JPH01146856A - 2,5−置換−7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン及びその製造法 - Google Patents
2,5−置換−7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン及びその製造法Info
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- JPH01146856A JPH01146856A JP30679787A JP30679787A JPH01146856A JP H01146856 A JPH01146856 A JP H01146856A JP 30679787 A JP30679787 A JP 30679787A JP 30679787 A JP30679787 A JP 30679787A JP H01146856 A JPH01146856 A JP H01146856A
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は、有機半導体としての用途が期待できる新規な
テトラシアノキノジメタン誘導体及びその製造法に関す
るものである。
テトラシアノキノジメタン誘導体及びその製造法に関す
るものである。
[従来の技術]
7.7,8.8−テトラシアノキノジメタン(TCNQ
)は融点293.5〜296℃の黄色結晶である。この
化合物は容易に1個の電子を受は入れて安定なアニオン
ラジカルを形成し、その誘導体は極めて小さい電気抵抗
を示す。この化合物はチオフェノール、メルカプト酢酸
、ヨウ化水素などで還元されてフェニレンジマロノニト
リルとなり、これをN−ブロモスクシンイミドで酸化す
ると再びTCNQに戻る。実用化されたTCNQの用途
としてケミカルコンデンサーがある。
)は融点293.5〜296℃の黄色結晶である。この
化合物は容易に1個の電子を受は入れて安定なアニオン
ラジカルを形成し、その誘導体は極めて小さい電気抵抗
を示す。この化合物はチオフェノール、メルカプト酢酸
、ヨウ化水素などで還元されてフェニレンジマロノニト
リルとなり、これをN−ブロモスクシンイミドで酸化す
ると再びTCNQに戻る。実用化されたTCNQの用途
としてケミカルコンデンサーがある。
TCNQの合成法としては、たとえばマロノニトリルと
1.4−シクロヘキサンジオンを縮合させて得られる1
、4−ビス−(ジシアノメチレン)シクロヘキサンをピ
リジン中でN−ブロモスクシンイミドあるいは臭素を用
いて酸化する方法が知られている。
1.4−シクロヘキサンジオンを縮合させて得られる1
、4−ビス−(ジシアノメチレン)シクロヘキサンをピ
リジン中でN−ブロモスクシンイミドあるいは臭素を用
いて酸化する方法が知られている。
[発明が解決しようとする問題点]
上記のようにTCNQは有機化合物でありながら導電性
を有するので、該化合物の他のルートによる合成法を見
出したり、該化合物に骨格が類似した導電性を有する化
合物を見出すことは、この種の有機導電性化合物の研究
、開発、さらには実用化の上で重要である。
を有するので、該化合物の他のルートによる合成法を見
出したり、該化合物に骨格が類似した導電性を有する化
合物を見出すことは、この種の有機導電性化合物の研究
、開発、さらには実用化の上で重要である。
本発明は、有機半導体としての用途が期待できる新規な
TCNQ誘導体及びその製造法を提供することを目的と
するものである。
TCNQ誘導体及びその製造法を提供することを目的と
するものである。
[問題点を解決するための手段]
本発明の化合物は、次の一般式で示される2、5−ビス
〔2−(ジアルキルカルバモイル)エチル)−7,7゜
8.8−テトラシアノキノジメタンであり、文献未載の
新規化合物である。
〔2−(ジアルキルカルバモイル)エチル)−7,7゜
8.8−テトラシアノキノジメタンであり、文献未載の
新規化合物である。
式中、Rはアルキル基を示す。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、シク
ロヘキシル基など任意のものであってよい。
、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、シク
ロヘキシル基など任意のものであってよい。
次に、上式(V)で示される本発明の化合物の製造法に
ついて述べる。
ついて述べる。
化合物(V)は、一般式
〔式中、Rはアルキル基〕で示される2、5−ビス〔2
−(ジアルキルカルバモイル)エチルシーシクロヘキサ
ン−1,4−ビス(ジシアノメチレン)を酸化すること
