JPH01155476A - 絵柄のマスク作成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は絵柄のマスク作成方法、特にコンピュータを用
いた絵柄のマスク作成方法に関する。

〔従来の技術〕

印刷の分野では、画像中の必要な絵柄だけを抽出して印
刷に用いるという手法がよく用いられる。

この場合、画像中の必要な絵柄以外の部分を覆うための
マスクが必要になる。従来、このようなマスクの作成は
、絵柄の輪郭線を人手でトレースすることによって行っ
ていた。ところがこのようなトレースによるマスク作成
は、多大な労力を必要とし、また、精確なマスク作成が
困難であるという問題点がある。特に樹木等の輪郭線が
複雑な絵柄の場合、忠実なトレースが非常に困難となる
。

このような問題点を克服するために、近年コンピュータ
を用いた絵柄のマスク作成方法が提案されている。たと
えば、特願昭６１−２１１９４７号明細書には、このよ
うなコンピュータを用いた絵柄のマスク作成方法の一例
が開示されている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら、コンピュータは常に画一的な判断しかで
きないため、絵柄となる領域と背景となる領域とを錯誤
してしまうことがあり、精確なマスク作成を行うことが
できないという問題がある。

特に、原画が絵柄の影を含んでいたり、コンピュータ処
理における各パラメータの設定を誤ったりすると、この
ような錯誤の生じることが多い。

そこで本発明は、錯誤のない精確なマスク作成を行うこ
とのできる絵柄のマスク作成方法を提供することを目的
とする。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は絵柄のマスク作成方法において、（ａ）絵柄を
有する画像を複数の画素に分解し、各画素のもつ濃度値
のデータとして人力する画像入力段階と、 （ｂ）この画像中に絵柄を囲う外枠線を定義する段階と
、 （Ｃ）この外枠線上の画素のもつ濃度値についてのヒス
トグラムを作成する段階と、 （ｄ）このヒストグラムの頻度値に所定のスライスレベ
ルを設定し、このスライスレベルを超える頻度値を有す
る第１の濃度領域と、このスライスレベル以下の頻度値
を有する第２の濃度領域との２つの濃度領域を設定する
段階と、 （ｅ）各画素のそれぞれについて、入力した濃度値を参
照し、２つの濃度領域のどちらに所属するかを判断し、
画像を第１の濃度領域に所属する画素の集合から成る第
１属性の閉領域と、第２の濃度領域に所属する画素の集
合から成る第２属性の閉領域とで表現する段階と、 を有する前段階を行った後に、更に、 ′（ｆ）第１属性の閉領域と第２属性の閉領域との境界
に位置する輪郭画素を抽出して輪郭画素列を形成する輪
郭画素抽出段階と、 （ｇ）輪郭画素列の一部分を抜出し、部分輪郭画素列を
定義する部分輪郭画素列定義段階と、（ｈ）この部分輪
郭画素列について、絵柄の正規の輪郭を構成しているか
否かを判断する判断段階と、 （ｉ）この判断段階において、正規の輪郭を構成してい
ない旨の判断がなされた場合、段階（Ｃ）で作成したヒ
ストグラムの頻度値に段階（ｄ）で設定したスライスレ
ベルとは異なる新たなスライスレベルを設定し、この新
たなスライスレベルを超える頻度値を有する新たな第１
の濃度領域と、この新たなスライスレベル以下の頻度値
を有する新たな第２の濃度領域との２つの新たな濃度領
域を設定し、部分輪郭画素列の周辺に修正領域を定義し
、この修正領域内の画素のそれぞれについて、入力した
濃度値を参照し、２つの新たな濃度領域のどちらに所属
するかを判断し、この修正領域内の画素に新たに第１の
属性または第２の属性のいずれかを割当て、第１属性の
閉領域と第２属性の閉領域とを修正する修正段階と、 を有する後段階を行うようにしたものである。

〔作　用〕

本発明による絵柄のマスク作成方法では、前段階におい
て分別された絵柄領域と背景領域とが、後段階において
修正される。前段階においては、背景領域の画素の濃度
値のヒストグラムを作成し、このヒストグラムの頻度値
に所定のスライスレベルを設定して絵柄領域と背景領域
との分別を行っている。後段階においては、このように
して分別された開領域の境界となる輪郭線を、その一部
分ごとに抜出して疑似輪郭であるか否かを判断し、疑似
輪郭であると判断された場合には、スライスレベルの再
設定によって当該部分輪郭線の修正を行う。したがって
、前段階において生じた錯誤は、後段階において修正さ
れ、錯誤のない精確なマスク作成を行うことができる。

