JPH01122119A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPH01122119A JPH01122119A JP62279838A JP27983887A JPH01122119A JP H01122119 A JPH01122119 A JP H01122119A JP 62279838 A JP62279838 A JP 62279838A JP 27983887 A JP27983887 A JP 27983887A JP H01122119 A JPH01122119 A JP H01122119A
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- Japan
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- Pending
Links
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Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Vibration Prevention Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体製造用の投影露光装置に関するものであ
る。
る。
従来この様な半導体製造用の投影露光装置に於いては、
露光波長としてｇ線やｉ線が使用され、その波長の効率
のよい、光源として中銀灯が使用されていた。
露光波長としてｇ線やｉ線が使用され、その波長の効率
のよい、光源として中銀灯が使用されていた。
〔発明が解決しようとしている問題点〕投影露光装置の
宿命として一露光で可能な画面（ショット）サイズが限
定されている。そのためウェハ全面を露光するためには
、ウェハを搭載したステージをウェハのショット方向と
略平行にステップさせることが必要となる。さらに、生
産性を高めるためには、今後さらに高速化が必要となる
。一方、床振動等の影響が装置性能等に悪影響を与えな
いために、エアークツション等の共振周波数が数Ｈｚ〜
十数Ｈｚの低剛性のマウントにより支持されている。そ
のため、ステージの立ち上げ立ち下げ時に、数Ｋｇ程度
の慣性力（反力）が装置にかかると、マウントの共振周
波数で数十〜数百μｍの振幅で振動が起きる。
宿命として一露光で可能な画面（ショット）サイズが限
定されている。そのためウェハ全面を露光するためには
、ウェハを搭載したステージをウェハのショット方向と
略平行にステップさせることが必要となる。さらに、生
産性を高めるためには、今後さらに高速化が必要となる
。一方、床振動等の影響が装置性能等に悪影響を与えな
いために、エアークツション等の共振周波数が数Ｈｚ〜
十数Ｈｚの低剛性のマウントにより支持されている。そ
のため、ステージの立ち上げ立ち下げ時に、数Ｋｇ程度
の慣性力（反力）が装置にかかると、マウントの共振周
波数で数十〜数百μｍの振幅で振動が起きる。
さらに、一方では、前記−露光で可能な画面すイズに対
して半導体素子の高積化が進むにつれ、より微細なパタ
ーンを転写することが必要になってきた。その手段とし
て投影レンズの高ＮＡ化とともに有効な手段として、露
光光の短波長化が挙げられる。今後短波長化の光源とし
てエキシマレーザ、２４８ｎｍのＫｒＦレーザ、Ｘ線が
有力視されている。
して半導体素子の高積化が進むにつれ、より微細なパタ
ーンを転写することが必要になってきた。その手段とし
て投影レンズの高ＮＡ化とともに有効な手段として、露
光光の短波長化が挙げられる。今後短波長化の光源とし
てエキシマレーザ、２４８ｎｍのＫｒＦレーザ、Ｘ線が
有力視されている。
しかし、それらの光源（Ｘ線を含む）は光源発生装置を
小型化することが困難であり、露光光源を装置本体左独
立して設置する方法が考えられている。
小型化することが困難であり、露光光源を装置本体左独
立して設置する方法が考えられている。
そこで、装置本体と光源装置とを独立に設置した場合、
光源で発生した光線を装置本体に導入するため、光路を
一致させる様に配置しておくと、本体装置はステージの
反力により振動し、一方光源装置はその光線発生に伴っ
て高周波振動を発生させるため装置が静定するまで、光
路の一致がむずかしい。そのことは以下の様な欠点を生
む、（１）ステージの位置決め後、すぐ、本体装置又は
露光光線発生装置が減衰する以前に、露光を開始すると
、引き回しの光路中でゲームがけられることになり、露
光量の低下、あるいはレチクル面照明ムラを引き起こす
。
光源で発生した光線を装置本体に導入するため、光路を
一致させる様に配置しておくと、本体装置はステージの
反力により振動し、一方光源装置はその光線発生に伴っ
て高周波振動を発生させるため装置が静定するまで、光
路の一致がむずかしい。そのことは以下の様な欠点を生
