JPH01180349A - 光ビーム記録装置 - Google Patents
光ビーム記録装置Info
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- JPH01180349A JPH01180349A JP437588A JP437588A JPH01180349A JP H01180349 A JPH01180349 A JP H01180349A JP 437588 A JP437588 A JP 437588A JP 437588 A JP437588 A JP 437588A JP H01180349 A JPH01180349 A JP H01180349A
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- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 1
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
- B41J2/447—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using arrays of radiation sources
- B41J2/45—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using arrays of radiation sources using light-emitting diode [LED] or laser arrays
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- Laser Beam Printer (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は光ビーム記録装置に係り、特に記録媒体が配置
され副走査方向へ移動されるステージを備えた光ビーム
記録装置に関する。
され副走査方向へ移動されるステージを備えた光ビーム
記録装置に関する。
[従来技術]
一般に光ビーム記録装置では、レーザからの記録用光ビ
ームはポリゴンミラー等で構成される走査光学系により
、照射方向が連続的に偏向されるようになっている。す
なわち、記録用光ビームのポリゴンミラーへの入射角が
ポリゴンミラーの回転により変更され反射方向を偏向し
ている。ポリゴンミラーによって反射された光ビームは
固定された記録ステージ上へ配置されている記録媒体へ
と照射され、画像が記録される。この記録媒体としては
被照射部の記録層が例えば融解又は蒸発してその透過率
が変化するものが適用されており、従来のハロゲン化銀
感光材料等のように、画像を記録した後現像処理等をし
なくても、書込み(光ビームの照射)と同時に記録され
ている状態を確認することができる(特開昭54−15
3025号公報参照)。
ームはポリゴンミラー等で構成される走査光学系により
、照射方向が連続的に偏向されるようになっている。す
なわち、記録用光ビームのポリゴンミラーへの入射角が
ポリゴンミラーの回転により変更され反射方向を偏向し
ている。ポリゴンミラーによって反射された光ビームは
固定された記録ステージ上へ配置されている記録媒体へ
と照射され、画像が記録される。この記録媒体としては
被照射部の記録層が例えば融解又は蒸発してその透過率
が変化するものが適用されており、従来のハロゲン化銀
感光材料等のように、画像を記録した後現像処理等をし
なくても、書込み(光ビームの照射)と同時に記録され
ている状態を確認することができる(特開昭54−15
3025号公報参照)。
ところで、前記ポリゴンミラーによる光ビームの走査は
主走査方向のみであり、副走査に関しては行なわれてい
ない。この副走査を行なうために、上記公報ではポリゴ
ンミラーと記録媒体との間に反射ミラーを介在させて、
1主走査毎に反射ミラーによる反射角度を変更して、あ
るいは一定速度で反射ミラーを回転させ副走査を行なう
ことが知られている。
主走査方向のみであり、副走査に関しては行なわれてい
ない。この副走査を行なうために、上記公報ではポリゴ
ンミラーと記録媒体との間に反射ミラーを介在させて、
1主走査毎に反射ミラーによる反射角度を変更して、あ
るいは一定速度で反射ミラーを回転させ副走査を行なう
ことが知られている。
ところが、このような構造では反射ミラーの取り付は精
度の問題で主走査ラインピッチが均一とならず、画像が
みだれるという問題がある。また、反射ミラーの汚れに
よる乱反射が生じやすく、正確な画像記録がなされない
ことがあった。
度の問題で主走査ラインピッチが均一とならず、画像が
みだれるという問題がある。また、反射ミラーの汚れに
よる乱反射が生じやすく、正確な画像記録がなされない
ことがあった。
このため、記録媒体が載置される記録ステージを副走査
方向へ移動可能とし、画像記録時にこの記録ステージを
定速移動させながら副走査を行ない、ポリゴンミラーに
より主走査を行なうようにした光ビーム記録装置が提案
されている。このようにすれば、ポリゴンミラーによっ
て反射された光ビームが精度よく記録媒体上で走査され
、画像の記録状態が向上する。
方向へ移動可能とし、画像記録時にこの記録ステージを
定速移動させながら副走査を行ない、ポリゴンミラーに
より主走査を行なうようにした光ビーム記録装置が提案
されている。このようにすれば、ポリゴンミラーによっ
て反射された光ビームが精度よく記録媒体上で走査され
、画像の記録状態が向上する。
