JPH01199944A - 含ハロゲン化合物の製造方法、及びその化合物からなる難燃剤 - Google Patents

含ハロゲン化合物の製造方法、及びその化合物からなる難燃剤

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JPH01199944A
JPH01199944A JP63024811A JP2481188A JPH01199944A JP H01199944 A JPH01199944 A JP H01199944A JP 63024811 A JP63024811 A JP 63024811A JP 2481188 A JP2481188 A JP 2481188A JP H01199944 A JPH01199944 A JP H01199944A
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halogen
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Akira Yanai
▲あきら▼ 谷内
Hiroto Komori
小森 弘人
Koichi Niwa
浩一 丹羽
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DKS Co Ltd
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Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、含ハロゲン化合物の製造方法、及びその化合
物からなる難燃剤に関するものである。
[従来の技術] 一般にプラスチックスの利用範囲は、高温領域、複合化
、機械的、電気的性質の向上、長期的使用の際の耐候性
の向上部の領域へと拡大している。又その使用範囲も汎
用樹脂からエンジニアリングプラスチックスへと拡大し
ている。
このような状況の中で、イミド結合を有する難燃剤もそ
の耐熱性、物性低下が少ないことから注目されている。
[発’JJが解決しようとする課題] 本発明は、これら含ハロゲンイミド結合を有する化合物
の製造及びその化合物を難燃剤として利用することを目
的とするものである。
[課題を解決するための手段] 本発明は、下記式(1)で示される無水酸と下記式(2
)で示されるイソシアネート化合物を、触媒として三級
アミンの存在下、不活性溶媒中で反応させることを特徴
とする下記式(3)で示される含ハロゲン化合物の製造
方法、及びその化合物からなる難燃剤である。
(式中、R1はBr、・C1,F又は!含有芳香族核又
は脂環族核を示す、以下同じ)。
R2−+NC0)n  ・・・・・・・旧・・・・・(
2)(式中R2は脂肪族系、芳香族系又は脂環族系炭化
水素基を示し、nは1〜4の整数を示す、以下同じ)、 と同じ、以下同じ)。
本発明に使用する式(1)で示す無水酸は、たとえばテ
トラクロル無水フタール酸、テトラブロム無氷フタール
酸、テトラフルオロ無水フタール酸、テトラヨード無水
フタール酸、ジブロモテトラハイドロ無水フタール酸、
ジクロロテトラl\イドロ無水フタール酸、無水クロロ
エンド酸、無水ブロモエンド酸、ジブロモ無水フタール
酸、ジクロロ無水フタール酸等である。
また式(2)で示すイソシアネート化合物は、たとえば
1,6へキサメチレンジイソシアネート、トルエンジイ
ソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、イ
ンホロンジイソシアネート。
フェニルイソシアネート、ジアニシジンイソシアネート
、水素添加ジフェニルメタンジイソシアネート、パラク
ロルフェニルイソシアネート、ジクロルフェニルイソシ
アネート、エチルイソシアネート、トリフェニルメタン
トリイソシアネート、トリメチレンテトラフェニルイソ
シアネー)、4.4’、4  ″   ト  リ  メ
 チ ル 3.3’、3  ”  −トリイソシアネー
)、2,4.6−トリフェニルイソシアネート、水素添
加トルエンジイソシアネート、キシレンジイソシアネー
ト、ポリメチレンポリフェニルイソシアネート等である
次に触媒として使用する三級アミンは、たとえば、トリ
エチルアミン、トリブチルアミン、ジメチルアニリン、
トリアリルアミン、トリオクチルアミン、ジメチルベン
ジルてミン、ラウリルジメチルアミン、ピリジン、ピコ
リン等である。
次に本発明に使用する不活性溶媒は、たとえば、キシレ
ン、トルエン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド、ベンゼン、シクロヘキサン、ジメチルスルホオ
キシド等であり、これらの二種以上の混合物でも使用出
来る。
未発IJJにかかる式(3)で示される含ハロゲン化合
物の製造方法は、上記の式(1)で示される無水酸と式
(2)で示されるイソシアネートを、触媒として三級ア
ミンの存在下、不活性溶媒中で反応させるものである。
本反応を式で示すと、次のようになる。
\ / 本反応において、使用する式(1)で示す無水酸と式(
2)で示すイソシアネート化合物のモル比は式(2)で
示すイソシアネート化合物のイソシアネート基1モルに
対し1式(+)で示す無水酸1〜1.1モルが適当であ
る。
また、触媒として使用する三級アミンは、式(1)で示
す無水酸と式(2)で示すイソシアネート化合物の合計
量に対し、0.01−10重量%使用する。また本反応
は、一般に不活性溶媒な使用するが、その使用量は式(
+)で示す無水酸と式(2)で示すイソシアネート化合
