JPH01218808A - 光学素子のプレス成形用金型の作製方法 - Google Patents
光学素子のプレス成形用金型の作製方法Info
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- JPH01218808A JPH01218808A JP4618788A JP4618788A JPH01218808A JP H01218808 A JPH01218808 A JP H01218808A JP 4618788 A JP4618788 A JP 4618788A JP 4618788 A JP4618788 A JP 4618788A JP H01218808 A JPH01218808 A JP H01218808A
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- 238000000465 moulding Methods 0.000 title claims abstract description 43
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 10
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 26
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 33
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 33
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 17
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 13
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 239000011195 cermet Substances 0.000 claims description 3
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000005459 micromachining Methods 0.000 claims description 3
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 claims 1
- UFGZSIPAQKLCGR-UHFFFAOYSA-N chromium carbide Chemical group [Cr]#C[Cr]C#[Cr] UFGZSIPAQKLCGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910003470 tongbaite Inorganic materials 0.000 claims 1
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims 1
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical group [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 abstract description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 5
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 abstract description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract 5
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 abstract 4
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 13
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- HTUMBQDCCIXGCV-UHFFFAOYSA-N lead oxide Chemical compound [O-2].[Pb+2] HTUMBQDCCIXGCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001362 Ta alloys Inorganic materials 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001080 W alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- BYFGZMCJNACEKR-UHFFFAOYSA-N aluminium(i) oxide Chemical compound [Al]O[Al] BYFGZMCJNACEKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910000464 lead oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 2
- 238000000053 physical method Methods 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 230000001684 chronic effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Mounting, Exchange, And Manufacturing Of Dies (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は微細加工を施した高精度な光学素子をプレス成
