JPH01212064A - Leng size connection image sensor - Google Patents

Leng size connection image sensor

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JPH01212064A
JPH01212064A JP63035045A JP3504588A JPH01212064A JP H01212064 A JPH01212064 A JP H01212064A JP 63035045 A JP63035045 A JP 63035045A JP 3504588 A JP3504588 A JP 3504588A JP H01212064 A JPH01212064 A JP H01212064A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sensor
glass
protective
long
image sensor
Prior art date
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Pending
Application number
JP63035045A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Chikao Ikeda
周穂 池田
Hironori Murakami
裕紀 村上
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Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Xerox Co Ltd filed Critical Fuji Xerox Co Ltd
Priority to JP63035045A priority Critical patent/JPH01212064A/en
Publication of JPH01212064A publication Critical patent/JPH01212064A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched

Abstract

PURPOSE:To unify the thickness of the protective resin of a sensor part by disposing a protective glass on the upper surface of a sensor part. CONSTITUTION:On sensor substrates 103 provided in parallel with each other on a supporting plate 101, the piece of protective glass 114 made of 7059 glass of Coaning Corporation long in the longitudinal direction of the plate 101 is so disposed as to cover the whole sensor part through a protective resin 200. The glass 114 is provided so that the sensor part 105 not deteriorate because of external factors such as humidity, etc. Also, by the existence of the glass 114, the protective resin 200 can be prevented from protruding at the connecting of the sensor substrates 103, and thus the resin 200 can be unified in its thickness.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) ゛本発明は、原稿にほぼ密着して画像の読み取りを行な
う密着型イメージセンサに係り、特に大きな原稿を読み
取るためセンサ部を長尺とした長尺接続イメージセンサ
に関する。
[Detailed Description of the Invention] (Industrial Application Field) ゛The present invention relates to a close-contact image sensor that reads an image by coming into almost close contact with a document, and in which the sensor part is elongated in order to read particularly large documents. The present invention relates to a long connected image sensor.

(従来の技術) 密着型イメージセンサは、原稿とほぼ同一幅の光電変換
部をアモルファスシリコン(a−Si)等で形成してい
る。従って、原稿に描かれた画像を読み取る際、原稿と
光電変換部とをほぼ密着して用いることができ、縮小光
学系を必要としない大面積デバイスとしての使用が可能
となり、読み取り装置の小形化が実現できる点で注目さ
れている。
(Prior Art) In a contact type image sensor, a photoelectric conversion portion having approximately the same width as a document is formed of amorphous silicon (a-Si) or the like. Therefore, when reading an image drawn on a document, the document and the photoelectric conversion unit can be used in close contact with each other, making it possible to use it as a large-area device that does not require a reduction optical system, and making the reading device more compact. It is attracting attention because it can be realized.

密着型イメージセンサは、例えば第4図にその平面図、
第5図に第4図のN−IV’線断面図を示すように、絶
縁基板11上に形成したセンサ部21と、このセンサ部
21の駆動を行なうICチ・1プ31と、このICチッ
プ31に制御信号等の供給を行なう外部接続用配線41
とによって構成される。
For example, the top view of the contact type image sensor is shown in FIG.
As shown in FIG. 5, a cross-sectional view taken along the line N-IV' in FIG. External connection wiring 41 for supplying control signals etc. to the chip 31
It is composed of

センサ部21は、絶縁基板11上にCrの着膜及びフォ
トリソエツチングプロセスにより複数の下部電極22と
してのクロムパターンを形成し、これらを覆うように光
電変換層23としてのアモルファスシリコン層パターン
を形成し、この光な・変換層23を覆うように上部電極
24としての酸化インジウム層パターンを形成した複数
のサンドイッチ型センサを並設して成る。
The sensor section 21 is formed by forming a plurality of chromium patterns as the lower electrodes 22 on the insulating substrate 11 by depositing a Cr film and using a photolithography process, and forming an amorphous silicon layer pattern as the photoelectric conversion layer 23 so as to cover these. A plurality of sandwich type sensors are arranged in parallel, each having an indium oxide layer pattern formed as an upper electrode 24 so as to cover this optical conversion layer 23.

