JPH0124924Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0124924Y2 JPH0124924Y2 JP1987111547U JP11154787U JPH0124924Y2 JP H0124924 Y2 JPH0124924 Y2 JP H0124924Y2 JP 1987111547 U JP1987111547 U JP 1987111547U JP 11154787 U JP11154787 U JP 11154787U JP H0124924 Y2 JPH0124924 Y2 JP H0124924Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- electrode film
- electrode
- notch
- trimming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本考案は、積層コンデンサに関し、さらに詳し
くはレーザー光などを利用して電極膜をトリミン
グすることによつて容量が調整可能である積層コ
ンデンサに関するものである。
くはレーザー光などを利用して電極膜をトリミン
グすることによつて容量が調整可能である積層コ
ンデンサに関するものである。
[従来の技術とその問題点]
水晶等の発振回路において、この発振周波数を
調整する目的で積層コンデンサを発振回路に組込
み、この積層コンデンサの外側電極膜の一部をレ
ーザー光、電子ビームあるいはサンドブラストな
どによりトリミングして容量の調整を行ない、発
振周波数の調整を行うことは公知であり、積層コ
ンデンサは絶縁性の基板の上面にベース電極膜と
誘電体膜と外側電極膜とを単純に順次積層して形
成しただけの構造であつた。
調整する目的で積層コンデンサを発振回路に組込
み、この積層コンデンサの外側電極膜の一部をレ
ーザー光、電子ビームあるいはサンドブラストな
どによりトリミングして容量の調整を行ない、発
振周波数の調整を行うことは公知であり、積層コ
ンデンサは絶縁性の基板の上面にベース電極膜と
誘電体膜と外側電極膜とを単純に順次積層して形
成しただけの構造であつた。
このため、トリミングにより、電極膜のトリミ
ング個所およびその周辺部は電極膜のメツキなど
が剥れて酸化、腐蝕が起こり易くなる。コンデン
サの電極膜が酸化、腐蝕すると、コンデンサは容
量変化を起こし、発振周波数が変動してしまう。
ング個所およびその周辺部は電極膜のメツキなど
が剥れて酸化、腐蝕が起こり易くなる。コンデン
サの電極膜が酸化、腐蝕すると、コンデンサは容
量変化を起こし、発振周波数が変動してしまう。
そこで外側電極膜の全面をアルミナなどの保護
膜で保護することも行なわれているが、保護膜と
電極膜とを一緒にトリミングすることが必要とな
るため、トリミングに多大の時間を要するととも
に、トリミングに供するレーザー光などのエネル
ギ強度を強くしなければならない関係から、熱衝
撃による影響を受けるなどの結果を招いていた。
膜で保護することも行なわれているが、保護膜と
電極膜とを一緒にトリミングすることが必要とな
るため、トリミングに多大の時間を要するととも
に、トリミングに供するレーザー光などのエネル
ギ強度を強くしなければならない関係から、熱衝
撃による影響を受けるなどの結果を招いていた。
[考案の目的]
そこで本考案は、経年変化が少なくしかもトリ
ミングを迅速容易に行なうことができる積層コン
デンサを提供することを目的とする。
ミングを迅速容易に行なうことができる積層コン
デンサを提供することを目的とする。
[問題点を解決するための手段]
上記目的のもとに、本考案の積層コンデンサ
は、絶縁性の基板の上面に形成してあるベース電
極膜と、このベース電極膜の上に形成してある誘
電体膜と、この誘電体膜の上に形成してある外側
電極膜と、この外側電極膜の上にトリミングされ
る領域を除いて形成してある保護膜とによつて構
成したところに特徴を有するものである。
は、絶縁性の基板の上面に形成してあるベース電
極膜と、このベース電極膜の上に形成してある誘
電体膜と、この誘電体膜の上に形成してある外側
電極膜と、この外側電極膜の上にトリミングされ
る領域を除いて形成してある保護膜とによつて構
成したところに特徴を有するものである。
[実施例]
先ず、本考案の積層コンデンサが適用された水
晶発振ユニツトの構造から説明する。
晶発振ユニツトの構造から説明する。
第1図および第2図において、封止容器1は、