形によって大量に生産するためのプレス成形用金型の作
製方法に関するものである。
形によって大量に生産するためのプレス成形用金型の作
製方法に関するものである。
従来の技術
高晴度な光学素子を直接プレスして成形するためには、
型材料としては高温でも安定で、耐酸化性に優れ、ガラ
スあるいはプラスチックに対して不活性でありプレスし
た時に形状精度が崩れないように機械的強度の優れたも
のが必要であり、その反面、加工性に優れていなければ
ならない。
型材料としては高温でも安定で、耐酸化性に優れ、ガラ
スあるいはプラスチックに対して不活性でありプレスし
た時に形状精度が崩れないように機械的強度の優れたも
のが必要であり、その反面、加工性に優れていなければ
ならない。
以上のような光学素子のプレス成形用型に必要な条件を
、ある程度満足する型材料として、特開昭59−990
59号公報に記載の超硬合金を母材とし、その母材のプ
レス面を機械加工によって、所望の形状に加工し、その
面に保護膜として貴金属層を被覆した型が用いられてい
る。
、ある程度満足する型材料として、特開昭59−990
59号公報に記載の超硬合金を母材とし、その母材のプ
レス面を機械加工によって、所望の形状に加工し、その
面に保護膜として貴金属層を被覆した型が用いられてい
る。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、従来の型材は非常に機械的強度が優れ、
さらに化学的にも非常に安定な為、直接機械的に加工を
施したり、湿式のエツチングにより、加工を行うには限
界がある。また、同一形状の型を高精度に再現性良く、
大量に作製することは大変困難であり、作製時間および
コストが非常にかかってしまう。
さらに化学的にも非常に安定な為、直接機械的に加工を
施したり、湿式のエツチングにより、加工を行うには限
界がある。また、同一形状の型を高精度に再現性良く、
大量に作製することは大変困難であり、作製時間および
コストが非常にかかってしまう。
本発明では上記問題点に鑑み、物理的方法で金型表面の
保護膜上に直接微細加工を施すことによって、直接プレ
ス成形法による、光学性能の良い高精度な光学素子の成
形を可能にする為のプレス成形用金型を容易に、且つ、
大量に作製することを目的としている。
保護膜上に直接微細加工を施すことによって、直接プレ
ス成形法による、光学性能の良い高精度な光学素子の成
形を可能にする為のプレス成形用金型を容易に、且つ、
大量に作製することを目的としている。
ff!題を解決するための手段
上記課題を解決するために、本発明では光学素子と反応
しに<<、耐熱性があり機械的強度が優れた型として、
母材にWCを主成分とする超硬合金、または、TiN、
TiC,Cra c2あるいはAl2O,を主成分とす
るサーメットを用い、プレス面にはPt、Pd、Ir、
Rh、Os。
しに<<、耐熱性があり機械的強度が優れた型として、
母材にWCを主成分とする超硬合金、または、TiN、
TiC,Cra c2あるいはAl2O,を主成分とす
るサーメットを用い、プレス面にはPt、Pd、Ir、
Rh、Os。
Ru、Re、W、Taのうち、少なくとも一種類以上の
金属を含む合金薄膜を保護膜としてコーティングして構
成されたものを用い、保護膜の表面に物理的方法で直接
微細加工を施すことによって、光学性能の良い高精度な
光学素子のプレス成形を可能にする為のプレス成形用金
型を容易に、且つ、大量に作製するものである。
金属を含む合金薄膜を保護膜としてコーティングして構
成されたものを用い、保護膜の表面に物理的方法で直接
微細加工を施すことによって、光学性能の良い高精度な
光学素子のプレス成形を可能にする為のプレス成形用金
型を容易に、且つ、大量に作製するものである。
作用
本発明は上記した方法によって、微細加工を施した光学
素子のプレス成形用型を作製し、この型を用いることに
よって光学性能の良い高精度な光学素子を直接プレスし
て、大量に成形することを可能としたものである。
素子のプレス成形用型を作製し、この型を用いることに
よって光学性能の良い高精度な光学素子を直接プレスし
て、大量に成形することを可能としたものである。
実施例
以下、本発明の一実施例を図面を参照しながら説明する
。
。
まず、第1の実施例として、本発明を非球面ガラスレン
ズの作製に実施した例について説明する。
ズの作製に実施した例について説明する。
最初に、母材として直径20tm、厚さ6nのWCを主
成分とする超硬合金を用い、その母材を曲率半径が46
0の凹面形状のプレス面を有する型に加工した。この型
のプレス面を超微細なダイヤモンド砥粒を用いて鏡面に
研摩した0次に、この鏡面上にスパッタ法により5μm
の厚みでpt−Ta合金薄膜を保護膜としてコーティン
グして球面形状のプレス成形用型を作製した。このよう
にして構成される未加工のプレス成形用型の断面構造図
を第1図に示した。第1図において、11は母材、12
は保護膜である。
成分とする超硬合金を用い、その母材を曲率半径が46
0の凹面形状のプレス面を有する型に加工した。この型
のプレス面を超微細なダイヤモンド砥粒を用いて鏡面に
研摩した0次に、この鏡面上にスパッタ法により5μm
の厚みでpt−Ta合金薄膜を保護膜としてコーティン
グして球面形状のプレス成形用型を作製した。このよう
にして構成される未加工のプレス成形用型の断面構造図
を第1図に示した。第1図において、11は母材、12
は保護膜である。
上記の球面形状のプレス成形用型の表面に紫外線硬化性
のビスアジド化合物系の樹脂を塗布し、その上に半径が