物の合計量の1倍量〜10倍量用いる。
次に本反応の具体的操作法としては、最初に不活性溶媒
に式(1)で示す無水酸を溶解し、さらに触媒として三
級アミンを加えた後1式(2)で示すイソシアネート化
合物を滴下する方法等が挙げられる。この時の反応温度
は、50〜150℃が、また反応時間は3〜10時間が
、それぞれ適当である。
さらに1本発明にがかる難燃剤は、上記で得られた式(
3)で示される含ハロゲン化合物を難燃化成分として含
有するものである。
これらの難燃剤は、汎用の合成樹脂(例えば、ポリスチ
レン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、A
BS樹脂、アクリル系樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリフェ
ニレンオキシド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミ
ド樹脂、飽和又は不飽和ポリエステル樹脂、メラミン樹
脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等)、エンジニアリ
ングプラスチック等の難燃剤、さらに水分散体として使
用するMl m用、紙、ゴム等の難燃剤として優れてい
る。またこれらの難燃剤は、他のハロゲン系及び/又は
リン系難燃剤、難燃化樹脂(例えば、ブロム化エボ午シ
樹脂、ポリブロム化スチレン、含リンポリエステル、塩
素化ポリエチレン等)と併用しても優れた難燃性を発揮
する。
さらに、これらの難燃剤は、使用においては適宜酸化防
止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、帯電防止剤、無機
充填剤、溶剤、可塑剤、結晶核剤、顔料等との併用も可
能である。
難燃剤の添加量は、適宜選択されるものであるが好まし
くは0.2〜30重量%が適当である。
また添加方法は、任意であるが例えば、本発明の難燃剤
をそのままの形態、又は溶媒に溶解させた形態、又は水
中もしくは油類中に分散せしめたエマルジョンの形態で
惰加する方法が挙げられる。
[作用] 本発明に従えば1式(3)で示される含ハロゲン化合物
が、高収率で得られる。
さらに得られる式(3)で示される含ハロゲン化合物は
、燃焼性物質に対して優れた難燃性を付与すると同時に
、耐熱性が大で耐候性も優れている。
[実施例] 次に本発明を、実施例にノ、(づいて説明するが、本発
明はかかる実施例のみに限定されるものではない。
実施例1゜ 攪拌機、冷却コンデンサー、温度計、a下ロートを有す
る四ツロフラスコ中に、テトラブロモ無水フタール酸9
2.8gとキシレン200g、ジメチルホルムアミド1
00gを加え80℃に加熱攪拌溶解させた後、トリエチ
ルアミン3gを加えた。
次いで滴下ロートよりヘキサメチレンジイソシアネート
16.8gを加える。
滴下完了後、120℃で8時間反応させた後、減圧にて
溶媒を留去する。
生成物を80℃の温水で1回洗浄後、水200m1に2
8%アンモニア水20gを加えたものを入れ生成物を洗
浄後、水洗濾別乾燥し、式(3)に示される化合物91
g (収率90.%)を得た。
(式(3)に示される化合物の構造式)(分析イ4、注
()内は計算値、以下同じ)Br%、64.3(64,
0)、 N% i  2.7(2,8)、 0% ;26.8(26,4)、 0% ;  6.5(6,4)、 H% 、  1.2(1,2)。
(DTA分析) 10%減量;384℃、 50%減量;416℃、 実施例2゜ 実施例1と同様の装置に無水ヘット酸(無水クロロエン
ド酸)74.2g、キシレン200 gtジメチルホル
ムアミド200gを加え、80〜90℃に加熱し、溶解
後トリエチルアミン5gを加えた後、ヘキサメチレンジ
イソシアネート16゜8gを加える。ヘキサメチレンジ
イソシアネートの滴下完了後、120〜130℃で6時
間反応後渡圧にて溶媒を留去し、生成物をア七トン20
0m1により洗浄後乾燥し1式(3)に示される化合物
7g、5g(収率95.5%)を得た。
(式(3)に示される化合物の構造式)l I R2= −−CH2(6、n = 2 (分析値) C1%、52.10 (51,80)。
N% 、  2.85(2,92)、 0% ;34.61 (35,00)。
0% ;  7.71(7,79)。
H% 、  1.25(1,21)、 (DTA分析) 10%減量;335℃ 50%減r、t ; 460℃ 実施例3゜ 実施例1と同様の装置にテトラブロモ無水フタール酸9
2.8gとキシレン200g、ジメチルアセトアミド1
00gを加え系内をN2ガスにより置換後70℃で加熱
溶解後、トリエチルアミン3.5gを加えた。
次いで滴下ロートより水素添加ジフェニルメタンジイソ
シアネー)j5.8gを加えた0滴下完了後、125〜
130℃でlO時間反応後溶媒を留去し、生成物を60
℃の熱水で洗浄後濾別し、次いで2%苛性ソーダ水40
0gを加え洗浄後、水洗濾別乾燥し、式(3)に示され
る化合物98゜6g(収率89.8%)を得た。
n=2、 (分析値) Br%:59.00 (58,31) N% ;  2.51(2,55) 0% ;31.20 (31,69) 0%  、   5.78(5,82)N%  ;  
 1.98(2,00)(DTA分析) 10%減量;313℃ 50%減量;370℃ 実施例4゜ 実施例1と同じ装置にテトラブロモ無水フタール酸92
.8gとキシレン210g、ジメチルホルムアミド90
gを加え80℃で加熱溶解後ジメチルベンジルアミン2
gを加えた後、2.6トルエンジイソシアネート12.
