JPH01242590A - 3−メトキシメチルセファロスポラン酸誘導体とその製造方法および7−アミノ−3−アルコキシメチルセファロスポラン酸の製造法 - Google Patents
3−メトキシメチルセファロスポラン酸誘導体とその製造方法および7−アミノ−3−アルコキシメチルセファロスポラン酸の製造法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、医薬として有用なセファロスポリン系抗生物
質の製造原料である一般式(IV)(式中、Rは低級ア
ルキル基を表す。)で示される7−アミノ−3−アルコ
キシメチルセファロスポラン酸を工業的に安価に、かつ
、高収率で製造するために有効な中間体である次式(1
)で示される新規物質3−メトキシメチルセファロスポ
ラン酸誘導体およびその製造方法ならびに7−アミノ−
3−アルコキシメチルセファロスポラン酸の製造方法に
関するものである。
質の製造原料である一般式(IV)(式中、Rは低級ア
ルキル基を表す。)で示される7−アミノ−3−アルコ
キシメチルセファロスポラン酸を工業的に安価に、かつ
、高収率で製造するために有効な中間体である次式(1
)で示される新規物質3−メトキシメチルセファロスポ
ラン酸誘導体およびその製造方法ならびに7−アミノ−
3−アルコキシメチルセファロスポラン酸の製造方法に
関するものである。
(従来の技術)
3−アルコキシメチルセファロスポリン類については、
特開昭57−192392号の一般式(式中、R,NH
はアミノ基または保護されたアミノ基を表す。) で示される化合物またはその塩に、ヨウ素化合物の存在
下、低級アルコールを反応させることを特徴とする一般
式(Vl) (式中、R,NHはアミノ基または保護されたアミノ基
、R1は低級アルキル基を表す。)で示される化合物の
製造法の中に、R3がグルタリル基である記載がある。
特開昭57−192392号の一般式(式中、R,NH
はアミノ基または保護されたアミノ基を表す。) で示される化合物またはその塩に、ヨウ素化合物の存在
下、低級アルコールを反応させることを特徴とする一般
式(Vl) (式中、R,NHはアミノ基または保護されたアミノ基
、R1は低級アルキル基を表す。)で示される化合物の
製造法の中に、R3がグルタリル基である記載がある。
本発明者らは、特開昭57−192392号について検
討を加え、次の知見を得た。すなわち、反応生成物であ
る一般式(Vl)において、R5がグルタリル基である
3−メトキシメチル−7β−(4−カルボキシブタンア
ミド)−3−セフェム−4−カルボン酸単離に関する記
載および単離物の物性、構造を示すデーターの記載が全
くない。
討を加え、次の知見を得た。すなわち、反応生成物であ
る一般式(Vl)において、R5がグルタリル基である
3−メトキシメチル−7β−(4−カルボキシブタンア
ミド)−3−セフェム−4−カルボン酸単離に関する記
載および単離物の物性、構造を示すデーターの記載が全
くない。
このことから、R,の単なる例示の意味においてグルタ
リル基を挙げたにすぎなく、特開昭57−192392
号の発明において、3−メトキシメチル−7β−(4−
カルボキシブタンアミド)−3−セフェム−4−カルボ
ン酸の存在を確認することはできない。
リル基を挙げたにすぎなく、特開昭57−192392
号の発明において、3−メトキシメチル−7β−(4−
カルボキシブタンアミド)−3−セフェム−4−カルボ
ン酸の存在を確認することはできない。
また、式(I)で示される3−メトキシメチルセファロ
スポラン酸誘導体および一般式(IV)で示される7−
アミノ−3−アルコキシメチルセファロスポラン酸の製
造方法としては、下記の方法が知られている。
スポラン酸誘導体および一般式(IV)で示される7−
アミノ−3−アルコキシメチルセファロスポラン酸の製
造方法としては、下記の方法が知られている。
a)3−アセトキシメチル体を低級アルコールと反応さ
せる方法(特公昭50−10873号)。
せる方法(特公昭50−10873号)。
b)3−ヒドロキシメチル体をアルキル化する方法(特
公昭50−10873号) c)3−ハロメチル体を低級アルコールと反応させる方
法(特公昭50−10872号)。
公昭50−10873号) c)3−ハロメチル体を低級アルコールと反応させる方