〔実施例〕

前段階 以下、本発明を図示する実施例に基づいて詳述する。第
１図は本発明による絵柄のマスク作成方法の手順を示す
流れ図である。いま、たとえば第２図（ａ）に示すよう
な原画フィルムについて、同図（ｂ）に示すようなマス
クを作成する場合を考える。本発明による方法は、絵柄
となる領域と背景となる領域とを分別する前段階と、こ
の前段階の結果を修正する後段階とから構成される。こ
の前段階については、既に特願昭６１−２１１９４７号
明細書に詳述しであるが、ここではその概略を簡単に述
べることにする。

前段階は第１図の流れ図において、ステップ８１〜５ま
での手順に相当する。まず、ステップＳ１において、画
像の入力を行う。すなわち、第２図（ａ）に示すような
画像を複数の画素に分割し、各画素のもつ濃度値をデー
タとして入力するのである。これはたとえば、スキャナ
などの入力装置を用いて画像を光学的に走査し、各画素
のもつ濃度値をデジタルデータとしてコンピュータに取
込めばよい。一般にこの濃度値は、２のべき乗の階調数
を有するデジタルデータで表現される。たとえば、各画
素を０〜２５５の濃度値で表現すればよい。この入力し
た各画素のデータはコンピュータ内のメモリに記憶され
る。

次にステップＳ２において、外枠線の定義を行う。この
外枠線は画像中の絵柄を囲う線で、たとえば第２図（Ｃ
）に−点鎖線で示すような四角形の枠を外枠線Ｆとして
定義すればよい。このような定義は、メモリ内に記憶さ
れた各画素のデータに基づいて第２図（ｅ）に示すよう
な画面をデイスプレィ上に表示させ、オペレータがタブ
レットなどの人力手段を用いてデイスプレィ画面上で定
義すればよい。この外枠線上の画素が、以降の手順で背
景部分を代表する画素となる。したがって、この外枠線
は必ずしも四角形である必要はなく、また、閉じた線で
ある必要もない。ただ、背景部分を代表する画素をでき
る限り広い領域にわたってできる限り数多くサンプリン
グするためには、第２図（Ｃ）に示すように四角形とす
るのが好ましい。

続いてステップＳ３において、濃度値のヒストグラム作
成が行われる。すなわち、外枠線Ｆ上のすべての画素の
もつ濃度値についての頻度を求めるのである。このヒス
トグラムはたとえば第３図（ａ）のようになる。一般に
このようなヒストグラムは、いくつかのピークをもった
グラフとなり、たとえば、濃度値Ｃ１をもった画素が外
枠線Ｆ上にＮ１個あることを示す。

次に、ステップＳ４において、スライスレベルの設定を
行う。このスライスレベルは、頻度について定められた
所定値であり、ステップＳ３で作成したヒストグラムに
ついて、頻度がこのスライスレベルを超える第１の濃度
領域と、頻度がこのスライスレベル以下となる第２の濃
度領域との２つの濃度領域が設定される。たとえば第３
図（ｂ）に示すように、スライスレベルとして所定の頻
度値ａを定めると、属性′０°で示される第１の濃度領
域（頻度ａを超える領域）と、属性“１”で示される第
２の濃度領域（頻度ａ以下の領域）とが設定される。

最後にステップＳ５において、絵柄領域が決定される。

これは、属性“０“の領域内の濃度値を有する画素の集
合から成る属性“０″の閉領域と、属性“１″の領域内
の濃度値を有する画素の集合から成る属性“１”の閉領
域とを形成するのである。この結果、第２図（ｄ）に示
すように、属性の異なる２種類の閉領域が得られる。こ
こで、属性“０”の領域が背景領域、属性“１”の領域
が絵柄領域となる。

以上のようにして、第２図（ａ）に示すような原画フィ
ルムに基づいて、同図（ｄ）に示すような２つの領域が
定義できる。ここで、属性“０”の領域を遮蔽部分、属
性“１“の領域を透過部分とすれば、同図（ｂ）に示す
ようなマスクが得られる。

なお、以上の前段階について更に詳しくは、前述の明細
書を参照されたい。

後段階 く輪郭画素抽出〉 上述の前段階の処理によって絵柄領域と背景領域との境
界となる輪郭線が決定されることになる。

ところがこの輪郭線が、絵柄本来の輪郭線の他に疑似輪
郭を含んでいることが多くある。たとえば、第２図（ｃ
）に示すように、原画フィルム上に絵柄の他にその影が
含まれていた場合、上述の前段階の処理によって得られ
る輪郭線は同図（ｆ）に示すようになる。すなわち、絵
柄本来の輪郭線の他に、影の部分の疑似輪郭線を含むこ
とになる。本発明の後段階は、このような疑似輪郭線を
修正して除去するための処理となる。

