JPH01119529A - ガラスの製造方法 - Google Patents
ガラスの製造方法Info
- Publication number
- JPH01119529A JPH01119529A JP27770387A JP27770387A JPH01119529A JP H01119529 A JPH01119529 A JP H01119529A JP 27770387 A JP27770387 A JP 27770387A JP 27770387 A JP27770387 A JP 27770387A JP H01119529 A JPH01119529 A JP H01119529A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wet gel
- gel
- drying
- sol
- wet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 6
- 239000011240 wet gel Substances 0.000 claims abstract description 43
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 20
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 claims abstract description 5
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims abstract description 3
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 239000006260 foam Substances 0.000 abstract description 6
- 230000008602 contraction Effects 0.000 abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 2
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 4
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 4
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 2
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 235000015927 pasta Nutrition 0.000 description 1
- 238000011045 prefiltration Methods 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 230000002040 relaxant effect Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/12—Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はガラスの製造方法に関する。
従来のゾル−ゲル法における乾燥は、ウェットゲルを、
ポリプロピレンやフッ素樹脂などのパスタブ型仕込み容
器の蓋を穴の開いたものに替え、乾燥していた。（特開
昭２５７５７７、土岐等）〔発明が解決しようとする問
題点〕 しかし、前述の従来技術では、乾燥に於ける歩留シがあ
まり良くない。また厚みの有るウェットゲルの乾燥も非
常にしにくいという問題点を有する。
ポリプロピレンやフッ素樹脂などのパスタブ型仕込み容
器の蓋を穴の開いたものに替え、乾燥していた。（特開
昭２５７５７７、土岐等）〔発明が解決しようとする問
題点〕 しかし、前述の従来技術では、乾燥に於ける歩留シがあ
まり良くない。また厚みの有るウェットゲルの乾燥も非
常にしにくいという問題点を有する。
そこで本発明では、■多孔質のバッファーの上に静置し
、（２）またはバッファーとウェットゲルの間に網を敷
き、■離漿水をウェットゲルよりも下に逃がし、■ウェ
ットゲルの周りにいくつかの空間を設けて乾燥すること
にしたものである。
、（２）またはバッファーとウェットゲルの間に網を敷
き、■離漿水をウェットゲルよりも下に逃がし、■ウェ
ットゲルの周りにいくつかの空間を設けて乾燥すること
にしたものである。
こうすることにより、ウェットゲル収縮による容器との
摩擦を減することができ、またおおいに容器内部の雰囲
気を安定させることができる。したがって、乾燥に於ゆ
る歩留シを向上させ、また厚みの有るウェットゲルの乾
燥も極めて容易に行なうことができた。
摩擦を減することができ、またおおいに容器内部の雰囲
