JPH01126215A - 亜球状合成シリカの製造方法 - Google Patents
亜球状合成シリカの製造方法Info
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- JPH01126215A JPH01126215A JP62284139A JP28413987A JPH01126215A JP H01126215 A JPH01126215 A JP H01126215A JP 62284139 A JP62284139 A JP 62284139A JP 28413987 A JP28413987 A JP 28413987A JP H01126215 A JPH01126215 A JP H01126215A
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 127
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 title claims abstract description 62
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 27
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims abstract description 24
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 claims abstract description 22
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 claims abstract description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 14
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 abstract description 12
- 239000000945 filler Substances 0.000 abstract description 9
- 238000005452 bending Methods 0.000 abstract description 6
- 238000007789 sealing Methods 0.000 abstract description 3
- 238000011282 treatment Methods 0.000 abstract description 3
- 238000013019 agitation Methods 0.000 abstract 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 24
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 10
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 7
- ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N Ammonium bicarbonate Chemical compound [NH4+].OC([O-])=O ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000001099 ammonium carbonate Substances 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910000013 Ammonium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 5
- 235000012538 ammonium bicarbonate Nutrition 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 2
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- PAWQVTBBRAZDMG-UHFFFAOYSA-N 2-(3-bromo-2-fluorophenyl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=CC(Br)=C1F PAWQVTBBRAZDMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJLUBHOZZTYQIP-UHFFFAOYSA-N 2-[5-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]-1,3,4-oxadiazol-2-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1=NN=C(O1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 YJLUBHOZZTYQIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 232Th Chemical compound [232Th] ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 0.000 description 1
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- USFZMSVCRYTOJT-UHFFFAOYSA-N Ammonium acetate Chemical compound N.CC(O)=O USFZMSVCRYTOJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005695 Ammonium acetate Substances 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 description 1
- 230000005260 alpha ray Effects 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043376 ammonium acetate Drugs 0.000 description 1
- 235000019257 ammonium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 235000012501 ammonium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- VZTDIZULWFCMLS-UHFFFAOYSA-N ammonium formate Chemical compound [NH4+].[O-]C=O VZTDIZULWFCMLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBIXEXWLHSRNKB-UHFFFAOYSA-N ammonium oxalate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]C(=O)C([O-])=O VBIXEXWLHSRNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- XJMWHXZUIGHOBA-UHFFFAOYSA-N azane;propanoic acid Chemical compound N.CCC(O)=O XJMWHXZUIGHOBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N choline Chemical compound C[N+](C)(C)CCO OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001231 choline Drugs 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- XWHPIFXRKKHEKR-UHFFFAOYSA-N iron silicon Chemical compound [Si].[Fe] XWHPIFXRKKHEKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTHCQFKNFVSQBC-UHFFFAOYSA-N magnesium silicide Chemical compound [Mg]=[Si]=[Mg] YTHCQFKNFVSQBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021338 magnesium silicide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 description 1
- FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N silicide(4-) Chemical compound [Si-4] FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- KHDSWONFYIAAPE-UHFFFAOYSA-N silicon sulfide Chemical compound S=[Si]=S KHDSWONFYIAAPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- BINKQJJWJHNOSQ-UHFFFAOYSA-N tetrabenzyl silicate Chemical compound C=1C=CC=CC=1CO[Si](OCC=1C=CC=CC=1)(OCC=1C=CC=CC=1)OCC1=CC=CC=C1 BINKQJJWJHNOSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADLSSRLDGACTEX-UHFFFAOYSA-N tetraphenyl silicate Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 ADLSSRLDGACTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNYWZCXLKNTFFI-UHFFFAOYSA-N uranium Chemical compound [U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U][U] DNYWZCXLKNTFFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- -1 uranium and thorium Chemical class 0.000 description 1
Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、合成シリカを製造する方法に係り、特にテ
トラアルコキシシランを加水分解して有用な亜球状合成
シリカを製造する方法に関する。
トラアルコキシシランを加水分解して有用な亜球状合成
シリカを製造する方法に関する。
[従来の技術]
近年、電子部品封止用樹脂組成物の充填材、多成分系光
ファイバー、ファインセラミックス、光学ガラス等の原
料として合成シリカが使用されるようになり、一般的に
嵩比重が大きく高純度のものが要請されている。特に、
電子部品封止用樹脂組成物の充填材として使用される封
止材用シリカについては、LSIや超LSI等のように
その集積度が増すにつれてソフトエラーを回避する観点
から、より高純度であって特にα線崩壊物質のウランや
トリウム等の元素、化合物ができるだけ低濃度であり、
また、比表面積が小さく、得られる樹脂組成物の成形性
に優れていることが要求されている。
ファイバー、ファインセラミックス、光学ガラス等の原
料として合成シリカが使用されるようになり、一般的に
嵩比重が大きく高純度のものが要請されている。特に、
電子部品封止用樹脂組成物の充填材として使用される封
止材用シリカについては、LSIや超LSI等のように
その集積度が増すにつれてソフトエラーを回避する観点
から、より高純度であって特にα線崩壊物質のウランや
トリウム等の元素、化合物ができるだけ低濃度であり、
また、比表面積が小さく、得られる樹脂組成物の成形性
に優れていることが要求されている。
そして、このような合成シリカの製造法として、例えば
、テトラアルコキシシランをアンモニウム塩の存在下に
塩基性条件下で加水分解する方法(特開昭60−87.
