角度回転させてセットして読み出すようにしているが
、シリンダに原稿を正確に所定角度回転させてセットす
る作業は極めて大変であった。本発明の電荷保持媒体は
フラットであるので、第26図に示すように、電荷保持
媒体3を3aのように容易に且つ正確に所定角度回転さ
せることができ、図の矢印のように順次読み取ることに
より簡単に像の回転を行うことができる。なお、回転は
、通常画像の中心を回転中心とするが、図示の例では左
上の角を回転中心としている。回転の中心は、電荷保持
媒体を載せるテーブルの中心と電荷保持媒体上の画像の
回転関係が分かれば画像処理を行い、所望の回転直像が
得られる。また回転スピード等を変化させると特殊な変
形画像も得られる。
タによる演算で行うとその演算処理が大変であるので、
原稿そのものをドラムスキャナーの読取りシリンダに所
定角度回転させてセットして読み出すようにしているが
、シリンダに原稿を正確に所定角度回転させてセットす
る作業は極めて大変であった。本発明の電荷保持媒体は
フラットであるので、第26図に示すように、電荷保持
媒体3を3aのように容易に且つ正確に所定角度回転さ
せることができ、図の矢印のように順次読み取ることに
より簡単に像の回転を行うことができる。なお、回転は
、通常画像の中心を回転中心とするが、図示の例では左
上の角を回転中心としている。回転の中心は、電荷保持
媒体を載せるテーブルの中心と電荷保持媒体上の画像の
回転関係が分かれば画像処理を行い、所望の回転直像が
得られる。また回転スピード等を変化させると特殊な変
形画像も得られる。
第27図は原稿から所定の画像を切り出す場合を示す図
である。
である。
従来では、例えば図形151を切り出したい場合には、
図の点線153のようにソフト上のマスクにより大きめ
に原稿を切り出すようにしているが、本発明の電荷保持
媒体の場合には図形151と全く同じ形状で大きさのマ
スクを用いることにより、図形151のみ容易に読み取
ることができる。
図の点線153のようにソフト上のマスクにより大きめ
に原稿を切り出すようにしているが、本発明の電荷保持
媒体の場合には図形151と全く同じ形状で大きさのマ
スクを用いることにより、図形151のみ容易に読み取
ることができる。
第28図は原稿の切り抜き操作を示す図である。
例えば、図において、切り抜きたい画像が161であり
、その切り抜き指示書が162であるとすると、162
の原点からのヘッド101bの位置と、161の原点か
らのへラド101aの位置との相対位置関係を検出回路
165で検出し、この検出信号によりXYステージ16
6を駆動して電荷保持媒体を移動させ、指示された領域
だけ読み取ったり、指示さた領域のみの情報を残し、他
を消去することができる。
、その切り抜き指示書が162であるとすると、162
の原点からのヘッド101bの位置と、161の原点か
らのへラド101aの位置との相対位置関係を検出回路
165で検出し、この検出信号によりXYステージ16
6を駆動して電荷保持媒体を移動させ、指示された領域
だけ読み取ったり、指示さた領域のみの情報を残し、他
を消去することができる。
第29図はシャープネス処理を説明するための図である
。
。
先ず、同図(イ)においてステップ状に濃度が変化する
画像171を記録する0次に同図(ロ)においては電荷
保持媒体に印加する電圧の極性を(イ)の極性と逆にし
、画像171を光学系でボカしたり、或いは空間フィル
タで画像の高周波成分を除く等の手段により別途のアン
シャープ化された画像172を得て画像171の静電潜
像の上に二重露光する。この場合の露光では逆極性の電
圧が印加されているので、画像171と172の引算が
行われ、その結果静電潜像は図の173の □よ
うになる。そして、同図(ハ)において、同図(イ)の
場合と同極性の電圧を印加した状態で像173の上に元
の画像171を重ね露光することによりエツジの強調さ
れた像174を得ることができ、単に面露光を繰り返す
だけで簡単にシャープネス処理を行うことができる。
画像171を記録する0次に同図(ロ)においては電荷
保持媒体に印加する電圧の極性を(イ)の極性と逆にし
、画像171を光学系でボカしたり、或いは空間フィル
タで画像の高周波成分を除く等の手段により別途のアン
シャープ化された画像172を得て画像171の静電潜
像の上に二重露光する。この場合の露光では逆極性の電
圧が印加されているので、画像171と172の引算が
行われ、その結果静電潜像は図の173の □よ
うになる。そして、同図(ハ)において、同図(イ)の
場合と同極性の電圧を印加した状態で像173の上に元
の画像171を重ね露光することによりエツジの強調さ
れた像174を得ることができ、単に面露光を繰り返す
だけで簡単にシャープネス処理を行うことができる。
なお本発明におけるネガ潜像の形成は、所定極性のバイ
アスで一様光量による露光をしておき、次にそれと逆極
性の電圧で露光することにより簡単に得ることが可能で
ある。
アスで一様光量による露光をしておき、次にそれと逆極
性の電圧で露光することにより簡単に得ることが可能で
ある。
本発明の電荷保持媒体を用いた入力スキャナーは、電荷
保持媒体上に面状にアナログ量として静電潜像を形成し
、その電荷電位を読み取ることにより静電潜像に対応し
た画像データとして取り込み、これに必要な画像処理を
加えて露光記録することにより、色修正、マスキング、
像回転、自動位置決め、シャープネス処理等を電荷保持
媒体上、或いはフィルタ交換等で簡単に行うことができ
、また読取りシリンダの省略、コンピュータの演算の筒
略化等により装置をコンパクト化することができ、さら
