JPH01289049A - 陰極線管の製造方法 - Google Patents
陰極線管の製造方法Info
- Publication number
- JPH01289049A JPH01289049A JP11831088A JP11831088A JPH01289049A JP H01289049 A JPH01289049 A JP H01289049A JP 11831088 A JP11831088 A JP 11831088A JP 11831088 A JP11831088 A JP 11831088A JP H01289049 A JPH01289049 A JP H01289049A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- treatment
- cathode
- ray tube
- cathode ray
- exhaust
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims abstract description 56
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 31
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims abstract description 30
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 29
- 230000004913 activation Effects 0.000 claims abstract description 27
- PRPINYUDVPFIRX-UHFFFAOYSA-N 1-naphthaleneacetic acid Chemical compound C1=CC=C2C(CC(=O)O)=CC=CC2=C1 PRPINYUDVPFIRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 7
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 abstract description 6
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 abstract description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的コ
（産業上の利用分野）
この発明は、陰極線管の製造方法に係り、特にその排気
工程における処理スケジュールを改良した陰極線管の製
造方法に関する。
工程における処理スケジュールを改良した陰極線管の製
造方法に関する。
（従来の技術）
一般に、陰極線管は、ガラスからなる外囲器の前面部内
面に蛍光面を形成したのち、ネック内に電子銃を封入し
て排気し、その後、この排気工程で活性化された陰極か
らの電子放射を安定化するエージングをおこなって製造
され、その排気は、陰極線管の製造上欠くことのできな
い重要な工程となっている。
面に蛍光面を形成したのち、ネック内に電子銃を封入し
て排気し、その後、この排気工程で活性化された陰極か
らの電子放射を安定化するエージングをおこなって製造
され、その排気は、陰極線管の製造上欠くことのできな
い重要な工程となっている。
通常、その排気は、真空ポンプなど電子銃の封入された
陰極線管を高真空に排気する真空装置、電子銃構成電極
を加熱する高周波加熱コイル、電子銃の所定電極に所定
の電圧を印加して、酸化物陰極を分解活性化するための
ソケット、ガラス製排気管を溶融してチップオフするた
めのコイルヒータなどを備えるカートに上記電子銃の封
入された陰極線管を装着する。そして、所定温度カーブ
に設定された連続加熱炉内を移動させ、上記陰極線管全
体を加熱して、外囲器および管内部材のガス出しをおこ
ない、その間に上記真空装置により排気する。そして、
この排気の終段で、まず上記高周波加熱コイルにより電
子銃構成電極を加熱して電極からのガス出しをおこない
（高周波加熱処理）、さらに上記ソケットを介して電子
銃の所定電極に所定の電圧を印加して、陰極を分解活性
化（陰極の分解活性化処理）し、その後、上記ヒータコ
イルにより排気管を加熱溶融してチップオフする（チッ
プオフ処理）。
