JPH01245433A - 光学情報記録方法 - Google Patents

光学情報記録方法

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JPH01245433A
JPH01245433A JP7361088A JP7361088A JPH01245433A JP H01245433 A JPH01245433 A JP H01245433A JP 7361088 A JP7361088 A JP 7361088A JP 7361088 A JP7361088 A JP 7361088A JP H01245433 A JPH01245433 A JP H01245433A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、レーザー光等を用いて回転する光デイスク上
に、情報を記録、消去する方法に関するものである。
従来の技術 レーザー光を利用して情報の記録・再生を行う技術は既
に公知であり、現在、文書ファイル、データファイルへ
と応用が盛んに行われている。また、消去機能を持つ書
換え可能な記録システムについても研究開発の事例が報
告されつつある。
この中の一つの方式に、アモルファス−結晶間、あるい
は結晶−結晶間の可逆的な状態変化を利用した、いわゆ
る相変化型光ディスクがある。これに用いる記録薄膜は
、レーザー光による加熱と冷却条件により、アモルファ
ス状態または結晶状態をとり、かつ二つの状態が可逆的
に変化するという特徴をもつ。アモルファス状態と結晶
状態では、屈折率nと消衰係数kからなる複素屈折率が
異なり、この結果生じる透過率または反射率の差を利用
して信号の記録を行う。
これらを実現するため、記録パワーpwと消去パワーP
e (Pw>Pe)の二つのパワーレベル間で変調した
レーザー光を記録媒体上に照射する方法がある(特開昭
56−145530号公報)。即ち、信号に応じて強度
変調したレーザー光を記録材料上に照射すると、照射部
は以前の状態がアモルファスあるいは結晶のいずれであ
っても、記録パワーPwが照射された部分はアモルファ
ス状態となり、消去パワーPeが照射された部分は結晶
状態となる。この結果、一つのスポットで重ね書き(オ
ーバーライド)が可能となる。ここでは、アモルファス
−結晶間の状態変化について述べたが、結晶−結晶間の
状態変化においても、前述のアモルファス状態を準安定
の結晶状態とすることで同等の特性が得られる。
発明が解決しようとする課題 二つのパワーレベルの間で変調されたレーザー光の照射
により、光デイスク上に記録が行われる。
しかし記録した信号の中に、前の信号の消去残りが存在
する。即ち、十分な消去率が得られないという課題があ
った。本発明はかかる点に鑑みて、レーザー光の照射条
件を改良することにより、高い消去率を得る方法を提供
することを目的とする。
課題を解決するための手段 レーザー光等の照射によって、光学的に識別可能な2つ
の状態を持つ記録材料を有する光学情報記録部材にレー
ザー光を用いて、信号を記録、あるいは古い信号を消し
ながら同時に新しい信号を記録する場合において、記録
マークを形成するための記録パルス列の間に、パルス巾
が前記記録パルスよりも小さく、かつパルス間隔が記録
パルスよりも狭い補助パルスを設けた波形でもって強度
変調されたレーザー光を照射する。
作用 本発明の記録パルス間に補助パルスを加わった形で強度
変調するレーザー光を照射すると、補助パルスの照射に
対応する部分は、−旦熔融を経た後、結晶化する。また
は、中央部に微少なアモルファス状態を伴って結晶化す
る。この結果、消去部の大部分が記録マーク部と同様に
一旦熔融状態を経ることで、熔融部は完全にランダムな
状態となり、以前に記録した信号の履歴をほぼ消去する
ことができる。従って、高い消去率を得ることができる
実施例 以下図面を参照しつつ本発明の一実施例について詳細に
説明する。
第2図は、本発明を実証するために用いた光ディスクお
よび光学系の構成を示す一実施例である。
