JPH01242789A - フツ化アンモニウム含有エツチング溶液 - Google Patents
フツ化アンモニウム含有エツチング溶液Info
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- JPH01242789A JPH01242789A JP6595188A JP6595188A JPH01242789A JP H01242789 A JPH01242789 A JP H01242789A JP 6595188 A JP6595188 A JP 6595188A JP 6595188 A JP6595188 A JP 6595188A JP H01242789 A JPH01242789 A JP H01242789A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、集積回路の製造の際使用されるエツチング溶
液に関する。更に詳細には本発明は、集積回路の製造の
際成分の基質を正しく滞らすため湿潤剤を含有するエツ
チング液8液に関する。
液に関する。更に詳細には本発明は、集積回路の製造の
際成分の基質を正しく滞らすため湿潤剤を含有するエツ
チング液8液に関する。
集積回路成分の寸法が小さくなるに従って、基質表面上
のエツチング溶液による物理的mdが益々困難になって
くる。緩衝化酸化物エツチング液、即ち、二酸化珪素エ
ツチングにおいて使用されるフッ化アンモニウム/フッ
化水素酸溶液の場合にこのことは特に重要である。これ
らの溶液は、典型的なエツチング温度において85〜9
0ダイン/cmのきわめて高い表面張力値を示す。使用
されるマスキング材料の比較的低い表面エネルギー及び
フォトレジスト微細構成のゆえに、基質を正しくぬらす
ことが困難であシ、仁のことは均一でないエツチング及
び不良の線の再生を生じる。
のエツチング溶液による物理的mdが益々困難になって
くる。緩衝化酸化物エツチング液、即ち、二酸化珪素エ
ツチングにおいて使用されるフッ化アンモニウム/フッ
化水素酸溶液の場合にこのことは特に重要である。これ
らの溶液は、典型的なエツチング温度において85〜9
0ダイン/cmのきわめて高い表面張力値を示す。使用
されるマスキング材料の比較的低い表面エネルギー及び
フォトレジスト微細構成のゆえに、基質を正しくぬらす
ことが困難であシ、仁のことは均一でないエツチング及
び不良の線の再生を生じる。
エツチング溶液に基質を入れる前に、成分を表面活性剤
溶液中前処理(前浸fりすることが知られているが、エ
ツチング溶液に湿潤剤を添加することによって更に満足
すべき効果が得られる。しかし、工業において普通に使
用される表面活性剤の大部分は、7ツ化アンモニウム及
びフッ化水素醗を含有する緩衝化階化物エツチング剤溶
液に不溶性である。更に、エツチング処理の間、基質が
所望するぬれ具合となるのに十分な電の湿潤剤が、0.
2ミクロン程度のフィルターを通して濾過して後にエツ
チング溶液に残留していなければならない。
溶液中前処理(前浸fりすることが知られているが、エ
ツチング溶液に湿潤剤を添加することによって更に満足
すべき効果が得られる。しかし、工業において普通に使
用される表面活性剤の大部分は、7ツ化アンモニウム及
びフッ化水素醗を含有する緩衝化階化物エツチング剤溶
液に不溶性である。更に、エツチング処理の間、基質が
所望するぬれ具合となるのに十分な電の湿潤剤が、0.