[発明が解決しようとする問題点]
しかしながら、記録ステージが直線的に駆動すれば問題
はないが、この記録ステージの駆動系は送りねじ機構等
の機械的に駆動させているため、各部品の公差や摩耗等
で時間的経過に応じて駆動(副走査)に蛇行が生じるこ
とが考えられる。この蛇行により画像にむらが生じるこ
とになるが、これは第5図(A)のグラフで示される如
く、画像の2点間の距離が長ければ距離偏差Δaが大き
くても所定の画像むら許容範囲であればむらが目立つこ
とはない。ところが、上記のような機械的な駆動では前
記画像むら許容範囲に収めることはできず、記録ステー
ジの移動による副走査機構の大きな問題点となっていた
。
はないが、この記録ステージの駆動系は送りねじ機構等
の機械的に駆動させているため、各部品の公差や摩耗等
で時間的経過に応じて駆動(副走査)に蛇行が生じるこ
とが考えられる。この蛇行により画像にむらが生じるこ
とになるが、これは第5図(A)のグラフで示される如
く、画像の2点間の距離が長ければ距離偏差Δaが大き
くても所定の画像むら許容範囲であればむらが目立つこ
とはない。ところが、上記のような機械的な駆動では前
記画像むら許容範囲に収めることはできず、記録ステー
ジの移動による副走査機構の大きな問題点となっていた
。
本発明は上記事実を考慮し、記録ステージを駆動させて
副走査を行なう光ビーム記録装置において、副走査方向
の移動軌跡を画像むら許容範囲に押え、画像むらを防止
することができる光ビーム記録装置を得ることが目的で
ある。
副走査を行なう光ビーム記録装置において、副走査方向
の移動軌跡を画像むら許容範囲に押え、画像むらを防止
することができる光ビーム記録装置を得ることが目的で
ある。
[問題点を解決するための手段]
本発明に係る光ビーム記録装置は、記録媒体を移動させ
て副走査を行ない光ビームによって記録媒体へ画像を記
録する光ビーム記録装置であって、支持台上に設置され
画像記録時に前記記録媒体が配置される主ステージ及び
この主ステージを前記副走査方向へ移動させる副ステー
ジを備えた記録ステージと、副ステージを支持台に対し
て移動させる駆動機構部と、支持台と主ステージとの間
に取り付けられ副走査方向にビームを照射する発光部及
びこの発光部からのビームの受光位置に基づいて異なる
信号を出力する受光部を備えこの信号に基づいてずれを
検出するずれ検出手段と、主ステージと副ステージとの
間に設置され主ステージと副ステージとの相対位置を変
更可能な位置変更手段と、前記ずれ検出手段の出力信号
に基づいて位置変更手段を作動させ前記ずれが解消する
方向へ主ステージを移動させて駆動機構部による主ステ
ージの副走査方向移動を略直線とする制御手段と、を有
している。
て副走査を行ない光ビームによって記録媒体へ画像を記
録する光ビーム記録装置であって、支持台上に設置され
画像記録時に前記記録媒体が配置される主ステージ及び
この主ステージを前記副走査方向へ移動させる副ステー
ジを備えた記録ステージと、副ステージを支持台に対し
て移動させる駆動機構部と、支持台と主ステージとの間
に取り付けられ副走査方向にビームを照射する発光部及
びこの発光部からのビームの受光位置に基づいて異なる
信号を出力する受光部を備えこの信号に基づいてずれを
検出するずれ検出手段と、主ステージと副ステージとの
間に設置され主ステージと副ステージとの相対位置を変
更可能な位置変更手段と、前記ずれ検出手段の出力信号
に基づいて位置変更手段を作動させ前記ずれが解消する
方向へ主ステージを移動させて駆動機構部による主ステ
ージの副走査方向移動を略直線とする制御手段と、を有
している。
[作用]
記録媒体が主ステージの所定位置へ位置決めされると、
光ビームが照射され、この光ビームは例えばポリゴンミ
ラー等の走査光学系によって記録材料上を主走査する。
光ビームが照射され、この光ビームは例えばポリゴンミ
ラー等の走査光学系によって記録材料上を主走査する。
これと同時に、副ステージが駆動機構部の駆動により副
走査方向と反対方向へ移動され、これに伴なって主ステ
ージも移動さ ゛れて画像が記録媒体へ記録される
。
走査方向と反対方向へ移動され、これに伴なって主ステ
ージも移動さ ゛れて画像が記録媒体へ記録される
。
ところで、本発明において、主ステージと支持体との間
にはずれ検出手段が配置され、これによって主ステージ
の移動方向と副走査方向とのずれが逐次検出される。す
なわち、受光部における発光部から発光されるビームの
受光状態で受光部からは制御手段へ異なる信号が出力さ
れる。制御手段ではこの信号に基づいて主ステージのず
れ幅とずれ方向を得、これに応じて位置変更手段を作動
させる。これにより、主ステージと副ステージとは相対
移動され、駆動機構部によって駆動される副ステージの
移動に蛇行等が生じても、これを画像むら許容範囲内に
収めることができ、主ステージは確実に副走査方向へ移
動させることができる。
にはずれ検出手段が配置され、これによって主ステージ
の移動方向と副走査方向とのずれが逐次検出される。す
なわち、受光部における発光部から発光されるビームの
受光状態で受光部からは制御手段へ異なる信号が出力さ
れる。制御手段ではこの信号に基づいて主ステージのず
れ幅とずれ方向を得、これに応じて位置変更手段を作動
させる。これにより、主ステージと副ステージとは相対
移動され、駆動機構部によって駆動される副ステージの
移動に蛇行等が生じても、これを画像むら許容範囲内に
収めることができ、主ステージは確実に副走査方向へ移
動させることができる。
従って、記録媒体へ記録される画像にむらが生じること