により製造される。 酸化反応は、不活性ガス雰囲気中
、ハロゲン(臭素、塩素など)又はN−ハロスクシンイ
ミド(N−ブロモスクシンイミド、N−クロロスクシン
イミドなど)を用いて、通常アセトニトリルその他の溶
媒中で行われ、系にはピリジンその他の塩基性物質を存
在させる。
−(ジアルキルカルバモイル)エチルシーシクロヘキサ
ン−1,4−ビス(ジシアノメチレン)を酸化すること
により製造される。 酸化反応は、不活性ガス雰囲気中
、ハロゲン(臭素、塩素など)又はN−ハロスクシンイ
ミド(N−ブロモスクシンイミド、N−クロロスクシン
イミドなど)を用いて、通常アセトニトリルその他の溶
媒中で行われ、系にはピリジンその他の塩基性物質を存
在させる。
この反応は、通常70〜80℃で10分〜1時間程度行
えば十分である。
えば十分である。
化合物CN)に対するハロゲン又はN−ハロスクシンイ
ミドの使用モル比は、前者1モルに対して後者を1〜5
モル、通常は2モル程度とする。
ミドの使用モル比は、前者1モルに対して後者を1〜5
モル、通常は2モル程度とする。
反応終了後は、系に水を加えて沈澱を析出させてから濾
過するか、溶媒を追出した後加水してからが過し、つい
て水洗、メタノール洗浄、アセトン洗浄、その他通常の
精製手段を講じて精製し、乾燥する。
過するか、溶媒を追出した後加水してからが過し、つい
て水洗、メタノール洗浄、アセトン洗浄、その他通常の
精製手段を講じて精製し、乾燥する。
出発物質である化合物(IY)は、次のルートにより取
得できる。
得できる。
まず、1.4−シクロヘキサンジオン(1)をエナミン
化して1.4−ジビロリジノシクロヘキサン−1,3−
ジエン(If)を得、ついでこの化合物(It)を一般
式%式% で示されるN、N−ジアルキルアクリルアミドと反応さ
せ、一般式 で示される2、5−ビス〔2−(ジアルキルカルバモイ
ル)エチルシーシクロヘキサン−1,4−ビス(ジシア
ノメチレン)(■)を得る。
化して1.4−ジビロリジノシクロヘキサン−1,3−
ジエン(If)を得、ついでこの化合物(It)を一般
式%式% で示されるN、N−ジアルキルアクリルアミドと反応さ
せ、一般式 で示される2、5−ビス〔2−(ジアルキルカルバモイ
ル)エチルシーシクロヘキサン−1,4−ビス(ジシア
ノメチレン)(■)を得る。
この反応は、次式で示される。
(I) (n)(It
) + CHt=CHCONRt −−
」b」−−ラ (III)第1段階の反応は、化
合物(1)をエナミン化して、化合物(It)を得る反
応である。
) + CHt=CHCONRt −−
」b」−−ラ (III)第1段階の反応は、化
合物(1)をエナミン化して、化合物(It)を得る反
応である。
溶媒とし・では、ベンゼン、トルエン、キシレンなどが
用いられる。
用いられる。
反応温度は還流下が好ましく、また反応中に副生ずる水
を系外に除去しながら反応を進行させる。触媒は特に必
要ではないが、p−)ルエンスルホン酸などの酸が使用
できる。
を系外に除去しながら反応を進行させる。触媒は特に必
要ではないが、p−)ルエンスルホン酸などの酸が使用
できる。
反応系は、生成したジエナミンの酸化を防止するため、
窒素雰囲気下に保つのが有利である。
窒素雰囲気下に保つのが有利である。
ピロリジンの使用量は、化合物(1)1モルに対して2
〜4モルの範囲から選ばれる。
〜4モルの範囲から選ばれる。
反応時間は、1〜3時間が適当である。
第1段階の反応の反応生成液から溶媒及び残余のピロリ
ジンを除去した後、第2段階の反応でN、N−シアル
′キルアクリルアミドとの反応を行う。
ジンを除去した後、第2段階の反応でN、N−シアル
′キルアクリルアミドとの反応を行う。
溶媒としては、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、エ
タノール、メタノール、アセトニトリルなどが使用され
る。
タノール、メタノール、アセトニトリルなどが使用され
る。
N、N−ジアルキルアクリルアミドは、化合物(1)1
モル当たり2〜4モルの割合で用いられる。
モル当たり2〜4モルの割合で用いられる。
還流下で3〜24時間程時間窓を行い、その後シクロヘ
キサンジオンに対して2モル当量程度の水を添加して1
〜2時間程度還流下で加水分解反応を続行すると、化合
物(III)が得られる。
キサンジオンに対して2モル当量程度の水を添加して1
〜2時間程度還流下で加水分解反応を続行すると、化合
物(III)が得られる。
N、N−ジアルキルアクリルアミドのアルキル基として
は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキ
シル基、オクチル基、デシル基、シクロヘキシル基など
任意のものであってよい。
は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキ
シル基、オクチル基、デシル基、シクロヘキシル基など
任意のものであってよい。
このようにして得られた化合物(■)、つまり2.5−
ビス〔2−(ジアルキルカルバモイル)エチル〕−1゜
4−シクロヘキサンジオンを式 %式% で示されるマロノニトリルとを反応させれば、次の反応
により化合物(■)が得られる。
ビス〔2−(ジアルキルカルバモイル)エチル〕−1゜
4−シクロヘキサンジオンを式 %式% で示されるマロノニトリルとを反応させれば、次の反応
により化合物(■)が得られる。
(■) + NC−CHt−CN → (■)この反
応は、通常、水、アルコール、水/アルコールなどの溶
媒中で行われる。
応は、通常、水、アルコール、水/アルコールなどの溶
媒中で行われる。
反応に際しては、β−アラニン、グリシン、酢酸アンモ
ニウムなどの触媒を少量共存させる。
ニウムなどの触媒を少量共存させる。
反応は、加熱下(例えば40〜60℃)で1〜5時間時
間待えば十分である。
間待えば十分である。
化合物(III)とマロノニトリルとの使用モル比は、
前者1モルに対し後者を2モル程度とするのが通常であ
るが、後者を過剰に用いても差支えない。
前者1モルに対し後者を2モル程度とするのが通常であ
るが、後者を過剰に用いても差支えない。
反応終了後は、析出した結晶を分取し、常法により精製
すればよい。
すればよい。
本発明の化合物(V)は、有機半導体として有用である
。
。
[作 用]
上記で詳述した一連の反応を整理すると次のようになる
。化合物(V)が本発明の化合物に相当し、■の反応が
本発明の方法に相当する。
。化合物(V)が本発明の化合物に相当し、■の反応が
本発明の方法に相当する。
■ (I) + ピロリジン → (II)■
< n > + CI、=CHC0NR,−CL→
(III)■ (III) + NC
−Cl1.−CN → (IV)■ (■)
−1L→ (V) 尚、化合物(III) 、 (IV)自体も新規化合物
であり、該化合物(III)、(■)を得るための■と
■、及び■の反応も新規な方法である。そこで本出願人
は、これにつき本発明の特許出願と並行して別途特許出
願を行った。
< n > + CI、=CHC0NR,−CL→
(III)■ (III) + NC
−Cl1.−CN → (IV)■ (■)
−1L→ (V) 尚、化合物(III) 、 (IV)自体も新規化合物
であり、該化合物(III)、(■)を得るための■と
■、及び■の反応も新規な方法である。そこで本出願人
は、これにつき本発明の特許出願と並行して別途特許出
願を行った。
[実施例]
次に実施例をあげて本発明を更に説明する。
実施例1
この実施例は、本発明の化合物(V)の−例としての2
.5−ビス〔2−(ジメチルカルバモイル)エチル〕−
7.7,8.8−テトラシアノキノジメタンにかかるも
のである。以下、この化合物を(Va)と略称すること
にする。
.5−ビス〔2−(ジメチルカルバモイル)エチル〕−
7.7,8.8−テトラシアノキノジメタンにかかるも
のである。以下、この化合物を(Va)と略称すること
にする。
該化合物(Va)は、2.5−ビス〔2−(ジメチルカ
ルバモイル)エチル〕−シクロヘキサン−1,4−ジオ
ン(以下(I[Ia)と略称する)にマロノニトリルを
反応させることにより2.5−ビス〔2−(ジメチルカ
ルバモイル)エチルクーシクロヘキサン−1,4−ビス
(ジシアノメチレン)(以後(■a)と略称する)を得
、ついで該化合物(IVa)を酸化することにより取得
される。
ルバモイル)エチル〕−シクロヘキサン−1,4−ジオ
ン(以下(I[Ia)と略称する)にマロノニトリルを
反応させることにより2.5−ビス〔2−(ジメチルカ
ルバモイル)エチルクーシクロヘキサン−1,4−ビス
(ジシアノメチレン)(以後(■a)と略称する)を得
、ついで該化合物(IVa)を酸化することにより取得
される。
化合物(II[a)の製造
1.4−シクロヘキサンジオンI l 2’i(1,0
モル)、ピロリジン213g(3,0モル)、トルエン
450m1を混合し、還流下で窒素ガスを系に導入しな
がら脱水下に反応を行った。1.5時間反応後、系から
トルエン及び残余のピロリジンを除去し、ジオキサン4
00m1、N。
モル)、ピロリジン213g(3,0モル)、トルエン
450m1を混合し、還流下で窒素ガスを系に導入しな
がら脱水下に反応を行った。1.5時間反応後、系から
