JPH01298010A - 金属セレン化物の製造方法 - Google Patents
金属セレン化物の製造方法Info
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- JPH01298010A JPH01298010A JP12694288A JP12694288A JPH01298010A JP H01298010 A JPH01298010 A JP H01298010A JP 12694288 A JP12694288 A JP 12694288A JP 12694288 A JP12694288 A JP 12694288A JP H01298010 A JPH01298010 A JP H01298010A
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Landscapes
- Chemically Coating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、分子中にセレンを含む有機金属化合物を有機
溶媒に溶解した混合物を熱分解して金属セレン化物を製
造する方法に関する。
溶媒に溶解した混合物を熱分解して金属セレン化物を製
造する方法に関する。
金属セレン化物は、その色彩を利用して顔料として用い
られ、特に異種台かの組合せにより多様な色彩を呈する
ために広く用いられている。又、その半導体特性、先導
伝体特性を利用して太陽電池、受光素子、映像記録用素
子等に用いられ、更に、ケイ光体特性を利用してEL素
子などに広く用いられている。
られ、特に異種台かの組合せにより多様な色彩を呈する
ために広く用いられている。又、その半導体特性、先導
伝体特性を利用して太陽電池、受光素子、映像記録用素
子等に用いられ、更に、ケイ光体特性を利用してEL素
子などに広く用いられている。
従来、金属セレン化物の製造方法として、(1)セレン
化水素を金属、金属塩または有機金属化合物と反応させ
る方法、(2)水溶液中でセレン化ナトリウムと金属と
を反応させる方法、(3)単体のセレンと金属とを直接
反応させる方法、が知られている。
化水素を金属、金属塩または有機金属化合物と反応させ
る方法、(2)水溶液中でセレン化ナトリウムと金属と
を反応させる方法、(3)単体のセレンと金属とを直接
反応させる方法、が知られている。
ところがこれらの方法で得られる金属セレン化物は何れ
も粒状、粉末状であり、薄膜の金属セレン化物を得るに
は適さない。薄膜の金属セレン化物を得るためには、上
記製法で得た金属セレン化物粉末を有機バインダーを用
いてペースト化した後に基体に塗布して焼成するか、或
いは金属セレン化物を真空蒸着やスパッタリングにより
基体に付着させる等の手段が必要であるが、従来の方法
で製造されるものは粒度が不均一であり、薄膜に適さな
い。またスパッタリング等は装置が大型化し簡単な実施
は難しい。この他にセレン化水素と有機金属化合物ガス
を基体表面で反応させるCVD法も知られているが、大
掛かりな装置を必要とし且つ大きな面積の薄膜を得るの
は難しい。
も粒状、粉末状であり、薄膜の金属セレン化物を得るに
は適さない。薄膜の金属セレン化物を得るためには、上
記製法で得た金属セレン化物粉末を有機バインダーを用
いてペースト化した後に基体に塗布して焼成するか、或
いは金属セレン化物を真空蒸着やスパッタリングにより
基体に付着させる等の手段が必要であるが、従来の方法
で製造されるものは粒度が不均一であり、薄膜に適さな
い。またスパッタリング等は装置が大型化し簡単な実施
は難しい。この他にセレン化水素と有機金属化合物ガス
を基体表面で反応させるCVD法も知られているが、大
掛かりな装置を必要とし且つ大きな面積の薄膜を得るの
は難しい。
本発明者は薄膜化が容易である金属セレン化物の製造方
法について研究したところ、分子中の有機構造部分にセ
レンを含む有機金属化合物を適当な溶媒に溶解して不活
性雰囲気下で熱分解すれば、金属セレン化物が容易に得
られ、且つ此の溶液を基盤に塗布して不活性雰囲気下で
焼成すれば、均一な金属セレン化物の薄膜が得られるこ
とを見出した。
法について研究したところ、分子中の有機構造部分にセ
レンを含む有機金属化合物を適当な溶媒に溶解して不活
性雰囲気下で熱分解すれば、金属セレン化物が容易に得
られ、且つ此の溶液を基盤に塗布して不活性雰囲気下で
焼成すれば、均一な金属セレン化物の薄膜が得られるこ
とを見出した。
本発明によれば、
構造式
(式中Mは金属元素、Rは炭素数1〜10の有機基、n
は1〜5の整数) で表される金属N、N−ジアルキルジセレノ力ルバメー