が防止できる。
が防止できる。
位置変更手段としては、電圧等の電気量を機械量に変化
させて表面を微動させることができる圧電素子が適用で
きる。材質としてはチタン酸バリウムやその同類である
PZT (チタンジルコン酸鉛)等の機械的動作に対し
てじょうぶな一部の圧電物質が好ましい。
させて表面を微動させることができる圧電素子が適用で
きる。材質としてはチタン酸バリウムやその同類である
PZT (チタンジルコン酸鉛)等の機械的動作に対し
てじょうぶな一部の圧電物質が好ましい。
[実施例コ
第1図(A)には本実施例に係る光ビーム記録装置10
の概略図が示されている。本実施例では光ビーム照射用
レーザが2個設けられ、一方は書込み用レーザ12、他
方は読み取り用レーザ14として適用されている。これ
らのレーザ12.14は並設され、制御部16からの信
号(マイクロコンピュータ11からドライバ13.15
(共に第1図(B)参照)を介して出力される信号)を
口に応じて光ビーム(第1図(A)の1点鎖線Bm)が
照射されるようになっている。書込み用レーザ12から
照射される書込み用光ビームBmwは光変調器18へ供
給され、グイクロイックミラー20を通過してポリゴン
ミラー22へと照射されるようになっている。一方、読
み取り用光ビームBmrはミラー24によって前記グイ
クロイックミラー20方向へ反射され、このグイクロイ
ックミラー20により前記書込み用光ビームBmwと光
軸が一致されるようになっている。従って、ポリゴンミ
ラー22へは書込み用光ビームBmwと読み取り用光ビ
ームBmrとが合成された合成光ビームBmが照射され
ることなる。
の概略図が示されている。本実施例では光ビーム照射用
レーザが2個設けられ、一方は書込み用レーザ12、他
方は読み取り用レーザ14として適用されている。これ
らのレーザ12.14は並設され、制御部16からの信
号(マイクロコンピュータ11からドライバ13.15
(共に第1図(B)参照)を介して出力される信号)を
口に応じて光ビーム(第1図(A)の1点鎖線Bm)が
照射されるようになっている。書込み用レーザ12から
照射される書込み用光ビームBmwは光変調器18へ供
給され、グイクロイックミラー20を通過してポリゴン
ミラー22へと照射されるようになっている。一方、読
み取り用光ビームBmrはミラー24によって前記グイ
クロイックミラー20方向へ反射され、このグイクロイ
ックミラー20により前記書込み用光ビームBmwと光
軸が一致されるようになっている。従って、ポリゴンミ
ラー22へは書込み用光ビームBmwと読み取り用光ビ
ームBmrとが合成された合成光ビームBmが照射され
ることなる。
ポリゴンミラー22は回転多面鏡で構成されており、こ
のポリゴンミラー22の回転によって、所定の角度範囲
で入射される合成光ビームの入射角を連続的に変更させ
る役目を有している。このポリゴンミラー22はマイク
ロコンピュータ11からドライバ23を介して出力され
る制御信号によって制御され、回転されるようになって
いる。
のポリゴンミラー22の回転によって、所定の角度範囲
で入射される合成光ビームの入射角を連続的に変更させ
る役目を有している。このポリゴンミラー22はマイク
ロコンピュータ11からドライバ23を介して出力され
る制御信号によって制御され、回転されるようになって
いる。
ポリゴンミラー22から反射された合成光ビームBmは
、このポリゴンミラー22と共に走査光学系の一部を構
成する光学系26を通過し、その下流に配置されるビー
ムスプリッタ28によって、前記読み取り用光ビームB
mrのみが反射され、ビームスプリッタ28を通過する
書込み用光ビームBmwとは分離されるようになってい
る。
、このポリゴンミラー22と共に走査光学系の一部を構
成する光学系26を通過し、その下流に配置されるビー
ムスプリッタ28によって、前記読み取り用光ビームB
mrのみが反射され、ビームスプリッタ28を通過する
書込み用光ビームBmwとは分離されるようになってい
る。
−ビームスプリッタ28によって書込み用光ビームBm
wと分離された読み取り用光ビームBmrは収束光学系
30によって収束され、リニアエンコーダ32へ照射さ
れるようになっている。リニアエンコーダ32は周知の
如く、光の移動方向に沿って透過部と不透過部とが交互
に均等配置されてふり、光の移動の速度に応じたパルス
波形を得るものである。リニアエンコーダ32の下流に
は光検出器34が配設され、前記光のパルス波形を電気
的なパルス波形に変換した後、このクロックパルスを制
御部16へ供給するようにしている。
wと分離された読み取り用光ビームBmrは収束光学系
30によって収束され、リニアエンコーダ32へ照射さ
れるようになっている。リニアエンコーダ32は周知の
如く、光の移動方向に沿って透過部と不透過部とが交互
に均等配置されてふり、光の移動の速度に応じたパルス
波形を得るものである。リニアエンコーダ32の下流に
は光検出器34が配設され、前記光のパルス波形を電気
的なパルス波形に変換した後、このクロックパルスを制
御部16へ供給するようにしている。
制御部16は第1図(B)に示される如く、マイクロコ
ンピュータ11が内蔵されており、このマイクロコンピ
ュータ11は、入出カポ−ドア0、RAM?2、ROM
74、CPU76及びこれらを接続するデータバスやコ
ントロールバス等のバス78とで構成されている。光検
出器34からのクロックパルスは、入出カポ−ドア0へ
入力され、CPU76ではこのクロックパルスに同期さ
れた信号を演算し、これを書込み用光レーザ12へ供給
して、後述する記録媒体36への画像記録を制御するよ
