JPH01171207A - 永久磁石の製造法 - Google Patents

永久磁石の製造法

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JPH01171207A JP62331399A JP33139987A JPH01171207A JP H01171207 A JPH01171207 A JP H01171207A JP 62331399 A JP62331399 A JP 62331399A JP 33139987 A JP33139987 A JP 33139987A JP H01171207 A JPH01171207 A JP H01171207A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は希土類元素と遷移金属、及びボロンを基本成分
とする永久磁石とその製造法に関するものである。
[従来の技術] 永久磁石は、一般家庭の各種電気製品から大型コンピュ
ーターの周辺末端機器まで幅広い分野で使用されている
重要な電気、電子材料の一つである。
最近の電気製品の小型化、高効率化の要求にともない、
永久磁石も益々高性能化が求められている。現在使用さ
れている永久磁石のうち代表的なものはアルニコ、ハー
ドフェライト及び希土類−遷移金属系磁石である。特に
、希土類(以下、Rと略す。)−遷移金属(以下、TM
と略す、)系磁石であるR−Go系永久磁石や、R−F
e−B系永久磁石は高い磁気性能が得られるので従来か
ら多くの研究開発が行なわれている。
従来、これらR−T M−B系永久磁石の製造法に関し
ては以下の文献に示すような方法がある。
(1)粉末冶金に基づく焼結による方法。
(文献1、文献2) (2)非晶質合金を製造するのに用いる急冷薄体装置で
、厚さ30μm程度の急冷薄片を作り、その薄片を樹脂
結合法で磁石にするメルトスピニング法による急冷薄片
を用いた樹脂結合法。
(文献3、文献4) (3)上記(2)の方法で使用した急冷薄片を2段階の
ホットプレスで機械的配向処理を行なう方法。    
(文献4、文献5) ここで、 文献1;特開昭59−46008号公報文献2; M、
 Sagawa、 S、 Fujimura、 N、 
Togawa。
H,Yamamoto and Y、 Matuura
;J、 Appl、 Phys。
Vol、 55(6)15 March 1984 p
2083文献3;特開昭59−211549号公報文献
4; R,W、 Lee ;Appl、 Phys、 
Lett、 Vol、 46(8)15  April
  1985  p790文献5;特開昭60−100
402号公報次ぎに、上記従来法の詳細について説明す
る。
(1)の焼結法では、溶解、鋳造により合金インゴット
を作製し、粉砕する事で適当な粒度の(数μm)磁石弁
を得る。磁石粉は成形助材のバインダーと混練され、磁
場中でプレス成形され成形体ができあがる。この成形体
はアルゴン中で1100℃前後の温度で約1時間焼結さ
れ、室温まで急冷される。その後、600℃前後の温度
で熱処理をすることにより保磁力が向上する。
(2)のメルトスピニング法による急冷薄片を用いた樹
脂結合方法では、先ず、急冷薄帯製造装置の最適な回転
数でR−T M−B合金の急冷薄帯を作る。得られた厚
さ約30μmの薄帯は直径が1000A以下の結晶の集
まりであり、脆くて割れ易く、結晶粒は等方向に分布し
ている。このため、磁気的にも異方性は得られず等方向
になっている。
この薄片を適当な大きさに粉砕し、樹脂と混練、プレス
成形する事でボンド磁石が得られる。このとき7 t/
cm”程度の圧力で約85体積%の充填が可能である。
(3)の方法は、 (2)で得られた急冷薄帯あるいは
薄帯の片を、真空中あるいは不活性8囲気中で約700
℃で予備加熱したグラファイトあるいは他の耐熱用のプ
レス型に入れる。該薄片が所望の温度に到達したとき1
軸の圧力が加えられる。
温度圧力は特定しないが、十分な塑性が得られる条件と
して725±25℃、1.4 t/am2程度が適して
いる。この段階では磁石の磁化容易軸は僅かにプレス方
向に配向しているとはいえ、全体的には等方向である。