409号公報)が知られており、加水分解の際にゲル化
することがなく、生成した合成シリカの粒子の形状が真
球状に比較的良く揃っており、濾過が容易でその生産性
に優れているほか、これを充填材として得られる樹脂組
成物の成形性も優れているという特長を有する。
、テトラアルコキシシランをアンモニウム塩の存在下に
塩基性条件下で加水分解する方法(特開昭60−87.
409号公報)が知られており、加水分解の際にゲル化
することがなく、生成した合成シリカの粒子の形状が真
球状に比較的良く揃っており、濾過が容易でその生産性
に優れているほか、これを充填材として得られる樹脂組
成物の成形性も優れているという特長を有する。
[発明が解決しようとする問題点]
しかしながら、この方法によって得られる合成シリカは
、その粒径が20〜30μm程度のものから100μ雇
以上のものまでと比較的広範囲に分布し、平均粒径も大
きいために、電子部品封止用樹脂組成物の成形性が平均
粒径10〜20μm程度の球状シリカに比べて劣るとい
う問題があるほか、その形状も真球状に近い球状である
ため、電子部品封止用樹脂組成物の充填材として使用し
た場合、その成形性という面では優れているものの、そ
の曲げ強度を改善することが難しいという問題がある。
、その粒径が20〜30μm程度のものから100μ雇
以上のものまでと比較的広範囲に分布し、平均粒径も大
きいために、電子部品封止用樹脂組成物の成形性が平均
粒径10〜20μm程度の球状シリカに比べて劣るとい
う問題があるほか、その形状も真球状に近い球状である
ため、電子部品封止用樹脂組成物の充填材として使用し
た場合、その成形性という面では優れているものの、そ
の曲げ強度を改善することが難しいという問題がある。
従って、本発明の目的は、平均粒径50μm以下でその
粒径が比較的良く揃っており、しかも、粒子の形状が亜
球状であり、これを充填材として使用する電子部品封止
用樹脂組成物の成形性を損うことなくその曲げ強度を改
善できる亜球状合成シリカの製造方法を提供することに
ある。
粒径が比較的良く揃っており、しかも、粒子の形状が亜
球状であり、これを充填材として使用する電子部品封止
用樹脂組成物の成形性を損うことなくその曲げ強度を改
善できる亜球状合成シリカの製造方法を提供することに
ある。
[問題点を解決するための手段]
すなわち、本発明は、テトラアルコキシシランをアンモ
ニウム塩の存在下に塩基性及び撹拌条件下で加水分解し
て合成シリカを製造するに際し、攪拌による剪断速度を
1005’以上に維持して平均粒径50μm以下の亜球
状合成シリカを製造する亜球状合成シリカの製造方法で
ある。
ニウム塩の存在下に塩基性及び撹拌条件下で加水分解し
て合成シリカを製造するに際し、攪拌による剪断速度を
1005’以上に維持して平均粒径50μm以下の亜球
状合成シリカを製造する亜球状合成シリカの製造方法で
ある。
本発明において原料として使用するテトラアルコキシシ
ランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシ
シラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラ
ン、テトラフェノキシシラン、テトラベンジルオキシシ
ラン等を挙げることができ、純度の高い合成シリカを製
造する上で好ましくはテトラメトキシシラン及びテトラ
エトキシシランである。また、このようなテトラアルコ
キシシランは、例えば、四塩化珪素にアルコール又はフ
ェノールを作用させる方法、二硫化珪素又は珪化マグネ
シウムにアルコホルを作用させる方法、金属珪素、珪化
鉄、珪素鉄又はこれらの混合物とアルコールとを金属ア
ルコラードの存在下に反応させる方法(特公昭45−8
,217号公報)等により製造することができる。
ランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシ
シラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラ
ン、テトラフェノキシシラン、テトラベンジルオキシシ
ラン等を挙げることができ、純度の高い合成シリカを製
造する上で好ましくはテトラメトキシシラン及びテトラ
エトキシシランである。また、このようなテトラアルコ