逆椀形の金属シエル3に気密ガラス2を介して複
数の端子ピン5,6,12〜16が貫通植設され
ているベースと、このベースのシエル3に冷間圧
接、抵抗溶接、ハンダなどにより密封固着される
金属キヤツプ4とによつて構成されている。端子
ピン5,6の上端には、水晶振動子9を保持した
保持バネ7,8が導電性接着剤、ハンダなどを介
して固着されている。水晶振動子9の両面には、
蒸着などにより電極9a,9bが形成されてお
り、各電極は保持バネ7,8を介して端子ピン
5,6に導通している。シエル3の上面には、水
晶振動子9の発振駆動用の集積回路素子10が接
着してある。なお集積回路素子10はアラーム音
発生回路などを含んだものでもよい。集積回路素
子10の各パツド部(図示せず。)と各端子ピン
とはボンデインワイヤを介して接続されている。
すなわち発振回路のインバータ11(第3図示)
の入力側はXT端子ピン13に、そして出力側は
XT端子ピン12に接続してある。またVDDパツ
ド部はVDD端子ピン14に接続してある。そして
例えば1Hzの有極信号を出力するパツド部は出力
端子ピン15,16に接続してある。
逆椀形の金属シエル3に気密ガラス2を介して複
数の端子ピン5,6,12〜16が貫通植設され
ているベースと、このベースのシエル3に冷間圧
接、抵抗溶接、ハンダなどにより密封固着される
金属キヤツプ4とによつて構成されている。端子
ピン5,6の上端には、水晶振動子9を保持した
保持バネ7,8が導電性接着剤、ハンダなどを介
して固着されている。水晶振動子9の両面には、
蒸着などにより電極9a,9bが形成されてお
り、各電極は保持バネ7,8を介して端子ピン
5,6に導通している。シエル3の上面には、水
晶振動子9の発振駆動用の集積回路素子10が接
着してある。なお集積回路素子10はアラーム音
発生回路などを含んだものでもよい。集積回路素
子10の各パツド部(図示せず。)と各端子ピン
とはボンデインワイヤを介して接続されている。
すなわち発振回路のインバータ11(第3図示)
の入力側はXT端子ピン13に、そして出力側は
XT端子ピン12に接続してある。またVDDパツ
ド部はVDD端子ピン14に接続してある。そして
例えば1Hzの有極信号を出力するパツド部は出力
端子ピン15,16に接続してある。
一方、気密ガラス2の下面とシエル3の下部側
壁内面とによつて区画された下面開口の空間3a
には、吸水率がほぼ零であり耐熱衝撃性にも優れ
たアルミナ磁器やステアタイト磁器などにて形成
された絶縁性の基板18が気密ガラス2の下面と
平行に配置してある。
壁内面とによつて区画された下面開口の空間3a
には、吸水率がほぼ零であり耐熱衝撃性にも優れ
たアルミナ磁器やステアタイト磁器などにて形成
された絶縁性の基板18が気密ガラス2の下面と
平行に配置してある。
この基板18は端子ピンに対して固着されるも
のであつて、この基板に本考案に係る以下の構造
の積層コンデンサ17が構成されている。
のであつて、この基板に本考案に係る以下の構造
の積層コンデンサ17が構成されている。
すなわち、基板18の上面には、第10図示の
ベース電極膜19,20が設けてあり、その上に
第11図示の誘電体膜21が設けてあり、さらに
その上に第12図示の外側電極膜22が設けてあ
り、最上部に第4図示の保護膜23が設けてあ
る。基板18の外周部にはシエル3の各端子ピン
が嵌入可能な切欠部18a,18b…18iおよ
び透孔部18jが形成してある。切欠部18f,
18aには、水晶振動子9に接続している端子ピ
ン5,6が嵌入する。ベース電極膜19,20は
高融点メタライズ金属と呼ばれるタンクステン、
マンガン、モリブデンなどの微粉末を含んだ導電
ペーストを塗布した後で焼成して形成したもので
ある。ベース電極膜19は切欠部18c,18f
の周縁部までの延伸しており、中央の湾曲部19
aが第3図示のコンデンサ24の一方の電極とな
るものである。ベース電極膜20は切欠部18
a,18bの周縁部まで延伸しており、中央の固
定電極部20aと可変電極部20bが第3図示の
コンデンサ25a,25bのそれぞれの一方の電
極となるものである。誘電体膜21は、基板18
と同様にアルミナ磁器やステアタイト磁器など吸
水率「0」であり耐熱衝撃性に優れた材料で形成
してあり、ベース電極膜19の湾曲部19aおよ
びベース電極膜20の電極部20a,20bを覆
つている。外側電極膜22は、その中央円形部2
2aがベース電極膜19の湾曲部19aおよびベ
ース電極膜20の電極部20a,20bと対向
し、第3図示のコンデンサ24,25a,25b
