JPH012777A - 極低水素濃度アルミニウム鋳塊の製造方法 - Google Patents

極低水素濃度アルミニウム鋳塊の製造方法

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Publication number
JPH012777A
JPH012777A JP62-159274A JP15927487A JPH012777A JP H012777 A JPH012777 A JP H012777A JP 15927487 A JP15927487 A JP 15927487A JP H012777 A JPH012777 A JP H012777A
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JP
Japan
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hydrogen concentration
aluminum
ingot
crucible
molten aluminum
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Application number
JP62-159274A
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JPS642777A (en
Inventor
良達 大塚
谷本 繁美
一雄 豊田
Original Assignee
昭和アルミニウム株式会社
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は、たとえば磁気ディスク、感光ドラム、ボン
ディングワイヤ、レーザービームプリンタの回転多面鏡
等の電子機器や、シンクロトロンの粒子加速パイプ、薄
膜製造装置、表面分析装置、核融合装置等の真空用機器
などを製造するのに使用される極低水素濃度アルミニウ
ム鋳塊の製造方法に関する。
この明細書において、「アルミニウム」という語には、
純アルミニウムおよびアルミニウム合金の両者を含むも
のとする。また、この明細書において、「不活性ガス」
という語には、アルゴンガス、ヘリウムガス等の周期表
の不活性ガスの他にチッ素ガス等のアルミニウムに対し
て不活性なガスも含むものとする。
従来技術とその問題点 上記のような機器を製造するのに使用されるアルミニウ
ム鋳塊としては、その水素含H量が0.08cc/ 1
00g以下のものが要求されている。
このようなアルミニウム鋳塊を製造するため、従来はア
ルミニウム溶湯中に塩素ガス、塩素ガスと不活性ガスと
の混合ガス等の水素除去灰理ガスを気泡状態で吹込んだ
り、ヘキサクロロエタン等を用いたフラックス処理を行
ったりした後、これを凝固させていた。
ところが、この方法で製造されたアルミニウム鋳塊では
、その水素含有量を0.08cc/ 100g以下とす
るのは困難であるという問題があった。
この発明の1」的は、上記問題を解決し、水素含a量か
0.08cc/ 100g以下である極低水素濃度アル
ミニウム鋳塊を製造する方法を提供することにある。
問題点を解決するための手段 この発明による極低水素濃度アルミニウム鋳塊の製造方
法は、アルミニウムを溶解した後、このアルミニウム溶
湯を撹拌しながら冷却することにより凝固させ、アルミ
ニウム鋳塊を得ることを特徴とするとするものである。
上記において、全アルミニウム溶湯のうちの7006、
望ましくは50%が凝固した時点までの鋳塊を得ること
が好ましい。これより後に得られる鋳塊中の水素濃度は
高くなるおそれがあるからである。
また、凝固速度は10 am/ 1Ilin以下である
ことか好ましく、5 m+n/ min以下であること
か望ましい。
さらに、アルミニウム溶湯を入れておくるつほや処理槽
の上端開口を密閉しておき、アルミニウム溶湯表面より
も上方の部分を真空状態にするか、または該部分を低水
分保持雰囲気としておいて上記処理を行なうと水素除去
効率はなお一層向上する。後者の場合、上記部分に不活
性ガスや乾燥空気や純酸素を充填することにより該部分
を低水分保持雰囲気とするのかよい。
このようにして得られた極低水素濃度アルミニウム鋳塊
は、これに適当な機械的加工を施して使用されるか、ま
たは水素濃度が増大しないように乾燥空気雰囲気等の低
水分保持雰囲気中において再溶解し、必要な形状のイン
