JPH01189623A - 複数ビーム走査装置 - Google Patents
複数ビーム走査装置Info
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- JPH01189623A JPH01189623A JP63015238A JP1523888A JPH01189623A JP H01189623 A JPH01189623 A JP H01189623A JP 63015238 A JP63015238 A JP 63015238A JP 1523888 A JP1523888 A JP 1523888A JP H01189623 A JPH01189623 A JP H01189623A
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- Japan
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- light
- semiconductor laser
- emitted
- prism
- light source
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- Pending
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 26
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 11
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 241000270281 Coluber constrictor Species 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- OQZCSNDVOWYALR-UHFFFAOYSA-N flurochloridone Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(N2C(C(Cl)C(CCl)C2)=O)=C1 OQZCSNDVOWYALR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 1
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- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[技術分野]
本発明は、複数個の半導体レーザーより成る光源部から
の光束を、所定の方向に偏向する偏向器を備えた複数ビ
ーム走査装置に関するものである。
の光束を、所定の方向に偏向する偏向器を備えた複数ビ
ーム走査装置に関するものである。
[従来技術]
従来、特開昭51−158251号に見られる様に、半
導体レーザーの光出力部を複数個並べた、いわゆる半導
体レーザーアレイを使用して走査線ピッチを密にしよう
とする装置においては、半導体レーザーアレイの方向を
走査線に対して直交する方向でなく斜めに傾ける必要か
ある。この様な半導体レーザーアレイからの各光束はア
レイの端面の法線方向の光線を中心光線として発散する
。
導体レーザーの光出力部を複数個並べた、いわゆる半導
体レーザーアレイを使用して走査線ピッチを密にしよう
とする装置においては、半導体レーザーアレイの方向を
走査線に対して直交する方向でなく斜めに傾ける必要か
ある。この様な半導体レーザーアレイからの各光束はア
レイの端面の法線方向の光線を中心光線として発散する
。
第2図は従来の複数ビーム走査装置の一例を示す図であ
る。
る。
1は複数の光出力部(la、lb)を有する半導体レー
ザー装置で、半導体レーザー装置1内に設c3られた複
数の光出力部1a、lbからコリメーターレンズ2によ
り、各発光部の中心光線ha、h、が出射する。、これ
らの中心光線は集光レンズ2の焦点Fを通り、シリンド
リカルレンズ3を通過した後、偏向器4の偏向ミラー4
a上に到達する。このとき、各光出力部1a、lbから
の中心光線り、、hbは偏向ミラー面4a上にて、偏向
ミラーによる光束の偏向方向に互いに離れた位置て反射
される。
ザー装置で、半導体レーザー装置1内に設c3られた複
数の光出力部1a、lbからコリメーターレンズ2によ
り、各発光部の中心光線ha、h、が出射する。、これ
らの中心光線は集光レンズ2の焦点Fを通り、シリンド
リカルレンズ3を通過した後、偏向器4の偏向ミラー4
a上に到達する。このとき、各光出力部1a、lbから
の中心光線り、、hbは偏向ミラー面4a上にて、偏向
ミラーによる光束の偏向方向に互いに離れた位置て反射
される。
シリンドリカルレンズ3は、各光出力部1a。
1bから出射して、集光レンズ2を通過した光束をミラ
ー面4aの近傍に線像として形成する。
ー面4aの近傍に線像として形成する。
偏向ミラー面4aて反射した光束はアナモフィック走査
レンズ系5によって例えは感光体の如き被走査媒体60
表面上に結像される。
レンズ系5によって例えは感光体の如き被走査媒体60
表面上に結像される。
