JPH01298188A - 不飽和のハロゲン化炭化水素の製造方法 - Google Patents
不飽和のハロゲン化炭化水素の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の利用分野1
本発明は、不飽和ハロゲン化炭化水素をある種のオニウ
ム化合物および金属塩の存在下に電解することによって
製造する方法に関する。
ム化合物および金属塩の存在下に電解することによって
製造する方法に関する。
[従来技術1
ハロゲン化不飽和炭化水素、例えばテトラフルオルエチ
レン、クロロトリフルオルエチレン、ビニリデンフルオ
ライドまたはへキサフルオルプロパンは、殊に弗素化合
成樹脂および不活性液の製造にとって工業的に非常に重
要である。
レン、クロロトリフルオルエチレン、ビニリデンフルオ
ライドまたはへキサフルオルプロパンは、殊に弗素化合
成樹脂および不活性液の製造にとって工業的に非常に重
要である。
ハロゲン化オレフィン、特に弗素含有オレフィンを中で
も弗素化カルボン酸の脱カルボキシ化、塩素化弗素化炭
化水素の熱分解または水素含有ハロゲン化アルカン類の
熱的あるいは塩基接触的脱ハロゲン化水素によって製造
することができる。
も弗素化カルボン酸の脱カルボキシ化、塩素化弗素化炭
化水素の熱分解または水素含有ハロゲン化アルカン類の
熱的あるいは塩基接触的脱ハロゲン化水素によって製造
することができる。
特に純粋な生成物は、例えば亜鉛を用いてメタノール中
で実施する臭素−または塩素含有弗素化炭化水素の脱ハ
ロゲン化によって得られる。
で実施する臭素−または塩素含有弗素化炭化水素の脱ハ
ロゲン化によって得られる。
この方法は多量の亜鉛塩の発生を伴うので、亜鉛を電気
化学的に製造しそして反応の後にこれを回収する方法が
開発された。か−る方法は、下記反応式 %式% に従って実施される(ドイツ特許第2,818.066
号明細書)。カソードとして亜鉛−あるいはアルミニウ
ム板が使用されるが、他の金属製カソードも適している
。カソード液はCF2Cl −CFC1z、水、塩化亜
鉛およびアニオン系界面活性剤より成る。
化学的に製造しそして反応の後にこれを回収する方法が
開発された。か−る方法は、下記反応式 %式% に従って実施される(ドイツ特許第2,818.066
号明細書)。カソードとして亜鉛−あるいはアルミニウ
ム板が使用されるが、他の金属製カソードも適している
。カソード液はCF2Cl −CFC1z、水、塩化亜
鉛およびアニオン系界面活性剤より成る。
過弗素化カチオン交換膜によって分離されたセル中で1
0〜15vおよび55 mA/cm”の電流密度のもと
で電解を行う。白金より成るアノードの所に塩素が発生
する。Ch・CFCnの収率は81.9χの電流収率の
所で約90χである。
0〜15vおよび55 mA/cm”の電流密度のもと
で電解を行う。白金より成るアノードの所に塩素が発生
する。Ch・CFCnの収率は81.9χの電流収率の
所で約90χである。
電流密度が工業的方法には低過ぎ、電圧およびこれに伴
うエネルギー消費量が多過ぎ且つ白金より成るアノード
が高価過ぎるので、この方法は不経済である。
うエネルギー消費量が多過ぎ且つ白金より成るアノード
が高価過ぎるので、この方法は不経済である。
更に有機ハロゲン化化合物、例えばcrrtc i!、
−CFCfzを脱ハロゲン化特性を持つ電気化学的に析
出する金属、例えばZn、 Sb、 As、 Cdおよ
びFeによって脱ハロゲン化することも公知である(公
表された米国特許出願第762,873号明細書)。こ
の場合、電解は金属塩の水性エタノール性溶液中で銅製
電極にて実施する。電解セル自体は分離されていないが
、アノード−およびカソード−ガスは互いに別々に補足
される。この方法の欠点は、中でも、アノード材料とし
て銅を用いることである。何故ならば銅は周知の通リア
ノード用の安定な材料でないから、非分離型電解セル中
で必ずそうである欅に、該銅の所で塩化物イオンが酸化
されて塩素に成るからである。加えて、提案された電解
セルは工業的方法に適しておらず且つ、この方法を経済
的に実施することを保証するには電流密度が低過ぎる。
−CFCfzを脱ハロゲン化特性を持つ電気化学的に析
出する金属、例えばZn、 Sb、 As、 Cdおよ
びFeによって脱ハロゲン化することも公知である(公
表された米国特許出願第762,873号明細書)。こ
の場合、電解は金属塩の水性エタノール性溶液中で銅製
電極にて実施する。電解セル自体は分離されていないが
、アノード−およびカソード−ガスは互いに別々に補足
される。この方法の欠点は、中でも、アノード材料とし
て銅を用いることである。何故ならば銅は周知の通リア
ノード用の安定な材料でないから、非分離型電解セル中
で必ずそうである欅に、該銅の所で塩化物イオンが酸化
されて塩素に成るからである。加えて、提案された電解
セルは工業的方法に適しておらず且つ、この方法を経済
的に実施することを保証するには電流密度が低過ぎる。
別の一つの方法は更に低い電流密度で実施される(ソ連
特許第520.342号明細書)。CFzCl −CF
C2□を乳化剤の存在下に水性エマルジョン状態でグラ
ファイト電極の所で30mA/cn+zの電流密度で電
解している。80χの収率で純粋な生成物が得られる。
特許第520.342号明細書)。CFzCl −CF
C2□を乳化剤の存在下に水性エマルジョン状態でグラ
ファイト電極の所で30mA/cn+zの電流密度で電
解している。80χの収率で純粋な生成物が得られる。
この方法の場合には、高価で且つ爆発の危険のある導電
性塩L+Cf0nを使用する欠点がある。
性塩L+Cf0nを使用する欠点がある。
更に、電解を、比較例1に記載した様に、工業用流動式
セル中で実施する場合に、カヂオン交換膜に14傷が発
生する。
セル中で実施する場合に、カヂオン交換膜に14傷が発
生する。
電解膜のt員傷の問題は確かに多孔質の隔膜を用いるこ
とによって克服することができる。しかしながらこの場
合にはアノード液とカドード液との混合並びにアノード
−ガスとカソード−ガスとの混合が予想されるので、一
方においてはオレフィンがアノード発生塩素と反応し、
他方においては塩素とカソードの所に生じる副生成物の
水ととからり8発性の塩素系起爆性ガスが生し得る。
とによって克服することができる。しかしながらこの場
合にはアノード液とカドード液との混合並びにアノード
−ガスとカソード−ガスとの混合が予想されるので、一
方においてはオレフィンがアノード発生塩素と反応し、
他方においては塩素とカソードの所に生じる副生成物の
水ととからり8発性の塩素系起爆性ガスが生し得る。
セラミック系ダイアグラムは色々な方法で使用される(
ソ連特許第230.131号明細書、zh、prikl
、chim、 1978 、第51巻、第701頁、第
703頁)。CFzCl −CFC12またはCF、C
ρ−CF、Cffiの如き塩素化弗素化炭化水素を塩素
化弗素化エチレンおよび四弗化エチレンの1R解は、水
および、極性有機溶剤、例えばイソプロパツール、アセ
トンまたはジオキサンとの塩基性または中性混合物中で
実施することができる。17〜34 mA/cm2の電
流密度および4〜9vの電圧のもとでの電流収率は53
.3〜21.7χである。
ソ連特許第230.131号明細書、zh、prikl
、chim、 1978 、第51巻、第701頁、第
703頁)。CFzCl −CFC12またはCF、C
ρ−CF、Cffiの如き塩素化弗素化炭化水素を塩素
化弗素化エチレンおよび四弗化エチレンの1R解は、水
および、極性有機溶剤、例えばイソプロパツール、アセ
トンまたはジオキサンとの塩基性または中性混合物中で
実施することができる。17〜34 mA/cm2の電
流密度および4〜9vの電圧のもとでの電流収率は53
.3〜21.7χである。
生じる塩酸を中和する為に添加しそして不所望の塩の発
生を引き起こす塩基のKOIIの他に、75m1のKO
JI−水溶液および75戚のイソプロパツールより成る
カソード液に、更に1時間当たり約0.15gの硝酸鉛
を、鉛カソードの活性を保持する為に添加しなければな
らない。
生を引き起こす塩基のKOIIの他に、75m1のKO
JI−水溶液および75戚のイソプロパツールより成る
カソード液に、更に1時間当たり約0.15gの硝酸鉛
を、鉛カソードの活性を保持する為に添加しなければな
らない。
セラミック製隔膜を用いることに関連する問題の他に、
上記の方法の場合にはカソードの腐食または不動態化も
生じる。カソード液への塩基および硝酸鉛溶液の添加に
よって塩を含有しているだけでなく重金属も含有する廃
水が生じる。
上記の方法の場合にはカソードの腐食または不動態化も
生じる。カソード液への塩基および硝酸鉛溶液の添加に
よって塩を含有しているだけでなく重金属も含有する廃
水が生じる。
セラミック製隔膜を用いることは、別の文献にも記載さ
れている(イタリア特許出願公開第852.487号明
細書)。この方法の場合カソードとしては、毒物学的お
よび化学技術的理由から工業的方法に不適当な金属の水
銀が特に有利である。水および水溶性溶剤、例えばジオ
キサンまたはアセI・ン、および酢酸カリウムの如き緩
衝塩より成るカソード液中で電圧調整下に電解する。
れている(イタリア特許出願公開第852.487号明
細書)。この方法の場合カソードとしては、毒物学的お
よび化学技術的理由から工業的方法に不適当な金属の水
銀が特に有利である。水および水溶性溶剤、例えばジオ
キサンまたはアセI・ン、および酢酸カリウムの如き緩
