JPH01175758A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

Info

Publication number
JPH01175758A
JPH01175758A JP33394287A JP33394287A JPH01175758A JP H01175758 A JPH01175758 A JP H01175758A JP 33394287 A JP33394287 A JP 33394287A JP 33394287 A JP33394287 A JP 33394287A JP H01175758 A JPH01175758 A JP H01175758A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lead
package
tie bar
base
melting point
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP33394287A
Other languages
English (en)
Inventor
Tomio Yamada
富男 山田
Kazuo Yamazaki
和夫 山崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP33394287A priority Critical patent/JPH01175758A/ja
Publication of JPH01175758A publication Critical patent/JPH01175758A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体装置の製造技術、特に、アウタリード
の成形技術に関し、例えば、低融点ガラスにより封着さ
れる気密封止形パッケージを備えており、アウタリード
がバッドリード形状に形成されている半導体集積回路装
置(以下、ICという、)の製造に利用して有効な技術
に関する。
〔従来の技術〕
気密封止形パッケージを備えているICの製造方法とし
て、セラミックから形成されたベースまたはキャップに
低融点ガラスをスクリーン印刷により塗布するとともに
、これをガラスの軟化温度付近(約400℃)にて仮焼
付けすることにより、低融点ガラス層を予め形成してお
き、ベースに半導体ペレット等を組み付けた後、ベース
とキャップとを合わせた状態で高温度(440°C以上
)に加熱処理することにより、前記低融点ガラス層を溶
融固化させて封着層を形成し、この封着層によりベース
とキャップとの接合面間を封着させるようにした方法が
ある。
このような気密封止形パッケージを備えているICとし
て、リードのパッケージから突出されたアウタ部が、パ
ッケージの成形後、所謂バッドリード形状に屈曲成形さ
れたものがある。
なお、低融点ガラスを用いたリード線のガラス気密封止
方法を述べである例として、特開昭53−90867号
公報がある。
〔発明が解決しようとする問題点〕
このような低融点ガラスを用いた気密封止パッケージを
備えている半導体装置の製造方法においては、アウタリ
ードの屈曲成形作業に際して、被屈曲成形部がアウタリ
ードにおける根元部に配置されていた場合、当該屈曲成
形に伴う引張力がリード群を通じて封着層に作用するこ
とにより、詭弱な低融点ガラスからなる封着層が損傷さ
れるという問題点があることが、本発明者によってあき
らかにされた。
本発明の目的は、リードの屈曲成形時における低融点ガ
ラスからなる封着層の)員傷を回避することができる半
導体装置を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
〔問題点を解決するための手段〕
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を説明すれば、次の通りである。
すなわち、半導体ペレットを気密封止するパッケージを
備えており、このパフケージが半導体ペレットを組み付
けられたベースとベースに被着されるキャップとの合わ
せ面間に低融点ガラスからなる封着層により封着されて
おり、複数のリードがこの封着層に貫通されてパッケー
ジの外部に突出されているとともに、これらリードがパ
ッケージの外部において屈曲されている半導体装置にお
いて、前記リードの屈曲部がタイバー残痕部よりもパッ
ケージ寄りに配設されるようにしてものである。
〔作用〕
前記した手段によれば、リードの被屈曲箇所がタイバー
の残痕部よりもパッケージ寄りに配設されているため、
切断時に伴う引張力がリード群を通じて封着層に加わる
ことは抑制されるため、脆弱な低融点ガラスからなる封
着層であっても、当該引張力によって損傷されることは
ない、また、タイバーが被屈曲箇所から離間されている
ことにより、曲げ強度の高いタイバー残痕部について屈
曲加工による成形を施さなくて済むため、当該屈曲加工
に伴う応力がリード群を通じて封着層に加わることは抑
制される。したがって、脆弱な低融点ガラス層からなる
封着層であっても、当該応力によって損傷されることは
ない。
〔実施例〕
第1図は本発明の一実施例である半導体装置の製造方法
により得られた気密封止形パッケージを備えているIC
を示す縦断面図、第2図〜第20図はその製造方法を示
す各説明図である。
本実施例において、このIC90はバット・ウィング形
状のアウタリードを有する表面実装形の気密封止パッケ
ージ(以下、ガラス封止形ミニ・スクエア・パッケージ
またはMSPGということがある。)21を備えており
、このパッケージは半導体ペレット(以下、ペレットと
いう、)18を金−シリコン共晶層からなるボンディン
グ層19により接合されたベース11と、ベースに被着
されるキャップ16とがその合わせ面間に低融点ガラス