に、記録、読取りの時間を短縮化し、永久保存を行うこ
とも可能である。
保持媒体上に面状にアナログ量として静電潜像を形成し
、その電荷電位を読み取ることにより静電潜像に対応し
た画像データとして取り込み、これに必要な画像処理を
加えて露光記録することにより、色修正、マスキング、
像回転、自動位置決め、シャープネス処理等を電荷保持
媒体上、或いはフィルタ交換等で簡単に行うことができ
、また読取りシリンダの省略、コンピュータの演算の筒
略化等により装置をコンパクト化することができ、さら
に、記録、読取りの時間を短縮化し、永久保存を行うこ
とも可能である。
以下、実施例を説明する。
〔実施例1〕・・・電荷保持媒体の作製方法メチルフェ
ニルシリコン樹脂10g1キシレン−ブタノールl:1
溶媒10gの組成を有する混合液に、硬化剤(金属触媒
):商品名 CR−15を1重量%(0,2g)加えて
よく攪拌し、APをtooo人蒸着したガラス基板上に
ドクターブレード4ミルを用いてコーティングを行った
。
ニルシリコン樹脂10g1キシレン−ブタノールl:1
溶媒10gの組成を有する混合液に、硬化剤(金属触媒
):商品名 CR−15を1重量%(0,2g)加えて
よく攪拌し、APをtooo人蒸着したガラス基板上に
ドクターブレード4ミルを用いてコーティングを行った
。
その後150℃、lhrの乾燥を行ない、膜厚10μm
の電荷保持媒体(a)を得た。
の電荷保持媒体(a)を得た。
また上記混合液を、Affiを1000人蒸着5た10
0μmポリエステルフィルム上に同様の方法でコーディ
ングし、次いで乾燥し、フィルム状の電荷保持媒体(b
)を得た。
0μmポリエステルフィルム上に同様の方法でコーディ
ングし、次いで乾燥し、フィルム状の電荷保持媒体(b
)を得た。
また上記混合液を、Afiを1000人蒸着5た4イン
チディスク形状アクリル(III11厚)基板上にスピ
ンナー2000rp−でコーディングし、50°C,3
hr乾燥させ、膜厚1pmのディスク状電荷保持媒体(
C)を得た。
チディスク形状アクリル(III11厚)基板上にスピ
ンナー2000rp−でコーディングし、50°C,3
hr乾燥させ、膜厚1pmのディスク状電荷保持媒体(
C)を得た。
また上記混合液に、更にステアリン酸亜鉛を0゜1g添
加し、同様のコーティング、乾燥を行い、10μmの膜
厚を有する電荷保持媒体(d)を得た。
加し、同様のコーティング、乾燥を行い、10μmの膜
厚を有する電荷保持媒体(d)を得た。
[実施例2〕
ポリイミド樹脂Log、N−メチルピロリドン10gの
組成を有する混合液を、Affiを1000人蒸着5た
ガラス基板上にスピンナーコーティング(1000rp
m、20秒)した。溶媒を乾燥させるため150℃で3
0分間、前乾燥を行った後、硬化させるため350°C
12時間加熱した。
組成を有する混合液を、Affiを1000人蒸着5た
ガラス基板上にスピンナーコーティング(1000rp
m、20秒)した。溶媒を乾燥させるため150℃で3
0分間、前乾燥を行った後、硬化させるため350°C
12時間加熱した。
膜厚8μmを有する均一な被膜が形成された。
〔実施例3〕・・・単層系有機感光体(PVK −TN
F )作製方法 ポリ−N−ビニルカルバゾール10g(西南香料(株)
製)、2,4.7−)リニトロフルオレノン10g1ポ
リエステル樹脂2g(バインダー:バイロン200東洋
紡(株)製)、テトラハイドロフラン(THF)90g
の組成を有する混合液を暗所で作製し、In2O3−3
n01を約1000人の膜厚でスパッターしたガラス基
板(IIII11厚)に、ドクターブレードを用いて塗
布し、60°Cで約1時間通風乾燥し、膜厚的10μm
の光導電層を有する感光層を得た。又完全に乾燥を行う
ために、更に1日自然乾燥を行って用いた。
F )作製方法 ポリ−N−ビニルカルバゾール10g(西南香料(株)
製)、2,4.7−)リニトロフルオレノン10g1ポ
リエステル樹脂2g(バインダー:バイロン200東洋
紡(株)製)、テトラハイドロフラン(THF)90g
の組成を有する混合液を暗所で作製し、In2O3−3
n01を約1000人の膜厚でスパッターしたガラス基
板(IIII11厚)に、ドクターブレードを用いて塗
布し、60°Cで約1時間通風乾燥し、膜厚的10μm
の光導電層を有する感光層を得た。又完全に乾燥を行う
ために、更に1日自然乾燥を行って用いた。
(実MfN 4 )・・・アモルファスシリコンaSi
:H無機感光体の作製方法 ■基板洗浄 SnO,の薄膜透明電極層を一方の表面に設けたコーニ
ング社7059ガラス(23X16XO19L、光学研
磨済)をトリクロロエタン、アセトン、エタノール各液
中、この順番に各々10分ずつ超音波洗浄する。
:H無機感光体の作製方法 ■基板洗浄 SnO,の薄膜透明電極層を一方の表面に設けたコーニ
ング社7059ガラス(23X16XO19L、光学研
磨済)をトリクロロエタン、アセトン、エタノール各液
中、この順番に各々10分ずつ超音波洗浄する。
■装置の準備
洗浄の済んだ基板を第30図の反応室204内のアノー
ド206上に熱伝導が十分であるようにセットした後、
反応室内を10−”Tore台までり。
ド206上に熱伝導が十分であるようにセットした後、
反応室内を10−”Tore台までり。
Pにより真空引きし、反応容器およびガス管の焼出しを
1501C〜350°Cで約1時間行い、焼出し後装置
を冷却する。
1501C〜350°Cで約1時間行い、焼出し後装置
を冷却する。
■a−3i:H(n”)の堆積
ガラス基板が350°Cになるようにヒーターを208
m1!整、加熱し、予めタンク201内で混合しておい