2回目のホットプレスは大面積を有する型で行なわれる
。−船釣には700℃、0.7 t/am2で数秒間プ
レスする。すると磁石は最初のほぼ1/2になり磁化容
易軸はプレス方向と平行に配向して、磁石は異方性化す
る。、この方法で異方性を有するR−TM−B系永久磁
石が得られる− 尚、最初のメルトスピニング方で作られる急冷薄帯の結
晶粒は、それが最大の保磁力を示す時の粒径よりも小さ
めにしておき、後のホットプレス中に結晶粒の粗大化が
生じて最適の粒径になるようにしておく。
しかし、この方法では高温、例えば800℃以上では結
晶粒の粗大化が著しく、それによって保磁力が極端に低
下し、実用的な永久磁石にはならない。
[発明が解決しようとする問題点] 前述の従来技術を用いることにより、一応R−TM−B
系永久磁石は製造できるが、これらの製造方法には次の
ような欠点を有している。
(1)の焼結法は、合金を粉末にする事が必須であるが
、R−T M−B系合金は酸素に対して非常に活性であ
り、そのため、粉末にするという工程を経ると表面積が
増え、酸化が激しくなり焼結体中の酸素温度はどうして
も高くなってしまう。また、粉末を成形するときに、例
えばステアリン酸亜鉛のような成形助材を使用しなけれ
ばならない。これは焼結工程で前もって取り除かれるの
ではあるが、散剤は磁石の中に炭素の形で残ってしまう
この炭素はR−TM−B系磁石の磁気性能を低下させて
しまい好ましくない。
成形助材を加えてプレス成形した後の成形体はグリーン
体と言われる。これは大変脆く、ハンドリングが難しい
。従って、焼結炉にきれいに並べて入れるのは相当の手
間がかかることも大きな欠点である。
また、異方性の磁石を得るためには磁場中でプレス成形
しなければならず、磁場電源、コイル等の大きな装置が
必要となる。
以上の欠点があるので、−船釣に言って、R−TM−B
系の焼結磁石の製造には高価な設備が必要になるばかり
でなく、生産効率も悪くなり、磁石の製造コストが高く
なってしまう。従って、比較的原料の安いR−T M−
B系磁石の長所を生かすことが出来るとは言いがたい。
次に(2)ならびに(3)の方法であるが、これらの方
法は真空メルトスピニング装置を使用するが、この装置
は現在では大変生産性が悪くしかも高価である。
(2)の方法は原理的に等方性であるので、低いエネル
ギー積であり、ヒステリシスループの角形性もよくない
ので温度特性にたいしても、使用する面においても不利
である。
(3)の方法では異方性の磁石が得られるが、ホットプ
レスを2段階に使うので、実際に量産を考えると大変に
非効率になることは否めないであろう。
また、この方法では高温、例えば800℃以上では結晶
粒の粗大化が著しく、それによって保磁力が極端に低下
し、実用的な永久磁石にはならない。
本発明は以上の従来技術の欠点を解決するものであり、
その目的とするところは溶解鋳造工程を基本工程とし、
熱処理、熱間加工を併用することにより高性能且つ低コ
ストなR−T M−B系永久磁石の製造法を提供すると
ころにある。
[問題点を解決するための手段] 本発明の永久磁石の製造法の第1は希土類元素(但しイ
ツトリウムを含む)と遷移金属、及びボロンを基本成分
とする永久磁石の製造法に於て、少なくとも、前記基本
成分から成る合金を溶解・鋳造する工程、鋳造後最初1
04〜10/secの歪速度で、次に10−4〜10−
3/secの歪速度で熱間加工する工程とから成る事を
特徴とする永久磁石の製造法であり、その第2は希土類
元素(但しイツトリウムを含む)と遷移金属、及びボロ
ンを基本成分とする永久磁石の製造法に於て、少なくと
も、前記基本成分から成る合金を溶解・鋳造する工程、
鋳造後最初10す〜10 /seeの歪速度で、次に1
0”〜10−3/secの歪速度で熱間加工する工程、
ついで250℃以上の温度で熱処理を施す工程とから成
る事を特徴とする永久磁石の製造法である。
[作用] 前記のように従来のR−T M−B系永久磁石の製造方
法である焼結法、急冷法はそれぞれ粉砕による粉末管理
の困難さ、生産性の悪さといった大きな欠点を有してい
る。
本発明者等はこれらの欠点を改良するために、バルク状
態での磁気硬化の研究に着目し、前記希土類元素と遷移
金属、及びボロンを基本成分とする磁石の組成域で、鋳