からなる封@層22により封着されることにより構成さ
れている。パッケージ21の内部にはリード9群がベー
スとキャップとの合わせ面間の封着層を貫通するように
して挿入されており、このリード群は後述するように多
連リードフレームを用いて形成されている。パッケージ
の内部において、各リードとペレットの各電極との間に
はワイヤ20がその両端部をボンディングされて橋絡さ
れており、パッケージの外部において、リード群はバッ
ト・ウィング形状に屈曲成形されている。このように構
成されているIC(以下、MSPG・IC,または、I
Cということがある。)は、次のような製造方法により
製造されている。
以下、本発明の一実施例であるこのMSPC・ICの製
造方法を説明する。この説明により、前記MSPG−I
Cについての構成の詳細が明らかにされる。
本実施例において、MSPG・ICの製造方法には、第
2図に示されている多連リードフレームlが使用されて
いる。この多連リードフレームlは4270イ等初よう
な鉄系(鉄またはその合金)材料からなる薄板を用いて
、打ち抜きプレス加工またはエツチング加工等のような
適当な手段により一体成形されており、この多連リード
フレームlには複数の単位リードフレーム2が横方向に
1列に並設されている。
単位リードフレーム2は位置決め孔3aが開設されてい
る外枠3を一対備えており、両外枠3は所定の間隔で平
行にそれぞれ延設されている。隣り合う単位リードフレ
ーム2.2間には一対のセクション枠4が両外枠3.3
間に互いに平行で外枠に直行するように配されて一体的
に架設されており、これら外枠、セフシラン枠により形
成される略正方形の枠体内に単位リードフレーム2が構
成されている。
各単位リードフレーム2において、外枠3およびセクシ
ョン枠−4の接続部には略正方形形状に形成されている
タイバー支持部5が径方向内向きに配されて一体的に突
設されており、このタイバー支持部5は内側角部が略4
5度に切り欠かれている。タイバー支持部5にはスリッ
ト6が切欠部の傾斜面に沿うように配されて穿設されて
おり、このスリット6によりその内側にはタイバー吊り
部材7がアーチ形状に形成されている。このタイバー吊
り部材7の内側には4本のタイバー8が、前記外枠3と
セフシラン枠4とにより形成される枠体と同心的な略正
方形の枠形状になるように配設されており、これらタイ
バー8はその両端においてタイバー吊り部材7に略45
度の角度で接続されることにより、これらに吊持されて
いる。そして、隣り合うタイバー8.8は略90度の角
度で交差するようになっている。
これらタイバー8には複数本のり一ド9が長手方向に等
間隔に配されて、互いに平行で、タイバー8と直交する
ように一体的に突設されており、本実施例において、タ
イバー8のリード9群に対する交差位置は、後述するり
−ド9についての切断および屈曲成形工程における悪影
響を回避するため、屈曲箇所よりも外側位置になるよう
に配設されている。各リード9の内側端部は先端が正方
形形状に整列するように配設されることにより、インチ
部9aをそれぞれ構成しており、インナ部9aの先端部
表面には後述するワイヤボンディングのボンダビリティ
−を高めるためのアルミニュウム被膜10が蒸着等のよ
うな適当な手段により被着されている。他方、各リード
9のアウタ部9bをそれぞれ構成する外側端部は、外枠
3およびセフシラン枠4から離間されて切り離されてい
る。
本実施例において、MSPG・ICの製造方法には、第
3図および第4図に示されているベース11が使用され
ており、このベース11は後記するキャップと協働して
気密封止パッケージを形成し得るように構成されている
。このベース11は本体12を備えており、本体12は
アルミナ(A1103)を主成分とするセラミックを用
いて、平面形状が略正方形の平盤形状に形成されている
本体12のキャップとの合わせ面となる一平面(以下、
合わせ面という、)上にはキャビティー凹所13aが同
心的に配されて、平面形状が正方形の窪み形状で、かつ
一定深さになるように一体的に形成されている。キャビ
ティー凹所13aの底面にはボンディング床14が中央
部に配されて、ペレットよりも若干大きめの形状になる
ように被着されており、このボンディング床14は金(
AU)等を用いて蒸着法等のような適当な手段によりメ
タライズされている。
ベース本体12の合わせ面におけるキャビティー13a
の外方には低融点ガラス層15aが250〜300μm
程度の厚さをもって均一に被若されており、このガラス
層は正方形枠形状に形成されることによりキャビティー
凹所13aを完全に取り囲むようになっている。低融点
ガラス層は次のような組成を有する非結晶ガラスが使用
されて構成されている。すなわち、重量比で、PbOが
約51%、Snowが約22%、Singが約5%、Z
nOが約12%、の非結晶ガラスである。
低融点ガラス層は、このような非結晶ガラス材料からな
るペーストがベース本体12の合わせ面上にスクリーン
印刷により塗布された後、加熱炉において440℃以上
に加熱されて焼成されることにより、ベース本体に被着
される。このように、低融点ガラス層15aは予め44
0℃以上の温度で焼成されることにより、ベース本体1
2のセラミック表面と完全かつ強力に接着した状態にな
っている。
他方、第5図および第6図に示されているように、ベー
ス11と協働して気密封止パッケージを形成するキャッ
プ16は本体17を備えており、このキャップ本体17
はベース本体12と略同−の正方形平盤形状に形成され
ている。キャップ本体17のベースとの合わせ面上には
キャビティー凹所13bが同心的に配されて、ベース側
のキャビティー凹所13aに対して大きめの相位形状の
窪み形状で、一定深さになるように一体的に形成されて
いる。キャップ本体17の合わせ面におけるキャビティ
ー13aの外方には低融点ガラス層15bが、ベース側