法(特公昭50−10872号)。
d)3−ハロアセトキシメチル体を低級アルコールと反
応させる方法(特公昭50−10872号)。
応させる方法(特公昭50−10872号)。
e)Δ2−3−ハロメチル体を低級アルコールと反応さ
せた後、63体に異性化する方法 (J。
せた後、63体に異性化する方法 (J。
Hed、Chem、14113(1971) )。
f)3−アセトキシメチル体をハロゲン化合物の存在下
低級アルコールと反応させる方法(特開昭58−960
91号)。
低級アルコールと反応させる方法(特開昭58−960
91号)。
g)3−アセトキシメチル体をスルホン酸類の存在下低
級アルコールと反応させる方法(特開昭59−1633
87号)。
級アルコールと反応させる方法(特開昭59−1633
87号)。
h)3−アセトキシメチル体を、3フン化ホウ素または
その錯体の存在下に低級アルコールと反応させる方法(
特開昭61−289093号)。
その錯体の存在下に低級アルコールと反応させる方法(
特開昭61−289093号)。
しかしながら、上記のいずれの方法も収率が低く、工業
的規模での製造方法としては、決して満足できるもので
はない。加えて、a)法は、分離精製が困難なこと、b
)法では、毒性、危険性の面で問題の大きいジアゾメタ
ンを大量に使用しなければならないこと、C)法、d)
法、e)法は、原料調製工程が長く煩雑であり、実用化
が極めて困難である等の欠点を有している。
的規模での製造方法としては、決して満足できるもので
はない。加えて、a)法は、分離精製が困難なこと、b
)法では、毒性、危険性の面で問題の大きいジアゾメタ
ンを大量に使用しなければならないこと、C)法、d)
法、e)法は、原料調製工程が長く煩雑であり、実用化
が極めて困難である等の欠点を有している。
(発明が解決しようとする課題)
一般式(V)
ミノ基を表す。)
で示される化合物を原料として、上記 a)法、f)法
、g)法、h)法により、3−アルコキシメチル体を製
造するに当たっては、R,NHがアミン基(すなわち、
R,=Hの場合、7−アミノセファロスポラン酸、以下
、7ACAと呼称する)の場合よりも、R,NHがアシ
ル化されたアミノ基またはシッフ塩基を形成したアミノ
基のような、反応に関与しない保31基で保護されたア
ミノ基の方が、反応率が高い傾向にあることはよく知ら
れていることである。使用に適した保護基の選択は、最
終製造目的物の構造、保護基の調製および付加反応が容
易であるかどうか、R,NHがアミノ基である7ACA
を原料とした場合との、3位置換反応率の比較、脱保護
の方法および効率等を勘案して決定されることになる。
、g)法、h)法により、3−アルコキシメチル体を製
造するに当たっては、R,NHがアミン基(すなわち、
R,=Hの場合、7−アミノセファロスポラン酸、以下
、7ACAと呼称する)の場合よりも、R,NHがアシ
ル化されたアミノ基またはシッフ塩基を形成したアミノ
基のような、反応に関与しない保31基で保護されたア
ミノ基の方が、反応率が高い傾向にあることはよく知ら
れていることである。使用に適した保護基の選択は、最
終製造目的物の構造、保護基の調製および付加反応が容
易であるかどうか、R,NHがアミノ基である7ACA
を原料とした場合との、3位置換反応率の比較、脱保護
の方法および効率等を勘案して決定されることになる。
本発明が最終製造目的物とする7位がアミノ基である3
−アルコキシメチル体の場合は、7位を保護して3位置
換反応を行うと、単離、精製に際しては、必ず脱保護反
応を行わなければならず、従来の化学的な脱保護法の場
合は、脱保護反応、単離、精製工程の効率が数段にわた
ってかかる結果、7ACAを原料とした場合に比べ、同
等あるいはそれ以下の量しか得られず、反応工程での優
位性をなんら享受できるものではなかった。すなわち、
反応率の高さが、脱保護工程以降の多段工程効率で相殺
されてしまうという問題点があった。
−アルコキシメチル体の場合は、7位を保護して3位置
換反応を行うと、単離、精製に際しては、必ず脱保護反
応を行わなければならず、従来の化学的な脱保護法の場
合は、脱保護反応、単離、精製工程の効率が数段にわた
ってかかる結果、7ACAを原料とした場合に比べ、同
等あるいはそれ以下の量しか得られず、反応工程での優