気を安定させることができる。したがって、乾燥に於ゆ
る歩留シを向上させ、また厚みの有るウェットゲルの乾
燥も極めて容易に行なうことができた。
（問題点を解決するための手段〕
本発明のガラスの製造方法は、金属アルコキシドを出発
原料とするゾル−ゲル法によるガラスの製造において、
ウェットゲルを、■多孔質のバッファーの上に静置し、
（２）またはバッファーとウェットゲルの間に網を敷き
、■離漿水をウェットゲルよりも下に逃がし、■ウェッ
トゲルの周りにいくつかの空間を設けて乾燥することを
特徴とする〔作用〕 本発明の上記の構成によれば、ウェットゲル収縮による
容器との摩擦を減することができ、またおおいに容器内
部の雰囲気を安定させることができる。したがって、乾
燥に於ける歩留シを向上させ、また厚みの有るウェット
ゲルの乾燥モ極めて容易に行なうことができる。
原料とするゾル−ゲル法によるガラスの製造において、
ウェットゲルを、■多孔質のバッファーの上に静置し、
（２）またはバッファーとウェットゲルの間に網を敷き
、■離漿水をウェットゲルよりも下に逃がし、■ウェッ
トゲルの周りにいくつかの空間を設けて乾燥することを
特徴とする〔作用〕 本発明の上記の構成によれば、ウェットゲル収縮による
容器との摩擦を減することができ、またおおいに容器内
部の雰囲気を安定させることができる。したがって、乾
燥に於ける歩留シを向上させ、また厚みの有るウェット
ゲルの乾燥モ極めて容易に行なうことができる。
実施例１
テトラエトキシシラン１７．９ を及びＣＬＯＩ規定塩
酸水溶液２五５を及びシリカ微粒子（アエロジル０Ｘ−
５０，西独、デグサ社製）１０ｔを混合して、１時間激
しく攪拌して加水分解液を得た。
酸水溶液２五５を及びシリカ微粒子（アエロジル０Ｘ−
５０，西独、デグサ社製）１０ｔを混合して、１時間激
しく攪拌して加水分解液を得た。
得られたゾルに超音波（２６ＫＨｚ、１２００Ｗ）を４
時間照射して粗粒を粉砕し、分散した。超音波照射によ
り得られたゾルを今度は遠心分離機に取シ、１５００Ｇ
で１５分間、遠心力を印加し、残留している粗粒及び異
物を除去した。次に得られたゾルを１０μｍ、７μｍ、
５μｍ、１μ瓜の順でプレフィルタ−を通した後、メン
プラン５μｍのフィルターを通した。得られた均一なゾ
ルを、α０１規定のアンモニア水を用いて、ＰＨ値を２
．２から４．０に引き上げた。更に得られたゾルを再び
遠心分離機にとり、１５００Ｇを１５分間印加した後、
再びメンプラン５μｍのフィルターを通して、５０ｍＸ
５０ｃｍＸ １０ｃｒＲの容器ＩＣ２１＆、１０枚仕込
んだ。１昼夜密閉して放置したところ、ゾルｔ”４ゲル
化し、ウェットゲルが得られた。
時間照射して粗粒を粉砕し、分散した。超音波照射によ
り得られたゾルを今度は遠心分離機に取シ、１５００Ｇ
で１５分間、遠心力を印加し、残留している粗粒及び異
物を除去した。次に得られたゾルを１０μｍ、７μｍ、
５μｍ、１μ瓜の順でプレフィルタ−を通した後、メン
プラン５μｍのフィルターを通した。得られた均一なゾ
ルを、α０１規定のアンモニア水を用いて、ＰＨ値を２
．２から４．０に引き上げた。更に得られたゾルを再び
遠心分離機にとり、１５００Ｇを１５分間印加した後、
再びメンプラン５μｍのフィルターを通して、５０ｍＸ
５０ｃｍＸ １０ｃｒＲの容器ＩＣ２１＆、１０枚仕込
んだ。１昼夜密閉して放置したところ、ゾルｔ”４ゲル
化し、ウェットゲルが得られた。
得られたウェットゲルをさらに３日間熟成し、第１図の
状態で移し替えた。ウェットゲルの下にポリプロピレン
製の網を敷き、その下に厚み５ｃＨ１の発泡ウレタンの
シートを敷いである。
状態で移し替えた。ウェットゲルの下にポリプロピレン
製の網を敷き、その下に厚み５ｃＨ１の発泡ウレタンの
シートを敷いである。
開口率ｒ１３％の蓋を付け、これを乾燥機に入れて、６
０℃で３週間乾燥して、乾燥ゲルを得た。
０℃で３週間乾燥して、乾燥ゲルを得た。
１０枚乾燥して割れはなかった。このときの乾燥歩留シ
は１００％でありた。
は１００％でありた。
得られた乾燥ゲルを２００℃で更に乾燥して残留してい
る水分を完全に除去した。これを、大気炉に入れ、Ｄ
ｒ ｙ −Ａ ｉ ｒ雰囲気で１０００℃で焼結した６
次に、真空炉に入れて、真空にて１４００℃にて焼結し
たところ、石英ガラスが得られた。
る水分を完全に除去した。これを、大気炉に入れ、Ｄ
ｒ ｙ −Ａ ｉ ｒ雰囲気で１０００℃で焼結した６
次に、真空炉に入れて、真空にて１４００℃にて焼結し
たところ、石英ガラスが得られた。
比較例１
実施例１と同様にして仕込みをして得ら・れた１０枚の
ウェットゲルを従来どうりそのまま開口率ｒ１．３％の
蓋を付けて３週間乾燥したが、乾燥歩留シは６０％であ
った。得られた乾燥ゲルを、実施例１と同様の条件にて
焼結して、石英ガラスな得た。
ウェットゲルを従来どうりそのまま開口率ｒ１．３％の
蓋を付けて３週間乾燥したが、乾燥歩留シは６０％であ