造後熱処理を施すだけで充分高い保持力を有することを
知見した。以下この点について説明する。
本発明の製造方法を用いた磁石も、従来技術に置ける(
1)の焼結法を用いた磁石と同様に、その初磁化曲線は
S m Co sのように急峻な立ち上がりを示す。こ
のことから保磁力機構そのものはnucleation
タイプであることがわかる。このタイプの磁石の保磁力
機構は基本的には単磁区モデルによって説明づけられ、
磁石の保磁力はその結晶粒径に大きく依存する。即ち、
R−TM−B系磁石の主相である、大きな結晶磁気異方
性を有するR 2 T M 1a B化合物相の結晶粒
が大きすぎると、その結晶粒内に磁壁を有するようにな
り、磁化の反転は磁壁の移動により容易に起きて保磁力
は小さくなる。一方、結晶粒がある臨界半径以下になる
と結晶粒は磁壁をもたない単磁区粒子になり、磁化の反
転は回転のみによって進行することになる。
この磁化の回転は磁壁の移動に比べ大きなエネルギーを
必要とするので、大きな保磁力が得られることになる。
即ち、充分大きな保磁力を得るためには主相であるR 
2 T M t a B化合物相の結晶粒を適切な大き
さにする事が必要である。
この臨界半径はサブミクロンオーダーであるにもかかわ
らず、焼結法に於ける粒径は10μm程度である。これ
は、焼結法の場合鋳造インゴットをいったん粉砕すると
いう工程を経るので、臨界半径に近い粉末を得ようとす
ると表面積が著しく塔太し、焼結体に残留する酸素温度
が増加してしまうために、臨界半径に近い粒径を持つ焼
結体は作製不能と言うことになる。逆に、nuclia
tionタイプの磁石であるならば、わざわざ鋳造イン
ゴットの粉砕という工程を経ずとも、冷却速度の調整に
より、粗大な柱状晶あるいは等軸晶の成長を抑制し、R
2T M + a B化合物相の結晶粒を微細化できる
ならば、充分高い保磁力を得られることになる。
本発明では組成と冷却速度を調整することで、比較的微
細な結晶粒のR2T M 14B化合物相を有する鋳造
合金が得られ、さらに熱間加工を施すことにより結晶粒
をより微細にかつ配向し、熱処理をするだけでバルク状
態で充分高い保磁力の異方性磁石が得られることを知見
した。これにより前述のような粉砕、焼結といった工程
を経る必要がなくなり、粉末管理の困難さといった生産
性の問題から解放される事になる。
本発明に於ける熱間加工とは冷間加工に対する概念であ
り、塑性加工によって生じる加工歪の大半を加工中に取
り除きながら加工する高温での塑性加工を指す。したが
って、熱間加工中には加工による結晶の微細化と再結晶
による配向、及びそれに続く結晶粒の成長もおこり、こ
れらの現象も熱間加工には含まれることは明かである。
熱間加工における温度は再結晶温度以上が望ましく、本
発明におけるR −T M−B系合金に於いては500
℃以上が望ましい。
この熱間加工に於ける歪速度は重要な因子である。歪速
度が速ければ結晶粒の微細化に良好な結果をもたらす一
方結晶粒の配向は不十分になる。
そして、その歪速度が小さければ配向性も良好で割れの
可能性も小さくなるが極度に小さければ生産性が著しく
低下し、結晶粒の成長も起こり始め保磁力の原因である
結晶粒の微細化が困難となる。
そこで、歪速度を加工途中で変化させ、結晶粒の微細化
と配向の両方を満足させる方法を見いだした。すなわち
、最初は比較的大きな歪速度(104〜10/sec)
で加工し、結晶粒の微細化を主に行ない、その後、歪速
度を落して10−〜10−”/secで加工し、結晶の
配向を行なう方法である。この歪速度を変化させる時期
は全加工の20〜80%までを高速度で、残りを低速度
で行なうのが望ましい。
以下、本発明による永久磁石の好ましい組成範囲につい
て説明する。
希土類金属としては、Y、  La、  Ce、  P
r。
Nd、Sm、EuS Gd、Tb、Dy、Ho、Er、
Tm、Yb、Luが候補として挙げられ、これらの内1
種類、あるいは2種類以上を組み合わせて用いられる。
最も高い磁気特性はPrで得られる。従って実用的には
、Pr、Pr−Nd、Ce−Pr−Nd合金等が用いら
れる。遷移金属としてはFe、  Co、  Ni、 
 Cu、  等が候補として挙げられ、これらの内1種