衝塩より成るカソード液中で電圧調整下に電解する。
この方法の経済性に、廃水中での多量の塩の発生、水銀
の使用およびカソードの電圧の費用の掛かる制御が著し
く悪影響を及ぼす。
の使用およびカソードの電圧の費用の掛かる制御が著し
く悪影響を及ぼす。
ハロゲン化炭化水素を例えば銅または亜鉛より成る多孔
質の疎水性合成樹脂−金属−複合電極で電解してハロゲ
ン化オレフィンとすることも公知である。この電解は中
性または僅かに塩基性の水性媒体中でまたは2モルの過
塩素酸リチウムが水中に存在する電解質中で実施する(
ソ連特許第702.702号明細書; Elektro
chimya。
質の疎水性合成樹脂−金属−複合電極で電解してハロゲ
ン化オレフィンとすることも公知である。この電解は中
性または僅かに塩基性の水性媒体中でまたは2モルの過
塩素酸リチウムが水中に存在する電解質中で実施する(
ソ連特許第702.702号明細書; Elektro
chimya。
1986、第22巻、第1132頁;C八、105.1
80351;Zh、Pr1k1.Chim、 1986
、第59巻、第1179頁、 CA、105.318
15)、塩の必然的発生および過塩素酸リチウムの場合
によっての使用の他に、Zn−電極が電解の間に親水性
であり且つスポンジ状に成るので、該電極の不安定性も
欠点である。
80351;Zh、Pr1k1.Chim、 1986
、第59巻、第1179頁、 CA、105.318
15)、塩の必然的発生および過塩素酸リチウムの場合
によっての使用の他に、Zn−電極が電解の間に親水性
であり且つスポンジ状に成るので、該電極の不安定性も
欠点である。
[発明が解決しようとする課題1
それ故に本発明の課題は、塩素化弗素化炭化水素を脱ハ
ロゲン化して塩素化弗素化−あるいは弗素化オレフィン
を生じる、上記の方法の欠点−即ち、カソードの不動態
化または腐食、毒性のある水銀の使用、イオン交換膜の
不安定性、塩素系起爆ガスを発生ずる危険、低い電流密
度、低い電流収率および廃水中での多量の塩の発生□を
伴わない経済的方法を提供することである。
ロゲン化して塩素化弗素化−あるいは弗素化オレフィン
を生じる、上記の方法の欠点−即ち、カソードの不動態
化または腐食、毒性のある水銀の使用、イオン交換膜の
不安定性、塩素系起爆ガスを発生ずる危険、低い電流密
度、低い電流収率および廃水中での多量の塩の発生□を
伴わない経済的方法を提供することである。
[発明の構成1
この課題は本発明に従う方法によって解決される。
本発明は、式
%式%
[式中、R’4よ互いに無関係に水素原子、塩素原子ま
たは弗素原子であり、 R2はR1または−C(R’)2−R’であるかまたは
、[C(R’)2]。−C(R’)zが残基R2の二つ
を意味し、R3は−(C)1□)n −CIl□−R’
、−(CFz) I、−Cll□−R5,1CFz)
n−CFz−R’または、部分的にまたは完全に弗素化
されζいる炭素原子数1〜12のアルキル基であり、 R5はR1、臭素原子、沃素原子、−Co−R’または
一8O□−R6であり、 mおよびnは互いに無関係に0または1〜12、殊に1
〜6の整数でありそして 少なくとも一つのR1が弗素原子である。1で表される
化合物を製造するに当たって、A)式 %式% [式中、R1およびR2は上述の意味を有し、R4は互
いに無関係に、塩素原子、臭素原子または沃素原子であ
る。1 で表される化合物を、分離型−または非分離型電解セル
中で、B)少なくとも一つの窒素原子または燐原子を含
有する少なくとも一種類のオニウム化合物およびC)少
なくとも一種類の可溶性金属塩の存在下に1.00 m
A/cm”の電流密度を基準として0.25Vより大き
い水素過電圧にて、D)電解質中でおよびE)、電解質
の全量を基準として5〜60重量%の少なくとも一種類
の無機−および/または有機酸および/またはそれらの
塩の存在下に大気圧または1obarまでの高圧のもと
で1〜600 mA八へ2の電流密度および一40°C
〜電解質の沸点の範囲内の温度で炭素電極の所で電解す
ることを特徴とする、上記式(1)の化合物の製造方法
に関する。この場合、成分C)では、鉛(Pb)、クロ
ム(Cr)、銅(Cu)、i艮(4g)、タリウム(T
I)およびビスマス(旧)なる金属の塩を使用する。
たは弗素原子であり、 R2はR1または−C(R’)2−R’であるかまたは
、[C(R’)2]。−C(R’)zが残基R2の二つ
を意味し、R3は−(C)1□)n −CIl□−R’
、−(CFz) I、−Cll□−R5,1CFz)
n−CFz−R’または、部分的にまたは完全に弗素化
されζいる炭素原子数1〜12のアルキル基であり、 R5はR1、臭素原子、沃素原子、−Co−R’または
一8O□−R6であり、 mおよびnは互いに無関係に0または1〜12、殊に1
〜6の整数でありそして 少なくとも一つのR1が弗素原子である。1で表される
化合物を製造するに当たって、A)式 %式% [式中、R1およびR2は上述の意味を有し、R4は互
いに無関係に、塩素原子、臭素原子または沃素原子であ
る。1 で表される化合物を、分離型−または非分離型電解セル
中で、B)少なくとも一つの窒素原子または燐原子を含
有する少なくとも一種類のオニウム化合物およびC)少
なくとも一種類の可溶性金属塩の存在下に1.00 m
A/cm”の電流密度を基準として0.25Vより大き
い水素過電圧にて、D)電解質中でおよびE)、電解質
の全量を基準として5〜60重量%の少なくとも一種類
の無機−および/または有機酸および/またはそれらの
塩の存在下に大気圧または1obarまでの高圧のもと
で1〜600 mA八へ2の電流密度および一40°C
〜電解質の沸点の範囲内の温度で炭素電極の所で電解す
ることを特徴とする、上記式(1)の化合物の製造方法
に関する。この場合、成分C)では、鉛(Pb)、クロ
ム(Cr)、銅(Cu)、i艮(4g)、タリウム(T
I)およびビスマス(旧)なる金属の塩を使用する。
少なくとも一つの窒素原子または燐原子を持つオニウム
化合物B)は以下の式([[)〜1)の化合物である: R[1 R9−N −R9(IV) 各式中、×は燐原子または窒素原子であり、R7は水素
原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルキル残基中
炭素原子数1〜18のアルアルキル基および炭素原子数
6〜12のアリール基を意味し、 R8はR7と同じかまたは−(1?7−0)、 R’を
意味し、R9はR7またはR8と同しであるかまたは−
CI+□−(Y)9C112−を意味し、 RIOは−(CI+、)、−または−CIl□−fO−
(CH2) pl。
化合物B)は以下の式([[)〜1)の化合物である: R[1 R9−N −R9(IV) 各式中、×は燐原子または窒素原子であり、R7は水素
原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルキル残基中
炭素原子数1〜18のアルアルキル基および炭素原子数
6〜12のアリール基を意味し、 R8はR7と同じかまたは−(1?7−0)、 R’を
意味し、R9はR7またはR8と同しであるかまたは−
CI+□−(Y)9C112−を意味し、 RIOは−(CI+、)、−または−CIl□−fO−
(CH2) pl。
−O−(CHz) z−であり、
pは1〜12の整数でありそして
qは0または1〜6の整数であり、
■は窒素原子、酸素原子、硫黄原子または−C11□−
でありそして 2は−OHまたは無機−または有機酸のアニオンを意味
する。これらの酸は例えば種々のハロゲン化水素酸、硫
酸、硝酸、亜硝酸、リン酸、113BO3、HBF4、
HPF6、蟻酸、酢酸およびシュウ酸がある。
でありそして 2は−OHまたは無機−または有機酸のアニオンを意味
する。これらの酸は例えば種々のハロゲン化水素酸、硫
酸、硝酸、亜硝酸、リン酸、113BO3、HBF4、
HPF6、蟻酸、酢酸およびシュウ酸がある。
式(If)の原料化合物は、複塩素化アルキル化合物、
特に適当なオレフィンのジクロライド、ジクロライドま
たはブロモクロライド付加生成物、例えば以下のオレフ
ィンから誘導されるものである: LL、2.2−テトラフルオルエチレン、1,1.2−
トリフルオル−2−クロロエチレン、1,1.2−1
−リフルオルエチレン、種々のジクロロジフルオルー、
ジフルオルー、ジフルオルクロローエチレン、Ll、2
〜トリクロロ−2−フルオルエチレン、フルオルエチレ
ン、種々のジクロロフルオル−およびクロロフルオルエ
チレン並びにヘキサフルオルプロペン。
特に適当なオレフィンのジクロライド、ジクロライドま
たはブロモクロライド付加生成物、例えば以下のオレフ
ィンから誘導されるものである: LL、2.2−テトラフルオルエチレン、1,1.2−
トリフルオル−2−クロロエチレン、1,1.2−1
−リフルオルエチレン、種々のジクロロジフルオルー、
ジフルオルー、ジフルオルクロローエチレン、Ll、2
〜トリクロロ−2−フルオルエチレン、フルオルエチレ
ン、種々のジクロロフルオル−およびクロロフルオルエ
チレン並びにヘキサフルオルプロペン。
式(n)の化合物は、非分離型セル中で電解質D)の全
量を基準として1〜60重量%、殊に5〜50重Iχの
濃度であるいは分離型セル中でカソード液口、)の全量
を基準として1〜60重量%、殊に5〜50重量%の濃
度で使用する。
量を基準として1〜60重量%、殊に5〜50重Iχの
濃度であるいは分離型セル中でカソード液口、)の全量
