JPH01150881A - 不作動化可能な磁気マーカー及びその製造方法及びそれを使用した物品監視システム - Google Patents

不作動化可能な磁気マーカー及びその製造方法及びそれを使用した物品監視システム

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JPH01150881A
JPH01150881A JP63276348A JP27634888A JPH01150881A JP H01150881 A JPH01150881 A JP H01150881A JP 63276348 A JP63276348 A JP 63276348A JP 27634888 A JP27634888 A JP 27634888A JP H01150881 A JPH01150881 A JP H01150881A
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フロイド ハンフリイ
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 及曹しと色量 本発明は磁気現象を利用する電子式物品監視システムに
係わり、特にこの種の物品監視システムに使用するマー
カー、方法及び装置に関する。
磁気マーカーを使用して監視中の物品の存在を検出する
電子式物品監視システムはよく知られており、ピカード
(Picard)の発明による仏国特許第763.68
1号には、この種の初期のシステムが開示されている。
このピカード(P 1card )特許の開示によると
、パーマロイの如き低保磁力かつ高透磁率の金属は、交
番磁界を受けると、自身を他の磁性金属から区別するよ
うな高周波を誘導する。
このような特有の高周波を生ずる金属を磁気マーカーと
して使用すれば、このマーカーを取付けた物体を同定す
ることができる。
ピカード(Picard)特許以来、既存のマーカーを
改良する試みが色々行われて来た。このような試みは、
従来のものよりも保磁力がもつと低くかつ透磁率が高い
材料を発見することに向けられていた。マーカーによっ
て発生ずる電圧パルスはマーカーの磁性材料のヒステリ
シス特性に依存しているので、保磁力が低くかつ透磁率
が高い材料を使用することによって、印加磁場の値が小
さい場合にも振幅が大きい高次の高周波が得ることがで
きる。
はとんどの研究者は透磁率がより高く保磁力がより小さ
い材料を探すのに腐心していたが、ところがそれまでと
は基本的に異なったアプローチが米国特許第4.660
.025号で行われた。この゛025025特許は、「
大きなバルクハウセン不連続性(Barkhausen
  Discontinuities )のヒステリシ
スループを有する物品監視磁気マーカー」を発明の名称
とし本願と同一出願人に譲渡されたもので、高透磁率・
低保磁力材料に依存しない磁気マーカーを開示している
。更に、この特許によるとマーカーの存在に応じて発生
する出力パルスは、磁場の強さが小さい値の最小閾値を
越えていれば、検査磁場の時間的変化率(tt+e t
ime rateof chanqe of the 
1nterroqatinq field )及び、磁
場の強さに実質的に無関係となる。上記°025特許は
、更に磁性材料が応力を保持するように作られたマーカ
ーは、大きなバルクハウゼン不連続性を持つヒステリシ
ス特性を呈することを開示している。従って、マーカー
が小さな閾値を越えた検査磁場中に置かれると、マーカ
ーの磁気分極は再生反転Degencrative r
eversal )を受ける。このような磁気分極のい
わゆる[スナップアクション」反転の結果、高次の高周
波に富んだ鋭い電圧パルスが発生ずる。このパルスはこ
れまでのものよりも特異であり検知し易い信号である。
上記°025号特許のマーカーは、高周波及びパルス出
力の点で非常に有利であることに加えて、更に種々の方
法によって不作動化できるという利点もある。これらの
不作動化法は、本願と同一出願人に譲渡された、発明の
名称「物品監視方法とそのシステム及び装置」の米国特
許第4.686.516号に開示されている。詳述する
と、この°516号特許には、上記′025号特許のマ
ーカーを不作動化する方法としてマーカーのアモルファ
ス材料を結晶化する方法が開示されている。この結晶化
は、レーザー光の如き放射エネルギか又は電流を印加す
ることによって、マーカーの少なくとも一部を結晶化温
度以上に加熱することによって行われる。この種のマー
カーに使用できる別の方法として上記゛516号特許に
開示された方法は、マーカーの内部応力を解放する為に
機械的又は放射エネルギを印加することである。これら
の不作動化法のいくつかは、マーカーに非接触で不作動
化できるが、しかし不作動化エネルギを隣接の物品を照
射しないように細心の注意を払わねばならない。
そこで、本発明の主たる目的は、マーカーが印加磁場の
小さい閾値でもって磁束がスナップ動作又はステップ状
に変化すると共に簡単な手段によって無接触で不作動化
可能な、電子式物品監視システム用磁気マーカーを提供
することである。
本発明の別の目的は上述の改良型磁気マーカーを作製す
る方法を提供することである。
本発明の別の目的は上述の改良型磁気マーカーを組込ん
だ電子式物品監視システムを提供することである。
本発明の更に別の目的は、不作動化手段と上述の改良型
磁気マーカーとの両方を組込んだ電子式物品監視システ
ムを提供することである。
1皿五里力 本発明の原理によると、上述した目的及びその他の目的
は、予め選定したヒステリシス特性を有するようにコン
ディショニングされた磁気手段即ち磁性材料からマーカ