第3図は半導体レーサーの発光分布を示し、7は半導体
レーサーの接合面の方向で、8は半導体レーザーの接合
面方向に垂直な方向を示している。
レーサーの接合面の方向で、8は半導体レーザーの接合
面方向に垂直な方向を示している。
そうして、接合面7の方向の拡がり角を011、接合面
と垂直な方向8の拡かり角を02とすると、一般にθ1
1と02は1:3の比率となっている。第3図はその半
値全中を示す。半導体レーザーの光量を有効に利用しよ
うとすると、接合面と垂直な方向の拡がり角θ2に合せ
て、コリメーターレンズ2のFNOを設定しなければな
らない。
と垂直な方向8の拡かり角を02とすると、一般にθ1
1と02は1:3の比率となっている。第3図はその半
値全中を示す。半導体レーザーの光量を有効に利用しよ
うとすると、接合面と垂直な方向の拡がり角θ2に合せ
て、コリメーターレンズ2のFNOを設定しなければな
らない。
上述した様に、半導体レーザーからの光束の光量分布は
楕円分布となっている為、コリメーターレンズ2から出
射したビームの断面形状は、偏向面に垂直な方向に長軸
を持つ楕円分布となる。この為、被走査媒体上で偏向面
内と、該偏向面に垂直な方向でのFナンバーをほぼ等し
くする為には、シリンドリカルレンズの焦点距離を長く
しなけれはならない。その為に、シリンドリカルレンズ
3と偏向器4との間隔を大きく取らねばならなくなり、
偏向ミラー4a上での中心光線り、、h、の間隔か大き
く離れてしまう。又、被走査媒体6上での偏向方向のビ
ームスポット径を定める為に、コリメーターレンズの0
1.方向の焦点叩頭1を定めなければならない。
楕円分布となっている為、コリメーターレンズ2から出
射したビームの断面形状は、偏向面に垂直な方向に長軸
を持つ楕円分布となる。この為、被走査媒体上で偏向面
内と、該偏向面に垂直な方向でのFナンバーをほぼ等し
くする為には、シリンドリカルレンズの焦点距離を長く
しなけれはならない。その為に、シリンドリカルレンズ
3と偏向器4との間隔を大きく取らねばならなくなり、
偏向ミラー4a上での中心光線り、、h、の間隔か大き
く離れてしまう。又、被走査媒体6上での偏向方向のビ
ームスポット径を定める為に、コリメーターレンズの0
1.方向の焦点叩頭1を定めなければならない。
第4図は第2図に示す走査装置の偏向器4と被走査媒体
6との間の光学系を、第2図とは直交する面内から見た
図である″。第4図に示す如く、偏向器の倒れによる影
響が発生する面内ては、走査レンズ5に関して偏向ミラ
ー面4aの近傍の点と被走査媒体6の面とを光学的に共
役な関係に保つことにより、偏向器の倒れによる影響を
除去している。
6との間の光学系を、第2図とは直交する面内から見た
図である″。第4図に示す如く、偏向器の倒れによる影
響が発生する面内ては、走査レンズ5に関して偏向ミラ
ー面4aの近傍の点と被走査媒体6の面とを光学的に共
役な関係に保つことにより、偏向器の倒れによる影響を
除去している。
走査レンズ5は、第2図に示す面内と第4図に示す面内
とてはパワーの異なるアナモフィックな結像レンズで、
例えば球面レンズ5aとトーリックレンズ5bとによっ
て構成される。
とてはパワーの異なるアナモフィックな結像レンズで、
例えば球面レンズ5aとトーリックレンズ5bとによっ
て構成される。
半導体レーザー装置の各光出力部1aと1bから出射し
た中心光線ha、hhは前述の様に偏向ミラー面4a上
にて互いに離れた位置に入射する。すなわち、シリンド
リカルレンズ3によって形成される線像の中心位置は、
複数の光出力部のうちどれか一つに対応した線像たけは
その中心位置を所望の位置に設置可能であるか、反射面
かそれから大きく離れると、所望の位置から離れるこト
ニする。第4図の破線で示した光路がこの場合の結像の
様子を示すものて、すれた線像の中心位置Pは、所望の
位置からずれ、レンズ系5によって、被走査媒体表面上
に結像されなくなり、被走査媒体表面から離れた点P′
に結像され、いわゆるデフォーカスか発生する。偏向ミ
ラー4が回転すると、そのデフォーカス量はさらに著し
く大きくなり、被走査媒体表面上ての結像スポットは太
きくなってしまう。
た中心光線ha、hhは前述の様に偏向ミラー面4a上
にて互いに離れた位置に入射する。すなわち、シリンド
リカルレンズ3によって形成される線像の中心位置は、
複数の光出力部のうちどれか一つに対応した線像たけは
その中心位置を所望の位置に設置可能であるか、反射面
かそれから大きく離れると、所望の位置から離れるこト
ニする。第4図の破線で示した光路がこの場合の結像の
様子を示すものて、すれた線像の中心位置Pは、所望の
位置からずれ、レンズ系5によって、被走査媒体表面上
に結像されなくなり、被走査媒体表面から離れた点P′
に結像され、いわゆるデフォーカスか発生する。偏向ミ
ラー4が回転すると、そのデフォーカス量はさらに著し
く大きくなり、被走査媒体表面上ての結像スポットは太
きくなってしまう。
[発明が解決しようとしている問題点]本発明の目的は
、上述した欠点を改良し、半導体レーザーアレイの様な
光源を用いても、光源の光量を有効に活用てき、かつ被
走査媒体面上て各々のビームスポットが良好に結像され
る様な走査装置を提供することにある。