まず、ステップＳ６において、輪郭画素が抽出される。

前段階において、既にすべての画素に“０”または“１
＃のどちらかの属性が割当てられている。そこで、この
属性情報に基づいて、絵柄の輪郭線（疑似輪郭を含む）
上の画素を抽出する作業が行われる。この作業は、仮想
のカーソルを定義し、このカーソルを画素から画素へと
移動させてゆき、その軌跡を輪郭線とする作業となる。

はじめに、始点となる画素を決定し、この始点となる画
素上にカーソルを置き、この始点から第４図に示すよう
に周囲８方向のうちの１画素へとカーソルを移動させて
ゆくことになる。

具体的な輪郭画素抽出作業を第５図を参照しながら説明
する。いま、前段階の作業によって、第５図（ａ）に示
すような絵柄領域（ハツチング部分）と背景領域（白い
部分）とが得られたものとする。

破線の格子はそれぞれ１画素を表わす。まず、始点とな
る画素を決定するが、これは同図（ａ）に矢印で示すよ
うに、二次元平面上に並んだ画素を左から右へ向かう水
平方向に走査線ＳＣ１，ＳＣ２゜・・・、の順に上から
下へと順に走査してゆき、最初に出会った絵柄領域の画
素を始点画素とすればよい。この例では、画素Ａが始点
画素となる。この始点画素に仮想カーソルを置き、次に
このカーソルを移動させるべき画素を探す作業を行う。

カーソルは始点画素Ａの周囲８画素のうちのいずれかに
移動させることになるが、第４図のθ〜７の順に周囲の
画素をチエツクしてゆき、はじめて見付かった絵柄領域
の画素にカーソルを動かすようにする。すなわち、始点
側素人については、まず右隣の画素がチエツクされる。

この画素はたまたま絵柄領域の画素であるため、このチ
エツク作業はこれで完了し、カーソルは右隣の画素Ｂへ
と移動することになる。続いて、この画素Ｂの周囲８画
素のうちのいずれかにカーソルを移動させることになる
が、このためのチエツクを再び行う。ただし、今度は第
４図の０〜７の順にチエツクを行う代わりに、５，６，
７，０．１．２，３．４の順にチエツクを行う（理由は
後述する）。すなわち、第５図（ｂ）に示すように、画
素Ｂ５．　　Ｂ６．　　Ｂ７゜ＢＯ，・・・の順にチエ
ツクが行われ、はじめて見付かった絵柄領域の画素、す
なわち画素ＢＯにカーソルを移動させることになる。こ
の画素ＢＯを新たに画素Ｃと呼ぶことにすると、第５図
（ｅ）に示すように、この画素Ｃの周囲の８画素につい
てのチエツクが行われる。このときも第４図の５．６゜
７．０，１．・・・の順にチエツクが行われる。

チエツクを行う順については、次の法則に従うようにす
る。すなわち、始点画素については、０〜７の順にチエ
ツクを行うものとし、それ以降の画素については、常に
直前のカーソル移動方向を示す値（第４図の０〜７の値
）に５を加え、その結果に対応する位置を第４図から求
め、その位置から時計まわりの方向にチエツクを進めて
ゆくようにするのである。５を加えた結果が８以上とな
ってしまう場合には、その結果から８を減じた値を用い
るようにする。以上の法則でチエツクを行いながら、カ
ーソルの移動を行ってゆくと、カーソルの軌跡が絵柄領
域の輪郭線と一致することが経験上確認されている。

第５図に示す具体例について上記法則を適用させると、
次のようになる。

■画素Ａについてのチエツクは、方向０〜７の順に行わ
れ、カーソルは画素Ａ−Ｂへと移動する（移動方向０）
。

■画素Ｂについてのチエツクは、０＋５−５の演算によ
り、第５図（ｂ）に示すように方向５から時計まわりに
行われ（Ｂ５．Ｂ６．Ｂ７．ＢＯ）、カーソルは画素Ｂ
−Ｃへと移動する（移動方向０）。

■画素Ｃについてのチエツクは、Ｏ＋５−５の演算によ
り、第５図（Ｃ）に示すように方向５から時計まわりに
行われ（Ｃ５，Ｃ６，Ｃ７，ＣＯ。

Ｃ１）、カーソルは画素Ｃ→Ｄへと移動する（移動方向
１）。

■画素りについてのチエツクは、１＋５−６の演算によ
り、第５図（ｄ）に示すように方向６から時計まわりに
行われ（Ｄ６．Ｄ７．Ｄｏ）　、カーソルは画素Ｄ−Ｅ
へと移動する（移動方向０）。

■画素Ｅについてのチエツクは、０＋５−５の演算によ
り、第５図（ｅ）に示すように方向５から時計まわりに
行われ（Ｆ５．Ｆ６．Ｆ７．ＥＯ。

Ｅｌ、Ｆ２）、カーソルは画素Ｅ→Ｆへと移動する（移
動方向２）。

■画１ｇＦについてのチエツクは、２＋５−７の演算に
より、第５図（（’）に示すように方向７から時計まわ
りに行われ（Ｆ７．ＦＯ，Ｆｌ、Ｆ２）、カーソルは画
素Ｆ−Ｇへと移動する（移動方向２）。