うにしている。
ンピュータ11が内蔵されており、このマイクロコンピ
ュータ11は、入出カポ−ドア0、RAM?2、ROM
74、CPU76及びこれらを接続するデータバスやコ
ントロールバス等のバス78とで構成されている。光検
出器34からのクロックパルスは、入出カポ−ドア0へ
入力され、CPU76ではこのクロックパルスに同期さ
れた信号を演算し、これを書込み用光レーザ12へ供給
して、後述する記録媒体36への画像記録を制御するよ
うにしている。
前記ビームスプリッタ28を通過した書込み用光ビーム
Bmwは収束光学系38を介して、本発明に係る記録ス
テージ40に配置された前記ロール状の記録媒体36の
記憶面上へ照射して主走査を行なうようになっている。
Bmwは収束光学系38を介して、本発明に係る記録ス
テージ40に配置された前記ロール状の記録媒体36の
記憶面上へ照射して主走査を行なうようになっている。
記録ステージ40は入出カポ−ドア0からドライバ82
を介して出力される信号により、モータ80(第1図(
B)参照)を駆動させ、その支持台42に対して第1図
(A)の紙面奥側へ移動されるようになっており、これ
により、記録媒体36上に照射される書込み用光ビーム
Bmwが副走査されるようになっている。なお、本実施
例では記録媒体36をロール状のフィルムとしたが、シ
ート状の記録媒体36に複数の画像を記録する所謂マイ
クロフィッシュであってもよい。
を介して出力される信号により、モータ80(第1図(
B)参照)を駆動させ、その支持台42に対して第1図
(A)の紙面奥側へ移動されるようになっており、これ
により、記録媒体36上に照射される書込み用光ビーム
Bmwが副走査されるようになっている。なお、本実施
例では記録媒体36をロール状のフィルムとしたが、シ
ート状の記録媒体36に複数の画像を記録する所謂マイ
クロフィッシュであってもよい。
第2図に示される如く、記録ステージ40はその支持台
42に互いに平行な一対のレール44が一体形成され、
これに対応してサブステージである粗動ステージ46が
載置されている。粗動ステージ46はこのレール44に
案内され第2図矢印C方向へ移動されるようになってい
る。粗動ステージ46の一部には無端のワイヤ48が取
り付けられている。このワイヤ48は一対のプーリ50
.52に巻き掛けられ、一方のプーリ50をモータ54
の駆動力により回転させることにより、粗動ステージ4
6をレール44に沿って前記矢印A方向へ移動させるこ
とができるようなっている。
42に互いに平行な一対のレール44が一体形成され、
これに対応してサブステージである粗動ステージ46が
載置されている。粗動ステージ46はこのレール44に
案内され第2図矢印C方向へ移動されるようになってい
る。粗動ステージ46の一部には無端のワイヤ48が取
り付けられている。このワイヤ48は一対のプーリ50
.52に巻き掛けられ、一方のプーリ50をモータ54
の駆動力により回転させることにより、粗動ステージ4
6をレール44に沿って前記矢印A方向へ移動させるこ
とができるようなっている。
粗動ステニジ46には位置変更手段である圧電素子56
を介して主ステージとしての微動ステージ58が設置さ
れ、この微動ステージ58上に前記記録媒体36が配置
されるようになっている。
を介して主ステージとしての微動ステージ58が設置さ
れ、この微動ステージ58上に前記記録媒体36が配置
されるようになっている。
微動ステージ58は圧電素子56に与えられる電圧によ
って粗動ステージ46に対して、主に第2図矢印C方向
へ平行移動可能となっており、記録媒体36に照射され
る書込み用光ビームBmwの照射点を変更するようにな
っている。
って粗動ステージ46に対して、主に第2図矢印C方向
へ平行移動可能となっており、記録媒体36に照射され
る書込み用光ビームBmwの照射点を変更するようにな
っている。
圧電素子56への電圧は、ずれ検出手段から制御部16
へ出力される信号に応じて決定されるようになっている
。ずれ検出手段は支持台42に取り付けられたレーザ6
0と、微動ステージ58に取り付けられこのレーザ60
から照射される光ビ 一部を検出する光検出センサ62
とで構成されている。レーザ60は第2図矢印C方向に
回転可能な受は部材64゛に固着され、通常は光ビーム
が前記レール44と平行となる方向へ調整されている。
へ出力される信号に応じて決定されるようになっている
。ずれ検出手段は支持台42に取り付けられたレーザ6
0と、微動ステージ58に取り付けられこのレーザ60
から照射される光ビ 一部を検出する光検出センサ62
とで構成されている。レーザ60は第2図矢印C方向に
回転可能な受は部材64゛に固着され、通常は光ビーム
が前記レール44と平行となる方向へ調整されている。
このレーザ60からの光ビームの照射方向に前記光検出
センサ62が配置されている。光検出センサ62は第3
図にも示される如く、センサ部62Aが四つの象限(D
、ESF%G)に分割されており、光ビームの照射位置
によって、マイクロコンピュータ11の入出カポ−ドア
0へ異なる信号を出力することが可能となっている。す
なわち、4つの象限で異なる信号を出力するようにして
おけば、例えば光ビームが第3図のP点(第1象限D)
へ照射されている場合、微動ステージ58が第3図に向
って左にずれていると判断することができる。
センサ62が配置されている。光検出センサ62は第3
図にも示される如く、センサ部62Aが四つの象限(D
、ESF%G)に分割されており、光ビームの照射位置
によって、マイクロコンピュータ11の入出カポ−ドア