絶縁基板11上には、センサ部21の駆動を行なう複数
のICチップ31が実装されると共に、クロック用配線
やセンサ出力用配線等から成る外部接続用配線41が形
成されている。外部接続用配線41は、ICチップ31
に設けられそれぞれの外部接続用配線41に対応した入
力端子若しくは出力端子にそれぞれボンディングワイヤ
51を介して接続されている。また、前記センサ部21
の複数の下部電極22の端部もボンディングワイヤ51
を介してICチップ31にそれぞれ接続されている。
A plurality of IC chips 31 for driving the sensor section 21 are mounted on the insulating substrate 11, and external connection wiring 41 consisting of clock wiring, sensor output wiring, etc. is formed. The external connection wiring 41 connects the IC chip 31
are connected to input terminals or output terminals corresponding to the respective external connection wiring lines 41 via bonding wires 51, respectively. Further, the sensor section 21
The ends of the plurality of lower electrodes 22 are also connected to the bonding wires 51.
are respectively connected to the IC chip 31 via.

上述した密着型イメージセンサの製造に際し、ICチッ
プ31を実装できる絶縁基板11の長さは装置の制約上
最大でも約300mmであるため、−枚の絶縁基板で形
成できる密着型イメージセンサの長さには限界があった
When manufacturing the above-mentioned contact type image sensor, the maximum length of the insulating substrate 11 on which the IC chip 31 can be mounted is approximately 300 mm due to equipment constraints. had its limits.

そこで、図面等の特に大きな原稿(例えば、日本工業規
格A列0番)を読み取る密着型イメージセンサを製造す
るには、複数個の密着型イメージセンサを絶縁基板の数
倍の長さの長尺基板の上に互いに接続して配設すること
より成る接続センサとする必要があった。
Therefore, in order to manufacture a contact image sensor that reads particularly large manuscripts such as drawings (e.g. Japanese Industrial Standards Column A, No. 0), multiple contact image sensors must be connected to a long sheet several times the length of the insulating substrate. It was necessary to provide a connected sensor consisting of interconnected sensors arranged on a substrate.

(発明が解決しようとする問題点) 接続センサを製造する場合、複数個の密着イメージセン
サに形成されたセンサ部を湿気等の外的要因から保護す
るために、その上面に保護樹脂を塗布している。
(Problem to be Solved by the Invention) When manufacturing a connected sensor, a protective resin is applied to the top surface of the sensor part formed on the plurality of contact image sensors in order to protect it from external factors such as moisture. ing.

しかしながら、保護樹脂を塗布する部分が長くなるため
、保護樹脂の性格上その上面が波打つ「うねり」が生じ
てしまい高精度な接続センサが得られないという問題点
があった。また、それぞれの密着イメージセンサの接続
部分において表面張力により保護樹脂が盛り上がってし
まい、そのためセンサ部に膜厚差が生じることにより光
路差が変化し、センサ部によって得られた像がぼけてし
まうという問題点があった。
However, since the portion to which the protective resin is applied is long, the upper surface of the protective resin becomes undulating, resulting in a problem in that a highly accurate connected sensor cannot be obtained. In addition, the protective resin bulges due to surface tension at the connecting parts of each close-contact image sensor, resulting in a film thickness difference in the sensor part, which changes the optical path difference and blurs the image obtained by the sensor part. There was a problem.

本発明は上記実情に鑑みてなされたもので、センサ部の
膜厚の均一化を図り、センサ部の接続部分において高精
度な長尺接続イメージセンサを提供することを目的とす
る。
The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and an object of the present invention is to provide a long connected image sensor with high precision in the connecting portion of the sensor portion by making the film thickness of the sensor portion uniform.