以上のようにカーソルを移動させてゆくことにより、第
５図（ｇ）に示すように輪郭画素Ａ−Ｋが求まる。この
ような作業を第２図（ｆ’）に示すような画像に対して
行えば、同図（ｇ）に示すように始点画素Ｐから矢印の
方向に連続する輪郭画素が得られ、再び始−品索Ｐに戻
ることになる。このようにして、環状に連結した輪郭画
素が抽出できる。

もっとも、この輪郭は疑似輪郭を含んでいることは前述
したとおりである。

く部分輪郭画素列定義〉 輪郭画素が抽出されたら、第１図のステップＳ７におい
て、部分輪郭画素列の定義が行われる。

この部分輪郭画素列は、輪郭画素の特定の一部分に相当
し、後で、この部分輪郭画素列が疑似輪郭であるか否か
を判断し、疑似輪郭であると判断された場合には所定の
修正作業を行うことになる。

部分輪郭画素列の定義は、連続するｎ個（ｎは統計をと
るのに適した所定数）の輪郭画素に基づいて行われる。

すなわち、まず始点画素Ｐからはじまるｎ個の連続した
輪郭画素が、最初の部分輪郭画素列として抜出される。

たとえば、第２図（ｈ）において、始点画素Ｐを１番目
の画素として画素Ｑがｎ番目の画素に相当する場合、画
素Ｐ〜画素Ｑに至るまでの連続したｎ個の画素が部分輪
郭画素列として抜出される。

く疑似輪郭の判断〉 特定の部分輪郭画素列が定義されたら、ステップＳ８に
おいて、この部分輪郭画素列が疑似輪郭であるか否かの
判断を行う。本実施例では、この判断を３とおりの方法
で行っており、３とおりの方法のすべてにおいて、疑似
輪郭と判断された場合にのみ、その部分輪郭画素列が疑
似輪郭を形成しているという最終判断を行っている。

（ｉ）第１の方法 第１の方法は、部分輪郭画素列のチェーンコード列の特
徴を調べる方法である。ここでチェーンコード列とは、
部分輪郭画素列を構成する各隣接画素間の位置関係を示
すコードの列であり、ステップＳ６における輪郭画素抽
出作業でのカーソルの移動方向を示す数値列に相当する
。たとえば、第５図（ｇ）のような輪郭画素Ａ−にのう
ち、画素ＡＢＣＤＥＦＧＨが抜出されて部分輪郭画素列
と定義された場合（この場合ｎ−８であるが、実際には
ｎとしては統計上意味のある大きな値がとられる）、チ
ェーンコード列は、００１０２２１０となる。この≠エ
ーンジ・−ド列は、第５図（ｇ）における画素Ａ−１の
連続を、第４図の方向を示す値と照らし合せれば容易に
得られることが理解できよう。続いてこのようにして得
られたチェーンコード列を構成するチェーンコード（０
〜７のうちのいずれかの値をとる）についてのヒストグ
ラムを求める。すなわち、０〜７のコードのそれぞれに
ついての頻度を求めるのである。このヒストグラムは、
たとえば、第６図に示すようなものになる。

この方法の基本原理は、部分輪郭画素列が疑似輪郭であ
れば、そのチェーンコード列はランダムウオークモデル
に近いものになるであろうという発想にある。たとえば
ブラウン運動を行う粒子では、その粒子の移動は典型的
なランダムウオークになる。このようなランダムウオー
クモデルでは、そのチェーンコードのヒストグラムは、
第６図の破線で示すような平均されたものとなる。別言
すれば、あらゆる方向への移動確率がすべて等しいもの
がランダムウオークモデルなのである。このド列が、ラ
ンダムウオークモデルからどれだけ離れているかを示す
パラメータｄｌを次の式に基づいて定義している。

ここで、ｈ　（ｉ）は、チェーンコードｉ　　（ｉ−０
〜７）の頻度値であり、ｎは部分輪郭画素列を構成する
画素の総数である。すなわち、第６図の破線の頻度値が
ｎ　／　８に相当し、ｄｌは頻度値の平均２乗誤差を示
すものになる。ｄｌが小さい値をとるほど、ランダムウ
オークモデルに似たふるまいをしていることを示し、疑
似輪郭である可能性が高いことになる。したがって、こ
のパラメータｄｌの値が所定のしきい値よりも小さい場
合に、この第１の方法において疑似輪郭であるとの判断
がなされる。