位性をなんら享受できるものではなかった。すなわち、
反応率の高さが、脱保護工程以降の多段工程効率で相殺
されてしまうという問題点があった。
(課題を解決するための手段および作用)本発明者らは
、前記の課題を解決するため鋭意研究を重ねた結果、特
公昭54−17032号に示される7ACAの製造にお
ける中間体であるR。
、前記の課題を解決するため鋭意研究を重ねた結果、特
公昭54−17032号に示される7ACAの製造にお
ける中間体であるR。
がグルタリル基である3−アセトキシメチル−7β−(
4−カルボキシブタンアミド)−3−セフェム−4−カ
ルボン酸を本発明の出発原料とすることにより、7AC
Aを原料とする場合に比べ、数段高い反応率を得た後、
容易かつ定量的に脱保護を行うことにより、工業的規模
においても反応率の優位性を・維持できる本発明を完成
するに至った。
4−カルボキシブタンアミド)−3−セフェム−4−カ
ルボン酸を本発明の出発原料とすることにより、7AC
Aを原料とする場合に比べ、数段高い反応率を得た後、
容易かつ定量的に脱保護を行うことにより、工業的規模
においても反応率の優位性を・維持できる本発明を完成
するに至った。
すなわち、本発明の第1は、本発明の最終製造目的物に
容易に変換可能な中間体であり、かつ、それ自体も優れ
た抗菌活性を有する次式(1)で示される3−メトキシ
メチルセファロスポラン酸誘導体およびその塩であり、
本発明の第2は、次式(II) で示される化合物の3位をメチル化することを特徴とす
る上記式(1)で示される3−メトキシメチルセファロ
スポラン酸誘導体およびその塩の製造法である。さらに
、本発明の第3は、−m式[) %式% (式中、Rは低級アルキル基を表す。)で示される化合
物の7位を脱アシル化することを特徴とする一般式(I
V) (式中、Rは低級アルキル基を表す。)で示される7−
アミノ−3−アルコキシメチルセファロスポラン酸の製
造法である。
容易に変換可能な中間体であり、かつ、それ自体も優れ
た抗菌活性を有する次式(1)で示される3−メトキシ
メチルセファロスポラン酸誘導体およびその塩であり、
本発明の第2は、次式(II) で示される化合物の3位をメチル化することを特徴とす
る上記式(1)で示される3−メトキシメチルセファロ
スポラン酸誘導体およびその塩の製造法である。さらに
、本発明の第3は、−m式[) %式% (式中、Rは低級アルキル基を表す。)で示される化合
物の7位を脱アシル化することを特徴とする一般式(I
V) (式中、Rは低級アルキル基を表す。)で示される7−
アミノ−3−アルコキシメチルセファロスポラン酸の製
造法である。
本発明における式(1)の塩とは、例えば、塩酸、硫酸
などの無機酸の塩、またはメタスルホン酸、パラトルエ
ンスルホン酸、酒石酸、リンゴ酸などの有機酸の塩を挙
げることができる。
などの無機酸の塩、またはメタスルホン酸、パラトルエ
ンスルホン酸、酒石酸、リンゴ酸などの有機酸の塩を挙
げることができる。
出発原料である式(ff)で示される3−アセトキシメ
チル−7β−(4−カルボキシブタンアミド)−3−セ
フェム−4−カルボン酸は、特公昭54−17032号
に記載されているセファロスポリンCから7−アミツセ
フアロスボラン酸の製造中間体として容易に得られる。
チル−7β−(4−カルボキシブタンアミド)−3−セ
フェム−4−カルボン酸は、特公昭54−17032号
に記載されているセファロスポリンCから7−アミツセ
フアロスボラン酸の製造中間体として容易に得られる。
そして、この式(11)で示される化合物の3位をメチ
ル化して、式(1)で示される3−メトキシメチルセフ
ァロスポラン酸誘導体を製造するに当たっては、式(■
)で示される化合物を酸性触媒の存在下、メタノールと
反応させる。この場合、酸性触媒としては、例えば、硫
酸、弗酸などの無機酸、またはメタンスルホン酸、パラ
トルエンスルホン酸などの有機酸、あるいは、BF、、
塩化亜鉛、四塩化スズ、三塩化鉄などのルイス酸を挙げ
ることができる。
ル化して、式(1)で示される3−メトキシメチルセフ
ァロスポラン酸誘導体を製造するに当たっては、式(■
)で示される化合物を酸性触媒の存在下、メタノールと
反応させる。この場合、酸性触媒としては、例えば、硫