を基準として1〜60重量%、殊に5〜50重量%の濃
度で使用する。
本発明の方法は、分離型または非分離型セル中で実施す
る。従って分離型セル中にはカソード液D+)があるい
はアノード液D2)が存在し、他方非分離型セル中には
電解質D)だけが存在している。明細書および請求項を
解釈する時、この事実を考慮するべきである。アノード
室とカソード室とにセルを分離する為にイオン交換膜、
特に重合体、例えばポリスチレン、中でもカルボキシル
基および/またはスルホン酸基を持っ過弗化重合体より
成るカチオン交換膜を使用する。同様に安定なアニオン
交換膜も使用可能である。
る。従って分離型セル中にはカソード液D+)があるい
はアノード液D2)が存在し、他方非分離型セル中には
電解質D)だけが存在している。明細書および請求項を
解釈する時、この事実を考慮するべきである。アノード
室とカソード室とにセルを分離する為にイオン交換膜、
特に重合体、例えばポリスチレン、中でもカルボキシル
基および/またはスルホン酸基を持っ過弗化重合体より
成るカチオン交換膜を使用する。同様に安定なアニオン
交換膜も使用可能である。
電解は通例に用いられるあらゆる電解セル、例えばビー
カー型セルまたはプレート型セルおよびフレーム型セル
または固定床式−または流動床式電極を持つセル中で実
施することができる。電極の為に単極式並びに双極式電
気回路を使用することができる。
カー型セルまたはプレート型セルおよびフレーム型セル
または固定床式−または流動床式電極を持つセル中で実
施することができる。電極の為に単極式並びに双極式電
気回路を使用することができる。
電解は連続式にも不連続式にも実施することが可能であ
る。
る。
電解は一般に炭素より成るカソードの所で実施する。そ
れ故に炭素製カソードとしては、公知のあらゆる炭素電
橋材料、例えば電極用グラファイト、含浸処理したグラ
ファイト材料、多孔質グラファイト、炭素製フェルト、
ガラス様炭素および炭素−合成樹脂複合材料を使用する
ことができる。複合材料の場合には合成樹脂として例え
ばポリテトラフルオルエチレン、ポリビニリデンフルオ
ライドを使用する。アノード材料としては、問題のアノ
ード反応を進行せしめる公知のあらゆる材料を使用する
ことができる。例えば、鉛、鉛または他の支持体の上に
載った二酸化鉛、白金、チタンの上に載った、貴金属酸
化物(二酸化ルテニウム)が混入された二酸化チタンが
希硫酸から酸素を発生させるのに通している。炭素また
は、チタンの上に載った、貴金属が混入された二酸化チ
タンが、例えばアルカリ金属塩化物水溶液または水性ま
たはアルコール性塩化水素溶液から塩素を発生させるの
に適している。
れ故に炭素製カソードとしては、公知のあらゆる炭素電
橋材料、例えば電極用グラファイト、含浸処理したグラ
ファイト材料、多孔質グラファイト、炭素製フェルト、
ガラス様炭素および炭素−合成樹脂複合材料を使用する
ことができる。複合材料の場合には合成樹脂として例え
ばポリテトラフルオルエチレン、ポリビニリデンフルオ
ライドを使用する。アノード材料としては、問題のアノ
ード反応を進行せしめる公知のあらゆる材料を使用する
ことができる。例えば、鉛、鉛または他の支持体の上に
載った二酸化鉛、白金、チタンの上に載った、貴金属酸
化物(二酸化ルテニウム)が混入された二酸化チタンが
希硫酸から酸素を発生させるのに通している。炭素また
は、チタンの上に載った、貴金属が混入された二酸化チ
タンが、例えばアルカリ金属塩化物水溶液または水性ま
たはアルコール性塩化水素溶液から塩素を発生させるの
に適している。
分離型電解セルで実施する場合にはアノード液口t)を
使用する必要がある。適するアノード液は水性の鉱酸ま
たはその塩の溶液、例えば希硫酸、塩酸、硫酸ナトリウ
ム−または塩化ナトリウム溶液または塩化水素のアルコ
ール溶液である。
使用する必要がある。適するアノード液は水性の鉱酸ま
たはその塩の溶液、例えば希硫酸、塩酸、硫酸ナトリウ
ム−または塩化ナトリウム溶液または塩化水素のアルコ
ール溶液である。
アノードの所で起こる反応の例には、例えばアルカリ金
属ハロゲン化物−またはハロゲン化水素水溶液または一
アルコール溶液からハロゲンを発生するものがある。
属ハロゲン化物−またはハロゲン化水素水溶液または一
アルコール溶液からハロゲンを発生するものがある。
非分離型セル中の電解質D)または分離型セル中のカソ
ード液0+)は使用される式(■)の化合物を含有して
おり、水、一種以上の有機溶剤またはこれら両者の混合
物より成る。適する有機溶剤の例には短鎖脂肪族アルコ
ール、例えば種々のブタノール;ジオール類、例えばプ
ロパンジオール、またポリエチレングリコールおよびそ
れらのエーテル;エーテル類、例えばテトラヒドロフラ
ン;アミド類、例えばヘキザメチルーホスホン酸トリア
ミド;ニトリル類、例えばプロピオニトリル:ケトン類
、例えばアセトン;並びにスルホランまたはジメチルス
ルホキシド:特にメタノール、エタノール、種々のプロ
パツール、エチレングリコール、ジオキサン、N、N−
ジメチルホルムアミドおよびN−メチル−2−ピロリド
ンがある。
ード液0+)は使用される式(■)の化合物を含有して
おり、水、一種以上の有機溶剤またはこれら両者の混合
物より成る。適する有機溶剤の例には短鎖脂肪族アルコ
ール、例えば種々のブタノール;ジオール類、例えばプ
ロパンジオール、またポリエチレングリコールおよびそ
れらのエーテル;エーテル類、例えばテトラヒドロフラ
ン;アミド類、例えばヘキザメチルーホスホン酸トリア
ミド;ニトリル類、例えばプロピオニトリル:ケトン類
、例えばアセトン;並びにスルホランまたはジメチルス
ルホキシド:特にメタノール、エタノール、種々のプロ
パツール、エチレングリコール、ジオキサン、N、N−
ジメチルホルムアミドおよびN−メチル−2−ピロリド
ンがある。
上記の条件のもとでは、ときどき有機溶剤と生じたハロ
ゲンとの間で反応が生じ得る。この反応は不所望の副反
応生成物をもたらす。例えばメタノール、塩素および塩
化水素からはジクロロジメチルエーテルが生じる。これ
らの副反応は、水と少なくとも一種類の有機酸および/
または核酸の少なくとも一種類の塩より成る混合物であ
りそして、有機溶剤を除いて、説明した他の添加物を含
有している電解質D)あるいはカソード液0+)中で電
解することによって防止することができる。
ゲンとの間で反応が生じ得る。この反応は不所望の副反
応生成物をもたらす。例えばメタノール、塩素および塩
化水素からはジクロロジメチルエーテルが生じる。これ
らの副反応は、水と少なくとも一種類の有機酸および/
または核酸の少なくとも一種類の塩より成る混合物であ
りそして、有機溶剤を除いて、説明した他の添加物を含
有している電解質D)あるいはカソード液0+)中で電
解することによって防止することができる。
非分離型セル中で電解質D)にあるいは分離型セル中で
カソード液0.)に、100 mA/cn+”の電流密
度を基準として少なくとも0.25Vの水素過電圧を持
つC)金属の可溶性塩を、電解質またはカソード液の全
量を基準としてto−’〜10重量%、殊に104〜5
重量2の濃度で添加する。
カソード液0.)に、100 mA/cn+”の電流密
度を基準として少なくとも0.25Vの水素過電圧を持
つC)金属の可溶性塩を、電解質またはカソード液の全
量を基準としてto−’〜10重量%、殊に104〜5
重量2の濃度で添加する。
この塩の特に有利なアニオンには、C1−1SOa”
、NO3−、C!13COO−およびP04″−がある
。
、NO3−、C!13COO−およびP04″−がある
。
これらの塩は直接的に使用することもできるしまたは例
えば可溶性酸化物またはカルボナートの添加によって溶
液中に生じ得る。アニオンを選択する場合には、上記の
金属のカチオンと反応して電解質に不溶性の化合物を生
じないように注意するべきである。
えば可溶性酸化物またはカルボナートの添加によって溶
液中に生じ得る。アニオンを選択する場合には、上記の
金属のカチオンと反応して電解質に不溶性の化合物を生
じないように注意するべきである。
電解質あるいはカソード液にC)の金属塩に加えて、少
なくとも一つの窒素−または燐原子を含有する弐(I[
I)〜(V1)の化合物B)の少なくとも一種類をD)
またはり、)の全量を基準として10− ’〜10重量
%、殊に10−4〜5重量2の量で添加する。
なくとも一つの窒素−または燐原子を含有する弐(I[
I)〜(V1)の化合物B)の少なくとも一種類をD)
またはり、)の全量を基準として10− ’〜10重量
%、殊に10−4〜5重量2の量で添加する。
式([1)〜(V1)の化合物としては、特にテトラメ
チル−、テトラエチル−、テトラプロピル−、テトラブ
チル−アンモニウムまたは一ホスホニウムー、ベンジル
−、オクチル−、デシル−、ドデシル−、テトラデシル
−、ヘキサデシル−、オクタデシルメチル−アンモニウ
ムまたは−トリメチルホスホニウム、ジオクチル−、ジ
デシル−、ジドデシル−、ジテトラデシルー、ジヘキサ
デシル〜、ジオククデシルジメチルアンモニウムまたは
−ジメチルホスホニウム、メチルトリオクチルアンモニ
ウムおよびそれらの混合物が適している。しかしながら
、電解の過程でオニウム化合物を生じる第一一、第ニー
および第三−アミンも使用することができる。
チル−、テトラエチル−、テトラプロピル−、テトラブ
チル−アンモニウムまたは一ホスホニウムー、ベンジル
−、オクチル−、デシル−、ドデシル−、テトラデシル
−、ヘキサデシル−、オクタデシルメチル−アンモニウ