キシシランは、例えば、四塩化珪素にアルコール又はフ
ェノールを作用させる方法、二硫化珪素又は珪化マグネ
シウムにアルコホルを作用させる方法、金属珪素、珪化
鉄、珪素鉄又はこれらの混合物とアルコールとを金属ア
ルコラードの存在下に反応させる方法(特公昭45−8
,217号公報)等により製造することができる。
本発明においては、これらのテトラアルコキシシランを
アンモニウム塩の存在下で加水分解して合成シリカを製
造する。
アンモニウム塩の存在下で加水分解して合成シリカを製
造する。
この目的で使用するアンモニウム塩としては、それがア
ンモニアと無機酸との反応で得られる無機アンモニウム
塩であっても、また、アンモニアと有機酸との反応で得
られる有機アンモニウム塩であってもよいが、封止材用
シリカ等の純度の高い合成シリカを製造するためには、
分解して分離し易い揮発性成分になり、通常行われる後
処理で容易に分離除去することができ、生成した合成シ
リカ中に不純物として残留しないものがよい。
ンモニアと無機酸との反応で得られる無機アンモニウム
塩であっても、また、アンモニアと有機酸との反応で得
られる有機アンモニウム塩であってもよいが、封止材用
シリカ等の純度の高い合成シリカを製造するためには、
分解して分離し易い揮発性成分になり、通常行われる後
処理で容易に分離除去することができ、生成した合成シ
リカ中に不純物として残留しないものがよい。
このようなアンモニウム塩の具体例としては、例えば、
硝酸アンモニウム、塩酸アンモニウム、硫酸アンモニウ
ム、炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム等の無機
アンモニウム塩や、蟻酸アンモニウム、酢酸アンモニウ
ム、蓚酸アンモニウム、プロピオン酸アンモニウム等の
有機アンモニウム塩や、酒石酸、リンゴ酸等のオキシ有
機酸のアンモニウム塩等を挙げることができる。
硝酸アンモニウム、塩酸アンモニウム、硫酸アンモニウ
ム、炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム等の無機
アンモニウム塩や、蟻酸アンモニウム、酢酸アンモニウ
ム、蓚酸アンモニウム、プロピオン酸アンモニウム等の
有機アンモニウム塩や、酒石酸、リンゴ酸等のオキシ有
機酸のアンモニウム塩等を挙げることができる。
これらのアンモニウム塩を加水分解反応の反応系に添加
する方法については、特に制限されるものではないが、
この加水分解に使用する水に溶解して使用するのがよく
、また、このアンモニウム塩の使用量については、テト
ラアルコキシシランやアンモニウム塩の種類あるいは製
造される合成シリカの用途等によっても異なるが、加水
分解に使用する水に0.1重量%以上、好ましくは1重
量%以上の濃度となる最であり、その上限は加水分解に
使用する水に溶解する量である。
する方法については、特に制限されるものではないが、
この加水分解に使用する水に溶解して使用するのがよく
、また、このアンモニウム塩の使用量については、テト
ラアルコキシシランやアンモニウム塩の種類あるいは製
造される合成シリカの用途等によっても異なるが、加水
分解に使用する水に0.1重量%以上、好ましくは1重
量%以上の濃度となる最であり、その上限は加水分解に
使用する水に溶解する量である。
また、本発明において、加水分解に使用する水の母は、
理論的にはテトラアルコキシシラン1モルに対して2モ
ルでよいが、加水分解反応をより完全に進行させる上で
好ましくは2.2モル以上使用するのがよい。
理論的にはテトラアルコキシシラン1モルに対して2モ
ルでよいが、加水分解反応をより完全に進行させる上で
好ましくは2.2モル以上使用するのがよい。
さらに、本発明におけるテトラアルコキシシランの加水
分解反応は、必要に応じてpH調整剤を使用し、塩基性
条件で行う。この加水分解反応の際の反応液のpHは、
通常7以上、好ましくは8〜12の範囲に調整される。
分解反応は、必要に応じてpH調整剤を使用し、塩基性
条件で行う。この加水分解反応の際の反応液のpHは、
通常7以上、好ましくは8〜12の範囲に調整される。
この反応液のpHが酸性側に移行するとゲル化し、所望
の粒度のシリカを得ることができないという問題が生じ
る。また、反応液のpHを上記範囲内で高い値に調整す
ると生成する合成シリカの粒径が大きくなり、また、反