46鶴の透明なプラスチック半球に所望の非球面加工を
施し、離型剤を塗布した原盤を載せて軸合せを行うて固
定した。この状態での概略図を第2図に示した。第2図
において、21は紫外線硬化性のビスアジド化合物系の
樹脂、22は非球面加工を施した透明な原盤である。
のビスアジド化合物系の樹脂を塗布し、その上に半径が
46鶴の透明なプラスチック半球に所望の非球面加工を
施し、離型剤を塗布した原盤を載せて軸合せを行うて固
定した。この状態での概略図を第2図に示した。第2図
において、21は紫外線硬化性のビスアジド化合物系の
樹脂、22は非球面加工を施した透明な原盤である。
次に、樹脂が硬化するまで原盤の裏面から紫外線を照射
し、樹脂の硬化後、原盤を取り除き、未加工の球面形状
のプレス成形用型の表面に非球面形状の樹脂層を形成す
る。
し、樹脂の硬化後、原盤を取り除き、未加工の球面形状
のプレス成形用型の表面に非球面形状の樹脂層を形成す
る。
この型をドライエツチング装置にセットし、硬化したビ
スアジド化合物系の樹脂層の表面から均一に異方性エツ
チングを行い、樹脂層が全てエツチングされてから型を
取り出す、このようにして作製された型の表面は樹脂層
の表面形状を反映する。すなわち、樹脂層と保護膜との
エツチング速度が同じ場合は、エツチング後の保護膜表
面形状は樹脂層の表面形状と同じになり、樹脂層と保護
膜とのエツチング速度が異なる場合は、エツチング速度
の比率に伴った表面形状となる。この非球面形状のプレ
ス成形用型の断面図を第3図に示した。第3図において
、31は球面形状の母材〜32は表面を非球面形状に加
工した保護膜である。
スアジド化合物系の樹脂層の表面から均一に異方性エツ
チングを行い、樹脂層が全てエツチングされてから型を
取り出す、このようにして作製された型の表面は樹脂層
の表面形状を反映する。すなわち、樹脂層と保護膜との
エツチング速度が同じ場合は、エツチング後の保護膜表
面形状は樹脂層の表面形状と同じになり、樹脂層と保護
膜とのエツチング速度が異なる場合は、エツチング速度
の比率に伴った表面形状となる。この非球面形状のプレ
ス成形用型の断面図を第3図に示した。第3図において
、31は球面形状の母材〜32は表面を非球面形状に加
工した保護膜である。
この方法で作製した型は再現性良く、同じ形状の型を大
量に作製することができる。
量に作製することができる。
この型を上下の型として、第4図に示したプレス成形機
にセントする。第4図において、41は上型用固定ブロ
ック、42は上型用加熱ヒーター、43−aは上型、4
4−aは球状のガラス素子、45−aは下型、46は下
型用加熱ヒーター、47は下型用固定ブロック、48は
上型用熱電対、49は下型用熱電対、410はプランジ
ャー、411は位置決め用センサー、412はストッパ
ー、413は覆いである。
にセントする。第4図において、41は上型用固定ブロ
ック、42は上型用加熱ヒーター、43−aは上型、4
4−aは球状のガラス素子、45−aは下型、46は下
型用加熱ヒーター、47は下型用固定ブロック、48は
上型用熱電対、49は下型用熱電対、410はプランジ
ャー、411は位置決め用センサー、412はストッパ
ー、413は覆いである。
次に、酸化鉛(pbo)70重量%、シリカ(Sin)
27重量%および残りが微量成分からなる酸化鉛系光学
ガラスを半径10flの球状に加工したガラス素子44
−aを上下の型43−aおよび45−aの下型45−a
の上に置き、その上に上型43−aを置き、そのまま5
20℃まで昇温し、窒素雰囲気で約40kg/−のプレ
ス圧によりプレスして2分間保持し、その後、そのまま
の状態で上下の型を300℃まで冷却して、プレス成形
された非球面ガラスレンズを取り出して、非球面ガラス
レンズのプレス成形の工程を完了する。
27重量%および残りが微量成分からなる酸化鉛系光学
ガラスを半径10flの球状に加工したガラス素子44
−aを上下の型43−aおよび45−aの下型45−a
の上に置き、その上に上型43−aを置き、そのまま5
20℃まで昇温し、窒素雰囲気で約40kg/−のプレ
ス圧によりプレスして2分間保持し、その後、そのまま
の状態で上下の型を300℃まで冷却して、プレス成形
された非球面ガラスレンズを取り出して、非球面ガラス
レンズのプレス成形の工程を完了する。
以上の工程を繰り返して10000回目のプレス終了時
に、上下の型43−aおよび45−aをプレス成形機よ
り取りはずして、プレス面の状態を光学顕微鏡で観察し
、その時のプレス面の表面粗さ(RMS値、人)を測定
して、それぞれの型精度を評価した。
に、上下の型43−aおよび45−aをプレス成形機よ
り取りはずして、プレス面の状態を光学顕微鏡で観察し
、その時のプレス面の表面粗さ(RMS値、人)を測定
して、それぞれの型精度を評価した。
プレス試験の結果を第1表に示した。試料ll&Llお
よび2のように、ここで作製した型においては、1oo
oo回プレス後でも、表面粗さ(RMS値)で、それぞ
れ、12.1人および12.4人でほとんど荒れず、型
形状も変化していないことがわかる。
よび2のように、ここで作製した型においては、1oo
oo回プレス後でも、表面粗さ(RMS値)で、それぞ
れ、12.1人および12.4人でほとんど荒れず、型
形状も変化していないことがわかる。
このように、本発明によって高精度な非球面形状のプレ
ス成形用型を容易に、且つ、大量に作製することが可能
となり、この型を用いることにより高精度な非球面ガラ
スレンズを直接プレス成形で大量に成形することが可能
となった。
ス成形用型を容易に、且つ、大量に作製することが可能
となり、この型を用いることにより高精度な非球面ガラ
スレンズを直接プレス成形で大量に成形することが可能
となった。
(以下余白)
次に、第2例として、ピンチが0.1龍で、段差が0.