ムまたは−トリメチルホスホニウム、ジオクチル−、ジ
デシル−、ジドデシル−、ジテトラデシルー、ジヘキサ
デシル〜、ジオククデシルジメチルアンモニウムまたは
−ジメチルホスホニウム、メチルトリオクチルアンモニ
ウムおよびそれらの混合物が適している。しかしながら
、電解の過程でオニウム化合物を生じる第一一、第ニー
および第三−アミンも使用することができる。
化合物B)のアニオンの種類は、本発明の方法にとって
重要ではない。ハロゲン化合物−1硫酸塩−、テトラフ
ルオル硼酸塩−およびヒドロキシド−イオンが特に有利
である。
重要ではない。ハロゲン化合物−1硫酸塩−、テトラフ
ルオル硼酸塩−およびヒドロキシド−イオンが特に有利
である。
導電性を高める為には、分離型セルではカソード液にま
たは非分離型セルでは電解質に成分ε)として成分E)
として少なくとも一種類の無機−および/または有機酸
並びにそれらの塩を電解質の全量を基準として5〜60
重量2、殊に10〜50重量%の濃度で添加する。無機
酸としては塩酸、硼酸、燐酸、硫酸またはテトラフルオ
ル硼酸を使用することができるが、この場合有機酸に添
加するのが有利である。有機酸としては水溶性のモノ−
またはジカルボン酸、例えばC1〜C1−アルカン−カ
ルボン酸、例えば蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸また
はバレリン酸並びにハロゲン化酸、例えばクロロ酢酸ま
たはトリフルオル酢酸; マロン酸またはコハク酸、エ
ーテルカルボン酸、例えばメトキシ−またはエトキシ酢
酸並 びに下記式の弗素化エーテルカルボン酸CF3CPZ−
CFZ−0−(CF−CFZ0)、 −CF−COol
l(式中、rはO〜2である。); C+〜Cs−ア
ルカンスルホン酸、例えばメタン−およびエタンスルホ
ン酸並びにハロゲン化酸、例えばトリフルオルメタンス
ルホン酸;芳香族スルホン酸、例えばベンゼンスルホン
酸またはトルエンスルホン酸並びにC3〜C1−アルカ
ンホスホン酸、例えばメタン−またはエタンホスホン酸
が適している。
たは非分離型セルでは電解質に成分ε)として成分E)
として少なくとも一種類の無機−および/または有機酸
並びにそれらの塩を電解質の全量を基準として5〜60
重量2、殊に10〜50重量%の濃度で添加する。無機
酸としては塩酸、硼酸、燐酸、硫酸またはテトラフルオ
ル硼酸を使用することができるが、この場合有機酸に添
加するのが有利である。有機酸としては水溶性のモノ−
またはジカルボン酸、例えばC1〜C1−アルカン−カ
ルボン酸、例えば蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸また
はバレリン酸並びにハロゲン化酸、例えばクロロ酢酸ま
たはトリフルオル酢酸; マロン酸またはコハク酸、エ
ーテルカルボン酸、例えばメトキシ−またはエトキシ酢
酸並 びに下記式の弗素化エーテルカルボン酸CF3CPZ−
CFZ−0−(CF−CFZ0)、 −CF−COol
l(式中、rはO〜2である。); C+〜Cs−ア
ルカンスルホン酸、例えばメタン−およびエタンスルホ
ン酸並びにハロゲン化酸、例えばトリフルオルメタンス
ルホン酸;芳香族スルホン酸、例えばベンゼンスルホン
酸またはトルエンスルホン酸並びにC3〜C1−アルカ
ンホスホン酸、例えばメタン−またはエタンホスホン酸
が適している。
上記酸の塩としては、アンモニウム−、ナトリウム−、
カリウム−または自〜C4−テトラアルキルーアンモニ
ウム塩を使用する。
カリウム−または自〜C4−テトラアルキルーアンモニ
ウム塩を使用する。
蟻酸−1酢酸−、クロロ酢酸−、トリフルオル酢酸〜、
プロピオン−並びにメトキシ酢酸および弗素化エーテル
カルボン酸 CF3 CF3 CF3−CFZ−CFZ−Q−(CP−CF−CF2−
0)、 −CF−COoll(式中、rはOまたは1で
ある。)並びにメタンーおよびエタン−スルホン酸およ
び一ホスホン酸およびそれらの塩が特に有利である。
プロピオン−並びにメトキシ酢酸および弗素化エーテル
カルボン酸 CF3 CF3 CF3−CFZ−CFZ−Q−(CP−CF−CF2−
0)、 −CF−COoll(式中、rはOまたは1で
ある。)並びにメタンーおよびエタン−スルホン酸およ
び一ホスホン酸およびそれらの塩が特に有利である。
非分離型セルで電解する場合には、遊^Uのハロゲンが
生じるのを回避する為に、遊離するハロゲン−イオンよ
りも負の電位で酸化される化合物を電解質に添加しても
よい。例えばアニオンのZが蓚酸、メトキシ酢酸、グリ
オキシル酸、蟻酸および/またはアジ化水素酸の残基で
ある弐(III)および(IV)の化合物、例えば上記
酸のテトラエチルーおよびテトラエチル−アンモニウム
化合物が適している。
生じるのを回避する為に、遊離するハロゲン−イオンよ
りも負の電位で酸化される化合物を電解質に添加しても
よい。例えばアニオンのZが蓚酸、メトキシ酢酸、グリ
オキシル酸、蟻酸および/またはアジ化水素酸の残基で
ある弐(III)および(IV)の化合物、例えば上記
酸のテトラエチルーおよびテトラエチル−アンモニウム
化合物が適している。
−aに電解は大気圧で実施する。適する有機酸あるいは
その塩の若干のものは上記の条件のもとで、特に低温に
おいて充分に溶解せず且つ出発物質の若干のものは非常
に低い沸点を有しているので、電解を10 barまで
の、殊に7barまで、特に5 barまでの高圧およ
び場合によっては高温のもとで実施する必要があり得る
。電解の際の電流密度は一般に1〜600 mA/cm
2、好ましくは10〜500mΔ/cm2、特に20〜
400 ra八へcm2である。
その塩の若干のものは上記の条件のもとで、特に低温に
おいて充分に溶解せず且つ出発物質の若干のものは非常
に低い沸点を有しているので、電解を10 barまで
の、殊に7barまで、特に5 barまでの高圧およ
び場合によっては高温のもとで実施する必要があり得る
。電解の際の電流密度は一般に1〜600 mA/cm
2、好ましくは10〜500mΔ/cm2、特に20〜
400 ra八へcm2である。
電解温度は一40°C〜用いる電解質あるいはカソード
液の沸点、殊に一30〜90’C,特に−10〜80°
Cの範囲内である。
液の沸点、殊に一30〜90’C,特に−10〜80°
Cの範囲内である。
高圧の下での電解は、電解質あるいはカソード液の沸点
を比較的に高い値に変えることを可能とし、その結果出
発化合物および酸あるいは塩の熔解性を改善する。
を比較的に高い値に変えることを可能とし、その結果出
発化合物および酸あるいは塩の熔解性を改善する。
電解質のphi−値はO〜14の周知のpH−範囲で変
えることができる。
えることができる。
しかしながら7より小さいpI(−値で電解するのが有
利である。何故ならば、か\る条件のもとでは用いる金
属イオンが分離型セルのカチオン交換膜を崩壊し得る難
溶性化合物を生しないからである。電解を5〜0.2の
pH一値で実施するのが特に有利である。
利である。何故ならば、か\る条件のもとでは用いる金
属イオンが分離型セルのカチオン交換膜を崩壊し得る難
溶性化合物を生しないからである。電解を5〜0.2の
pH一値で実施するのが特に有利である。
一般に反応生成物は気相状態であるいは高圧下では凝縮
した状態で電解装置を離れ、適当な容器、例えば冷却用
トラップに集められる。
した状態で電解装置を離れ、適当な容器、例えば冷却用
トラップに集められる。
電解質あるいはカソード液の後処理、非気体状生成物の
単離並びに未反応ハロゲン化炭化水素の回収は公知のよ
うに抽出および/または蒸留によって行う。添加される
金属塩および式(lI[)〜(V1)の化合物あるいは
電解質またはカソード液中に含まれる酸あるいは塩を、
好ましくは電解段階に再び案内することができる。
単離並びに未反応ハロゲン化炭化水素の回収は公知のよ
うに抽出および/または蒸留によって行う。添加される
金属塩および式(lI[)〜(V1)の化合物あるいは
電解質またはカソード液中に含まれる酸あるいは塩を、
好ましくは電解段階に再び案内することができる。
何故ならば原料生成物および生じたハロゲン化水素酸が
殆どの場合に有機酸より低い沸点であり容易に分離でき
るからである。ハロゲン化水素酸はアノード液に供給し
てもよく、そこで酸化されてハロゲンと成る。
殆どの場合に有機酸より低い沸点であり容易に分離でき
るからである。ハロゲン化水素酸はアノード液に供給し
てもよく、そこで酸化されてハロゲンと成る。
本発明の方法で得られる生成物は弗素を含有する重合体
を製造する為の原料として適している。
を製造する為の原料として適している。
以下の実施例で二種類の電解セルを使用するが、何れの
場合にも分離型セルを使用する。
場合にも分離型セルを使用する。
七届九乞」」
0.02 mzの電極面積を持ついわゆる循環セル。
カソードとして電極用グラファイトまたは含浸処理し、
たグラファイト[Diabon(商標)N、製造元:
Sigri社、西ドイツ、マイティンゲン(Meiti
ngen)]をそしてアノードとして含浸処理したグラ
ファイトまたは白金板を使用する。アノード液:15〜
35χ濃度塩酸水、メタノール性飽和塩酸または0.5
〜2Nの硫酸水。電極間隔は4mmでありそしてスペー
サーとしてポリエチレン製網を使用する。カチオン交換
膜は、ベルフルオルスルホニル−エトキシビニルエーテ
ルとテトラフルオルエチレンとの共重合体より成る二層
−または単層膜である[Nafion(商標)324ま