2ミクロン程度のフィルターを通して濾過して後にエツ
チング溶液に残留していなければならない。
フッ素化学化合物を含有する湿潤剤は、ぬれの性質を改
善するためにNH4F/)IFエツチング溶液に添加剤
として用いられている。フッ素化学化合物の例は、19
85年5月14日発行された、米国特許第4,517,
106号に記載されているペルフルオロ化アルキルスル
ホネート、並びにR,J。
善するためにNH4F/)IFエツチング溶液に添加剤
として用いられている。フッ素化学化合物の例は、19
85年5月14日発行された、米国特許第4,517,
106号に記載されているペルフルオロ化アルキルスル
ホネート、並びにR,J。
ホプキンスらに1986年11月4日に発行された、米
国特許第4,620,934号に教示されているフッ素
化シクロアルカン及びシクロアルケンスルホネート;N
、エンジョーらに1986年4月15日に発行された、
米国特許第4.582,624号にL叔されているフッ
素含有カルボンn;並びにダイキンエ朶株式会社によっ
て1983年3月30日に公表された日本特許公開公報
第53,980号/1983に記載されているフッ素含
有ジアミン化合物を包含する。これらの表面活性剤は、
エツチング溶液に金属イオンを組み入れることがあり、
その上高価である。
国特許第4,620,934号に教示されているフッ素
化シクロアルカン及びシクロアルケンスルホネート;N
、エンジョーらに1986年4月15日に発行された、
米国特許第4.582,624号にL叔されているフッ
素含有カルボンn;並びにダイキンエ朶株式会社によっ
て1983年3月30日に公表された日本特許公開公報
第53,980号/1983に記載されているフッ素含
有ジアミン化合物を包含する。これらの表面活性剤は、
エツチング溶液に金属イオンを組み入れることがあり、
その上高価である。
フッ化アンモニウムを含有する4%化エツチング溶液に
易溶であシ、その構造中に金属イオンを組み入れず、又
低いコストですぐれたぬれの性質を与える湿潤剤が必要
である。
易溶であシ、その構造中に金属イオンを組み入れず、又
低いコストですぐれたぬれの性質を与える湿潤剤が必要
である。
すぐれたぬれの特性を有し、かつ金属イオンを組み入れ
ない、集積回路の製造の際使用するためのエツチング溶
液を提供することが本発明の1目的である。
ない、集積回路の製造の際使用するためのエツチング溶
液を提供することが本発明の1目的である。
不発IJIの他の1目的は、長期間保持されるすぐれた
ぬれの特性を有する、7ツ化アンモニウム及び7ツ化水
素虚を含有する緩衝化エツチング溶液を提供することで
ある。
ぬれの特性を有する、7ツ化アンモニウム及び7ツ化水
素虚を含有する緩衝化エツチング溶液を提供することで
ある。
本発明のその他の1目的は、望ましい腐食速度を有する
二酸化珪素基質のエツチング法を提供することである。
二酸化珪素基質のエツチング法を提供することである。
本発明のこれらその他の目的は、フッ化アンモニウム水
溶液及び湿潤鼠の式 (式中Rは約4〜約12の炭素原子を有するアルキル基
であり、Dは約3〜約15である)を有するアルキルフ
ェノールポリグリシドール、並びに式 %式%) (式中R’はアルキル、アルキルフェノール、ヒドロキ
シアルキル、ヒドロキシアルキルフェノール、或いはそ
れらの混合物であシ、このアルキル基は約6〜約18の
炭素原子を有し、R/は1〜約4の炭素原子を有するア
ルキル基であり、Xは0〜約5であり、2は5〜乙の炭
素原子を有する還元性糖であシ、yは約1〜約5である
)を有するアルキル多糖類よシなる群から選択される非
イオン系bM n剤よシなるエツチング溶液中達成され
る。
溶液及び湿潤鼠の式 (式中Rは約4〜約12の炭素原子を有するアルキル基
であり、Dは約3〜約15である)を有するアルキルフ
ェノールポリグリシドール、並びに式 %式%) (式中R’はアルキル、アルキルフェノール、ヒドロキ
シアルキル、ヒドロキシアルキルフェノール、或いはそ
れらの混合物であシ、このアルキル基は約6〜約18の
炭素原子を有し、R/は1〜約4の炭素原子を有するア
ルキル基であり、Xは0〜約5であり、2は5〜乙の炭
素原子を有する還元性糖であシ、yは約1〜約5である
)を有するアルキル多糖類よシなる群から選択される非
イオン系bM n剤よシなるエツチング溶液中達成され
る。
更に#細には、本発明の新規なエツチング溶液中使用さ
れる非イオン系湿+il剤は、アルキル基が、例えば、
ブチル、ヘキシル、オクチル、ノニル、並びにドデシル