の低融点ガラス層15aと同様に構成かつ焼成されて被
着されている。
このように構成されたベース11は前記構成にかかる多
連リードフレーム1に各単位リードフレーム2毎に、第
7図および第8図に示されているようにそれぞれ組み付
けられる。すなわち、ベース11はその低融点ガラス層
15aが単位リードフレーム2におけるアルミニュウム
被膜10が被着されていない側の平面に当接するように
向けられるとともに、キャビティー凹所13aの開口縁
がリードのインナ部9aの先端群と整合するように配さ
れてセットされる。このセット状態が維持されながら、
多連リードフレーム1が加熱炉を通されることにより、
低融点ガラス層15aによって単位リードフレーム2に
おけるインナ部9a群とベース本体12とが溶着されて
一体化される。
このとき、低融点ガラス層15aについての加熱温度を
440℃以上に設定することにより、低融点ガラス層1
5aをベース本体12の表面に完全に接着させるように
してもよい。
このようにして、各単位リードフレーム2毎にベース1
1が組み付けられた多連リードフレームlには各単位リ
ードフレーム2毎にベレット・ボンディング作業、続い
て、ワイヤ・ボンディング作業が実施される。このボン
ディング作業は多連リードフレーム1が横方向にピッチ
送りされることにより、各単位リードフレーム2毎に順
次実施される。
このボンディング作業により、第9図および第1θ図に
示されているように、前工程においてバイポーラ形の集
積回路を作り込まれた半導体集積回路素子としてのベレ
ット18は、各単位リードフレーム2におけるベースI
Iのボンディング床14に金箔を介して当接されるとと
もに、こすり付けられることにより形成される金−シリ
コン共晶ボンディング層19によって固着される。
そして、ベース11にボンディングされたベレット18
の電極パッド(図示せず)と、各単位リードフレーム2
におけるリード9のインナ部9aとの間にはアルミニュ
ウム系材料からなるワイヤ20が、ボンディング工具と
してウェッジが使用されている超音波式ワイヤボンディ
ング装置(所謂、USボンダ)が使用されることにより
、その両端部をそれぞれボンディングされて橋絡される
これにより、ベレット12に作り込まれている集積回路
は、電極パッド、ワイヤ20.リード9のインナ部9a
およびアウタ部9bを介して電気的に外部に引き出され
ることになる。
このようにして、各単位リードフレーム2毎にベース1
1が組み付けられ、かつ、ペレシトボンディング作業お
よびワイヤボンディング作業が実施された多連リードフ
レームlには、第11図および第12図に示されている
ように気密封止パッケージ21を形成するための封着処
理作業が実施される。
すなわち、第11図に示されているように、キャップ1
6はその低融点ガラス層15bが単位リードフレーム2
におけるベース11とは反対側の平面に当接するように
向けられているとともに、当該ベース11と整合するよ
うに被せられてセットされる。このセット状態が維持さ
れつつ、ベース11とキャップ16との間に適度な合わ
せ力を加えられながら、多連リードフレーム1が加熱炉
を通されると、ベース11とキャップ16との低融点ガ
ラス層15a、15bが熔融されることによって低融点
ガラス層からなる封着層22が形成される。その結果、
ベース11とキャップ16との合わせ面同士が封着層2
2により封着され、キャビティー13内を気密封止する
パッケージ21が形成される。
このとき、低融点ガラス層15a、15bを加熱する温
度はこれらが軟化する温度、すなわち、435℃以下に
設定されている。したがって、パッケージ21のベース
11に既に組み付けられているベレット18およびワイ
ヤ20等の内部構成部分に加わる熱ストレスによる悪影
響は抑制されることになる。他方、低融点ガラス層15
a、15b同士においては、それが軟化温度程度に達す
ることにより、充分確実な封着層22を安定的に形成さ
れ得ることが、本発明者の実験によって確認されている
ところで、低融点ガラス層とセラミック表面との間にお
いては、ガラスの軟化温度程度では低融点ガラス層とセ
ラζツク表面との接着は不確実ないしは不安定的な状態
になる。このため、気密封止性能が低下し、製品の品質
および信転性が低下することになる。
しかし、本実施例においては、前述した通り、ベース1
1にペレット18が搭載される前に、低融点ガラス層1
5a、15bが440℃以上に加熱されることにより、
ベース本体12およびキャップ本体17の表面にそれぞ
れ完全に接着されているため、この封着工程における加
熱温度が軟化温度程度であっても、ベース本体12およ
びキャップ本体17の表面と封着層22との間の接着状
態は安全かつ強力で、しかも、安定的に確保されること
になる。
ところで、気密封止パッケージ21が加熱後冷却すると
、多連リードフレーム1と低融点ガラス封着層22との
熱膨張係数差により、リード9群に対してパッケージ2
1の径方向の引張または圧縮応力が加わる。当該応力が
そのまま、リード9群が接続されている各タイバー8を
通じて外枠3およびセクション枠4に伝達されると、第
13図に示されているように、多連リードフレーム1全
体が波を打ったように変形してしまうという問題点があ
ることが、本発明者によつて明らかにされた。多連リー
ドフレーム1についてこのような変形が発生すると、後
述するリード切断成形工程において、フィーダにおける
詰まり現象や、位置合わせ不良等が発生するため、リー
ド成形精度が低下してしまう。
本実施例においては、タイバー8を支持している支持部
5にスリット6が開設されることにより、タイバー8は
タイバー吊り部材7に支持されており、これにより、リ
ード9群の応力が外枠3およびセクション枠4にそのま
ま伝達されるのは阻止されるため、多連リードフレーム
1全体が波を打ったように変形してしまう現象は防止さ