たPHs/5iH4=1000pp−のガスをニードル
バルブとPMBの回転数を制御することによって反応室
204の内圧が200mT。
m1!整、加熱し、予めタンク201内で混合しておい
たPHs/5iH4=1000pp−のガスをニードル
バルブとPMBの回転数を制御することによって反応室
204の内圧が200mT。
rrになるように流し内圧が一定になった後、Ma t
ching Box203を通じて、40WのRf P
ower 202 (13,56KHz)を投入し、カ
ソード・アノード間にプラズマを形成する。堆積は4分
間行い、Rfの投入を止め、ニードルバルブを閉じる− その結果、ブロッキング層を構成する約0. 2μmの
a−3i:H(n”)膜が基板上に堆積された。
ching Box203を通じて、40WのRf P
ower 202 (13,56KHz)を投入し、カ
ソード・アノード間にプラズマを形成する。堆積は4分
間行い、Rfの投入を止め、ニードルバルブを閉じる− その結果、ブロッキング層を構成する約0. 2μmの
a−3i:H(n”)膜が基板上に堆積された。
■a−3i:Hの堆積
5illalOO%ガスを■と同じ方法で内圧が200
Torrになるように流し、内圧が一定になったところ
で、Matching BaN603を通じて40Wの
RfPoi*er 202 (13,56KHz)を投
入し、プラズマを形成して70分間維持する。堆積終了
はRfの投入を止め、ニードルバルブを閉じる。
Torrになるように流し、内圧が一定になったところ
で、Matching BaN603を通じて40Wの
RfPoi*er 202 (13,56KHz)を投
入し、プラズマを形成して70分間維持する。堆積終了
はRfの投入を止め、ニードルバルブを閉じる。
Heater208 Off後、基板が冷えているから
取り出す。
取り出す。
この結果、約18.8μmの膜がa−5i :H(no
)股上に堆積された。
)股上に堆積された。
こうしてSnO,/a−Si:H(n”)ブロッキング
層/a−3t :H(non−dope)20μmの感
光体を作製することができた。
層/a−3t :H(non−dope)20μmの感
光体を作製することができた。
(実施915)・・・アモルファスセレン−テルル無機
感光体の作製方法 セレン(Se)に対しテルル(Te)が13重量%の割
合で混合された金属粒を用い、蒸着法によりa−3e−
Te薄膜を真空度10−’To r r、抵抗加熱法で
TTOガラス基板上に蒸着した。膜厚は1tImとした
。さらに真空度を維持した状態で、同じく抵抗加熱法で
Seのみの蒸着を行いa −5e−To層上に10μm
a−3g層を積層した。
感光体の作製方法 セレン(Se)に対しテルル(Te)が13重量%の割
合で混合された金属粒を用い、蒸着法によりa−3e−
Te薄膜を真空度10−’To r r、抵抗加熱法で
TTOガラス基板上に蒸着した。膜厚は1tImとした
。さらに真空度を維持した状態で、同じく抵抗加熱法で
Seのみの蒸着を行いa −5e−To層上に10μm
a−3g層を積層した。
〔実施例6〕・・・機能分離型感光体の作製方法(Ti
電荷発生層形成方法) クロロジアンブルー0.4g、ジクロルエタン40gの
組成を有する混合液を250m1.容積のステンレス容
器に入れ、更にガラスピーズNo3.180mj!を加
え、振動ミル(安用電機製作所KED9−4)により、
約4時間の粉砕を行い粒径〜5μmのクロロシアンブル
ーを得る。ガラスピーズを濾過後、ポリカーボネート、
ニーピロンE−2000(三菱ガス化学)を0.4g加
え約4時間攪拌する。この溶液をInzOs−5nOz
を約1000人スパッターしたガラス基板(1閣厚)に
ドクターブレードを用いて塗布し、膜厚約1μmの電荷
発生層を得た。乾燥は室温で1日行った。
電荷発生層形成方法) クロロジアンブルー0.4g、ジクロルエタン40gの
組成を有する混合液を250m1.容積のステンレス容
器に入れ、更にガラスピーズNo3.180mj!を加
え、振動ミル(安用電機製作所KED9−4)により、
約4時間の粉砕を行い粒径〜5μmのクロロシアンブル
ーを得る。ガラスピーズを濾過後、ポリカーボネート、
ニーピロンE−2000(三菱ガス化学)を0.4g加
え約4時間攪拌する。この溶液をInzOs−5nOz
を約1000人スパッターしたガラス基板(1閣厚)に
ドクターブレードを用いて塗布し、膜厚約1μmの電荷
発生層を得た。乾燥は室温で1日行った。
4−ジベンジルアミノ−2−メチルベンズアルデヒド−
1,1′−ジフェニルヒドラゾン0.1g。
1,1′−ジフェニルヒドラゾン0.1g。
ポリカーボネート(ニーピロンE−2000)0. 1
g。
g。
ジクロルエタン2.0gの組成を有する混合液をドクタ
ーブレードにて、上記電荷発生層上に塗布し、約10a
mの電荷輸送層を得た。乾燥は60℃で2時間行った。
ーブレードにて、上記電荷発生層上に塗布し、約10a
mの電荷輸送層を得た。乾燥は60℃で2時間行った。
〔実施例7〕
(電荷発生層の形成方法)
酢酸ブチル10gにブチラール樹脂(積木化学、5LE
C)0.25g、下記の構造式を有するアズレニウムC
ZO,塩、 0.5g、ガラスピーズNo、133gとを混合し、タ
ッチミキサーで1日間撹拌し、よく分散させものをドク
ターブレード、またはアプリケーターでガラス板上に積
層したITO上に塗布し、60℃、2時間以上乾燥させ
た。乾燥後の膜厚は1μm以下。
C)0.25g、下記の構造式を有するアズレニウムC
ZO,塩、 0.5g、ガラスピーズNo、133gとを混合し、タ
ッチミキサーで1日間撹拌し、よく分散させものをドク