(問題点を解決するための手段) 上記従来例の問題点を解消するため本発明に係る長尺接
続イメージセンサは、接続センサを支持する支持板と、
この支持板上に設けた長尺ベースガラスと、この長尺ベ
ースガラス上に互いに接続して配設された複数のセンサ
基板と、この複数のセンサ基板上面に形成された各セン
サ部を保護樹脂を介して被覆する一枚の保護ガラスによ
って構成する。
(Means for Solving the Problems) In order to solve the problems of the conventional example, the long connected image sensor according to the present invention includes a support plate that supports the connected sensor,
A long base glass provided on this support plate, a plurality of sensor substrates connected to each other on this long base glass, and each sensor part formed on the top surface of the plurality of sensor substrates are covered with a protective resin. Consists of a single piece of protective glass that is covered through.

(作用) 本発明によれば、センサ部上面に保護ガラスを配置した
ので、センサ部の保護樹脂の膜厚の均一イヒを図ること
ができる。
(Function) According to the present invention, since the protective glass is disposed on the upper surface of the sensor section, it is possible to ensure uniform thickness of the protective resin on the sensor section.

(実施例) 本発明の一実施例について図面を参照しながら説明する
(Example) An example of the present invention will be described with reference to the drawings.

この長尺接続イメージセンサは、第1図に平面図、第2
図に第1図の1−1′線断面図を示す如く、接続センサ
を支持する長さが1m程度の支持板101上に構成する
This long connected image sensor is shown in Fig. 1 as a plan view and in Fig. 2 as a plan view.
As shown in the cross-sectional view taken along the line 1-1' in FIG. 1, the sensor is constructed on a support plate 101 having a length of about 1 m to support the connected sensor.

この支持板101上には、支持板101とほぼ同一長さ
を有しコーニング社製7059ガラスで形成する長尺ベ
ースガラス102が配置されており、この長尺ベースガ
ラス102上に互いに接続して配設された複数のセンサ
基板103が設けられている。
On this support plate 101, a long base glass 102 having almost the same length as the support plate 101 and made of 7059 glass manufactured by Corning Corporation is arranged. A plurality of sensor substrates 103 are provided.

センサ基板103は、コーニング社製7059ガラスの
絶縁基板104上に光電変換部を形成するセンサ部10
5と、このセンサ部105を駆動するためのICチップ
106を複数配設するガラスエポキシ基板107と、こ
のガラスエポキシ基板107を前記センサ部105の側
方に配置させるためのベースガラス108から成る。
The sensor substrate 103 includes a sensor section 10 in which a photoelectric conversion section is formed on an insulating substrate 104 made of 7059 glass manufactured by Corning Inc.
5, a glass epoxy substrate 107 on which a plurality of IC chips 106 for driving the sensor section 105 are arranged, and a base glass 108 for disposing the glass epoxy substrate 107 on the side of the sensor section 105.