である、上の式を有するアルキルフェノールポリグリシ
ドールエーテル類を現金する。好適な実施の態様は、R
が約8〜約12の炭素原子を有し、オクチル、ノニル、
並びにドデシル基を含み、Xが約6〜約12であるもの
を包合する。更に好適な実施の態様においては、Rは主
にパラ位にある。ここでIの数は、アルキルフェノール
単位あたシグリシドール単位の平均数を表わす。上の型
(I)の表面活性剤は、市販されておシ、例えば、米国
特許第2,213,477号及び2,233,281号
に例示されている周知の方法によって製造することがで
きる。
れる非イオン系湿+il剤は、アルキル基が、例えば、
ブチル、ヘキシル、オクチル、ノニル、並びにドデシル
である、上の式を有するアルキルフェノールポリグリシ
ドールエーテル類を現金する。好適な実施の態様は、R
が約8〜約12の炭素原子を有し、オクチル、ノニル、
並びにドデシル基を含み、Xが約6〜約12であるもの
を包合する。更に好適な実施の態様においては、Rは主
にパラ位にある。ここでIの数は、アルキルフェノール
単位あたシグリシドール単位の平均数を表わす。上の型
(I)の表面活性剤は、市販されておシ、例えば、米国
特許第2,213,477号及び2,233,281号
に例示されている周知の方法によって製造することがで
きる。
本発明のエツチング溶液中湿a4剤として有用である、
式 %式%) を有するアルキル多抛頌は、約6〜約24め炭素原子、
好適には約6〜約18の炭素Lλ子、更に好適には約8
〜約14の炭素原子を有する疎水性の基R′を有、する
ものを包含する。好適には、疎水性の基は、飽和か又は
不飽和、分校状又は非分校状、更に好適には非分枝状か
つ飽和のアルキル基の中にある。アルキル基は、置換分
として6つまでのヒドロキシル基を有することができる
。場合によっては、あまシ望ましくないが、疎水性の基
と多田類部分を連結するポリアルコキシド、R2O、好
適にはポリエトキシド鎖があることができる。ポリアル
コキシド鎖は、約6まで、好適には1、最も好適には0
のアルコキシド部分を有することができる。
式 %式%) を有するアルキル多抛頌は、約6〜約24め炭素原子、
好適には約6〜約18の炭素Lλ子、更に好適には約8
〜約14の炭素原子を有する疎水性の基R′を有、する
ものを包含する。好適には、疎水性の基は、飽和か又は
不飽和、分校状又は非分校状、更に好適には非分枝状か
つ飽和のアルキル基の中にある。アルキル基は、置換分
として6つまでのヒドロキシル基を有することができる
。場合によっては、あまシ望ましくないが、疎水性の基
と多田類部分を連結するポリアルコキシド、R2O、好
適にはポリエトキシド鎖があることができる。ポリアル
コキシド鎖は、約6まで、好適には1、最も好適には0
のアルコキシド部分を有することができる。
アルキル多糖類湿潤剤の多糖類部分は、各5〜6の炭素
原子を有する還元性の糖から誘導され、る。還元性の糖
部分の例は、ガラクトース、グルコース、7ラクトース
、クルコシル、7ラクトシル、および/またはガラクト
シル部分である。グルコースが好適である。本質的には
平均多糖類鎖は、約1〜約5、好適には約1〜約23、
更に好適には約1〜約2の18単位が平均である。好適
には、存在するアルキル単糖類の輩は、約30%〜約9
0%、更に好適には約40%〜約80%であり、2よシ
大きい糖鎖を有するアルキル多糖類の鼠は、好適には約
10%よシ小さく、更に好適には約5%よシ小さく、最
も好適には約2%よシ小さい。糖部分は、普通は、又好
適には1位を通して疎水性の基に連結するが、疎水性の
基は、例えば、2−13−14−1或いは6−位におい
て連結することができ、かくして、例えば、グルコシド
又はガラクトシドではなくグルコース又はガラクトース
を生じる。付加的な糖単位は、げ、!述の糖単位の2−
13−14−および6−位に連結することができる。
原子を有する還元性の糖から誘導され、る。還元性の糖
部分の例は、ガラクトース、グルコース、7ラクトース
、クルコシル、7ラクトシル、および/またはガラクト
シル部分である。グルコースが好適である。本質的には
平均多糖類鎖は、約1〜約5、好適には約1〜約23、
更に好適には約1〜約2の18単位が平均である。好適
には、存在するアルキル単糖類の輩は、約30%〜約9
0%、更に好適には約40%〜約80%であり、2よシ
大きい糖鎖を有するアルキル多糖類の鼠は、好適には約
10%よシ小さく、更に好適には約5%よシ小さく、最
も好適には約2%よシ小さい。糖部分は、普通は、又好
適には1位を通して疎水性の基に連結するが、疎水性の