応液のpHを上記範囲内で低い値に調整すると生成する
合成シリカの粒径が小さくなり、この性質を利用して合
成シリカの粒径をその用途に応じて調整することができ
る。この目的で、必要に応じて使用されるpH調整剤と
しては、それが反応系に添加されて反応液のpt+を所
望の値に調整し得るものであればよいが、純度の高い合
成シリカを製造するために、好ましくは分解した際に分
離し易い揮発性成分に分解し、通常行われる後処理で容
易に分離除去することができ、生成した合成シリカ中に
不純物として残留しないものがよく、具体的には、例え
ば、アンモニア、テトラメチルアンモニウムハイドロオ
キサイド、コリン等の水及び/又はアルコール溶液等を
挙げることができる。
の粒度のシリカを得ることができないという問題が生じ
る。また、反応液のpHを上記範囲内で高い値に調整す
ると生成する合成シリカの粒径が大きくなり、また、反
応液のpHを上記範囲内で低い値に調整すると生成する
合成シリカの粒径が小さくなり、この性質を利用して合
成シリカの粒径をその用途に応じて調整することができ
る。この目的で、必要に応じて使用されるpH調整剤と
しては、それが反応系に添加されて反応液のpt+を所
望の値に調整し得るものであればよいが、純度の高い合
成シリカを製造するために、好ましくは分解した際に分
離し易い揮発性成分に分解し、通常行われる後処理で容
易に分離除去することができ、生成した合成シリカ中に
不純物として残留しないものがよく、具体的には、例え
ば、アンモニア、テトラメチルアンモニウムハイドロオ
キサイド、コリン等の水及び/又はアルコール溶液等を
挙げることができる。
そして、本発明方法においては、加水分解反応時におけ
る攪拌を剪断速度100S−1以上に維持して行う。こ
の攪拌の剪断速度が10O8−1より低いと、比較的粒
径の揃った平均粒径50μm以下の亜球状合成シリカを
得ることができない。本発明方法においては、この加水
分解反応時の攪拌の剪断速度を10O8−1以上で適宜
調整することにより、生成する合成シリカの粒径を調整
することができる。すなわち、攪拌の剪断速度を上記範
囲内で小さい値に調整すると合成シリカの粒径は大きく
なり、反対に、攪拌の剪断速度を上記範囲内で大きい値
に調整すると合成シリカの粒径は小ざくなる。本発明方
法で使用する攪拌機としては、通常の攪拌機を使用する
こともできるが、攪拌の剪断速度100S−1以上を確
保して平均粒径50μm以下の亜球状合成シリカを得る
ために、好ましくはディスパーサ−、ブレンダー、ホモ
ジナイザー型等の高速攪拌機がよい。
る攪拌を剪断速度100S−1以上に維持して行う。こ
の攪拌の剪断速度が10O8−1より低いと、比較的粒
径の揃った平均粒径50μm以下の亜球状合成シリカを
得ることができない。本発明方法においては、この加水
分解反応時の攪拌の剪断速度を10O8−1以上で適宜
調整することにより、生成する合成シリカの粒径を調整
することができる。すなわち、攪拌の剪断速度を上記範
囲内で小さい値に調整すると合成シリカの粒径は大きく
なり、反対に、攪拌の剪断速度を上記範囲内で大きい値
に調整すると合成シリカの粒径は小ざくなる。本発明方
法で使用する攪拌機としては、通常の攪拌機を使用する
こともできるが、攪拌の剪断速度100S−1以上を確
保して平均粒径50μm以下の亜球状合成シリカを得る
ために、好ましくはディスパーサ−、ブレンダー、ホモ
ジナイザー型等の高速攪拌機がよい。
また、テトラアルコキシシランを加水分解する際の反応
温度については特に制限はないが、通常0℃から加水分
解して生成するアルコールの沸点までの温度で行われ、
例えば大気圧下で加水分解を行う場合、テトラアルコキ
シシランがテトラメトキシシランである場合は0〜64
℃、好ましくは30〜60℃であり、また、テトラアル
コキシシランがテトラエトキシシランである場合は0〜
78℃、好ましくは30〜70℃である。反応温度が0
℃より低いと加水分解速度が非常に遅くなるという問題
が生じ、また、反応温度が分解生成物のアルコールの沸
点より高いとゲル化が進み易くなって均一な加水分解が
困難になるという問題が生じる。なお、加圧下で反応さ
せる場合、アルコールの沸点は大気圧下の場合に比べて
高くなるので、適用温度範囲は広がってくる。