ーを構成することによって達成される。具体的に述べる
と、磁気手段の磁束は、この磁気手段に印加された磁場
が実質零から閾値まで増大した時に、再生的ステップ状
変化(regenerative 5tep chan
oe)を呈し、かつ上記磁場が上記閾値から実質零にま
で減少した時に漸進的変化を呈する。磁場の値が上記閾
値未満の時には、上記磁性材料の磁束には実質的に変化
が生じない。
本発明の図示例では、上述の特性は予め選定した特性の
磁区構造を持つようにマーカーの磁性材料をコンディシ
ョニングすることによって達成される。特に、磁性材料
の磁区構造は、印加磁場の大きさが上述の閾値に達する
までは、不変であり、即ち磁壁が拘束状態にある。尚、
この拘束状態は磁性材料の消磁状態若しくは無視可能な
程小さい磁束状態に対応している。上記閾値に達すると
、上記拘束されていた磁壁は拘束状態から解放され、こ
れにより上記磁性材料の磁束の値が再生的ステップ状変
化を呈する。その後に、印加磁場の大きさが上記閾値未
満に低減すると、磁束も、徐々に減少し消磁状態、即ち
無視可能磁束状態になり、磁壁が拘束状態に復帰する。
磁性材料の磁束がステップ状に変化するので、本発明の
マーカーは検知用印加磁場に乱れを誘導し、この乱れは
高次の高周波が多く含まれかつ比較的印加磁場に無関係
であり上記°025号特許のマーカーに類似している。
更に、マーカーは、磁束のステップ状変化に依存して磁
場に対して乱れを発生ずるので、ステップ状変化を漸進
的変化に置き代える手段によって不作動化することがで
きる。
本発明の上述の拘束磁壁構成では、上記不作動化は、磁
壁がその拘束状態に復帰したりその拘束状態を持続する
能力を著しく小さくするように第2のコンディショニン
グを行うことによって容易に達成できる。本明細書に開
示した方法によると、このような第2のコンディショニ
ングは、検知用磁場の周波数及び/又は振幅それぞれよ
りも実質的に大きい周波数及び/又は振幅を持つ不作動
化磁場の印加によって達成される。
また、本明細書には、更に上述のマーカーを所望の拘束
磁壁構成にするように作る、即ちコンディショニングす
る方法が開示され、更にマーカーとマーカー用の不作動
化手段とを組込んだ電子式物品監視システム及びその方
法も開季されている。
本発明の上述した特長及びその他の特長は添附図面を参
照した以下の詳細な説明から一層明らかになるであろう
註jじd区画 第1図は、本発明の原理によるタッグ(付札)1を示し
たもので、このタッグ1は基板11と上層12とこれら
の間に配設された磁性材料製のマーカー13とから構成
されている。基板11の下面に適当な感圧接着剤を塗布
すれば、マーカー13を監視下の物品に固着することが
できる。マーカー13を物品に固着する方法としては、
上述の感圧接着剤の代わりに、池の公知の方法を使用で
きることは言うまでもない。
本発明によると、タッグ1の磁気マーカー13は、予め
選定したヒステリシス特性を呈するようにコンディショ
ニング(条件付け)されている。
更に具体的に述べると、本発明の図示例では、マーカー
が消磁された磁束状態又は無視できる程小さい(即ち無
視可能な)磁束状態にある時に拘束状態の(pinne
d)磁壁を持つ所定の又は予め選定した磁区構造を呈す
るようにマーカーをコンディショニングすることによっ
て、上述の特性を実現している。この磁区i造は成る閾
値までの印加磁場の大きさに対して拘束状態の磁壁によ
って持続され、この閾値になった時に拘束状態の磁壁が
その拘束を解かれ磁区構造が突然変化し、これに応じて
磁束に再生ステップ状変化(re!1lenera−t
ivestep change)又は遷移が生ずる。印
加磁場の大きさがその後に拘束用(pinning)閾
値より小さい値(この値になると再び無視可能な磁束、
即ち消磁状態になる)に減少すると、磁区構造は磁区が
再び拘束される平衡状態に復帰する。
第2図A−Eは、磁区構造が印加磁場に伴い変化する様
子を説明する為にマーカー13の磁区構造を単純化して
模式的に示したものである。第3図は、この磁区構mの
変化によって生ずる所望のヒステリシス特性を示してい
る。第2図の単純化した磁区構造では、単一の磁壁13
Cが当初マーカー13の幅方向の中央において、マーカ
ー13の長手方向に沿って延在して、大きさの等しい磁
区13aと13bを形成している。磁区構造は、このよ
うに長い比較的単純な磁壁を有するものが好ましいけれ
ども、これに限らず任意の所望の形状を取り得る。第3
図のヒステリシス特性ら本質的に模式的なものであり、
正確に一定の割合い又は一定の縮尺で描いたものではな
い。
第2図及び第3図から分るように、マーカー13の初期
の消磁状態(第2図のAに示した状態)では、マーカー
13の等しい大きさの磁区13a、13bの磁気分極は
互いに逆向きの第1及び第2方向(以下に夫々「正」方
向及び「負」方向と称する。)であり、これにより磁束
は実質的に無視できる大きさとなっている。印加磁場が
正方向に増加しても、磁区13a、13bを分離してい
る磁壁13cは不変のまま又は拘束されたままであり、
無視可能な磁束状態が第3図のしステリシス特性の部分
aに示したように持続される。しかし、磁場が正の閾値
子■Dに達すると、磁壁13cは突然拘束が解かれ左方
ヘシフトし、これにより正方向分極磁区13aが負方向
分極磁区13bよりも大きくなる。この変化によって、
マーカー13は突然に全体として正の磁気分極となり、
この結果、磁束はステップ状に正に変化する。この変化
は第3図の曲線部分すに示されており、磁束は、印加磁
場+IIDにおいてステップ状に遷移し即ちジャンプし
、正の飽和状fi十Bsの付近の正磁束+e11に達す
る。