ベースガラス108は長尺ベースガラス102と同一素
材であるコーニング社製7059ガラスで形成され、そ
の中央部にセンサ部105を形成した絶縁基板104を
接着すると共に、センサ部105を挟持するようにガラ
スエポキシ基板107が配置している。ガラスエポキシ
基板107には、ICチップ106へ各種信号の供給を
行なう外部接続用配線が形成されている。またガラスエ
ポキシ基板107の一側には、開口部109と可撓性を
有する首部110とが長手方向に交互に形成されると共
に、開口部109とガラスエポキシ基板107の側辺と
を通じさせるスリット111を設け、このスリット11
1間に方形状のICチップ実装部112を形成している
。そして、このICチップ実装部112に複数のICチ
ップ106が実装される。ICチップ実装部112の下
面のみ前記ベースガラス108に接着することによりガ
ラスエポキシ基板107をセンサ部105の両側に位置
させている0以上のようにガラスエポキシ基板107に
開口部109及び首部110等を設けたこと及びガラス
エポキシ樹脂をICチ・yプ実装部112の下面のみに
限定したのは、センサ部105を形成したガラス製の絶
縁基板104とガラスエポキシ基板107との熱膨張係
数が異なるために生じる両者間の応力を吸収するためで
ある。
The base glass 108 is made of 7059 glass manufactured by Corning, which is the same material as the long base glass 102. An insulating substrate 104 on which the sensor section 105 is formed is bonded to the center of the base glass 108, and the glass is attached so as to sandwich the sensor section 105. An epoxy board 107 is arranged. External connection wiring for supplying various signals to the IC chip 106 is formed on the glass epoxy substrate 107 . Further, on one side of the glass epoxy substrate 107, openings 109 and flexible necks 110 are formed alternately in the longitudinal direction, and slits 111 are formed to allow the openings 109 and the sides of the glass epoxy substrate 107 to communicate. This slit 11
A rectangular IC chip mounting portion 112 is formed between them. Then, a plurality of IC chips 106 are mounted on this IC chip mounting section 112. By bonding only the lower surface of the IC chip mounting section 112 to the base glass 108, the glass epoxy substrate 107 is positioned on both sides of the sensor section 105.An opening 109, a neck section 110, etc. are formed in the glass epoxy substrate 107 as described above. The reason why the glass epoxy resin was provided only on the lower surface of the IC chip mounting part 112 was because the thermal expansion coefficients of the glass insulating substrate 104 on which the sensor part 105 was formed and the glass epoxy substrate 107 were different. This is to absorb the stress that occurs between the two.

ICチップ106のセンサ側のパッド部は、ボンディン
グワイヤ113aを介してセンサ部105に接続される
と共に、ICチップ106の外側のパッド部は、ボンデ
ィングワイヤ113bを介してガラスエポキシ基板10
7に形成した外部接続用配線に接続されることによりセ
ンサ1105の駆動を行なっている。
A pad portion on the sensor side of the IC chip 106 is connected to the sensor portion 105 via a bonding wire 113a, and a pad portion on the outside of the IC chip 106 is connected to the glass epoxy substrate 10 via a bonding wire 113b.
The sensor 1105 is driven by being connected to the external connection wiring formed in 7.

支持板101上に並設されたセンサ基板103には、そ
の全てのセンサ部105を覆うように、コーニング社製
7059ガラスで形成し支持板101の長手方向に長い
一枚の保護ガラス114を、保護樹脂200を介して配
置している。保護ガラス114は、湿気等による外的要
因からセンサ部105が劣化しないよう設けたものであ
る。また、保護ガラス114があることにより保護樹脂
200がセンサ基板103の繋ぎ目部分で凸状になるの
を防止して保護樹脂200の膜厚の均一化を図っている
。その結果、複数のセンサ基板103を接続してセンサ
部105を長尺に形成したにもかかわらず、接続部にお
いても解像度が低下しないセンサ部を得ることができる
A piece of protective glass 114 made of Corning 7059 glass and long in the longitudinal direction of the support plate 101 is attached to the sensor substrates 103 arranged in parallel on the support plate 101 so as to cover all the sensor parts 105. It is arranged with a protective resin 200 interposed therebetween. The protective glass 114 is provided to prevent the sensor section 105 from deteriorating due to external factors such as moisture. Further, the presence of the protective glass 114 prevents the protective resin 200 from becoming convex at the joint portion of the sensor substrate 103, thereby making the film thickness of the protective resin 200 uniform. As a result, even though a plurality of sensor substrates 103 are connected to form a long sensor section 105, it is possible to obtain a sensor section in which the resolution does not deteriorate even at the connection section.