の他方の電極となつている。すなわちコンデンサ
24の容量は、ベース電極膜19の湾曲部19a
と外側電極膜22の中央円形部22aとの間で誘
電体膜21を介して生成されるものである。また
コンデンサ25a,25bの容量は、ベース電極
膜20の電極部20a,20bと外側電極膜22
の中央円形部22aと間で誘電体膜21を介して
生成されるものである。そして最上部に形成され
る保護膜23は、誘電体膜21と同様アルミナ磁
器などの絶縁材料にて形成したものであり、中央
部に切欠部23aが設けてある。この切欠部23
aは、トリミングされる領域に対応するものであ
り、前述の可変電極部20bと対向する位置に形
成されている。すなわち、切欠部23aの幅W
は、第6図示のように、可変電極部20bの幅w
より大きく、幅wに間隔d1とd2とを加えた幅であ
る。また切欠部23aの右端は固定電極部20a
と間隔d3をもつて位置している。すなわち切欠部
23aの右端は固定電極20aと可変電極20a
との間の間隙の略中央に位置している。
ベース電極膜19,20が設けてあり、その上に
第11図示の誘電体膜21が設けてあり、さらに
その上に第12図示の外側電極膜22が設けてあ
り、最上部に第4図示の保護膜23が設けてあ
る。基板18の外周部にはシエル3の各端子ピン
が嵌入可能な切欠部18a,18b…18iおよ
び透孔部18jが形成してある。切欠部18f,
18aには、水晶振動子9に接続している端子ピ
ン5,6が嵌入する。ベース電極膜19,20は
高融点メタライズ金属と呼ばれるタンクステン、
マンガン、モリブデンなどの微粉末を含んだ導電
ペーストを塗布した後で焼成して形成したもので
ある。ベース電極膜19は切欠部18c,18f
の周縁部までの延伸しており、中央の湾曲部19
aが第3図示のコンデンサ24の一方の電極とな
るものである。ベース電極膜20は切欠部18
a,18bの周縁部まで延伸しており、中央の固
定電極部20aと可変電極部20bが第3図示の
コンデンサ25a,25bのそれぞれの一方の電
極となるものである。誘電体膜21は、基板18
と同様にアルミナ磁器やステアタイト磁器など吸
水率「0」であり耐熱衝撃性に優れた材料で形成
してあり、ベース電極膜19の湾曲部19aおよ
びベース電極膜20の電極部20a,20bを覆
つている。外側電極膜22は、その中央円形部2
2aがベース電極膜19の湾曲部19aおよびベ
ース電極膜20の電極部20a,20bと対向
し、第3図示のコンデンサ24,25a,25b
の他方の電極となつている。すなわちコンデンサ
24の容量は、ベース電極膜19の湾曲部19a
と外側電極膜22の中央円形部22aとの間で誘
電体膜21を介して生成されるものである。また
コンデンサ25a,25bの容量は、ベース電極
膜20の電極部20a,20bと外側電極膜22
の中央円形部22aと間で誘電体膜21を介して
生成されるものである。そして最上部に形成され
る保護膜23は、誘電体膜21と同様アルミナ磁
器などの絶縁材料にて形成したものであり、中央
部に切欠部23aが設けてある。この切欠部23
aは、トリミングされる領域に対応するものであ
り、前述の可変電極部20bと対向する位置に形
成されている。すなわち、切欠部23aの幅W
は、第6図示のように、可変電極部20bの幅w
より大きく、幅wに間隔d1とd2とを加えた幅であ
る。また切欠部23aの右端は固定電極部20a
と間隔d3をもつて位置している。すなわち切欠部
23aの右端は固定電極20aと可変電極20a
との間の間隙の略中央に位置している。
ここで発振回路の接続関係について第3,4図
を参照して説明しておく。
を参照して説明しておく。
水晶振動子9、インバータ11、帰還抵抗2
6、コンデンサ24,25は、第3図示のとおり
接続されており、コンデンサ24,25の一端は
VDDにアース接地されている。水晶振動子9は端
子ピン5,6に接続されており、端子ピン5,1
2は第4図示のようにベース電極膜19に接続さ
れてる。端子ピン12は集積回路素子10のイン
バータ11のパツド部にワイラボンデイングされ
たものである。端子ピン6,13は外側電極膜2
0に接続され、また端子ピン13はインバータ1
1のパツド部にワイヤボンデイングされている。
さらに誘電体膜21を挟んで対向するベース電極
膜19と外側電極膜22とによりコンデンサ24
を形成しており、外側電極膜22はVDD端子ピン
14に接続されている。一方、誘電体膜21を挟
んで対向するベース電極膜20と外側電極膜22