温度については特に制限はないが、通常0℃から加水分
解して生成するアルコールの沸点までの温度で行われ、
例えば大気圧下で加水分解を行う場合、テトラアルコキ
シシランがテトラメトキシシランである場合は0〜64
℃、好ましくは30〜60℃であり、また、テトラアル
コキシシランがテトラエトキシシランである場合は0〜
78℃、好ましくは30〜70℃である。反応温度が0
℃より低いと加水分解速度が非常に遅くなるという問題
が生じ、また、反応温度が分解生成物のアルコールの沸
点より高いとゲル化が進み易くなって均一な加水分解が
困難になるという問題が生じる。なお、加圧下で反応さ
せる場合、アルコールの沸点は大気圧下の場合に比べて
高くなるので、適用温度範囲は広がってくる。
ざらに、本発明の加水分解反応は、バッチ式で行っても
よく、また、連続式で行ってもよい。反応をバッチ式で
行う場合は、例えば、反応容器に所定のアンモニウム塩
水溶液を仕込み、テトラアルコキシシランをそのままあ
るいはアルコール溶液として滴下し、生成した反応混合
物を濾過する方法等で行うことができ、また、反応を連
続的に行う場合には、例えば、所定のアンモニウム塩の
水溶液とテトラアルコキシシランあるいはそのアルコー
ル溶液とを定量ポンプで反応容器に連続的に送込み、生
成したスラリーを反応容器から連続的に取出して濾過す
る方法等で行うことができる=この加水分解反応に使用
する反応容器としては、ガラス製のもの、ステンレス製
のもの、テフロン等の樹脂ライニングしたもの等、種々
のものがあるが、不純物の許容濃度に応じて反応容器を
使用するのが好ましい。
よく、また、連続式で行ってもよい。反応をバッチ式で
行う場合は、例えば、反応容器に所定のアンモニウム塩
水溶液を仕込み、テトラアルコキシシランをそのままあ
るいはアルコール溶液として滴下し、生成した反応混合
物を濾過する方法等で行うことができ、また、反応を連
続的に行う場合には、例えば、所定のアンモニウム塩の
水溶液とテトラアルコキシシランあるいはそのアルコー
ル溶液とを定量ポンプで反応容器に連続的に送込み、生
成したスラリーを反応容器から連続的に取出して濾過す
る方法等で行うことができる=この加水分解反応に使用
する反応容器としては、ガラス製のもの、ステンレス製
のもの、テフロン等の樹脂ライニングしたもの等、種々
のものがあるが、不純物の許容濃度に応じて反応容器を
使用するのが好ましい。
本発明方法において、合成シリカは沈澱物として生成し
、濾過乾燥することにより粉末状態で得られる。このよ
うにして得られた合成シリカは、高温、例えば800〜
1,200’Cの温度で焼成処理され、これによって無
孔化及び緻密化される。
、濾過乾燥することにより粉末状態で得られる。このよ
うにして得られた合成シリカは、高温、例えば800〜
1,200’Cの温度で焼成処理され、これによって無
孔化及び緻密化される。
焼成温度が800℃より低いと、シリカ粒子の比表面積
が大きく、また、1,200’Cを越えると、シリカ粒
子の凝集が起り、樹脂等との充填性が悪化する。
が大きく、また、1,200’Cを越えると、シリカ粒
子の凝集が起り、樹脂等との充填性が悪化する。
本発明方法で製造された合成シリカは、顕微鏡で観察し
たところその粒子の形状が細球形で良く揃っており、ア
ンモニウム塩及び必要に応じて添加するpH調整剤を選
択することによりその純度を高くすることができ、特に
ぞの粒径が平均粒径50μ汎以下で揃っているので、多
成分系光ファイバー、ファインセラミックス、光学ガラ
ス等の原料として使用できるほか、特に電子部品封止用
樹脂組成物の充填材として使用した場合にその曲げ強度
の向上を図ることができ有利に使用することができる。
たところその粒子の形状が細球形で良く揃っており、ア
ンモニウム塩及び必要に応じて添加するpH調整剤を選
択することによりその純度を高くすることができ、特に
ぞの粒径が平均粒径50μ汎以下で揃っているので、多
成分系光ファイバー、ファインセラミックス、光学ガラ
ス等の原料として使用できるほか、特に電子部品封止用
樹脂組成物の充填材として使用した場合にその曲げ強度
の向上を図ることができ有利に使用することができる。
[実施例]
以下、実施例及び比較例並びに試験例に基づいて本発明
方法を具体的に説明する。
方法を具体的に説明する。
実施例1