また、ICチップ106上には、ICチップ106を保
護するためのIC保護レジン115が装着されると共に
、センサ部105上にはセンサ保護レジン116が装着
されている。
Further, an IC protection resin 115 for protecting the IC chip 106 is mounted on the IC chip 106, and a sensor protection resin 116 is mounted on the sensor section 105.

センサ部105の両側に配設したガラスエポキシ基板1
07上には、それぞれ間隔をおいて角状のSlゴム11
7を配置し、一端が止め具118で支持板101に固定
されるステンレス製の押え板119により前記Slゴム
117を支持板101方向に押圧して、支持板101に
長尺ベースガラス102を圧着させている。
Glass epoxy substrate 1 arranged on both sides of sensor section 105
07, square-shaped Sl rubber 11 are spaced apart from each other.
7, and press the Sl rubber 117 in the direction of the support plate 101 using a stainless steel press plate 119 whose one end is fixed to the support plate 101 with a stopper 118 to press the long base glass 102 to the support plate 101. I'm letting you do it.

次に本発明に係る長尺接続イメージセンナの製造プロセ
スについて第3図(a>乃至(」)を参照しながら説明
する。
Next, the manufacturing process of the long connected image sensor according to the present invention will be explained with reference to FIGS.

第3図(a)に示すコーニング社製7059ガ、 ラス
で形°成した絶縁基板104上に、蒸着法によってクロ
ム薄膜を着膜した後、フォトリソエツチングプロセスに
より二列に並んだ複数の下部電極22としてのCrパタ
ーンを形成する(第3図(b))。
After a thin chromium film is deposited by vapor deposition on an insulating substrate 104 made of Corning 7059 glass shown in FIG. 3(a), a plurality of lower electrodes arranged in two rows are formed by a photolithography process. A Cr pattern 22 is formed (FIG. 3(b)).

絶縁基板104上のCrパターンを形成した面の両端部
分は、センサを製造する上で微細加工のできない部分な
ので、後に切断するため絶縁基板104の端部から適宜
距離の位置に、ガラス切断の際に用いられる超鋼ロール
でスクライブ溝120を設けておく(第3図(c))。
Both ends of the surface on which the Cr pattern is formed on the insulating substrate 104 cannot be microfabricated when manufacturing the sensor. A scribe groove 120 is provided in a cemented carbide roll used in the manufacturing process (FIG. 3(c)).

次に、下部電極22を覆うように光電変換層をアモルフ
ァスシリコンの着膜により形成し、更に光電変換層を覆
い前記下部電極22に対応する位置となるように透光性
の上部電極を酸化インジウム・スズの着膜及びフォトリ
ソエツチングプロセスにより形成する。そして、絶縁基
板104を分割してベースガラス108に接着する大き
さのセンサ部105を得る(第3図(d)’)。
Next, a photoelectric conversion layer is formed by depositing an amorphous silicon film so as to cover the lower electrode 22, and a transparent upper electrode is formed using indium oxide to cover the photoelectric conversion layer and correspond to the lower electrode 22. - Formed by tin film deposition and photolithography process. Then, the insulating substrate 104 is divided to obtain a sensor section 105 having a size to be adhered to the base glass 108 (FIG. 3(d)').

上記のように得られた長方形状のセンサ部105を、コ
ーニング社製7059ガラスで形成した方形状のベース
ガラス108上にUV硬化法により接着する。接着する
に際し、絶縁基板104に設けた前記スクライブ溝12
0の部分がベースガラス108の両端より外側に位置す
るようになつている(第3図(e))。
The rectangular sensor portion 105 obtained as described above is adhered onto a rectangular base glass 108 made of Corning 7059 glass by UV curing. When bonding, the scribe groove 12 provided in the insulating substrate 104
The portion marked 0 is located outside both ends of the base glass 108 (FIG. 3(e)).