基は、例えば、2−13−14−1或いは6−位におい
て連結することができ、かくして、例えば、グルコシド
又はガラクトシドではなくグルコース又はガラクトース
を生じる。付加的な糖単位は、げ、!述の糖単位の2−
13−14−および6−位に連結することができる。
湿潤剤として適しているアルキル多bUは、なかんずく
米国特許第3,219,656 : 3,598,86
5 :3.721,633:並びに3,772,269
号に記載されている方法によって得ることができる。こ
れらの湿潤剤は、例えば、ローム・アンド・/X−ス(
商品名ニドライドンBG−100)及びホリゾン・ケミ
カルズ(商品名: APG■表面活性剤)から市販され
ている。
米国特許第3,219,656 : 3,598,86
5 :3.721,633:並びに3,772,269
号に記載されている方法によって得ることができる。こ
れらの湿潤剤は、例えば、ローム・アンド・/X−ス(
商品名ニドライドンBG−100)及びホリゾン・ケミ
カルズ(商品名: APG■表面活性剤)から市販され
ている。
これらの液体非イオン糸湿潤剤は、緩衝化酸化物エツチ
ング溶液において、腐食されるべき基質のぬれを強める
任意の適当な湿潤鎗で用いられる。適当な鼠は、重ff
で約5〜約50,000ppm。
ング溶液において、腐食されるべき基質のぬれを強める
任意の適当な湿潤鎗で用いられる。適当な鼠は、重ff
で約5〜約50,000ppm。
好適には約25〜約30.OOOppm、 又更に好
適には約50〜約5,000 pl)mの範囲のものを
包含する。
適には約50〜約5,000 pl)mの範囲のものを
包含する。
本発明の新規なエツチング溶液は、すべて連続p過条件
下でさえ、α2ミクワンのp過の後そのぬれの性質を保
持する。その上、p過後のエツチング溶液は、−層有効
に基質をぬらす性質を有し、追加の有害な効果なしに同
時速度でパターン化されているレジスト中小さい形状寸
法(1〜5ミクロン)及び大きい形状寸法(〉5ミクロ
ン)の二醇化珪素を腐食することによって一層均一な結
果を生じる。更に、この非イオン系湿潤剤は、その構造
9金mイオンを組み入れない。
下でさえ、α2ミクワンのp過の後そのぬれの性質を保
持する。その上、p過後のエツチング溶液は、−層有効
に基質をぬらす性質を有し、追加の有害な効果なしに同
時速度でパターン化されているレジスト中小さい形状寸
法(1〜5ミクロン)及び大きい形状寸法(〉5ミクロ
ン)の二醇化珪素を腐食することによって一層均一な結
果を生じる。更に、この非イオン系湿潤剤は、その構造
9金mイオンを組み入れない。
縫衝化二酸化物エツチング液として、本発明の新規なエ
ツチング溶液は、重量で約15%〜約40%のNH4F
の濃度を有するフッ化アンモニウムの水溶液である。こ
のフッ化アンモニウムに混合されているのは、約1容温
部のHFに対し少なくとも約3g?を部の又最高約50
8’m部までのNH4Fをもつ緩衝化醐化物エツチング
液を与える量の7フ化水素酸の水溶液である。本発明の
緩衝化酢化物エツチング溶液を製造するに際しては、市
販のNH4F (1通約40重k(%)及びHF (普
通約491諺%)の濃厚水溶液を用いることができる。
ツチング溶液は、重量で約15%〜約40%のNH4F
の濃度を有するフッ化アンモニウムの水溶液である。こ
のフッ化アンモニウムに混合されているのは、約1容温
部のHFに対し少なくとも約3g?を部の又最高約50
8’m部までのNH4Fをもつ緩衝化醐化物エツチング
液を与える量の7フ化水素酸の水溶液である。本発明の
緩衝化酢化物エツチング溶液を製造するに際しては、市
販のNH4F (1通約40重k(%)及びHF (普
通約491諺%)の濃厚水溶液を用いることができる。
本発明の新規なエツチング溶液は、伝習の適当な方法で
製造することができる。例えば、フツ化アンモニウム及
び湿潤剤の水溶液を調製゛し、その中に、次にフッ化水
素Gを添加することができる;フッ化アンモニウム及び
フッ化水素酸の水溶液及び液状非イオン系湿潤剤を同時
に混合するか又はフッ化アンモニウム及びフッ化水素酸
の水性混合物を調製し、次にその中に液状湿潤剤を混和
することができる。
製造することができる。例えば、フツ化アンモニウム及
び湿潤剤の水溶液を調製゛し、その中に、次にフッ化水
素Gを添加することができる;フッ化アンモニウム及び
フッ化水素酸の水溶液及び液状非イオン系湿潤剤を同時
に混合するか又はフッ化アンモニウム及びフッ化水素酸
の水性混合物を調製し、次にその中に液状湿潤剤を混和
することができる。