4gを滴下ロートより滴下する0滴下終了後125〜1
30℃で8時間反応後溶媒を溜去する。生成物を50℃
の温水で2回洗浄後5%アンモニア水で洗浄後、水洗乾
燥し、式(3)に示される化合物88.8g (収率9
2.1%)を得た。
(分析値) Br % 、66.10  (66,39)N%  、
   2.87(2,90)0%  ;28.70  
(28,63)0%  ;    6.66(6,64
)N%  ;   0.60(0,62)(DTA分析
) l 0%減量 ; 365℃ 50%減量;500℃ 比較例1゜ 攪拌機、冷却コンデンサー、温度計、滴下ロートを有す
る四ツ目フラスコ中にテトラブロモ無水フタール酸92
.8gとキシレン200g、ジメチルホルムアミド10
0gを加え80℃で加熱−溶M’&、ヘキサメチレンジ
アミン11.6gを加えた後130〜140℃にて6時
間加8攪拌し、反応水をタラップにより分離し反応水量
4.0gを除去する。その後、溶媒を減圧留去した後、
メタノール300m1を加え洗nl11!別する。さら
に水200 m lに28%アンモニア水20gを加え
たものにより洗浄、水洗し、濾別乾燥後生成物88g(
収率88%)を得た。
(分析値) Br%、64.1 (64,0) N %;  2.5(2,8) C%;26.6(26,4) 0 %、  6.3(6,4) H%;  1.1(1,2) (DTA分析) 10%減量;398℃ 50%減琶:420℃ 実施例5゜ ハイインパクトポリスチレン(エスチレン165)10
01’f′llに、実施例1〜4で得られた各々の式(
3)で示される化合物15i’i1.三酸化アンチモン
5部を、熱ロールにより200℃で5分混練りした後、
さらに210℃で2分熱プレスし成形した。成形物につ
いてUL−94,1/16″厚さの試料について燃焼試
験を実施した。
同様にして比較例1の生成物も試験した。
尚、何れもドリッピングは認められなかった。
[発明の効果] 未発11に従えば、優れた難燃性を付与すると同時に、
耐熱性が大で、耐候性も優れた式(3)で示される各種
の含ハロゲン化合物が高収率で得られることから、これ
ら含ハロゲンイミド結合を有する化合物の難燃剤として
の利用分野が増大するものと考えられる。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)、下記式(1)で示される無水酸と下記式(2)
    で示されるイソシアネート化合物を、触媒として三級ア
    ミンの存在下、不活性溶媒中で反応させることを特徴と
    する下記式(3)で示される含ハロゲン化合物の製造方
    法。 ▲数式、化学式、表等があります▼………………(1) (式中、R_1はBr、Cl、F又はI含有芳香族核又
    は脂環族核を示す。)、 ▲数式、化学式、表等があります▼……………(2) (式中R_2は脂肪族系、芳香族系又は脂環族系炭化水
    素基を示し、nは1〜4の整数を示す)、▲数式、化学
    式、表等があります▼………………(3) (式中、R_1、R_2及びnは上記式(1)及び(2
    )と同じ)。
  2. (2)、請求項1記載の式(3)で示される含ハロゲン
    化合物からなる難燃剤。
JP63024811A 1988-02-03 1988-02-03 含ハロゲン化合物の製造方法、及びその化合物からなる難燃剤 Pending JPH01199944A (ja)

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IL8910489A IL89104A (en) 1988-02-03 1989-01-27 A method for producing compounds that contain an affinity bond and flame retardants that contain them
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