0へ異なる信号を出力することが可能となっている。す
なわち、4つの象限で異なる信号を出力するようにして
おけば、例えば光ビームが第3図のP点(第1象限D)
へ照射されている場合、微動ステージ58が第3図に向
って左にずれていると判断することができる。
CPU76では、この光検出センサ62の出力値に応じ
て前記圧電素子56へ与える所定の電圧が演算されるよ
うになっている。すなわち、制御部16ではこの演算結
果に基づいて、微動ステージ58をレーザ60からの光
ビームと平行に移動させるようにフィードバック制御し
ているのである。これにより、記録媒体36への走査の
ずれを、画像むらを発生させることがない許容範囲内に
収めるようになっている。本実施例では一列の走査が終
了すると、ロール状のフィルムが巻取軸(図示省略)に
よって、所定方向へ巻取られ、次の列が走査位置へと配
置されるようになっている。
て前記圧電素子56へ与える所定の電圧が演算されるよ
うになっている。すなわち、制御部16ではこの演算結
果に基づいて、微動ステージ58をレーザ60からの光
ビームと平行に移動させるようにフィードバック制御し
ているのである。これにより、記録媒体36への走査の
ずれを、画像むらを発生させることがない許容範囲内に
収めるようになっている。本実施例では一列の走査が終
了すると、ロール状のフィルムが巻取軸(図示省略)に
よって、所定方向へ巻取られ、次の列が走査位置へと配
置されるようになっている。
ところで、このフィードバック制御では、常に光ビーム
がセンサの中心点Oへ来るようにしているが、従来技術
の項で説明したように、ある所定の範囲内であれば、通
常の走査に影響はない。すなわち、上記のようなフィー
ドバック制御時に微動を激しく行なわなければならない
場合、常に圧電素子56の機械的な動作が大きく、圧電
素子56による微動が不正確となることが考えられる。
がセンサの中心点Oへ来るようにしているが、従来技術
の項で説明したように、ある所定の範囲内であれば、通
常の走査に影響はない。すなわち、上記のようなフィー
ドバック制御時に微動を激しく行なわなければならない
場合、常に圧電素子56の機械的な動作が大きく、圧電
素子56による微動が不正確となることが考えられる。
また、レーザ60に半導体レーザを用いた場合、半導体
レーザの特性で長時間照射すると照射方向が若干ずれる
ことがある。このため、本実施例で ゛は第2図に示
す画像記録の列毎(矢印Ll、L2、L、・・・)にそ
の列の微動ステージ58の副走査移動軌跡を制御出力量
又は制御出力量に対応した粗動ステージ46と微動ステ
ージ58との間の移動量としてRAM72へ記憶してお
き、その移動軌跡の平均的なラインとレーザ60の光ビ
ーム照射方向とを平行とすることによって、調整範囲を
最小限に押えるようにしている。
レーザの特性で長時間照射すると照射方向が若干ずれる
ことがある。このため、本実施例で ゛は第2図に示
す画像記録の列毎(矢印Ll、L2、L、・・・)にそ
の列の微動ステージ58の副走査移動軌跡を制御出力量
又は制御出力量に対応した粗動ステージ46と微動ステ
ージ58との間の移動量としてRAM72へ記憶してお
き、その移動軌跡の平均的なラインとレーザ60の光ビ
ーム照射方向とを平行とすることによって、調整範囲を
最小限に押えるようにしている。
すなわち、第2図で示す列Llの走査の終了時に、RA
M?2に記憶された微動ステージ58の移動軌跡に基づ
いてその平均値を演算し、この演算結果に基づいてマイ
クロコンピュータ11からドライバ86を介して受は部
材駆動用モータ(図示省略)へ信号が出力されるように
なっている。
M?2に記憶された微動ステージ58の移動軌跡に基づ
いてその平均値を演算し、この演算結果に基づいてマイ
クロコンピュータ11からドライバ86を介して受は部
材駆動用モータ(図示省略)へ信号が出力されるように
なっている。
この信号により受は部材64は支持台42に形成された
円満66に沿って、第2図矢印C方向へ回転されること
になり、レーザ60による光ビームの照射方向が変更で
きるようになっている。これにより、列し、の走査時に
は前記列り区の走査時よりも、圧電素子56による微動
ステージ58の位置補正量が小さくなる。これを、列の
変更毎に行なうことにより、微動ステージ58の移動量
を最小とすることができる。
円満66に沿って、第2図矢印C方向へ回転されること
になり、レーザ60による光ビームの照射方向が変更で
きるようになっている。これにより、列し、の走査時に
は前記列り区の走査時よりも、圧電素子56による微動
ステージ58の位置補正量が小さくなる。これを、列の
変更毎に行なうことにより、微動ステージ58の移動量
を最小とすることができる。
本実施例では、B方向のみの場合を記述したが第3図に
示した如き検出手段を用いることにより、A、Bに垂直
な方向も同時にフィードバック制御が可能となる。また
、光線を2本用いる構造とすれば、ローリング、ピッチ
ングを制御することも可能となっている。
示した如き検出手段を用いることにより、A、Bに垂直
な方向も同時にフィードバック制御が可能となる。また
、光線を2本用いる構造とすれば、ローリング、ピッチ
ングを制御することも可能となっている。
以下に本実施例の作用を説明する。
読み取り用レーデ14から読み取り用光ビームBmrの
照射が開始されると、この読み取り用光ビームBmrは
ミラー24、グイクロイックミラー20を介してポリゴ
ンミラー22へ入射される。
照射が開始されると、この読み取り用光ビームBmrは
ミラー24、グイクロイックミラー20を介してポリゴ
