JPH01115371A - 荷電粒子線治療用ビームプロフイル装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、荷電粒子線によりがん細胞を治療するため
の荷電粒子線治療用ビームプロフィル装置に関するもの
である。

〔従来の技術〕

第２図は従来の荷電粒子線治療用ど一ムプロフィル装置
を示し、荷電粒子線の軌道（１）に涜ってビーム輸送室
（Ａ）に、Ｑ電磁石（２）、第１のプロフィルモニタ（
３）、走査電磁石（９）が配置されている。治療室（Ｂ
）とビーム輸送室（Ａ）間の遮断壁（５）にはビーム・
シャッタ（６）が配設されている。

治療室（Ｂ）には、第２のプロフィルモニタ（４）、コ
リメータ（８）、レンジシフタ（１０）が配置されてい
る。荷電粒子の軌道（１）は照射中心（７）に至ってい
る。

以上の構成により、加速器から取出された荷電粒子線（
１）は、ビーム輸送室（Ａ）内の輸送用電磁石を通って
治療室（Ｂ）に導かれ・、Ｑ電磁石（２）を調整するこ
とにより、ビームは照射中心（７）で像を結ぶ。Ｑ電磁
石（２）は２連または３連で構成されている。ビーム像
を確認するためにＱ電磁石（２）ト照射中心（７）間に
２つのビームプロフィルモニタ（３）、　（４）を配置
して、ビーム形状を確かめる。

ビームプロフィルモニタ（３）、（４）は、第３図に示
すように、ｘ、ｙ方向に張られた鋼線よシなシ、ビーム
が通過したときに生じる電流を検出する。

各線に生じる電流を比較して、ビームの形状を再現する
。

第１のビームプロフィルモニタ（３）と第２のビームプ
ロフィルモニタ（４）により、ビーム像の調整およびビ
ーム軸な決めることが可能である。

ビームエネルギー、ビーム種類が変わらなければ、−度
ビームを調整すれば、ビーム像、ビーム軸はほとんど変
化しないので、加速器およびビーム輸送用電磁石系の条
件が変化して、照射中心（７）のビーム像がずれること
がある。これを確認するために、照射毎にビーム像およ
びビーム軸を検査する必要がある。

第４図にビームプロフィルモニタで測定したビーム形状
の一例を示す。同図（ａｔ）、（ａ２）はプロフィルモ
ニタ（３）による、それぞれＸ、Ｙ方向の強度分布、同
図（ｂＬ）、（ｂ２）はプロフィルモニタ（４）による
同様の分布である。これらの形はほぼガウス分布を示し
ている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

従来の荷電粒子線治療用ビームプロフィル装置は以上の
ように構成されているので、荷電粒子線の中心軸がずれ
ていないことを確かめるためには、荷電粒子線を治療室
に導くことが必要であるという問題点があった。

この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、荷電粒子線の中心軸を検査するのに、治療室
にビームを導（ことなく確認することができる荷電粒子
線治療用ビームプロフイル装置す得ることを目的とする
。

〔問題点を解決するための手段〕

この発明に係る荷電粒子線治療用ビームプロフィル装置
は、治療室とビーム輸送室の間のビームモニタの上流、
すなわちビーム輸送室側に第３のビームプロフィルモニ
タが配置されている。

〔作用〕

この発明においては、第３のビームプロフィルモニタを
治療室外に配置したので、治療室にビームを入れないで
ビーム軸の検査をすることができる。

〔実施例〕

第４図はこの発明の一実施例を示し、図において、ビー
ム輸送室（Ａ）内に第３のプロフィルモニタ（ＬＬ）が
配置されている。

その他、第２図におけると同一符号は同一部分を示して
いる。

次に動作について説明する。最初に第１のビームモニタ
（３）と第２のビームモニタ（４）により、照射中心（
７）へのビームの中心軸と焦点を合わせる。このままで
は、患部でのビーム形状はスポット状であるので、この
形状を患部の形に合わせなければならない。この実施例
では、走査電磁石（９）を′使って患部面で平坦な線量
分布であシ、、ｅ部の大ぎさ以上のビーム形状を作シだ
す。次にコリメータ（８）を使って患部の形状にビーム
の形状を合わせる。

患部へビーム照射後、ビームは治療室（Ｂ）外のビーム
ストッパで止められ、治療室（Ｂ）への壁においている
ビーム通路部分は、放射線漏洩がないように遮蔽する。

そして１次の治療の際には、患者を治療台に位置決めし
た後、第１のビームモニタ（８）と第３のビームモニタ
（１１）を使って、ビームを治療室（Ｂ）に入れないで
ビームの中心軸と像を確認する。この後、ビームを治療
室（Ｂ）に導き患部に照射する。

また、ンンジシフタ（１０）により、ビームのエネルギ
ーを変化させ、照射方向の治療深さを変化させる。

〔発明の効果〕 以上のように、この発明によれば、第３のビームモニタ
を治療室外のビーム輸送室に配置したので、ビームを治
療室へ導くことなく、ビーム軸とビーム像の確認をする
ことができる効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明めし実施例の概略立面図、第２図は従
来の荷電粒子線治療用ビームプロフィル装置の概略立面
図、第３図は第２図のものの一部平面図、第４図は第２
図の装置によるビームのプロフィル線図である。 （Ａ）・・ビーム輸送室、（Ｂ）・・治療室、（３）。 （４）、（１１）　　φ・第１．第２．第３のビームプ
ロフイルモニタ。 なお、各図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　加速器で高エネルギーにされた荷電粒子のビームを複
   数個の電磁石により治療室へ導き、がん患部に照射して
   治療するための荷電粒子線治療用ビームプロフイル装置
   において、ビーム輸送室と前記治療室にそれぞれ配置さ
   れた第１と第２のビームプロフイルモニタによりビーム
   像およびビーム軸を調整後、前記ビームを前記治療室に
   入れることなく前記第１のビームプロフィルモニタと共
   に前記ビームを検査する第３のビームプロフィルモニタ
   を前記ビーム輸送室に設けてなることを特徴とする荷電
   粒子線治療用ビームプロフィル装置。