陰極線管を高真空に排気する真空装置、電子銃構成電極
を加熱する高周波加熱コイル、電子銃の所定電極に所定
の電圧を印加して、酸化物陰極を分解活性化するための
ソケット、ガラス製排気管を溶融してチップオフするた
めのコイルヒータなどを備えるカートに上記電子銃の封
入された陰極線管を装着する。そして、所定温度カーブ
に設定された連続加熱炉内を移動させ、上記陰極線管全
体を加熱して、外囲器および管内部材のガス出しをおこ
ない、その間に上記真空装置により排気する。そして、
この排気の終段で、まず上記高周波加熱コイルにより電
子銃構成電極を加熱して電極からのガス出しをおこない
（高周波加熱処理）、さらに上記ソケットを介して電子
銃の所定電極に所定の電圧を印加して、陰極を分解活性
化（陰極の分解活性化処理）し、その後、上記ヒータコ
イルにより排気管を加熱溶融してチップオフする（チッ
プオフ処理）。
特に従来の陰極線管の排気では、第２図に示すように、
排気処理（１）中、その終段でおこなわれる高周波加熱
処理（２）中につぎの陰極の分解活性化処理（３）を開
始し、この陰極の分解活性化処理（３）終了と同時にチ
ップオフ処理（４）を開始する方法でおこなわれている
。
排気処理（１）中、その終段でおこなわれる高周波加熱
処理（２）中につぎの陰極の分解活性化処理（３）を開
始し、この陰極の分解活性化処理（３）終了と同時にチ
ップオフ処理（４）を開始する方法でおこなわれている
。
しかし、このような方法で排気をおこなうと、第３図の
曲線（５）に示すように、最初の高周波加熱処理（２）
で電極から放出されたガスが管内、特にネック内に充満
している低真空中で、つぎの陰極の分解活性化処理（３
）がおこなわれるため、陰極の電子放射物質がガスの影
響を受けて分解活性化が不十分となりやすく、いちじる
しい場合は、所定の電子放射能を付与できなくなる。ま
た、陰極の分解活性化処理（３）終了と同時にチップオ
フ処理（４）がおこなわれるため、管内にガスが残留し
やすく、排気直後のガス特性をいちじるしく劣化するこ
とがある。ざらに、一般に、高周波加熱処理（２）によ
り、電極は５００〜７００℃に加熱されるが、この高周
波加熱処理（２）中につぎの陰極の分解活性化処理（３
）がおこなわれると、陰極が過度に加熱されて電子放射
物質を蒸発し、それが陰極に近い第２グリツドなどに付
着して、耐電圧特性（ストレイエミッション）を劣化さ
せる。
曲線（５）に示すように、最初の高周波加熱処理（２）
で電極から放出されたガスが管内、特にネック内に充満
している低真空中で、つぎの陰極の分解活性化処理（３
）がおこなわれるため、陰極の電子放射物質がガスの影
響を受けて分解活性化が不十分となりやすく、いちじる
しい場合は、所定の電子放射能を付与できなくなる。ま
た、陰極の分解活性化処理（３）終了と同時にチップオ
フ処理（４）がおこなわれるため、管内にガスが残留し
やすく、排気直後のガス特性をいちじるしく劣化するこ
とがある。ざらに、一般に、高周波加熱処理（２）によ
り、電極は５００〜７００℃に加熱されるが、この高周
波加熱処理（２）中につぎの陰極の分解活性化処理（３
）がおこなわれると、陰極が過度に加熱されて電子放射
物質を蒸発し、それが陰極に近い第２グリツドなどに付
着して、耐電圧特性（ストレイエミッション）を劣化さ
せる。
（発明が解決しようとする課題）
上記のように従来の陰極線管の排気は、その排気工程の
終段で順次おこなわれる高周波加熱処理、陰極の分解活
性化処理およびチップオフ処理を、一部重複または終了
直後に引続き実施する方法によりおこなわれているため
、低真空度に起因する陰極の分解活性化不十分や排気直
後のガス特性の劣化、あるいは陰極の過度の加熱に起因
する耐電圧特性の劣化などが発生するという問題がある
。
終段で順次おこなわれる高周波加熱処理、陰極の分解活
性化処理およびチップオフ処理を、一部重複または終了
直後に引続き実施する方法によりおこなわれているため
、低真空度に起因する陰極の分解活性化不十分や排気直
後のガス特性の劣化、あるいは陰極の過度の加熱に起因
する耐電圧特性の劣化などが発生するという問題がある
。
この発明は、上記問題点を解決するためになされたもの
であり、排気工程の各処理における真空度の低下や処理
温度の不適切に基づく特性劣化を防止する陰極線管の製
造方法を得ることを目的とする。
であり、排気工程の各処理における真空度の低下や処理
温度の不適切に基づく特性劣化を防止する陰極線管の製
