JPH0115491B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は新規な１，４−ナフトキノン誘導体
に関するものである。さらに詳細には、この発明
は例えばコクシジウム症に対し、予防治療効果を
有する新規な１，４−ナフトキノン誘導体、それ
らのカルボキシ基における塩類、それらの製造
法、およびそれらを有効成分とするコクシジウム
症の予防治療剤に関するものである。 この発明の目的物質である１，４−ナフトキノ
ン誘導体は次の一般式（）で示される。 （式中、R¹は水素原子、ヒドロキシ基、低級ア
ルコキシ基またはアリールチオ基、R²はカルボ
キシ基、エステル化されたカルボキシ基、Ｎ−シ
クロアルキル−Ｎ−（N′−シクロアルキルカルバ
モイル）カルバモイル基、Ｎ−（１−ホスホノエ
チル）カルバモイル基、Ｎ−（１−Ｏ，O′−ジ低
級アルキルホスホノエチル）カルバモイル基、Ｎ
−（低級アルコキシカルボニル）フエニルカルバ
モイル基、またはR¹とR²とが一緒になつて形成
された基【式】R³は水素原子または低級ア ルキル基、R⁴は低級アルキル基、R⁵は水素原子
またはハロゲン原子、R⁶は水素原子、低級アル
キル基または低級アルカノイル基をそれぞれ意味
する） 上記のように定義された各基について以下に詳
述するがこの明細書中で使用される“低級”とい
う用語は、特に断わりのない限り炭素原子数１〜
６個のものを意味する。 (1) R¹における低級アルコキシ基について： 低級アルコキシ基の例としてはメトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、tert−ブ
トキシ基などが挙げられる。これらのうち、好
ましい例としてはメトキシ基が挙げられる。 (2) R¹におけるアリールチオ基について： アリールチオ基の例としては置換または非置
換のアリールチオ基が挙げられ、その好ましい
例としてはフエニルチオ、トリルチオ、キシリ
ルチオ、メシルチオ、クメニルチオ基などが挙
げられる。 (3) R²におけるエステル化されたカルボキシ基
について： エステル化されたカルボキシ基の例としては
例えばカルボキシ基と低級アルカノールによつ
て形成されるエステル化されたカルボキシ基が
挙げられ、その例としてはメトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニ
ル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカル
ボニル、イソブトキシカルボニル、sec−ブト
キシカルボニル、tert−ブトキシカルボニルな
どの低級アルコキシカルボニルなどが挙げられ
る。これらのうち好ましい例としてはメトキシ
カルボニル基が挙げられる。 (4) R²におけるアミド化されたカルボキシ基
（Ｎ−シクロアルキル−Ｎ−（N′−シクロアル
キルカルバモイル）カルバモイル基、Ｎ−（１
−ホスホノエチル）カルバモイル基、Ｎ−（１
−Ｏ，O′−ジ低級アルキルホスホノエチル）
カルバモイル基およびＮ−（低級アルコキシカ
ルボニル）フエニルカルバモイル基］につい
て： R²におけるＮ−シクロアルキル−Ｎ−（N′−
シクロアルキルカルバモイル）カルバモイル
基、Ｎ−（１−ホスホノエチル）カルバモイル
基、Ｎ−（１−Ｏ，O′−ジ低級アルキルホスホ
ノエチル）カルバモイル基およびＮ−（低級ア
ルコキシカルボニル）フエニルカルバモイル基
をまとめてアミド化されたカルボキシ基として
説明する。 アミド化されたカルボキシ基としては、カル
ボキシ基またはその反応性誘導体と下記のよう
な置換アミノ化合物により形成されるアミドを
含む。ここでいう置換アミノ化合物としては
Ｎ，N′−ジシクロアルキルカルボジイミド、
低級アルコキシカルボニルアニリンまたは一般
式（−１）で示される置換アルキルアミノ化
合物 （式中、R⁷、R⁸およびR⁹はそれぞれ水素原子
または低級アルキル基を示す）が挙げられる。
またカルボキシ基における反応性誘導体として
は酸ハライド、酸無水物、活性アミド、活性エ
ステルなどが挙げられる。 このような置換アミノ化合物とカルボキシ基
とにより形成されるアミド化されたカルボキシ
基の１つは、Ｎ−シクロアルキル−Ｎ−（N′−
シクロアルキルカルバモイル）カルバモイル基
であつてこの基に含まれるシクロアルキル基と
してはシクロペンチル、シクロヘキシルなどが
挙げられる。 もう１つのアミド化されたカルボキシ基はＮ
−（低級アルコキシカルボニル）フエニルカル
バモイル基であつて、この基に含まれる低級ア
ルコキシカルボニル基としてはメトキシカルボ
ニルなどが挙げられる。 さらにもう１つのアミド化されたカルボキシ
基はＮ−（１−ホスホノエチル）カルバモイル
基またはＮ−（１−Ｏ，O′−ジ低級アルキルホ
スホノエチル）カルバモイル基である。この基
に含まれるR⁷、R⁸およびR⁹の低級アルキル基
については後述する。 (5) R³、R⁴、R⁶、R⁷、R⁸およびR⁹における低級
アルキル基について： 低級アルキルの具体例としてはメチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、tert−ブチル、sec−ブチルなど挙げら
れ、好ましい例としてはメチル基およびエチル
基が挙げられる。 (6) R⁶における低級アルカノイル基について： 低級アルカノイル基の具体例としてはアセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、
バレリルなどが挙げられ、好ましい例としては
アセチル基が挙げられる。 (7) R⁵におけるハロゲン原子について： ハロゲン原子としてはフツ素原子、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられるが、好
ましい例としては塩素原子が挙げられる。 またこの発明の目的物質（）のカルボキシ基
における塩類としては、無機または有機の塩基と
の塩類（例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、カ
ルシウム塩、アルミニウム塩、アンモニウム塩、
マグネシウム塩、トリエチルアミン塩、エタノー
ルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、エチレ
ンジアミン塩、Ｎ，N′−ジベンジルエチレンジ
アミン塩など）およびアミノ酸との塩（例えばア
ルギニン塩、アスパラギン酸塩、グルタミン酸塩
など）等が挙げられる。 目的物質（）およびそれらのカルボキシ基に
おける塩は以下に述べる方法により製造すること
ができる。 () 合成法： (1) 目的化合物の合成法 (i) 工程ＡおよびＢ（化合物（−Ａ）、（
−Ｂ）、（−Ｃ）の合成法） 目的化合物（）のうち、下記（−
Ａ）、（−Ｂ）、および（−Ｃ）式で示
される化合物は以下の図に示す合成法によ
り製造することができる。 （式中R³およびR⁴は前と同じ意味であ
る。） （式中R¹′は水素原子またはヒドロキシ基
で、R³およびR⁴は前と同じ意味である。） 工程Ａについて この工程は式（−２）で示される１，
４−ナフトキノン化合物と式（−３）で
示されるジアゾ化合物とを反応させること
によつて行われる。 化合物（−２）は公知でありまた化合
物（−３）は新規であり、後述する方法
で製造することができる。 この反応は常法により行われ、通常水溶
液中で室温または加温下に行われる。 工程Ｂについて この工程は上記工程Ａで得られる反応生
成物のうち、R¹′がヒドロキシ基である化