によりコンデンサ25a,25bを形成し、前述
のように外側電極膜22はVDD端子ピン14に接
続されている。また集積回路素子10のVDDパツ
ド部はシエル3に接続されており、このためシエ
ル3と外側電極膜22とが同電位となり、電気的
に遮閉された状態となるため、コンデンサ24,
25a,25bは浮遊容量の影響を受けにくくな
る。
6、コンデンサ24,25は、第3図示のとおり
接続されており、コンデンサ24,25の一端は
VDDにアース接地されている。水晶振動子9は端
子ピン5,6に接続されており、端子ピン5,1
2は第4図示のようにベース電極膜19に接続さ
れてる。端子ピン12は集積回路素子10のイン
バータ11のパツド部にワイラボンデイングされ
たものである。端子ピン6,13は外側電極膜2
0に接続され、また端子ピン13はインバータ1
1のパツド部にワイヤボンデイングされている。
さらに誘電体膜21を挟んで対向するベース電極
膜19と外側電極膜22とによりコンデンサ24
を形成しており、外側電極膜22はVDD端子ピン
14に接続されている。一方、誘電体膜21を挟
んで対向するベース電極膜20と外側電極膜22
によりコンデンサ25a,25bを形成し、前述
のように外側電極膜22はVDD端子ピン14に接
続されている。また集積回路素子10のVDDパツ
ド部はシエル3に接続されており、このためシエ
ル3と外側電極膜22とが同電位となり、電気的
に遮閉された状態となるため、コンデンサ24,
25a,25bは浮遊容量の影響を受けにくくな
る。
発振周波数の調整は、コンデンサ25bの容量
を調整して行う。すなわちレーザー光、電子ビー
ムまたはサンドブラストなどにより保護膜23の
切欠部23a内の外側電極膜22を除去し、コン
デンサ25aの容量を減少させることにより行
う。第7〜9図において、22bはトリミングに
よる除去部であつて、この除去部のトリミング端
部22cは表面が荒れており、酸化や腐蝕がおこ
り易い。また外側電極膜22にメツキがかけてあ
る場合もトリミング端部22cはメツキが剥がれ
て同様に酸化や腐蝕を受け易い。しかし、切欠部
23aの幅は第6図示のように可変電極部20b
の幅より大きいため、トリミング端部22cの2
2c′を除く部分は可変電極部20bと対向してい
ない。このためトリミング端部22cが酸化され
た場合でも、22c′のわずかな部分のみが影響を
受けるだけであり、容量の大幅な変動はない。
を調整して行う。すなわちレーザー光、電子ビー
ムまたはサンドブラストなどにより保護膜23の
切欠部23a内の外側電極膜22を除去し、コン
デンサ25aの容量を減少させることにより行
う。第7〜9図において、22bはトリミングに
よる除去部であつて、この除去部のトリミング端
部22cは表面が荒れており、酸化や腐蝕がおこ
り易い。また外側電極膜22にメツキがかけてあ
る場合もトリミング端部22cはメツキが剥がれ
て同様に酸化や腐蝕を受け易い。しかし、切欠部
23aの幅は第6図示のように可変電極部20b
の幅より大きいため、トリミング端部22cの2
2c′を除く部分は可変電極部20bと対向してい
ない。このためトリミング端部22cが酸化され
た場合でも、22c′のわずかな部分のみが影響を
受けるだけであり、容量の大幅な変動はない。
[考案の効果]
以上詳細に説明した本考案の積層コンデンサに
よれば、外側電極の上に形成した保護膜に切欠部
を形成し、この切欠部を介してトリミングされる
べき領域としての可変電極部との対向部を露出さ
せ、さらに切欠部の幅を可変電極部の幅よりも広
くしたため、トリミング部における電極膜の酸化
や腐蝕を可及的に小さく抑えることができ、発振
周波数の経年変化を極めて小さくすることができ
る。トリミングされるべき領域としての可変電極
部との対向部以外の部分、すなわち固定電極部と
の対向部は保護膜によつて被覆されているため、
レーザー光などの照射が誤つてトリミングされる
べき領域から外れてもその部分は保護膜により保
護されているので影響が少なく、熱衝撃を受け難
い。
よれば、外側電極の上に形成した保護膜に切欠部
を形成し、この切欠部を介してトリミングされる
べき領域としての可変電極部との対向部を露出さ
せ、さらに切欠部の幅を可変電極部の幅よりも広
くしたため、トリミング部における電極膜の酸化
や腐蝕を可及的に小さく抑えることができ、発振
周波数の経年変化を極めて小さくすることができ
る。トリミングされるべき領域としての可変電極
部との対向部以外の部分、すなわち固定電極部と
の対向部は保護膜によつて被覆されているため、