光ディスクlは基板2上に記録材料3を設置しであるこ
とを基本構造としている。基板2としては、ポリメチル
メタアクリレート(PMMA)やポリカーボネート(P
C)等の樹脂やガラスが使用できる。
光照射による相変化を利用して信号を記録する記録材料
3には、アモルファス−結晶の相変化では、GeTe、
GeSb、Te4 、Ge、5bzTes、InSe系
、In5eTTCo系、Ge5nTeAu系、5eSb
TeSe系、5eSnTeO系、3eTeS系等を用い
ることができる。
また結晶−結晶間の相変化材料としてはInSb系、A
gZn系等を用いることができる。
記録材料3への記録(以下オーバーライドの意味を含め
て用いる)は、レーザー光源が一般的であり、本実施例
では波長780nmの半導体レーザー4を用いた。半導
体レーザー4の光はコリメータレンズ5により平行光と
なり、偏向ビームスプリッタ−6で反射され、1/4波
長板7を透過L、対物レンズ8でもって光ディスク1の
記録材料面上に波長限界である約1μmの大きさのスポ
ット9に集光される。このスポット9によって記録が行
われる。
また、記録材料面3からの反射光は、再び対物レンズ8
.1/4波長板7を経て、偏向ビームスプリッタ−6を
透過L、レンズ10を経て、一部はミラー1)により反
射され光検出器12上に絞り込まれ焦点制御に用いられ
、残りの光は光検出器13で受光され、トラッキング制
御と信号再生に用いられる。
前記構成でもって、従来の記録方法により、光デイスク
1上に記録を行い、この記録部の状態を透過型電子顕微
鏡により観察した結果を第3図に示す。
(a)、(C1はレーザー光出力の変化を示L、(al
は1回目の記録であり、(C1は2回目の記録のパター
ンである。各パワーは、入力信号に応じて、記録パワー
Pwと消去パワーPe0間で変化する。それぞれの記録
に対して得られた観察結果を(bl、(dlに示す。−
回目の記録(blでは、記録パワーPwの照射された部
分は、アモルファスマーク14を形成L、アモルファス
マーク14の周辺に大きな結晶粒(巨大結晶)15が見
られた。また、消去パワーPeの照射された消去部は、
小さな結晶粒(微細結晶)16が観測された。2回目の
記録(d)では、消去部において小さな結晶粒の中に1
回目で生じたと考えられる大きな結晶粒17が観測され
た。この結果から、アモルファスマークの周辺の大きな
結晶15は、熔融状態から冷却する過程で生じ、この巨
大結晶が消去残りの原因であると考えられる。ここで、
固相状態で持って結晶化した微小結晶を固相結晶、熔融
状態から冷却する過程で生じた結晶をメルト結晶と定義
する。
本発明による光学情報の記録方法は、前記のように記録
マークの周辺に形成されるメルト結晶の影響を抑制する
ことを目的として、光ディスク1に照射されるレーザー
光の出力波形に変更することにあり、第1図を用いてそ
の効果について詳しく述べる。
光デイスク上に記録する信号の波形を第1図(alに示
L、本発明に従って強度変調された半導体レーザーの出
力波形を第1図(b)に示L、これらの光が照射された
時の記録材料の到達温度の変化の様子を第1図(C1に
示L、実際に記録材料上に形成された記録マークの様子
を第1図(d)に示す。半導体レーザは入力信号(a)
に応じて、パワーをPw、Peの範囲でパルス変調する
。その際に記録パルスP1と22の間に、補助パルス(
Sl、S2)を設ける。各補助パルスのパルス中Wsは
、記録用パルス列のパルス中Wwの内の最短パルス中よ
りも短くする。
このような光が記録材料上に照射されると、照射部の温
度は第1図(C)のように変化する。即ち記録パルスP
I、P2が照射された部分は材料の熔融温度Tm以上と
なり、人力信号に対応した位置に、周囲にメルト結晶を
ともなったアモルファスマーク14が形成される。補助
パルス31.S2が照射された部分も中央部は温度が上
昇L、Tmを越え熔融する。しかL、照射時間が短いた
めに温度の上昇が抑えられて、冷却される。このため、
熔融部はアモルファス化の冷却条件が得られず結晶化L
、メルト結晶18を形成する。または、中央部に微細な