酸、弗酸などの無機酸、またはメタンスルホン酸、パラ
トルエンスルホン酸などの有機酸、あるいは、BF、、
塩化亜鉛、四塩化スズ、三塩化鉄などのルイス酸を挙げ
ることができる。
上記反応を好適に実施するには、式(II)の化合物お
よびその1. 0〜50倍当量、望ましくは1〜20倍
当量のメタノール、および0.5〜100倍当量の酸性
触媒を適当な溶媒中で反応させる。溶媒としては、反応
の進行を妨げるものでなければ適宜に使用することがで
きるが、ジオキサン、THF、ニトロアルカン、低級ア
ルキルニトリルなどの溶媒が好ましい。
よびその1. 0〜50倍当量、望ましくは1〜20倍
当量のメタノール、および0.5〜100倍当量の酸性
触媒を適当な溶媒中で反応させる。溶媒としては、反応
の進行を妨げるものでなければ適宜に使用することがで
きるが、ジオキサン、THF、ニトロアルカン、低級ア
ルキルニトリルなどの溶媒が好ましい。
反応温度は一40°C−100°C1望ましくは一20
°C〜80°Cで、反応時間は数時間、望ましくは1〜
6時間である。
°C〜80°Cで、反応時間は数時間、望ましくは1〜
6時間である。
次に、−i式(III)で示される化合物の7位を脱ア
シル化して、−数式(IV)で示される7−アミノ−3
−アルコキシメチルセファロスポラン酸の製造法である
が、−i式(V)で示される化合物のうち、R1がグル
タリル基である3−アセトキシメチル−7β−(4−カ
ルボキシブタンアミド)−3−セフェム−4−カルボン
酸は、例えば、シュードモナス エスピー(Pseud
omonas sp、)SE−83(微工研条寄第81
7号)の生成するセファロスポリンアシレースの代表的
基質であり、それら微生物菌体もしくはその処理物と接
触させることにより、容易に脱アシル化して7ACAを
生成するが、特開昭61−21097号に記載されてい
る。
シル化して、−数式(IV)で示される7−アミノ−3
−アルコキシメチルセファロスポラン酸の製造法である
が、−i式(V)で示される化合物のうち、R1がグル
タリル基である3−アセトキシメチル−7β−(4−カ
ルボキシブタンアミド)−3−セフェム−4−カルボン
酸は、例えば、シュードモナス エスピー(Pseud
omonas sp、)SE−83(微工研条寄第81
7号)の生成するセファロスポリンアシレースの代表的
基質であり、それら微生物菌体もしくはその処理物と接
触させることにより、容易に脱アシル化して7ACAを
生成するが、特開昭61−21097号に記載されてい
る。
本発明者らは、基質特異性の限られた酵素反応において
、3−アセトキシメチルの代わりに3−アルコキシメチ
ルである一般式(III)で示される3−アルコキシメ
チル−7β−(4−力ルボキシブタンアミド)−3−セ
フェム−4−カルボン酸への上記酵素の適用をはかった
結果、−数式(■)で示される7−アミノ−3−アルコ
キシメチルセファロスポラン酸が驚くべき高収率で生成
することを見出したのである。3−アセトキシメチル−
7β−(4−カルボキシブタンアミド)−3−セフェム
−4−カルボン酸から3−アルコキシメチル−7β−(
4−カルボキシブタンアミド)−3−セフェム−4−カ
ルボン酸を導くための3位置換反応としては、エーテル
を合成する技術が適用可能である。すなわち、アルコー
ルの存在下、■硫酸、濃塩酸、P−トルエンスルホン酸
、メタンスルホン酸を加え反応を行う方法、■A I
CI :+ZnCl、、5nC14、BF3などのルイ
ス酸を触媒とする方法、■I2、Nalなどのハロゲン
化合物の添加により反応させる方法などがある。
、3−アセトキシメチルの代わりに3−アルコキシメチ
ルである一般式(III)で示される3−アルコキシメ
チル−7β−(4−力ルボキシブタンアミド)−3−セ
フェム−4−カルボン酸への上記酵素の適用をはかった
結果、−数式(■)で示される7−アミノ−3−アルコ
キシメチルセファロスポラン酸が驚くべき高収率で生成
することを見出したのである。3−アセトキシメチル−
7β−(4−カルボキシブタンアミド)−3−セフェム
−4−カルボン酸から3−アルコキシメチル−7β−(
4−カルボキシブタンアミド)−3−セフェム−4−カ
ルボン酸を導くための3位置換反応としては、エーテル
を合成する技術が適用可能である。すなわち、アルコー