センサ部105の両側面のベースガラス108上に・ガ
ラスエポキシ基板107を熱硬化性両面テープにより′
接着する。ベースガラス108とガラスエポキシ基板1
07の接着面は、上述したように、ガラスエポキシ基板
107のICチップ実装部112の下面のみとし、ガラ
スエポキシ基板107に生じる応力を開口部109で吸
収できるようにしている(第3図(f))。
On the base glass 108 on both sides of the sensor section 105, attach the glass epoxy substrate 107 with thermosetting double-sided tape.
Glue. Base glass 108 and glass epoxy substrate 1
As described above, the bonding surface of 07 is only the lower surface of the IC chip mounting portion 112 of the glass epoxy substrate 107, so that the stress generated in the glass epoxy substrate 107 can be absorbed by the opening 109 (Fig. )).

次に、ガラスエポキシ基板107のICチップ実装部1
12に複数のICチップ106を実装して並設する。そ
して、絶縁基板i04の端部近傍に引き出された下部電
極22とICチップ106のパッド間及び、ガラスエポ
キシ基板107の外部接続用配線とICチップ106の
パッド間をボンディングワイヤにより接続し、ICチッ
プ106及びボンディングワイヤをIC保護用レジン1
15によって覆う(第3図(g))。
Next, the IC chip mounting portion 1 of the glass epoxy substrate 107 is
A plurality of IC chips 106 are mounted on 12 and arranged in parallel. Then, bonding wires are used to connect between the lower electrode 22 drawn out near the end of the insulating substrate i04 and the pads of the IC chip 106, and between the external connection wiring of the glass epoxy substrate 107 and the pads of the IC chip 106. 106 and bonding wire with IC protection resin 1
15 (Fig. 3(g)).

絶縁基板104の両端部を、センサ部105上面より突
出する「ばり」がでないように前記スクライブ溝120
に沿って切断する。以上のプロセスによって、長尺接続
イメージセンサの一片をなすセンサ基板103を得る(
第3図(h))。
The scribe grooves 120 are formed on both ends of the insulating substrate 104 so that there are no "burrs" protruding from the upper surface of the sensor section 105.
Cut along. Through the above process, the sensor substrate 103 that forms one piece of the long connected image sensor is obtained (
Figure 3 (h)).

このようにして得られた四枚のセンサ基板103を、コ
ーニング社製7059ガラスで形成した長尺ベースガラ
ス102上にセンサ部105上面が連続するようにUv
硬化法により接着する(第3図(i))。
The four sensor substrates 103 obtained in this way are placed on a long base glass 102 made of Corning 7059 glass so that the upper surface of the sensor part 105 is continuous.
Adhesion is performed by a curing method (Fig. 3(i)).

長尺に連続したセンサ部105の上面にシリコン樹脂を
流し、その上にコーニング社製7059ガラスで形成し
た保護ガラス114を配置して、センサ部105と保護
ガラス114とを接着する。
A silicone resin is poured onto the upper surface of the long and continuous sensor section 105, and a protective glass 114 made of Corning 7059 glass is placed on top of the silicone resin, and the sensor section 105 and the protective glass 114 are bonded together.

そして、センサ基板103が接着された長尺ベースガラ
ス102を、アルミニウムで形成された支持板101上
に配置して接続センサを得る(第3図(j))。長尺ベ
ースガラス102と支持板101とは接着するのでなく
、センサ基板103のガラスエポキシ基板107上に設
けたStゴム117を、ステンレスで形成した押え板1
19で押圧することにより、長尺ベースガラス102を
支持板101に圧接している。
Then, the long base glass 102 to which the sensor substrate 103 is adhered is placed on the support plate 101 made of aluminum to obtain a connected sensor (FIG. 3(j)). The elongated base glass 102 and the support plate 101 are not bonded together, but the St rubber 117 provided on the glass epoxy substrate 107 of the sensor substrate 103 is replaced by a presser plate 1 made of stainless steel.
By pressing with 19, the elongated base glass 102 is pressed against the support plate 101.