印加磁場を正の拘束閾値子Hpより小さく減少させると
、磁束も第3図の曲線部qに示すように徐々に(即ち、
滑らかな「変圧器状」の特性で)減少して、マーカー1
3の消磁状態に対応する無視可能磁束状態に達する。非
拘束状態の磁壁13cはこの間に、第2図Cに示したよ
うに徐々に初期の拘束位置に復帰し、再び拘束され、こ
れによって磁区13a、13bも夫々の初期形状を取る
印加磁場の方向が逆になっても、マーカー13の磁壁1
3cは拘束状態のままであり、消磁又は無視可能な磁束
状態が再び第3図の曲線部亘に示したように持続する。
負の拘束閾値−11pに達すると、磁壁13cは突然に
解放され、この時の右方向のシフトによって負方向分極
磁区13bが正方向分極磁区13aに比べて大きくなる
(第2図のD)。
こうしてマーカーは突然に全体として負方向分極を呈し
、これにより磁束は第3図の曲線部且に示したように負
方向にステップ状に遷移、即ち変化する。こうして、磁
束は負の飽和値−Bsに近い負の値−BEIを取る。そ
れから、負の磁場が減少すると、磁束が第3図の曲線部
工に沿って徐々に減少して消磁即ち無視可能磁束状態に
達し、マーカー13の磁壁13cは再度第2図のEに示
したように拘束された状態に復帰する。
マーカー13の拘束閾値1−1pは、マーカーのコンデ
ィショニングの間に確立されるもので、約1.0エルス
テッド未満が好ましい。マーカー13の消磁用磁場も約
1.0エルステッド未満が好ましく、更に好ましくは0
.5〜0.8エルステッドの範囲内がよい、この消磁用
磁場の下限値は、地球の磁場がマーカーに影響を及ぼず
のをできるだけ小さくする為に定められ、その上限値は
、印加磁場の駆動が許容限界内となるように定められて
いる。動作をi&適化するには、消磁用磁場を拘束閾値
Hpと等しいか又はそれよりわずかに小さく定めること
が好ましい。
マーカー13の消磁用磁場は、印加磁場に対抗してマー
カーに生ずる磁場であり、マーカーの長さによって決ま
るものである。マーカー13用の磁気材料は、マーカー
に適した長さに切断される前には、第5図に示したよう
なヒステリシス特性51を呈しており、この特性には、
この材料の消磁用磁場が表れていない。ところが、−度
、この材料が有限長に切断されると、ヒステリシス特性
は第6図の曲線61に示すように傾き、消磁用磁場H8
Hが線61の延長線と破線62との交点によって決定さ
れる。上述したマーカー13の磁区の相対的配置を得る
為に、この後にマーカー材料のコンディショニングを行
えば、実質的に消磁用磁場HDHは変わらず同一である
が、しステリシス特性が変化した第3図のマーカー特性
が得られる。
マーカー13の形状を変えることによって、マーカー1
3の消磁用磁場を制御できこれにより上述の磁場値を得
ることができる。マーカーの寸法を長さ5■、幅2間、
厚さ28μ(ミクロン)に泗定することによって、消磁
用磁場が0,5エルステッドになる。またこれらのマー
カーのコンディショニングによって拘束閾値は実質的に
同一値になる。長さ5.08cm (2インチ)、幅6
゜35mm(0,25インチ)、厚さ28μのリボンを
用いれば、消磁用磁場及び拘束閾値は上記値の約2倍、
即ち約1.0エルステッドになるものと思われる。こう
して、本発明のマーカーは細長いけれども、従来のタッ
グのマーカーはど長さを極端な値にする必要がなくなる
以上の説明かられかるように、本発明のマーカー13は
、その特異な?ii1壁特性とヒステリシス特性とによ
って、印加磁場が比較的小さな値、即ち約1.0エルス
テッド未満の値でステップ状の磁束遷移を呈する。この
ステップ状遷移によって、印加磁場に乱れが生じ、これ
により高周波に富んだ鋭い電圧パルスが発生し、上記°
025号特許のマーカーで生ずる信号に類似するがそれ
よりももっと特異な検知可能な信号を生ずる。
マーカー13の磁気材料は第3図のヒステリシス特性を
有するものであれば任意の材料又はそれらの材料の組合
わせたものを使用できる。こうして、この方法を適用す
るならパーマロイの如き結晶質の磁性材料を使用するこ
とができる。同様に、アモルファス磁性材料も使用可能
である。更に、非磁気歪性のアモルファス材料が好まし
いけれどもある種の正の磁気歪性材料も使用可能である
以下の組成のアモルファス材料が所望の拘束壁の特性を
呈することが分った。
COF es、asSl 5 B15MO2(W)72
.15 75.2  4.8  2 18  (芥)Co   
Fe   Si  B Co    Fe   St  B18  (Y)74
.26  4.74  3 co   Fe4.76S12B19 (Z)74.2
4 上記組成(Y)のマーカーは、消磁用磁場が0.3エル
ステッドで、拘束閾値が0.5エルステッドで、飽和磁
場が1.0エルステッドであった。
上で簡単に述べたように、タッグ1のマーカー13はそ
のコンディショニング法又は作製法によって上述の所望
の磁壁及びしステリシス特性を呈する。第4図はこのコ
ンディショニング法の各工程を示したもので、供給源か
らの磁気マーカー材料は最初に、通常の成形法によって
連結体に成形される。この成形法はマーカーの形状、即
ちマーカーがリボン、ワイヤ、シート、フィルム又はそ
の他の形状等のいずれを取るかによって決定される。
この供給された磁気マーカー材料は通常、局部的歪や欠
陥による偽の磁区構造が存在しないが、もしこの時点で
偽の磁区構造が存在することが分った場合には、この材
料を加熱、即ちダリアニールすれば歪を除くことができ
る。
成形後の上記連続体はマーカー用に所定の長さに切断さ
れる。その後、マーカー全体を更に処理して所望の磁区
相対的配置を作り上げる。この磁区相対配置はその後ア