レーザー光などの照射が誤つてトリミングされる
べき領域から外れてもその部分は保護膜により保
護されているので影響が少なく、熱衝撃を受け難
い。
図面は本考案の一実施例を示すものであつて、
第1図は本考案の積層コンデンサが適用された水
晶発振ユニツトの断面図、第2図は同上底面図、
第3図は発振回路図、第4図は絶縁性基板の拡大
正面図、第5図は第4図−線断面図、第6図
は第4図−線拡大断面図、第7図はコンデン
サの容量調整を説明するための説明図、第8図は
第7図−線断面図、第9図は第7図−線
断面図、第10図は基板とベース電極膜の形状を
示す正面図、第11図は誘電体膜の形状を示す正
面図、第12図は外側電極膜の形状を示す正面
図、第13図は保護膜の形状を示す正面図であ
る。 18……基板、19,20……ベース電極膜、
21……誘電体膜、22……外側電極膜、23…
…保護膜、23a……切欠部。
第1図は本考案の積層コンデンサが適用された水
晶発振ユニツトの断面図、第2図は同上底面図、
第3図は発振回路図、第4図は絶縁性基板の拡大
正面図、第5図は第4図−線断面図、第6図
は第4図−線拡大断面図、第7図はコンデン
サの容量調整を説明するための説明図、第8図は
第7図−線断面図、第9図は第7図−線
断面図、第10図は基板とベース電極膜の形状を
示す正面図、第11図は誘電体膜の形状を示す正
面図、第12図は外側電極膜の形状を示す正面
図、第13図は保護膜の形状を示す正面図であ
る。 18……基板、19,20……ベース電極膜、
21……誘電体膜、22……外側電極膜、23…
…保護膜、23a……切欠部。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 絶縁性の基板18の上面に形成してあるベース
電極膜20に固定電極部20aと、この固定電極
部20aから延出した可変電極部20bが設けて
あり、 上記ベース電極膜20の上に誘電体膜21が形
成してあり、 上記誘電体膜21の上に外側電極膜22が形成
してあり、 上記外側電極膜22の上には、上記可変電極部
20bとの対向部にトリミングされるべき領域を
露出させる切欠部23aを有しかつ上記固定電極
20aとの対向部を被覆している保護膜23が形
成してあり、 上記切欠部23aの幅は上記可変電極部20b
の幅より広くなつている ことを特徴とする積層コンデンサ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987111547U JPH0124924Y2 (ja) | 1987-07-21 | 1987-07-21 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987111547U JPH0124924Y2 (ja) | 1987-07-21 | 1987-07-21 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6333619U JPS6333619U (ja) | 1988-03-04 |
| JPH0124924Y2 true JPH0124924Y2 (ja) | 1989-07-27 |
Family
ID=30991568
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1987111547U Expired JPH0124924Y2 (ja) | 1987-07-21 | 1987-07-21 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0124924Y2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6028113U (ja) * | 1983-07-31 | 1985-02-26 | ナショナル住宅産業株式会社 | 袖壁パネルの固定構造 |
| JPS6038859A (ja) * | 1983-08-12 | 1985-02-28 | Hitachi Ltd | 相補形mis半導体装置 |
-
1987
- 1987-07-21 JP JP1987111547U patent/JPH0124924Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6333619U (ja) | 1988-03-04 |
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