れることになる。
すなわち、リード9群によりタイバー8に引張応力が作
用すると、タイバー吊り部材7が第14図に示されてい
るように変形することにより、この引張応力を実質的に
吸収することになるため、この応力が外枠3およびセク
ション枠4に伝達するのは防止されることになる。また
、゛リード9群によりタイバー8に圧縮応力が作用する
と、タイバー吊り部材7が第15図に示されているよう
に変形することにより、この圧縮応力を実質的に吸収す
ることになるため、この応力が外枠3およびセクション
枠4に伝達するのは防止されることになる。
前述したようにして、気密封止パッケージ21が成形さ
れた多連リードフレーム1は、第16図に示されている
ようにはんだめっき処理工程において、全体的にはんだ
めっき被膜を被着される作業を実施される。
第16図に示されているように、はんだめっき処理装置
31ははんだめっき液32を貯留するためあはんだ槽3
3と、めっき電源34とを備えており、被めっき物とし
ての多連リードフレーム1はめっき液32中に浸漬され
た状態において、電源34によりめっき液32との間に
通電されることにより、金属露出面全体にわたって電解
めっき被膜35を形成される。このとき、各単位リード
フレーム2におけるリード9のアウタ部9bは端末にお
いて開放されているため、めっき被膜35が先端面にも
完全に被着されることになる。
めっき被膜を被着された多連リードフレームlは、第1
7図に示されているようにリード切断成形工程において
各単位リードフレーム毎に順次、第18図に示されてい
るリード切断装置により、タイバー8を切り落された後
、第19図に示されているリード成形装置により、第2
0図に示されているように、リード9のアウタ部9bを
バッドリード形状に屈曲成形される。
この工程で使用されるリード切断成形装置40は第17
図に示されているようにフィーダ41を備えており、フ
ィーダ41は間欠送り装置(図示せず)により、被処理
物としての多連リードフレームlを単位リードフレーム
2に対応するピッチをもって一方向に歩進送りするよう
に構成されている。フィーダ41の一端部(以下、前端
部とする。)にはローダ42が設備されており、ローダ
42はラック等に収容された多連リードフレームlをフ
ィーダ41上に1枚宛払い出すように構成されている。
フィーダ41の中間部にはリード切断装置43が設備さ
れており、この装置は第18図に示されているように構
成されている。フィーダ41におけるリード切断装置!
f43の片膝には、第19図に示されているように構成
されているリード成形装置44がリード切断装N43と
並ぶように配されて設備されており、両装置43と44
との間にはハンドラ45が、リード切断装置43におい
て多連リードフレームlの外枠から切り離された中間製
品としてのMSPG・10部47を保持してリード成形
装置44に移載し得るように設備されている。また、フ
ィーダ41の後端部にはアンローダ46が設備されてお
り、このアンローダ46はリード切断装置43において
MSPC・10部47を切り抜かれた多連リードフレー
ムlの残渣部品としての外枠部48をフィーダ41から
順次下して排出して行くように構成されている。
第18図に示されているリード切断装置43は上側取付
板50および下側取付板60を備えており、上側取付板
50はシリンダ装置(図示せず)によって上下動される
ことにより、機台上に固設されている下側取付板60に
対して接近、離反するように構成されている6両取付板
50および60にはホルダ51および61がそれぞれ固
定的に取り付けられており、両ホルダ51および61に
は上側押さえ型52および下側押さえ型62(以下、上
型52および下型62ということがある。
)が互いに心合わせされてそれぞれ保持されている。上
型52および下型62は互いにもなか合わせになる形状
にそれぞれ形成されており、上型52と下型62とは前
後左右の押さえ部53と63とによってリード9の根元
部を上下から押さえるように構成されている。また、上
型52は後記する外枠押さえと同様に、ガイド58およ
びスプリング59により独立懸架されるように構成され
ている。
上側ホルダ51には略くし歯形状(図示せず)に形成さ
れたパンチ54が4&[l(左右の2&[lのみが図示
されている。以下、同じ、)、上型52の前後左右脇に
おいてリード9群のピッチに対応するように配されて、
垂直下向きに固設されており、パンチ54には剪断刃5
6かくし歯におけるエツジに配されて、後記する剪断グ
イと協働してタイバー8のリード9.9間に位置する部
分(以下、リード連結部片という、)を切り落とすよう
に構成されている。上側ホルダ51には外枠押さえ57
がガイド58に摺動自在に嵌合されて上下動自在に支持
されており、外枠押さえ57はスプリング59により常
時下方に付勢された状態で独立懸架されるように構成さ
れている。このスプリング59により、外枠押さえ57
はリードフレームの外枠3を後記する剪断グイ上面との
間で挟圧して押さえるようになっている。
他方、下型62には4&flの剪断グイ66が押さえ部
63の前後左右脇に配されて、リード膨軟の下面に沿う
形状に形成されており、剪断ダイ6Gは前記バンチ54
の剪断刃56と協働してタイバー8のリード連結部片を
切り落とすように形成されている。
第19図に示されているリード成形製244は上側取付
板70および下側取付板80を備えており、下側取付板
70はシリンダ装置(図示せず)によって上下動される
ことにより、機台上に固設されている下側取付板80に
対して接近、離反するように構成されている。jlf取
付板70および80にはホルダ71および81がそれぞ
れ固定的に取り付けられており、両ホルダ7Iおよび8
1には上側押さえ型72および下側押さえ型82(以下
、上型72および下型82ということがある。