ゴットとして使用される。
作  用 アルミニウム溶湯を冷却し、比較的遅い速度で凝固させ
ることによってアルミニウム鋳塊をiする場合、初期に
得られる固相中の水素、濃度は極めて低く、元のアルミ
ニウム溶湯中の水素濃度よりも低くなる。これは、アル
ミニウムにおいては、固相中の水素溶解度が液相中の水
素溶解度に比べて極めて小さいため、凝固界面で液相中
に水素が放出されるからである。ところが、凝固が進行
するにつれて液相中の水素濃度が高くなるので、固相率
が所定値、たとえば5096を越えると、それ以後前ら
れる固4目中の水素濃度は急激に増加し始める。
アルミニウム溶湯を撹拌しながらアルミニウム溶湯を凝
固させると、iRMl中に放出されかつ15化されて気
泡となった水素を、凝固界面から遠ざけて固相中に取込
まれないようにしながら凝固を進行させることとなり、
得られた鋳塊中の水素濃度は極めて低くなる。
実  施  例 以下、この発明の実施例を、比較例とともに図面をづ照
して説明する。全図面を通じて、同一物または同一部分
には同一?〕号を付して説明を省略する。
実施例1 この実施例は第1図および第2図に示す装置を用いて行
なったものである。第1図および第2図において、両端
が開口した垂直筒状の電気炉(1)のやや下方でかつ電
気炉(1)の下端開口をのぞむ位置に冷却器(2)が配
置されている。
冷却器(2)の−側壁には冷却水導入管(3)および冷
却水排出管(4)が接続され、冷却水導入管り3)から
冷却器(2)内に導入された冷却水が冷却器(2)内を
循環して冷却水排出管(4)から排出されるようになさ
れている。そして冷却器(2)が内部から水冷される。
冷却器(2)の上には、円筒状黒鉛るつぼ(5)が載せ
られ、このるりは(5)内にアルミニウム溶湯(6)が
入れられている。黒鉛るつぼ(5)は、はぼ全体が電気
炉(1)内にくるようになされている。電気炉(1)の
まわりには、これを囲むように回転磁界発生用コイル(
lO)が配置されている。このコイル(lO)には回転
磁界発生用3相交流変圧器(11)がΔ−Δ接続されて
いる。
このような装置を使用し、るつぼ(5)内に純度99.
92vL%のアルミニウム溶湯(6)を入れておいた。
そして、変圧器(11)から回転磁界発生コイル(10
)に3相交流電流を供給した。すると、アルミニウム溶
湯(6)に渦電流が発生してローレンツ力が作用し、ア
ルミニウム溶湯(6)が流動して全体的に撹拌された。
このようにしてアルミニウム溶湯(6)を撹拌しながら
、冷却器(2)内への冷却水の供給を開始し、アルミニ
ウム溶湯(6)を、るつぼ(5)の底部の方から凝固速
度3 mn+/minで凝固させ、溶湯(6)全部を凝
固させて鋳塊をつくった。
得られた鋳塊中の水素濃度を測定したところ、該鋳塊に
おける下端から全長の5096の部分までの水素濃度は
0.06cc/100gであり、残りの部分の水素濃度
は上端に向かって漸増し、上端では0.7cc/100
gであった。
実施例2 この実施例は第3図に示す装置を用いて行なったもので
ある。第3図において、るつは(5)の上端開口は蓋(
14)で密閉されている。そして、蓋(14)に、不活
性ガスをるつぼ(5)内に供給する不活性ガス供給管(
12)および排気管(13)が貫通させられている。排
気管(13)は、この発明の方法を実施するにあたり、
予め供給管(12)を通してるつぼ(5)内に供給され
る不活性ガスによってるつぼ(5)内から追い出される
、元々るつぼ(5)内に存在した大気と、処理作業の間
中るつは(5)内に送り込まれる不活性ガスのうちの過
剰なものをるつは(5)内から外部に排出するためのも
のである。また、電気炉(1)のまわりにこれを囲むよ
うに磁界発生用コイル(15)が巻回されている。この
コイル(15)は磁界発生用電源(16)に接続されて
いる。また、蓋(14)には下端部がアルミニウム溶湯
(6)中に浸漬された黒鉛電極(17)が貫通させられ
ている。そして、直流電源(18)によって電極(17
)と導電材製冷却器(2)との間に所定の電流が流され
、アルミニウム溶湯(6)に通電されるようになってい
る。
このような装置を使用し、るつぼ(5)内に純度99.
92νt%のアルミニウム溶湯(6)を入れておくとと
もに、不活性ガス供給管(12)を通してるつは(5)
内にチッ素ガスを供給し、るつは(5)内における溶湯
(6)よりも上方の雰囲気中の水分量を0.1mg//