たは423 、DuPont社、ウイルミントン、プラ
ウエア州、米国]。
たグラファイト[Diabon(商標)N、製造元:
Sigri社、西ドイツ、マイティンゲン(Meiti
ngen)]をそしてアノードとして含浸処理したグラ
ファイトまたは白金板を使用する。アノード液:15〜
35χ濃度塩酸水、メタノール性飽和塩酸または0.5
〜2Nの硫酸水。電極間隔は4mmでありそしてスペー
サーとしてポリエチレン製網を使用する。カチオン交換
膜は、ベルフルオルスルホニル−エトキシビニルエーテ
ルとテトラフルオルエチレンとの共重合体より成る二層
−または単層膜である[Nafion(商標)324ま
たは423 、DuPont社、ウイルミントン、プラ
ウエア州、米国]。
を舷丸火」ユ
350 rtdlの容量を持つ被覆されたガラス製ポッ
ト型セル。カソード[Diabon(商標)N1製造元
:Sigri社、西ドイツ、マイテインゲン(Meit
ingen)]; アノード:白金製ネット、グラファ
イトまたは鉛板(20cm”)Hカソード表面積: 1
2cm” ;電極間隔: 1.5 cm;アノード液:
電解セルlにおこるのと同し;カチオン交換膜: Na
fion 324;′4!/J質移動;マグネット・ス
タラー。
ト型セル。カソード[Diabon(商標)N1製造元
:Sigri社、西ドイツ、マイテインゲン(Meit
ingen)]; アノード:白金製ネット、グラファ
イトまたは鉛板(20cm”)Hカソード表面積: 1
2cm” ;電極間隔: 1.5 cm;アノード液:
電解セルlにおこるのと同し;カチオン交換膜: Na
fion 324;′4!/J質移動;マグネット・ス
タラー。
(実施例I
U電解セル1;
出発カソード液:3p!、のメタノール、200 ml
の希塩酸、5g(7)[CH3(CeHlff)3Ni
’ (J!−,2gのPb (OCOCH3) 2・2
+120 および710gのC1,1−CFCf!、
2゜ 連続的に運転する電解の過程でカソード液に回分的に2
.2kgのC112CI! −CFCI! zおよび4
gの酢酸鉛を添加する。生しるCF2・CFCβは気体
状態で電解室を離れそして冷却用トラップで一78°C
で凝縮する。
の希塩酸、5g(7)[CH3(CeHlff)3Ni
’ (J!−,2gのPb (OCOCH3) 2・2
+120 および710gのC1,1−CFCf!、
2゜ 連続的に運転する電解の過程でカソード液に回分的に2
.2kgのC112CI! −CFCI! zおよび4
gの酢酸鉛を添加する。生しるCF2・CFCβは気体
状態で電解室を離れそして冷却用トラップで一78°C
で凝縮する。
温度:38〜25°C1電圧: 9.5〜7 V 。
電流密度: 250 mA/cm2、流u: 1,10
00時。
00時。
331A時の電荷消費の後に電解を中断し、カソード液
を蒸留によって後処理する。1150gのCHzCj2
−CFCj22が回収される。凝縮したガスを冷間蒸留
に委ねる。収量; 636gのCFz・CFC197,
6χ)、電流収率88.4χである。
を蒸留によって後処理する。1150gのCHzCj2
−CFCj22が回収される。凝縮したガスを冷間蒸留
に委ねる。収量; 636gのCFz・CFC197,
6χ)、電流収率88.4χである。
■電解セル1:
出発カソード)夜;21のエタノール、200雁の濃塩
酸、2gのPb(OCOCIIs) z・211□0.
2gの((CallJaPビl3r−,600gのCH
zC42−CFCl z。
酸、2gのPb(OCOCIIs) z・211□0.
2gの((CallJaPビl3r−,600gのCH
zC42−CFCl z。
温度:28〜23℃、電圧=12〜9.51/。
電流密度: 200 mA/cm”、流i: 100M
!/時。
!/時。
132A時の電荷消費の後に蒸留によって精製した後に
179g CFz=CFCe (99χ)が得られる
。
179g CFz=CFCe (99χ)が得られる
。
電流収率は67″tである。
其電解セル2、出発カソード液: 150 mlのジメ
チルホルムアミド、10m1の濃塩酸、0.5gのBi
(N(h)s、0,5gのic[t3(Ca)I+t)
Jl’ (、j!−,10gのCFzBr−CFC42
Br0 温度:40〜28°C1電圧:初めに4了り、次いで1
6 Vに下げる。電流密度: 250 mへ/ cm
2゜9^時の電荷消費の後、蒸発精製後に17.’1g
のCF2=CFCE (99,3χ)が得られる。29
.6gのCF2Br−CFBrCi!、が回収される。
チルホルムアミド、10m1の濃塩酸、0.5gのBi
(N(h)s、0,5gのic[t3(Ca)I+t)
Jl’ (、j!−,10gのCFzBr−CFC42
Br0 温度:40〜28°C1電圧:初めに4了り、次いで1
6 Vに下げる。電流密度: 250 mへ/ cm
2゜9^時の電荷消費の後、蒸発精製後に17.’1g
のCF2=CFCE (99,3χ)が得られる。29
.6gのCF2Br−CFBrCi!、が回収される。
電流収率は85.3χである。
り一電解セル2を使用するが、アノード° およびカソ
ード室をNeosepta (商標)AV−4T (製
造元徳山ソーダ、徳山市、日本のアニオン交換膜によっ
て互い分離する点を変える。
ード室をNeosepta (商標)AV−4T (製
造元徳山ソーダ、徳山市、日本のアニオン交換膜によっ
て互い分離する点を変える。
出発カソード液: 200 dのメタノール、20m1
の濃塩酸、IgのCrz(SO4)i 、2 gの((
Cr bHzz) zN(Ct!3)zl’ cg−,
70gのCF2Br−CFC1,Br。
の濃塩酸、IgのCrz(SO4)i 、2 gの((
Cr bHzz) zN(Ct!3)zl’ cg−,
70gのCF2Br−CFC1,Br。
温度:20〜22’C,電圧:10〜IIV。
電流密度: 167 mA/c+n2 。
8A時の電荷消費の後に35.6gのCF2Br−CF
BrCpが転化した際に蒸留によって15g(99,3
χ)のCF2・CFCfが得られる。
BrCpが転化した際に蒸留によって15g(99,3
χ)のCF2・CFCfが得られる。
5) 電11qセル2を使用するが、非弗素化重合体
Selemion (商標)LMV/C)IR(製造元
コアサヒガラス、東京、日本)より成るカチオン交換膜
を使用する点を変える。
Selemion (商標)LMV/C)IR(製造元
コアサヒガラス、東京、日本)より成るカチオン交換膜
を使用する点を変える。
出発カソードl夜=150成のメタノール、10 ml
の1lBF、(50χ濃度水溶液) 、0.5gの八g
NO3,1gの[(CI61133)N(C113)
3] ’ Br−,70gのCPzBr−CFCβ)3
r0 温度:20〜25°C1電圧:lo−12ν。
の1lBF、(50χ濃度水溶液) 、0.5gの八g
NO3,1gの[(CI61133)N(C113)
3] ’ Br−,70gのCPzBr−CFCβ)3
r0 温度:20〜25°C1電圧:lo−12ν。
電流密度:l67m八/cへ2 。
8八時の電荷消費および35.5gのCF2Br−CF
CfBrの転化した後に蒸留によって14.1g(92
,8χ)のCF2・CFCfが得られる。
CfBrの転化した後に蒸留によって14.1g(92
,8χ)のCF2・CFCfが得られる。
6) 電解セル2゜
出発カソード液: 150 In1のジオキサン、50
m!のN、N−ジメチルホルムアミド、15m1のII
BFn(50X水溶液) 、Igの[(C4H9)4N
I ’ H3O4−,0,58のT/2Cf、70gの
CFzBr−CFBrCIl 。
m!のN、N−ジメチルホルムアミド、15m1のII
BFn(50X水溶液) 、Igの[(C4H9)4N
I ’ H3O4−,0,58のT/2Cf、70gの
CFzBr−CFBrCIl 。
温度=35〜30°C1電圧:40〜20 V。
電流密度: 250 mA/cm” 。
11.5 A時の電荷消費および35gのCFzBr−
CFC42Brの転化の後に蒸留精製によって14.g
(94,2χ)のCF2=CFCAが得られる。
CFC42Brの転化の後に蒸留精製によって14.g
(94,2χ)のCF2=CFCAが得られる。
亙 電解セル1を使用するが、アノードがガラス様炭素
[Sigradur (商標に、製造元: Sigri
社、西ドイツ、マイツィゲン1 より成る点を変える。
[Sigradur (商標に、製造元: Sigri
社、西ドイツ、マイツィゲン1 より成る点を変える。
アノード液として水にHBF、を溶解した25χ濃度溶
液を用いる。
液を用いる。
出発カソード液: 3Pのメタノール、200 mlの
希薄塩素酸、2gのPb(OCOC113) 2・21
1□0.3gの[CH3(Ca11.?)3N)]”
(1−,1000gのCF2Br−C11FCj2゜ 電解の間に更に835gのCFzBr−CHFClをカ
ソード液に添加する。電解精製を連続手に冷却トラップ
に一78°Cで集める。
希薄塩素酸、2gのPb(OCOC113) 2・21
1□0.3gの[CH3(Ca11.?)3N)]”
(1−,1000gのCF2Br−C11FCj2゜ 電解の間に更に835gのCFzBr−CHFClをカ
ソード液に添加する。電解精製を連続手に冷却トラップ
に一78°Cで集める。
温度=36〜49°C1電圧: 9.5〜8 V 。
電流密度: 250 mA/cmz、流M: 1500
42/時。
42/時。
476A時の電荷消費の後に電解を中断し、カソード液