（２）　　第２の方法 第１の方法では、ランダムウオークとの隔たりを示すパ
ラメータとして、ｄｌなるパラメータを用いたが、この
パラメータｄｌだけでは、ランダムウオークとの隔たり
を十分に表現することができない場合がある。たとえば
、ｒ０００００１１５６６６６６７７７７７Ｊというチ
ェーンコードが得られた場合、これは明らかに規則的な
コード列であって、ランダムウオークモデルからは大き
くかけ離れている。ところが、前述の式（ｉ）からは、
ｄｉ−０なる結果が得られ、ランダムウオークモデルに
極めて近いと判断されてしまう。このような誤認を避け
るため、この第２の方法では、得られたチェーンコード
列について、０〜７の６値がどのような間隔で出現する
かを示す出現間隔数列Ｄ　（ｊ）を求める（ｊ−１〜ｎ
）。たとえば、ｒ２４３４２６７０１１２３３５０２７
３５４・・・・・・」なるチェーンコード列が得られた
場合、第１番目のコード“２ｍについては、次に同じコ
ード“２”が現れるのは４つ後であるから、Ｄ　（ｉ）
−４となる。また、第２番目のコード“４″については
、次に同じコード“４″が現れるのは２っ後であるから
、Ｄ　（２）−２となる。更に、第３番目のコード“３
″については、次に同じコード“３“が現れるのは９つ
後であるから、Ｄ（３）−９となり、第４番目のコード
“４”については、次に同じコード“４゛が現れるのは
１６個後であるから、Ｄ（ｆ）−１６となる。同様にし
て、Ｄ（５）〜Ｄ　（ｎ）が求められる。結局、上述の
例では、この出現間隔数列りはｒ４．　２．　９．　１
６゜６、・・・」となる。

続いて、この出現間隔数列りの各構成要素についての頻
度を示す出現間隔頻度値Ｇ　（ｋ）を求める。すなわち
上記数列りの中で、値“１”が何回でてくるかを示す値
がＧ（ｉ）であり、値′２”が何回でてくるかを示す値
がＧ（２）であり、−般に値ｋが何回でてくるかを示す
値がＧ　（ｋ）となる。この実施例では、Ｇ（ｉ）〜Ｇ
　（ｎ）のそれぞれを求めている。

このようにして求められた出現間隔頻度値Ｇ（ｋ）を、
ランダムウオークモデルにおける出現間隔頻度値と比較
し、どれだけ近いかを検討すればよい。そこで、ランダ
ムウオークモデルにおいて確率的に期待される出現間隔
について考えてみる。いま、ある特定のコードμ（μｍ
０〜７）が出現してから同じコードμかに個後に再び現
れる確率を求めてみる。この確率は、（ｋ−１）回だけ
μ以外のコードが現れた後に、ｋ回目にやっとコードμ
が現れる事象の確率に等しい。すなわちこの確率Ｐ　（
ｋ）は、 Ｐ　（ｋ）−１／８・（７／８）　ｋ−１（２）である
。したがって、ランダムウオークモデルから得られたチ
ェーンコード列のある１つのコードについて、全く同じ
コードがそこからに個後に再びはじめて出現するような
事象は、ｎ個のチェーンコード中では、ｎＰ　（ｋ）回
の頻度で生じるはずである。そこで、実際に得られた出
現間隔頻度値Ｇ　（ｋ）と、ランダムウオークモデルに
おける確率的な頻度値との平均２乗誤差に相当するパラ
メータｄ２を次式で定義して求める。

このパラメータｄ２が小さい値をとるほど、ランダムウ
オークモデルに似たふるまいをしているこ、とを示し、
疑似輪郭である可能性が高いことになる。したがって、
このパラメータｄ２の値が所定のしきい値よりも小さい
場合に、この第２の方法において疑似輪郭であるとの判
断がなされる。

（３）　　第３の方法 上述の２つの方法は、いずれも輪郭線の形状がランダム
ウオークモデルとどれほど近いかをみることによって、
疑似輪郭か否かを判断している。

しかしながら、現実には輪郭線の形状のみでは十分な判
断ができない場合もありうる。そこで、第３の方法では
、輪郭線をはさんで両側に位置する画素の色に関する差
によって疑似輪郭か否かの判断を行う。たとえば第５図
（ｇ）において、画素ＩＯと画素１１とは、輪郭画素ｌ
をはさんで位置する画素であるが、このような画素の色
に関する差を求める。一般に、各画素はＲＧＢの３原色
成分の濃度値で表されるので、Ｒ，Ｇ、Ｂの各成分ごと
に両画歯の濃度差をとってこれを色に関する差としても
よいし、ＲＧＢの値から色相、彩度、明度を求め、これ
らの差をとって色に関する差としてもよい。このような
輪郭線をはさむ両画歯の色に関する差を、輪郭線に沿っ
た複数の画素対について求め、差の平均ｄ３を求めてや
る。輪郭線をはさんで色についての差が少ない場合には
、その輪郭線は疑似輪郭線である可能性が高い。したが
って、差の平均値ｄ３が所定のしきい値よりも小さい場
合に、この第３の方法において疑似輪郭であるとの判断
がなされる。