)が互いに心合わせされてそれぞれ保持されている。上
型72および下型82は互いにもなか合わせになる形状
にそれぞれ形成されており、上型72と下型82とは左
右の押さえ部73と83とによってリード9の根元部を
上下から押さえるように構成されている。また、上型7
2はガイド78およびスプリング79により独立懸架さ
れるように構成されている。
上側ホルダ7!には成形ロール74が4組、上型72の
前後左右脇においてリード9群に対応するように垂直下
向きに配されて、回転自在に支持されており、このロー
ル74は後記する成形グイと協働してリード9を略垂直
下向きに屈曲成形し得るように構成されている。
他方、下型82には一対の成形グイ84が押さえ部83
の前後左右脇に配されて、成形後におけるリードアウタ
部9bの下面に沿う形状に形成されている。
次に作用を説明する。
前述したように、はんだめっき処理された多連リードフ
レームは複数枚宛、ラック等に収容されてリード切断成
形装置40のローダ42に供給される。ローダ42に送
給された多連リードフレームlはローダ42によりラッ
ク等から1枚宛、フィーダ41上に順次払い出されて行
く、フィーダ41に払い出された多連リードフレーム1
はフィーダ41により単位リードフレーム2.2間の間
隔をもって1ピッチ宛歩進送りされる。
そして、フィーダ41上を歩進送りされる多連リードフ
レーム1は単位リードフレーム2をリード切断装置43
に順次供給されて行く、多連リードフレーム1は前述し
た通り、変形されていないため、この歩進送り中、詰ま
り現象が発生することはない。
ここで、リード切断装置についての作用を説明する。
第18図に示されているように、多連リードフレーム1
についての歩進送りにより下型62に単位リードフレー
ム2が凹部にパッケージ21を落とし込まれるようにさ
れてセットされる。これにより、リード9の根本部が下
型62の押さえ部63に当接する。
次ぎに、シリンダ装置により下側取付板50が下降され
、上型52および外枠押さえ57が下型62にスプリン
グ59の付勢力により合わせられる。これにより、上型
52の押さえ部53と下型62の押さえ部63との間で
リード9の根本部が挟圧されて固定される。また、外枠
押さえ57と剪断ダイ66上面との間で外枠3が挟圧さ
れて固定される。
その後、上側取付板50がさらに下降されて行くと、パ
ンチ54が下降されて行く、このとき、上型52および
外枠押さえ57はスプリング59が圧縮変形されるため
、下型62および剪断ダイ66に押圧される。バンチ5
4の下降に伴って、パンチ54の剪断刃56と剪断ダイ
66との協働による剪断により、タイバー8のリード連
結部片群がリード9群から切り落とされる。
パンチ54が所定のストロークを終了すると、バンチ5
4は上側取付板50により上昇され、元の待機状態まで
戻される。
リード切断装置43において、切断が終了し、上側取付
板50が上昇すると、多連リードフレームlの外枠3か
ら切り離された中間製品であるMSPC−ICC部子7
、下型62上からリード成形装置44における下型82
上へハンドラ45により移載される。
MSPC−ICC部子7リード成形装置44に移載され
ると、フィーダ41により多連リードフレーム1が単位
リードフレーム2の1ピッチ分だけ歩進送りされ、次段
の単位リードフレーム2について前記した切断作業が実
施される。以降、各単位リードフレーム2について切断
作業が繰り返されて行く。
そして、全ての単位リードフレーム2についての切断作
業が終了した多連リードフレーム1の残渣としての外枠
部48は、アンローダ46においてフィーダ41上から
下ろされ所定の場合に回収される。
一方、リード成形装置44に供給されたMSPC−IC
C部子7この装置によりリード成形作業を実施される。
ここで、リード成形装置44についての作用を説明する
第19図に示されているように、下型82にMSPG・
ICC部子7凹部にパッケージ21を落とし込むように
してセットされる。これにより、リード9の根本部が下
型82の押さえ部83に当接する。
次ぎに、シリンダ装置により上側取付板70が下降され
、上型72が下型82にスプリング79の付勢力により
合わせられる。これにより、上型72の押さえ部73と
下型82の押さえ部83との間で被屈曲部としてのり一
ド9の根本部が挟圧されて固定される。
その後、上側取付板70がさらに下降されて行くと、成
形ロール74が下降されて行く、このとき、上型72は
スプリング79が圧縮変形されるため、下型82に押圧
される。
さらに、成形ロール74が成形ダイ84に対して下降さ
れると、リード9のアウタ部9bはロール74の下降に
伴って成形ダイ84に押しつけられることにより、この
成形ダイ84に倣うように屈曲されて、第20図に示さ
れているように所望のバッドリード形状に成形される。
成形ロール74が所定のストロークを終了すると、ロー
ル74は上昇され、元の待機状態まで戻される。その後
、成形済のICは下型82から取り外され、次工程に送
給されて行く。
前述した通り、多連リードフレームlは波打つように変
形してしまうのをスリット6を開設されることにより防
止されているため、前記リードの切断および成形作業に
おいて上型と下型との間で精密に位置決めされることに
なり、その結果、当該作業が精度よ〈実施されることに
なる。
このようにして、リードの切断成形作業を最終工程にお
いて実施することにより、多連リードフレームの形態に
おいて突出部分を発生させなくて済むため、多連リード
フレームの取扱性が良好になるとともに、ボンディング
装置やリード切断成形装置等における搬送路および治具
の構造等を簡単化することができる。
ところで、前記リードの切断作業において、被切断部で
あるタイバー8がリード9のアウタ部9bにおける根元
部に配置されていた場合、当該タイバーのリード連結部