5μmののこぎり歯状の表面形状をした回折格子の作製
に実施した例について説明する。
5μmののこぎり歯状の表面形状をした回折格子の作製
に実施した例について説明する。
厚さ71.5cm角のWCを主成分とする超硬合金平板
を母材とし、プレス面を超微細なダイヤモンド砥粒を用
いて鏡面に研摩した0次に、この鏡面上にイオンブレー
ティング法により4μmの厚みでPt−Rh−W合金薄
膜を保護膜としてコーティングして平面形状のプレス成
形用型を作製した。このようにして構成される未加工の
プレス成形用型の断面構造図を第5図に示した。第5図
において、51は母材、52保護膜である。
を母材とし、プレス面を超微細なダイヤモンド砥粒を用
いて鏡面に研摩した0次に、この鏡面上にイオンブレー
ティング法により4μmの厚みでPt−Rh−W合金薄
膜を保護膜としてコーティングして平面形状のプレス成
形用型を作製した。このようにして構成される未加工の
プレス成形用型の断面構造図を第5図に示した。第5図
において、51は母材、52保護膜である。
上記の平面形状のプレス成形用型の表面に紫外線硬化性
のビスアジド化合物系樹脂を塗布したものの上に離型剤
を塗布し、プラスチック平板の表面をピッチが0. I
Mで、段差が0.5μmののこぎり歯状の表面形状に
加工した原盤を載せて、原盤の裏面からビスアジド化合
物系樹脂が硬化するまで紫外線を照射し、原盤を取り除
く。
のビスアジド化合物系樹脂を塗布したものの上に離型剤
を塗布し、プラスチック平板の表面をピッチが0. I
Mで、段差が0.5μmののこぎり歯状の表面形状に
加工した原盤を載せて、原盤の裏面からビスアジド化合
物系樹脂が硬化するまで紫外線を照射し、原盤を取り除
く。
この型をドライエツチング装置にセントし、硬化したビ
スアジド化合物系樹脂層の表面から均一に異方性エツチ
ングを行い、樹脂層が全てエツチングされてから型を取
り、出す。このようにして、表面にのこぎり歯状の微細
加工を施した型を上型とし、平型を下型として、第4図
に示したプレス成形機にセットし、第1の実施例と同様
に、PbOが70重量%、SiOが27重量%および残
りが微量成分からなる酸化鉛系光学ガラスを厚さ21m
1.5cm角の平板に加工したガラス素子44−bを上
下の型43−bおよび45−bの下型45−bの上に置
き、その上に上型43−bを置き、そのまま520℃ま
で昇温し、窒素雰囲気で約40kg/cdのプレス圧に
よりプレスして2分間保持し、その後、そのままの状態
で上下の型を300℃まで冷却して、プレス成形された
回折格子を取り出して、回折格子のプレス成形の工程を
完了する。
スアジド化合物系樹脂層の表面から均一に異方性エツチ
ングを行い、樹脂層が全てエツチングされてから型を取
り、出す。このようにして、表面にのこぎり歯状の微細
加工を施した型を上型とし、平型を下型として、第4図
に示したプレス成形機にセットし、第1の実施例と同様
に、PbOが70重量%、SiOが27重量%および残
りが微量成分からなる酸化鉛系光学ガラスを厚さ21m
1.5cm角の平板に加工したガラス素子44−bを上
下の型43−bおよび45−bの下型45−bの上に置
き、その上に上型43−bを置き、そのまま520℃ま
で昇温し、窒素雰囲気で約40kg/cdのプレス圧に
よりプレスして2分間保持し、その後、そのままの状態
で上下の型を300℃まで冷却して、プレス成形された
回折格子を取り出して、回折格子のプレス成形の工程を
完了する。
以上の工程を繰り返して10000回目のプレス終了時
に、上型43−bをプレス成形機より取りはずして、プ
レス面の状態を光学顕微鏡で観察し、評価した。その結
果、金型表面形状の変形もなく、金型表面の荒れもなく
、高精度な回折格子の量産が可能であることがわかった
。
に、上型43−bをプレス成形機より取りはずして、プ
レス面の状態を光学顕微鏡で観察し、評価した。その結
果、金型表面形状の変形もなく、金型表面の荒れもなく
、高精度な回折格子の量産が可能であることがわかった
。
なお、本発明を説明するために、第1および第2の実施
例においてプレス成形用型の母材としてWCを主成分と
する超硬合金を用い、保護膜としてPt−Ta合金薄膜
あるいはPt−Rh−W合金fftBIをコーティング
した型を例に挙げたが、WCを主成分とする超硬合金の
代りにTiN。
例においてプレス成形用型の母材としてWCを主成分と
する超硬合金を用い、保護膜としてPt−Ta合金薄膜
あるいはPt−Rh−W合金fftBIをコーティング
した型を例に挙げたが、WCを主成分とする超硬合金の