アモルファスを伴って結晶化する。この結果、記録マー
クの間においても、大部分が熔融状態を経ることになる
次に具体例をもって本発明を詳述する。
基材2にポリカーボネイト、記録材料3にGe23bz
Tesを、さらに記録材料層の両側にZnSからなる熱
拡散層を設けた光ディスク1を周速度15m/Sで回転
させ、記録(オーバーライド)を行った。記録および消
去の特性は、2種類の単一周波数2.5MHzと2.1
4MHzを用いて、始めに2.5M Hzの信号を記録
L、信号のC/N (キャリアとノイズの比)を測定す
る。その後2.14MHzの信号を記録L、前に記録し
た信号の周波数成分である2、5MHzのC(キャリア
)成分を測定L、初期値との差を消去率とした。
記録に用いたレーザー光の変調波形の詳細を第4図をも
とに説明する。記録マークを形成するためのパルスPi
、P2のパルス中Wwは200nSとL、、各記録パル
スの周期TI、T2は前述の条件からそれぞれ200n
S、267nSとした。また、補助パルスSl、S2.
S3は、記録パルスの間を間隔Tsで等間隔に配置した
(T s =67n S)。
なお各パルスのパワーは、記録パワーレベルPr=16
mW、消去パワーレベルPe=6mWとL、補助パルス
のピークパワーも記録パワーレベルと同等とした。ここ
で補助パルスのパルス中に対する記録信号のC/Nと消
去率の関係を示したのが第5図である。補助パルスのパ
ルス中WsがOnSの場合は、従来法による消去に相当
L、消去率は23dBと低い。しかL、パルス中Wsの
増加と共に、消去率が向上L、特に20nSから40n
Sの範囲では、35dB以上の高い消去率を示す。これ
は、補助パルスが照射された部分が一旦熔融した後結晶
化したためと思われる。更に、パルス中が広がり、40
nS以上の領域では消去率が減少して来る。これは、補
助パルスが照射された部分の温度が高くなるため一旦熔
融した部分が、冷却された時に、中央部がアモルファス
、周辺部が結晶を形成する。この結果、信号を再生した
時の反射率変化が減少L、記録状態のC/Nが減少する
と考えられる。また、補助パルスにより形成された微小
なアモルファスマークは、マークのピッチが1μm程度
であり、再生光の波長に比べ十分に小さい、このため再
生信号としては検出されない。
ここで補助パルスにより形成されたメルト結晶部あるい
は微小なアモルファスマークが、再生信号に影響を与え
ないための条件を明らかにするために、光デイスク上に
形成された記録マークのピンチと再生信号の関係を示し
たのが第6図である。
レーザー光の変調波形は第3図(alと同等として記録
マークのピッチに応じ7て周波数を変化させた。
なお記録パルスのデイ−ティが50%とした(パルス中
とパルス間隔が等しい)。マークピッチが3μm以上の
場合はC/Nが一定であるが、2μm以上から徐々にC
/Nが低下L、1μmでは20dB以下となる。しかL
、それぞれの状態を光学顕微鏡で観測すると、いずれの
場合も記録マークが確認できた。この場合のレーザー光
の波長が780nmであったことから、マークのピンチ
が再生するレーザー光の波長の1.2倍程度もしくはそ
、れ以下になれば再生信号として検出されないことが明
らかになった。ここで光ディスクの線速度をVル−ザー
光の波長をL、パルスの間隔をTsとすると、記録マー
クのピッチDsは次の式1のように表わされる。
Ds=V/Ts        式1 また、この式を前述の条件(D s <1.2 * L
)に代入すると、必要なパルス間隔Tsは次の式2のよ
うに表される。
T s <1.2 * L/ V         式
2この式2を満足するような補助パルス列より得られた
状態(メルト結晶部、またはアモルファスを伴ったメル
ト結晶)は、記録マークに影響を及ぼさずに、消去率だ
けを高める。
以上の結果より、記録パルスの間に補助パルスを加える
ことで、トラックのほぼ全域を熔融しながら記録するこ
とが可能となり、消去率の高い信号のオーバーライドが
可能となった。
ここまでは、補助パルスのピークパワーレベルを記録パ
ワーレベルPwと等しくしたが、このピークパワーを高