ターブレード、またはアプリケーターでガラス板上に積
層したITO上に塗布し、60℃、2時間以上乾燥させ
た。乾燥後の膜厚は1μm以下。
(電荷輸送層の形成方法)
テトラヒドロフラン9.5gにポリカーボネート(三菱
ガス化学、ニーピロンE2000)0゜5gと下記の構
造式で示されるヒドラゾン誘導体(阿南香料、CTC1
91) 0.5gとを混合し、ドクターブレードで上記電荷発生
層上に塗布し、60℃、2時間以上乾燥させた。膜厚1
0μm以下であった。
ガス化学、ニーピロンE2000)0゜5gと下記の構
造式で示されるヒドラゾン誘導体(阿南香料、CTC1
91) 0.5gとを混合し、ドクターブレードで上記電荷発生
層上に塗布し、60℃、2時間以上乾燥させた。膜厚1
0μm以下であった。
〔実施例8〕
(T4電荷生層の形成方法)
テトラヒドロフラン20gにブチラール樹脂(漬水化学
、5LEC)0.5g、チタニルフタロシアニン0.2
5g、4.10−ジブロモアンスアンスロン0.25g
、ガラスピーズNo、 lを33g、タッチミキサー
で1日間撹拌し、よく分散させものをドクターブレード
、またはアプリケーターでガラス板上に積層したITO
上に塗布し、60℃、2時間以上乾燥させた。乾燥後の
被膜は、膜厚1μm以下であった。
、5LEC)0.5g、チタニルフタロシアニン0.2
5g、4.10−ジブロモアンスアンスロン0.25g
、ガラスピーズNo、 lを33g、タッチミキサー
で1日間撹拌し、よく分散させものをドクターブレード
、またはアプリケーターでガラス板上に積層したITO
上に塗布し、60℃、2時間以上乾燥させた。乾燥後の
被膜は、膜厚1μm以下であった。
(電荷輸送層の作製方法)
ジクロロエタン9.5gに、ポリカーボネート(三菱ガ
ス化学、ニーピロンE2000)0.5g、上記ヒドラ
ゾン誘導体(阿南香料、CTCI91)0.5gを溶解
し、ドクターブレードで、上記電荷発生層上に塗布、6
0″C12時間以上乾燥させた。膜厚は10μm以上で
あった。
ス化学、ニーピロンE2000)0.5g、上記ヒドラ
ゾン誘導体(阿南香料、CTCI91)0.5gを溶解
し、ドクターブレードで、上記電荷発生層上に塗布、6
0″C12時間以上乾燥させた。膜厚は10μm以上で
あった。
〔実施例9〕・・・電荷注入防止層を設けた機能分離型
感光体の作製方法 (電荷注入防止層の形成方法) ガラス板上に積層したITO上に可溶性ポリアミド(東
亜合成化学、FS−175SV10)をスピンコーター
により0.5〜1μm塗布、6゜°C12時間以上乾燥
させた。
感光体の作製方法 (電荷注入防止層の形成方法) ガラス板上に積層したITO上に可溶性ポリアミド(東
亜合成化学、FS−175SV10)をスピンコーター
により0.5〜1μm塗布、6゜°C12時間以上乾燥
させた。
(電荷発生層の形成方法)
酢酸ブチル10gにブチラール樹脂(漬水化学、5LE
C)0.25g、前記したアズレニウム0ffi04塩
0.5g、ガラスピーズN01133gとを混合し、タ
ッチミキサーで1日間撹拌し、よく分散させものをドク
ターブレード、またはアプリケーターで上記電荷注入防
止層上に塗布し、60°C12時間以上乾燥させた。乾
燥後の被膜は、H’′Il−1a以下テアツタ。
C)0.25g、前記したアズレニウム0ffi04塩
0.5g、ガラスピーズN01133gとを混合し、タ
ッチミキサーで1日間撹拌し、よく分散させものをドク
ターブレード、またはアプリケーターで上記電荷注入防
止層上に塗布し、60°C12時間以上乾燥させた。乾
燥後の被膜は、H’′Il−1a以下テアツタ。
(電荷輸送層の形成方法)
テトラヒドロフラン9.5gにポリカーボネート(三菱
ガス化学、ニーピロンE2000)0゜5gと前記した
ヒドラゾン誘導体(阿南香料、CTC191)0.5g
とを溶解させ、ドクターブレードで上記電荷発生層上に
塗布し、60℃、2時間以上乾燥させた。a厚10μm
以下でありた。
ガス化学、ニーピロンE2000)0゜5gと前記した
ヒドラゾン誘導体(阿南香料、CTC191)0.5g
とを溶解させ、ドクターブレードで上記電荷発生層上に
塗布し、60℃、2時間以上乾燥させた。a厚10μm
以下でありた。
〔実施例10)
(電荷注入防止層の形成方法)
ガラス板上に積層したITO上に可溶性ポリアミド(東
亜合成化学、FS−175SV10)をスピンコーター
により0.5〜1μm塗布、60°C12時間以上乾燥
させた。
亜合成化学、FS−175SV10)をスピンコーター
により0.5〜1μm塗布、60°C12時間以上乾燥
させた。
(電荷発生層の形成方法)
テトラヒドロフラン20gにブチラール樹脂(漬水化学
、5LEC)0.5g、チタニルフタロシアニン0.2
5g、4.10−ジブロモアンスアンスロン0.25g
、ガラスピーズNo、1を33g、タッチミキサーで1
日間撹拌し、よく分散させものをドクターブレード、ま
たはアプリケーターで上記電荷注入防止層上に塗布し、
60°C12時間以上乾燥させた。乾燥後の被膜は、膜
厚1μm以下であった。
、5LEC)0.5g、チタニルフタロシアニン0.2
5g、4.10−ジブロモアンスアンスロン0.25g
、ガラスピーズNo、1を33g、タッチミキサーで1
日間撹拌し、よく分散させものをドクターブレード、ま
たはアプリケーターで上記電荷注入防止層上に塗布し、
60°C12時間以上乾燥させた。乾燥後の被膜は、膜
厚1μm以下であった。
(電荷輸送層の形成方法)
溶媒であるジクロロエタン9.5gに、ポリカーボネー
ト(三菱ガス化学、ニーピロンE2000)0.5g、
前記ヒドラゾン誘導体(阿南香料、CTC191)0.