を蒸留によって後処理する。194gのCFZ・CFH
iが回収される。680gのCPZ=CFIl(枚重:
99χ)が得られる。電流牧率は93.9χである。
を蒸留によって後処理する。194gのCFZ・CFH
iが回収される。680gのCPZ=CFIl(枚重:
99χ)が得られる。電流牧率は93.9χである。
貼 電解セル1゜
出発カソード液:2.l!のエタノール、200 dの
濃塩酸、500gのCFzCl−CCQs 、IgのP
b (OCOCH3)! ・2tlzO52gの[(C
aHJ4N)ドBr−0温度=28〜46°C1電圧;
13〜?、5V。
濃塩酸、500gのCFzCl−CCQs 、IgのP
b (OCOCH3)! ・2tlzO52gの[(C
aHJ4N)ドBr−0温度=28〜46°C1電圧;
13〜?、5V。
電流密度: 200 mA/cmZ、流量: 500
p、7時。
p、7時。
電解の間に生成物を400 mbarの減圧のもとで連
続的にカソード液から留去する。
続的にカソード液から留去する。
300A時の電荷消費の後に263g (86,9χ)
のcp、・CC1z(枚重: 86.9χ)が得られ、
カソード液から35gのCFzCI2.=CCl zが
回収される。
のcp、・CC1z(枚重: 86.9χ)が得られ、
カソード液から35gのCFzCI2.=CCl zが
回収される。
■ 電解セル2゜
出発電解質:180mj!のメタノール、5gの[(C
Il1)JP)] ” BFa−,20gのCh−CF
Br−CF、Br、 0.7gのCu5O1゜ 温度:30〜48°C1電圧:28〜IOV。
Il1)JP)] ” BFa−,20gのCh−CF
Br−CF、Br、 0.7gのCu5O1゜ 温度:30〜48°C1電圧:28〜IOV。
電流密度: 166 mA/cm”。
2.87 A時の電荷消費の後ニ5.8g(72,52
) ノCP3・cp−cptが得らる。
) ノCP3・cp−cptが得らる。
刊)電解セル2゜
28.7gのCCI z−CPCf−CFCI2 z
、200 mlのメタノール、0.5gのPb(OCO
CII:+) 2・2+1.0.4gの[(CI+3)
4P)]” CI!、−0 電流密度: 170 mA/cm”、電圧:初めは60
νで次いで9νに下げる、温度:30°C022,2A
時の電荷消費の後にカソード液を500m1の水と混合
し、ペンタンで抽出処理する。ペンタンの蒸留の後に以
下のものが得られる:5.97gのCCρ3CFCl
−CCe z、15.41g (89,9χ)のCCf
z=cFc l□、0.098のC1,FC=CF−
CCl x、0.07gのHFC=CF−CCl 3.
0.098のCHCf z−CFCI−CFCj!z旦
り電解セル2; 出発カソード液: 20gのCFJr−CFBr−Cl
lz−CHz、100 mlのメタノール、2gの[(
CH:1) 4N] ” C1−10,5gの[(C4
H9)4N]” +1504−.0.2gのPb(OC
OCH3*) z・21120゜ 電荷消費量: 4.93八時、温度:40〜24°C1
電流密度: 164〜41 mA/cm” 、電圧:1
3〜4.5V。
、200 mlのメタノール、0.5gのPb(OCO
CII:+) 2・2+1.0.4gの[(CI+3)
4P)]” CI!、−0 電流密度: 170 mA/cm”、電圧:初めは60
νで次いで9νに下げる、温度:30°C022,2A
時の電荷消費の後にカソード液を500m1の水と混合
し、ペンタンで抽出処理する。ペンタンの蒸留の後に以
下のものが得られる:5.97gのCCρ3CFCl
−CCe z、15.41g (89,9χ)のCCf
z=cFc l□、0.098のC1,FC=CF−
CCl x、0.07gのHFC=CF−CCl 3.
0.098のCHCf z−CFCI−CFCj!z旦
り電解セル2; 出発カソード液: 20gのCFJr−CFBr−Cl
lz−CHz、100 mlのメタノール、2gの[(
CH:1) 4N] ” C1−10,5gの[(C4
H9)4N]” +1504−.0.2gのPb(OC
OCH3*) z・21120゜ 電荷消費量: 4.93八時、温度:40〜24°C1
電流密度: 164〜41 mA/cm” 、電圧:1
3〜4.5V。
実施例10と同様に後処理する。
電解の結果:
0.88のChC1−CFBr−Cllz−C113,
8,3g (79,62) (7)CFz=CF−CH
z−CIli。
8,3g (79,62) (7)CFz=CF−CH
z−CIli。
肛電解セル2:
出発カソード液:10gのCFzBr−CFCI!、−
cllZ−cllZ−Br 、 100 mllのメタ
ノール、2gの[(Cl13) 4Nl ”CI!、
−0,5gの[(C4119) 4N] ” Br\0
.2gのPb (OCOCH3+) z・21hO0 電荷消費量; 2.L A時、温度=12〜10″C1
12〜10°C1電流密1A/C11” 、電圧:9〜
7.2V。
cllZ−cllZ−Br 、 100 mllのメタ
ノール、2gの[(Cl13) 4Nl ”CI!、
−0,5gの[(C4119) 4N] ” Br\0
.2gのPb (OCOCH3+) z・21hO0 電荷消費量; 2.L A時、温度=12〜10″C1
12〜10°C1電流密1A/C11” 、電圧:9〜
7.2V。
実施例10と同様に後処理する。
電解の結果;
0、1gのCPJr−CFCl −C1h−CHzBr
。
。
2.73g (67,7χ)のCFz=CF−CIlz
−C1lz−Br 。
−C1lz−Br 。
匪電解セル2:
出発カソード液:10gのCFJr−CFCl −(C
Hz) 3−CHlBr 、100 mlのメタノール
、2gの[(CI+3) 4N] ”CZ−10,5g
の[(C4)I9) 4N] ” tlsOn\0.2
gのPb(OCOCH3) z・2H,0゜電荷消費量
: 1.66 A時、温度:17〜15°C1電流密度
: 82〜41mA/cm”、電圧:13〜7v0実施
例10と同様に後処理する。
Hz) 3−CHlBr 、100 mlのメタノール
、2gの[(CI+3) 4N] ”CZ−10,5g
の[(C4)I9) 4N] ” tlsOn\0.2
gのPb(OCOCH3) z・2H,0゜電荷消費量
: 1.66 A時、温度:17〜15°C1電流密度
: 82〜41mA/cm”、電圧:13〜7v0実施
例10と同様に後処理する。
電解の結果;
0.49g のCFJr−CFCf −(C112)
3−CIIZ口r4.9g (75χ)のCFz=CF
−(C1lz) 1−C11zBr 。
3−CIIZ口r4.9g (75χ)のCFz=CF
−(C1lz) 1−C11zBr 。
10−電解セル2:
出発カソード液: 200 mQのイソプロパツール、
100mfのN、N−ジメチルホルムアミド、80m1
の水、8gノ[(CH,)、N]’ 0302−OCl
lff −,1,6g(7)Pb(OCOC113)2
・211□0.20gのCF2Cff −CFCffi
−CF2Cff 。
100mfのN、N−ジメチルホルムアミド、80m1
の水、8gノ[(CH,)、N]’ 0302−OCl
lff −,1,6g(7)Pb(OCOC113)2
・211□0.20gのCF2Cff −CFCffi
−CF2Cff 。
温度:46〜35°C1電流密度:166〜83mA/
cm2、電圧:20〜6v、電荷消費量: 4.32八
時。
cm2、電圧:20〜6v、電荷消費量: 4.32八
時。
電解の間に6.9gの凝縮物が冷却トラップに集まる。
未だカソード液中に溶解している生成物を減圧(40°
C1400C140O下に得る。全部で7.8g(87
,1χ’) ノCl12Cff−CF=CFZ(沸点7
.5°C)が得られる。
C1400C140O下に得る。全部で7.8g(87
,1χ’) ノCl12Cff−CF=CFZ(沸点7
.5°C)が得られる。
↓ω−電解セルl;
出発カソード液: 1000100Oの酢酸(100χ
)、500gの酢酸す1−リウム、3000ccmの水
、1000gのCF21−CFClz 、2gのPb(
OCOCH3) z・211□0.2gの[CH3(C
all + 5) 3N] ”Ce−0温度:35〜/
15’C1電流密度: 200 mA/clI12、電
圧:IO〜9V、流l: 40017時、pl+−値:
4.2゜生しるcp2=cFc 1はカソード室から気
体状で刈れ、−78’Cで冷却トラップで凝縮される。
)、500gの酢酸す1−リウム、3000ccmの水
、1000gのCF21−CFClz 、2gのPb(
OCOCH3) z・211□0.2gの[CH3(C
all + 5) 3N] ”Ce−0温度:35〜/
15’C1電流密度: 200 mA/clI12、電
圧:IO〜9V、流l: 40017時、pl+−値:
4.2゜生しるcp2=cFc 1はカソード室から気
体状で刈れ、−78’Cで冷却トラップで凝縮される。
195^時の荷電消費および6.6pの水素の発生後に
電解を中断し、カソード液から未反応の出発生成物35
1gを蒸留によって回収する。
電解を中断し、カソード液から未反応の出発生成物35
1gを蒸留によって回収する。
凝縮したガスを冷間蒸留に委ね、その際に372g (
95,1χ)のCF、=Cr’Cffiが得られる。
95,1χ)のCF、=Cr’Cffiが得られる。
電流収率は87.8χである。
肛電解セル1:
出発カソード液: 2000mfの酢酸(100χ)、
2000ccmの水、500gcmの(4月1cj2.