くした場合は、パルス中の小さい方にシフトさせた領域
で同等の消去率が得られた。
逆にピークパワーを低くすると必要とするパルス中が広
がり、さらにピークパワーが下がると、パルス中を広く
しても記録材料を熔融温度まで加熱することができず、
本発明の効果が得られなくなる。以上の結果を総合L、
かつレーザー光の駆動回路を簡単にするという点を考慮
すると、前述のような補助パルスのビークパワーレベル
を、記録パワーレベルpwと等しくした方が、レーザー
光のパワーレベルが2つとなり有利である。
他のレーザー光の変調方式として、消去パワーレベルP
eを変化させて同様の実験を行った結果、消去パワーレ
ベルPe=OmWの場合においても、補助パルスのパル
ス中Wsが30nSから40nSの条件で消去率が35
dB以上となった。この方式によるとレーザー光のパワ
ーレベルが1つだけとなり、レーザー光の駆動回路を簡
素化できる。
発明の効果 本発明によれば、光ディスクの記録を行う際に、記録パ
ルスと記録パルスの間に補助パルスを加えることで、ト
ラックのほぼ全域を熔融しながら記録することが可能と
なり、消去率の高い信号のオーバーライドが達成できる
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例におけるレーザー光の変調波
形と記録状態を示す説明図、第2図は光学系の構成図、
第3図は従来例におけるレーザー光の変調波形と記録状
態を示す説明図、第4図はレーザー光の変調波形の構成
図、第5図は補助パルスのパルス中と消去率の関係を示
す特性図、第6図は記録マークのピッチと再生信号の関
係を示す特性図である。 Pl、P2・・・・・・記録パルス、SL、S2・・・
・・・補助パルス、14・・・・・・記録マーク。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか1名第1図 一→ズ:位置 第2図 第3図 Pl、P2−−−記録パフレス ht、psz、Ps3−m xfiバルヌ轟−記録パル
ス+ Ws −補助バルヌ巾 が4図 一鉾間 第5図 →#I$パルスのパルス+(r:sJ

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)光学的に識別可能な少なくとも二つの状態を持つ
    光学情報記録媒体上に光を照射して信号を記録する際に
    、または古い信号を消去しながら新しい信号を記録する
    際に、情報信号に準拠して前記光学情報記録媒体上に記
    録部を形成するための記録パルスを設けるとともに、前
    記記録パルス間に補助パルスを設けて光強度を変調した
    ことを特徴とする光学情報記録方法。
  2. (2)補助パルスのパルス間隔Ts、信号の再生用光源
    の波長L、光学情報記録媒体と再生光の相対速度Vの間
    に Ts<1.2*L/V の関係が成り立つことを特徴とする請求項(1)記載の
    光学情報記録方法。
  3. (3)補助パルスのピークパワーが記録用パルスのピー
    クパワーと同等であることを特徴とする請求項(1)ま
    たは(2)のいずれかに記載の光学情報記録方法。
  4. (4)光学情報記録媒体にアモルファス−結晶間、結晶
    −結晶間の可逆的状態変化を応用したものを用いること
    を特徴とする請求項(1)または(2)のいずれかに記
    載の光学情報記録方法。
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04195728A (ja) * 1990-11-26 1992-07-15 Nec Corp 重ね書き光記憶書き込み回路

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JPH01150230A (ja) * 1987-12-07 1989-06-13 Hitachi Ltd 情報の記録方法
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