ニールによってマーカー内に固定され、このアニール後
、マーカーは冷却され工程を終了する。
上述の所望の磁区相対配置を作り上げる工程は、種々の
方法によって行うことができる。このうちの一つの方法
は、マーカーを変化する磁場中に置き、それから磁場を
ゆっくりと減少させるかそれともマーカーをこの磁場か
らゆっくりと取り出して、マーカーを消磁するものであ
る。これにより、マーカー内に消磁された、無視可能な
磁束状態に対応した磁区構造が形成され、この構造はマ
ーカーの形状及び/又は磁場の印加の調整によって、所
望の要件に適合させることができる。磁区構造がこの方
法によって作られた場合には、その後のアニール及び冷
却工程は、実質的に磁場の無い環境の下で行う必要があ
る。この為には、この環境を地球の磁場から遮蔽する必
要があり、この遮蔽が不可能である場合には地球の磁場
を埋め合せる必要がある。
所望の磁区構造を作り上げる別の方法は、マーカーに磁
場をかけ、この磁場とマーカーとを一定の関係に保持し
、この関係をその後のアニール工程と冷却工程の間も保
持することである。従って、この場合には、マーカーと
一郡の磁石とを例えば治具に保持して所望の相対配置を
作ることができる。その後この治具は、磁区相対配置が
リボンに固定されている間に、この磁区相対配置を保つ
ように、アニール装置と冷却装置内に載置させることが
できる。
上述したように、第6図は、マーカー13の材料が所定
の長さに切断されたがまだ所望の磁区構造への成長前の
状態のマーカー13のヒステリシス特性を示したもので
、これから分るようにマーカーは磁束にステップ状の遷
移が存在しない正常のヒステリシスを有している。磁区
パターンを作り上げてアニールを行いこのパターンを固
定すると、ヒステリシスは上述のように第3図に示した
ものに変化する。
マーカー13のコンディショニングにおけるアニール工
程の温度及びその時間は、その特別の条件を決めるファ
クタに依存する。例えば、マーカーを作った時の温度は
300°Cで時間は20分、30分及び1時間であり、
また温度が400°Cの時は時間は30分であった。適
当な温度は250〜500°Cの範囲であり、時間は3
0秒〜5分である。もちろん、アニール温度はキューり
温度未満でなければならず、磁性材料がアモルファスの
場合には結晶化温度未満でなければならない。
上述のように、本発明のマーカー13は、磁場の値が小
さい場合でもその印加磁場に比較的無関係に高次の高周
波を発生するという利点に加えて、更にマーカーに物理
的に接触することなく、容易に不作動化できる利点を有
する。本発明によると、この不作動化は、マーカーヒス
テリシス特性のステップ状磁束遷移を漸次変化に変える
手段にマーカー13をさらすことによって達成できる0
本発明の図示例では、これは、印加磁場が減少して消磁
された無視可能磁束状態になった時にマーカーの磁壁が
拘束平衡状態に復帰するのを妨げる手段によって達成さ
れる。また本発明によると、不作動化は、単に以下の方
法によって達成することが好ましい。即ち、消磁磁場の
大きさ及び/又は周波数を磁区相対配置を粉砕できる値
に選定し、この消磁用磁場をマーカーに印加して磁壁を
拘束状態にならないようにすることによって達成するこ
とができる。
マーカー13を不作動化するのに必要な磁場の特定の周
波数及び/又は振幅は、アニールの条件の場合のように
、各状況に伴うファクタに依存する。しかしながら、最
少の不作動化周波数及び/又は振幅は、マーカーを不作
動化することなく監視を可能とする磁場の周波数及び/
又は振幅よりも少なくとも充分に大きく定めるべきであ
る。上述した例のマーカーの場合(即ち、消磁用磁場が
0.3エルステッドである組成(Y)のマーカーの場合
)、10エルステッドの不作動化磁場はリボンを不作動
するのに充分な大きさであることが判明した。また、組
成が上述の組成(Z)であり、周波数10H2の監視磁
場で作動するマーカーの場合には、3.0エルステッド
で周波数lKH2の印加磁場でもって不作動化すること
ができた。不作動化磁場の振幅及び/又は周波数を、監
視磁場の振幅及び周波数よりも少なくとも大きく定める
ことによって適正な動作が保証される。
上述の高周波又は高振幅の磁場をマーカー13に印加す
ると、マーカーは短時間で磁気極性を反転する。この為
に、マーカーの磁壁は、強制的に粉砕され、もっと多く
の磁壁が発生し反転が一層急速に行われる。こうして初
期の磁壁相対配置が壊される。この結果、第3図におい
て旦及び工が消磁された又は無視可能な磁束状態に達し
た時の特性位置に対応した磁束状態の磁壁相対的配置は
、もはや初期にマーカーにアニールされた相対的配置に
マツチしなくなる。従って、磁壁は、拘束状態でなくな
り、この結果ヒステリシス特性は、拘束された磁壁相対
的配置の成長前の特性、即ち第6図に示した特性に似た
ものとなる。従って、マーカーは、もはや高次の高周波
に富んだ応答性を呈すことなく通常の磁性材料片のよう
に作用するようになる。
第7図は、不作動化ユニットを具備した物品監視システ
ムのタッグ1の使用法を示したもので、システム51は
破線で囲んだ監視領域52、例えば店の出口領域を有す
る。タッグIAは本発明のタッグ1と類似した属性を有
するもので、領域52内の物品に取付けられている。こ
のシステムの送信機部は、周波数発生器53を有し、こ
の発生器53の出力は電力増幅器54に送られ、この増
幅器54の出力は磁場発生用コイル55に送られる。こ
のコイルは監視領域52内に所望の周波数と振幅の交番
磁場を作る。もちろん、この磁場の振幅は、コイルの寸
法や監視領域の大きさなどのシステム・パラメータに依
存して変化するが、領域52内のタッグがいかなる条件