った。得られた乾燥ゲルを、実施例１と同様の条件にて
焼結して、石英ガラスな得た。
実施例２
実施例１と同様にしてゾル調整をして、実施例１と同様
の容器に４ＫＰ、１０枚仕込んだ、１昼夜密閉して放置
したところ、ゾルはゲル化し、ウェットゲルが得られた
。得られたウェットゲルをさらに３日間熟成し、第２図
の状態で移し替えた。
の容器に４ＫＰ、１０枚仕込んだ、１昼夜密閉して放置
したところ、ゾルはゲル化し、ウェットゲルが得られた
。得られたウェットゲルをさらに３日間熟成し、第２図
の状態で移し替えた。
ウェットゲルの下にｌリプロピレン製の網を敷き、その
下に厚み３のの発泡ウレタンのシートを敷いである。ま
た、離漿水は８１Ｂの状態で下に溜まり、ウェットゲル
上方には８１２に示すような乾燥雰囲気（８１１開孔率
１％、各蓋の穴位置はズラしておくこと）のバッファー
となる空間が設けである。これを乾燥機にいれて、６０
’Ｏで２０日間乾燥して、乾燥ゲルを得た。このときの
乾燥歩留シ、は１００％であった。得られた乾燥ゲルを
、実施例１と同様の条件にて焼結して、石英ガラスを得
た。
下に厚み３のの発泡ウレタンのシートを敷いである。ま
た、離漿水は８１Ｂの状態で下に溜まり、ウェットゲル
上方には８１２に示すような乾燥雰囲気（８１１開孔率
１％、各蓋の穴位置はズラしておくこと）のバッファー
となる空間が設けである。これを乾燥機にいれて、６０
’Ｏで２０日間乾燥して、乾燥ゲルを得た。このときの
乾燥歩留シ、は１００％であった。得られた乾燥ゲルを
、実施例１と同様の条件にて焼結して、石英ガラスを得
た。
比較例２
実施例１と同様にして仕込みをして得られた１０枚のウ
ェットゲルを比較例１と同様にバスタブ型ざリプロピレ
ン製乾燥容器に移し替え、開口率０．３％の蓋をし、乾
燥機にいれて、６０℃で３週間乾燥して、乾燥ゲルを得
た。乾燥ゲルの歩留シは２０％であった。
ェットゲルを比較例１と同様にバスタブ型ざリプロピレ
ン製乾燥容器に移し替え、開口率０．３％の蓋をし、乾
燥機にいれて、６０℃で３週間乾燥して、乾燥ゲルを得
た。乾燥ゲルの歩留シは２０％であった。
以上述べてきたように、本発明では、■多孔質のバッフ
ァーの上に静置し、（２）またはバッファーとウェット
ゲルの間に網を敷き、■離漿水をウェットゲルよりも下
に逃がし、■ウェットゲルの周りにいくつかの空間を設
けて乾燥することにしたものである。こうすることによ
り、ウェットゲル収縮による容器との摩擦を減すること
ができ、またおおいに容器内部の雰囲気を安定させるこ
とができる。したがって、乾燥に於ける歩留夛を向上さ
せ、また厚みの有るウェットゲルの乾燥も極めて容易に
行なうことができた。
ァーの上に静置し、（２）またはバッファーとウェット
ゲルの間に網を敷き、■離漿水をウェットゲルよりも下
に逃がし、■ウェットゲルの周りにいくつかの空間を設
けて乾燥することにしたものである。こうすることによ
り、ウェットゲル収縮による容器との摩擦を減すること
ができ、またおおいに容器内部の雰囲気を安定させるこ
とができる。したがって、乾燥に於ける歩留夛を向上さ
せ、また厚みの有るウェットゲルの乾燥も極めて容易に
行なうことができた。
第１図は発泡ウレタンのシートの上にポリプロピレン製
の網を敷いてそのうえにウェットゲルを置いて乾燥して
いる状態を示した図である。 ８２１・・・・・・ウェットゲル ８２２・・・・・・メリプロピレン製乾燥容器８２３・
・・・・・発泡ウレタン製シート８２５・・・・・・開
口率１３％の蓋 ８２７・・・・・・乾燥容器 第２図は発泡ウレタンのシートの上にぎりプロピレン製
の網を敷いてその上にウェットゲルを置き・ウェットゲ
ル上方に雰囲気を緩和するための空間を設け、下方に離
漿水を逃がす空間を設は乾燥している状態を示した図で
ある。 ８１１・・・・・・通気孔 ８１２・・・・・・雰囲気を緩和するための空間８１４
・・・・・・ウェットゲル ８１５・・・・・・ポリプロピレン製の網８１６・・・
・・・発泡ウレタン製のシート８１７・・・・・・離漿
水を逃がすための穴８１８・・・・・・離漿水 以上 出願人 セイコーエプソン株式会社
の網を敷いてそのうえにウェットゲルを置いて乾燥して
いる状態を示した図である。 ８２１・・・・・・ウェットゲル ８２２・・・・・・メリプロピレン製乾燥容器８２３・
・・・・・発泡ウレタン製シート８２５・・・・・・開
口率１３％の蓋 ８２７・・・・・・乾燥容器 第２図は発泡ウレタンのシートの上にぎりプロピレン製
の網を敷いてその上にウェットゲルを置き・ウェットゲ
ル上方に雰囲気を緩和するための空間を設け、下方に離
漿水を逃がす空間を設は乾燥している状態を示した図で
ある。 ８１１・・・・・・通気孔 ８１２・・・・・・雰囲気を緩和するための空間８１４
・・・・・・ウェットゲル ８１５・・・・・・ポリプロピレン製の網８１６・・・
・・・発泡ウレタン製のシート８１７・・・・・・離漿