合物（−Ｃ）を常法により脱水剤と反応
させることによつて行われる。 この反応で用いられる脱水剤としては、
通常のエステル化反応に適用される脱水剤
が挙げられ、それらのうち、例えば無水酢
酸、無水トリフルオロ酢酸などの有機酸無
水物、Ｎ，N′−ジシクロヘキシルカルボ
ジイミドなどのカルボジイミド化合物が好
都合である。 この反応は通常水溶液中で室温または加
温下で行われる。 (ii) 工程Ｃおよび工程Ｄ（化合物（−Ｂ）
から化合物（−Ａ）への変換）： 化合物（）のうち化合物（−Ａ）は
化合物（−Ｂ）から、下記方法によつて
も得ることができる。 工程Ｃについて この工程は化合物（−Ｂ）に二重結合
のエポキシ化反応に常用される過酸化水素
などの酸化剤を反応させることにより行わ
れる。 この反応は通常メタノール、エタノール
などのアルコール類またはジオキサンなど
の溶媒中で冷却下ないしは室温もしくは加
温下で行われる。 工程Ｄについて この工程は上記工程Ｄにおいて得られる
化合物（−B′）を、例えば三フツ化ホ
ウ素などの触媒の存在下に通常塩化メチレ
ンなどの反媒中で冷却下に撹拌することに
より化合物（−Ａ）に導かれる。 (iii) 工程ＥおよびＦ（化合物（−Ｃ−１）
および化合物（−Ｃ−1′）の合成）： 化合物（）のうち、化合物（−Ｃ−
１）および化合物（−Ｃ−1′）は下記図
に示す方法により製造することができる。 （式中、R³およびR⁴は前と同じ意味であ
り、R¹¹およびR¹²はそれぞれ低級アルキ
ル基、X′はハロゲン原子またはアルキル
硫酸残基などの酸残基を意味する） 工程Ｅについて 化合物（−Ｃ−１）は化合物（−
Ｃ）をジアゾメタン、ジアゾエタンなどの
ジアゾアルカンと反応させることによつて
得られる。 この反応は通常、メタノール、エタノー
ルなどの溶媒中で室温にて行われる。 工程Ｆについいて 化合物（−Ｃ−1′）は上記(iii)の(i)の方
法で得られた化合物（−Ｃ−１）を式
（−８）で示されるアルキル化剤と反応
させることによつて製造することができ
る。この反応は通常酸化銀の存在下クロロ
フオルムなどの溶媒中で室温にて行われ
る。 (iv) 工程ＧおよびＨ（化合物（−Ｃ−２）
および化合物（−Ａ−１）の合成）： 化合物（）のうち、化合物（−Ｃ−
２）および化合物（−Ａ−１）は下記図
に示す方法により製造することができる。 （式中R¹³は低級アルキル、R³、R⁴および
Ｘは前と同じ意味である） 工程Ｇについて この反応は化合物（−Ａ）をR¹³−
OHで示されるアルコール類の存在下ハロ
ゲン化剤で処理することによつて行われ
る。 ここで、ハロゲン化剤としては、例えば
スルフリルクロライド、スルフリルブロマ
イドなどが挙げられる。 この反応は通常塩化メチレン、酢酸など
の溶媒中で行われるが、上記R¹³−OHで
示されるアルコール類、例えばメタノー
ル、エタノール、プロパノール等も溶媒と
して用いることが出来、またはそれらを混
合溶媒として用いることもできる。この反
応は通常室温または加温下で行われる。 工程Ｈについて この方法で使用される脱水剤としては無
水酢酸、無水トリフルオロ酢酸のような有
機酸無水物やＮ，N′−ジシクロヘキシル
カルボジイミドなどの常用の脱水剤が挙げ
られる。 この反応は上記工程Ｇと同様の溶媒中で
室温ないし加温下に行われる。 (v) 工程Ｊ（化合物（−Ａ−３）の合成）： （式中、R³、R⁴およびR⁵は前と同じ意味
である。） 化合物（）のうち化合物（−Ａ−
３）は、化合物（−Ａ−２）をトリハロ
ゲン化ホウ素と反応させることにより製造
することができる。 化合物（−Ａ−２）のうちR⁵が水素
原子である化合物は上述の化合物（−
Ａ）であり、R⁵がハロゲン原子である化
合物は上記(iv)の化合物（−Ａ−１）であ
る。ここでトリハロゲン化ホウ素として
は、例えば三フツ化ホウ素、三臭化ホウ
素、三塩化ホウ素などが挙げられる。 この反応は通常塩化メチレンなどの溶媒
中、冷却下ないし室温にて行われる。 (vi) 工程Ｋ（化合物（−Ｃ−４）の合成）： （式中、R¹⁴は低級アルコキシ基であり、
R¹′、R³、R⁴は前と同じ意味である。） 化合物（）のうち、（−Ｃ−４）式
で示される化合物は（−Ｃ−３）式で示
される化合物をエステル化することによつ
て得ることができる。 この反応で用いられるエステル化剤とし
ては、例えばジアゾアルカンが挙げられる
が、その好ましい例としてはジアゾメタ
ン、ジアゾエタン等が挙げられる。 この反応は通常メタノール、エタノール
等のアルコール類、ジエチルエーテルなど
の溶媒中またはこれら混合溶媒中で室温に
て行われる。 (vii) 工程Ｌ（化合物（−Ｂ−１）の合成）： （式中、R³およびR⁴は前と同じ意味であ
る）化合物（）のうち、次の（−Ｂ−
１）式で示される化合物は、化合物（−
Ｂ）と式R¹⁵−Ｎ＝Ｃ＝Ｎ−R¹⁵（式中R¹⁵
はシクロアルキル基）で表わされるＮ，
N′−ジシクロアルキルカルボジイミドと
反応させることによつて得ることができ
る。 この反応において使用するＮ，N′−ジ
シクロアルキルカルボジイミドの好ましい
例としては、Ｎ，N′−ジシクロペンチル
カルボジイミド、Ｎ，N′−ジシクロヘキ
シルカルボジイミド等があげられる。 この反応は通常塩化メチルなどの溶媒中
で室温にて行われる。 (viii) 工程Ｍ（化合物（−Ｂ−２）の合成）： 〔式中、R³およびR⁴は前と同じ意味であ
り、R¹⁶は低級アルコキシカルボニルフエ
ニル基または 式： （式中、R⁷は前と同じ意味であり、R⁸′お
よびR⁹′はそれぞれ低級アルキル基を意味
する） で示される基を意味する。〕 化合物（）のうち、（−Ｂ−２）式
で示される化合物は、化合物（−Ｂ）ま
たはそのカルボキシ基における反応性誘導
体を化合物（−９）と反応させることに
よつて製造することができる。化合物（
−Ｂ）のカルボキシ基における反応性誘導
体しては酸ハライド（例えば酸クロライド
等）などが挙げられる。この方法におい
て、化合物（−Ｂ）の遊離のカルボ酸を
使用する場合には、通常のアミド化反応に
使用する縮合剤を使用するのが好ましく、
そのような縮合剤としては、例えばＮ，
N′−ジシクロヘキシルカルボジイミドな
どが挙げられる。 この反応は通常、塩化メチレンなどの溶
媒中で室温にて行われる。 (ix) 工程Ｎ（化合物（−Ｂ−３）の合成）： （式中、R³、R⁴、R⁷、R⁸′およびR⁹′は前
と同じ意味である） 化合物（）のうち、（−Ｂ−３）式
で示される化合物は上記(viii)で得られる化合
物（−Ｂ−２）のうち、R¹⁶が式
【式】で示される基である化 合物（−Ｂ−２−ａ）をトリメチルシリ
ルブロマイドなどのトリ低級アルキルシリ
ルハライドと反応させ、ついで水と処理し
て加水分解することによつて製造すること
ができる。 この反応は通常、水溶液中で室温にて行
われる。 (x) 工程Ｏ（化合物（−Ｂ−４）の合成）： （式中、R³およびR⁴は前と同じ意味であ
り、R¹⁷は置換または非置換のアリール基
を意味する。）化合物（）のうち、（−
Ｂ−４）式で示される化合物は上記化合物
（−Ｂ）をHS−R¹⁷（−10）式で示さ
れるアリールチオール化合物と反応させる
ことによつて得られる。 上記化合物（−10）のうち、R¹⁶が置
換アリール基の場合、その置換分として
は、例えば低級アルキル基が挙げられる。 この反応は通常メタノール、エタノール
なでの溶媒中で室温にて行われる。 () 工程Ｐ化合物（−Ｃ−５）の合
成）： （式中、R¹、R²、R³、R⁴およびR⁵は前と
同じ意味であり、R¹⁸は低級アルカノイル
基である。） 化合物（）のうちR⁶が水素原子であ
る化合物すなわち、上記式（−１）で示