ルの存在下、■硫酸、濃塩酸、P−トルエンスルホン酸
、メタンスルホン酸を加え反応を行う方法、■A I
CI :+ZnCl、、5nC14、BF3などのルイ
ス酸を触媒とする方法、■I2、Nalなどのハロゲン
化合物の添加により反応させる方法などがある。
さらに、■アルコキサイドを反応基質としてエステルと
反応させる方法がある。セファム骨格がアルカリ条件下
では不安定となるため、酸性または中性条件下で反応が
実施できる■〜■の方法が好ましい。
反応させる方法がある。セファム骨格がアルカリ条件下
では不安定となるため、酸性または中性条件下で反応が
実施できる■〜■の方法が好ましい。
反応系から生成した一般式(IV)で示される化合物を
単離するには、スチレン−ジビニルベンゼンの供電合体
よりなる合成吸着剤を用いる方法、活性炭を用いる方法
、イオン交換樹脂を用いる方法などのいわゆる樹脂法で
も、−船釣な溶媒抽出法でも、いずれの場合も選択が可
能である。また、単離された一般式(IV)で示される
化合物は、弱酸性から弱塩基性にわたるpH範囲の水性
媒質中で酵素と接触させることにより、脱アシル化反応
を受ける。反応に供せられる酵素の使用形態としては、
培養菌体自身(有機溶媒処理菌体を含む)、界面活性剤
や物理的細胞破砕処理を経て得られた無細胞抽出液、そ
れらを包括剤で包括したり、担体への固定化処理を行っ
た、いわゆる固定化酵素などのうちから自由に選択でき
る。
単離するには、スチレン−ジビニルベンゼンの供電合体
よりなる合成吸着剤を用いる方法、活性炭を用いる方法
、イオン交換樹脂を用いる方法などのいわゆる樹脂法で
も、−船釣な溶媒抽出法でも、いずれの場合も選択が可
能である。また、単離された一般式(IV)で示される
化合物は、弱酸性から弱塩基性にわたるpH範囲の水性
媒質中で酵素と接触させることにより、脱アシル化反応
を受ける。反応に供せられる酵素の使用形態としては、
培養菌体自身(有機溶媒処理菌体を含む)、界面活性剤
や物理的細胞破砕処理を経て得られた無細胞抽出液、そ
れらを包括剤で包括したり、担体への固定化処理を行っ
た、いわゆる固定化酵素などのうちから自由に選択でき
る。
(発明の効果)
7−アミノ−3−アルコキシメチルセファロスポラン酸
を製造するにあたり、中間体として一般式(■)で示さ
れる3−アルコキシメチル−7β−(4−カルボキシブ
タンアミド)−3−セフェム−4−カルボン酸を経るこ
とにより、酵素反応を用いたほとんど定量的とも言える
脱アシル化が可能となり、原料として7ACAを用いる
場合の3位置換反応時の反応収率に対する不満を解決し
、工業的規模で経済的にも格段に有利に製造することが
可能となった。
を製造するにあたり、中間体として一般式(■)で示さ
れる3−アルコキシメチル−7β−(4−カルボキシブ
タンアミド)−3−セフェム−4−カルボン酸を経るこ
とにより、酵素反応を用いたほとんど定量的とも言える
脱アシル化が可能となり、原料として7ACAを用いる
場合の3位置換反応時の反応収率に対する不満を解決し
、工業的規模で経済的にも格段に有利に製造することが
可能となった。
(実施例)
次に、実施例によって本発明をさらに具体的に説明する
が、この実施例によって本発明が限定されるものではな
い。
が、この実施例によって本発明が限定されるものではな
い。
実施例1
3−メトキシメチル−7β−(4−カルボキシブタンア
ミド)−3−セフェム−4−カルボン酸四塩化炭素10
0dにメタノール22.4g。
ミド)−3−セフェム−4−カルボン酸四塩化炭素10
0dにメタノール22.4g。
3−フッ化ホウ素2メタノール錯体3.9g、塩化亜鉛
100gを混合し、60°Cに昇温する。15分攪拌し
て塩化亜鉛をほぼ完溶させ、3−アセトキシメチル−7
β−(4−カルボキシブタンアミド)−3−セフェム−
4−カルボン酸42.5g(0,11モル)を添加し、
60℃20分反応を行う。反応後、直ちに5°C以下に
冷却し、冷却水を65019添加する。アスピレータ−
減圧下、液量を650dまで減少させる。この液に酢酸
エチル650dを添加し、5分攪拌後、分液する。
100gを混合し、60°Cに昇温する。15分攪拌し
て塩化亜鉛をほぼ完溶させ、3−アセトキシメチル−7
β−(4−カルボキシブタンアミド)−3−セフェム−
4−カルボン酸42.5g(0,11モル)を添加し、