代りにTiN。
TiC,Cra c、あるいはA120aを主成分とす
るサーメットを母材とし、そのプレス面にPt、Pd、
Ir、Rh、Os、Ru、Re、W。
るサーメットを母材とし、そのプレス面にPt、Pd、
Ir、Rh、Os、Ru、Re、W。
Taのうち、少なくとも一種類以上の金属を含む合金薄
膜をコーティング薄膜をコーティングして構成される型
を用いても、同様な方法で高精度な光学素子のプレス成
形用型を容易に、且つ、大量に作製することが可能とな
り、この型を用いることにより、高精度な光学素子を直
接プレス成形で大量に成形できることは言うまでもない
。
膜をコーティング薄膜をコーティングして構成される型
を用いても、同様な方法で高精度な光学素子のプレス成
形用型を容易に、且つ、大量に作製することが可能とな
り、この型を用いることにより、高精度な光学素子を直
接プレス成形で大量に成形できることは言うまでもない
。
また、本発明を説明するために、第1および第2の実施
例において原盤としてプラスチックを用いたが、感光性
樹脂を硬化させる波長の光を通す材料であれば、どのよ
うな物でも利用できることは言うまでもない。
例において原盤としてプラスチックを用いたが、感光性
樹脂を硬化させる波長の光を通す材料であれば、どのよ
うな物でも利用できることは言うまでもない。
さらに、本発明を説明するために、第1および第2の実
施例において感光性樹脂として、紫外線硬化性のビスア
ジド化合物系樹脂を用いたが、他の領域の波長の光で硬
化する樹脂を用いても、同様の効果が得られることは言
うまでもない。
施例において感光性樹脂として、紫外線硬化性のビスア
ジド化合物系樹脂を用いたが、他の領域の波長の光で硬
化する樹脂を用いても、同様の効果が得られることは言
うまでもない。
発明の効果
以上のように、本発明は光学素子のプレス成形用型を作
製するにあたり、未加工の光学素子のプレス成形用型の
表面に塗布した感光性樹脂に、表面に微細加工を施した
透明な原盤の裏側から光を照射することによって原盤の
表面形状を転写し、全体を均一に物理的にエツチングし
て光学素子のプレス成形用型の表面に微細加工を施す方
法により、高精度な光学素子のプレス成形用型を容易に
、且つ、大量に作製することが可能となり、この型を用
いることにより、高精度な光学素子を直接プレス成形で
大量に成形できる。
製するにあたり、未加工の光学素子のプレス成形用型の
表面に塗布した感光性樹脂に、表面に微細加工を施した
透明な原盤の裏側から光を照射することによって原盤の
表面形状を転写し、全体を均一に物理的にエツチングし
て光学素子のプレス成形用型の表面に微細加工を施す方
法により、高精度な光学素子のプレス成形用型を容易に
、且つ、大量に作製することが可能となり、この型を用
いることにより、高精度な光学素子を直接プレス成形で
大量に成形できる。
第1図、第2図、第3図および第5図は本発明を組み込
んだプレス成形機の概略図である。 11・・・・・・母材、12・・・・・・保護膜。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか1名U−−−母
材 第1図 IZ−4慢膜 第2図 第3図
んだプレス成形機の概略図である。 11・・・・・・母材、12・・・・・・保護膜。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか1名U−−−母
材 第1図 IZ−4慢膜 第2図 第3図
Claims (3)
- (1)未加工の光学素子のプレス成形用型の表面に塗布
した感光性樹脂に、表面に微細加工を施した透明な原盤
の裏側から光を照射することによって原盤の表面形状を
転写した後、全体を均一に物理的にエッチングし、金型
表面に微細加工を施すことを特徴とする光学素子のプレ
ス成形用金型の作製方法。 - (2)原盤は樹脂あるいはガラスの表面に、機械加工あ
るいは物理的および化学的エッチングによって微細加工
を施した透明な原盤を用いることを特徴とする請求項第
(1)項記載の光学素子のプレス成形用金型の作製方法
。 - (3)プレス成形用型として、母材にはタングステンカ
ーバイド(WC)を主成分とする超硬合金、または、チ
タンナイトライド(TiN)、チタンカーバイド(Ti
C)、クロムカーバイド(Cr_3C_2)あるいはア
ルミナ(Al_2O_3)を主成分とするサーメットを
用い、プレス面には白金(Pt)、パラジウム(Pd)
、イリジウム(Ir)、ロジウム(Rh)、オスミウム
(Os)、ルテニウム(Ru)、レニウム(Re)、タ