される化合物をアシル化剤と反応させるこ
とによつて製造することができる。 この方法で使用されるアシル化剤として
は低級アルカン酸またはその反応性誘導体
が挙げられ、そのような反応性誘導体とし
ては例えば酸塩化物、酸臭化物などの酸ハ
ライド、酸無水物などが挙げられる。 この反応は通常汎用される無機または有
機の塩基の存在下、溶媒中で室温にて行う
のが好ましい。 (2) 原料化合物の合成法 (i) 化合物（−３）の合成法 工程Ａで使用される化合物（−３）は
化合物（−3′）： （式中R³、R⁴は前と同じ意味である） を常法によりシアゾ化することによつて得
られる。 上記化合物（−3′）は新規であり、次
の方法によつて製造することができる。 （式中R³、R⁴は前と同じ意味であり、R¹⁰
は低級アルキル基を意味する。） すなわち、化合物（−７）を２−アミ
ノ−２−メチルプロパノールと常法に従つ
てアミド化反応に付すことによつて、化合
物（−６）に導き、これを脱水剤と反応
させることによつて化合物（−５）を得
る。化合物（−５）をリチウムアミドと
好ましくは窒素気流中で反応させることに
よつて化合物（−４）に導き、ついで常
法に従つて加水分解すると化合物（−
3′）を得ることができる。目的物質（）
およびそれらのカルボキシ基における塩の
うち、下記の式で示される化合物（′）
は醗酵法によつても製造することができ
る。 （式中、R¹、R²はR¹とR²とが一緒になつ
て基【式】を形成するか、R¹が水素 原子であり、R²がカルボキシ基であるか、
またはR¹がヒドロキシ基であり、R²がカ
ルボキシ基であるかのいずれかとする） 以下にその詳細を説明する。 醗酵法による式（′）で示される化合
物の生産は例えばストレプトマイセス・オ
ーランテイカラー（Streptomyces
auranticolor）のようなストレプトマイセ
ス属に属する式（′）で示される化合物
生産菌を常法により培養することによつて
製造することができる。 ここで使用するストレプトマイセス属に
属する式（′）で示される化合物生産菌
のうち、この発明者等が東京都高尾山山中
において採集した土壤から新たに分離し菌
株（No.5995と番号と付す）は次のような菌
学的性質を有する。 (i) 形態学的性質： 本菌株をシユークロース・硝酸塩寒天
培地、グリセリン・アスパラギン寒天培
地、酵母・麦芽寒天培地、オートミール
寒天培地、澱粉・無機塩寒天培地の各平
板培養基上において30℃、10〜14日間生
育させたのち、顕微鏡下で形態の観察を
行つた。 胞子形成菌糸の分枝：単純分枝 胞子形成菌糸の形態：らせん状 気菌糸は枝分かれし、その先端はオー
プンスパイラル（open spiral）を形成
している。 胞子の表面構造：平滑 胞子の大きさ：0.5〜1.1μ×0.9〜1.7μ 胞子の数：10〜50個 胞子柄の着生位置：気菌糸上 鞭毛胞子の有無：認められない 胞子のうの有無：認められない 菌核の有無：認められない 栄養菌糸の分断：認められない (ii) 各培地における生育状態： 以下の性状は30℃で10日間培養したの
ちの観察結果である。 【表】 培地中に生産される拡散性色素はPHに
よりその色調が変化し、0.05N塩酸滴下
によ黄色、0.05N−水酸化ナトリウム滴
下により赤色を呈する。 (iii) 生学的性質 生育温度範囲（ベネツト寒天培地
上） 15℃〜40℃、最適温度28℃ ゼラチンの液化（グルコース・ペプ
トン・ゼラチン培地 陰性 澱粉の加水分解（澱粉・無機塩寒天
培地） 陽性 ミルクの凝固 陰性 ミルクのペプトン化 陰性 メラミン様色素の生成（チロシン寒
天培地、ペプトン・酵母・鉄寒天培地
およびトリプトン・酵母培地による） 陰性 各種炭素源の同化性（プリドハム・
ゴツトリーブ寒天培地による） Ｌ−アラビノース ＋ セルロース − Ｄ−フラクトース ＋ ガラクトース ＋ グルコース ＋ グリセリン ＋ イノシトール − ラクトース − マルトール ＋ Ｄ−マニトール ＋ マンノース ＋ ラフイノース ± Ｌ−ラムノース ＋ サラシン ± シユークロース ＋ Ｄ−キシース ± （＋：よく同化する、±：わずかに同
化する、−：同化せず） 以上の実験結果から、No.5995株はスト
レプトマイセス（Streptomyces）属に
属することが明らであり、その特徴をま
とめると下記の通りである。 気菌糸の形態の単純分枝のせん状。 胞子表面は平滑である。 菌叢表面の色は明るい灰色である。 基生菌糸は薄黄色〜黄褐色である。 非クロモゲニツクで、PHにより色調
が変化する橙色系色素を産出する。 蛋白分解力は弱い。 澱粉水解力は強い。 炭素源はイノシトール、サリシンを
除き広く利用する。 以上のような菌学的特徴を有する既知
菌種について、例えばバージーズ・マニ
ユアル・オブ・デイターミネイテイブ・
バクテリオロジー（Bergey′s Manual
of Determinativ Bacteriology）第８
版（1974年）、イー・ビー・シヤリング
およびデー・ゴツトリーブ（E.B.
Shirling and D.Gottlieb）共著のISP
（International Streptomyces Project）
報告｛インターナシヨナル・ジヤーナ
ル・オブ・システマテイツク・バクテリ
オロジー（International Journal of
Systematic Bacteriology）第18巻69頁
および279頁（1968年）、第19巻第391頁
（1969年）および第22巻第265頁（1972
年）｝エス・エー・ワツクスマン（S.A.
Waksman）著のザ・アクチノミセテス
（The Actinomycetes）第２巻および最
近発表された新種に関する種々の文献で
検索したところ一致するものは見当らな
かつたが、比較的近縁と思われる菌種と
して下記の菌種が挙げられ、それら近縁
の菌種との差を示すと次の通りである。 (1) ストレプトマイセス・ミノエンシス
（Streptomyces minoensis） 気菌糸の形態が屈曲（flexuous）〜
かぎ形（hooks）を示す場合が多い。
可溶性色素をほとんど生産しない。イ
ノシトールをよく利用する。 (2) ストレプトマイセス サラセテイク
ス（Streptomyces saraceticus） 可溶性色素を生産しないい。栄養菌
糸はPHによつて変化する色素を生産し
ない。ラムノースを利用しない。 (3) ストレプトマイセス エリスログリ
セウス（Streptomyces
erythrogriseus） 気菌糸の色グリセリン・アスパラギ
ン寒天培地においてRed.white series
を示す場合がある。シユークロス、ラ
フイノースを利用しない。イノシトー
ルを利用する。 (4) ストレプトマイセス グリセロオラ
ンテイアクス（Streptomyces
griseoaurantiacus） 可溶性色素は塩酸により橙色から赤
色に、水酸化ナトリウムにより褐色に
変化する。イノシトールを利用する。
シユークロースを利用しない。 以上の比較検討結果から、No.5995株の
大きな特徴であるPHの変化によつて、黄
〜橙〜赤と変化する拡散性色素を生成す
る菌株は既知の菌株には見当らない上
に、糖の資化性においても一致する既知
の菌株はない。これらの点を考慮の上、
総合的に判断すると、このNo.5995株は新
種と同定するのが妥当であると考える。 上記の点から本菌株の特徴である拡散
性色素の橙色に着目して、No.5995株をス
トレプトマイセス オランテイカラーNo.
5995（Streptomyces auranticolor No.
