JPH01136915A - 鋳床の予備精錬用樋 - Google Patents

鋳床の予備精錬用樋

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Publication number
JPH01136915A
JPH01136915A JP29358887A JP29358887A JPH01136915A JP H01136915 A JPH01136915 A JP H01136915A JP 29358887 A JP29358887 A JP 29358887A JP 29358887 A JP29358887 A JP 29358887A JP H01136915 A JPH01136915 A JP H01136915A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hot metal
gutter
trough
molten iron
width
Prior art date
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Pending
Application number
JP29358887A
Other languages
English (en)
Inventor
Koichi Tomioka
浩一 富岡
Haruo Ito
伊藤 春男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Engineering Corp
Original Assignee
NKK Corp
Nippon Kokan Ltd
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Publication date
Application filed by NKK Corp, Nippon Kokan Ltd filed Critical NKK Corp
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Pending legal-status Critical Current

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  • Refinement Of Pig-Iron, Manufacture Of Cast Iron, And Steel Manufacture Other Than In Revolving Furnaces (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ この発明は高炉鋳床で溶銑の予備処理を行うに際して使
用する溶銑の予備精錬用樋に関するものである。
[従来技術] 最近製鋼工程での精錬の負荷を軽減することを目的とし
て高炉鋳床での樋内で溶銑の予備処理(脱珪、脱燐等)
が行われている。第3(21は従来の鋳床の予備精錬用
樋を示す平面図である。第4図は第3図のA−A’の断
面図である61は粉体吹き込みランス52は第1溶銑樋
部、3は溶銑予備処理する予備精錬用橋部、4は第2溶
銑樋部、5は溶銑、6は溶銑流である。即ち高炉出銑口
より流出した溶銑5は、第1溶銑樋部2から溶銑処理す
る予備精錬用橋部3に流入し、そこで処理された後第2
溶銑樋部4を経由して溶銑容器に溜められる。この場合
溶銑処理する予備NM、用樋部3には溶銑の表面から5
0〜500mm@して粉体吹き込みランス1を配置して
、粉体吹き込みランス1の先端より撤退ガスと酸化剤を
一緒に溶銑表面にに吹き付ける方法である。この方法で
は粉体吹き込みランス1を使用する場合の粉体吹き込み
投射部の近傍は溶銑(Si、P等)と酸化剤(スケール
、気酸等)の酸化反応により高温化し、かつ投射の攪拌
効果により湯面の流動が発生し溶銑処理する予備精錬用
橋部3の耐火物にとっては苛酷な状態になるため、溶銑
処理する予備精錬用橋部3の上部及び底部とも耐火物は
粉体吹き込みランス1からできるだけ離すような設計に
なっていた。なお第1溶銑樋2と第2溶銑樋4の寸法は
同じである。
点線は鋳床の予備精錬用樋及び第1溶銑樋2と第2溶銑
樋4の底部の幅を示す。
[発明が解決しようとする問題点] しかしながら第3図、第4図に示すように溶銑処理する
予備精錬用橋部3のコーナ部7の溶銑流6が不均一とな
り、よどみが発生する。この部分に熱応力が集中して耐
火物の剥離や異常溶損等の問題があった。この発明は係
る事情に鑑みてなされたものあって予備精錬用橋部3の
コーナ部7の溶銑流6と熱応力を均一化する鋳床の予備
精錬用樋を提供することを目的とする。
[問題点を解決するための手段] この発明に係わる鋳床の予備精錬用樋は、高炉から溶銑
予備処理樋との間の第1溶銑樋と、溶銑予備処理樋と、
前記溶銑予備処理樋から溶銑予備処理樋で処理された溶
銑を受ける受銑容器との間の第2溶銑樋とから構成され