5gを溶解し、ドクターブレードで、上記電荷発生層上
に塗布、60℃、2時間以上乾燥させた。膜厚は10μ
m以上であった。
ト(三菱ガス化学、ニーピロンE2000)0.5g、
前記ヒドラゾン誘導体(阿南香料、CTC191)0.
5gを溶解し、ドクターブレードで、上記電荷発生層上
に塗布、60℃、2時間以上乾燥させた。膜厚は10μ
m以上であった。
〔実施例11)
(感光体電極層の形成方法)
青板ガラス上に、酸化インジウム錫(ITO。
比抵抗100Ω・cm”)をスパッタリング法により蒸
着させた。
着させた。
また、EB法により同様に蒸着させることができる。
(電荷注入防止層の形成方法)
上記感光体電極層上に、二酸化珪素をスパッタリング法
により蒸着させた。
により蒸着させた。
膜厚は100〜3000人とすことができ、また二酸化
珪素の代わりに酸化アルミニウムを使用してもよく、ま
たスパッタリング法の代わりにEB法により同様に蒸着
させることができる。
珪素の代わりに酸化アルミニウムを使用してもよく、ま
たスパッタリング法の代わりにEB法により同様に蒸着
させることができる。
(電荷発生層の形成方法)
上記電荷注入防止層上に、セレン−テルル(テルル含有
量13重量%)を抵抗加熱により蒸着させた。膜厚は2
μm以下である。
量13重量%)を抵抗加熱により蒸着させた。膜厚は2
μm以下である。
(電荷輸送層の形成方法)
上記電荷発生層上に粒状セレンを使用し、抵抗加熱法に
より蒸着させた。膜厚は10μm以下である。
より蒸着させた。膜厚は10μm以下である。
〔実施例12〕・・・熱エレクトレットの作製方法ポリ
弗化ビニリデンフィルム20μm上に真空蒸着(10−
”Torr、抵抗加熱法)によりA/!ヲ1000人蒸
着したものを電荷保持媒体とし、機能分離型感光体の光
導電性感光体と共に静電潜像を形成する。
弗化ビニリデンフィルム20μm上に真空蒸着(10−
”Torr、抵抗加熱法)によりA/!ヲ1000人蒸
着したものを電荷保持媒体とし、機能分離型感光体の光
導電性感光体と共に静電潜像を形成する。
まず電荷保持媒体のAl基板側からホットプレート(3
X3cm)を接触させ、180″Cに媒体を加熱する。
X3cm)を接触させ、180″Cに媒体を加熱する。
加熱直後に感光体を電荷保持媒体に10IImの空気ギ
ャップで表面同志を対向させ、量電極間に一550vの
電圧を印加(rB光体電極を負とする)し、露光させた
。露光はハロゲンランプを光源として、10ルツクスで
、文字パターン原稿を介して感光体裏面から1秒間行っ
た。
ャップで表面同志を対向させ、量電極間に一550vの
電圧を印加(rB光体電極を負とする)し、露光させた
。露光はハロゲンランプを光源として、10ルツクスで
、文字パターン原稿を介して感光体裏面から1秒間行っ
た。
この後フィルムを自然冷却した結果、露光部(文字部)
には、−150Vの電位が測定され、未露光部には電位
が測定されなかった。この帯電パターンの形成されたフ
ィルム上に水滴を滴下し、回収した後、電位測定を行っ
た結果、前と変わらず、露光部では一150Vの電位が
測定された。
には、−150Vの電位が測定され、未露光部には電位
が測定されなかった。この帯電パターンの形成されたフ
ィルム上に水滴を滴下し、回収した後、電位測定を行っ
た結果、前と変わらず、露光部では一150Vの電位が
測定された。
一方間様の電荷保持媒体に強制的にコロナ放電で表面に
一150vの電荷を形成した後、水滴を滴下し、回収し
たところ、最初−150Vを示した露光部がOVと全く
電荷が消失した。従って加熱下での電荷形成はポリ弗化
ビニリデンの内部で分極が生じ、エレクトレフト化して
いることがわかった。
一150vの電荷を形成した後、水滴を滴下し、回収し
たところ、最初−150Vを示した露光部がOVと全く
電荷が消失した。従って加熱下での電荷形成はポリ弗化
ビニリデンの内部で分極が生じ、エレクトレフト化して
いることがわかった。
〔実施例13〕・・・光エレクトレットの作製方法1.