造方法を得ることを目的とする。
［発明の構成］
（課題を解決するための手段）
陰極線管の製造方法における排気工程において、順次お
こなわれる電子銃構成電極の高周波加熱処理、陰極の分
解活性化処理および排気管のチップオフ処理のうち、引
続きておこなわれる少なくともいずれか２処理を一定時
間おけて処理するようにした。
こなわれる電子銃構成電極の高周波加熱処理、陰極の分
解活性化処理および排気管のチップオフ処理のうち、引
続きておこなわれる少なくともいずれか２処理を一定時
間おけて処理するようにした。
（作 用）
上記のように排気工程において順次おこなわれる三つの
処理のうち、引続きおこなわれる少なくともいずれか２
処理を二定時間あけて処理すると、陰極の分解活性化処
理時の低真空度や排気直後のガス特性の劣化を防止でき
、また、陰極が過度に加熱されるために生ずる電極汚染
を抑制して、耐電圧特性の劣化を防止できる。
処理のうち、引続きおこなわれる少なくともいずれか２
処理を二定時間あけて処理すると、陰極の分解活性化処
理時の低真空度や排気直後のガス特性の劣化を防止でき
、また、陰極が過度に加熱されるために生ずる電極汚染
を抑制して、耐電圧特性の劣化を防止できる。
（実施例）
以下、図面を参照してこの発明を実施例に基づいて説明
する。
する。
ガラス製外囲器の内側に、蛍光面、電子銃など所定の管
内部材を装着または形成した陰極線管を、その管内を高
真空に排気する真空装置、電子銃構成電極を加熱する高
周波加熱コイル、電子銃の所定電極に所定の電圧を印加
して酸化物陰極を分解活性化するためのソケット、ガラ
ス製排気管を溶融してチップオフするためのコイルヒー
タなどを備えるカートに装着し、所定温度カーブに設定
された連続加熱炉内を移動させ、陰極線管仝休を加熱し
て外囲器および管内部材のガス出しをおこない、その間
に上記真空装置により排気する。そして、この排気の後
段で、まず上記高周波加熱コイルにより電子銃構成電極
を加熱してこの電極からのガス出しをおこない、つぎに
上記ソケツ１−を介して電子銃の所定電極に所定の電圧
を印加して陰極を分解活性化し、その後上記コイルヒー
タにより排気管を溶融してチップオフする。
内部材を装着または形成した陰極線管を、その管内を高
真空に排気する真空装置、電子銃構成電極を加熱する高
周波加熱コイル、電子銃の所定電極に所定の電圧を印加
して酸化物陰極を分解活性化するためのソケット、ガラ
ス製排気管を溶融してチップオフするためのコイルヒー
タなどを備えるカートに装着し、所定温度カーブに設定
された連続加熱炉内を移動させ、陰極線管仝休を加熱し
て外囲器および管内部材のガス出しをおこない、その間
に上記真空装置により排気する。そして、この排気の後
段で、まず上記高周波加熱コイルにより電子銃構成電極
を加熱してこの電極からのガス出しをおこない、つぎに
上記ソケツ１−を介して電子銃の所定電極に所定の電圧
を印加して陰極を分解活性化し、その後上記コイルヒー
タにより排気管を溶融してチップオフする。
とろで、この例の陰極線管の排気では、第１図に示すよ
うに、順次おこなわれる高周波加熱処理（２）、陰極の
分解活性化処理（３）およびチップオフ処理（４）の各
処理を一定時間ｔあけて処理してしている。その各処理
間の時間間隔は、高周波加熱処１！Ｉ！ （２）と陰極
の分解活性化処理（３）については、高周波加熱処理（
２）により電極をたとえば６００℃に加熱したとすると
、その電極の温度が約１７２の３００〜３５０℃程度に
なるまで、時間にして２分程度あけて、つぎの陰極の分
解活性化処理（３）がおこなわれる。また、陰極の分解
活性化処理（３）とチップオフ処理（４）についても、
同様に２分程度間をあけて処理される。
うに、順次おこなわれる高周波加熱処理（２）、陰極の
分解活性化処理（３）およびチップオフ処理（４）の各
処理を一定時間ｔあけて処理してしている。その各処理
間の時間間隔は、高周波加熱処１！Ｉ！ （２）と陰極
の分解活性化処理（３）については、高周波加熱処理（
２）により電極をたとえば６００℃に加熱したとすると
、その電極の温度が約１７２の３００〜３５０℃程度に
なるまで、時間にして２分程度あけて、つぎの陰極の分
解活性化処理（３）がおこなわれる。また、陰極の分解
活性化処理（３）とチップオフ処理（４）についても、
同様に２分程度間をあけて処理される。
すなわち、高周波加熱処理（２）後、２分程度間をあ【
プで陰極の分解活性化処理（３）をおこなうと、分解活