む、（１）ステージの位置決め後、すぐ、本体装置又は
露光光線発生装置が減衰する以前に、露光を開始すると
、引き回しの光路中でゲームがけられることになり、露
光量の低下、あるいはレチクル面照明ムラを引き起こす
。
（２）一方、装置振動が、十分静定するまで待って露光
すると、スルーブツトの低下、すなわち生産性を低下さ
せることになる。
すると、スルーブツトの低下、すなわち生産性を低下さ
せることになる。
（３） （１）、（２）の問題を解決するために、装置
移動量をモニターするセンサと、装置の移動に合わせて
光路を移動させるミラー等を駆動するアクチュエータを
使って光路を補正してやるのは、装置を複雑にし、シス
トアップになる。
移動量をモニターするセンサと、装置の移動に合わせて
光路を移動させるミラー等を駆動するアクチュエータを
使って光路を補正してやるのは、装置を複雑にし、シス
トアップになる。
そこで、本発明は装置本体と光源装置とを高周波振動減
衰材を介して結合したことにより、装置本体と光源装置
との相対運動を禁止し、上記欠点を解決した。
衰材を介して結合したことにより、装置本体と光源装置
との相対運動を禁止し、上記欠点を解決した。
第１図は本発明の第１の実施例での（投影〉露光装置を
示す。ｌは原図となるレチクル、２は位置合せ用の顕微
鏡、３はレチクルパターンを投影する光学系、４はウェ
ハ基板を搭載し、互いに直交したＸＹ力方向動（ｘＹス
テージ、５は感光剤を塗布されたウェハ基板、６はレチ
クルを照明する照明系、７は照明系まで光線を引き回す
引き回し光学系、８は露光光源、９は前記露光光源を搭
載するための光源搭載台、１０は床振動等を装置に伝え
ないために設けられたニューマクッション等のマウント
、ｌｌはマウントに支持され装置全体を与えている基台
、１２は光源装置と搭載台間にはさまれた高周波減衰部
材である。
示す。ｌは原図となるレチクル、２は位置合せ用の顕微
鏡、３はレチクルパターンを投影する光学系、４はウェ
ハ基板を搭載し、互いに直交したＸＹ力方向動（ｘＹス
テージ、５は感光剤を塗布されたウェハ基板、６はレチ
クルを照明する照明系、７は照明系まで光線を引き回す
引き回し光学系、８は露光光源、９は前記露光光源を搭
載するための光源搭載台、１０は床振動等を装置に伝え
ないために設けられたニューマクッション等のマウント
、ｌｌはマウントに支持され装置全体を与えている基台
、１２は光源装置と搭載台間にはさまれた高周波減衰部
材である。
感光剤を塗布されたウェハ基板は、不図示の搬送系によ
り、ＸＹステージ４上に搭載され、予め定められた所定
の露光位置にウェハ基板６を移動し、露光光源８より発
生した光線を投影光学系３を介して露光する。ここで、
光源搭載台９は、基台１１に固定されているため、ＸＹ
ステージ４の移動時の反力による装置本体の振動がその
まま伝達され、同期して動くために、光源装置により出
る光線は、光路中でけられることな（レチクル面を照射
する。又、光源搭載台９と、光源装置８は高周波振動減
衰部材を介して結合されているため光源装置８より発生
する高周波振動は光源搭載台９には伝達されない、この
ため光源装置より発生した振動による装置本体への影響
を防止できる。この場合、高周波振動ども考えられる。
り、ＸＹステージ４上に搭載され、予め定められた所定
の露光位置にウェハ基板６を移動し、露光光源８より発
生した光線を投影光学系３を介して露光する。ここで、
光源搭載台９は、基台１１に固定されているため、ＸＹ
ステージ４の移動時の反力による装置本体の振動がその
まま伝達され、同期して動くために、光源装置により出
る光線は、光路中でけられることな（レチクル面を照射
する。又、光源搭載台９と、光源装置８は高周波振動減
衰部材を介して結合されているため光源装置８より発生
する高周波振動は光源搭載台９には伝達されない、この
ため光源装置より発生した振動による装置本体への影響
を防止できる。この場合、高周波振動ども考えられる。
第２図に本発明の変形例を示す。第１図と同番号のもの
に於いては、第１図と同一のものとする。
に於いては、第１図と同一のものとする。
１３は基台ｌｌと、光源搭載台９とを結合連結する結合
部材、１４は床振動等を光源装置に伝えないために設け
られたニューマクッション等のマウントである。本実施
例の場合、床振動はマウントＩＯ及び１４で遮断されて
いる。一方、結合部材１３によって基台１１と光源搭載
台９は結合されているため、ｘＹステージ４の移動によ
る反力による装置本体の振動はそのまま光源装置へ伝達
され、同期して動くために、光源装置より出る光線は、
光路中でけられることなくレチクル面を照射する。又、
光源搭載台９と、光源装置８は高周波振動減衰部材を介
して結合されているため光源装置８より発生する高周波
振動は、光源搭載台９には伝達されないため、光源装置
より発生した振動による装置本体への影響は防止できる
。
部材、１４は床振動等を光源装置に伝えないために設け