類、あるいは2種類以上を組み合わせて用いられる。ま
た、小量の添加元素、例えば重希土類のDy、’rb等
や、A1、Si、Mo、Ga等は保磁力の向上に有効で
ある。
R−T M−B系永久磁石の主相はR2T M + a
 B化合物相である。従ってRが8原子%未満ではもは
や上記化合物を形成せず、高い磁気性能は得られない。
一方、Rが30原子%を越えると非磁性のRリッチ相が
多くなり磁気特性は著しく低下する。
従ってRの範囲は8〜30原子%が適当である。
しかし、鋳造磁石とするため、好ましくは8〜25原子
%が適当である。
BはR2T M + a B化合物相を形成するための
必須元素であり、2原子%以下では菱面体のR−TM系
になるために高い保磁力は望めない。また、2日原子%
を越えるとBを含む非磁性相が多くなり、残留磁束密度
は著しく低下してくる。しかし、鋳造磁石としては好ま
しくはBは8原子%以下がよく、それ以上では特殊な冷
却を施さない限り微細なR2T M + 4B化合物相
を得ることが出来ず、適切な保磁力が得られない。
A1.Ga等は保磁力増大の効果を示す。しかしながら
、A1やGaは非磁性元素であるため、その添加量を増
すと残留磁束密度が低下し、A1では15原子%を越え
ると、Gaでは6原子%を越えるとハードフェライト以
下の残留磁束密度になってしまうので希土類磁石として
の目的を果たし得ない。よってA1の添加量は15原子
%以下、Gaは6原子%以下がよい。
[実施例] 第1図に本発明によるR−TM−B系永久磁石の製造法
の工程図を示す。また、第1表に作製した合金の組成を
示す。
第1表 第1表の組成となるように、希土類、遷移金属およびボ
ロンを秤量し、誘導加熱炉で溶解し、鋳造する。ついで
磁石に磁気異方性を付与するために熱間加工を施す。本
実施例ではホットプレスを使用した。
適当な大きさに切り出した鋳造インゴットをカーボンの
ダイに入れ、1000℃に加熱する。所望の温度に達し
たら、歪速度的10−’/secで加工する。加工度が
60%に達したところで、歪速度を落し、10−’/s
ecの歪速度でプレスした。その結果を表2に示す。比
較例として同組成で歪速度を約10−’/sec、およ
び約10−’/secと一定にした時の磁気性能も併せ
て示す。歪速度を変化させた効果が分かる。
第2表 [発明の効果] 以上のごとく、本発明の永久磁石の製造法によれば、鋳
造インゴットを粉砕・焼結という工程を経ることなく熱
処理、および低速と高速の熱間加工を併用するだけで十
分な保磁力が得られ、高い磁気性能の異方性の磁石が得
ることが出来る。これにより従来のR−T M−B系永
久磁石の生産工程を大幅に削減することができ、永久磁
石の生産性を高めるという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明によるR−TM−B系永久磁石の製造法
の工程図である。 以上 出願人 セイコーエプソン株式会社 出願人 株式会社神戸製鋼所     2.−代理人 
弁理士 最 上  務 化1名 −7r゛・(−二)′
・′

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)希土類元素(但しイットリウムを含む)と遷移金
    属、及びボロンを基本成分とする永久磁石の製造法に於
    て、少なくとも、前記基本成分から成る合金を溶解・鋳
    造する工程、鋳造後最初10^−^1〜10/secの
    歪速度で、次に10^−^4〜10^−^3/secの
    歪速度で熱間加工する工程とから成る事を特徴とする永
    久磁石の製造法。
  2. (2)希土類元素(但しイットリウムを含む)と遷移金
    属、及びボロンを基本成分とする永久磁石の製造法に於
    て、少なくとも、前記基本成分から成る合金を溶解・鋳
    造する工程、鋳造後最初10^−^1〜10/secの
    歪速度で、次に10^−^4〜10^−^3/secの
    歪速度で熱間加工する工程、ついで250℃以上の温度
    で熱処理を施す工程とから成る事を特徴とする永久磁石
    の製造法。
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