性化時の真空度を高めて従来発生した低真空度に起因す
る不十分な分解活性化をなくすことができる。
プで陰極の分解活性化処理（３）をおこなうと、分解活
性化時の真空度を高めて従来発生した低真空度に起因す
る不十分な分解活性化をなくすことができる。
また陰極の過度の加熱に基づく電子放射物質の蒸発を軽
減し、耐電圧不良の発生を従来にくらべて約２５％減少
させることができる。また、陰極の分解活性化処理（３
）俊、２分程度間隔をおいてつきのチップオフ処理（３
）をおこなうことにより、チップオフ処理（３）時の真
空度を１７３桁程度良好にし、排気直後のガス特性を約
３０％向上させることができる。
減し、耐電圧不良の発生を従来にくらべて約２５％減少
させることができる。また、陰極の分解活性化処理（３
）俊、２分程度間隔をおいてつきのチップオフ処理（３
）をおこなうことにより、チップオフ処理（３）時の真
空度を１７３桁程度良好にし、排気直後のガス特性を約
３０％向上させることができる。
なお、上記のように各処理を一定時間ｔあけて処理する
と、従来にくらべてその時間間隔分処理期間が長くなる
ことになるが、この例の方法では、各処理間の時間間隔
に対応して、実質的に高周波加熱処理（２）や陰極の分
解活性化処理（３）に要する時間を短縮することができ
、従来とほぼ同じ期間内に３処理を終了することができ
る。
と、従来にくらべてその時間間隔分処理期間が長くなる
ことになるが、この例の方法では、各処理間の時間間隔
に対応して、実質的に高周波加熱処理（２）や陰極の分
解活性化処理（３）に要する時間を短縮することができ
、従来とほぼ同じ期間内に３処理を終了することができ
る。
なお、上記実施例では、高周波加熱処理、陰極の分解活
性化処理およびチップオフ処理の各処理をそれぞれ一定
時間ｔあけて処理するようにしたが、この３処理のうち
、いずれか２処理を一定時間ｔあけて処理しても、従来
にくらべて良好な結果が得られる。
性化処理およびチップオフ処理の各処理をそれぞれ一定
時間ｔあけて処理するようにしたが、この３処理のうち
、いずれか２処理を一定時間ｔあけて処理しても、従来
にくらべて良好な結果が得られる。
［発明の効果］
陰極線管の排気工程において順次おこなわれる電子銃構
成電極の高周波加熱処理、陰極の分解活性化処理および
排気管のチップオフ処理のうち、引続きおこなわれる少
なくともいずれか２処理を一定時間あけて処理すると、
３処理に要する期間を長くすることなく、陰極の分解活
性化処理時の真空度を高めて低真空度に起因する不十分
な分解活性化や、陰極が過度に加熱されるために生ずる
電極汚染を抑制して耐電圧特性の劣化を防止し、またチ
ップオフ処理時の真空度を高めて排気直後のガス特性を
向上させることができる。
成電極の高周波加熱処理、陰極の分解活性化処理および
排気管のチップオフ処理のうち、引続きおこなわれる少
なくともいずれか２処理を一定時間あけて処理すると、
３処理に要する期間を長くすることなく、陰極の分解活
性化処理時の真空度を高めて低真空度に起因する不十分
な分解活性化や、陰極が過度に加熱されるために生ずる
電極汚染を抑制して耐電圧特性の劣化を防止し、またチ
ップオフ処理時の真空度を高めて排気直後のガス特性を
向上させることができる。
第１図はこの発明の一実施例である陰極線管の製造方法
における排気工程の説明図、第２図は従来の排気工程の
説明図、第３図は従来の排気工程の終段でおこなわれる
高周波加熱処理、陰極の分解活性化処理および排気管の
チップオフ処理と管内真空度との関係を示す図である。 （１）・・・高周波加熱処理 （２）・・・陰極の分解活性化処理 （３）・・・排気管のチップオフ処理 代理人 弁理士 大 胡 典 夫 藁向慎 −
における排気工程の説明図、第２図は従来の排気工程の
説明図、第３図は従来の排気工程の終段でおこなわれる
高周波加熱処理、陰極の分解活性化処理および排気管の
チップオフ処理と管内真空度との関係を示す図である。 （１）・・・高周波加熱処理 （２）・・・陰極の分解活性化処理 （３）・・・排気管のチップオフ処理 代理人 弁理士 大 胡 典 夫 藁向慎 −
Claims (1)
- 電子銃の封入された陰極線管の排気工程において順次お
こなわれる電子銃構成電極の高周波加熱処理、陰極の分
解活性化処理および排気管のチップオフ処理のうち、引
続きおこなわれる少なくともいずれか２処理を一定時間