1mm厚のガラス支持体上に/lを、約1000人スパ
ッタリング法により積層して基板とし、そのA1層上に
硫化亜鉛を約1. 5μmの膜厚に蒸着(10−’To
rr、抵抗加熱)させた。この硫化亜鉛層面に、ガラス
上に積層したITO面を空気ギャップ10μm設けて対
向させ、両電掻間に+700vの電圧を印加(Al電極
側を負にする)した状態で、ITO基板側から露光を行
った。
1mm厚のガラス支持体上に/lを、約1000人スパ
ッタリング法により積層して基板とし、そのA1層上に
硫化亜鉛を約1. 5μmの膜厚に蒸着(10−’To
rr、抵抗加熱)させた。この硫化亜鉛層面に、ガラス
上に積層したITO面を空気ギャップ10μm設けて対
向させ、両電掻間に+700vの電圧を印加(Al電極
側を負にする)した状態で、ITO基板側から露光を行
った。
露光は実施例11と同様にして行った。その結果露光部
には+80Vの電位が測定され、未露光部には電位が測
定されなかった。この場合も実施例11と同様な水滴実
験を行ったが、回収後の電位の変化はなく、内部に電荷
の蓄積されたエレクトレットが形成された。
には+80Vの電位が測定され、未露光部には電位が測
定されなかった。この場合も実施例11と同様な水滴実
験を行ったが、回収後の電位の変化はなく、内部に電荷
の蓄積されたエレクトレットが形成された。
[実施例14]
実施例3の単層系有機感光体(PVK−↑NF )、実
施例1(a)の電荷保持媒体、及びガラス基板を使用し
、これを電極側を外側にして重ねてカメラにセットする
。その際に感光体1と電荷保持媒体3間に空隙を設ける
ため、第31図に示すように10μmのポリエステルフ
ィルムをスペーサー2として露光面以外の周囲に配置す
る。
施例1(a)の電荷保持媒体、及びガラス基板を使用し
、これを電極側を外側にして重ねてカメラにセットする
。その際に感光体1と電荷保持媒体3間に空隙を設ける
ため、第31図に示すように10μmのポリエステルフ
ィルムをスペーサー2として露光面以外の周囲に配置す
る。
感光体電極側を負、電荷保持媒体側を正にして電圧を7
00V印加し、その状態で露出r−1゜4、シャッタ−
スピード1/60秒で光学シャッターを切るか、あるい
は露出f−1,4、シャッター開放状態で1/60秒電
圧印加を行い、屋外昼間の被写体撮影を行った。
00V印加し、その状態で露出r−1゜4、シャッタ−
スピード1/60秒で光学シャッターを切るか、あるい
は露出f−1,4、シャッター開放状態で1/60秒電
圧印加を行い、屋外昼間の被写体撮影を行った。
露光OFF、電圧印加OFF後、電荷保持媒体を明るい
所、あるいは暗いで所で取り出し、■微小面積電位読取
り法によるCRT画像形成、■トナー現象による画像形
成を行った。
所、あるいは暗いで所で取り出し、■微小面積電位読取
り法によるCRT画像形成、■トナー現象による画像形
成を行った。
■では、100X100μmの微小面積表面電位測定プ
ローブをX−Y軸スキャニングを行い、100μm単位
の電位データを処理し、CRT上に電位−輝度変換によ
り画像形成を行った。電荷保持媒体上には最高露光部電
位200Vから未露光部Ovまでのアナログ電位潜像が
形成されており、その潜像をCRT上で100μmの解
像度で顕像化することができた。
ローブをX−Y軸スキャニングを行い、100μm単位
の電位データを処理し、CRT上に電位−輝度変換によ
り画像形成を行った。電荷保持媒体上には最高露光部電
位200Vから未露光部Ovまでのアナログ電位潜像が
形成されており、その潜像をCRT上で100μmの解
像度で顕像化することができた。
■では、取り出した電荷保持媒体を負に帯電した湿式ト
ナー(黒)に10秒浸漬することにより、ポジ像が得ら
れた。得られたトナー像の解像度は1、cImの高解像
度であった。
ナー(黒)に10秒浸漬することにより、ポジ像が得ら
れた。得られたトナー像の解像度は1、cImの高解像
度であった。
カラー画像の撮影は以下の方法で行った。
■プリズム型3面分割法
第20図に示すようにプリズムの3面上にR2O,Bフ
ィルターを配置し、それぞれの面に上記媒体をセットし
、f=1.4、シャツタースビー11730秒で被写体
撮影を行った。
ィルターを配置し、それぞれの面に上記媒体をセットし
、f=1.4、シャツタースビー11730秒で被写体
撮影を行った。
■カラーCRT表示法
R,G、B潜像各々を同様の方法でスキャニングして読
み取り、R,G、BWI像に対応した螢光発色をCRT
上で形成し、3色分解画像をCRT上で合成することに
よりカラー画像を得た。
み取り、R,G、BWI像に対応した螢光発色をCRT
上で形成し、3色分解画像をCRT上で合成することに
よりカラー画像を得た。
■トナー現像法
分解露光した電荷保持媒体をR,G、B潜像に対して負
に帯電したC(シアン)、M(マゼンダ)、Y(イエロ
ー)トナーで各々現像し、トナー像を形成する。トナー
が乾燥する前にシアントナー像を形成した媒体上に普通
紙を重ね、紙上に正のコロナ帯電を行い、その後、′A
離を行うと、普通紙にトナー像が転写された。さらに、
同様の方法で画像の位置を一致させて、同一箇所にマゼ
ンダトナー、イエロートナーを順次転写合成すると、普
通紙上にカラー画像が形成された。
に帯電したC(シアン)、M(マゼンダ)、Y(イエロ
ー)トナーで各々現像し、トナー像を形成する。トナー
が乾燥する前にシアントナー像を形成した媒体上に普通
紙を重ね、紙上に正のコロナ帯電を行い、その後、′A
離を行うと、普通紙にトナー像が転写された。さらに、
同様の方法で画像の位置を一致させて、同一箇所にマゼ
ンダトナー、イエロートナーを順次転写合成すると、普
通紙上にカラー画像が形成された。
以上のように本発明によれば、色修正、マスキング、像
回転、自動位置決め、シャープネス処理等印刷製版工程
で必要な画像処理を電荷保持媒体上、或いはフィルタ交
換等で簡単に行うことができるので入力操作性を向上さ
せることができ、読取りシリンダの省略、コンピュータ
の演算の簡略化等により装置をコンパクト化することが
でき、さらに、記録、読取りの時間を短縮化し、永久保
存を行うことも可能となる。
回転、自動位置決め、シャープネス処理等印刷製版工程
で必要な画像処理を電荷保持媒体上、或いはフィルタ交
換等で簡単に行うことができるので入力操作性を向上さ
せることができ、読取りシリンダの省略、コンピュータ
の演算の簡略化等により装置をコンパクト化することが
でき、さらに、記録、読取りの時間を短縮化し、永久保
存を行うことも可能となる。
第1図は本発明の電荷保持媒体の静電潜像記録方法の原
理を説明するための図、第2図は光エレクトレットを用
いた静電潜像記録方法の原理を説明するための図、第3
図は熱エレクトレットを用いた静電潜像記録方法の原理
を説明するための図、第4図は本発明の電荷保持媒体を
用いた入力スキャナーシステムを示す図、第5図は本発
明の電荷保持媒体を使用したスキャナーシステムを示す
図、第6図、第7図はカラー画像記録方法を説明するた
めの図、第8図、第9図、第10図は直流増幅型の電位
読み取り方法の例を示す図、第11図、第12図、第1