ンミラー22へ入射される。
ポリゴンミラー22は制御部16からの信号によって等
速度回転しており、これにより読み取り用光ビームBm
rは所定の範囲内で入射角が変更され、これに応じて反
射光の方向が変更される。この反射光は収束光学系26
、ビームスプリッタ28及び収束光学系30を介してリ
ニアエンコーダ32へと至る。リニアエンコーダ32で
は透過部のみで読み取り用光ビームBmrを通過させ、
これを光検出器34によって検出することにより、クロ
ックパルスを得る。クロックパルスは制御部16へと供
給され、書込み用光ビームBmwの照射タイミングをと
る。
速度回転しており、これにより読み取り用光ビームBm
rは所定の範囲内で入射角が変更され、これに応じて反
射光の方向が変更される。この反射光は収束光学系26
、ビームスプリッタ28及び収束光学系30を介してリ
ニアエンコーダ32へと至る。リニアエンコーダ32で
は透過部のみで読み取り用光ビームBmrを通過させ、
これを光検出器34によって検出することにより、クロ
ックパルスを得る。クロックパルスは制御部16へと供
給され、書込み用光ビームBmwの照射タイミングをと
る。
ここで、画像記録タイミングとなると(ポリゴンミラー
22の位置が主走査開始位置となる)、書込み用レーザ
12から書込み用光ビームBmwの照射が開始される。
22の位置が主走査開始位置となる)、書込み用レーザ
12から書込み用光ビームBmwの照射が開始される。
書込み用光ビームBmwは光変調器18によって高エネ
ルギ光ビームとされた後、グイクロイックミラー20を
通過してポリゴンミラー22へ入射される。ポリゴンミ
ラー22から反射される光ビームは前記書込み用と読み
取り用の光ビームの合成ビームとされているが、ポリゴ
ンミラー22の下流に設置されたビームスプリッタ28
によってこれらは分離され、書込み用光ビームBmwの
みが直進して記録媒体36上へ照射される。
ルギ光ビームとされた後、グイクロイックミラー20を
通過してポリゴンミラー22へ入射される。ポリゴンミ
ラー22から反射される光ビームは前記書込み用と読み
取り用の光ビームの合成ビームとされているが、ポリゴ
ンミラー22の下流に設置されたビームスプリッタ28
によってこれらは分離され、書込み用光ビームBmwの
みが直進して記録媒体36上へ照射される。
書込み周光ビー、ムBmwの照射開始時と同時に制御部
16からはモータ80へ信号が供給されており、ワイヤ
48がプーリ50の回転力で軸方向移動される。このワ
イヤ48の軸方向移動により粗動ステージ46は、支持
台42のレール44に沿って副走査方向と反対方向へ定
速度移動される。
16からはモータ80へ信号が供給されており、ワイヤ
48がプーリ50の回転力で軸方向移動される。このワ
イヤ48の軸方向移動により粗動ステージ46は、支持
台42のレール44に沿って副走査方向と反対方向へ定
速度移動される。
これにより、書込み用光ビームBmwはポリゴンミラー
22によって主走査が行なわれると共に副走査が行なわ
れ、記録媒体36上に画像が記録される。
22によって主走査が行なわれると共に副走査が行なわ
れ、記録媒体36上に画像が記録される。
ここで、本実施例では受は部材64に設置されたレーザ
60から通常は前記レール44ど平行な光ビーム(すな
わち、副走査方向と平行な光ビーム)が光検出センサ6
2方向へ照射されている。
60から通常は前記レール44ど平行な光ビーム(すな
わち、副走査方向と平行な光ビーム)が光検出センサ6
2方向へ照射されている。
光ビームだ4分割されたセンサ部62Aの中心以外の第
3図P点にある場合、微動ステージ°58が第3図左側
にずれていると判断でき、光検出センサ62からはこれ
に応じた信号が出力される。制御部16ではこの信号に
基づいて圧電素子56へ所定の電圧を与える。圧電素子
56ではこの電圧が機械量に変換され、表面が微動する
。これにより、微動ステージ58が粗動ステージ46に
対してずれ修正方向に平行移動され光ビームの照射点が
光検出センサ62の中心点となる。これを順次繰り換え
ずことにより、微動ステージ58はほぼ直線的に移動さ
れ、画像むらが生じることがない(第5図(B)参照)
。なお、本実施例では、圧電素子56の制御量はRAM
72に記憶される(第5図(C)参照)。
3図P点にある場合、微動ステージ°58が第3図左側
にずれていると判断でき、光検出センサ62からはこれ
に応じた信号が出力される。制御部16ではこの信号に
基づいて圧電素子56へ所定の電圧を与える。圧電素子
56ではこの電圧が機械量に変換され、表面が微動する
。これにより、微動ステージ58が粗動ステージ46に
対してずれ修正方向に平行移動され光ビームの照射点が
光検出センサ62の中心点となる。これを順次繰り換え
ずことにより、微動ステージ58はほぼ直線的に移動さ
れ、画像むらが生じることがない(第5図(B)参照)
。なお、本実施例では、圧電素子56の制御量はRAM
72に記憶される(第5図(C)参照)。
次に、画像記録の一列(例えば第2図に示す列L1)が
終了すると、ロール状の記録媒体36を巻取っている巻
取軸が回転され、記録ステージ40の走査位置に列L2
が位置決めされる。この移動時、すなわち走査がなされ
ないインタバルに、CPU76では前記記録された圧電
素子56の制御量から、列Ltにおける微動ステージ5
8の平均的移動ラインが演算され、この演算結果に基づ
いて受は部材駆動用モータ84に信号が出力され、受は
部材64が円満66に案内されて第2図矢印C方向に回
転され、前記平均的移動ラインと平行な方向に、レーザ