以上、ステップＳ８における疑似輪郭か否かの判断方法
を３とおり述べたが、どの方法によって判断を行っても
かまわない。ただ、３つの方法をすべて行い、その結果
を総合して疑似輪郭か否かの最終判断を行うようにする
のが好ましい。たとえば、３つの方法のいずれによって
も疑似輪郭である旨の判断がなされた場合に限り、最終
的に疑似輪郭である旨の判断を行うようにすることがで
きる。

く部分輪郭画素列の再定義〉 ステップＳ８で、疑似輪郭であるとの判断が行われなか
った場合、ステップＳ９において作業続行か否かが判断
される。ここで、所定の作業終了条件（後述く作業の終
了〉で説明する）が満たされていない限り、作業は続行
される。すなわち、ステップＳ７に戻って、再び部分輪
郭画素列の定義がなされる。このとき定義される部分輪
郭画素列は、前回定義された部分輪郭画素列に一部重な
るように定義される。たとえば、第２図（ｈ）において
、画素Ｐ−Ｑまでのｎ個の画素列が第１の部分輪郭画素
列として定義された場合、第２の部分輪郭画素列として
は、画素Ｒ〜Ｓまでのｎ個の画素列が定義される。ステ
ップＳ８において、この第２の部分輪郭画素列について
疑似輪郭か否かの判断がなされた後、ステップＳ９を経
て、再びステップＳ７で第３の部分輪郭画素列が定義さ
れる。

このように、第２図（ｈ）の矢印で示す方向に定義すべ
き部分輪郭画素列を順次移動させてゆくことになる。こ
の例では、画素Ｐ−Ｑ、あるいは画素Ｒ−Ｓで構成され
る部分輪郭画素列については、疑似輪郭とは判断されな
いが、原画の影の部分の輪郭、たとえば画素Ｔ−Ｕで構
成される部分輪郭画素列については、ステップＳ８にお
いて疑似輪郭である判断がなされることになる。ステッ
プＳ８において疑似輪郭である旨の判断がなされた場合
、ステップ８１０〜１４の修正作業が行われる。

次にこの修正作業について詳述する。

く部分輪郭の修正〉 いま、たとえば第２図（ｈ）の画素Ｔ−Ｕで構成される
部分輪郭画素列について、ステップＳ８で疑似輪郭であ
る旨の判断がなされたものとする。

この場合、この部分輪郭画素は正規の輪郭を構成する画
素ではないから、修正されねばならない。

第７図（ａ）にこの周辺領域の拡大図を示す。ここでハ
ツチングを施した部分は絵柄領域の画素であり、特に二
重のハツチングを施した部分はステップＳ６で抽出され
ステップＳ８で疑似輪郭と判断された輪郭画素である（
この例では便宜上、部分輪郭画素列は画素Ｔ−Ｕの１０
個の画素から構成されているが、実際には前述のように
部分輪郭画素列は統計的に意味ある相当数の画素から構
成される）。

はじめに、ステップＳ１０において、修正領域の決定が
行われる。この修正領域は定義された部分輪郭画素列に
基づいて一義的に決まる領域であり、第７図の例では太
線で囲った矩形領域である。

修正領域は部分輪郭画素列を包含するような閉領域にな
るようにすれば、どのように決定してもかまわないが、
画素は二次元マトリックス状に配列されているので、こ
のマトリックスに適合した矩形にするのが好ましい。こ
の実施例では、部分輪郭画素（画素Ｔ−Ｕまでの二重ハ
ツチングを施した画素）がすべて包含されるような最小
の長方形を修正領域として定義している。

続いて、ステップＳ１１において、スライスレベルの再
設定が行われる。前段階ではステップＳ４において、ス
ライスレベルの設定を行い、このスライスレベルに基づ
いて２種類の濃度領域を定め、各画素がいずれの濃度領
域に属するかによってその画素が絵柄領域の画素か背景
領域の画素かを決定していた。しかしながら、その結果
、疑似輪郭が得られたということは、スライスレベルの
設定のしかたに誤りがあったことになる。そこで、この
スライスレベルを異なる値に再設定する作業を行う。具
体例を第３図を参照して説明する。

第３図（ｂ）は、前段階でスライスレベルをレベルａに
設定することによって、“０″の属性をもつ濃度領域（
背景領域）と、“１”の属性をもつ濃度領域（絵柄領域
）とが定まる様子を示している。