トルエン及び残余のピロリジンを除去し、ジオキサン4
00m1、N。
N−ジメチルアクリルアミド297y(3,0モル)を
添加した。
添加した。
還流下で3時間反応したのち、水100m1を追加し、
更に、還流下で1時間反応を行った。反応終了後、反応
液を冷却し、残余のN、N−ジメチルアクリルアミド及
びジオキサンを除去し、水500m1を添加後、クロロ
ホルムで抽出を行った。
更に、還流下で1時間反応を行った。反応終了後、反応
液を冷却し、残余のN、N−ジメチルアクリルアミド及
びジオキサンを除去し、水500m1を添加後、クロロ
ホルムで抽出を行った。
クロロホルム層を10%塩酸水溶液で洗浄、更に水で洗
浄したのち、硫酸ナトリウムで脱水した。抽出液からク
ロロホルムを留去して72gの結晶を得た。
浄したのち、硫酸ナトリウムで脱水した。抽出液からク
ロロホルムを留去して72gの結晶を得た。
上記についてメタノール/アセトンより再結晶を行った
。
。
この無色の結晶の融点は157=158℃であり、’H
−NMrtスペクトル、マススペクトル及びIRスペク
トルの解析の結果、目的の2.5−ビス〔2−(ジメチ
ルカルバモイル)エチル)−1,4−シクロヘキサンジ
オンであることが同定された。
−NMrtスペクトル、マススペクトル及びIRスペク
トルの解析の結果、目的の2.5−ビス〔2−(ジメチ
ルカルバモイル)エチル)−1,4−シクロヘキサンジ
オンであることが同定された。
化合物(IVa)の製造
上記で得た化合物(I[Ia) 11.29(36,2
ミリモル)、水38.3g、メタノール22.39及び
β−アラニン112mgを混合し、加温した。内温か4
0℃になった時点で、予めメタノール169にマロノニ
トリル4.859(73,5ミリモル)を溶解した溶液
を滴下し、40〜50℃で1゜5時間反応させた。
ミリモル)、水38.3g、メタノール22.39及び
β−アラニン112mgを混合し、加温した。内温か4
0℃になった時点で、予めメタノール169にマロノニ
トリル4.859(73,5ミリモル)を溶解した溶液
を滴下し、40〜50℃で1゜5時間反応させた。
反応終了後、室温にまで冷却し、が過により結晶を分取
し、水洗、メタノール洗浄を行った後、減圧下に乾燥し
、8.929の白色粉末結晶を得た。
し、水洗、メタノール洗浄を行った後、減圧下に乾燥し
、8.929の白色粉末結晶を得た。
得られた結晶は下記の特性値を有し、化合物(IVa)
、つまり、2.5−ビス〔2〜(ジメチルカルバモイル
)エチルクーシクロヘキサン−1,4−ビス(ジシアノ
メチレン)であることが確認された。
、つまり、2.5−ビス〔2〜(ジメチルカルバモイル
)エチルクーシクロヘキサン−1,4−ビス(ジシアノ
メチレン)であることが確認された。
融 点 196〜197℃cm−’
293G、2240,1645,1500,141
5,1370゜rR’KBr 1340,1265
,1125,1(16(1’H−NMRδpBB、32
.93(S、6)1)、2.80(S、6H)、3.7
〜1.5(m、14H)Mass M”
406 化合物(Va の製造 上記で得た化合物(IVa)4.069(10,0ミリ
モル)とアセトニトリル60gを混合し、加熱した。内
温か75℃になった時点で、臭素3.269(20,4
ミリモル)を滴下し、引き続きピリジン3.16g(4
0,0ミリモル)を滴下し、75〜80℃で15分間反
応させた。
293G、2240,1645,1500,141
5,1370゜rR’KBr 1340,1265
,1125,1(16(1’H−NMRδpBB、32
.93(S、6)1)、2.80(S、6H)、3.7
〜1.5(m、14H)Mass M”
406 化合物(Va の製造 上記で得た化合物(IVa)4.069(10,0ミリ
モル)とアセトニトリル60gを混合し、加熱した。内
温か75℃になった時点で、臭素3.269(20,4
ミリモル)を滴下し、引き続きピリジン3.16g(4
0,0ミリモル)を滴下し、75〜80℃で15分間反
応させた。
反応終了後、室温にまで冷却し、減圧下アセトニトリル
を追出し、水、メタノールを加えた。モしてが過により
結晶を分取し、水洗、メタノール洗浄を行った後、乾燥
し、2.43g(6,0ミリモル)の褐色結晶を得た。
を追出し、水、メタノールを加えた。モしてが過により
結晶を分取し、水洗、メタノール洗浄を行った後、乾燥
し、2.43g(6,0ミリモル)の褐色結晶を得た。
得られた結晶は下記の特性値を有し、化合物(Va)、
つまり、2,5−ビス〔2−(ジメチルカルバモイル)
エチル)−7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン
であることが確認された。尚、化合物(IVa)に対す
る収率は60.4%であった。
つまり、2,5−ビス〔2−(ジメチルカルバモイル)
エチル)−7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン
であることが確認された。尚、化合物(IVa)に対す
る収率は60.4%であった。
融 点 195〜197℃cm−’
2920,2220,1640,1505,14
20,1400,1345゜IR’KBr 127(
1,1145,104(1,920・H−NMRδpp
m 7張s、24BB3・3・…8・計2・97(8
・611)・CDCl3 3. 、 .2. t
。
2920,2220,1640,1505,14
20,1400,1345゜IR’KBr 127(
1,1145,104(1,920・H−NMRδpp
m 7張s、24BB3・3・…8・計2・97(8
・611)・CDCl3 3. 、 .2. t
。
”C−NMRδppm 169.4,150.5,
142.8,132.9.f13.5゜CDCl3 1
12.8.87.0.37.1.35.6.31.7.
27.9[発明の効果] 本発明により、新規化合物である2、5−置換−7,7
゜8.8−テトラシアノキノジメタンが提供できるので
、有機半導体の取得のルートが拡大される。
142.8,132.9.f13.5゜CDCl3 1
12.8.87.0.37.1.35.6.31.7.
27.9[発明の効果] 本発明により、新規化合物である2、5−置換−7,7
゜8.8−テトラシアノキノジメタンが提供できるので
、有機半導体の取得のルートが拡大される。
Claims (4)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Rはアルキル基〕で示される2,5−ビス〔2
−(ジアルキルカルバモイル)エチル〕−7,7,8,
8−テトラシアノキノジメタン。 - (2)2,5−ビス〔2−(ジメチルカルバモイル)エ
チル〕−7,7,8,8−テトラシアノキノジメタンで
ある特許請求の範囲第1項記載の化合物。 - (3)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Rはアルキル基〕で示される2,5−ビス〔2
−(ジアルキルカルバモイル)エチル〕−シクロヘキサ
ン−1,4−ビス(ジシアノメチレン)を酸化すること
を特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Rはアルキル基〕で示される2,5−ビス〔2
−(ジアルキルカルバモイル)エチル〕−7,7,8,
8−テトラシアノキノジメタンの製造法。 - (4)酸化をハロゲン又はN−ハロスクシンイミドを用
いて行うことを特徴とする特許請求の範囲第3項記載の
製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30679787A JPH01146856A (ja) | 1987-12-03 | 1987-12-03 | 2,5−置換−7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30679787A JPH01146856A (ja) | 1987-12-03 | 1987-12-03 | 2,5−置換−7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン及びその製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01146856A true JPH01146856A (ja) | 1989-06-08 |
Family
ID=17961367
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30679787A Pending JPH01146856A (ja) | 1987-12-03 | 1987-12-03 | 2,5−置換−7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン及びその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01146856A (ja) |
-
1987
- 1987-12-03 JP JP30679787A patent/JPH01146856A/ja active Pending
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