水を逃がすための穴８１８・・・・・・離漿水 以上 出願人 セイコーエプソン株式会社
Claims (1)
- 金属アルコキシドを出発原料とするゾル−ゲル法による
ガラスの製造において、ウェットゲルを、（１）多孔質
のバッファーの上に静置し、（２）またはバッファーと
ウェットゲルの間に網を敷き、（３）離漿水をウェット
ゲルよりも下に逃がし、（４）ウェットゲルの周りにい
くつかの空間を設けて乾燥することを特徴とするガラス
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27770387A JPH01119529A (ja) | 1987-11-02 | 1987-11-02 | ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27770387A JPH01119529A (ja) | 1987-11-02 | 1987-11-02 | ガラスの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01119529A true JPH01119529A (ja) | 1989-05-11 |
Family
ID=17587136
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27770387A Pending JPH01119529A (ja) | 1987-11-02 | 1987-11-02 | ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01119529A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0719735A1 (en) * | 1994-12-29 | 1996-07-03 | AT&T Corp. | Fabrication of a thin sheet by a sol-gel process |
-
1987
- 1987-11-02 JP JP27770387A patent/JPH01119529A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0719735A1 (en) * | 1994-12-29 | 1996-07-03 | AT&T Corp. | Fabrication of a thin sheet by a sol-gel process |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH06293519A (ja) | 酸化チタンの粒子と膜の製造方法 | |
| JP2010150139A (ja) | シリカ及びその製造方法 | |
| ES2223372T3 (es) | Procedimiento depreparacion de monocristales de zeolita. | |
| CN111056560B (zh) | 一种超薄ssz-13分子筛膜的经济合成方法 | |
| JPH01119529A (ja) | ガラスの製造方法 | |
| JPH09173800A (ja) | ガラス質細孔による担持ゼオライト膜の生成方法及 び得られたゼオライト膜 | |
| JP2001031416A (ja) | ゼオライト膜の製造方法、ｍｆｉ型ゼオライト膜および分子を分離する方法 | |
| CN104477983B (zh) | 阶层多孔二氧化钛块体的制备方法 | |
| JP2003226516A (ja) | シリカ及びその製造方法 | |
| JP2005022895A (ja) | シリカ及びその製造方法 | |
| JPH01119530A (ja) | ガラスの製造方法 | |
| JPH0196032A (ja) | ガラスの製造方法 | |
| JPH01119532A (ja) | ガラスの製造方法 | |
| JPH0196027A (ja) | ガラスの製造方法 | |
| JPS63291823A (ja) | ガラスの製造方法 | |
| JP2577572B2 (ja) | ガラスの製造方法 | |
| JPH02145442A (ja) | ガラスの製造方法 | |
| JPS61163131A (ja) | ガラス体の製造方法 | |
| JPS63307125A (ja) | ガラスの製造方法 | |
| JPS6330330A (ja) | ガラスの製造方法 | |
| JPS63277524A (ja) | ガラスの製造方法 | |
| JPS63144126A (ja) | ガラスの製造方法 | |
| JP2577573B2 (ja) | ガラスの製造方法 | |
| JPH0196029A (ja) | ガラスの製造方法 | |
| JPH0196028A (ja) | ガラスの製造方法 |