5995）と命名した。 このNo.5995株は工業技術院微生物工業
技術研究所に微生物受託番号微工研菌第
5365号として寄託されている。 この発明で使用されるストレプトマイ
セス属に属する式（′）で示される化
合物生産菌は例えば紫外線、Ｘ線などの
照射処理、Ｎ−メチル−N′−ニトロ−
Ｎ−ニトロソグアニジン（NTG）、２−
アミノプリンなどの変更誘起剤による処
理、接合などの通常用いられる変異処理
方法によつて生産能を高めて使用するこ
とができる。 ストレプトマイセス属に属する式
（′）で示される化合物生産菌を培地に
培養することによつて行われる式（′）
で示される化合物の生産は原則的には一
般微生物の培養方法に準ずるが、通常は
液体培地による深部培養法が有利であ
る。培養に用いられる培地としては、合
成培地、半合成培地あるいは天然培地が
用いられ、培地組成としては、たとえば
グルコース、シユークロース、グリセリ
ン、デキストリン、澱粉などが炭素源と
して用いられ、また肉エキス、ペプト
ン、カゼイン加水分解物、グルテンミー
ル、コーンミール、綿実粕、大豆粉、コ
ーンスチプリカー、乾燥酵母、硫酸アル
ミニウム、燐酸アンモニウム、尿素など
の有機または無機の窒素源が用いられ
る。また炭酸カルシウムなどの金属の炭
酸塩、燐酸２水素カリウム、燐酸水素２
カリウムなどの金属の硫酸塩、塩化マグ
ネシウムなどの金属の塩化物が適宜、添
加される。培養中発泡の著しいときに
は、高級アルコール類、植物油、ミリコ
ン化合物などの消泡剤を添加するとよ
い。またこれらの消泡剤のうち、植物油
は炭素源として使用してもよい。培養温
度は25〜30℃前後が適当であり、培養容
量の増大に従つて適宜種培養を行なうと
好結果が得られることが多い。本培養の
培養時間は50〜100時間ぐらいが適当で
あり、培地の濃厚化に従つて培養時間を
さらに延長してもよい。 以上述べた培養条件は使用生産菌株の
特性に応じてそれぞれ最適の条件を選択
して適用される。 このようにして培養物中に蓄積された
化合物は主に培養液中に含有してている
ので、遠心分離またはろ過により菌体を
除去した後、液から一般抗生物質の製
造に用いられる手段によつて分離、採
取、精製される。すなわち減圧濃縮、凍
結乾燥、溶媒抽出、液性変換、例えば陰
イオン交換樹脂、陽イオン交換樹脂、非
イオン性吸着樹脂などの樹脂による処
理、例えば活性炭、けい酸、シリカゲ
ル、セルロース、アルミナなどの吸着剤
による処理、結晶化、再結晶なでの手段
を単独、あるいは任意の順序に組み合わ
せ、また反復して液から有効物質の分
離、採取、精製を行なう。 上述のごとく、式（′）で示される
化合物は、例えば（′）で示される化
合物生産菌を培地に培養することによつ
て得られ、常法によつて分離、精製され
るが、培地中に生産された式（′）で
示される化合物を分離、精製する工程に
つき、その１例を示すと次の通りであ
る。 一般式（′）で示される化合物は、
さらに具体的には下記に示すように、式
（′）中R¹とR²とが一緒になつて
【式】を形成する場合は（′− Ａ）式、式（′）中R¹が水素原子であ
り、R²がカルボキシ基である場合は
（′−Ｂ）式（′）式中R¹が水酸基で
あり、R²がカルボキシ基である場合は
（′−Ｃ）式でそれぞれ示される。 ストレプトマイセス属に属する式
（′）で示される化合物生産菌の多く
は、同時に上記（′−Ａ）、（′−Ｂ）、
（′−Ｃ）を生産することが多いが、生
産菌あるいは培養条件によつてはこれら
のうち、１種あるいは２種のみを生産菌
することもある。 【表】 ステツプａについて： 培養液を常法によつて酸性にし、好
ましくは塩酸によつてPH２程度とし、酢
酸エチル、酢酸ブチルまたはクロロフオ
ルム好ましは酢酸エチルを用いて目的物
質を抽出する。 ステツプｂについて： ステツプａで得られた抽出物を減圧下
濃縮し、例えばシリカゲルのような吸着
剤を用いたクロマトグラフイーにかけ
る。吸着剤として、シリカゲルを用いた
場合には、溶出溶媒を例えばベンゼン、
ベンゼン−酢酸エチル（３：１）、ベン
ゼン−酢酸エチル（１：１）を用いて順
次溶出すると、それぞれの溶出溶媒のフ
ラクシヨン部分に、上記目的物質（′
−Ａ）、（′−Ｂ）、（′−Ｃ）が溶出し
てくる。当然のことながら、この種の操
作において、適当な吸着剤、溶出溶媒を
選択することは、いわばルーチンワーク
であつて、この発明においても上記例示
のみに限られるものでないことは明らか
である。このようにして、培養液から目
的物質（′−Ａ）、（′−Ｂ）、（′−
Ｃ）が単離採取されるが、前述するごと
く、（′−Ｃ）は例えば無水酢酸、無水
トリフルオロ酢酸のような化合物と反応
させることによつて、（′−Ａ）に導く
ことができ、しかも（′−Ａ）は
（′−Ｃ）と比較して結晶化が容易であ
るため、例えば上記ステツプａで得られ
た抽出物を上記無水酢酸、無水トリフル
オロ酢酸などの有機酸の無水物などの脱
水剤と反応させて、含有する（′−Ｃ）
を（′−Ａ）に導いた後、例えばシリ
カゲルカラムクロマトグラフイーにかけ
て、（′−Ａ）、（′−Ｂ）物質を得る
こともできる。また目的物質（′−
Ｂ）、（′−Ｃ）はこれらを含む溶液ま
たは濃縮液を抽出、単離、精製する操作
の過程において、塩基（例えば水酸化カ
リウム、アンモニアなどの無機塩、また
はトリエチルアミン、エタノールアミ
ン、ジシクロヘキシルアミンなどの有機
塩基）で処理することによつて、それぞ
れの対応する塩として単離することもで
きる。また遊離の状態で単離された目的
物質（′−Ｂ）、（′−Ｃ）も常法によ
り適宜上記したような塩に転換すること
もできる。さらにまた上記のようにして
単離された目的物質（′−Ａ）あるい
は（′−Ｂ）の塩は、例えばイオン交
換樹脂、鉱酸による処理などにより遊離
の状態に転換することができる。 (iv) 目的物質（′−Ａ）、（′−Ｂ）、
（′−Ｃ）について： (i) 目的物質（′−Ａ） 元素分析値（％） Ｃ 68.00％、Ｈ 3.53％ 分子量 336（マススペクトルによる） 融点 289〜291℃ 比旋光度 〔α〕²⁵ _D＝０ 紫外線吸収スペクトル 242、303、426ｍμ 赤外線吸収スペクトル ν^KBr _nax＝3070、2980、2940、1760、
1690、1640、1610、1590、1580、
1555、1475、1455、1420、1390、
1384、1382、1355、1328、1278、
1248、1228、1194、1165、1140、
1072、1045、1015、984、961、945、
922、895、888、865、828、815、
790、785、780、745、730、720、
710、702、698cm^-1 溶解性 一部溶解：ジメチルスルフオキサイ
ド、テトラヒドロフラン 難溶：メタノール、エタノール、ア
セトン、クロロフオルム 不溶：水 呈色反応 陽性：過マンガン酸カリウム反応、
ヨウ素反応、塩化第２鉄反応 陰性：バニリン発色反応 物質の性質 酸性、アルカリ性溶液中で不安定 物質の形状および色 橙赤色プリズム晶 核磁気共鳴スペクトルDMSO−
d₆（ppm）：2.38（3H、ｓ）、3.68
（3H、ｓ）、7.12（1H、ｓ）、7.30
（1H、dd、Ｊ＝7.6Hz、1.3Hz）、7.38
（1H、ｓ）、7.50（1H、dd、Ｊ＝7.6
Hz、1.3Hz）、7.74（1H、ｔ、Ｊ＝7.6
Hz）、11.4（1H、ブロード） 上記の理化学的性状および別途研究の
結果から、目的物質（′−Ａ）の化学
構造式は上述のように同定された。 (i) 目的物質（′−Ｂ）： 元素分析 Ｃ 67.32％、Ｈ 4.34％ 分子量 338（マススペクトルによる） 融点 300℃以上 比旋光度 〔α〕²⁵ _D＝０ 紫外線吸収スペクトル 276、410ｍμ 赤外線吸収スペクトル ν^KBr _nax＝3500〜2200（ブロード）、
1720、1690、1645、1610、1580、
1570（肩）、1490、1470、1453、
1410、1365、1322、1290、1253、
1222、1185、1165、1110、1082、
1070、1050（肩）、990、967、940、
920、910、862、853、837、810、
780（肩）、770、745、725、690、
680、675（肩）^-1 溶解性 易溶：メタノール、エタノール、ア
セトン、酢酸エチル、クロロフオ