緩衝化酸化物エツチング溶液中普通使用される他の添加
剤を、本発明の新規なエツチング溶液中包含させてよい
。例えば、酢酸、エチレングリコール、グリセロール、
並びに1〜約4の炭素原子を有する低級アルキルアルコ
ールのような極性溶媒希釈剤が包含されていてよい。
剤を、本発明の新規なエツチング溶液中包含させてよい
。例えば、酢酸、エチレングリコール、グリセロール、
並びに1〜約4の炭素原子を有する低級アルキルアルコ
ールのような極性溶媒希釈剤が包含されていてよい。
このエツチング溶液は、半導体工業において既知の方法
及び操作を用いて集積回路の製造の際、二港化珪素被覆
基質を腐食するのに使用される。
及び操作を用いて集積回路の製造の際、二港化珪素被覆
基質を腐食するのに使用される。
本発明の新規なエツチング溶液は、基質のぬれを改善し
、かつ−層すぐれたエツチング液の性能を生じ、その結
果外来の金属イオンを組み入れることなしに、−層透明
な表面及び−層大きなエツチングされたプロフィルの均
一性を生じる、ミクロ−過後表面張力の低下したエツチ
ング溶液を提供する。これらの溶液は安定であ5、NH
4F及びHF成分からの湿潤剤の相分離なしに所望の貯
蔵安定性を有する。
、かつ−層すぐれたエツチング液の性能を生じ、その結
果外来の金属イオンを組み入れることなしに、−層透明
な表面及び−層大きなエツチングされたプロフィルの均
一性を生じる、ミクロ−過後表面張力の低下したエツチ
ング溶液を提供する。これらの溶液は安定であ5、NH
4F及びHF成分からの湿潤剤の相分離なしに所望の貯
蔵安定性を有する。
次の実施例は、本発明を例示するものであって、それに
よって発明が限定されるものではない。
よって発明が限定されるものではない。
実施例 1
7ツ化アンモニウム7容滋部及びフッ化水素Q1容壇部
を含有する緩衝化酸化物エツチング水溶液を製造した。
を含有する緩衝化酸化物エツチング水溶液を製造した。
このエツチング溶液500gに、湿潤剤として約10グ
リシドール単位な有する液状非イオン系ノニルフェノー
ルボリグ・リンドールエーテル(オーリン・グリシドー
ル・サーファクタント−1oCp) 500ppmを添
加した。このエツチング溶液の表面張力を、25℃にお
いてDu Nofiyの吊環式張力計を用いて測定した
。この溶液を、0.2ミクロンのポリテトラフルオロエ
チレンフィルター(ミリポア)を通してp過し、表面張
力を再び測定した。結果を下の表Iに示す。
リシドール単位な有する液状非イオン系ノニルフェノー
ルボリグ・リンドールエーテル(オーリン・グリシドー
ル・サーファクタント−1oCp) 500ppmを添
加した。このエツチング溶液の表面張力を、25℃にお
いてDu Nofiyの吊環式張力計を用いて測定した
。この溶液を、0.2ミクロンのポリテトラフルオロエ
チレンフィルター(ミリポア)を通してp過し、表面張
力を再び測定した。結果を下の表Iに示す。
実施例 2
湿潤剤として液状非イオン系オクチル/デシルグルコシ
ド(ローム・アンド・バーストライドンBG−10■)
が用いられたことのみを除いて、実施例1の操作をその
ままくシ返した。結果を下の表■に示す。
ド(ローム・アンド・バーストライドンBG−10■)
が用いられたことのみを除いて、実施例1の操作をその
ままくシ返した。結果を下の表■に示す。
比較例A、B及びC
湿+li剤の添加なしに、又実施例1及び2の湿潤剤の
代シにアニオン系湿潤剤はルフルオロアルキルスルホン
酸アンモニウノ、(フロラド■FC−933Mカンパニ
ー)及びペルフルオロアルキルスルホン醗カリウム(フ
ロラ)41FC−983Mカンパニー)を用いて実施例
1及び2の操作をそのままくシ返した。結果を下の表I
に示グリフシト 比112Aなし 823 823比較B フロラ
ド@FC−9321,179,0比較C702ド@FC
−9821,243,2表■は、表面張力の増加によっ
て示される、湿潤活性の損失は、本発明のエツチング溶
液を例示する実施例1及び2のエツチング溶液のp・過
俵わずかのみであることを示す。しかし、−過後の比較
例A、B及びCの場合には、表面張力の実質的な増大が
あシ、それは、湿潤活性の有意な損失を示す。
代シにアニオン系湿潤剤はルフルオロアルキルスルホン
酸アンモニウノ、(フロラド■FC−933Mカンパニ
ー)及びペルフルオロアルキルスルホン醗カリウム(フ
ロラ)41FC−983Mカンパニー)を用いて実施例
1及び2の操作をそのままくシ返した。結果を下の表I
に示グリフシト 比112Aなし 823 823比較B フロラ