ト、 構造式 (式中Mは金属元素、Rは炭素数1〜10の有機基、n
は1〜5の整数) で表される金属アルコキシジセレノカルボナート、構造
式 (式中Mは金属元素、Rは炭素数1〜10の有機基、n
は1〜5の整数) で表される金属N、N−ジアルキルモノセレノカルバメ
ート、 構造式 (式中Mは金属元素、Rは炭素数1〜10の有機基。
は1〜5の整数) で表される金属N、N−ジアルキルジセレノ力ルバメー
ト、 構造式 (式中Mは金属元素、Rは炭素数1〜10の有機基、n
は1〜5の整数) で表される金属アルコキシジセレノカルボナート、構造
式 (式中Mは金属元素、Rは炭素数1〜10の有機基、n
は1〜5の整数) で表される金属N、N−ジアルキルモノセレノカルバメ
ート、 構造式 (式中Mは金属元素、Rは炭素数1〜10の有機基。
nは1〜5の整数)
で表される金属アルコキシモノセレノカルボナート。
からなる群から選ばれる有機金属化合物を有機溶媒に溶
解し、この溶液を不活性ガス雰囲気下で熱分解すること
により単一または複合金属のセレン化物を製造する方法
が提供される。
解し、この溶液を不活性ガス雰囲気下で熱分解すること
により単一または複合金属のセレン化物を製造する方法
が提供される。
また、本発明によれば、上記有機金属化合物と有機溶媒
とからなる溶液を酸化性雰囲気下で熱分解することによ
り金属セレン酸塩を製造する方法が提供される。
とからなる溶液を酸化性雰囲気下で熱分解することによ
り金属セレン酸塩を製造する方法が提供される。
本発明においては以下の金属有機化合物が用いられる。
金属N、N−ジアルキルジセレノヵルバメート[ut構
造式1)、以下M(Se2CNRz)nコ金属アルコキ
シジセレノカルボナート [!造式(2)、以下M (S e z COR) 、
、コ金iN、N−ジアルキルモノセレノカルバメート[
構造式(3)、以下M (S e OCN Ry= )
n]金應アルコキシモノセレノカルボナート[構造式
(4)、以下M(SeO,C0R)n]上記金属有機化
合物において金属元素は特に限定されず、例えば、亜鉛
Zn、銅Cu、タリウムTQ。
造式1)、以下M(Se2CNRz)nコ金属アルコキ
シジセレノカルボナート [!造式(2)、以下M (S e z COR) 、
、コ金iN、N−ジアルキルモノセレノカルバメート[
構造式(3)、以下M (S e OCN Ry= )
n]金應アルコキシモノセレノカルボナート[構造式
(4)、以下M(SeO,C0R)n]上記金属有機化
合物において金属元素は特に限定されず、例えば、亜鉛
Zn、銅Cu、タリウムTQ。
ニッケルNi、パラジウムPd、プラセオジウムPr。
カドミウムCd、インジウムIn、アンチモンsb、ニ
オブNb、タンタルTa、モリブデン阿。、タングステ
ンW、クロムCr、ロジウムRh、コバルトCo、鉄F
e等である。尚、金Au、銀Ag、パラジウムPd等の
一部の貴金属化合物については、熱分解した際にこれら
の金属が遊離し金属セレン化物製造の条件制御が難しい
場合がある。
オブNb、タンタルTa、モリブデン阿。、タングステ
ンW、クロムCr、ロジウムRh、コバルトCo、鉄F
e等である。尚、金Au、銀Ag、パラジウムPd等の
一部の貴金属化合物については、熱分解した際にこれら
の金属が遊離し金属セレン化物製造の条件制御が難しい
場合がある。
置換基の有機基Rについては特に限定はないが、高濃度
溶液の調整のためには炭素数が大きい置換基のほうが有
利である。但し、炭素数が大きすぎると熱分解の際に炭
素が残留しやすくなるので炭素数が10を越えないこと
が好ましい。
溶液の調整のためには炭素数が大きい置換基のほうが有
利である。但し、炭素数が大きすぎると熱分解の際に炭
素が残留しやすくなるので炭素数が10を越えないこと
が好ましい。
本発明で用いる上記有機金属化合物の具体例を以下に示
す。尚、上記有機金属化合物はこれらに限定されない。
す。尚、上記有機金属化合物はこれらに限定されない。
姓樗hS下」の□
銅(II)N、N−ジエチルジセレノ力ルバメート
Cu(%CNEt2)2銅(II )N、N−ジ
ブチルジセレノ力ルバメート Cu (Sax
QNBLI2 )2亜鉛(II)N、N−ジブチルジ
セレノ力ルバメートZn (Se2CNBu2)2亜鉛
(Il)N、N−ジプロピルジセレノ力ルバメート
A(隔cNprJz鉄(■)N、N−ジブチルジセレ
ノカルバメートFe(シ2cNnuz)z8(■)−ジ
ブチルジセレノ力ルバメート Sn (Sc
2CNBu2)。
Cu(%CNEt2)2銅(II )N、N−ジ
ブチルジセレノ力ルバメート Cu (Sax
QNBLI2 )2亜鉛(II)N、N−ジブチルジ