pH調整剤として6.5重量%のアンモニアを溶解した
9、3重量%炭酸水素アンモニウム水溶液159.61
間部をガラス製反応容器に仕込み、ブレンダーを使用し
て剪断速度2.20O3”の撹拌条件下にテトラメトキ
シシラン’+oomm部とメタノール60重量部の混合
溶液を1時間かけて滴下し、室温で加水分解反応を行っ
た。
9、3重量%炭酸水素アンモニウム水溶液159.61
間部をガラス製反応容器に仕込み、ブレンダーを使用し
て剪断速度2.20O3”の撹拌条件下にテトラメトキ
シシラン’+oomm部とメタノール60重量部の混合
溶液を1時間かけて滴下し、室温で加水分解反応を行っ
た。
反応終了後、生成した反応混合物を濾過し、水洗して2
00℃で2時間乾燥させた後、さらに1゜200℃で4
時間焼成して合成シリカを製造した。
00℃で2時間乾燥させた後、さらに1゜200℃で4
時間焼成して合成シリカを製造した。
1qられた合成シリカの物性を調べると共に、その形状
を顕微鏡で観察した。結果を第1表に示す。
を顕微鏡で観察した。結果を第1表に示す。
実施例2
攪拌機としてパドル型攪拌機を使用し、剪断速度168
S−1の攪拌条件で加水分解反応を行った以外は、上記
実施例1と同様にして合成シリカを製造し、得られた合
成シリカの物性及びその形状を調べた。結果を第1表に
示す。
S−1の攪拌条件で加水分解反応を行った以外は、上記
実施例1と同様にして合成シリカを製造し、得られた合
成シリカの物性及びその形状を調べた。結果を第1表に
示す。
実施例3
pH調整剤として6.5重量%のアンモニアを溶解した
9、3重間%炭酸水素アンモニウム水溶液39.9重量
部を使用し、また、攪拌機としてディスパーサ−を使用
して剪断速度4.40O3−1の攪拌条件で加水分解反
応を行った以外は、上記実施例1と同様にして合成シリ
カを製造し、得られた合成シリカの物性及びその形状を
調べた。結果を第1表に示す。
9、3重間%炭酸水素アンモニウム水溶液39.9重量
部を使用し、また、攪拌機としてディスパーサ−を使用
して剪断速度4.40O3−1の攪拌条件で加水分解反
応を行った以外は、上記実施例1と同様にして合成シリ
カを製造し、得られた合成シリカの物性及びその形状を
調べた。結果を第1表に示す。
実施例4
pH調整剤として6.5重量%のアンモニアを゛溶解し
た9、 3fflff1%炭酸水素アンモニウム水溶液
159.6重量部を使用した以外は実施例3と同様にし
て合成シリカを製造し、得られた合成シリカの物性及び
その形状を調べた。結果を第1表に示す。
た9、 3fflff1%炭酸水素アンモニウム水溶液
159.6重量部を使用した以外は実施例3と同様にし
て合成シリカを製造し、得られた合成シリカの物性及び
その形状を調べた。結果を第1表に示す。
実施例5
pH調整剤として17.3重量%のアンモニアを溶解し
た8、2重石%炭酸水素アンモニウム水溶液180.4
重量部を使用した以外は実施例3と同様にして合成シリ
カを製造し、得られた合成シリカの物性及びその形状を
調べた。結果を第1表に示す。
た8、2重石%炭酸水素アンモニウム水溶液180.4
重量部を使用した以外は実施例3と同様にして合成シリ
カを製造し、得られた合成シリカの物性及びその形状を
調べた。結果を第1表に示す。
実施例6
1)H調整剤として0.111%のアンモニアを溶解し
た9、9重量%炭酸水素アンモニウム水溶液150.2
重量部を使用した以外は実施例3と同様にして合成シリ
カを製造し、得られた合成シリカの物性及びその形状を
調べた。結果を第1表に示す。
た9、9重量%炭酸水素アンモニウム水溶液150.2
重量部を使用した以外は実施例3と同様にして合成シリ
カを製造し、得られた合成シリカの物性及びその形状を
調べた。結果を第1表に示す。
比較例1
攪拌機としてマグネチツクスターラーを使用し、酌断速
度763”の攪拌条件で加水分解反応を行った以外は上
記実施例3と同様にして合成シリカを製造し、得られた
合成シリカの物性及びその形状を調べた。結果を第1表
に示す。
度763”の攪拌条件で加水分解反応を行った以外は上
記実施例3と同様にして合成シリカを製造し、得られた
合成シリカの物性及びその形状を調べた。結果を第1表
に示す。
比較例2
アンモニウム塩が添加されていない5重量%アンモニア
水溶液を使用した以外は実施例2と同様にしてバッチ式