、上述した欠点を改良し、半導体レーザーアレイの様な
光源を用いても、光源の光量を有効に活用てき、かつ被
走査媒体面上て各々のビームスポットが良好に結像され
る様な走査装置を提供することにある。
[問題点を解決する為の手段]
本発明に係る複数ビーム走査装置においては、光偏向器
と複数のレーザー光束を発生する光源部との間に、前記
光源部からの光束の偏向走査面と平行な成分の光束径を
拡大させる光学部材を設けることにより、偏向走査面内
における各光束の主光線の広がりを押さえ、偏向ミラー
面上における主光線の間隔の広がりを押さえると共に、
被走査媒体上において走査方向(偏向方向)に短軸を有
する形状の楕円ビームスポットを得やすくする°もので
ある。
と複数のレーザー光束を発生する光源部との間に、前記
光源部からの光束の偏向走査面と平行な成分の光束径を
拡大させる光学部材を設けることにより、偏向走査面内
における各光束の主光線の広がりを押さえ、偏向ミラー
面上における主光線の間隔の広がりを押さえると共に、
被走査媒体上において走査方向(偏向方向)に短軸を有
する形状の楕円ビームスポットを得やすくする°もので
ある。
[実施例]
第1図(A)、(B)、(C)は本発明に係る走査装置
を説明する為の図であり、第1図(A)は装置全体の光
学系を偏向走査面と垂直な方向から見た図、第1図(B
)はa −a’断面でのビームの形状を示す図、第1図
(C)は入射光束の一方の断面を拡大するプリズムの作
用を示す図である。
を説明する為の図であり、第1図(A)は装置全体の光
学系を偏向走査面と垂直な方向から見た図、第1図(B
)はa −a’断面でのビームの形状を示す図、第1図
(C)は入射光束の一方の断面を拡大するプリズムの作
用を示す図である。
第1図(A)において、半導体レーザー11に設りられ
た発光部11a、11bより出た光束は各々第3図に示
すような発光分布てコリメーターレンズ12に入射する
。該コリメーターレンズは偏向面内のFNOか、偏向面
と垂直な面内てのFNOより暗い。コリメーターレンズ
12に入射した光は平行光となフて、第1図(B)に示
すアパーチャ−13を出射する。第1図(B)に示すよ
うに、アバーヂャー13は半導体レーザーの発光分布に
合った形をしているので、半導体レーサーの光束を有効
に利用することが可能である。コリメーターレンズより
出た光束はプリズム14に入射する。第1図(C)に示
すように偏向面内でのビーム径をD 2 / D +で
拡大する。尚、Dlは偏向面内においてプリズム14に
入射するビームの径、D2は同じくプリズム14から出
射されるビームの径である。またこのプリズムを使用す
ることにより、11a、11bより出射した中心光線の
コリメーターレンズ12の光軸よりの角度はプリズム1
4を通ることにより、はぼD1/Dまたけ減少する。
た発光部11a、11bより出た光束は各々第3図に示
すような発光分布てコリメーターレンズ12に入射する
。該コリメーターレンズは偏向面内のFNOか、偏向面
と垂直な面内てのFNOより暗い。コリメーターレンズ
12に入射した光は平行光となフて、第1図(B)に示
すアパーチャ−13を出射する。第1図(B)に示すよ
うに、アバーヂャー13は半導体レーザーの発光分布に
合った形をしているので、半導体レーサーの光束を有効
に利用することが可能である。コリメーターレンズより
出た光束はプリズム14に入射する。第1図(C)に示
すように偏向面内でのビーム径をD 2 / D +で
拡大する。尚、Dlは偏向面内においてプリズム14に
入射するビームの径、D2は同じくプリズム14から出
射されるビームの径である。またこのプリズムを使用す
ることにより、11a、11bより出射した中心光線の
コリメーターレンズ12の光軸よりの角度はプリズム1
4を通ることにより、はぼD1/Dまたけ減少する。
プリズム14より出た光はシリンドリカルレンズ15に
より、偏向器16の反射面16aの近傍に線像として結
像されるが、シリンドリカルレン 。
より、偏向器16の反射面16aの近傍に線像として結
像されるが、シリンドリカルレン 。
ズの焦点距離が短くてよいことと、上記したプリズム1
4の効果により線像の間隔は、第2図に比べてはるかに
減少することができる6反射面16aより反射、偏向さ
れた光束は上述したアナモフィック走査レンズ17によ
り被走査媒体18上に結像され走査される。また偏向面
内に垂直な断面においても、上述した効果のため、結像
位置のズレはピントズレの許容以内におさめることが可
能になった。
4の効果により線像の間隔は、第2図に比べてはるかに
減少することができる6反射面16aより反射、偏向さ
れた光束は上述したアナモフィック走査レンズ17によ
り被走査媒体18上に結像され走査される。また偏向面
内に垂直な断面においても、上述した効果のため、結像
位置のズレはピントズレの許容以内におさめることが可
能になった。
上述した実施例では、偏向器の機械的な倒れを補正する
走査装置について述へたが、本発明はこの様な走査装置
に限らす、偏向器に平行な光ビームを入射させ、偏向器
と被走査媒体との間に球面レンズ系を配した走査装置に
ついても適用可能であることは言うまでもない。
走査装置について述へたが、本発明はこの様な走査装置