60℃20分反応を行う。反応後、直ちに5°C以下に
冷却し、冷却水を65019添加する。アスピレータ−
減圧下、液量を650dまで減少させる。この液に酢酸
エチル650dを添加し、5分攪拌後、分液する。
酢酸エチル300dずつを用いて、さらに抽出を2回繰
り返す。得られた酢酸エチル溶液を蒸発させると、白色
の粉末状結晶を得る。これを酢酸エチル・ヘキサンで再
結晶すると、3−メトキシメチル−7β−(4−カルボ
キシブタンアミド)−3−セフェム−4−カルボン酸3
1.9g(収率81%)を得た。
り返す。得られた酢酸エチル溶液を蒸発させると、白色
の粉末状結晶を得る。これを酢酸エチル・ヘキサンで再
結晶すると、3−メトキシメチル−7β−(4−カルボ
キシブタンアミド)−3−セフェム−4−カルボン酸3
1.9g(収率81%)を得た。
元素分析、NMRを以下に示すが、これらは目的物の構
造を支持する。
造を支持する。
元素分析
理論値 分析値
C46,93% 46.85%
H5,03% 5.21%
N 7.82% 7.68%0 31.
28% 31.46%3 8.94%
8.80%NMR(D、0) δ (ppm)
2、 35 (m、 6H,(GHz)、+ )
3.30 (s、3H,0CHy )3.60
(s、2H,S GHz )3−メトキシメチル−7
β−(4−カルボキシブタンアミド)−3−セフェム−
4−カルボン酸の抗菌活性について示すと、次のとおり
である。
28% 31.46%3 8.94%
8.80%NMR(D、0) δ (ppm)
2、 35 (m、 6H,(GHz)、+ )
3.30 (s、3H,0CHy )3.60
(s、2H,S GHz )3−メトキシメチル−7
β−(4−カルボキシブタンアミド)−3−セフェム−
4−カルボン酸の抗菌活性について示すと、次のとおり
である。
(ペーパーディスク拡散法)
ブイヨン培地で培養した検定菌株を用いて、107〜1
0hケ/戚の菌を含むハートインフユージゴンアガー(
DIFCO製)平板培地を作成した。次いで、蒸留水で
希釈したサンプルをペーパー・ディスクに浸潤させ、平
板培地上にのせる。
0hケ/戚の菌を含むハートインフユージゴンアガー(
DIFCO製)平板培地を作成した。次いで、蒸留水で
希釈したサンプルをペーパー・ディスクに浸潤させ、平
板培地上にのせる。
37°Cで20〜30時間静置した後、生育阻止円の有
無を判定した。
無を判定した。
対象薬剤として、7−(D−5−アミノ−5−カルボキ
シバレルアミド)−3−アセトキシメチル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸(Ceph−Cと略)を選定した。
シバレルアミド)−3−アセトキシメチル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸(Ceph−Cと略)を選定した。
注)菌生育が確認されなかったものを−(抗菌活性あり
)、確認されたものを+(抗菌活性なし)として表記し
た。
)、確認されたものを+(抗菌活性なし)として表記し
た。
実施例2
7−アミノ−3−メトキシメチルセファロスポラン酸
肉エキス0. 5%、食塩0.3%、ヘプトン1%を含
む液体培地(pH7,0)500ml!を52容三角フ
ラスコに分注して、120°Cで15分間蒸気滅菌した
後、シュードモナス 5E−83(微工研条寄第817
号)を接種し、30°Cで1日間回転振する。この培養
液全量を、カゼイン2%、酵母エキス0.05%、C3
L0.4%、グルタミン酸ソーダ0.5%、グルタル酸
0.1%を含む液体培地(pH9,0)101を20f
容ジャーファーメンタ−に分注し、120°C30分間
蒸気滅菌したものに接種し、30°Cで3日間、通気1
00%/min、攪拌300rpmで培養した。
む液体培地(pH7,0)500ml!を52容三角フ
ラスコに分注して、120°Cで15分間蒸気滅菌した
後、シュードモナス 5E−83(微工研条寄第817
号)を接種し、30°Cで1日間回転振する。この培養
液全量を、カゼイン2%、酵母エキス0.05%、C3
L0.4%、グルタミン酸ソーダ0.5%、グルタル酸
0.1%を含む液体培地(pH9,0)101を20f
容ジャーファーメンタ−に分注し、120°C30分間
