JPH01120529A - 液晶素子の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 Ｆ産業上の利用分野Ｊ 本発明は、屈折率異方性とギャップとの関係から生じる
表示部の着色が少なくかつ視角依存性の少ない液晶素子
の製造方法に関する。

「従来の技術」 第６図は、従来の製造方法によって製造された液晶素子
の要部を示すものである。この液晶素子は、液晶層ｌが
透明型Ｗ４２と配向膜３を備える２枚のガラス基板４，
４でサンドイッチされ、　その外周部がシール材５で封
着されてなるもので、ガラス基板４．ｔｆｆｔｌのギャ
ップはスペーサ６によって規制されている。

この液晶素子にあっては、屈折率異方性とギャップとの
関係から生じる表示部の着色を緩和すると共に視角を拡
大するために、一方のガラス基板４の内面に微細な凹凸
７が形成されている。

この液晶素子は、フッ酸などで化学的にエツチングした
り、機械的に研削して基板４の内面に凹凸を形成するこ
とにより製造されていた。

［発明の解決しようとする問題点」 上記従来の液晶素子の製造方法では、ガラス基板４に設
けられた凹凸７が、高低差や周期が不規則で、しかも立
ち上が急で角が鋭角なものとなるため、表示部の着色を
十分緩和できず、また視角を十分拡大できない不満かあ
った。

また、基板表面をフッ酸エツチングあるいは機械研削し
て凹凸を形成するので、基板の表面処理に多くの工程が
必要となり、製造工程の管理が繁雑である問題があった
。

「問題点を解決するための手段」 本発明の製造方法では、基板上に配向膜となる配向剤あ
るいは下地層となる下地剤を塗布したあと、微少な凸部
を多数有する版を押し当てて塗布された下地剤あるいは
配向剤の表面に凹部を形成し、ついで下地剤あるいは配
向剤を硬化処理する。

このようにして製造された液晶素子の配向膜あるいは下
地層には、微細な凹凸が形成されている。

ここで下地層とは、主に基板の内面側に凹凸を形成する
ための層で、光透過性に優れかつ耐熱性を有する材料に
よって形成されている。この下地層は、基板と配向膜と
の間に形成されておれば良く、例えば、配向膜の直下で
あっても基板と透明電極との間であっても良い。

この下地層および配向膜は、流動性を有する状態で基板
に塗布され、その後硬化せしめられる物質によって形成
されている。この下地層あるいは配向膜を形成する下地
剤、配向剤としては、熱可塑性の物質や紫外線照射によ
って硬化する物質を用いることもできるが、熱硬化性の
物質、特に熱硬化性樹脂を用いることが望ましい。

塗布された下地剤あるいは配向剤への版の圧接は、塗布
後直ちに行っても良いが、必要に応じて若干の時間をお
いて塗布された下地剤あるいは配向剤の粘度が上昇した
後に行っても良い。

版には、合成樹脂製のフィルムや金属板等にエツチング
や機械加工あるいはエンボス加工によって凸部を形成し
たものや、多数の球状物質をベース材に接着して凸部を
形成したものを用いることができる。また、用いる版は
、少なくとも下地剤あるいは配向剤と接する面が、下地
剤あるいは配向剤と接着しにくくかつ高い強度を有する
ものであることが望ましい。

版の凸部は、配向層あるいは下地層に形成すべき凹凸を
考慮して形成される。配向膜あるいは下地層に設けられ
る凹凸は、凹部が１００μ肩程度の間隔になるように形
成されることが望ましいと思われるので、版には同様の
密度で凸部が設けられたものを用いる。また、下地層あ
るいは配向膜に設ける凹部の深さは、２〜５μ肩程度で
あることが望ましいと思われるので、版にはそれ以上の
高さの凸部が設けられたものを用いる。

下地剤あるいは配向剤の硬化処理は、圧接された版を取
り除いた後で行っても良いが、版を圧接した状態のまま
で行っても良い。版を圧接した状態で硬化処理を行った
場合には、より深い四部を形成できる。