ルム 不溶：水、ベンゼン、ヘキサン 呈色反応 陽性：過マンガン酸カリウム反応、
ヨウ素反応、塩化第２鉄反応 陰性：バニリン発色反応 物質の性質 PH２およびPH10の溶液中で50℃、30
分間安定である。 物質の形状および色 橙色プリズム晶 核磁気共鳴スペクトル CDCl₃（ppm）：2.40（3H、ｓ）、3.66
（3H、ｓ）、6.78（1H、ｓ）、7.02
（1H、ｓ）、7.25（1H、ｍ）、7.68
（3H、ｍ）、7.80（1H、ブロー
ド）、12.00（1H、ブロード、ｓ） 上記の理化学的性状および別途研究
の結果から、目的物質（′−Ｂ）の
化学構造式は上述のように同定され
た。 (iii) 目的物質（′−Ｃ） 元素分析値 Ｃ 64.23％、Ｈ 3.91％ 分子量 354（マススペクトルによる） 融点 288〜290℃ 比旋光度 〔α〕²⁵ _D＝０ 紫外線吸収スペクトル 288、412ｍμ 赤外線吸収スペクトル ν^KBr _nax＝3380、3300〜2300（ブロー
ド）、2920、2850、2600、1690、
1660（肩）、1645（肩）、1630、1608、
1580、1570（肩）、1545、1515、1490
（肩）、1480、1460、1395（肩）、
1385、1350、1310、1290、1260、
1230、1215、1195（肩）、1190、
1175、1160、1105、1065、1038、
962、938、910、870、855、835、
818、795、788、755、735、725、
690cm^-1 溶解性 易溶：メタノール、エタノール 一部溶解：アセトン、酢酸エチル 不溶：水、エーテル、ヘキサン 呈色反応 陽性：過マンガン酸カリウム反応、
ヨウ素反応、塩化第２鉄反応 陰性：バニリン発色反応 物質の性質 PH２およびPH10の溶液中で50℃、
30分間安定である。 物質の形状および色 橙色針状晶 核磁気共鳴スペクトル DMSO−d₆（ppm）：2.43（3H、ｓ）、
3.73（3H、ｓ）、7.17（1H、ｓ）、
7.2〜7.9（4H、ｍ）、11.63（1H、
ｓ）、2.6〜4.6（2H、ブロード） 上記の理化学的性状および別途研究
の結果から、目的物質（′−Ｃ）の
化学構造式は上述のように同定され
た。 (3) 目的物質の有用性： この発明の１，４−ナフトキノン誘導体
（）は、下記試験例に示すように、抗コク
シジウム剤として著効を有する。 (1) 鶏におけるコクシジウム症の感染治療試
験 試験例 １ ２週令の白色レグホン系雄鶏（平均体重100ｇ）
に目的物質（）の代表例および対照薬剤（モネ
ンシン）を、表１に示したような投与レベルで各
投与レベルにおいて１回の投与量が２mlになるよ
うに１％アラビアガム水溶液に懸濁させて、１日
３回３日連続投与した。無治療群には１％アラビ
アガム水溶液を同様に各回２mlずつ投与した。 第１回投与直後に感染群にはアイメリア・テネ
ラ（Eimeria tenella）のオーシストを3.0×10⁴／
羽ずつ経口感染させた。第１回薬剤投与時および
薬剤投与終了後３日目に体重測定を行ない、体重
変化を調べ、２回目の体重測定終了直後に屠殺
し、解剖検定し、盲腸部位の病変を調べ、各薬剤
の効果をみた。 【表】 増体指数：無感染群の実験期間中の体重増加を
100として算出した。 また感染無治療群、無感染群、モネンシン、
（′−Ａ）投与群は各群３羽とし、病変値、増体
指数は３羽の平均を求めた。（′−Ｂ）投与群は
各群１羽とした。 (2) 急性毒性 化合物（′−Ａ）： ＞200mg／Kg（マウス、経口） ＞1000mg／Kg（鶏、経口） 化合物（′−Ｂ）： ＞1000mg／Kg（マウス、経口） ＞200mg／Kg（鶏、経口） 上記試験例で明かなように、この発明の１，４
−ナフトキノン誘導体（）は抗コクシジウム剤
として有用であるが、抗コクシジウム剤として用
いる場合には、この化合物自体を単独で使用する
ことのできるが、一般には例えば脱脂米ぬか、脱
脂大豆粉、ふすま、カオリン、タルク、炭酸カル
シウム、乳糖、水などの担体と混合したものを使
用するか、あるいはこのようにして混合したもの
もしくは、この化合物自体を動物飼料と混合して
使用する方法が好ましい。ここで使用する１，４
−ナフトキノン誘導体（）はかならずしも純品
である必要はなく、例えば１，４−ナフトキノン
誘導体（）が醗酵法によつて得られる場合に
は、それらを含む醗酵ブロス、菌体、液などを
部分的に精製したものであつてもよい。 この発明の抗コクシジウム剤の投与量は動物の
種類、成長時期によつて異なるが、通常１〜100
mg／Kg／日の範囲内で最適投与量が選択される。 次にこの発明の実施例を示す。 (A) 合成法 実施例 １ ８−ヒドロキシ−１−メトキシ−３−メチル−
7.12−ジヒドロ−5H−ベンゾ〔ｄ〕ナフト
〔２，３−ｂ〕ピラン−５，７，12−トリオン
の合成 (1)Ｎ−（１，１−ジメチル−２−ヒドロキシ）−
２，３−ジメトキシ−５−メチルベンズアミド
の合成 ２，３−ジメトキシ−５−メチル安息香酸
（15.7ｇ）を塩化メチレン（120ml）に溶解し、
トリエチルアミン（8.9ｇ）を加えた。エタノ
ール・ドライアイスにて冷却し、撹拌下クロル
ぎ酸エチルエステル（8.6ｇ）を加えた。同温
度にて１時間撹拌を続けた後、２−アミノ−２
−メチルプロパノール（9.6ｇ）を加え、室温
に戻し、さらに７時間撹拌を続けた。反応液を
希塩酸、希炭酸ナトリウム溶液で洗浄した後、
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去した。
得られた無色油状物を、ジエチルエーテル・ヘ
キサン混液から結晶化して無色の針状結晶
（19.2ｇ）を得た。 融点：73〜75℃ 元素分析（C₁₄H₂₁NO₄）（％）： 実験値 C62.62、H8.01、N5.24 理論値 C62.90、H7.92、N5.24 (2) ２−（２，３−ジメトキシ−２−メチルフエ
ニル）−４，４−ジメチル−２−オキサゾリン (1)で合成したＮ−（１，１−ジメチル−２−
ヒドロキシ）−２，３−ジメトキシ−５−メル
ベンズアミド（19.2ｇ）をジエチルエーテル
（150ml）に溶解し、室温で撹拌しながら塩化チ
オニル（21ml）を滴下した。同温度で15分間撹
拌した後、傾斜しジエチルエーテルを除いた。
ジエチルエーテル（30ml）で反応物を洗浄し
（５回）、20％水酸化ナトリウム水溶液を加え
て、ジエチルエーテルで抽出した。溶媒層を水
洗後、硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を留去
し、減圧下蒸留し、無色のオイル（14.3ｇ）を
得た。 融点：124〜125℃／２mmHg 元素分析（C₁₄H₁₉NO₃）（％）： 実験値：C67.1、H7.8、N5.6 理論値：C67.4、H7.7、N5.6 (3) ２−（２−アミノ−３−メトキシ−５−メチ
ルフエニル）−４，４−ジメチル−２−オキサ
ゾリンの合成 ２−（２，３−ジメトキシ−２−メチルフエ
ニル）−４，４−ジメチル−２−オキサゾリン
（５ｇ）を乾燥したテトラハイドロフラン（80
ml）に溶解し、リチウムアミド（60ｇ）を加え
て室温にて窒素ガス気流中で３日間撹拌した。
反応液に氷水を加えてジエチルエーテルで抽出
した。溶媒層を水洗後、硫酸マグネシウムで乾
燥して溶媒を留去し、褐色のオイルを得た。シ
リカゲルクロマトグラフイーに付して、２−
（２−アミノ−３−メトキシ−５−メチルフエ
ニル）−４，４−ジメチル−２−オキサゾリン
の無色プリズム結晶（1.2ｇ）を得た。 融点：135〜137.5℃（ジエチルエーテルから結
晶） 元素分析（C₁₃H₁₈N₂O₂）（％）： 実験値：C66.37、H7.75、N11.80 理論値：C66.64、H7.74、N11.96 (4) ２−アミノ−３−メトキシ−５−メチル安息
香酸の合成 ２−（２−アミノ−３−メトキシ−２−メチ
ルフエニル）−４，４−ジメチル−２−オキサ
ゾリン（500mg）を10％塩酸（42ml）に溶解し
14時間加熱還流した。反応液を約10mlまで濃縮
し、アンモニア水を加えてPH4.6〜4.8とし、析
出した結晶を酢酸エチルで抽出し、硫酸マグネ
シウムで乾燥後、溶媒を留去した。得られた粗
結晶（250mg）をエタノール・水から再結晶し、
無色の針状結晶を得た。 融点：170〜172℃ 元素分析（C₉H₁₁NO₃）（％）： 実験値：C59.56、H6.02、N7.75 理論値：C59.66、H6.12、N7.73 (5) ２−（３，５−ジヒドロキシ−１，４−ナフ