蒸気滅菌したものに接種し、30°Cで3日間、通気1
00%/min、攪拌300rpmで培養した。
培養後、培養物を冷却下遠心分離して集菌した。
このようにして集められた湿潤菌体100gを0.1M
リン酸緩衝液(pH7,0)100−に懸濁し、0°C
で超音波破砕を行う。菌体残渣を冷却下遠心分離して、
酵素液100dを得た。陰イオン交換樹脂アンバーライ
トIRA904@(ロームアンドハース社製商品名)2
0gを常法どおり0.2N苛性ソーダで再生し、さらに
O,1Mリン酸緩衝液(pH7,0)で充分に洗浄後、
上記調製の酵素液100dを加えて、30°C3時間の
攪拌後、25%ゲルタールアルデヒド2.6−を加え、
さらに30℃で1時間攪拌し、酵素を樹脂に固定化した
。実施例1で得られた3−メトキシメチル−7β−(4
−カルボキシブタンアミド)−3−セフェム−4−カル
ボン酸10.0g(0,028mol)を0.5N、リ
ン酸2ソーダ水溶液500dと水500戚に溶解しくp
H8,0)、上記固定化セファロスポリンアシレースを
加えた後、30°Cの条件下100時間攪拌する。その
後、処理液を遠沈させて得られる液中の7−アミノ−3
−メトキシメチルセファロスポラン酸の生成率は97%
であった。この分離液をpH3゜5に調整した後、5°
Cで一晩放置後、結晶を分離、乾燥し、7−アミノ−3
−メトキシメチルセファロスポラン酸10.2g(純度
95%:0.027mol)を得た。
リン酸緩衝液(pH7,0)100−に懸濁し、0°C
で超音波破砕を行う。菌体残渣を冷却下遠心分離して、
酵素液100dを得た。陰イオン交換樹脂アンバーライ
トIRA904@(ロームアンドハース社製商品名)2
0gを常法どおり0.2N苛性ソーダで再生し、さらに
O,1Mリン酸緩衝液(pH7,0)で充分に洗浄後、
上記調製の酵素液100dを加えて、30°C3時間の
攪拌後、25%ゲルタールアルデヒド2.6−を加え、
さらに30℃で1時間攪拌し、酵素を樹脂に固定化した
。実施例1で得られた3−メトキシメチル−7β−(4
−カルボキシブタンアミド)−3−セフェム−4−カル
ボン酸10.0g(0,028mol)を0.5N、リ
ン酸2ソーダ水溶液500dと水500戚に溶解しくp
H8,0)、上記固定化セファロスポリンアシレースを
加えた後、30°Cの条件下100時間攪拌する。その
後、処理液を遠沈させて得られる液中の7−アミノ−3
−メトキシメチルセファロスポラン酸の生成率は97%
であった。この分離液をpH3゜5に調整した後、5°
Cで一晩放置後、結晶を分離、乾燥し、7−アミノ−3
−メトキシメチルセファロスポラン酸10.2g(純度
95%:0.027mol)を得た。
NMRスペクトルデーターを以下に示すが、これは目的
物の構造を支持する。
物の構造を支持する。
NMR(D、O) δ(ppm)
3.35 (s、3H,0CHz )
3.65 (s、2H,S GHz )5.10 (
d、IH,N−CH−) 酵 手続ネ甫正書(方式) %式% ■ 事件の表示 特願昭63−67165号 2 発明の名称 3−メトキシメチルセファロスポラン酸誘導体とその製
造方法および7−アミノ−3−アルコキシメチルセファ
ロスポラン酸の製造法 3 補正をする者 事件との関係 特許出願人 (003)旭化成工業株式会社 4代理人 郵便番号105 5 補正命令の日付(発送臼) 昭和63年 6月28日 7 補正の内容 明細書第1頁の発明の名称を次のとおり補正する。
d、IH,N−CH−) 酵 手続ネ甫正書(方式) %式% ■ 事件の表示 特願昭63−67165号 2 発明の名称 3−メトキシメチルセファロスポラン酸誘導体とその製
造方法および7−アミノ−3−アルコキシメチルセファ
ロスポラン酸の製造法 3 補正をする者 事件との関係 特許出願人 (003)旭化成工業株式会社 4代理人 郵便番号105 5 補正命令の日付(発送臼) 昭和63年 6月28日 7 補正の内容 明細書第1頁の発明の名称を次のとおり補正する。
「3−メトキシメチルセファロスポラン酸誘導体とその
製造方法および7−アミノ−3−アルコキシメチルセフ
ァロスポラン酸の製造法」
製造方法および7−アミノ−3−アルコキシメチルセフ
ァロスポラン酸の製造法」
Claims (3)