1550gのChCl−ChCffi/CF+−CFC
ffiz(混合比82/1B) 、2gのPb(OCO
C113)z・211□0.2gの[Cth (Cal
l + s) sNドCZ−0温度: 0〜5°C1電
流密度: 200 m67cm”、 電圧:11〜9V
、流ji: 4001/時。
2000ccmの水、500gcmの(4月1cj2.
1550gのChCl−ChCffi/CF+−CFC
ffiz(混合比82/1B) 、2gのPb(OCO
C113)z・211□0.2gの[Cth (Cal
l + s) sNドCZ−0温度: 0〜5°C1電
流密度: 200 m67cm”、 電圧:11〜9V
、流ji: 4001/時。
生成物は気体状態でカソード液を離れる。随行される出
発生成物および生じた副生成物は前後に連結された二つ
の冷却トラップにおいて一78°Cで凝縮される。生成
物は一196°Cで冷却トラップに集める。
発生成物および生じた副生成物は前後に連結された二つ
の冷却トラップにおいて一78°Cで凝縮される。生成
物は一196°Cで冷却トラップに集める。
262^時の電荷消費および40.3fの水素発生の後
に電解を中止し、カソード液を蒸留によって後処理する
。冷却トラップの内容物を冷間蒸留に委ねる。全部で下
記量が得られる: 192.7gのCF、=CF2(反
応したCF2Cf −CFz Cffiを基準として8
0,2χの枚重) 、956 gの出発生成物および1
00gのCF3−CHCQ F 。
に電解を中止し、カソード液を蒸留によって後処理する
。冷却トラップの内容物を冷間蒸留に委ねる。全部で下
記量が得られる: 192.7gのCF、=CF2(反
応したCF2Cf −CFz Cffiを基準として8
0,2χの枚重) 、956 gの出発生成物および1
00gのCF3−CHCQ F 。
!JL電解セル1:
出発カソード液: 500gの
CF3 CF3
CF3−CF2−CF2−0−CF−CF、−0−CF
−COOH,1000gの水、600gのCFzC12
CFCjl!z 、2gのPb(OCOCllz) z
・211□0.5gの[(C4119) 4Pl ’C
11〜、1gの[CH3(Call + s) Jl
”i−0 温度:25〜45’C1電流密度: 200 mA/c
m2、電圧=14〜12ν、流量: 400 !−7時
、pH−値:1゜4〜0,6゜ 生じるCFz・CFCfはカソード室を気体状で離れそ
して冷却トラップにおいて一78°CT:凝縮される。
−COOH,1000gの水、600gのCFzC12
CFCjl!z 、2gのPb(OCOCllz) z
・211□0.5gの[(C4119) 4Pl ’C
11〜、1gの[CH3(Call + s) Jl
”i−0 温度:25〜45’C1電流密度: 200 mA/c
m2、電圧=14〜12ν、流量: 400 !−7時
、pH−値:1゜4〜0,6゜ 生じるCFz・CFCfはカソード室を気体状で離れそ
して冷却トラップにおいて一78°CT:凝縮される。
102^時の電荷消費および82.1ffの水素発生の
後に電解を中止し、420gの未反応出発生成物をカソ
ード液から蒸発によって回収する。
後に電解を中止し、420gの未反応出発生成物をカソ
ード液から蒸発によって回収する。
凝縮したガスの量は97g(枚重: 87.8χ)であ
る。
る。
電流収率は43.2χである。
■し電解セル1:
出発カソード液: 350 dのメタンスルホン酸(7
0% (7)水溶液) 、300g(020X ’a、
度KOH溶液、lOlooOの水、300gのCFtC
ICF C1z 、2gのPb (OCOCH3) z
・211□0.1gの[(C4H9) 4P] ”■じ
、温度:30〜45’C1電圧:12〜9v、電流密度
:150111A/cm”、流M: 400 x/時、
pH一値: 0.8〜0゜2゜ 生じるCF、・CFCfはカソード室を気体状で離れそ
して冷却トラップにおいて一78°C7’lj縮される
。電解の過程でカソード液に110g/時、即ち全部で
600gのCF2CI!、−CFCf 2を後から配量
供給する。162^時の電荷消費および5.11!、の
水素発生の後に電解を中止し、674gの未反応出発生
成物をカソード液から蒸発によって回収する。
0% (7)水溶液) 、300g(020X ’a、
度KOH溶液、lOlooOの水、300gのCFtC
ICF C1z 、2gのPb (OCOCH3) z
・211□0.1gの[(C4H9) 4P] ”■じ
、温度:30〜45’C1電圧:12〜9v、電流密度
:150111A/cm”、流M: 400 x/時、
pH一値: 0.8〜0゜2゜ 生じるCF、・CFCfはカソード室を気体状で離れそ
して冷却トラップにおいて一78°C7’lj縮される
。電解の過程でカソード液に110g/時、即ち全部で
600gのCF2CI!、−CFCf 2を後から配量
供給する。162^時の電荷消費および5.11!、の
水素発生の後に電解を中止し、674gの未反応出発生
成物をカソード液から蒸発によって回収する。
凝縮したガスを冷間蒸留に委ねる。枚重285g(81
,8%) (7)CP2=CF l 0電流牧率は76
、14%テある。
,8%) (7)CP2=CF l 0電流牧率は76
、14%テある。
匪電解セル1:
出発カソード液: 1000gのクロロ酢酸、500g
のクロロ酢酸ナトリウム、2000mfの水、200g
のCF2CI!、CFCff□、2gのPb(OCOC
II:+) z・211□0.5gの巨C,+19)、
N]’ C1、温度:24〜45°C1電圧:8〜6.
3V、電流密度: 200 mA/cm”、流量:31
00 ff /時、pl(−値: 4.45〜0.5゜
生じるCF2=CFClはカソード室を気体状で離れそ
して冷却トラップにおいて一78°Cで凝縮される。
のクロロ酢酸ナトリウム、2000mfの水、200g
のCF2CI!、CFCff□、2gのPb(OCOC
II:+) z・211□0.5gの巨C,+19)、
N]’ C1、温度:24〜45°C1電圧:8〜6.