片切断に伴う引張力がリード9群を通じて封着層22に
作用することにより、脆弱な低融点ガラスからなる封着
層22が損傷される危惧がある。
また、前記リードの成形作業において、被屈曲箇所にタ
イバー8の残痕部8Aがあると、当該タイバー残痕部8
Aの屈曲強度が高いため、成形ロールとグイとの協働に
よる屈曲に伴う応力がリード9群を通じて封着層22に
作用することにより、脆弱な低融点ガラスからなる封着
層22が損傷される危惧がある。ちなみに、タイバー残
痕部8Aはリード9の内側に切り口が喰い込むことによ
り、リード9が細って通電抵抗が高くなるのを回避する
ため、リード9の外側に突出するように設定されている
。その結果、タイバー残痕部8Aにおける屈曲強度は大
きくなる。
しかし、本実施例においては、タイバー8のリード9群
に対する結合位置がリード9のアウタ部9bにおける根
元から離間され、しかも、屈曲成形箇所よりも先端寄り
に配設されているため、前記リードの切断および成形作
業において、封着層22が損傷されることはない。
すなわち、タイバー8がリード9の根元部から充分離間
されていることにより、切断時に伴う引張力がリード9
群を通じて封着層22に加わることは抑制されるため、
脆弱な低融点ガラスからなる封着層22であっても、当
該引張力によって損傷されることはない。
また、タイバー8が被屈曲箇所から離間されていること
により、曲げ強度の高いタイバー残痕部8Aについて屈
曲加工による成形を施さなくて済むため、当該屈曲加工
に伴う応力がリード9群を通じて封着層22に加わるこ
とは抑制される。したがって、脆弱な低融点ガラス層か
らなる封着層22であっても、当該応力によって損傷さ
れることはない。
前述のようにして製造されたMSPC−ICは第21図
および第22図に示されているようにプリント配線基板
に実装される。
第21図および第22図において、プリント配線基板9
1にはランド92が複数個、実装対象物となるMSPC
−IC90における各リード9に対応するように配され
て、はんだ材料を用いて略長方形の薄板形状に形成され
ており、このランド92群にこのMSPC・IC90の
リード9群がそれぞれ整合されて当接されているととも
に、各リード9とランド92とがリフローはんだ処理に
より形成されたはんだ盛り層93によって電気的かつ機
械的に接続されている。
そして、各リード9がランド92にリフローはんだ処理
される際、リード9の下端部にめっき被H35が完全な
状態で被着されているため、リード9ははんだ盛り層9
3によって確実に接続されることになる。したがって、
このMSPG−IC90についてのはんだ付は作業の自
動化を促進させることができる。
前記実施例によれば次の効果が得られる。
(1)  ペレットがベースに組み付けられる前に、ベ
ースおよびキャップに形成された低融点ガラス層を融点
以上に加熱しておくことにより、予め、低融点ガラス層
とベースおよびキャップ表面とを完全、かつ、安定的に
接着させておくことができるため、封着工程における加
熱温度を低く設定することにより、所期の封着性能を確
保しながら、ベースに組み付けられたペレットに対する
熱ストレスを抑制することができ、製品の品質および信
頼性を高めることができる。
(2)外枠とセクション枠との接続部に支持部を形成す
るとともに、この支持部にスリットを開設してタイバー
吊り部材を形成し、このタイバー吊り部材にリード群を
保持したタイバーを吊持させることにより、リード群に
対する熱ストレスによる応力がタイバーに作用した際に
、タイバー吊り部材が変形することにより、この応力を
吸収することができるため、多連リードフレームが熱ス
トレスにより変形するのを防止することができる。
(3)クイバーのリード群に対する結合位置をリード先
端寄りに配設することにより、リード切断および成形時
にリード群を通じて封着層に加わる応力を抑制すること
ができるため、当該応力により脆弱な低融点ガラス層か
らなる封着層が損傷されるのを防止することができる。
(4)  リード途中に配設されたタイバーによりリー
ド群を保持することにより、リードの先端を外枠および
セクション枠から切り離すことができるため、リード先
端まではんだめっき被膜を完全に被着することができ、
その結果、バッドリード形パッケージICにおける実装
状態を完全化させることができる。
(5)  リードの切断成形作業を最終工程において実
施することにより、多連リードフレームの形態において
突出部分を発生させなくて済むため、多連リードフレー
ムの取扱性が良好になるとともに、ボンディング装置や
リード切断成形装置等における搬送路および治具の構造
等を簡単化することができる。
(6)気密封止パッケージを多連リードフレームの形態
で取り扱って製造を進行させて行くことにより、信鯨性
の高い気密封止パッケージを備えた半導体装置の製造に
ついて作業能率を高め、その生産性を高めることができ
るため、気密封止パッケージを備えた半導体装置のコス
トを低減化することができる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
例えば、440℃以上の高温度で低融点ガラスをセラミ
ック表面に接着させる工程は、−層の低融点ガラスをセ
ラミック表面に塗布した後、高温加熱処理して接着させ
る方法を使用するに限らず、第2図に示されている方法
を使用してもよい。
すなわち、第1層の低融点ガラスが塗布されたら、44
0°C以上で高温加熱処理されてセラミック表面への接
着処理が施され、第1低融点ガラス層15Aが形成され
る。その後、第2低融点ガラス層15Bが通常の加熱処
理により形成される。
この複数のガラス層により所望の厚さの低融点ガラス層
が形成される。この方法による場合、第2低融点ガラス
層15Bは従来と同等の状態を維持しているため、封着
