JPH01245164A - 加速度センサの製造方法 - Google Patents

加速度センサの製造方法

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JPH01245164A
JPH01245164A JP63072052A JP7205288A JPH01245164A JP H01245164 A JPH01245164 A JP H01245164A JP 63072052 A JP63072052 A JP 63072052A JP 7205288 A JP7205288 A JP 7205288A JP H01245164 A JPH01245164 A JP H01245164A
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Hideo Muro
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、加速度センサの製造方法にかかり、特にピエ
ゾ抵抗素子を用いた片持梁加速度センサの実装方法に関
する。
(従来の技術) 車両などの加速度を測定する加速度センサは、通常第8
図および第9図に示すように、先端に重り1を有し固定
部近傍にピエゾ抵抗素子2を配設してなる片持梁3を有
するセンサチップ4を、該重りの下側への変位を制限す
るための下部ストyバ5と該重りの上側への変位を制限
するための上部ストッパ6とで挾んだセンサ部7を、セ
ラミック基板からなる支持台8の表面に形成された凹部
0内に搭載し、金属キャップって覆い、この凹部0と金
属キャップつとによって形成される空間にダンピングオ
イル10を充填し、封止されている。
9aはダンピングオイル注入口である。
そして、この加速度センサでは、センサチップ4に対し
て垂直な方向に加速度がかかるように設置し、加速度に
よる荷重により片持梁3の変位をピエゾ抵抗素子2の抵
抗値変化として検出するようにしている。ここで上部お
よび下部ストッパ5.6は過大な加速度が加わった場合
にも片持梁の変位を制限しその破壊を防止するために設
けられており、また、ダンピングオイルによる封止は片
持梁の共振を抑制するためである。
(発明が解決しようとする課題) ところでこのような加速度センサは、従来次のようにし
て製造されていた。
まず、下部スI・ツバ5、センサチップ4、上部ストツ
パ6を形成する。ここでセンサチップ4は、シリコン基
板を出発材料とし、異方性エツチングにより重り1およ
び片持梁3をもつように整形しな後、片持梁3の支持点
近傍に薄膜技術を用いてにピエゾ抵抗素子2を形成する
ことにより形成される。
続いて、所望の形状に加工された支持台8の凹部0内に
下部ストッパ5、センサチップ4、上部ストッパ6を低
融点ガラスやエポキシ系接着剤で順次接着した後、前記
ピエゾ抵抗素子2の電気接続のためのワイヤボンディン
グを行う。
そして最後に、金属キャップ9でを接着し、この凹部0
と金属キャップつとによって形成される空間に、ダンピ
ングオイル注入口9aがらダンピングオイル10を充填
した後、このダンピングオイル注入口9aを蓋体9bで
封止することによって、第8図に示したような加速度セ
ンサが完成する。
このように、従来は、センサチップ4への下部ストッパ
5や上部ストッパ6の接着、ダンピングオイル10の封
入等の実装は全てチップレベルで単品毎になされていた
ため、組み立て工数が多く、コストが高い上、センサチ
ップ4と下部ストッパ5および上部ストッパ6との位置
合わせに時間がかかり作業性が悪い上、組み立て工数が
多く、コストの高騰を逸れ得ないという問題があった。
本発明は前記実情に鑑みてなされたもので、製造が容易
で、信頼性の高い加速度センサを提供することを目的と
する。
〔発明の構成〕
(課題を解決するための手段) そこで本発明では、夫々多数個のセンサチップ、下部ス
トッパ、上部ストッパの配列されたセンサチップ形成用
基板と下部ストッパ形成用基板と上部ストッパ形成用基
板とをウェハレベルではり合わせ、各センサチップ毎に
これを囲むセンサ空間を形成し、このセンサ空間内にダ
ンピングオイル注入し封止後、個々のセンサに分離する
ようにしている。
(作用) 上記構成により、個々のセンサチップ、下部ストッパ、
上部ストッパを位置合わせして接合する必要はなく、セ
ンサチップ形成用基板と下部ストッパ形成用基板と上部