スライスレベルをレベルａに設定すると、本来背景領域
に属すべき画素（たとえば原画の影の部分）が絵柄領域
に属するような処理が行われてしまったわけである。そ
こで、第３図（ｅ）に示すように、スライスレベルをレ
ベルｂに再設定すると、濃度領域の定義が新たに行われ
る。この再設定によって、“０”の属性をもつ濃度領域
（背景領域）が広がることになり、いままで絵柄領域内
の画素と認識されていた画素のうちのいくつかは、新た
に背景領域内の画素と再認識されることになる。

ステップＳ１２における絵柄領域再決定の処理は、この
新たなスライスレベルに基づいて定められた濃度領域を
参照しながら、各画素を絵柄領域に属する画素か、背景
領域に属する画素か、ふるい分けする処理である。但し
、再決定はステップＳＩＯで決定された修正領域につい
てのみ行われる。すなわち、第７図（ａ）に示す例では
、太線で囲った長方形内の画素についてのみ、絵柄領域
か背景領域かの再決定がなされる。その結果、たとえば
第７図（ｂ）のように、修正領域内の画素の属性が修正
されることになる。これにともない、修正領域内の輪郭
画素（二重ハツチングを施した画素）も再抽出され（こ
れは、ステップＳ６と同様の処理を行えばよい）、新た
な部分輪郭画素列を形成する。

続いて、ステップＳ１３において、再抽出された部分輪
郭画素列について疑似輪郭か否かの判断を行う。すなわ
ち、第７図（ｂ）で画素Ｔ′〜Ｕ′からなる画素列につ
いて、ステップＳ８と同様の判断がなされる。この結果
、疑似輪郭ではないという判断がなされれば、この修正
領域に関しては輪郭線の誤りは解消したことになり、修
正作業を完了してステップＳ９へ戻ることになる。とこ
ろが、依然として疑似輪郭である旨の判断がなされれば
、ステップ５１４で修正続行か否かを判断し、修正を続
行する場合には再びステップＳｌｌに戻ってスライスレ
ベルの再設定からの修正処理を繰返すことになる。スラ
イスレベルを更に下げることにより、ステップ８１２で
は各画素の属性が再び修正されることになる。このよう
に、疑似輪郭でない旨の判断がなされるまで、修正処理
を繰返してゆけばよい。なお、ステップＳ１１のスライ
スレベルの再設定の作業は、必ず前回より低い位置に再
設定する必要はなく、逆に前回より少し高い位置に再設
定することが有効な場合がある。たとえば、スライスレ
ベルを下げ過ぎて、第７図（ｃ）に示すように修正領域
内の画素がすべて背景領域の画素となってしまった場合
には、もはやこれ以上スライスレベルを下げる修正作業
を続けても意味がない。このような場合には、前回より
少し高い位置にスライスレベルを再設定する操作は有効
である。

しかしながら、スライスレベルをどのように設定しよう
とも、依然として疑似輪郭しか得られない場合もある。

したがって、ステップＳ１４では、所定の条件が満たさ
れたら、そこで修正作業を打ち切って疑似輪郭のままス
テップＳ９へと進むことになる。たとえば、第７図（Ｃ
）のように修正領域内がすべて背景領域となってしまっ
た場合に、修正作業を打ち切るようにしてもよいし、修
正作業を所定の回数繰返した場合に、修正作業を打ち切
るようにしてもよい。なお第７図（Ｃ）のように、修正
領域内がすべて背景領域となってしまった場合には、同
図（ｄ）に示すように、修正領域の外枠に沿った画素を
輪郭画素とする。

く作業の終了〉 要するに後段階は、ステップ８７〜９で構成されるルー
プを繰返し、ステップＳ８で疑似輪郭なる判断がなされ
たら、その都度該当する修正領域に対してステップ８１
０〜１４の修正作業を行うことになる。したがって、修
正領域は第８図に示すように、互いに一部分が重複した
矩形領域として図の矢印の方向に毎回移動してゆく。た
とえば、第７図（ｄ）のような状態で修正作業を完了し
たとすれば、次の修正領域は第７図（ｅ）の太線で示す
ような領域となる。このようにして、前段階で得られた
輪郭線に沿って時計まわりに、その輪郭線の部分修正を
するという作業が継続して行われる。

これは輪郭線に沿って１周とは限らず、何周でも行うこ
とができる。こうして所定の条件が満たされたら、ステ
ップＳ９で作業打ち切りなる判断がなされ、ステップＳ
１５において、その時点での輪郭線で画される絵柄領域
および背景領域に基づいたマスクが作成される。ステッ
プＳ９における作業続行か否かの判断は、たとえば、輪
郭線に沿った作業を何周か繰返したら作業を打ち切るよ
うな判断をしてもよいし、疑似輪郭と判断される部分輪
郭画素列の総数が所定数以下になったら作業を打ち切る
ようにしてもよい。