従って、温度変化によりアルミニウムで形成した支持板
101に対して長尺ベースガラス102が伸縮した場合
においても、長尺ベースガラス102は支持板101上
を滑るので、ストレスやそりを発生させない。
Therefore, even when the elongated base glass 102 expands and contracts with respect to the support plate 101 formed of aluminum due to a temperature change, the elongated base glass 102 slides on the support plate 101, so that no stress or warpage occurs.

また、本実施例では長尺ベースガラス102、センサ基
板102、ベースガラス108、保護ガラス114をす
べて同一素材であるコーニング社製7059ガラスで形
成したので、周囲の熱変化に対して長尺ベースガラス1
02等が同じように膨張するので、センサ基板103の
接続部に応力が集中することがなくセンサ部105の端
画素が壊れることがない。
Furthermore, in this embodiment, the long base glass 102, the sensor substrate 102, the base glass 108, and the protective glass 114 are all made of the same material, Corning 7059 glass, so that the long base glass 1
02 and the like expand in the same way, stress will not be concentrated on the connection portion of the sensor substrate 103, and the end pixels of the sensor portion 105 will not be damaged.

(発明の効果) 上述したように本発明は、複数のセンサ基板を接続して
支持板に配置する接続センサで、センサ基板に形成した
センサ部上面に保護ガラスを配置したので、保護樹脂の
膜厚の均一化を図ることができる。
(Effects of the Invention) As described above, the present invention is a connected sensor in which a plurality of sensor substrates are connected and placed on a support plate, and a protective glass is placed on the upper surface of the sensor portion formed on the sensor substrate, so that the protective resin film is not removed. The thickness can be made uniform.

従って、接続部分近傍のセンサ部においても池のセンサ
部分と同一の特性を維持することができ、高精、度な長
尺接続イメージセンサを得ることができる。
Therefore, it is possible to maintain the same characteristics as the sensor part in the vicinity of the connection part, and it is possible to obtain a highly accurate and precise long connected image sensor.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明実施例の長尺接続イメージセンサを示す
平面図、第2図は第1図の1−1′線断面図、第3図(
a)乃至(J)は実施例の長尺接続イメージセンサの製
造プロセスの説明図、第4図は従来の密着型イメージセ
ンサを示す平面図、第5図は第4図のIV−IV′線断
面図である。 101・・・・・・支持板 102・・・・・・長尺ベースガラス 103・・・・・・センサ基板 107・・・・・・ガラスエポキシ基板108・・・・
・・ベースガラス 114・・・・・・保護ガラス 117・・・・・・Siゴム 119・・・・・・押え板 200・・・・・・保護樹脂 第3図
FIG. 1 is a plan view showing a long connected image sensor according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a sectional view taken along the line 1-1' in FIG. 1, and FIG.
a) to (J) are explanatory diagrams of the manufacturing process of the long connection image sensor of the embodiment, FIG. 4 is a plan view showing a conventional contact type image sensor, and FIG. 5 is a line IV-IV' in FIG. 4. FIG. 101... Support plate 102... Long base glass 103... Sensor substrate 107... Glass epoxy substrate 108...
...Base glass 114...Protective glass 117...Si rubber 119...Press plate 200...Protective resin Fig. 3

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  支持板と、該支持板上に設けた長尺ベースガラスと、
該長尺ベースガラス上に互いに接続して配設された複数
のセンサ基板と、この複数のセンサ基板上面に形成され
た各センサ部を保護樹脂を介して被覆する一枚の保護ガ
ラスと、からなる長尺接続イメージセンサ。
a support plate; a long base glass provided on the support plate;
A plurality of sensor substrates connected to each other and disposed on the elongated base glass, and a single protective glass that covers each sensor portion formed on the upper surface of the plurality of sensor substrates via a protective resin. A long connected image sensor.
JP63035045A 1988-02-19 1988-02-19 Leng size connection image sensor Pending JPH01212064A (en)

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