でも上述の拘束閾値を越えた磁場内に存在するように、
最低磁場を上回っていることが必要である。この典型的
な最低磁場は約1.2エルステッドである。
本システムの受信部は磁場受信コイル56を有し、この
コイル56の出力は受信器57に印加される。この受信
器57は、タッグIAから発生し、規定された範囲でコ
イル56から受けた信号中の高周波を検出し、この検出
によりトリガー信号を警告ユニット58に送り、これを
警告作動させる。
監視領域52内には磁場のレベルがタッグを不作動化す
るのに充分な位置(例えば、発生コイル55に掻く接近
した位置)が存在するので、システム51の受信器部の
応答時間は、マーカーIAがこのような位置に達する前
にこのタッグIAを素早く検出できるように定めるべき
である。この為には、本システム51の送信部は、この
監視領域52で不作動化を行わないように磁場を低減す
ることができる。またこの代わりに、タッグIAの不作
動化がタッグの検出後に起こるように本システムを初期
の磁場レベルに保持するようにしてもよい。
本発明のタッグ1に類似した属性を有する第2のタッグ
IBは、監視領域52の外に位置する物品に付着されて
いるので、この領域の監視磁場の作用を受けない。店の
代金支払所にはタッグ不作動化ユニット5つが設置され
ており、タッグIBは、この不作動化ユニット59の通
路を通過することによって不作動化される。即ちタッグ
IBはこの通路を通過すると、不作動化済のタッグIC
になり、この不作動化済タッグICは、警告ユニット5
8を起動することなく監視領域52を自由に通過するこ
とができる。
以上の説明から明らかなように、不作動化ユニット5つ
は、タッグIBの磁区相対的配置の拘束状態を無力化し
て不作動化済タッグ1cに変えるのに充分な周波数及び
/又は振幅の磁場を発生する磁場発生器によって構成す
ることができる。
磁気マーカー13は種々の形状及び形態を取ることがで
きるので、リボン状、ワイヤ状、フィルム状その他の形
状にすることが可能である。
上に簡単に述べたように、本発明のマーカー13は従来
のマーカーよりも長さを短くすることができると共に出
力信号を大きくできる。更に、監視システムのパラメー
タや環境が種々変化してもマーカーの寸法及び形状を変
えることによってそれに適合するこができる。上述の利
点及び、マーカーを無接触で容易に不作動化できる利点
があるので、製品の値札への使用を含め、種々の分野に
使用することができる。
上述した装置は、本発明の適用例を示す種々の実施例を
単に「・“示したものであり、本発明の原理によれば、
発明の精神及び範囲から逸脱することなく、多くの変形
例を容易に推考することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の原理に従った磁気マーカーを組込ん
だタッグを示している。 第2図は、印加磁場をいろいろな値に変えた時の第1図
のマーカーの磁区相対配置を単純化して示したものであ
る。 第3図は、第1図のマーカーのヒステリシス特性を示し
たものである。 第4図は、第1図のマーカーを製造する工程を示したも
のである。 第5図は、第1図のマーカーを作るのに使用される磁性
材料連続体のヒステリシス特性を示したものである。 第6図は、上記磁性材料連続体を第1図のマーカーに適
した長さに切断した後であって、本発明による方法でコ
ンディショニングを行う前の状態の第5図の磁性材料の
ヒステリシス特性を示したものである。 第7図は、不作動化ユニットを具備しがっ第1図のマー
カーを組込んだ電子式物品監視システムを示したもので
ある。 [主要部分の符号の説明] 1・・・タッグ。 11・・・基板。 12・・・上層。 13・・・マーカー。 13a、13b−・−磁区。 13c・・・磁壁。 FIG、2 D           E

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、監視領域に検出用交番磁場を発生させ、この磁場に
    対する所定の乱れを検出した時に警告を発する物品監視
    システムに使用されるマーカーであつて、このマーカー
    は磁気手段を具備し、この磁気手段は磁束がステップ状
    に変化するヒステリシス特性を有し、上記磁気手段が交
    番磁場内に位置すると、上記磁気手段の磁束は、上記磁
    場が実質的零から或る閾値まで増大した時にこの閾値で
    再生的ステップ状に変化し、上記磁場が上記閾値から実
    質的零に減少する時には徐々に変化し、更に上記磁束は
    磁場の値が上記閾値未満の間で増加しても実質的に変化
    しないことを特徴とするマーカー。 2、上記磁束の再生的ステップ状変化は、上記マーカー
    か所定値よりも大きい振幅の印加磁場を受けた後では漸
    進的変化になることを特徴とする請求項1記載のマーカ
    ー。 3、上記磁束の再生的ステップ状変化は、上記マーカー
    か所定値よりも大きい周波数の印加磁場を受けた後では
    漸進的変化になることを特徴とする請求項1記載のマー
    カー。 4、上記磁気手段の上記ヒステリシス特性は、A)印加
    磁場の第1方向の値が上記閾値に達するまでの間は磁束
    が無視可能な程小さな値となり、B)上記印加磁場の第
    1方向値が上記閾値に等しくなると、磁束がステップ状
    遷移の為に変化し、C)上記印加磁場の第1方向値が上
    記閾値に等しい磁場値未満で減少すると、磁束が徐々に
    減少し上記無視可能な値になり、 D)上記第1方向と逆方向の印加磁場の第2方向値が上
    記閾値に達するまでの間は、磁束が上記無視可能な値と