以上、本発明を一実施例に基づいて説明したが、本発明
はこの実施例に限定されるわけではない。

要するに、本発明は背景部分の画素のヒストグラムを求
め、このヒストグラムに対して所定のスライスレベルを
設定して絵柄領域を決定する前段階と、この前段階で決
定された絵柄領域の輪郭を部分ごとに調べて、疑似輪郭
と判断される部分があれば、この部分近傍についてスラ
イスレベルの再設定を行って修正を行う後段階と、によ
ってマスク作成を行うようにしたものである。この基本
思想を実現することができれば、どのような手法を用い
て本発明を実施してもかまわない。

〔発明の効果〕

以上のとおり本発明によれば、前段階に続いて後段階を
行うようにしたため、疑似輪郭が部分的に序々に修正さ
れてゆき、精確なマスク作成を行うことができるように
なる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による絵柄のマスク作成方法の手順を示
す流れ図、第２図は第１図の手順によるマスク作成作業
の具体例を示す図、第３図は第１図の手順におけるヒス
トグラムの作成およびスライスレベルの設定手順を説明
するグラフ、第４図は第１図の手順における輪郭画素抽
出手順で用いる方向を示すパラメータ図、第５図は第１
図の手順における輪郭画素抽出作業の具体例を示す図、
第６図は第１図の手順における疑似輪郭判断に利用する
チェーンコードのヒストグラム、第７図は第１図の手順
における修正作業の具体例を示す図、第８図は第１図の
手順における繰返し作業の説明図である。 Ｆ・・・外枠線、Ａ−Ｋ・・・輪郭画素。 出願人代理人　　佐　　藤　　−雄 第２図 第２図 第３図 第６図 第７図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、（ａ）絵柄を有する画像を複数の画素に分解し、各
   画素のもつ濃度値のデータとして入力する画像入力段階
   と、 （ｂ）前記画像中に前記絵柄を囲う外枠線を定義する段
   階と、 （ｃ）前記外枠線上の画素のもつ濃度値についてのヒス
   トグラムを作成する段階と、 （ｄ）前記ヒストグラムの頻度値に所定のスライスレベ
   ルを設定し、このスライスレベルを超える頻度値を有す
   る第１の濃度領域と、このスライスレベル以下の頻度値
   を有する第２の濃度領域との２つの濃度領域を設定する
   段階と、 （ｅ）前記各画素のそれぞれについて、入力した濃度値
   を参照し、前記２つの濃度領域のどちらに所属するかを
   判断し、前記画像を前記第１の濃度領域に所属する画素
   の集合から成る第１属性の閉領域と、前記第２の濃度領
   域に所属する画素の集合から成る第２属性の閉領域とで
   表現する段階と、を有する前段階に続いて、 （ｆ）前記第１属性の閉領域と前記第２属性の閉領域と
   の境界に位置する輪郭画素を抽出して輪郭画素列を形成
   する輪郭画素抽出段階と、 （ｇ）前記輪郭画素列の一部分を抜出し、部分輪郭画素
   列を定義する部分輪郭画素列定義段階と、（ｈ）前記部
   分輪郭画素列について、この部分輪郭画素列が絵柄の正
   規の輪郭を構成しているか否かを判断する判断段階と、 （ｉ）前記判断段階において、正規の輪郭を構成してい
   ない旨の判断がなされた場合、前記ヒストグラムの頻度
   値に前記スライスレベルとは異なる新たなスライスレベ
   ルを設定し、この新たなスライスレベルを超える頻度値
   を有する新たな第１の濃度領域と、この新たなスライス
   レベル以下の頻度値を有する新たな第２の濃度領域との
   ２つの新たな濃度領域を設定し、前記部分輪郭画素列の
   周辺に修正領域を定義し、この修正領域内の画素のそれ
   ぞれについて、入力した濃度値を参照し、前記２つの新
   たな濃度領域のどちらに所属するかを判断し、この修正
   領域内の画素に新たに前記第１の属性または前記第２の
   属性のいずれかを割当て、前記第１属性の閉領域と前記
   第２属性の閉領域とを修正する修正段階と、 を有する後段階を行うことを特徴とする絵柄のマスク作
   成方法。 ２、判断段階（ｈ）において、部分輪郭画素列を構成す
   る各画素について互いに隣接する画素の位置関係の分布
   を求め、この分布をランダムウォークモデルと比較する
   ことにより判断を行うことを特徴とする特許請求の範囲
   第１項記載の絵柄のマスク作成方法。 ３、判断段階（ｈ）において、部分輪郭画素列をはさん
   で両側に位置する画素の色に関する差によって判断を行
   うことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の絵柄の
   マスク作成方法。 ４、修正段階（ｉ）において、より低いレベルに新たな
   スライスレベルの設定を行うことを特徴とする特許請求
   の範囲第１項乃至第３項のいずれかに記載の絵柄のマス
   ク作成方法。