ストッパ形成用基板とをウェハレベルで位置合わせすれ
ば良いため、作業性が大幅に向上する。
望ましくは、センサ空間内にダンピングオイル注入した
後、封止を行うに際し、支持台を兼ねた封止板をダンピ
ングオイル注入口の側に接合するようにすれば、位置合
わせの必要もなく一時に全部のセンサの封止が可能とな
り、更に製造作業性が向上する。
(実施例) 以下、本発明の実施例について図面を参照しつつ詳細に
説明する。
第1図は、本発明実施例の方法によって形成される加速
度センサを示す図である。
この加速度センサは、下部ストッパ15と上部ストッパ
16とに夫々凹部15a、16aを形成し、重り11の
周りにダンピングオイル注入口16bを除いて閉じられ
たダンピングオイル注入用空間Sを形成すると共に上部
ストッパ16に接合されたガラス基板からなる支持台1
8により前記ダンピングオイル注入口16bが閉じられ
てなることを特徴とするものである。
すなわち、先端に重り11を有し固定部近傍にピエゾ抵
抗素子12を配設してなる片持梁13を有するセンサチ
ッグ14を、該重りの下側への変位を制限するための下
部ストッパ15と該重りの上側への変位を制限するため
の上部ストッパ16とで挾みんだセンサ部17を、ガラ
ス基板からなる支持台18に接合してなるものである。
次に、この加速度センサの製造方法について説明する。
まず、第2図<a)に示すように、ガラス基板に所定の
間隔で電気接続用の切り込みCを形成すると共に、スク
ライブラインL1を形成し支持台形成用基板W1を形成
する。
続いて、第2図(b)乃至第2図(d)に示すように、
シリコン基板を出発材料とし、しドラジン等を用いた異
方性エツチングにより形状加工を行い上部ストッパ形成
用基板W2、センサ形成用基板W3、下部ストッパ形成
用基板W4を形成する。これら、上部ストッパ形成用基
板W2、センサ形成用基板W3、下部ストッパ形成用基
板W4には夫々対応する位置に単位センサ領域毎に分割
するためのスクライブラインL2〜L4が配設されてい
る。
この上部ストッパ形成用基板W2には単位センサ領域毎
に1つづつのダンピングオイル注入口16bが形成され
ており、さらに支持台形成用基板W1と同様に所定の間
隔で電気接続用の切り込みCを形成が形成されている。
またセンサ形成用基板W3には、この後通常の薄膜技術
を用い水素化アモルファスシリコンの感圧層パターンと
アルミニウムの配線パターンとからなるピエゾ抵抗素子
12が所定の間隔で形成される。
第3図(a>乃至第3図(d)は夫々各基板のスクライ
ブライン内の個々の領域を示す説明図である。ここで第
3図(c)に示すようにセンサ形成用基板W3はピエゾ
抵抗素子の形成と同時に薄膜技術によって形成された配
線パターンとこの先端に形成されるボンディングバヅド
Bとを具備している。
このようにして支持台形成用基板W1、上部ストッパ形
成用基板W2、センサ形成用基板W3、下部ストッパ形
成用基板W4を形成した後、実装工程に入るわけである
が、まず、第4図に示すように、下部ストッパ形成用基
板W4上にセンサ形成用基板W3を接合する。
次いで、第5図に示すように、この上層に上部ストッパ
形成用基板W2を接合する。
そして、第6図に示すように各ダンピングオイル注入口
16bから順次ダンピングオイル10を充填する。
さらに、第7図に示すように、上部ストッパ形成用基板
W2の上層にアノ−デイックボンデインクにより、前記
支持台形成用基板W1を接合し、各ダンピングオイル注
入口16bを塞ぐ。
l&後に、前記スクライブラインL1〜L4に沿って個
々のセンサに分離し、第1図に示したような加速度セン
サが完成する。
このようにして、夫々1回の位置合わせで一度に多数の
加速度センナが多量に形成される。またダンピングオイ
ル注入口の封正に際しても従来のように1つ1つ行う必
要がない上、綿密な位置合わせは不要で、支持台形成用
基板W1を接合することにより一時に行うことができる
このように、従来の加速度センサでは支持台8内に形成
された凹部0と金属キャップつとによってセンサ空間(
ダンピングオイル注入空間)を形成していたのに対し、
本実施例によれば、下部ストッパ15と上部ストッパ1
6とに夫々凹部15a、16aを形成し、重り11の周
りにダンピングオイル注入口16bを除いて閉じられた
ダンピングオイル注入用空間Sを形成するようにしてい
るため、上部ストッパ形成用基板W2、センサ形成用基