ド@FC−9321,179,0比較C702ド@FC
−9821,243,2表■は、表面張力の増加によっ
て示される、湿潤活性の損失は、本発明のエツチング溶
液を例示する実施例1及び2のエツチング溶液のp・過
俵わずかのみであることを示す。しかし、−過後の比較
例A、B及びCの場合には、表面張力の実質的な増大が
あシ、それは、湿潤活性の有意な損失を示す。
実施例 6〜4
200 ppmの7ニルフエノールポリグリシドールエ
ーテル(オーリン・グリシドール・サーファクタント−
10G■)又はオクチル/デシルグルコシド(ローム・
アンド・バーストライドンBG−10■)を含有する、
7:1のNH4F ! HF容鎚比を有する緩衝化エツ
チング溶液(800ゴ)を調製した。この緩衝化エツチ
ング溶液の各々を、毎分800−の速度で65時間α2
ミクセンのフィルターに連続的に通した。このエツチン
グ溶液の表面張力を、−過のrJ+1及び濾過期間完了
後に測定した。結果を下の表■に示す:表 ■ この実施例は、長時間にわたっての連続的なp過後の本
発明のエツチング溶液の湿潤活性の損失が小さいことを
示す。
ーテル(オーリン・グリシドール・サーファクタント−
10G■)又はオクチル/デシルグルコシド(ローム・
アンド・バーストライドンBG−10■)を含有する、
7:1のNH4F ! HF容鎚比を有する緩衝化エツ
チング溶液(800ゴ)を調製した。この緩衝化エツチ
ング溶液の各々を、毎分800−の速度で65時間α2
ミクセンのフィルターに連続的に通した。このエツチン
グ溶液の表面張力を、−過のrJ+1及び濾過期間完了
後に測定した。結果を下の表■に示す:表 ■ この実施例は、長時間にわたっての連続的なp過後の本
発明のエツチング溶液の湿潤活性の損失が小さいことを
示す。
実施例 5
4インチのシリコンウェーハを約150001(偏光解
析法によって決定)まで熱酸化し、約1.2ミクロンの
厚さまでポジ型フォトレジストで被覆し、約1.6〜約
2ミクロンの形状寸法を有するマスクでパターン化した
。次に腐食時間を計算した。1つのウェーハをNH4F
: HFの容fitJiE 7 二1−1 !E、カ
つノニルフェノールポリグリシドールエーテル(オーリ
ン・グリシドール・サーファクタント−10G■)20
0ppmを含有する緩衝化酸化物エツチング溶液中に浸
漬した。エツチングは、25°Cにおいて、計算上、1
00%腐食時間に達するまで実施された。腐食されたパ
ターンを次に水中洗浄した。次にこのウェーハを400
x〜1000Xの範囲の倍率をもつ光学顕微鏡を用いて
検査した。結果を下の表■に示す。
析法によって決定)まで熱酸化し、約1.2ミクロンの
厚さまでポジ型フォトレジストで被覆し、約1.6〜約
2ミクロンの形状寸法を有するマスクでパターン化した
。次に腐食時間を計算した。1つのウェーハをNH4F
: HFの容fitJiE 7 二1−1 !E、カ
つノニルフェノールポリグリシドールエーテル(オーリ
ン・グリシドール・サーファクタント−10G■)20
0ppmを含有する緩衝化酸化物エツチング溶液中に浸
漬した。エツチングは、25°Cにおいて、計算上、1
00%腐食時間に達するまで実施された。腐食されたパ
ターンを次に水中洗浄した。次にこのウェーハを400
x〜1000Xの範囲の倍率をもつ光学顕微鏡を用いて
検査した。結果を下の表■に示す。
比較例D1E及びF
3つの4インチシリコンウェーハを用いて実施例2の操
作をそのままくシ返した。ノミターン化されたウェーハ
を、湿潤剤を、含有しない緩衝化酸化物エツチング溶液
(NH4F : HFの容量比7:1)中100%、1
05%、並びに1fO%の腐食時間浸漬した。次に腐食
されたウェーハを水中洗浄し、実施例5の操作を使用し
て検査した。
作をそのままくシ返した。ノミターン化されたウェーハ
を、湿潤剤を、含有しない緩衝化酸化物エツチング溶液
(NH4F : HFの容量比7:1)中100%、1
05%、並びに1fO%の腐食時間浸漬した。次に腐食
されたウェーハを水中洗浄し、実施例5の操作を使用し
て検査した。
結果を下の表■に示す。
表 ■
完全腐食形状寸法のパーセント
5 100% 100 100 100比
較D 100% 63 51 42
比較E 105% 98 95 8
9比較F110% 100 joo 9
B実施例 6 4インチのシリコンウェーハを約6000X(偏光解析
法によって決定)まで熱酸化し、約1.2ンクロンの厚
さまでポジ型フォトレジストで被覆し、約1.7〜約5
.0ミクロンの形状寸法を有するマスクでパターン化し
た。次に腐食時間を計算した。1つのウェーハを、7:
