JPH01276129A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

感光性樹脂組成物

Info

Publication number
JPH01276129A
JPH01276129A JP10555688A JP10555688A JPH01276129A JP H01276129 A JPH01276129 A JP H01276129A JP 10555688 A JP10555688 A JP 10555688A JP 10555688 A JP10555688 A JP 10555688A JP H01276129 A JPH01276129 A JP H01276129A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
parts
weight
green sheet
photosensitive resin
resin composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10555688A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuhiko Araki
泰彦 荒木
Hajime Shobi
初 松扉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sekisui Chemical Co Ltd filed Critical Sekisui Chemical Co Ltd
Priority to JP10555688A priority Critical patent/JPH01276129A/ja
Publication of JPH01276129A publication Critical patent/JPH01276129A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は感光性樹脂組成物に関する。
〔従来の技術〕
従来より感光性樹脂組成物はドライフィルムレジスト、
ソルダーレジスト等の用途に広く使用されている。本発
明者等は感光性樹脂組成物の新規な用途として異方性セ
ラミックス複合体の製造方法を提案した。(特願昭63
−43909号) 即ち、この異方性セラミックス複合体の製造方法は、有
機材料による細線パターンが形成された、セラミックス
材料を主成分とする絶縁性グリーンシートを複数枚積層
圧着後、焼成し、有機材料を除去して得られた空孔に導
電性材料を充填することを特徴とするものであり、絶縁
性グリーンシートに感光性樹脂組成物を積層し、露光、
現像することによって上記細線パターンを形成するので
ある。
しかしながら、上記グリーンシートは、一般に、アルミ
ナ、ジルコニア、マグネシア、サイアロン、スピネル、
ムライト、結晶化ガラス、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒
化アルミニウムなどの粉末やMgO−3iOz−CaO
系、BzO:l−5iOz系、Pb0−BzOi−5i
Oz系、  CaO−5iO□−MgO−BzO:+系
、PbO−5iOz−BzOt−CaO系などのガラス
フリット粉末等のセラミックス粉末と、ポリビニルブチ
ラール、ポリビニルアルコール、ポリ(メタ)アクリレ
ート、セルロース、デキストリン、ポリエチレンワック
ス、澱粉、カゼインなどの高分子材料やジオクチルフタ
レート、ジブチルフタレート、ポリエチレングリコール
などの可塑剤等の有機結合剤と、メタノール、エタノー
ル、ブタノール、プロパツール、メチルエチルケトン、
アセトン、酢酸エチル、トルエン、水等の溶剤を混合し
たスラリーを基材上に塗布乾燥して形成しているので、
グリーンシート中には高分子材料が存在しており、その
ため感光性樹脂組成物はグリーンシートに強固に接着し
、現像性が低下し、解像性が悪くなるという欠点があっ
た。
[発明が解決しようとする課題] 本発明の目的は、上記欠点に鑑み、グリーンシートとの
接着力が適度であり、現像性が良く高解像性であって、
微細な空孔を高密度に有するセラミックス焼結体を得る
のに好適に使用できる感光性樹脂組成物を提供すること
にある。
(課題を解決するための手段〕 本発明で使用されるアルカリ水溶液に可溶な樹脂(a)
は、感光性樹脂組成物中でバインダーとして作用するも
のであって、カルボン酸含有単量体の含有量が少ないと
アルカリ水溶液に不溶になり、逆に多くなるとバインダ
ーとしての作用が弱くなるので、α、β−不飽和エチレ
ン系単量体60〜90重量%とカルボン酸含有単量体4
0〜10重量%との共重合体である。
上記α、β−不飽和エチレン系単量体としては、例えば
エチレン、プロピレン、ブチレンなどのα−オレフィン
類、塩化ビニル、臭化ビニル、フン化ビニルなどのハロ
ゲン化ビニル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸
ビニルなどのビニルエステル類、(メタ)アクリル酸メ
チル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸
プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリ
ル酸オクチル、(メタ)アクリル酸ラウリル、(メタ)
アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アルリル酸2
−クロルエチル、(メタ)アクリル酸フェニル、α−ク
ロルアクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸ジメチルア
ミノエチルなどのα−メチレン脂肪族モノカルボン酸エ
ステル類、(メタ)アクリロニトリル、アクリルアミド
などのアクリル誘導体、ビニルメチルエーテル、ビニル
エチルエーテルなどのビニルエーテル類、ビニルメチル
ケトン、ビニルエチルケトンなどのビニルケトン類、N
−ビニルピロール、N−ビニルカルバゾール、N−ビニ
ルインドールなどのN−ビニル化1’を等があげられる
又、カルボン酸含有単針体としては、例えばアクリル酸