処理工程において、従来通りの状態が創り出されること
になる。
低融点ガラス層を形成するための材料としては前記した
非結晶ガラスに限らず、他の非結晶ガラスや結晶ガラス
等を用いてもよい。
また、ベースおよびキャップを形成するための材料とし
ては、アルミナセラミックに限らず、ムライト、窒化ア
ルミニニウム、炭化シリコンセラミック、さらには、エ
ポキシ樹脂等を用いてもよい。
ボンダビリティ−を高めるための被膜はアルミニニウム
蒸着膜により構成するに限らず、アルミニュウム箔をク
ラッドして形成してもよいし、他の材料をめっき処理等
のような適当な手段により被着してもよい。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である樹脂封止形MSPC
−IC,およびその製造方法に適用した場合について説
明したが、それに限定されるものではなく、低融点ガラ
ス封着層による気密封止形パッケージを備えているIC
等のような半導体装置全般に適用することができる。
〔発明の効果〕
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、次の通りである。
リードの被屈曲箇所をタイバーの残痕部よりもパッケー
ジ寄りに配設することにより、タイバーについての切断
加工に伴う引張応力が到着層にリード群を通じて加わる
のを抑制することができるため、また、曲げ強度の高い
タイバー残痕部にっいて屈曲加工による成形を施さなく
て済むことにより、当該屈曲加工に伴う応力がリード群
を通じて封着層に加わるのを抑制することができるため
、脆弱な低融点ガラス層からなる封着層であっても、当
該応力によって損傷されるのを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例であるMSPG−ICを示す
一部切断正面図、 第2図〜第20図は本発明の一実施例であるMSPC−
ICの製造方法を示すものであり、第2図はそれに使用
される多連リードフレームを示す一部省略平面図、 第3図および第4図は同じくベースを示す平面図および
正面断面図、 第5図および第6図は同じくキャップを示す底面図およ
び正面断面図、 第7図および第8図はベースとリードフレームとの組付
後を示す拡大部分平面図および正面断面図、 第9図および第10図はペレットおよびワイヤ′ボンデ
ィング後を示す拡大部分平面図および拡大部分正面断面
図、 第11図および第12図は気密封止形パッケージ成形後
の多連リードフレームを示す一部省略正面断面図および
平面図、 第13図、第14図および第15図はその作用を説明す
るための各説明図、 第16図ははんだめっき処理工程を示す一部省略正面断
面図、 第17図はリード切断成形装置を示す一部省略概略平面
図、 第18図はそのリード切断装置を示す縦断面図、第19
図はそのリード成形装置を示す縦断面図、第20図はそ
のリード成形後の要部を示す拡大部分斜視図、 第21図はこの半導体装置の製造方法で得られたMSP
GiCの実装状態を示す一部省略一部切断斜視図、 第22図はその一部省略拡大縦断面図である。 第23図は(a)、(1))は低融点ガラス層接着方法
の変形例を示す各正面断面図である。 1・・・多連リードフレーム、2・・・単位リードフレ
ーム、3・・・外枠、4・・・セクション枠、5・・・
タイバー支持部、6・・・スリット、7・・・タイバー
吊り部材、8・・・タイバー、9・・・リード、9a・
・・インナ部、9b・・・アウタ部、11・・・ベース
、12・・・ベース本体、13a、13b・・・キャビ
ティー凹所、14・・・ボンディング床、15a、15
b・・・低融点ガラス層、15A・・・第1低融点ガラ
ス層、15B・・・第2低融点ガラス層、16・・・キ
ャップ、17・・・キャップ本体、18・・・ペレット
、19・・・ボンディング層、20・・・ワイヤ、21
・・・気密封止パッケージ、22・・・封着層、31・
・・はんだめっき処理装置、32・・・めっき液、33
・・・はんだ槽、34・・・めっき′glB、40・・
・リード切断成形装置、41・・・フィーダ、42・・
・ローダ、43・・・リード切断装置、44・・・リー
ド成形装置、45・・・ハンドラ、46・・・アンロー
ダ、47・・・MSPC・IC部(中間製品)、48川
外枠部(残渣部)、50.60.7o、80 ・・・取
付板、51.61.71.81・・・ホルダ、52.6
2.72.82・・・押さえ型、53.63.73.8
3・・・押さえ部、54・・・パンチ、66・・・剪断
グイ、56・・・剪断刃、57・・・外枠押さえ、58
.78・・・ガイド、59.79・・・スプリング、7
4・・・成形ロール、84・・・成形グイ、90・・・
MSPG・IC(半導体装置)、91・・・プリント配
線基板、92・・・ランド、93・・・はんだ盛り層。 代理人 弁理士  梶  原  辰  也第3図 第4図    14  15a 4b 1・パラ−(リート7L−ム a・・岸4九リートプν−ム 5・・・フィバ−L碕省r 6 ° スリ、ド ア°゛ フィバ′−吊りgPPF 3°゛ フィバ゛−(ツートラテナオ(14F#多11
)q・・・リ−) 11・°へ′−ス 152L、15b−4怠、f、bラス−116・ +、
、ツフ0 18・・・へ・し、斗 21・・・六ち(予1止」\°、!ゲ・ン′21−@4
漕 31・°°1了んr;め、9き哩鳳! ヰO・・・リーFm#ρi彰づ凝」【 10・・・n5pe・IC(千414本1(1版1)第
1図 9゜ 第8(!l 第1Q図 第11図 第13図 第16[21 第17図 第2諌 第23図 (a) (b) 15A1門 ノ

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、半導体ペレットを気密封止するパッケージを備えて
    おり、このパッケージが半導体ペレットを組み付けられ