トキノン−２−イル）−３−メトキシ−５−メ
チル安息香酸の合成 ２−アミノ−３−メトキシ−２−メチル安息
香酸（170mg）を塩酸水溶液（濃塩酸：水＝
0.15ml：４ml）に溶解し、寒剤氷冷下亜硝酸ナ
トリウム（80mg）水溶液（４ml）を滴下した。
このようにして得られたジアゾニウム塩を５％
水酸化カリウム（10ml）に溶解したヒドロキシ
ユグロン（180mg）に温度40〜45℃で滴下した。
同温度で１時間撹拌した後、放冷し、塩酸酸性
とし、酢酸エチルで抽出し、水洗し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を留去し、２−（３，
５−ジヒドロキシ−１，４−ナフトキノン−２
−イル）−３−メトキシ−５−メチル安息香酸
を得た。 (6) ８−ヒドロキシ−１−メトキシ−３−メチル
−７，12−ジヒドロ−5H−ベンゾ〔ｄ〕ナフ
ト〔２，３−ｂ〕ピラン−５，７，12−トリオ
ンの合成 上で得られた２−（３，５−ジヒドロキシ−
１，４−ナフトキノン−２−イル）−３−メト
キシ−５−メチル安息香酸の全量を酢酸エチル
（10ml）に溶解し、室温にて撹拌しつつ、無水
トリフルオロ酢酸と無水酢酸の混液（１ml：10
ml）を加えて、同温度で１時間撹拌を続け、得
られる反応液を水、希炭酸ナトリウム溶液で洗
浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。次に
溶媒を留去して得た褐色オイルをシリカゲルカ
ラムクロマトグラフイーに付して朱色結晶（20
mg）を得た。 融点：282〜292℃ 赤外線吸収スペクトル、核磁気共鳴スペクト
ルなどの値が実施例15で醗酵法によつて得られ
たものと完全に一致した。 実施例 ２ ８−ヒドロキシ−１−メトキシ−３−メチル−
７，12−ジヒドロ−5H−ベンゾ〔ｄ〕ナフト
〔２，３−ｂ〕ピラン−５，７，12−トリオン
の合成 (1) ２−（５−ヒドロキシ−２，３−エポキシ−
１，４−ジヒドロナフタレン−１，４−ジオン
−２−イル）−３−メトキシ−５−メチル安息
香酸の合成 実施例15で得た２−（５−ヒドロキシ−１，
４−ナフトキノン−２−イル）−３−メトキシ
−５−メチル安息香酸（100mg）をメタノール
（15ml）に溶解し、炭酸水素ナトリウム（80mg）
を加え、氷冷下撹拌した。次に30％過酸化水素
（1.5ml）を滴下し、徐々に室温に戻し、同温度
で５時間撹拌を続けた。次に溶媒を減圧下留去
し、希塩酸を加え、酢酸エチルで抽出し、硫酸
マグネシウムを加えて乾燥し、溶媒を留去し、
２−（５−ヒドロキシ−２，３−エポキシ−１，
４−ジヒドロナフタレン−１，４−ジオン−２
−イル）−３−メトキシ−５−メチル安息香酸
（100mg）を得た。 融点：267〜268℃ (2) ８−ヒドロキシ−１−メトキシ−３−メチル
−７，12−ジヒドロ−5H−ベンゾ〔ｄ〕ナフ
ト〔２，３−ｂ〕ピラン−５，７，12−トリオ
ンの合成 (1)で得た２−（５−ヒドロキシ−２，３−エ
ポキシ−１，４−ジヒドロナフタレン−１，４
−ジオン−２−イル）−３−メトキシ−５−メ
チル安息香酸（100mg）を塩化メチレン（20ml）
に溶解し、氷冷撹拌下三フツ化ホウ素（１ml）
を加え、同温度で１時間撹拌し、徐々に室温に
戻し、１夜同温度で撹拌した。反応液を氷水中
に加え、酢酸エチルで抽出し、抽出液を水洗
し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留
去し、残渣をシリカゲルクロマトグライーに付
し、クロロフオルムで溶出し、８−ヒドロキシ
−１−メトキシ−３−メチル−７，12−ジヒド
ロ−5H−ベンゾ〔ｄ〕ナフト〔２，３−ｂ〕
ピラン−５，７，12−トリオンの結晶60mgを得
た。この化合物の物性は実施例15で得たものと
完全に一致した。 実施例 ３ ２−（３−メトキシ−２−ヒドロキシ−１，４
−ナフトキノン−２−イル）−３−メトキシ−
５−メチル安息香酸メチルエステルの合成 実施例１(5)で得られた２−（３，５−ジヒドロ
キシ−１，４−ナフトキノン−２−イル）−３−
メトキシ−５−メチル安息香酸（100mg）をメタ
ノール（20ml）に溶解し、室温でジアゾメタンで
処理した。２時間後、酢酸を加えて過剰のジアゾ
メタンを分解し、減圧下溶媒を留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフイーに付し、クロ
ロフオルムで溶出し、２−（３−メトキシ−２−
ヒドロキシ−１，４−ナフトキノン−２−イル）
−３−メトキシ−５−安息香酸メチルエステル
（60mg）を得た。 融点：165〜167℃ 実施例 ４ ２−（３，５−ジメトキシ−１，４−ナフトキ
ノン−２−イル）−３−メトキシ−５−メチル
安息香酸メチルエステルの合成 実施例３で得た２−（３−メトキシ−５−ヒド
ロキシ−１，４−ナフトキノン−２−イル）−３
−メトキシ−５−メチル安息香酸メチルエステル
（50mg）をクロロフオルム（10ml）に溶解した。
酸化銀（200mg）およびヨウ化メチル（３ml）を
加え、撹拌下５時間還流した。不溶物を除去した
後、溶媒を減圧下留去し、得られる残渣をシリカ
ゲルクロマトグラフイーに付した。クロロフオル
ムで溶出し、溶出液を濃縮し、メタノールから結
晶化して２−（３，５−ジメトキシ−１，４−ナ
フトキノン−２−イル）３−メトキシ−５−メチ
ル安息香酸の結晶（20mg）を得た。 融点：148〜150℃。 実施例 ５ ４−クロロ−８−ヒドロキシ−１−メトキシ−
３−メチル−７，12−デヒドロ−5H−ベンゾ
〔ｄ〕ナフト〔２，３−ｂ〕ピラン−５，７，
12−トリオンの合成 (1) ２−（３，５−ジヒドロキシ−１，４−ナフ
トキノン−２−イル）−３−メトキシ−５−メ
チル−６−クロロ安息香酸メチルエステルの合
成 実施例１で得た８−ヒドロキシ−１−メトキ
シ−３−メチル−７，12−ジヒドロ−5H−ベ
ンゾ〔ｄ〕ナフト〔２，３−ｂ〕ピラン−５，
７，12−トリオン（400mg）を酢酸、塩化メチ
レン、メタノールの混液（20：100：１）（20
ml）に溶解し、スルフリルクロライド（２ml）
を加え、５時間還流した。その後溶媒を減圧下
留去し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフイーに付し、２−（３，５−ジヒドロキシ
−１，４−ナフトキノン−２−イル）−３−メ
トキシ−５−メチル−６−クロロ安息香酸メチ
ルエステルを得た。 (2) (1)で得た２−（３，５−ジヒドロキシ−１，
４−ナフトキノン−２−イル）−３−メトキシ
−５−メチル−６−クロロ安息香酸メチルエス
テルを20％水酸化ナトリウムに溶解し、３時間
還流した後、放冷し、酸性にした後、酢酸エチ
ルで抽出し。溶媒層を水洗した後、乾燥し、溶
媒を留去し得られる残渣をテトラヒドロフラン
（２ml）に溶解し、魅水酢酸（２ml）を加え、
析出する結晶を取し、ジエチルエーテルで洗
浄し、乾燥し、４−クロロ−８−ヒドロキシ−
１−メトキシ−３−メチル−７，12−ジヒドロ
−5H−ベンゾ〔ｄ〕ナフト〔２，３−ｂ〕ピ
ラン−５，７，12−トリオンの結晶（70mg）を
得た。 融点：294〜296℃。 実施例 ６ １，８−ジヒドロキシ−３−メチル−７，12−
ジヒドロ−5H−ベンゾ〔ｄ〕ナフト〔２，３
−ｂ〕ピラン−５，７，12−トリオンの合成 実施例１で得られた８−ヒドロキシ−１−メト
キシ−３−メチル−７，12−ジヒドロ−5H−ベ
ンゾ〔ｄ〕ナフト〔２，３−ｂ〕ピラン−５，
７，12−トリオン（２ｇ）を塩化メチレンに溶解
し、氷令下に塩化メチレンに溶解した三臭化ホウ
素（２ml）を滴下した。その後同温度で２時間撹
拌し、反応液を水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥
した後、溶媒を留去し、粗結晶を得た。メタノー
ルから再結晶し黄色結晶（1.1ｇ）を得た。 融点：236〜238℃。 実施例 ７ ２−（５−ヒドロキシ−１，４−ナフトキノン
−２−イル）−３−メトキシ−５−メチル安息
香酸メチルエステルの合成 実施例15で得られた２−（５−ヒドロキシ−１，
４−ナフトキノン−２−イル）−３−メトキシ−
５−メチル安息香酸（１ｇ）をメタノール（50
ml）に溶解し、ジアゾメタンのジエチルエーテル