、メタクリル酸、マレイン酸等があげられる。
上記共重合体の分子量は一般に数千〜数百万であり、好
ましくは数万〜数十万である。
本発明で使用される一般式(1)で示される付加重合性
物質(b)は光重合開始剤(d)の存在下に活性光線の
照射により重合する化合物であって、式中(m+n)が
5以上になるとグリーンシートとの密着性が向上しすぎ
て解像性が低下し、かつ感度が高くなりすぎるので2〜
4に限定されるのであり、例えば2,2°ビス(4−メ
タアクロキシジェトキシフェニル)プロパン、2゜2°
ビス(4−アクロキシジェトキシジフェニル)プロパン
等があげられ、又市販品としては新中村化学工業社のA
−BPE−4、BPE−200等があげられる。
付加重合性物t (b)の添加量は、多くなると密着性
が高くなりすぎて解像度が低下するので、樹脂100重
量部に対し5〜150重量部であり、好ましくは10〜
100重量部である。
本発明で使用されるシリコーン糸ポリマーとしては、た
とえばフェニルメチルシロキサンとジメチルシロキサン
のコポリマー(たとえば東しシリコーン社製、トーレシ
リコーン5H−510,511−550,5R−710
,5R−556) 、2−(2−ヒドロキシエチルチオ
)エチル基を有するメチルフェニルシロキサンと水酸基
を有するアクリルポリマーとの縮合物、α、ω−ジヒド
ロキシポリジメチルシロキサンとトリアセトキシビニル
シシンとトリレンジイソシアネートとの縮合物等があげ
られる。
本発明で使用されるパーフロロ糸ポリマーとしては、た
とえばポリ (1,1−ジヒドロパーフロロへキシルメ
タクリレート)、ポリ(N−エチル、N−パーフロロオ
クタンスルホアミドエチルメタクリレート)、11−メ
チルパーフロロオクタンスルホアミドジアミノトリアジ
ンのメチロール化物等があげられる。
上記ポリマー(C)の添加量は少なくなると組成物とグ
リーンシートの密着力が高くなり解像度が低下し、多く
なると密着性が低下しすぎて基材の屈曲等により組成物
が剥離脱落するようになるので樹脂100重量部に対し
て1〜50重量部添加されるのであり、好ましくは5〜
30重量部である。
本発明で使用される光重合開始剤(d)は活性光線によ
り付加重合性物質(b)を活性化し、重合を開始させる
性質を有するものであればよく、例えばヘンシフエノン
、ミヒラースケ1−ン、p−ジメチルアミノ安息香酸エ
チル、p−ジエチルアミノ安息香酸エチル、チオキサン
トン、2−エチルチオキサントン、2.4−ジエチルチ
オキサントン、2−クロルチオキサントン、ヘンジイン
、ベンヅインエーテル、2−エチルアントラキノン、9
−フェニルアクリジン、9−ρ−メトキシフェニルアク
リジン、9.10−ジメチルベンズヘエナジン、6,4
°、4°°−トリメトキシ−2,3−ジフェニルキノキ
サリン、ベンゾイルパーオキサイド、ジーL−ブチルパ
ーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、キュメンハイ
ドロパーオキサイド、2−ニトロフルオレイン、2,4
.6−1−リフェニルピリリウム四フッ化ホウ素塩 、
 2,4.6−1−リス(トリクロロメチル)−1,3
,5−1−リアジン、3,3°−カルボニルビス(クマ
リン)、チオミヒラーケトン等があげられ、その添加量
は樹脂100重量部に対し0.1〜10重量部である。
上記感光性樹脂組成物には、必要に応して、さらにポリ
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエ
リスリトールトリ (メタ)アクリレート 、 トリメ
チロールプロパントリ(メタ)アクリレートなどの光重
合性物質、着色剤、発色剤、可塑剤、重合禁止剤等が添
加されてもよい。
上記感光性樹脂組成物は、通常メチルエチルケトン、ア
セトン、メタノール、エタノール、イソプロパツール、
エチルセロソルブ、塩化メチレン等の有機溶剤に溶解さ
れて使用されるが、ポリエチレンテレフタレートフィル
ム等の支持フィルムに塗布乾燥してDFRとして使用さ
れるのが好ましい。
上記DFRでグリーンシート上に細線パターンを形成す
るには、従来公知の方法が採用されればよく、例えばグ
リーンシート上にDFRを圧着もしくは熱融着し、その
上に細線パターンの設けられたホトマスクを積層して、
高圧水銀灯等で活性光線を照射して露光し、照射部分の
感光性樹脂組成物を硬化させ、次いでホトマスクを剥離
した後炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム等を溶解したアルカリ水溶液で現像する方法があげ
られる。
細線パターンが形成されたグリーンシートがら空孔を有
するセラミックス焼結体を得るには、上記グリーンシー
トを複数枚積層し圧着した後焼成すればよい。焼成する
ことによって細線パターンが除去され空孔が形成される
。又、異方性セラミックス複合体を得るには上記空孔に
導電性材料を充填すればよい。
〔実施例] 次に本発明の詳細な説明する。尚、以下単に「部」とあ
るのは「重量部」を意味する。
実施例1 平均粒径2μmのアルミナ粉末95部、平均粒径0.8
 、l/ mのMgO−3iO2−CaO系ガラスフリ
ント粉末5部、ポリビニルブチラール12部、ジブチル
フタレート2部、メチルエチルケトン30部及びトルエ
ン30部をアルミナボールミルに供給し、3時間混練し
てスラリーを得、得られたスラリーをドクターブレード
型グリーンシート作製機に供給し、ポリエチレンテレフ
タレートフィルム上に塗布乾燥し、厚さ50部mの10
100X100のグリーンシートを得た。
メタクリル酸メチル−メタクリル酸n−ブチル−アクリ
ル酸共重合体(6/2/2.MW・15万)60部、2
.2″ビス(4−メタアクリロキシジェトキシフェニル
)プロパン15部、テトラエチ・ レンゲリコールジア
クリレート15部、トーレシリコーン5H−510(東
しシリコーン社製、商品名)1部、2,4−ジメチルチ
オキサントン2部、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル
2部、マラカイトグリーン0.05部、バラメトキシフ
ェノール0.1部及びメチルエチルケトン200部を均
一に溶解させて感光液を得、得られた感光液を厚さ20
μmのポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布乾
燥し、厚さ25μmのDFRを得た。
得られたDFRを上記グリーンシートに熱ラミネートし
、DFRの支持体であるポリエチレンテレフタレートフ
ィルムに細線パターンを有する陰画のホトマスクを密着
させ、3KW高圧水銀灯から50cmの距離で紫外線を
40mJ/c+j露光した。次にDFRの支持体である
ポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し、30°
Cで炭酸ナトリウム1wt%水溶液を1kg/cr1ス
プレーし、現像した。感度をスト7721段ステップタ
ブレットで測定したところ6段であり、線幅15μm、
線間15μmのパターンが正確に再現されていた。
上記方法により線幅25μm、線間25μmのパターン
が形成されたグリーンシートからグリーンシートの支持
体であるポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離し
、500枚積層し、80°C,30kg/cdの条件で
1分間プレスし、120X120X20nmの積層体を
得、積層面と垂直にスライスして厚さ3閣のスライス体
を得た。得られたスライス体を加熱炉に供給し、50°
C/hrで昇温し500°Cで2時間保持してDFRを
揮散させると共に脱脂し、次いで200’C/hrで昇
温し1650°Cで2時間焼成して一面から相対する面
に多数の独立した貫通孔を有する多孔性セラミックスを
得た。
実施例2 メタクリル酸メチル−アクリル酸2−エチルヘキシル−
メタクリル酸共重合体(2/1/1.Mw=10万)6
0部、2,2″ビス(4−アクロキシジェトキシフェニ
ル)プロパン20部、トリプロピレンジアクリレート1
0部、ダイフリーMS−443(ダイキン工業社製、商
品名、ポリ(1゜1−ジヒドロパーフロロへキシルメタ
クリレート)2−t%、ダイフロンソルベント92−t
%、イソプロパツール6I%〕34部、2.4−ジメチ
ルチオキサントン2部、バラジメチルアミノ安息香酸エ
チル2部、マラカイトグリーン0.05部、バラメトキ
シフェノール0.1部及びメチルエチルケトン200部
を均一に溶解させて感光液を得、得られた感光液を厚さ
20μmのポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗
布乾燥し、厚さ25μmのDFRを得た。
得られたDFR及び実施例1で得られたグリーンシート
を使用し、実施例1で行ったと同様にして熱融着、露光
、現像を行った。感度は6段であり、線幅15μm、線
間15μmのパターンまで正確に再現された。
上記方法により線幅25μm、線間25μmのパターン
が形成されたグリーンシートを使用し、実施例1で行っ
たと同様にして、積層、スライス、焼結し、−面から相
対する面に多数の貫通孔を有する多孔性セラミックスを
得た。
比較例 メタクリル酸メチル−メタクリル酸n−ブチル−アクリ
ル酸共重合体(6/2/2. Mw=10万)60部、
テトラエチレングリコールジアクリレート15部、トリ
メチロールプロパントリアクリレート15部、フタル酸
ジオクチル10部、2.4−ジメチルチオキサントン2
部、マラカイトグリーン0.05部、バラメトキシフェ
ノール0.1部及びメチルエチルケトン200部を均一
に溶解して感光液を得、得られた感光液を厚さ25μm
のポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布乾燥し
て厚さ25μmのDFRを得た。
得られたDFR及び実施例1で得られたグリーンシート
を使用し、実施例1で行ったと同様にして熱融着、露光
、現像を行った。感度は10段であり、線幅200μm
、線間200μmのパターンまで正確に再現された。
得られたシートを使用し、実施例1で行ったと同様にし
て、積層、スライス、焼結し、−面から相対する面に貫
通孔を有する多孔性セラミフクスを得たが、貫通孔の側
壁にDFHの炭化物が付着していた。
〔発明の効果] 本発明の感光性樹脂組成物の構成は上述の通りであり、
グリーンシートとの接着力が適度であり、現像性が良(
、解像性がすぐれており、グリーンシートに高解像度の
細線パターンが得られ、そのグリーンシートの積層体を
焼成することによって微細な空孔を高密度に有するセラ
ミックス焼結体を得ることができる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、(a)α、β−不飽和エチレン系単量体60〜90
    重量%とカルボン酸含有単量体40〜10重量%との共
    重合体であって、アルカリ水溶液に可溶な樹脂100重
    量部、 (b)一般式( I )で示される付加重合性物質5〜1
    .50重量部、 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中R^1〜R^4は水素又はメチル基であり、同一
    であっでも、異なっていてもよい。m、nは正の整数で
    あってm+n=2〜4である。)(c)シリコーン糸ポ
    リマーもしくはパーフロロ糸ポリマー1〜50重量部及
    び (d)活性光線で増感する光重合開始剤0.1〜10重
    量部 からなる感光性樹脂組成物。
JP10555688A 1988-04-27 1988-04-27 感光性樹脂組成物 Pending JPH01276129A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10555688A JPH01276129A (ja) 1988-04-27 1988-04-27 感光性樹脂組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10555688A JPH01276129A (ja) 1988-04-27 1988-04-27 感光性樹脂組成物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01276129A true JPH01276129A (ja) 1989-11-06