られたニューマクッション等のマウントである。本実施
例の場合、床振動はマウントＩＯ及び１４で遮断されて
いる。一方、結合部材１３によって基台１１と光源搭載
台９は結合されているため、ｘＹステージ４の移動によ
る反力による装置本体の振動はそのまま光源装置へ伝達
され、同期して動くために、光源装置より出る光線は、
光路中でけられることなくレチクル面を照射する。又、
光源搭載台９と、光源装置８は高周波振動減衰部材を介
して結合されているため光源装置８より発生する高周波
振動は、光源搭載台９には伝達されないため、光源装置
より発生した振動による装置本体への影響は防止できる
。
又、ここで言う高周波振動減衰部材は防振ゴムなどであ
り、詳しくは、ブチルゴム、ニオプレーン。
り、詳しくは、ブチルゴム、ニオプレーン。
ニトリルゴム、天然ゴムなどの材料が考えられる。
又、装置本体と露光光源との接合の仕方は、上記実施例
の他にも考えられ、接合部に高周波振動部材を介して接
合していれば、本願効果、目的を成し得るものです。
の他にも考えられ、接合部に高周波振動部材を介して接
合していれば、本願効果、目的を成し得るものです。
以上説明した様に、本体装置と光源装置とを高周波振動
減衰部材を介して結合したことにより以下の効果がある
。
減衰部材を介して結合したことにより以下の効果がある
。
イ、装置振動中に露光しても光量のロスや照明ムラを引
き起こさない。
き起こさない。
口、装置の振動減衰を待つ必要がなく生産性が向上する
ハ、装置の振動をモニタするセンサや、光路を振るだめ
のアクチュエータ等が不要となる。
のアクチュエータ等が不要となる。
二、装置に悪影響な外力を除去できる。
第１図は本発明の一実施例に係る露光装置全体図、第２
図は本発明の一実施例に係る露光装置全体図、１ニレチ
クル ２：顕微鏡 ３：投影レンズ ４：Ｘ−Ｙステージ５：ウェ
ハ ６：照明系 ７：引き回し光学系 ８：露光光源装置９：光源装
置搭載台 １０：マウント１１：基台 １２：除材料（高周波振動減衰部材）
図は本発明の一実施例に係る露光装置全体図、１ニレチ
クル ２：顕微鏡 ３：投影レンズ ４：Ｘ−Ｙステージ５：ウェ
ハ ６：照明系 ７：引き回し光学系 ８：露光光源装置９：光源装
置搭載台 １０：マウント１１：基台 １２：除材料（高周波振動減衰部材）
Claims (3)
- （１）レチクルを保持するレチクルホルダーと、ウェハ
基板を保持するウェハチャックとを搭載した装置本体と
、 前記レチクル上のパターンを、前記ウェハ基板上に投影
露光するための光線を発生する露光光源とを有し、 前記露光光源と前記装置本体とを高周波振動減衰材を介
して接合したことを特徴とする露光装置。 - （２）前記光線は、エキシマレーザである特許請求の範
囲第１項記載の露光装置。 - （３）前記高周波振動減衰材は防振ゴムであることを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62279838A JPH01122119A (ja) | 1987-11-05 | 1987-11-05 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62279838A JPH01122119A (ja) | 1987-11-05 | 1987-11-05 | 露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01122119A true JPH01122119A (ja) | 1989-05-15 |
Family
ID=17616631
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62279838A Pending JPH01122119A (ja) | 1987-11-05 | 1987-11-05 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01122119A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013051424A (ja) * | 2005-06-02 | 2013-03-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | 光学結像装置 |
-
1987
- 1987-11-05 JP JP62279838A patent/JPH01122119A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013051424A (ja) * | 2005-06-02 | 2013-03-14 | Carl Zeiss Smt Gmbh | 光学結像装置 |
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