セレノ力ルバメートZn (Se2CNBu2)2亜鉛
(Il)N、N−ジプロピルジセレノ力ルバメート
A(隔cNprJz鉄(■)N、N−ジブチルジセレ
ノカルバメートFe(シ2cNnuz)z8(■)−ジ
ブチルジセレノ力ルバメート Sn (Sc
2CNBu2)。
ニッケノ開、N−ジエチルジセレノ力ルバメートN1(
Sc、Q’lEt、)2ニッケ/I/N、N−ジプロピ
ルジセレノ力ルバメートNx (Se、01Prz )
2インジウムN、N−ジエチルジセレノ力ルバメート
In(%CNIEtJaインジウムN、N−ジブチ
ルジセレノ力ルバメート In (Saz CNB
IJ2 )3インジウムN、N−ジエチルモノセレノカ
ルバメート In(Se2CNPent2)iカドミ
ウムN、N−ジプロピルジセレノ力ルバメートCd(S
e、CNPr2)2コバルトN、N−ジプロピルジセレ
ノカルバメー ト Co (362CNPr、 )
3アンチモンN、N−ジブチルジセレノ力ルバメート
sb(%CNBu、)□ゲルマニウムN、N−ジプ
ロピルジセレノ力ルバメート Ge (Se2CNPr
2 )2チタニウムN、N−ジエチルジセレノ力ルバメ
ート Ti(SazCPJEtJ4MΩシ蹟;qK
ル 銅(II)−ペンチルジセレノカルボナート
CIJ(S82ωPent)。
Sc、Q’lEt、)2ニッケ/I/N、N−ジプロピ
ルジセレノ力ルバメートNx (Se、01Prz )
2インジウムN、N−ジエチルジセレノ力ルバメート
In(%CNIEtJaインジウムN、N−ジブチ
ルジセレノ力ルバメート In (Saz CNB
IJ2 )3インジウムN、N−ジエチルモノセレノカ
ルバメート In(Se2CNPent2)iカドミ
ウムN、N−ジプロピルジセレノ力ルバメートCd(S
e、CNPr2)2コバルトN、N−ジプロピルジセレ
ノカルバメー ト Co (362CNPr、 )
3アンチモンN、N−ジブチルジセレノ力ルバメート
sb(%CNBu、)□ゲルマニウムN、N−ジプ
ロピルジセレノ力ルバメート Ge (Se2CNPr
2 )2チタニウムN、N−ジエチルジセレノ力ルバメ
ート Ti(SazCPJEtJ4MΩシ蹟;qK
ル 銅(II)−ペンチルジセレノカルボナート
CIJ(S82ωPent)。
鉄(II)−ペンチルレジセレノカルボナート
Fe(SもC0Pent)z粁エチルジセレノカ
ルボナート Pb (SQ2COE
t)。
Fe(SもC0Pent)z粁エチルジセレノカ
ルボナート Pb (SQ2COE
t)。
カドミウムーブチルジセレノカルボナート C
d (Ss、C0Bu)。
d (Ss、C0Bu)。
カドミウム−プロビルジセレノカルボナート
Cd (Ss、C0Pr)2アンチモン−プロビルジセ
レノカルボナート 5b(S82ωPr)3Mv
シくて律任ガル 亜鉛(II)N、N−ジブチルモノセレノカルバメート
Zn (Sc2CNBu2)z@(If)N、N
−ジエチルモノセレノカルバメート Cu(Se
■NE% )zインジウムN、N−ジエチルモノセレノ
カルバメート In (SeOCNEtz )。
Cd (Ss、C0Pr)2アンチモン−プロビルジセ
レノカルボナート 5b(S82ωPr)3Mv
シくて律任ガル 亜鉛(II)N、N−ジブチルモノセレノカルバメート
Zn (Sc2CNBu2)z@(If)N、N
−ジエチルモノセレノカルバメート Cu(Se
■NE% )zインジウムN、N−ジエチルモノセレノ
カルバメート In (SeOCNEtz )。
MΩ恒qΩp旦ル
カドミウム−プロピルモノセレノカルボナートCd(S
eOCOPr)。
eOCOPr)。
カドミウム−ブチルモノセレノカルボナート C
d(SeOCOBu)2亜釦(II)−ブチルモノセレ
ノカルボナート カ(シへIBu)2亜釦(
n)−ペンチルモノセレノカルボナート Zn
(SeOCOPen t)z溶媒としては、以下のも
のを用いることができる。ペンタン、n−ヘキサン、シ
クロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、ソルベントナフサ
等の鉱油類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化
炭化水素、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エ
ーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエ
チレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒
、メチルセルロソルブ、エチルセルロソルブ等のセルロ