3図は交流増幅型の電位読み取り方法の例を示す図、第
14図、第15図はCTススキャン法よる電位読み取り
方法の例を示す図、第16図は集電型の電位読み取り方
法の例を示す図、第17図は電子ビーム型の電位読み取
り方法の例を示す図、第18図、第19図はトナー着色
を利用した電位読み取り方法を説明するための図、第2
0図は色分解光学系の構成を示す図、第21図はカラー
静電潜像を形成する場合の説明図、第22図は微細カラ
ーフィルタの例を示す図、第23図は微細カラーフィル
タとフレネルレンズを組み合わせた例を示す図、第24
図はNDフィルタとR,G、Bフィルタの併用による3
面分割を示す図、第25図は本発明の電荷保持媒体の露
光量に対する像電位変化特性を示す図、第26図は原稿
を所定角度回転する場合を示す図、第27図は原稿から
所定の画像を切り出す場合を示す図、第28図は原稿の
切り抜き操作を示す図、第29図はシャープネス処理を
説明するための図、第30図はa−3t:H感光体の作
製方法を説明するための図、第31図は本発明を適用し
た静電カメラによる撮影の実施例を説明するための図で
ある。 1・・・感光体、3・・・電荷保持媒体、101・・・
読取りヘッド、103・・・コンピュータ、109・・
・記録ヘッド、110・・・記録シリンダ、131・・
・レーザー、133・・・光変調器。 出 願 人 大日本印刷株式会社代理人 弁理士
蛭 川 昌 信(外4名)第1図 (ハ) 第6図 ()−,142 第7図 1↓↓↓ 3”−E==ヨ ; 射 Nト 第8図 第9図 第10図 第12図 2ム 第14図 第15図 第16;図 第17−図 第18図 第19図 第20図 第21図 】 3 第24図 第25図 第26図 第27図
理を説明するための図、第2図は光エレクトレットを用
いた静電潜像記録方法の原理を説明するための図、第3
図は熱エレクトレットを用いた静電潜像記録方法の原理
を説明するための図、第4図は本発明の電荷保持媒体を
用いた入力スキャナーシステムを示す図、第5図は本発
明の電荷保持媒体を使用したスキャナーシステムを示す
図、第6図、第7図はカラー画像記録方法を説明するた
めの図、第8図、第9図、第10図は直流増幅型の電位
読み取り方法の例を示す図、第11図、第12図、第1
3図は交流増幅型の電位読み取り方法の例を示す図、第
14図、第15図はCTススキャン法よる電位読み取り
方法の例を示す図、第16図は集電型の電位読み取り方
法の例を示す図、第17図は電子ビーム型の電位読み取
り方法の例を示す図、第18図、第19図はトナー着色
を利用した電位読み取り方法を説明するための図、第2
0図は色分解光学系の構成を示す図、第21図はカラー
静電潜像を形成する場合の説明図、第22図は微細カラ
ーフィルタの例を示す図、第23図は微細カラーフィル
タとフレネルレンズを組み合わせた例を示す図、第24
図はNDフィルタとR,G、Bフィルタの併用による3
面分割を示す図、第25図は本発明の電荷保持媒体の露
光量に対する像電位変化特性を示す図、第26図は原稿
を所定角度回転する場合を示す図、第27図は原稿から
所定の画像を切り出す場合を示す図、第28図は原稿の
切り抜き操作を示す図、第29図はシャープネス処理を
説明するための図、第30図はa−3t:H感光体の作
製方法を説明するための図、第31図は本発明を適用し
た静電カメラによる撮影の実施例を説明するための図で
ある。 1・・・感光体、3・・・電荷保持媒体、101・・・
読取りヘッド、103・・・コンピュータ、109・・
・記録ヘッド、110・・・記録シリンダ、131・・
・レーザー、133・・・光変調器。 出 願 人 大日本印刷株式会社代理人 弁理士
蛭 川 昌 信(外4名)第1図 (ハ) 第6図 ()−,142 第7図 1↓↓↓ 3”−E==ヨ ; 射 Nト 第8図 第9図 第10図 第12図 2ム 第14図 第15図 第16;図 第17−図 第18図 第19図 第20図 第21図 】 3 第24図 第25図 第26図 第27図
Claims (4)
- (1)セットされた原稿からの情報光を感光体に照射す
ることにより電荷保持媒体に形成された静電潜像の電位
を読み取ることを特徴とする静電潜像読み取り入力スキ
ャナー。 - (2)静電潜像の電位読み取りは、平面状の電荷保持媒
体上を電位読み取りヘッドで走査することにより行う請
求項1記載の静電潜像読み取り入力スキャナー。 - (3)電荷保持媒体上の静電潜像は、原稿を拡大、また
は縮小したものである請求項1記載の静電潜像読み取り
入力スキャナー。 - (4)感光体への照射光は、カラーフィルタを介して行
われる請求項1記載の静電潜像読み取り入力スキャナー
。
Priority Applications (13)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63129310A JPH01298860A (ja) | 1988-05-26 | 1988-05-26 | 静電潜像読み取り入力スキャナー |
US07/352,525 US5161233A (en) | 1988-05-17 | 1989-05-16 | Method for recording and reproducing information, apparatus therefor and recording medium |
EP96100346A EP0714093B1 (en) | 1988-05-17 | 1989-05-17 | Method for recording and reproducing information, apparatus therefor and recording medium |
ES96100346T ES2143097T3 (es) | 1988-05-17 | 1989-05-17 | Procedimiento para grabar y reproducir informacion, aparato para el mismo, y medio de grabacion. |
CA000599963A CA1339151C (en) | 1988-05-17 | 1989-05-17 | Method for recording and reproducing information, apparatus therefor andrecording medium |
IL9032389A IL90323A (en) | 1988-05-17 | 1989-05-17 | Install and mediate information entry and recovery |
DE68929129T DE68929129T2 (de) | 1988-05-17 | 1989-05-17 | Verfahren zur Informationsaufzeichnung und -wiedergabe, Vorrichtung dazu und Aufzeichnungsmedium |