1のNH4F : HF容鼠比を有し、又湿潤剤として
200りIllのオクチル/デシルグルコシド(四−ム
・ア・ンド・バーストライドンBG−10■)を含有す
る緩衝化酸化物エツチング溶液中浸漬した。エツチング
は、25°Cにおいて、計算上100%の腐食時間に達
するまで実施された。次に腐食されたパターンを水中洗
浄した。次にウェーハを400x〜100OXの範囲の
倍率をもつ光学顕微鏡を用いて検査した。結果を下の表
■に示す。
較D 100% 63 51 42
比較E 105% 98 95 8
9比較F110% 100 joo 9
B実施例 6 4インチのシリコンウェーハを約6000X(偏光解析
法によって決定)まで熱酸化し、約1.2ンクロンの厚
さまでポジ型フォトレジストで被覆し、約1.7〜約5
.0ミクロンの形状寸法を有するマスクでパターン化し
た。次に腐食時間を計算した。1つのウェーハを、7:
1のNH4F : HF容鼠比を有し、又湿潤剤として
200りIllのオクチル/デシルグルコシド(四−ム
・ア・ンド・バーストライドンBG−10■)を含有す
る緩衝化酸化物エツチング溶液中浸漬した。エツチング
は、25°Cにおいて、計算上100%の腐食時間に達
するまで実施された。次に腐食されたパターンを水中洗
浄した。次にウェーハを400x〜100OXの範囲の
倍率をもつ光学顕微鏡を用いて検査した。結果を下の表
■に示す。
比較例 G
他のシリコンウェーハを用いて実施例2の操作をそのま
まくシ返した。パターン化されたウェーハを、湿潤剤を
含有しない緩衝化酸化物エツチング溶液(NH4F :
HFの容量比7:1)中実類例2について計算したの
と同じ腐食時間浸漬した。次に腐食されたウェーハを水
中浸漬し、実施例2の操作を使用して検査した。結果を
下記の表IVに示す。
まくシ返した。パターン化されたウェーハを、湿潤剤を
含有しない緩衝化酸化物エツチング溶液(NH4F :
HFの容量比7:1)中実類例2について計算したの
と同じ腐食時間浸漬した。次に腐食されたウェーハを水
中浸漬し、実施例2の操作を使用して検査した。結果を
下記の表IVに示す。
表 ■
完全腐食形状寸法のパーセント
6 100% 100 100 100
100比較G 100% 100 87
77 67実施例5及び6は、本発明のエツチング溶
液が、所望の腐食時間内に7eターンの解像性損失を招
くオーバーエツチングを必要とすることなしに小さい形
状寸法を完全に腐食することを例示する。
100比較G 100% 100 87
77 67実施例5及び6は、本発明のエツチング溶
液が、所望の腐食時間内に7eターンの解像性損失を招
くオーバーエツチングを必要とすることなしに小さい形
状寸法を完全に腐食することを例示する。
実施例 7
湿潤剤としてノニルフェノールポリグリシドールエーテ
ル(オーリン・サーファクタント−10G■)及びオク
チル/デシルグルコシド(ローム・アンド・バーストラ
イドンBG−10■)5 ppn及び1100ppを含
有する、7:1のNH4F1HFの容量比を有する緩衝
化酸化物エツチング液の溶液を調製した。これら溶液の
表面張力を、実施例1の方法を使用して測定した。これ
らの溶液を容器中に注き゛、それを密封し、外温におい
て6ケ月間貯蔵した。周期的に容器を開放し、各溶液の
表面張力を測定した。最終の結果を下の表Vに示す。
ル(オーリン・サーファクタント−10G■)及びオク
チル/デシルグルコシド(ローム・アンド・バーストラ
イドンBG−10■)5 ppn及び1100ppを含
有する、7:1のNH4F1HFの容量比を有する緩衝
化酸化物エツチング液の溶液を調製した。これら溶液の
表面張力を、実施例1の方法を使用して測定した。これ
らの溶液を容器中に注き゛、それを密封し、外温におい
て6ケ月間貯蔵した。周期的に容器を開放し、各溶液の
表面張力を測定した。最終の結果を下の表Vに示す。
表 V
ノニルフェノールポリグリ 100 3
&5 313.2シトールエーテル ノニルフェノールポリグリ 5 5
72 59.7シトルエーテル オクチル/デシル 100 50
.4 29.9グルコシド オクチル/デシル 5 54
.9 5S、7グルコシド この実施例は、本発明のエツチング溶液が安定であシ、
長時間にわたってそのぬれの性質を保持することを示す
。
&5 313.2シトールエーテル ノニルフェノールポリグリ 5 5
72 59.7シトルエーテル オクチル/デシル 100 50
.4 29.9グルコシド オクチル/デシル 5 54
.9 5S、7グルコシド この実施例は、本発明のエツチング溶液が安定であシ、