た鋳床の予備精錬用樋において、第1溶銑樋と溶銑予備
処理樋と第2溶銑樋の底部の幅を同一とし、溶銑予備処
理樋の上部の幅を第1溶銑樋と第2溶銑樋の上部幅より
なめらかに広くすることを特徴とする。
[作用] この発明によれば第1溶銑樋と溶銑予備小理樋と第2溶
銑樋の底部の幅を同一とし、溶銑予備処理樋の上部の幅
を第1溶銑樋と第2溶銑樋の幅よりなめらかに広くして
いるので、溶銑流が均一になるためよどみが発生しない
。溶銑予備処理樋の上部の幅を溶銑樋の幅よりなめらか
に広くしているので熱応力の集中はないため耐火物の剥
離や異常溶損等の問題はない。
[実施例] 以下添付された図面を参考にして一実施例を説明する。
第1図は本発明一実施例の鋳床の予備精錬用樋を示す平
面図である。第2図は第1図のA−A′の断面図である
。図面上の符号1〜7は第3図又は第4図で説明した符
号と同一である。第1図、第2図に示すように第1溶銑
M2から溶銑予備処理樋3に流入するときは樋の底部寸
法が同一であり、溶銑予備処理樋3の粉体吹き込みラン
ス1部の上部の幅が広 くなっている。
次にこの発明の一実施例の動作について説明する。
第2図は溶銑予備処理樋の寸法で、幅は樋底部(a)で
800mmで、樋上部(b)で1400mm、粉体吹き
込みランス1部の樋上部(c)の幅は2000mm、樋
の高さ(h)は1200mmとした。側部8は傾斜をゆ
るくもたせた。
コーナ部7は流線形とした。このようにすることによっ
て溶銑流6の流れに対して抵抗がなく又耐大物に対して
発熱反応による熱負荷も均一化されるので耐火物の剥離
や溶損が軽減される。第1表に従来法と本発明法の溶銑
予備処理樋の比較を示す。この表から明らかなように溶
銑予備処理樋の耐火物原単位は約1/3向上する。
第1表 木1tapの使用で複数個所の欠陥が発生することがあ
るため異常損耗累計個数がtap数より多くなっている
[発明の効果] 以上のようにこの発明によれば、第1溶銑樋と溶銑予備
処理樋と第2溶銑樋の底部の幅を同一とし、溶銑予備処
理樋の上部の幅を第1溶銑樋と第2溶銑樋の上部幅より
なめらかに広くしているので溶銑流及熱負荷の均一化が
図れ、溶銑予備処理樋の耐火物原単位を著しく向上する
【図面の簡単な説明】
を示す平面図、第2図は第1図のA−A′の断面図、第
3図は従来の鋳床の予備精錬用機を示す平面図、第4図
は第3図のA−A’の断面図である。 1・・・粉体吹き込みランス、2・・・第1溶銑樋部、
3・・・溶銑予備処理する予備精錬用機部、4・・・第
2溶銑樋部、5・・・溶銑、6・・・溶銑流、7・・・
コーナ部、8・・・側部。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  高炉から溶銑予備処理樋との間の第1溶銑樋と、溶銑
    予備処理樋と、前記溶銑予備処理樋から溶銑予備処理樋
    で処理された溶銑を受ける受銑容器との間の第2溶銑樋
    とから構成された鋳床の予備精錬用樋において、第1溶
    銑樋と溶銑予備処理樋と第2溶銑樋の底部の幅を同一と
    し、溶銑予備処理樋の上部の幅を第1溶銑樋と第2溶銑
    樋の上部幅よりなめらかに広くすることを特徴とする鋳
    床の予備精錬用樋。
JP29358887A 1987-11-20 1987-11-20 鋳床の予備精錬用樋 Pending JPH01136915A (ja)

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JPH01136915A true JPH01136915A (ja) 1989-05-30

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JP29358887A Pending JPH01136915A (ja) 1987-11-20 1987-11-20 鋳床の予備精錬用樋

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5670099A (en) * 1991-06-24 1997-09-23 L'oreal Process for preparing submicron particles in the presence of lipid vesicles, and corresponding compositions

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5670099A (en) * 1991-06-24 1997-09-23 L'oreal Process for preparing submicron particles in the presence of lipid vesicles, and corresponding compositions

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