3V、電流密度: 200 mA/cm”、流量:31
00 ff /時、pl(−値: 4.45〜0.5゜
生じるCF2=CFClはカソード室を気体状で離れそ
して冷却トラップにおいて一78°Cで凝縮される。
電解の間に200 g/時、即ち全部で2000gのC
F2C1−CFCE zをカソード液に添加する。40
2A時の電荷消費および19.1!の水素発生の後に電
解を中止し、903gの未反応出発生成物をカソード液
から蒸発によって回収する。
F2C1−CFCE zをカソード液に添加する。40
2A時の電荷消費および19.1!の水素発生の後に電
解を中止し、903gの未反応出発生成物をカソード液
から蒸発によって回収する。
凝縮したガスを冷間蒸留に委ねる。枚重:668g(8
1,7χ)のCF2・CFp!、。電流枚重は72,7
χである。
1,7χ)のCF2・CFp!、。電流枚重は72,7
χである。
北本1川 電解セルjにおいて、2.5gの水、100
gの濃塩酸、808gのCF2CQ −CFC1zおよ
び1gのカチオン活性乳化剤[Dodi@en(商標)
1490(ヘキスドアー・ゲー社)より成る出発カソー
ド液を電解する。
gの濃塩酸、808gのCF2CQ −CFC1zおよ
び1gのカチオン活性乳化剤[Dodi@en(商標)
1490(ヘキスドアー・ゲー社)より成る出発カソー
ド液を電解する。
温度:30〜34°C1電圧:5.5〜8V、電流密度
: 150 mA/cm2、流l: 750−130
0n/時。
: 150 mA/cm2、流l: 750−130
0n/時。
電極用グラファイトより成るアノードの所で濃塩酸を水
中で酸化して塩素とする。アノードカッ−F室をカチオ
ン交換膜Nafion 324によって分離する。
中で酸化して塩素とする。アノードカッ−F室をカチオ
ン交換膜Nafion 324によって分離する。
電解の初めは電圧は5.5vである。115A時の電荷
消費後に電圧を7.lVに高め、更に1分光たり約0.
1νだけ高める。電荷の74スがプ【コドンから水素を
発生させる為に消費される。
消費後に電圧を7.lVに高め、更に1分光たり約0.
1νだけ高める。電荷の74スがプ【コドンから水素を
発生させる為に消費される。
電解の中断後に、カチオン交換膜が非常に著しく損傷さ
れたことが確認された。
れたことが確認された。
ル較拠互 電解セル1
出発カッ−トン夜: 2000成のメタノール、100
mI!の濃塩酸、500gのCFzC1−CFC1z
。
mI!の濃塩酸、500gのCFzC1−CFC1z
。
温度:3J〜34’C1電流密度: 200 mA八へ
2、電圧= 8〜7.5ν、流量: 500L’時。
2、電圧= 8〜7.5ν、流量: 500L’時。
水素を放出するのに消費される電荷の割合は、1時間の
間に28″Aから65χに増加する。カソード液に1g
のPb(OCOCII3) z・211□0を添加した
後に水素発生が37χの割合に滅失する。この割合は1
5分の間に47χに増加する。2gの[(C,+19)
、N] ”Br−の添加後に未だ電荷の14χしか水
素を発生する為に消費されない。
間に28″Aから65χに増加する。カソード液に1g
のPb(OCOCII3) z・211□0を添加した
後に水素発生が37χの割合に滅失する。この割合は1
5分の間に47χに増加する。2gの[(C,+19)
、N] ”Br−の添加後に未だ電荷の14χしか水
素を発生する為に消費されない。
216八時の電荷消費の後に238g (92χ)のC
I’2・CFCffiが得られる。
I’2・CFCffiが得られる。
比較例2から、炭素製カソードを用いそして金属塩と式
(III)〜(V1)との化合物を組み合わせて使用す
ることで初めて電解を経済的に実施することが可能であ
ることが判る。
(III)〜(V1)との化合物を組み合わせて使用す
ることで初めて電解を経済的に実施することが可能であ
ることが判る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) [式中、R^1は互いに無関係に水素原子、塩素原子ま
たは弗素原子であり、 R^2はR^1または−C(R^1)_2−R^3であ
るかまたは、[C(R^1)_2]_m−C(R^1)
_2が残基R^2の二つを意味し、R^3は−(CH_
2)_n−CH_2−R^5、−(CF_2)_n−C
H_2−R^5、−(CF_2)_n−CF_2−R^
5または、部分的にまたは完全に弗素化されている炭素
原子数1〜12のアルキル基であり、 R^5はR^1、臭素原子、沃素原子、−CO−R^6
または−SO_2−R^6であり、 mおよびnは無関係に0または1〜12、殊に1〜6の
整数でありそして 少なくとも一つのR^1が弗素原子である。]で表され
る化合物を製造するに当たって、A)式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II) [式中、R^1およびR^2は上述の意味を有し、R^
4は互いに無関係に、塩素原子、臭素原子または沃素原
子である。] で表される化合物を、分離型−または非分離型電解セル
中で、B)少なくとも一つの窒素原子または燐原子を含
有する少なくとも一種類のオニウム化合物およびC)少
なくとも一種類の可溶性金属塩の存在下に100mA/
cm^2の電流密度を基準として0.25Vより大きい
水素過電圧にて、D)電解質中でおよびE)、電解質の
全量を基準として5〜60重量%の少なくとも一種類の
無機−および/または有機酸および/またはそれらの塩
の存在下に大気圧または10barまでの高圧のもとで
1〜600mA/cm^2の電流密度および−40℃〜
電解質の沸点の範囲内の温度で炭素電極の所で電解する
ことを特徴とする、上記式( I )の化合物の製造方法
。 2)成分C)として鉛(Pb)、クロム(Cr)、銅(
Cu)、銀(Ag)、タリウム(Tl)およびビスマス
(Bi)なる金属の塩を使用し、その際アニオンがCl
^−、SO_4^2^−、NO_3−、CH_3COO
^−およびPO_4^3^−である請求項1に記載の方
法。 3)電解温度が−30〜90℃、特に−10〜80℃で
あり、電流密度が10〜500mA/cm^2、特に2
0〜400mA/cm^2でありそして圧力が7bar
まで、特に5barまでである請求項1または2に記載
の方法。 4)式(II)の化合物として相応するオレフィンのジク
ロライド、ジブロマイドまたはブロモクロライド付加生
成物を使用する請求項1〜3の何れか一つに記載の方法
。 5)1,1,2,2−テトラフルオルエチレン、1,1
,2−トリフルオル−2−クロロエチレン、1,1,2
−トリフルオルエチレン、種々のジクロロジフルオル−
、ジフルオル−、ジフルオルクロロ−エチレン、1,1
,2−トリクロロ−2−フルオルエチレン、フルオルエ
チレン、種々のジクロロフルオル−およびクロロフルオ
ルエチレン並びにヘキサフルオルプロペンのジクロライ
ド、ジブロマイドまたはブロモクロライド付加生成物を
使用する請求項4に記載の方法。 6)オニウム化合物B)として式 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼(V) ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) [各式中、Xは燐原子または窒素原子であり、R^7は
水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルキル残
基中炭素原子数1〜18のアルアルキル基および炭素原
子数6〜12のアリール基を意味し、 R^8はR^7と同じかまたは−(R^7−O)_pR
^7を意味し、 R^9はR^7またはR^8と同じであるかまたは−C
H_2−(Y)_qCH_2−を意味し、 R^1^0は−(CH_2)_p−または−CH_2−
[O−(CH_2)_p]_q−−O−(CH_2)_
2−であり、 pは1〜12の整数でありそして qは0または1〜6の整数であり、 Yは窒素原子、酸素原子、硫黄原子または−CH_2−
でありそして Zは−OHまたは無機−または有機酸のアニオンを意味
する。] で表される化合物を使用する請求項1〜5の何れか一つ
に記載の方法。 7)炭素電極として電極グラファイト、含浸処理したグ
ラファイト、多孔質グラファイト、炭素フェルト、ガラ
ス様炭素または炭素−合成樹脂材料を使用する請求項1
〜6の何れか一つに記載の方法。 8)電解を連続的にまたは不連続的に実施する請求項1
〜7の何れか一つに記載の方法。9)電解を分離型電解
セルで実施し、その際にカソード液D_1)およびアノ
ード液D_2)が存在する請求項1〜8の何れか一つに
記載の方法。 10)水および成分E)として10〜50重量%少なく
とも一種類の有機酸および/またはその塩を使用する請
求項1〜9の何れか一つに記載の方法。 11)有機酸として蟻酸、酢酸、塩素酸、メタンスルホ
ン酸、メタンホスホン酸または式▲数式、化学式、表等
があります▼ [式中、rは0または1である。] で表される弗素化エーテルカルボン酸を使用する請求項
10に記載の方法。 12)酸E)のアンモニウム−、ナトリウム−、カリウ
ム−または、アルキル基中炭素原子数1〜4のテトラア
ルキル−アンモニウム塩を使用する請求項10に記載の
方法。 13)電解質D)あるいはカソード液D_1)として少
なくとも一種類の有機溶剤、水またはこれら両者の混合
物を使用する請求項1〜9の何れか一つに記載の方法。 14)有機溶剤がメタノール、エタノール、種々のプロ
パノール、エチレングリコール、ジオキサン、N,N−
ジメチルホルムアミドおよびN−メチル−2−ピロリド
ンである請求項13に記載の方法。 15)式(II)の化合物を、電解質D)あるいはカソー
ド液D_1)の全量を基準として1〜60%、殊に5〜
50%の量で使用する請求項1〜14の何れか一つに記
載の方法。16)塩C)を電解質あるいはカソード液の
全量を基準として10^−^5〜5重量%、殊に10^
−^3〜5重量%の量で使用する請求項1〜15の何れ
か一つに記載の方法。17)化合物B)をD)またはD
_1)の全量を基準として10^−^5〜10重量%、
殊に10^−^4〜5重量%の量で添加する請求項1〜
16の何れか一つに記載の方法。
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