ソルブ類、ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミ
ド等のホルムアミド類、ジエチルアミン、エチレンジア
ミン、トリエタノールアミン等のアミン類、およびアセ
トン、メチルエチルケトン等のケトン類等である。
d(SeOCOBu)2亜釦(II)−ブチルモノセレ
ノカルボナート カ(シへIBu)2亜釦(
n)−ペンチルモノセレノカルボナート Zn
(SeOCOPen t)z溶媒としては、以下のも
のを用いることができる。ペンタン、n−ヘキサン、シ
クロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、ソルベントナフサ
等の鉱油類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化
炭化水素、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エ
ーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエ
チレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒
、メチルセルロソルブ、エチルセルロソルブ等のセルロ
ソルブ類、ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミ
ド等のホルムアミド類、ジエチルアミン、エチレンジア
ミン、トリエタノールアミン等のアミン類、およびアセ
トン、メチルエチルケトン等のケトン類等である。
溶媒は、単独でも数種類を組み合わせてもよい。
また塗布性能の向上、スクリーン印刷への適用のためメ
チルセルロース、エチルセルロース等のセルロース類、
その他ポリエチレンオキシド、ポリビニルブチラール等
の高分子物質を添加することも可能である。
チルセルロース、エチルセルロース等のセルロース類、
その他ポリエチレンオキシド、ポリビニルブチラール等
の高分子物質を添加することも可能である。
上記目的金属を含有する有機金属化合物を上記溶媒に溶
解した後、この混合物を不活性ガス雰囲気下で加熱分解
することにより金属セレン化物が得られる。
解した後、この混合物を不活性ガス雰囲気下で加熱分解
することにより金属セレン化物が得られる。
単一金属の有機金属化合物を用いることにより単一金属
のセレン化物が得られ、また異種金属の有機金属化合物
を組合せて混合することにより、複合金属のセレン化物
が得られる。加熱温度は250〜600℃が好ましい。
のセレン化物が得られ、また異種金属の有機金属化合物
を組合せて混合することにより、複合金属のセレン化物
が得られる。加熱温度は250〜600℃が好ましい。
薄膜化する為には基体上にスピンコード、ティピング、
スプレィ、刷毛塗り等の通常の塗布法により上記混合物
を塗布し室温または加熱上乾燥した後、不活性気体下2
50〜600℃で焼成すればよい。
スプレィ、刷毛塗り等の通常の塗布法により上記混合物
を塗布し室温または加熱上乾燥した後、不活性気体下2
50〜600℃で焼成すればよい。
スクリーン印刷用に上記混合物の粘性を上げる為には、
上記高分子物質を添加すれば良い。この場合、膜の焼成
温度以下で十分分解するものを選ぶのが良い。微粉末の
製造には、上記の組成物を通常のスプレィパイロリシス
法により加熱不活性雰囲気下にスプレィし熱分解すれば
良く、通常0.3〜0.8μ程度の単一又は複合組成の
金属セレン化物の球状微粉末が得られる。
上記高分子物質を添加すれば良い。この場合、膜の焼成
温度以下で十分分解するものを選ぶのが良い。微粉末の
製造には、上記の組成物を通常のスプレィパイロリシス
法により加熱不活性雰囲気下にスプレィし熱分解すれば
良く、通常0.3〜0.8μ程度の単一又は複合組成の
金属セレン化物の球状微粉末が得られる。
本発明による金属セレン化物の製造において焼成の雰囲
気を酸化性にコントロールすることにより金属セレン酸
塩、金属酸化物を生成させる事が可能である。また同焼
成時還元雰囲気下その温度をより高温にすることにより
金属まで還元することも可能である。このように焼成時
の条件をうまくコントロールすることにより微妙な色調
、半導体特性等の微妙なコントロールも可能である。
気を酸化性にコントロールすることにより金属セレン酸
塩、金属酸化物を生成させる事が可能である。また同焼
成時還元雰囲気下その温度をより高温にすることにより
金属まで還元することも可能である。このように焼成時
の条件をうまくコントロールすることにより微妙な色調
、半導体特性等の微妙なコントロールも可能である。
また、膜厚は薄膜化する際の塗布条件および塗布−焼成