    なり、 E)上記印加磁場の第2方向値が上記閾値に等しくなる
    と、磁束がステップ遷移の為に第2方向に変化し、 F)上記印加磁場の第2方向値が上記閾値に等しい値未
    満で減少すると、磁束が徐々に減少し上記無視可能な値
    になることを特徴とする請求項1記載のマーカー。 5、上記磁気手段が無視可能な磁束状態に対応する実質
    的消磁状態にあるとき、上記磁気手段の磁区は、その磁
    壁の相対的配置が拘束状態であり、かつ印加磁場の大き
    さが増大し、上記閾値に達するまでの間は、拘束状態に
    保持され、この閾値に達すると、上記磁壁の相対配置が
    上記拘束状態から解放され、これにより磁束が上記再生
    的ステップ状に変化し、印加磁場の大きさが上記閾値未
    満に減少して上記消磁状態をもたらす値に達すると、上
    記磁壁相対配置が上記拘束状態に復帰し、これにより上
    記磁束が徐々に減少し上記無視可能な値に達することを
    特徴とする請求項1記載のマーカー。 6、上記磁気手段の上記磁壁相対配置は、上記磁気手段
    が或る周波数よりも大きい周波数の印加磁場内に置かれ
    た時に上記拘束状態に復帰することができなくなること
    を特徴とする請求項5記載のマーカー。 7、上記磁気手段の上記磁壁相対配置は、上記磁気手段
    が或る振幅よりも大きい振幅の印加磁場内に置かれた時
    に上記拘束状態に復帰することができなくなることを特
    徴とする請求項5記載のマーカー。 8、上記磁区の上記磁壁相対配置は、磁壁が上記磁気手
    段の幅方向の中央において上記磁気手段の長手方向に延
    在していることを特徴とする請求項5記載のマーカー。 9、上記拘束状態にある上記磁壁相対配置の磁区は、ア
    ニールによつて上記磁気手段内に生ずることを特徴とす
    る請求項5記載のマーカー。 10、上記アニールは温度250〜500℃で、時間3
    0秒〜5分間行われることを特徴とする請求項9記載の
    マーカー。 11、検知領域内に検知用交番磁場を発生する手段と、
    上記検知用磁場に上記マーカーによって生じた乱れを検
    出し警告作動する手段とに組合わせられて使用されるこ
    とを特徴とする請求項5記載のマーカー。 12、上記磁壁相対配置が拘束状態に復帰不可能にする
    ことによつて上記マーカーを不作動化する手段と組合わ
    せて使用されることを特徴とする請求項11記載のマー
    カー。 13、上記不作動化手段は不作動化磁場を上記マーカー
    に印加する手段を含むことを特徴とする請求項12記載
    のマーカー。 14、上記不作動化磁場の振幅は上記検知用磁場の振幅
    に等しいかそれよりも大きいことを特徴とする請求項1
    3記載のマーカー。 15、上記不作動化磁場の周波数は上記検知用磁場の周
    波数に等しいかそれよりも大きいことを特徴とする請求
    項13記載のマーカー。 16、上記磁気手段の消磁用磁場は上記閾値に等しいか
    、それよりもわずかに小さいことを特徴とする請求項1
    記載のマーカー。 17、上記消磁用磁場は0.5〜0.8エルステッドの
    範囲内であることを特徴とする請求項16記載のマーカ
    ー。 18、上記磁気手段はアモルファス磁性材料を含むこと
    を特徴とする請求項1記載のマーカー。 19、上記磁性材料は非磁歪性であることを特徴とする
    請求項18記載のマーカー。 20、上記磁性材料の組成はCo74.26Fe4.7
    4Si3B18であることを特徴とする請求項18記載
    のマーカー。 21、上記磁性材料の組成はCo74.24Fe4.7
    6Si2B19であることを特徴とする請求項18記載
    のマーカー。 22、上記磁性材料の組成はCo75.2Fe4.8S
    i2B18であることを特徴とする請求項18記載のマ
    ーカー。 23、上記磁性材料の組成はCo72.15Fe5.8
    5Si5B15Mo2であることを特徴とする請求項1
    8記載のマーカー。 24、上記閾値は約1.0エルステッド未満であること
    を特徴とする請求項1記載のマーカー。 25、上記閾値は0.5〜1.0エルステッドの範囲内
    であることを特徴とする請求項24記載のマーカー。 26、上記マーカーの形状はリボン、ワイヤ、フィルム
    又はシート状のいずれかであることを特徴とする請求項
    1記載のマーカー。 27、検知領域内に検知用交番磁場を発生する手段と、
    上記検知用磁場に上記マーカーによって生じた乱れを検
    出し警告作動する手段とに組合わせられて使用されるこ
    とを特徴とする請求項1記載のマーカー。 28、磁束のステップ状変化を磁束の漸進的変化にする
    ことによって上記マーカーを不作動化する手段と組合わ
    せて使用することを特徴とする請求項27記載のマーカ
    ー。 29、上記不作動化手段は不作動化磁場を上記マーカー
    に印加する手段を含むことを特徴とする請求項28記載
    のマーカー。 30、上記不作動化磁場の振幅は上記検知用磁場の振幅
    に等しいかそれよりも大きいことを特徴とする請求項2
    9記載のマーカー。 31、上記不作動化磁場の周波数は上記検知用磁場の周
    波数に等しいかそれよりも大きいことを特徴とする請求
    項29記載のマーカー。 32、上記マーカーを物品に取付ける手段を具備するこ
    とを特徴とする請求項1記載のマーカー。 33、物品監視システムに使用され磁気手段から成るマ
    ーカーを製造する方法であつて、 磁壁相対配置を持つ磁区を上記磁気手段に作り出すステ