60による光ビームの照射方向が変更される。これによ
り、列L2の副走査移動の補正量の最大値が小さくなり
微動ステージ58をより正確に直線移動させることがで
きると共に、圧電素子56の機械的な動きも小さくなる
ため微動の精度が向上する。これを列の変更毎に行なう
ことにより、常に正確な副走査移動をさせることができ
、粗動ステージ46を駆動させるための駆動系の時間的
な摩耗があっても画像むらを生じさせることがない。
終了すると、ロール状の記録媒体36を巻取っている巻
取軸が回転され、記録ステージ40の走査位置に列L2
が位置決めされる。この移動時、すなわち走査がなされ
ないインタバルに、CPU76では前記記録された圧電
素子56の制御量から、列Ltにおける微動ステージ5
8の平均的移動ラインが演算され、この演算結果に基づ
いて受は部材駆動用モータ84に信号が出力され、受は
部材64が円満66に案内されて第2図矢印C方向に回
転され、前記平均的移動ラインと平行な方向に、レーザ
60による光ビームの照射方向が変更される。これによ
り、列L2の副走査移動の補正量の最大値が小さくなり
微動ステージ58をより正確に直線移動させることがで
きると共に、圧電素子56の機械的な動きも小さくなる
ため微動の精度が向上する。これを列の変更毎に行なう
ことにより、常に正確な副走査移動をさせることができ
、粗動ステージ46を駆動させるための駆動系の時間的
な摩耗があっても画像むらを生じさせることがない。
また、レーザ60に半導体レーザを適用した場合に生じ
る照射方向のずれを補正するために、支持台42と相対
的位置に変化がなく、レーザ60の照射延長方向の所定
の位置に第2の光検出センサ(図示省略)を取り付けて
おき、記録媒体360列移動時に光検出センサ62を光
軸から排除して、第2の光検出センサで照射方向を修正
するようにすれば、微動ステージ58をより正確に移動
させることができる。
る照射方向のずれを補正するために、支持台42と相対
的位置に変化がなく、レーザ60の照射延長方向の所定
の位置に第2の光検出センサ(図示省略)を取り付けて
おき、記録媒体360列移動時に光検出センサ62を光
軸から排除して、第2の光検出センサで照射方向を修正
するようにすれば、微動ステージ58をより正確に移動
させることができる。
なお、本実施例では列毎にレーザ60の光線照射方向を
移動幅の中心線上となるように補正したが、第5図(C
)に示される如く、RAM?2に記憶された前列の移動
軌跡曲線に基づいて圧電素子にフィードフォワード的な
目標電圧を加えて微動ステージ58を移動させるように
すればより精密な制御を行なうことができる。
移動幅の中心線上となるように補正したが、第5図(C
)に示される如く、RAM?2に記憶された前列の移動
軌跡曲線に基づいて圧電素子にフィードフォワード的な
目標電圧を加えて微動ステージ58を移動させるように
すればより精密な制御を行なうことができる。
また、本実施例に適用した粗動ステージ46の駆動機構
部では、一対のブーIJ50.52に巻き掛けられたワ
イヤ48の一部に粗動ステージ46を取り付け、モータ
54の駆動により粗動ステージ46をレール44に沿っ
て移動させるようにしたが、送りねじ機構等の他の駆動
機構部を適用してもよい。
部では、一対のブーIJ50.52に巻き掛けられたワ
イヤ48の一部に粗動ステージ46を取り付け、モータ
54の駆動により粗動ステージ46をレール44に沿っ
て移動させるようにしたが、送りねじ機構等の他の駆動
機構部を適用してもよい。
また、本実施例では、粗動ステージ46と微動ステージ
58とを相対移動させる位置変更手段に圧電素子56を
適用したが微動ステージ58を平行ばねによって粗動ス
テージ46上に支持して、微動ステージ58の微動方向
両側面をばねで支持して前述の送りねじ機構によって微
動させるようにしてもよい。さらに、ボイスコイル駆動
を用いてもよい。この場合、両側面を支持したばねのば
ね定数によって微小の変移が可能となる。
58とを相対移動させる位置変更手段に圧電素子56を
適用したが微動ステージ58を平行ばねによって粗動ス
テージ46上に支持して、微動ステージ58の微動方向
両側面をばねで支持して前述の送りねじ機構によって微
動させるようにしてもよい。さらに、ボイスコイル駆動
を用いてもよい。この場合、両側面を支持したばねのば
ね定数によって微小の変移が可能となる。
また、圧電素子を利用して微動させる構造として周知で
ある尺取虫型機構部を粗動ステージ46と微動ステージ
58との間に介在させてもよい。
ある尺取虫型機構部を粗動ステージ46と微動ステージ
58との間に介在させてもよい。
以下に第4図に従い、この尺取虫型駆動機構部の動作原
理を説明する。
理を説明する。
粗動ステージ46には固定子74が取り付けられ、微動
ステージ58には第1乃至第3のPZT76.78.8
0で構成される移動子72が取り付けられている。
ステージ58には第1乃至第3のPZT76.78.8
0で構成される移動子72が取り付けられている。
制御部16から駆動信号が出力されると、まず第4図(
A)の状態から第4図(B)に示される如く、第1PZ
T76へ電気信号が供給されこの第1PZT76は固定
子74をクランプする。
A)の状態から第4図(B)に示される如く、第1PZ
T76へ電気信号が供給されこの第1PZT76は固定
子74をクランプする。
この状態で点Qは移動子72の右端部の位置にある。次
に第4図(C)に示される如く、センタPZT78へ電
気信号が供給され、センタPZTは伸長される。このと
き、移動子72は固定子74に対して軸移動される(点