の繰り返しによる重ね塗り等により、最小数10人から
最大10〜20μ程度まで調整可能である。
の繰り返しによる重ね塗り等により、最小数10人から
最大10〜20μ程度まで調整可能である。
本発明の金属セレン化物の製造方法を用いれば、常温、
常圧下での通常の塗布法により、塗布、乾燥、焼成を行
うことにより容易に、大面積、複雑な形状の基体上にZ
n5e、 CuInSe、等の金属セレン化物の薄膜を
形成することができ、それらの半導体としての特性を生
かした高性能太陽電池の低コスト量産化が可能となる。
常圧下での通常の塗布法により、塗布、乾燥、焼成を行
うことにより容易に、大面積、複雑な形状の基体上にZ
n5e、 CuInSe、等の金属セレン化物の薄膜を
形成することができ、それらの半導体としての特性を生
かした高性能太陽電池の低コスト量産化が可能となる。
次に本発明を実施例によってより具体的に説明するが、
以下の実施例は本発明の範囲を限定するものではない。
以下の実施例は本発明の範囲を限定するものではない。
実施例1
亜鉛(II )N、N−ジブチルジセレノカルバメート
:[Zn(Se2CNBuz)zl 3 gをクロロホ
ルム100gに溶解後30分還流した溶液をパイレック
ス基板に回転数300Orpmでスピンコードし、室温
で10分乾燥、 Ar気流下500℃30分焼成するこ
とにより膜厚3000人。
:[Zn(Se2CNBuz)zl 3 gをクロロホ
ルム100gに溶解後30分還流した溶液をパイレック
ス基板に回転数300Orpmでスピンコードし、室温
で10分乾燥、 Ar気流下500℃30分焼成するこ
とにより膜厚3000人。
淡黄色の均一なZn5e被膜を得た。
その他、同様の方法により得た金属セレン化物薄膜を表
1に示す。
1に示す。
実施例2
カドミウム−イソプロビルジセレノカルボナート: [
Cd(Se、Co−1Pr)、12 gをエチルセルロ
ソルブ100gに溶解した溶液をタイル表面に刷毛塗り
し、室温で30分乾燥し、N2気流下600℃、25分
焼成する事により膜厚5000人、赤燈色のCdSe薄
膜を得た。
Cd(Se、Co−1Pr)、12 gをエチルセルロ
ソルブ100gに溶解した溶液をタイル表面に刷毛塗り
し、室温で30分乾燥し、N2気流下600℃、25分
焼成する事により膜厚5000人、赤燈色のCdSe薄
膜を得た。
実施例3
銅(II)N、N−ジエチルジセレノ力ルバメート:[
Cu (Se、 CNEt2)、コ5 g pインジウ
ム(m)N、N−ジエチルジセレノ力ルバメート: [
In(Se2CNEt、)、コア、65 gをジエチル
アミン400gに溶解後30分還流した溶液をパイレッ
クス基板に回転数3000rpmでスピンコードし、室
温で10分乾燥、 Ar気流下550℃。
Cu (Se、 CNEt2)、コ5 g pインジウ
ム(m)N、N−ジエチルジセレノ力ルバメート: [
In(Se2CNEt、)、コア、65 gをジエチル
アミン400gに溶解後30分還流した溶液をパイレッ
クス基板に回転数3000rpmでスピンコードし、室
温で10分乾燥、 Ar気流下550℃。
45分焼成する事により膜厚4000人の黒灰色の均一
なCuInSe、の薄膜を得た。
なCuInSe、の薄膜を得た。
その他、同様の方法により得た複合金属セレン・化物薄
膜を表2に示す。
膜を表2に示す。
実施例4
銅(II)N、N−ジプロピルジセレノ力ルバメート:
[Cu(SezCNPrz)zl 5 g +インジウ
ム(III)N、N−ジプロビルジセレノ力ルバメート
: [In(Se2CNPr2)□コア、65 gをト
ルエン500gに溶解後30分還流した溶液を500℃
に加熱した環状炉にキャリアーガスに流量4Q/sec
のArを用いスプレィノズルより噴霧することにより粒
径0.6〜0゜8μのCuInSe、球状微粉末を得た
。
[Cu(SezCNPrz)zl 5 g +インジウ
ム(III)N、N−ジプロビルジセレノ力ルバメート
: [In(Se2CNPr2)□コア、65 gをト
ルエン500gに溶解後30分還流した溶液を500℃
に加熱した環状炉にキャリアーガスに流量4Q/sec
のArを用いスプレィノズルより噴霧することにより粒
径0.6〜0゜8μのCuInSe、球状微粉末を得た
。
実施例5
亜tQ(II)N、N−ジブチルモノセレノカルバメー
ト:[Zn (SeOCNBu2)2]2g leクロ
ロホルムloogに溶解後30分還流した溶液をパイレ
ックス基板に回転数300Orpmでスピンコードし、
室温で10分乾燥、 Ar気流下500℃30分焼成す
ることにより膜厚1500人。
ト:[Zn (SeOCNBu2)2]2g leクロ