Family

ID=14410828

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10555688A Pending JPH01276129A (ja) 1988-04-27 1988-04-27 感光性樹脂組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH01276129A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1022594A (ja) * 1996-07-03 1998-01-23 Toppan Printing Co Ltd 焼成用放射線硬化組成物
US6593058B1 (en) 1998-09-23 2003-07-15 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photoresists, polymers and processes for microlithography
US6849377B2 (en) 1998-09-23 2005-02-01 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photoresists, polymers and processes for microlithography

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1022594A (ja) * 1996-07-03 1998-01-23 Toppan Printing Co Ltd 焼成用放射線硬化組成物
US6593058B1 (en) 1998-09-23 2003-07-15 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photoresists, polymers and processes for microlithography
US6849377B2 (en) 1998-09-23 2005-02-01 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photoresists, polymers and processes for microlithography
US7276323B2 (en) 1998-09-23 2007-10-02 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photoresists, polymers and processes for microlithography

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3961961A (en) Positive or negative developable photosensitive composition
US4517277A (en) Photosensitive recording material suitable for the production of printing plates and relief plates, and the production of these plates using this recording material
CA1258597A (en) Photopolymerizable photosensitive composition
US3060026A (en) Photopolymerization process of image reproduction
JPH03210703A (ja) 水性現像可能な感光性銅導電体組成物
WO2006011548A1 (ja) 感光性フィルム、感光性フィルム積層体及び感光性フィルムロール
US3730717A (en) Photohardenable element with light developable direct writing silver halide overcoating
WO2014032499A1 (zh) 双层涂布的负性光致抗蚀干膜
US3202508A (en) Image photopolymerization transfer process
WO2000079344A1 (fr) Element photosensible, rouleau d'element photosensible, procede de fabrication d'un motif de resine, motif de resine, substrat avec motif de resine sus-jacent, procede de fabrication d'un motif de cablage et motif de cablage associe
US4956264A (en) Radiation-polymerizable mixture
JPH01276129A (ja) 感光性樹脂組成物
JP2963772B2 (ja) 感光性樹脂組成物
JP2733672B2 (ja) 光重合性樹脂組成物
EP0206030B1 (en) Photocurable composition
TW594381B (en) Process for patterning non-photoimagable ceramic tape
JP3055499B2 (ja) 積層フィルム及びプリント配線板の製造法
JPH01271744A (ja) 感光性樹脂組成物
WO1998004407A1 (fr) Fabrication d'une couche mince stratifiee et d'une carte a circuit imprime
US3736138A (en) Process for transferring images from a surface to a temporary surface and to a final surface
JPH05289335A (ja) 光重合性組成物
JPH07108833B2 (ja) 異方性セラミックス複合体の製造方法
JP4719981B2 (ja) 積層フィルム及びプリント配線板の製造法
JPH03250006A (ja) 感光性樹脂組成物
JP4065065B2 (ja) フオトレジスト用感光性樹脂組成物