EP89305010A EP0342968B1 (en) | 1988-05-17 | 1989-05-17 | Method for recording and reproducing information, apparatus therefor and recording medium |
DE68927280T DE68927280T2 (de) | 1988-05-17 | 1989-05-17 | Verfahren zur Informationsaufzeichnung und -wiedergabe, Vorrichtung dazu und Aufzeichnungsmedium |
ES89305010T ES2094728T3 (es) | 1988-05-17 | 1989-05-17 | Procedimiento para grabar y reproducir informacion, aparato para ejecutar el procedimiento indicado y medio para grabar. |
US08/462,775 US5638103A (en) | 1988-02-20 | 1995-06-05 | Method for recording and reproducing information, apparatus therefor and recording medium |
US08/462,595 US5983057A (en) | 1988-05-17 | 1995-06-05 | Color imaging system with selectively openable optical shutter |
US08/812,559 US6493013B2 (en) | 1988-05-17 | 1997-03-07 | Method for recording and reproducing information, apparatus therefor and recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63129310A JPH01298860A (ja) | 1988-05-26 | 1988-05-26 | 静電潜像読み取り入力スキャナー |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01298860A true JPH01298860A (ja) | 1989-12-01 |
Family
ID=15006408
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63129310A Pending JPH01298860A (ja) | 1988-02-20 | 1988-05-26 | 静電潜像読み取り入力スキャナー |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01298860A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5903296A (en) * | 1993-04-26 | 1999-05-11 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Photoelectric sensor, information recording system and information recording and reproducing method |
-
1988
- 1988-05-26 JP JP63129310A patent/JPH01298860A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5903296A (en) * | 1993-04-26 | 1999-05-11 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Photoelectric sensor, information recording system and information recording and reproducing method |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6493013B2 (en) | Method for recording and reproducing information, apparatus therefor and recording medium | |
US5731116A (en) | Electrostatic information recording medium and electrostatic information recording and reproducing method | |
US5439768A (en) | Electrostatic information recording medium and electrostatic information recording and reproducing method | |
CA1339152C (en) | Electrostatic information recording medium and electrostatic informationrecording and reproducing method | |
JP2842870B2 (ja) | 静電画像記録再生方法 | |
JP2716975B2 (ja) | 音声、画像情報を記録した電荷保持媒体及びその記録、再生方法 | |
JPH01298860A (ja) | 静電潜像読み取り入力スキャナー | |
JP2732855B2 (ja) | 音声情報入力機能を備えた静電カメラ | |
JP2716042B2 (ja) | 高解像度静電カメラ | |
JP2795851B2 (ja) | 静電画像記録媒体、および電荷保持媒体 | |
JP2891461B2 (ja) | トナー画像形成方法 | |
JP2835368B2 (ja) | 画像形成方法及び画像形成装置 | |
JP2667222B2 (ja) | 静電画像記録媒体 | |
JP2667198B2 (ja) | 電荷保持媒体 | |
JPH01298865A (ja) | 電荷保持媒体を用いた画像処理システム | |
JP2619948B2 (ja) | 注入電荷制御型感光体 | |
JPH01295897A (ja) | 静電荷記録カード | |
JP2980349B2 (ja) | 静電情報記録方法 | |
JPH01296255A (ja) | 電荷保持媒体 | |
JP2826119B2 (ja) | 光電子倍増効果を有する感光体、及び静電画像記録方法 | |
JPH01290368A (ja) | 静電潜像画像化システム | |
JP2962780B2 (ja) | 感光体及び静電情報記録方法 | |
JPH02176765A (ja) | 静電画像記録再生方法 | |
JP2980350B2 (ja) | 静電情報記録方法 | |
JPH02245758A (ja) | 内部蓄積型静電画像記録媒体 |