ロホルムloogに溶解後30分還流した溶液をパイレ
ックス基板に回転数300Orpmでスピンコードし、
室温で10分乾燥、 Ar気流下500℃30分焼成す
ることにより膜厚1500人。
淡黄色の均一なZn5e被膜を得た。
実施例6
カドミウム−イソプロビルモノセレノカルボナート:
[Cd(SeOCOPr’)2]2 gをエチルセルロ
ソルブ100gに溶解した溶液をタイル表面に刷毛塗り
し、室温で30分乾燥し、N2気流下600℃、25分
焼成する事により膜厚2000人、赤燈色のCdSe薄
膜を得た。
[Cd(SeOCOPr’)2]2 gをエチルセルロ
ソルブ100gに溶解した溶液をタイル表面に刷毛塗り
し、室温で30分乾燥し、N2気流下600℃、25分
焼成する事により膜厚2000人、赤燈色のCdSe薄
膜を得た。
実施例7
i(II)N、N−ジエチルモノセレノカルバメート:
[Cu(SeOCNEtz)z] 2 g lインジウ
ム(III)N、N−ジエチルモノセレノカルバメート
: [In(SeOCNEt2)、]3.1gをジエチ
ルアミン400gに溶解後30分還流した溶液をパイレ
ックス基板に回転数300Orpmでスピンコードし、
室温で10分乾燥、 Ar気流下550℃。
[Cu(SeOCNEtz)z] 2 g lインジウ
ム(III)N、N−ジエチルモノセレノカルバメート
: [In(SeOCNEt2)、]3.1gをジエチ
ルアミン400gに溶解後30分還流した溶液をパイレ
ックス基板に回転数300Orpmでスピンコードし、
室温で10分乾燥、 Ar気流下550℃。
45分焼成する事により膜厚4000人の黒灰色の均一
なCurnSe、の薄膜を得た。
なCurnSe、の薄膜を得た。
実施例8
銅(II )N、N−ジエチルモノセレノカルバメート
:[Cu (SeOCNEt2)、コ10g、インジウ
ム(m)N、N−ジエチルモノセレノカルバメート:
[In(SeOCNEtz)3コ15.4 gをエチレ
ンジアミン500gに溶解後30分還流した溶液を50
0℃に加熱した環状炉にキャリアーガスに流量41/s
ecのArを用いスプレィノズルより噴霧することによ
り粒径0.6〜0.8μのCuInSe2球状微粉末を
得た。
:[Cu (SeOCNEt2)、コ10g、インジウ
ム(m)N、N−ジエチルモノセレノカルバメート:
[In(SeOCNEtz)3コ15.4 gをエチレ
ンジアミン500gに溶解後30分還流した溶液を50
0℃に加熱した環状炉にキャリアーガスに流量41/s
ecのArを用いスプレィノズルより噴霧することによ
り粒径0.6〜0.8μのCuInSe2球状微粉末を
得た。
Claims (2)
- (1)構造式 ▲数式、化学式、表等があります▼(1) (式中Mは金属元素、Rは炭素数1〜10の有機基、n
は1〜5の整数) で表される金属N,N−ジアルキルジセレノカルバメー
ト、 構造式 ▲数式、化学式、表等があります▼(2) (式中Mは金属元素、Rは炭素数1〜10の有機基、n
は1〜5の整数) で表わされる金属アルコキシジセレノカルボナート、 構造式 ▲数式、化学式、表等があります▼(3) (式中Mは金属元素、Rは炭素数1〜10の有機基、n
は1〜5の整数) で表される金属N,N−ジアルキルモノセレノカルバメ
ート、 構造式 ▲数式、化学式、表等があります▼(4) (式中Mは金属元素、Rは炭素数1〜10の有機基、n
は1〜5の整数) で表される金属アルコキシモノセレノカルボナート、 からなる群から選ばれる有機金属化合物を有機溶媒に溶
解し、この溶液を不活性ガス雰囲気下で熱分解すること
により単一または複合金属のセレン化物を製造する方法
。 - (2)上記有機金属化合物と有機溶媒とからなる溶液を
酸化性雰囲気下で熱分解することにより金属セレン酸塩
を製造する方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12694288A JPH01298010A (ja) | 1988-05-26 | 1988-05-26 | 金属セレン化物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12694288A JPH01298010A (ja) | 1988-05-26 | 1988-05-26 | 金属セレン化物の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01298010A true JPH01298010A (ja) | 1989-12-01 |
Family
ID=14947712