以下とした。そして、コイル(15)に電源(16)か
ら直流電流を供給するとともに電源(18)から電極(
17)を介してアルミニウム溶湯(6)に通7ヒした。
すると、アルミニウム溶湯(6)はローレンツ力を受け
て一方向に撹拌された。このようにして溶湯(6)を撹
拌しながら、冷却器(2)内への冷却水の供給を開始し
、アルミニウム溶湯(6)を、るつぼ(5)の底部の方
から凝固速度3 mm/n+inで凝固させ、溶湯(6
)全部を凝固させて鋳塊をつくった。
得られた鋳塊中の水素濃度を測定したところ、該鋳塊に
おける下端から全長の50%の部分までの水素濃度は0
.04cc/100gであり、残りの部分の水素濃度は
上方に向かって漸増し、上端では0.4cc/ 100
 gであった。
実施例3 この実施例は第4図に示す装置を用いて行なったもので
ある。第4図におりて、電気炉(1)およびるつぼ(5
)の内径は、第1図に示す装置の電気炉およびるつぼの
内径よりも大となされている。また、るつぼ(5)は冷
却器(2)の上には載せられていない。そして、るつぼ
(5)の内周面に、円周方向に所定間隔をおいて複数の
アルミニウム溶湯流速低下用邪魔板(20)が設けられ
ている。また、るつぼ(5)内に、中空回転軸(21)
の下端に取付けられた円筒状回転冷却体(22)が配置
されている。回転冷却体(22)には、中空回転軸(2
1)内を通して回転冷却体(22)に冷却流体が送り込
まれるようになっている。また、回転冷却体(22)の
下面、および回転冷却体(22〉の外周面におけるアル
ミニウム溶湯(6)との接触部を含む所定幅部分はそれ
ぞれ断熱材(23)で覆われている。
このような装置を使用し、るつぼ(5)内に純度99.
92wt%のアルミニウム溶湯(6)を入れておいた。
そして、回転冷却体(22)を回転速度300 rpn
+で回転させながら、回転冷却体(22)内に冷却流体
を供給することによって、冷却体(22)の周面に凝固
速度が5 ■/minとなるようにアルミニウムを凝固
させ、肉厚が60nu+の円筒状鋳塊を製造した。得ら
れた鋳塊中の水素濃度を測定したところ、0.05cc
/100gであった。
比較例 るつぼ(5)内の溶湯(6)を撹拌しないことを除いて
は上記実施例1と同球の装置を用いて同1mな方法で鋳
塊を製造した。
得られた鋳塊中の水素濃度をtIlj定したところ、該
鋳塊における下端から全長の4096の部分までの水素
濃度は0゜1icc/100gであり、残りの部分の水
素l濃度は上方に向かって漸増し、上端では1.5cc
/100gであった。
発明の効果 この発明の方法によれば、上記作用の項で述べたように
して、極低水素濃度のアルミニウム鋳塊を製造すること
ができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の実施例1に用いる装置の垂直縦断面
図、第2図は同平面図、第3図はこの発明の実施例2に
用いる装置の垂直縦断面図、第4図はこの発明の実施例
3に用いる装置の垂直縦断面図である。 (6)・・・アルミニウム溶湯。 第2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. アルミニウムを溶解した後、このアルミニウム溶湯を撹
    拌しながら冷却することにより凝固させ、アルミニウム
    鋳塊を得ることを特徴とする極低水素濃度アルミニウム
    鋳塊の製造方法。
JP62-159274A 1987-06-25 極低水素濃度アルミニウム鋳塊の製造方法 Pending JPH012777A (ja)

Priority Applications (1)

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JP62-159274A JPH012777A (ja) 1987-06-25 極低水素濃度アルミニウム鋳塊の製造方法

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JP62-159274A JPH012777A (ja) 1987-06-25 極低水素濃度アルミニウム鋳塊の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS642777A JPS642777A (en) 1989-01-06
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