ングステン(W)、タンタル(Ta)のうち、少なくと
も一種類以上の金属を含む合金薄膜をコーティングして
構成されることを特徴とする請求項第(1)項記載の光
学素子のプレス成形用金型の作製方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63046187A JPH0615184B2 (ja) | 1988-02-29 | 1988-02-29 | 光学素子のプレス成形用金型の作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63046187A JPH0615184B2 (ja) | 1988-02-29 | 1988-02-29 | 光学素子のプレス成形用金型の作製方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01218808A true JPH01218808A (ja) | 1989-09-01 |
JPH0615184B2 JPH0615184B2 (ja) | 1994-03-02 |
Family
ID=12740042
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63046187A Expired - Fee Related JPH0615184B2 (ja) | 1988-02-29 | 1988-02-29 | 光学素子のプレス成形用金型の作製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0615184B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005280293A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-13 | Konica Minolta Opto Inc | 光学素子用成形金型の製造方法、光学素子用成形金型及び光学素子 |
US7028974B1 (en) * | 1999-05-21 | 2006-04-18 | Pentax Corporation | Lens molding die and a producing method therefor |
CN100337098C (zh) * | 2003-10-31 | 2007-09-12 | 中国科学院安徽光学精密机械研究所 | 光学积分球的制作方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5724042A (en) * | 1980-07-18 | 1982-02-08 | Sony Corp | Optical information recording medium and its production |
-
1988
- 1988-02-29 JP JP63046187A patent/JPH0615184B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5724042A (en) * | 1980-07-18 | 1982-02-08 | Sony Corp | Optical information recording medium and its production |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7028974B1 (en) * | 1999-05-21 | 2006-04-18 | Pentax Corporation | Lens molding die and a producing method therefor |
CN100337098C (zh) * | 2003-10-31 | 2007-09-12 | 中国科学院安徽光学精密机械研究所 | 光学积分球的制作方法 |
JP2005280293A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-13 | Konica Minolta Opto Inc | 光学素子用成形金型の製造方法、光学素子用成形金型及び光学素子 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0615184B2 (ja) | 1994-03-02 |
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