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12694288A Pending JPH01298010A (ja) | 1988-05-26 | 1988-05-26 | 金属セレン化物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01298010A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5681975A (en) * | 1994-07-14 | 1997-10-28 | Rutgers, The State University | Single source metalloorgranic precursors to type 14-16 semiconductors |
JP2011016707A (ja) * | 2009-06-12 | 2011-01-27 | Dowa Holdings Co Ltd | カルコゲン化合物粉及びカルコゲン化合物ペースト及びそれらの製造方法 |
WO2012000594A1 (en) | 2010-06-29 | 2012-01-05 | Merck Patent Gmbh | Preparation of semiconductor films |
WO2013159864A1 (en) | 2012-04-27 | 2013-10-31 | Merck Patent Gmbh | Preparation of semiconductor films |
JP2014518539A (ja) * | 2011-05-13 | 2014-07-31 | エルジー・ケム・リミテッド | 新規な化合物半導体及びその活用 |
JP2014519547A (ja) * | 2011-05-13 | 2014-08-14 | エルジー・ケム・リミテッド | 新規な化合物半導体及びその活用 |
JP2014524874A (ja) * | 2011-05-13 | 2014-09-25 | エルジー・ケム・リミテッド | 新規な化合物半導体及びその活用 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6134185A (ja) * | 1984-06-18 | 1986-02-18 | Natl Inst For Res In Inorg Mater | 金属,無機質物の基体表面に着色する方法 |
JPS62146270A (ja) * | 1985-12-19 | 1987-06-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 金属セレン化物薄膜の形成方法 |
-
1988
- 1988-05-26 JP JP12694288A patent/JPH01298010A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6134185A (ja) * | 1984-06-18 | 1986-02-18 | Natl Inst For Res In Inorg Mater | 金属,無機質物の基体表面に着色する方法 |
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JP2011016707A (ja) * | 2009-06-12 | 2011-01-27 | Dowa Holdings Co Ltd | カルコゲン化合物粉及びカルコゲン化合物ペースト及びそれらの製造方法 |
WO2012000594A1 (en) | 2010-06-29 | 2012-01-05 | Merck Patent Gmbh | Preparation of semiconductor films |
JP2014518539A (ja) * | 2011-05-13 | 2014-07-31 | エルジー・ケム・リミテッド | 新規な化合物半導体及びその活用 |
JP2014519547A (ja) * | 2011-05-13 | 2014-08-14 | エルジー・ケム・リミテッド | 新規な化合物半導体及びその活用 |
JP2014524874A (ja) * | 2011-05-13 | 2014-09-25 | エルジー・ケム・リミテッド | 新規な化合物半導体及びその活用 |
WO2013159864A1 (en) | 2012-04-27 | 2013-10-31 | Merck Patent Gmbh | Preparation of semiconductor films |
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