間をあけて処理することを特徴とする陰極線管の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11831088A JPH01289049A (ja) | 1988-05-17 | 1988-05-17 | 陰極線管の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11831088A JPH01289049A (ja) | 1988-05-17 | 1988-05-17 | 陰極線管の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01289049A true JPH01289049A (ja) | 1989-11-21 |
Family
ID=14733513
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11831088A Pending JPH01289049A (ja) | 1988-05-17 | 1988-05-17 | 陰極線管の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01289049A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50131452A (ja) * | 1974-03-25 | 1975-10-17 |
-
1988
- 1988-05-17 JP JP11831088A patent/JPH01289049A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50131452A (ja) * | 1974-03-25 | 1975-10-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3922049A (en) | Method of degassing a cathode-ray tube prior to sealing | |
| JPH0343937A (ja) | 映像管の製造法 | |
| JPH01289049A (ja) | 陰極線管の製造方法 | |
| US1861637A (en) | Production of alkali metal tubes | |
| JP3454499B2 (ja) | 画像表示装置の製造方法 | |
| JPH0528907A (ja) | 受像管用カソードの活性方法 | |
| US6139388A (en) | Method of forming a frit seal between a stem and a neck of a cathode ray tube during manufacturing of a cathode ray tube | |
| JP3175199B2 (ja) | 酸化物カソード活性方法 | |
| KR0156277B1 (ko) | 음극선관의 s-링 스패터링 방법 | |
| US1897480A (en) | Process of making electron discharge device | |
| KR920010372B1 (ko) | 브라운관의 배기 방법 | |
| JPS63218121A (ja) | 陰極線管の製造方法 | |
| JPS62147629A (ja) | 画像表示管の製造方法 | |
| JPH0821329B2 (ja) | 表示管の製造方法 | |
| JPS63248033A (ja) | カラ−ブラウン管の製造方法 | |
| JPH05283003A (ja) | 冷陰極放電ランプの製造方法 | |
| JPH06131978A (ja) | 陰極線管の製造方法 | |
| JPH1173885A (ja) | 陰極線管の製造方法 | |
| JPS61110935A (ja) | 陰極線管の製造方法 | |
| JPH0320931A (ja) | 陰極線管のコンディショニング方法 | |
| JPH0373089B2 (ja) | ||
| JPS61153922A (ja) | 陰極線管の製造方法 | |
| JPH10326565A (ja) | 陰極線管の表面処理装置 | |
| JP2000090834A (ja) | 陰極線管の製造方法 | |
| JPS60232635A (ja) | 陰極線管の製造方法 |