    たベースとベースに被着されるキャップとの合わせ面間
    に低融点ガラスからなる封着層により封着されており、
    複数のリードがこの封着層に貫通されてパッケージの外
    部に突出されているとともに、これらリードがパッケー
    ジの外部において屈曲されている半導体装置であって、
    前記リードの屈曲部がタイバー残痕部よりもパッケージ
    寄りに配設されていることを特徴とする半導体装置。 2、リードが、リードフレームにタイバーにより一体化
    され、パッケージの成形後、リードフレームから切り離
    されるとともに、屈曲成形されてなることを特徴とする
    特許請求の範囲第1項記載の半導体装置。 3、リードが、リードフレームにタイバーにより一体化
    されているとともに、タイバーがリードの中間部に接続
    されており、リードの先端部が開放されていることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体装置。
JP33394287A 1987-12-29 1987-12-29 半導体装置 Pending JPH01175758A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33394287A JPH01175758A (ja) 1987-12-29 1987-12-29 半導体装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP33394287A JPH01175758A (ja) 1987-12-29 1987-12-29 半導体装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01175758A true JPH01175758A (ja) 1989-07-12

Family

ID=18271699

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP33394287A Pending JPH01175758A (ja) 1987-12-29 1987-12-29 半導体装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH01175758A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1465253A2 (en) 2003-04-02 2004-10-06 Yamaha Corporation Semiconductor package and lead frame therefor

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1465253A2 (en) 2003-04-02 2004-10-06 Yamaha Corporation Semiconductor package and lead frame therefor
EP1465253A3 (en) * 2003-04-02 2010-03-03 Yamaha Corporation Semiconductor package and lead frame therefor

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS61125062A (ja) ピン取付け方法およびピン取付け装置
JPS6187396A (ja) 電子回路装置とその製造方法
US5378657A (en) Method for making an aluminum clad leadframe and a semiconductor device employing the same
US9368372B1 (en) Method for manufacturing semiconductor device
JPH01175758A (ja) 半導体装置
JPH01175759A (ja) 半導体装置の製造方法
JPH01175757A (ja) 半導体装置の製造方法
TW202249220A (zh) 可組態引線封裝
JP3025093B2 (ja) 半導体装置およびその実装構造体
JPH0350736A (ja) 半導体チップのバンプ製造方法
CN110040683A (zh) 五金件、封装结构及其制造方法
JPH0228356A (ja) 表面実装型半導体装置及びその製造方法
JPH01309360A (ja) 銀ろう付リードピンの製造方法
JPH0483370A (ja) 半導体装置およびその製造方法
ITMI951076A1 (it) Processo di fabbricazione di moduli circuitali ibridi includenti dispositivi elettronici in chip
JPS6063936A (ja) リ−ドフレ−ムの処理方法
JPS6388833A (ja) テ−プキヤリヤ実装テ−プ
WO2023138902A3 (en) Method of joining electrical and mechanical components using laminated modular preforms
JPS6393119A (ja) 半導体装置の製造方法
JPH01205429A (ja) 半導体装置
JPH01200659A (ja) 半導体装置
JPH02129954A (ja) 半導体装置の製造方法
JPH01161856A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JPS63311732A (ja) 半導体素子の実装方法
JPH09312368A (ja) 半導体装置の製造方法およびそれに使用されるリードフレーム