長時間にわたってそのぬれの性質を保持することを示す
。
特許出願人 オリン・コーポレイション外2名
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)フッ化アンモニウム水溶液及び湿潤量の式▲数式、
化学式、表等があります▼( I )(式中Rは約4〜約
12の炭素原子を有するアルキル基であり、nは約3〜
約15である)を有するアルキルフエノールポリグリシ
ドール、並びに式 R′O(R″O)_xZ_y (式中R′はアルキル、アルキルフェノール、ヒドロキ
シアルキル、ヒドロキシアルキルフェノール、或いはそ
れらの混合物であり、このアルキル基は約6〜約18の
炭素原子を有し、R″は1〜約4の炭素原子を有するア
ルキル基であり、xは0〜約5であり、Zは5〜6の炭
素原子を有する還元性糖から誘導される基であり、yは
約1〜約5である)を有するアルキル多糖類よりなる群
から選択される非イオン系湿潤剤よりなるエッチング溶
液。 2)フッ化アンモニウムが約15〜約40重量%の濃度
で存在する請求項1記載のエッチング溶液。 3)フッ化水素が存在し、NH_4F対HF(7)容量
比が約3:1〜約50:1である請求項1記載のエッチ
ング溶液。 4)湿潤量が重量で約5〜約50,000ppmである
請求項1記載のエッチング溶液。5)非イオン系湿潤剤
が、nが約6〜約12であるアルキルフエノールポリグ
リシドールエーテルである請求項4記載のエッチング溶
液。 6)湿潤剤が、R′が約8〜約14の炭素原子を有する
アルキル基であるアルキル多糖類である請求項4記載の
エッチング溶液。 7)xが0又は1である請求項6記載のエッチング溶液
。 8)yが約1〜約2(1/2)である請求項7記載のエ
ッチング溶液。 9)フッ化アンモニウム及び湿潤量の式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Rは約4〜約12の炭素原子を有するアルキル基
であり、nは約3〜約15である)を有するアルキルフ
ェノールポリグリシドール、並びに式 R′O(R″O)_xZ_y (式中R′はアルキル、アルキルフェノール、ヒドロキ
シアルキル、ヒドロキシアルキルフェノール、或いはそ
れらの混合物であり、このアルキル基は約6〜約18の
炭素原子を有し、R″は1〜約4の炭素原子を有するア
ルキル基であり、xは0〜約5であり、Zは5〜6の炭
素原子を有する還元性糖から誘導される基であり、yは
約1〜約5である)を有するアルキル多糖類よりなる群
から選択される非イオン系湿潤剤よりなるエッチング水
溶液中基質を浸漬することを特徴とする二酸化珪素被覆
基質のエッチング法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6595188A JPH01242789A (ja) | 1988-03-22 | 1988-03-22 | フツ化アンモニウム含有エツチング溶液 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6595188A JPH01242789A (ja) | 1988-03-22 | 1988-03-22 | フツ化アンモニウム含有エツチング溶液 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01242789A true JPH01242789A (ja) | 1989-09-27 |
JPH0413430B2 JPH0413430B2 (ja) | 1992-03-09 |
Family
ID=13301797
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6595188A Granted JPH01242789A (ja) | 1988-03-22 | 1988-03-22 | フツ化アンモニウム含有エツチング溶液 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01242789A (ja) |
-
1988
- 1988-03-22 JP JP6595188A patent/JPH01242789A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0413430B2 (ja) | 1992-03-09 |
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