    ップと、 印加磁場の値が閾値未満の場合に上記磁区の磁壁相対配
    置が拘束状態に保持されるように上記磁気手段をアニー
    ルするステップと、 を具備することを特徴とする方法。 34、上記作り出しステップは上記磁気手段を消磁化す
    るステップを含み、 上記アニールステップは正味の磁場が実質的に零に等し
    い環境で行われることを特徴とする請求項33記載の方
    法。 35、上記作り出しステップは、磁場を上記磁気手段に
    印加し上記磁気手段と上記印加磁場との関係を固定する
    ステップを含み、 上記アニールステップは、上記磁気手段と上記印加磁場
    とが上記固定された関係に保たれている間に行われるこ
    とを特徴とする請求項33記載の方法。 36、上記磁壁相対配置は、上記磁気手段が無視可能磁
    束に対応する実質的消磁状態にある時に拘束状態であり
    、かつ印加磁場の大きさが増大して閾値に達するまでの
    間拘束状態に保持され、この印加磁場が閾値に達した時
    に上記磁壁相対配置が上記拘束状態から解放され、これ
    により磁束に再生的ステップ状変化が生じ、印加磁場の
    大きさが上記閾値未満に減少して、上記消磁状態の値に
    まで達した際に、上記磁壁相対配置が上記拘束状態に復
    帰し、これにより上記磁束が徐々に上記無視可能な値に
    まで減少することを特徴とする請求項33記載の方法。 37、上記アニールは250〜500℃の温度で30秒
    〜5分間にわたって行われるこを特徴とする請求項36
    記載の方法。 38、検知領域内の物品の存在を検出する方法において
    、 或る閾値を越える検知用交番磁場を上記検知領域に発生
    するステップと、 磁気手段を含むマーカーを上記物品に固着するステップ
    と、 上記マーカーが上記検知領域に存在する時にこの検知領
    域内に生ずる上記検知用磁場の乱れを検出するステップ
    と、 を具備し、上記磁気手段は磁束がステップ状に変化する
    ヒステリシス特性を有し、上記磁気手段に交番磁場を印
    加すると、上記磁気手段の磁束は、上記磁場が実質的零
    から或る閾値にまで増大した時にこの閾値で再生的ステ
    ップ状に変化し、上記磁場が上記閾値から実質的零に減
    少した時には徐々に変化し、更に上記磁束は磁場の値が
    上記閾値未満の間で増加しても実質的に変化しないこと
    を特徴とする方法。 39、上記磁束のステップ状変化を漸進的変化にしてこ
    れにより上記マーカーを不作動化ステップを更に具備す
    ることを特徴とする請求項38記載の方法。 40、上記不作動化ステップは不作動化磁場を上記マー
    カーに印加するステップを含むことを特徴とする請求項
    39記載の方法。 41、上記不作動化磁場の振幅は、上記検知用磁場の振
    幅に等しいか、それよりも大きいことを特徴とする請求
    項40記載の方法。 42、上記不作動化磁場の周波数は、上記検知用磁場の
    周波数に等しいか、それよりも大きいことを特徴とする
    請求項40記載の方法。 43、上記磁気手段が無視可能な磁束状態に対応する実
    質消磁状態にあるとき、上記磁手段の磁区は、その磁壁
    の相対的配置が拘束状態であり、かつ印加磁場の大きさ
    が増大し上記閾値に達するまでの間は拘束状態に保持さ
    れ、この閾値に達すると、上記磁壁の相対配置が上記拘
    束状態から解放され、これにより磁束が再生的ステップ
    状に変化し、印加磁場の大きさが上記閾値未満に減少し
    て上記消磁状態をもたらす値に達すると、上記磁壁相対
    配置が上記拘束状態に復帰し、これにより上記磁束が徐
    々に減少し上記無視可能な値に達することを特徴とする
    請求項38記載の方法、44、上記磁気手段の磁区の磁
    壁相対配置がその拘束状態に復帰することを不可能にし
    て、上記マーカーを不作動化するステップを更に具備す
    ることを特徴とする請求項43記載の方法。 45、上記不可能ステップは不作動化磁場を上記マーカ
    ーに印加するステップを含むことを特徴とする請求項4
    4記載の方法。 46、上記不作動化磁場の周波数は上記検知用磁場の周
    波数に等しいかそれよりも大きく、かつ上記拘束状態へ
    の復帰を不可能化するように定められていることを特徴
    とする請求項45記載の方法。 47、上記不作動化磁場の振幅は上記検知用磁場の振幅
    に等しいかそれよりも大きく、かつ上記拘束状態への復
    帰を不可能化するように定められていることを特徴とす
    る請求項45記載の方法。 48、検知領域内の物品の存在を検出するシステムにお
    いて、 或る閾値を越える検知用交番磁場を上記検知領域に発生
    する手段と、 磁気手段を含み、物品に固着されたマーカーと、上記マ
    ーカーが上記検知領域に存在する時に、この検知領域内
    の上記検知用磁場に対する乱れを検出する手段と、 を具備し、上記磁気手段は磁束がステップ状に変化する
    ヒステリシス特性を有し、上記磁気手段に交番磁場を印
    加すると、上記磁気手段の磁束は、上記磁場が実質的零
    から或る閾値にまで増大した時にこの閾値で再生的ステ
    ップ状に変化し、上記磁場が上記閾値から実質的零に減
    少した時には徐々に変化し、更に上記磁束は磁場の値が
    上記閾値未満の間で増加しても実質的に変化しないこと
    を特徴とするシステム。 49、上記磁束のステップ状変化を漸進的変化にしてこ