板W3、下部ストッパ形成用基板W4を接合すれば、ウ
ェハレベルでダンピングオイルオイルの注入が可能とな
り、作業性が極めて良好となる。
なお、本実施例では、スクライブラインを各基板に予め
形成しておくようにしたが、なくてもよい。
また、さらにスクライブラインがさらに深い■溝となる
ようにエツチング工程で形成しておくようにするとダイ
シングがさらに容易となる。
また、ダンピングオイル注入口の封正に際して、支持台
形成用基板W1を接合することにより一時に行うように
したが、この方法に限定されることなく樹脂によって封
止するなど適宜変更可能である。
〔発明の効果〕
以上説明してきたように、本発明の加速度センサの製造
方法によれば、夫々多数個のセンサ領域、上部ストッパ
、下部ストッパを所定の間隔で配列したセンサチップ形
成用基板と、上部ストッパ形成用基板と、下部ストッパ
形成用基板とを貼り合わせて、各領域毎に片持梁および
重りを囲むセンサ空間を形成し、この各センサ空間内に
ダンピングオイルを注入した後ダンピングオイル注入口
を封止し、各単位センサ毎に切断分離するようにしてい
るため、組み立てが容易で極めて信顆性の高いものとな
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明実施例の加速度センサを示す図、第2図
乃至第7図はこの加速度センサの製造工程を示す図、第
8図は従来の加速度センサを示す図、第9図は従来の加
速度センサのセンサチップを示す図である。 1.11・・・重り、2.12・・・ピエゾ抵抗素子、
3.13・・・片持梁、4.14・・・センサチップ、
5.15・・・下部ストッパ、6.16・・・上部スト
ッパ、7.17・・・センサ部、8・・・支持台、9・
・・金属キャップ、10・・・ダンピングオイル、16
b・・・ダンピングオイル注入口、0・・・凹部、S・
・・ダンピングオイル注入用空間。 代理人弁理士  三 好 保 男 第1図 第3図 (a) 第3図(c) 筆3r不 (d) 第8図 第9図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  先端に重りを有し、固定部近傍にピエゾ抵抗素子を配
    設してなる片持梁を有するセンサ基板を所定の間隔で配
    列してなるセンサ形成用基板を形成するセンサ形成用基
    板形成工程と、 該重りの下側への変位を制限すべく、該重りに対応する
    位置に下部ストッパを配列してなる下部ストッパ基板を
    形成する下部ストッパ基板形成工程と、 該重りの上側への変位を制限すべく、該重りに対応する
    位置に上部ストッパを配列してなる上部ストッパ基板を
    形成する上部ストッパ基板形成工程と、 前記センサ形成用基板に下部ストッパ基板および上部ス
    トッパ基板を貼着する貼着工程と、前記センサ基板と上
    部および下部ストッパとによって形成される各ダンピン
    グ液注入用の空間にダンピング液を注入し、この各空間
    を封止する封止工程と、 ダイシングを行い単位センサ毎に分離するダイシング工
    程とを備えたことを特徴とする加速度センサの製造方法
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105509872A (zh) * 2016-01-06 2016-04-20 中国科学院声学研究所 一种mems压电矢量水听器及其制备方法
CN105547464A (zh) * 2016-01-06 2016-05-04 中国科学院声学研究所 具有串联结构的mems压电矢量水听器及其制备方法
WO2016088468A1 (ja) * 2014-12-05 2016-06-09 ローム株式会社 加速度センサおよび振動モニタリングシステム

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CN105509872A (zh) * 2016-01-06 2016-04-20 中国科学院声学研究所 一种mems压电矢量水听器及其制备方法
CN105547464A (zh) * 2016-01-06 2016-05-04 中国科学院声学研究所 具有串联结构的mems压电矢量水听器及其制备方法

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