このようにして下地層あるいは配向膜に形成された凹部
には、版の凸部の周囲が転写される。また、凹部の周囲
の角は、配向剤あるいは下地剤自体の粘性により丸まっ
た状態となるので、形成された凹凸は滑らかに変化する
ものとなる。

本発明の製造方法によって製造された液晶素子は、基板
上に形成された配向膜あるいは下地層が、微細な凹凸を
有するものとなる。

本発明の液晶素子の製造方法では、所定パターンに凸部
が設けられた版を用いて、配向膜あるいは下地層に凹部
を設け、これにより基板の内面側に凹凸を形成するので
、希望する高低差および周期を有しかつ滑らかに変化す
る凹凸を容易に形成することができろ。

また、本発明の液晶素子の製造方法によれば、製造され
た液晶素子に形成されろ凹凸は、版の凸部のパターンが
転写された乙のとなるので、同一の版を用いることによ
り、同一の凹凸パターンを有する液晶素子を連続製造で
きる。

「実施例」 以下、本発明の液晶素子の製造方法を実施例に沿って説
明する。

（実施例Ｉ） 第１図は、本発明の製造方法の第！実施例によって製造
された液晶素子を示すものである。

この液晶素子を製造するには、まず、通常の方法で基板
１１上にＩＴＯをスパッタして透明電極！３を形成した
。次ぎに、この透明電極１３上に配向剤Ｊｆｌ−１００
（商品名；日東電工製）をスピンナーでコーティングし
た。ついで、所定時間経過後、塗布された配向剤上に、
第２図に示すように版２５を圧接した。この版２５には
、多数の凸部２６・・・が形成されている。この版２５
は、一般に交通標識の反射膜等に用いられているもので
、凸部２６・・・は直径的１００μｍのガラスピース２
７・・・を緻密に敷き詰めた状態で接着することにより
形成されている。

次に、この版２５を取り除いた後、熱処理して塗布した
配向剤を硬化させ、配向膜１５とした。配向膜１５には
、多数の凹部１７・・・が形成されていた。この後、配
向膜１５をラビング処理した。配向膜１５の厚さは３μ
ｍ強、形成された四部１７の深さは３μｍ弱、凹部１７
・・・間隔は約１００μ肩であった。

次に、通常の方法で基板１２上に透明電極１４、配向膜
Ｉ６を形成した。

ついで、一方の基板１１にスペーサ６・・・として粒径
ｌＯμ肩のガラスピーズを散布し、　他方の基板１２の
周辺部に熱硬化性樹脂をスクリーン印刷して基板１１．
１２を張り合わせ、ついで熱硬化させた。

ついで、基板１１．１２間の間隙にＮｌ）液晶を封入し
、液晶セルとし、このセルを偏光板１９．２０で挟んで
液晶素子を完成した。

（実施例２） 第３図は本発明の製造方法の第２実施例によって製造さ
れた液晶素子を示づ°ものである。

この液晶素子が実施例！で製造されたものと異なる点は
、一方の基板１１と透明電極１３との間に下地層２２が
設けられ、この下地層２２に微細な凹部Ｉ７・・・が形
成されている点にある。

この液晶素子の製造方法を説明する。

まず、基板１１にシリカと熱硬化性樹脂との混合物質（
商品名ＧＣＭ；　日本合成ゴム製）とからなる下地剤を
スピンナーを用いて２μｍの厚さに塗布した。所定時間
経過後、塗布された００Ｍ上に実施例１と同一の版２５
を圧接し、ついで版２５を取り除いた。塗布されたＧＣ
Ｍ」二には、凹凸が形成されていた。

この後、熱処理を施してＧＣＭを硬化させ下地層２２と
した。下地層２２の厚さは２μ１強、形成された凹部１
７の深さは２μｍ弱、凹部１７・・・の間隔は平均１０
０μ肩であらた。