溶液（20ml）を加えて室温にて１時間放置した。
減圧下、ジエチルエーテルおよびメタノールを留
去し、シリカゲルクロマトグラフイーに付して精
製し、ジエチルエーテル、ｎ−ヘキサン混液から
再結晶して２−（５−ヒドロキシ−１，４−ナフ
トキノン−２−イル）−３−メトキシ−５メチル
安息香酸メチルエステルの黄色結晶（500mg）を
得た。 融点：140〜143℃。 実施例 ８ Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−〔（N′−シクロヘキ
シルカルバモイル〕−２−（５−ヒドロキシ−
１，４−ナフトキノン−２−イル）−３−メト
キシ−５−メチルベンズアミドの合成 実施例15で得られた２−（５−ヒドロキシ−１，
４−ナフトキノン−２−イル）−３−メトキシ−
５−メチル安息香酸（338mg）を塩化メチレンに
溶解し、氷冷撹拌下にＮ，N′−ジシクロヘキシ
ルカルボジイミドを少しずつ加えた。室温にて１
日撹拌を続け、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフイーに付した。石油
エーテルから結晶化し、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ
−〔（N′−シクロヘキシル）カルバモイル〕−２−
（５−ヒドロキシ−１，４−ナフトキノン−２−
イル）−３−メトキシ−５−メチルベンズアミド
の赤色結晶200mgを得た。 融点：187〜190℃。 実施例 ９ １−〔２−（５−ヒドロキシ−１，４−ナフトキ
ノン−２−イル）−３−メトキシ−５−メチル
ベンズアミド〕エチルホスホン酸ジエチルエス
テルの合成 塩化メチレンに実施例15で得た２−（５−ヒド
ロキシ−１，４−ナフトキノン−２−イル）−３
−メトキシ−５−メチル安息香酸（1.5ｇ）およ
び１−アミノエチルホスホン酸ジエチルエステル
を溶解し、室温にてＮ，N′−ジシクロヘキシル
カルボジイミドを少しずつ加えた。同温度にて１
夜撹拌し、生成する尿素を去した。減圧下溶媒
を留去し、得られる残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフイーに付し、ジエチルエーテルとｎ−ヘキサ
ンの混液から結晶化し、１−〔２−（５−ヒドロキ
シ−１，４−ナフトキノン−２−イル）−３−メ
トキシ−２−メチルベンズアミド〕エチルホスホ
ネイトジエチルエステルの黄色結晶（１ｇ）を得
た。 融点130〜132℃ 実施例 10 １−〔２−（５−ヒドロキシ−１，４−ナフトキ
ノン−２−イル）−３−メトキシ−５−メチル
ベンズアミド〕エチルホスホン酸の合成 実施例９で得た１−〔２−（５−ヒドロキシ−
１，４−ナフトキノン−２−イル）−３−メトキ
シ−５−メチルベンズアミド〕エチルホスホネイ
トジエチルエステル（500mg）にトリメチルシリ
ルブロマイドを加え、室温にて２時間撹拌した。
過剰のトリメチルシリルブロマイドを留去し、水
を加えて室温にて30分間撹拌して得られる粗結晶
を取した。メタノールから再結晶して、１−
〔２−（５−ヒドロキシ−１，４−ナフトキノン−
２−イル）−３−メトキシ−５−メチルベンズア
ミド〕エチルホスホン酸の黄色結晶（200mg）を
得た。 融点：300℃以上 IR：νヌジヨール max＝3600〜2500、1665、1638、
1620、1607、1580、1510 実施例 11 ２−〔３−（ｐ−トリルフエニルチオ）−５−ヒ
ドロキシ−１，４−ナフトキノン−２−イル〕
−３−メトキシ−５−メチル安息香酸の合成 実施例15で得た２−（５−ヒドロキシ−１，４
−ナフトキノン−２−イル）−３−メトキシ−５
−メチル安息香酸（130mg）をエタノールに懸濁
し、室温にて撹拌下４−メチルベンゼンチオール
（80mg）のエタノール溶液を加えた。同温度で30
分間撹拌を続け、減圧下エタノールを留去し、得
られた残渣をシリカゲルクロマトグラフイーに付
した後、ジエチルエーテルとｎ−ヘキサンの混液
から結晶化し、２−〔３−（Ｐ−トリルフエニルチ
オ）−５−ヒドロキシ−１，４−ナフトキノン−
２−イル〕−３−メトキシ−５−メチル安息香酸
の黄色結晶（60mg）を得た。 融点：96〜98℃。 実施例 12 ２−〔２−（５−ヒドロキシ−１，４−ナフトキ
ノン−２−イル）−３−メトキシ−５−メチル
ベンズアミド〕安息香酸メチルエステルの合成 実施例15で得た２−（５−ヒドロキシ−１，４
−ナフトキノン−２−イル）−３−メトキシ−５
−メチル安息香酸（300mg）およびアントラニル
酸メチルエステル（300mg）を乾燥した塩化メチ
レン（15ml）に溶解し、氷冷した。撹拌下ジシク
ロヘキシルカルボジイミド（206mg）を加え、同
温度で１時間撹拌した。室温に戻し、一夜撹拌
し、不溶物を去し、液を希塩酸、水、炭酸ナ
トリウム、水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウム
上で乾燥し、溶媒を留去した。残渣をシリカゲル
クロマトグラフイーに付し、クロロフオルムで溶
出し、メタノールから再結晶し、２−〔２−（５−
ヒドロキシ−１，４−ナフトキノン−２−イル）
−３−メトキシ−５−メチルベンズアミド〕安息
香酸メチルエステルの結晶（250mg）を得た。 m.p.190〜194℃ 実施例 13 ８−アセトキシ−１−メトキシ−３−メチル−
７，12−ジヒドロ−5H−ベンゾ〔ｄ〕ナフト
〔２，３−ｂ〕ピラン−５，７，12−トリオン
の合成 実施例15で得た８−ヒドロキシ−１−メトキシ
−３−メチル−７，12−ジヒドロ−5H−ベンゾ
〔ｄ〕ナフト〔２，３−ｂ〕ピラン−５，７，12
−トリオンの合成（150mg）をピリジン（10ml）
に溶解し、無水酢酸（５ml）を加え、一夜放置し
た。減圧下溶媒を留去した後、クロロホルムで抽
出し、溶媒層を希塩酸、水で洗浄し、硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、溶媒を留去し残渣をジエチルエー
テルから結晶化させて、８−アセトキシ−１−メ
トキシ−３−メチル−７，12−ジヒドロ−5H−
ベンゾ〔ｄ〕ナフト〔２，３−ｂ〕ピラン−５，
７，12−トリオンの結晶（45mg）を得た。 融点：267〜269℃ 実施例 14 ２−（３−メトキシ−５−アセトキシ−１，４
−ナフトキノン−２−イル）−３−メトキシ−
５−メチル安息香酸メチルエステルの合成 実施例３で得た２−（３−メトキシ−５−ヒド
ロキシ−１，４−ナフトキノン−２−イル）−３
−メトキシ−５−メチル−安息香酸メチルエステ
ル（20mg）をピリジン（３ml）に溶解し、無水酢
酸（３ml）を加え一夜室温に放置した。水を加
え、酢酸エチルで抽出した。溶媒層を希塩酸、
水、希炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後、
硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を留去し、メタ
ノールを加えて結晶化させ、２−（３−メトキシ
−５−アセトキシ−１，４−ナフトキノン−２−
イル）−３−メトキシ−５−メチル安息香酸メチ
ルエステル（13mg）を得た。融点：127〜128℃。 (B) 醗酵法 実施例 15 ８−ヒドロキシ−１−メトキシ−３−メチル−
７，12−ジヒドロ−5H−ベンゾ〔ｄ〕ナフト
〔２，３−ｂ〕ピラン−５，７，12−トリオン
および２−（５−ヒドロキシ−１，４−ナフト
キノン−２−イル）−３−メトキシ−５−メチ
ル−安息香酸の製造 可溶性澱粉１％、グリセリン１％、棉実粕１％
酵母エキス１％、水96％からなる液体培地を80ml
ずつ、それぞれ250ml容坂口フラスコに分注し、
120℃で20分間滅菌した。これらに上記ストレプ
トマイセス・オランテイカラーNo.5995株の斜面培
養物をそれぞれ１白金耳ずつ接種し30℃で３日間
振とう培養した。別に上記と同一の培地20を30
容ジヤーフアーメンターに注入し、120℃で20
分間滅菌する。次いで上記坂口フラスコによる培
養物200mlを接種し、毎分20の無菌空気を通じ、
毎分300回転の撹拌を行ないながら、30℃で２日
間培養した。次に、別に可溶性澱粉２％、棉実粕
0.5％、小麦胚芽0.5％、乾燥酵母0.25％、コーン
スチープリカー0.25％、リン酸２水素カリウム
0.05％リン酸１水素ナトリウム・12水化物0.05