    れにより上記マーカーを不作動化する不作動化手段を更
    に具備することを特徴とする請求項48記載のシステム
    。 50、上記不作動化手段は不作動化磁場を上記マーカー
    に印加する手段を含むことを特徴とする請求項49記載
    のシステム。 51、上記不作動化磁場の振幅は上記検知用磁場の振幅
    に等しいかそれよりも大きいことを特徴とする請求項5
    0記載のシステム。 52、上記不作動化磁場の周波数は上記検知用磁場の周
    波数に等しいかそれよりも大きいことを特徴とする請求
    項50記載のシステム。 53、上記磁気手段が無視可能な磁束状態に対応する実
    質消磁状態にあるとき、上記磁気手段の磁区は、その磁
    壁の相対的配置が拘束状態であり、かつ印加磁場の大き
    さが増大し上記閾値に達するまでの間は、拘束状態に保
    持され、この閾値に達すると、上記磁壁の相対配置が上
    記拘束状態から解放され、これにより磁束が再生的ステ
    ップ状に変化し、印加磁場の大きさが上記閾値未満に減
    少して上記消磁状態をもたらす値に達すると、上記磁壁
    相対配置が上記拘束状態に復帰し、これにより上記磁束
    が徐々に減少し上記無視可能な値に達することを特徴と
    する請求項48記載のシステム。 54、上記磁気手段の磁区の磁壁相対配置がその拘束状
    態に復帰することを不可能にして上記マーカーを不作動
    化する不可能手段を更に具備することを特徴とする請求
    項53記載のシステム。 55、上記不可能手段は不作動化磁場を上記マーカーに
    印加する手段を含むことを特徴とする請求項54記載の
    システム。 56、上記不作動化磁場の周波数は上記検知用磁場の周
    波数に等しいかそれよりも大きいことを特徴とする請求
    項55記載のシステム。 57、上記不作動化磁場の振幅は上記検知用磁場の振幅
    に等しいかそれよりも大きいことを特徴とする請求項5
    5記載のシステム。 58、不作動化処理を受けない場合には磁壁相対配置に
    よって、検知用交番磁場に応答して物品監視システムに
    警告出力を発生させる特性を呈するように磁壁が相対配
    置された磁区を有する磁性材料を含む物品監視マーカー
    を不作動化する方法であって、上記磁区の上記磁壁相対
    配置の特性を無力化することを特徴とする方法。 59、上記不可能ステップは不作動化磁場を上記マーカ
    ーに印加するステップを含むことを特徴とする請求項5
    8記載の方法。 60、上記不作動化磁場の周波数は上記検知用磁場の周
    波数に等しいかそれよりも大きいことを特徴とする請求
    項59記載の方法。 61、上記不作動化磁場の振幅は上記検知用磁場の振幅
    に等しいかそれよりも大きいことを特徴とする請求項5
    9記載の方法。 62、上記磁区の上記磁壁相対配置の特性によると上記
    磁性材料が無視可能な程小さな磁束に対応する実質消磁
    状態にある時に上記磁壁の相対的配置が拘束状態であり
    、かつ印加磁場の大きさが増大し閾値に達するまでの間
    は拘束状態に保持され、この閾値に達すると、上記磁壁
    の相対配置が上記拘束状態から解放され、これにより磁
    束が再生的ステップ状に変化し、印加磁場の大きさが上
    記閾値未満に減少して上記消磁状態をもたらす値に達す
    ると、上記磁壁相対配置が上記拘束状態に復帰し、これ
    により上記磁束が徐々に減少し上記無視可能な値に達す
    ることを特徴とする請求項58記載の方法。 63、監視領域に検出用交番磁場を発生させ、この磁場
    に対する所定の乱れを検出した時に警告を発する物品監
    視システムに使用するマーカーであつて、このマーカー
    は磁気手段を具備し、上記磁気手段が無視可能な磁束状
    態に対応する実質消磁状態にあるとき、上記磁気手段の
    磁区は、その磁壁相対配置が拘束状態であり、かつ印加
    磁場の大きさが増大し閾値に達するまでの間は拘束状態
    に保持され、この閾値に達すると上記磁壁相対配置が上
    記拘束状態から解放され、これにより磁束が再生的ステ
    ップ状に変化し、印加磁場の大きさが上記閾値未満に減
    少して上記消磁状態をもたらす値に達すると上記磁壁相
    対配置が上記拘束状態に復帰し、これにより上記磁束が
    徐々に減少し上記無視可能な値に達することを特徴とす
    るマーカー。 64、上記磁区の上記磁壁相対配置は、上記磁気手段が
    所定の周波数を越えた周波数の印加磁場を受けた後には
    、拘束状態に復帰することができないことを特徴とする
    請求項63記載のマーカー。 65、上記磁区の上記磁壁相対配置は、上記磁気手段が
    或る振幅値を越えた振幅の印加磁場を受けた後には、拘
    束状態に復帰することができないことを特徴とする請求
    項63記載のマーカー。 66、上記磁気手段の消磁用磁場は上記閾値に等しいか
    、それよりもわずかに小さいことを特徴とする請求項6
    3記載のマーカー。 67、上記消磁用磁場は0.5〜0.8エルステッドの
    範囲内であることを特徴とする請求項66記載のマーカ
    ー。 68、上記閾値は約1.0エルステッド未満であること
    を特徴とする請求項63記載のマーカー。 69、上記閾値は0.5〜1.0エルステッドの範囲内
    であることを特徴とする請求項68記載のマーカー。
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