次いで、この下地層２２上に実施例１と同様に透明電極
１３を設け、つぎに配向剤ＪＲ−１００を塗布し焼成し
て配向膜１５を形成した。

以下、実施例１と同様の処理を行って、第３図に示す液
晶素子を完成した。

次に、上記実施例Ｉの液晶素子と実施例２の液晶素子お
よび前記従来の液晶素子について、表面粗さ、視角依存
性、表示色を調べた。

（表面粗さ） 実施例１の液晶素子については配向膜１５の表面、実施
例２の液晶素子については下地層２２の表面、従来の液
晶素子については基板４の表面の粗さを表面粗針によっ
て測定した。結果を第４図に示す。

第４図の結果から、本発明の液晶素子の製造方法によれ
ば、滑らかに変化しかつ周期や高低差が均一な凹凸を設
けること゛ができることを確認できた。

（視角依存性） 液晶素子を水平にセットし、法線方向から順次視角を変
えて表示色の変化、コントラストなど表示品位を観察し
た。

結果を第１表に示す。

第１表 注　○：表示品位が視角０°と同じ △：表示品位が視角Ｏ°より低下 ×・表示が全く視認できない 第１表の結果から、本発明の液晶素子の製造方法によれ
ば、従来のらのに比較して視角依存性が更に改善された
液晶素子を製造できることが判明した。

（表示色） 国際照明委員会（ＣｆＥ）によって規定された標準光源
Ｃを液晶素子に照射したときの液晶素子の表示色を測定
し、（ｘｙ）−色度図にプロットした。

結果を第５図に示す。

第５図の結果から、本発明の液晶素子の製造方法によれ
ば、従来のらのに比較して表示色がより光源色に近く、
着色が少ない液晶素子を製造できることが判明した。

「発明の効果」 以上説明したように、本発明の液晶素子の製造方法は、
基板上に配向膜となる配向剤あるいは下地層となる下地
剤を塗布したあと、塗布された下地剤あるいは配向剤に
微少な凸部を多数有する版を押し当て、ついで下地剤あ
るいは配向剤を硬化処理することによって、下地層ある
いは配向膜に四部を形成するので、基板の内面に所望の
周期・高低差を有しかつ滑らかに変化する凹凸を形成す
ることができる。

従って、本発明によれば、屈折率異方性とギャップの関
係から生ずる表示部の着色が少なく、視角依存性の小さ
い液晶素子を効率良く製造することができる。

しかも、本発明の製造方法では、版を用いて基板の内面
側に凹凸を形成するので、同一パターンの凹凸を形成で
きる。従って、本発明の製造方法によれば、表示部の着
色が少なく視角依存性の小さい液晶素子を安定した品質
で製造できる。

また、本発明の製造方法によれば、版を押し当てるとい
った極めて簡略な工程で基板内面に凹凸を形成できるの
で、液晶素子の製造工程は簡略で管理の容易なものとな
る利点がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の製造方法の第１実施例で製造された液
晶素子の要部を示す断面図、第２図は同実施例の製造過
程を示す断面図、第３図は本発明の製造方法の第２実施
例で製造された液晶素子の要部を示す断面図、第４図は
実施例Ｉと実施例２および従来の製造方法で製造された
液晶素子の凹凸の設けられた而の粗さを測定した結果を
示すグラフ、第５図は表示色を調べた結果を示す（ｘｙ
）−色度図、第６図は従来の製造方法で製造された液晶
素子の要部を示す断面図である。 １１・・・基板、１５・・・配向膜、１７・・・凹部、
２２・・・下地層、２５・・・版、２６・・・凸部。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 基板上に配向膜となる配向剤あるいは下地層となる下地
   剤を塗布したあと、微少な凸部が多数設けられた版を押
   し当てて、塗布された配向剤あるいは下地剤の表面に凹
   部を形成し、ついで下地剤あるいは配向剤の硬化処理を
   行うことを特徴とする液晶素子の製造方法。