％、水96.4％からなる培地1750を2000容培養
タンクに注入し、120℃20分間滅菌した。次いで、
これに上記ジヤーフアーメンターによる培養物
52.5を接種し、毎分1750mlの無菌空気を通じ、
毎分200回転の撹拌を行ないながら、27℃で３日
間培養した。培養終了後、培養物にけい藻土20Kg
を加え、過し、ろ液1400を得た。得られたろ
液を液温30℃以下で250mlになるまで濃縮した。
この濃縮液に酢酸エチル300を加え、撹拌した
のち、酢酸エチル層を分取した。この操作を２回
繰り返し、得られる酢酸エチル層を合わせ、１
になるまで濃縮した。 この濃縮液をシリカゲル（メルク社製70〜230
メツシユ）３Kgを用いたカラムクロマトグラフイ
ーに付した。カラムからの目的物質の溶出はベン
ゼン８、ベンゼン：酢酸エチル（３：１）８
、アセトン２、メタノール８の順序で行な
い、ベンゼン溶出画分を集め、濃縮し、８−ヒド
ロキシ−１−メトキシ−３−メチル−７，12−ジ
ヒドロ−5H−ベンゾ〔ｄ〕ナフト〔２，３−ｂ〕
ピラン−５，７，12−トリオン粗結晶1.5ｇを得
た。この粗結晶をテトラヒドロフランから再結晶
し、８−ヒドロキシ−１−メトキシ−３−メチル
−７，12−ジヒドロ−5H−ベンゾ〔ｄ〕ナフト
〔２，３−ｂ〕ピラン−５，７，12−トリオンの
結晶１ｇを得た。 次にベンゼン：酢酸エチル（３：１）溶出画分
を濃縮し、２−（５−ヒドロキシ−１，４−ナフ
トキノン−２−イル）−３−メトキシ−５−メチ
ル安息香酸の粗結晶6.5ｇを得た。この粗結晶を
エタノールから再結晶し、２−（５−ヒドロキシ
−１，４−ナフトキノン−２−イル）−３−メト
キシ−５−メチル安息香酸の結晶4.2ｇを得た。 実施例 16 ２−（３，５−ジヒドロキシ−１，４−ナフト
キノン−２−イル）−３−メトキシ−５−メチ
ル安息香酸の製造 可溶性澱粉２％、棉実粕0.5％、小麦胚芽0.5
％、乾燥酵母0.25％、コーンスチープリカー0.25
％、リン酸２水素カリウム0.5％、リン酸１水素
ナトリウム・12水化物0.5％、水96.5％からなる
培地1750を2000容培養タンクに注入し、120
℃、20分間滅菌した。次に、これに上記実施例15
におけるジヤーフアーメンターによる培養物と全
く同一の方法によつて得られた培養物30を接種
し、毎分1750の無菌空気を通じ、毎分200回転
の撹拌を行ないながら、25℃で３日間培養した。 培養終了後、培養物にけい藻土20Kgを加え、ろ
過し、ろ液1450を得た。得られたろ液を液温30
℃以下で減圧下310に濃縮した。この濃縮液を
6N−HClでPH２とし、酢酸エチル300および
360を用いてそれぞれ２回抽出した。得られた
酢酸エチル層に無水硫酸マグネシウムを加え乾燥
し、次いで濃縮し、油状物を得た。この油状物に
エタノール200mlを加えて溶解させ、エチルエー
テルを加えて２−（３，５−ジヒドロキシ−１，
４−ナフトキノン−２−イル）−３−メトキシ−
５−メチル安息香酸の沈澱５ｇを得た。次いでこ
の沈澱をテトラヒドロフランに加熱溶解し、濃縮
後冷却して、２−（３，５−ジヒドロキシ−１，
４−ナフトキノン−２−イル）−３−メトキシ−
５−メチル安息香酸の結晶3.37ｇを得た。 実施例 17 ２−（５−ヒドロキシ−１，４−ナフトキノン
−２−イル）−３−メトキシ−５−メチル安息
香酸および８−ヒドロキシ−１−メトキシ−３
−メチル−７，12−ジヒドロ−5H−ベンゾ
〔ｄ〕ナフト〔２，３−ｂ〕ピラン−５，７，
12−トリオンの製造 可溶性澱粉２％、棉実粕0.5％、小麦胚芽0.5
％、乾燥酵母0.25％、コーンスチープリカー0.25
％、リン酸２水素カリウム0.5％、リン酸１水素
ナトリウム・12水化物0.5％、水96.5％からなる
培地1750を2000容培養タンクに注入し、120
℃、20分間滅菌した。次に、これに上記実施例12
におけるジヤーフアーメンターによる培養物と全
く同一の方法によつて得られた培養物30を接種
し、毎分1750の無滅空気を通じ、毎分200回転
の撹拌を行ないながら、30℃で３日間培養した。
培養液1700をPH４とし、300および350の
酢酸エチルで２回抽出し、抽出液を合わせて、減
圧下40まで濃縮した。濃縮物に１％炭酸水素ナ
トリウム水溶液（30）を加え、酢酸エチル層と
炭素水素ナトリウム含有水層に分離した。酢酸エ
チル層を濃縮し、シリカゲルクロマトグラフイー
に付し、クロロホルム溶出の活性区分を濃縮し、
濃縮物をシリカゲルに吸着させた後、ジエチルエ
ーテルで抽出し、不純物を除き８−ヒドロキシ−
１−メトキシ−３−メチル−７，12−ジヒドロ−
5H−ベンゾ〔ｄ〕ナフト〔２，３−ｂ〕ピラン
−５，７，12−トリオンの粗結晶を得た。これを
さらにシリカゲルクロマトグラフイーに付して、
クロロホルムで溶出し、溶出画分を濃縮し、２−
（５−ヒドロキシ−１，４−ナフトキノン−２−
イル）−３−メトキシ−５−メチル安息香酸の結
晶18.6ｇを得た。 次に炭素水素ナトリウム層をPH４に調整し、酢
酸エチル10を加え、撹拌し、酢酸エチル層を濃
縮し、オイル状物質を得た。このオイル状物質を
熱テトラヒドロフランに溶解し、これに無水酢酸
30mlを添加し、室温で５時間撹拌し、８−ヒドロ
キシ−１−メトキシ−３−メチル−７，12−ジヒ
ドロ−5H−ベンゾ〔ｄ〕ナフト〔２，３−ｂ〕
ピラン−５，７，12−トリオンの結晶22ｇを得
た。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 （式中、R¹は水素原子、ヒドロキシ基、低級ア
   ルコキシ基またはアリールチオ基、R²はカルボ
   キシ基、エステル化されたカルボキシ基、Ｎ−シ
   クロアルキル−Ｎ−（N′−シクロアルキルカルバ
   モイル）カルバモイル基、Ｎ−（１−ホスホノエ
   チル）カルバモイル基、Ｎ−（１−Ｏ，O′−ジ低
   級アルキルホスホノエチル）カルバモイル基、Ｎ
   −（低級アルコキシカルボニル）フエニルカルバ
   モイル基、またはR¹とR²とが一緒になつて形成
   された基【式】R³は水素原子または低級ア ルキル基、R⁴は低級アルキル基、R⁵は水素原子
   またはハロゲン原子、R⁶は水素原子、低級アル
   キル基または低級アルカノイル基をそれぞれ意味
   する） で示される１，４−ナフトキノン誘導体またはそ
   のカルボキシ基における塩類。 ２ R¹とR²とが一緒になつて形成された基
   【式】R³およびR⁴がそれぞれ低級アルキ ル基、R⁵およびR⁶がそれぞれ水素原子である特
   許請求の範囲第１項記載の１，４−ナフトキノン
   誘導体。 ３ R¹が水素原子、R²がカルボキシ基、R³およ
   びR⁴がそれぞれ低級アルキル基、R⁵およびR⁶が
   それぞれ水素原子である特許請求の範囲第１項記
   載の１，４−ナフトキノン誘導体またはそのカル
   ボキシ基における塩類。 ４ R¹がヒドロキシ基、R²がカルボキシ基、R³
   およびR⁴がそれぞれ低級アルキル基、R⁵および
   R⁶がそれぞれ水素原子である特許請求の範囲第
   １項記載の１，４−ナフトキノン誘導体またはそ
   のカルボキシ基における塩類。 ５ R³およびR⁴がそれぞれメチル基である特許
   請求範囲第２項記載の１，４−ナフトキノン誘導
   体。 ６ R³およびR⁴がそれぞれメチル基である特許
   請求範囲第３項記載の１，４−ナフトキノン誘導
   体またはそのカルボキシ基における塩類。 ７ R³およびR⁴がそれぞれメチル基である特許
   請求範囲第４項記載の１，４−ナフトキノン誘導
   体またはそのカルボキシ基における塩類。 ８ ストレプトマイセス属に属し、一般式 （式中、R¹およびR²はそれらが一緒になつて形
   成された基【式】か、R¹が水素原子であ り、R²がカルボキシ基であるか、またはR¹がヒ
   ドロキシ基であり、R²がカルボキシ基を意味す
   る） で示される化合物（′）生産菌を培地に培養し、
   得られる培養物から該化合物（′）を分離採取
   することを特徴とする１，４−ナフトキノン誘導
   体（′）の製造法。 ９ 式 で示される１，４−ナフトキノン誘導体（′−
   Ａ）および式 で示される１，４−ナフトキノン誘導体（′−
   Ｂ）またはそれらのカルボキシ基における塩類の
   １種または２種以上を有効成分として含有するコ
   クシジウム症の予防治療剤。