で合成シリカの製造を行った。結果は、反応生成物がゲ
ル状になって、濾過ができなかった。なお、この比較例
における反応系のpHは11.6であった。
水溶液を使用した以外は実施例2と同様にしてバッチ式
で合成シリカの製造を行った。結果は、反応生成物がゲ
ル状になって、濾過ができなかった。なお、この比較例
における反応系のpHは11.6であった。
第1表
試験例
破砕シリカ、亜球状シリカあるいは真球状シリカをそれ
ぞれ電子部品用樹脂組成物の充填材として使用し、得ら
れた樹脂組成物の物性を調べた。
ぞれ電子部品用樹脂組成物の充填材として使用し、得ら
れた樹脂組成物の物性を調べた。
結果を第2表に示す。
この第2表の結果から明らかなように、真球状シリカ出
は破砕シリカに比べてその曲げ強度が著しく低下するが
、亜球状シリカではこの破砕シリカに比較的近い値を示
しており、物性の而で有利に使用することができる。
は破砕シリカに比べてその曲げ強度が著しく低下するが
、亜球状シリカではこの破砕シリカに比較的近い値を示
しており、物性の而で有利に使用することができる。
第2表
[発明の効果]
本発明方法によれば、加水分解の際にゲル化することが
なく、濾過が容易になってその生産性が向上するほか、
その粒径も平均粒径50μm以下で比較的良く揃ってお
り、しかも、粒子の形状が亜球状であってこれを充填材
として使用する電子部品封止用樹脂組成物の曲げ強度を
向上させることができる。
なく、濾過が容易になってその生産性が向上するほか、
その粒径も平均粒径50μm以下で比較的良く揃ってお
り、しかも、粒子の形状が亜球状であってこれを充填材
として使用する電子部品封止用樹脂組成物の曲げ強度を
向上させることができる。
特許出願人 新日鐵化学株式会社
Claims (2)
- (1)テトラアルコキシシランをアンモニウム塩の存在
下に塩基性及び攪拌条件下で加水分解して合成シリカを
製造するに際し、攪拌による剪断速度を100S^−^
1以上に維持して平均粒径50μm以下の亜球状合成シ
リカを製造することを特徴とする亜球状合成シリカの製
造方法。 - (2)加水分解反応の際のpH値を8〜12の範囲で調
整する特許請求の範囲第1項記載の亜球状合成シリカの
製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62284139A JPH01126215A (ja) | 1987-11-12 | 1987-11-12 | 亜球状合成シリカの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62284139A JPH01126215A (ja) | 1987-11-12 | 1987-11-12 | 亜球状合成シリカの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01126215A true JPH01126215A (ja) | 1989-05-18 |
Family
ID=17674674
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62284139A Pending JPH01126215A (ja) | 1987-11-12 | 1987-11-12 | 亜球状合成シリカの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01126215A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003095637A (ja) * | 2001-09-25 | 2003-04-03 | Kubota Corp | 球状酸化物粒子の製造方法 |
-
1987
- 1987-11-12 JP JP62284139A patent/JPH01126215A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003095637A (ja) * | 2001-09-25 | 2003-04-03 | Kubota Corp | 球状酸化物粒子の製造方法 |
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