に限らす、偏向器に平行な光ビームを入射させ、偏向器
と被走査媒体との間に球面レンズ系を配した走査装置に
ついても適用可能であることは言うまでもない。
又、一方向のビーム径を拡大させる光学素子としては、
プリズムの外によく知られているシリンドリカルレンズ
系を用いても良い。
プリズムの外によく知られているシリンドリカルレンズ
系を用いても良い。
以上説明した様に、複数の発光部を有する半導体レーサ
ーを用い、且つコリメーターレンズのFナンバーを、偏
向走査面内より該面に垂直な方向において明るくし、更
に、コリメーターレンズと偏向器との間に、前記偏向走
査面内でのビーム径を拡大する光学部材を設けることに
より、半導体レーサーアレイの光束を有効に利用出来、
且つ被走査媒体面上での各々のビームスポットが良好な
走査装置か可能になった。
ーを用い、且つコリメーターレンズのFナンバーを、偏
向走査面内より該面に垂直な方向において明るくし、更
に、コリメーターレンズと偏向器との間に、前記偏向走
査面内でのビーム径を拡大する光学部材を設けることに
より、半導体レーサーアレイの光束を有効に利用出来、
且つ被走査媒体面上での各々のビームスポットが良好な
走査装置か可能になった。
第1図(A)、(B)、(C)は本発明に係る走査装置
を説明する為の図、第2図及び第4図は従来の走査装置
を示す図、第3図は複数の発光源を有する半導体レーサ
ーを示す図。 11−m−半導体レーサー、 12−一一コリメーターレンズ、 13−m−アパーチャー、 14−m−プリズム、 15−m−シリントリカルレンズ、 16−−−偏向器、 17−−−アナモフイツク走査レンズ、18−m−被走
査媒体、
を説明する為の図、第2図及び第4図は従来の走査装置
を示す図、第3図は複数の発光源を有する半導体レーサ
ーを示す図。 11−m−半導体レーサー、 12−一一コリメーターレンズ、 13−m−アパーチャー、 14−m−プリズム、 15−m−シリントリカルレンズ、 16−−−偏向器、 17−−−アナモフイツク走査レンズ、18−m−被走
査媒体、
Claims (1)
- (1)複数個の半導体レーザーからの光束を光偏向器で
所定の方向に偏向する複数ビーム走査装置において、 前記光偏向器と複数のレーザー光束を発生する光源部と
の間には、前記光源部からの光束の偏向走査面と平行な
成分の光束径を拡大させる光学部材を設けた事を特徴と
する複数ビーム走査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63015238A JPH01189623A (ja) | 1988-01-25 | 1988-01-25 | 複数ビーム走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63015238A JPH01189623A (ja) | 1988-01-25 | 1988-01-25 | 複数ビーム走査装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01189623A true JPH01189623A (ja) | 1989-07-28 |
Family
ID=11883286
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63015238A Pending JPH01189623A (ja) | 1988-01-25 | 1988-01-25 | 複数ビーム走査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01189623A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0697782A2 (en) * | 1991-05-14 | 1996-02-21 | Seiko Epson Corporation | Image forming apparatus |
-
1988
- 1988-01-25 JP JP63015238A patent/JPH01189623A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0697782A2 (en) * | 1991-05-14 | 1996-02-21 | Seiko Epson Corporation | Image forming apparatus |
US5870132A (en) * | 1991-05-14 | 1999-02-09 | Seiko Epson Corporation | Laser beam scanning image forming apparatus having two-dimensionally disposed light emitting portions |
US6326992B1 (en) | 1991-05-14 | 2001-12-04 | Seiko Epson Corporation | Image forming apparatus |
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