- (1)次式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) で示される3−メトキシメチルセファロスポラン酸誘導
体およびその塩。 - (2)次式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) で示される化合物の3位をメチル化することを特徴とす
る請求項1記載の3−メトキシメチルセファロスポラン
酸誘導体およびその塩の製造法。 - (3)一般式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、Rは低級アルキル基を表す。) で示される化合物の7位を脱アシル化することを特徴と
する一般式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) (式中、Rは低級アルキル基を表す。) で示される7−アミノ−3−アルコキシメチルセファロ
スポラン酸の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6716588A JPH01242590A (ja) | 1988-03-23 | 1988-03-23 | 3−メトキシメチルセファロスポラン酸誘導体とその製造方法および7−アミノ−3−アルコキシメチルセファロスポラン酸の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6716588A JPH01242590A (ja) | 1988-03-23 | 1988-03-23 | 3−メトキシメチルセファロスポラン酸誘導体とその製造方法および7−アミノ−3−アルコキシメチルセファロスポラン酸の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01242590A true JPH01242590A (ja) | 1989-09-27 |
Family
ID=13337011
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6716588A Pending JPH01242590A (ja) | 1988-03-23 | 1988-03-23 | 3−メトキシメチルセファロスポラン酸誘導体とその製造方法および7−アミノ−3−アルコキシメチルセファロスポラン酸の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01242590A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017153824A1 (en) | 2016-03-07 | 2017-09-14 | Dhanuka Laboratories Ltd. | A process for alkylating the hydroxymethyl group at position -3 of cephalosporins |
CN113563365A (zh) * | 2021-08-17 | 2021-10-29 | 华中药业股份有限公司 | 一种7-氨基-3-甲氧基-4-头孢烷酸的制备方法 |
-
1988
- 1988-03-23 JP JP6716588A patent/JPH01242590A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017153824A1 (en) | 2016-03-07 | 2017-09-14 | Dhanuka Laboratories Ltd. | A process for alkylating the hydroxymethyl group at position -3 of cephalosporins |
CN113563365A (zh) * | 2021-08-17 | 2021-10-29 | 华中药业股份有限公司 | 一种7-氨基-3-甲氧基-4-头孢烷酸的制备方法 |
CN113563365B (zh) * | 2021-08-17 | 2024-05-28 | 华中药业股份有限公司 | 一种7-氨基-3-甲氧基-4-头孢烷酸的制备方法 |
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