Q参照)。次に、第4図(D)に示される如く、第3P
ZT80をクランプし、次いで第4図(E)に示される
如く、第1PZT76をエクステントする。ここで、第
4図(F)に示される如く、センタPZT78を短縮さ
せ、再度第1PTZ?6をクランプさせることにより、
移動子72の1ステツプの移動は終了する。
に第4図(C)に示される如く、センタPZT78へ電
気信号が供給され、センタPZTは伸長される。このと
き、移動子72は固定子74に対して軸移動される(点
Q参照)。次に、第4図(D)に示される如く、第3P
ZT80をクランプし、次いで第4図(E)に示される
如く、第1PZT76をエクステントする。ここで、第
4図(F)に示される如く、センタPZT78を短縮さ
せ、再度第1PTZ?6をクランプさせることにより、
移動子72の1ステツプの移動は終了する。
これを繰り返すことにより、移動子72を固定子74の
軸方向へ駆動信号に応じて移動させることができる。
軸方向へ駆動信号に応じて移動させることができる。
[発明の効果コ
以上説明した如く、本発明に係る光ビーム記録装置は、
記録ステージを駆動させて副走査を行なう光ビーム記録
装置において、副走査方向の移動軌跡を画像むら許容範
囲に押え、画像むらを防止することができるという優れ
た効果を有する。
記録ステージを駆動させて副走査を行なう光ビーム記録
装置において、副走査方向の移動軌跡を画像むら許容範
囲に押え、画像むらを防止することができるという優れ
た効果を有する。
第1図(A)は本実施例に悸る光ビーム記録装置の概略
図、第1図(B)は本実施例に係る光ビーム記録装置の
制御ブロック図、第2図は記録ステージの斜視図、第3
図は光検出センサの拡大図、第4図(A)乃至(F)は
尺取り虫型機構部の作動説明図、第5図(A)は記録ス
テージの移動により発生する画像むらの許容範囲を示す
線図、第5図(B)はセンサによるフィードバック制御
状態を示す線図、第5図(C)は圧電素子の制御量を示
す線図である。 10・・・光ビーム記録装置、 12・・・書込み用レーザ、 14・・・読み取り用レーザ、 16・・・制御部、 36・・・記録媒体、 40・・・記録ステージ、 42・・・支持台、 46・、・・粗動ステージ、 56・・・圧電素子、 58・・・微動ステージ、 60・・・レーザ、 62・・・光検出センサ。
図、第1図(B)は本実施例に係る光ビーム記録装置の
制御ブロック図、第2図は記録ステージの斜視図、第3
図は光検出センサの拡大図、第4図(A)乃至(F)は
尺取り虫型機構部の作動説明図、第5図(A)は記録ス
テージの移動により発生する画像むらの許容範囲を示す
線図、第5図(B)はセンサによるフィードバック制御
状態を示す線図、第5図(C)は圧電素子の制御量を示
す線図である。 10・・・光ビーム記録装置、 12・・・書込み用レーザ、 14・・・読み取り用レーザ、 16・・・制御部、 36・・・記録媒体、 40・・・記録ステージ、 42・・・支持台、 46・、・・粗動ステージ、 56・・・圧電素子、 58・・・微動ステージ、 60・・・レーザ、 62・・・光検出センサ。
Claims (1)
- (1)記録媒体を移動させて副走査を行ない光ビームに
よって記録媒体へ画像を記録する光ビーム記録装置であ
って、支持台上に設置され画像記録時に前記記録媒体が
配置される主ステージ及びこの主ステージを前記副走査
方向へ移動させる副ステージを備えた記録ステージと、
副ステージを支持台に対して移動させる駆動機構部と、
支持台と主ステージとの間に取り付けられ副走査方向に
ビームを照射する発光部及びこの発光部からのビームの
受光位置に基づいて異なる信号を出力する受光部を備え
この信号に基づいてずれを検出するずれ検出手段と、主
ステージと副ステージとの間に設置され主ステージと副
ステージとの相対位置を変更可能な位置変更手段と、前
記ずれ検出手段の出力信号に基づいて位置変更手段を作
動させ前記ずれが解消する方向へ主ステージを移動させ
て駆動機構部による主ステージの副走査方向移動を略直
線とする制御手段と、を有する光ビーム記録装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP437588A JPH01180349A (ja) | 1988-01-12 | 1988-01-12 | 光ビーム記録装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP437588A JPH01180349A (ja) | 1988-01-12 | 1988-01-12 | 光ビーム記録装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01180349A true JPH01180349A (ja) | 1989-07-18 |
Family
ID=11582619
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP437588A Pending JPH01180349A (ja) | 1988-01-12 | 1988-01-12 | 光ビーム記録装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01180349A (ja) |
-
1988
- 1988-01-12 JP JP437588A patent/JPH01180349A/ja active Pending
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