JP7843673B2 - スクラバー装置、及びスクラバー装置におけるガス処理方法 - Google Patents

Description

本開示は、スクラバー装置、及びスクラバー装置におけるガス処理方法に関する。

アンモニアを取り扱う装置、設備等を収容する室内では、アンモニア漏洩の可能性が有る。さらに、上記アンモニアを取り扱う装置、設備等では、アンモニアと反応しない不活性ガスによるパージを行い、不活性ガスとともに残留したアンモニアを排出させる場合がある。アンモニアは、人の粘膜に作用して障害を起こす可能性が有るため、上記漏洩やパージなどにより生じたアンモニアを含む気体を、そのまま大気中に放出することはできない。

特許文献１には、有害物質を含む気体に吸収液をスプレーすることで、有害物質を吸収液に吸収させるいわゆるスクラバー装置が記載されている。より具体的には、特許文献１には、硫黄酸化物（ＳＯｘ）を除去するＳＯｘスクラバーとして、スプレータワーと、スプレーデバイスと、を備えた船舶排ガス浄化システムが開示されている。スプレータワーは、排ガス取入口と、排ガス排出口と、を備えている。排ガス取入口は、スプレータワーの内部空間に排ガスを導入する。排ガス排出口は、スプレータワーの内部空間から精製済み排ガスを抜き取る。スプレータワーの内部空間を、排ガスの一般流が排ガス取入口から排ガス排出口へ通過する。スプレーデバイスは、スプレータワーの内部空間内で、排ガスの一般流に対向するスクラバー液流を提供する。スクラバー液流は、スプレータワーの内部空間内で、排ガスに接触することで硫黄酸化物を吸収し、排ガス中の硫黄酸化物の量を低減させている。

特許第７０１５７９４号公報

しかしながら、特許文献１に記載されているようなスクラバー装置により空気中のアンモニアを除去しようとした場合、例えば、アンモニア濃度が予期せず高まったり、スクラバー装置のスプレーに一時的な不具合が生じたりすると、十分にアンモニアを除去できない可能性が有る。また、例えば、予期せぬアンモニア濃度の高まりに対応可能にすると、スクラバー装置に供給する吸収液の量やアンモニアを吸収したアンモニア吸収液の量が増加してしまう。さらに、上記スプレーの一時的な不具合に対応可能にするには、スクラバー装置のケーシングの容量を増加させる等の対策が必要になるという課題がある。

本開示は、上記課題を解決するためになされたものであって、吸収液の流量増加及びケーシングの容量増加を抑制しつつ外部へのアンモニアの放出を抑えることができるスクラバー装置、及びスクラバー装置におけるガス処理方法を提供することを目的とする。

上記課題を解決するために、本開示に係るスクラバー装置は、ケーシングと、ガス供給部と、散液部と、ガス放出部と、吸収液排出部と、ガス循環ラインと、アンモニアガス濃度計と、を備える。前記ガス供給部は、前記ケーシング内にアンモニアを含むガスを供給可能である。前記散液部は、前記ケーシングの外部から供給される吸収液を、前記ケーシング内の上部から散液可能である。前記ガス放出部は、一端が前記ケーシングの上部に接続されたガス放出ラインと前記ガス放出ラインの流路を開閉する第一弁とを有している。前記ガス放出部は、前記ケーシングの上部からガスを放出可能である。前記吸収液排出部は、前記ケーシングの下部から吸収液を排出可能である。前記ガス循環ラインは、前記ケーシングの上部から前記ケーシングの下部にガスを循環させる。アンモニアガス濃度計は、前記ケーシングから前記ガス放出部に流れる前記ガスのアンモニア濃度を検出する。前記ガス循環ラインは、前記ガス放出ラインの一端と前記第一弁との間に一端が接続されるガス循環接続管と、前記ガス循環接続管の途中に設けられ前記ガス循環接続管の流路を開閉する第二弁と、前記ケーシングの上部から前記ガスを送り出すファンと、を備えている。前記ガス循環ラインの一部は、前記ガス放出ラインの一端と前記ガス循環接続管の一端が接続された部分との間の一部区間を、前記ガス放出ラインと共用している。前記アンモニアガス濃度計及び前記ファンは、前記一部区間に設けられている。

本開示に係るスクラバー装置におけるガス処理方法は、上記したようなスクラバー装置におけるガス処理方法である。このスクラバー装置におけるガス処理方法は、ケーシングの下部にガスを循環させる工程と、アンモニア濃度を検出する工程と、ケーシングの上部からガスを放出する工程と、を含む。前記ケーシングの下部にガスを循環させる工程は、前記ケーシング内にアンモニアを含むガスを供給しつつ、前記ケーシングの外部から供給される水を前記ケーシング内の上部から散水し、前記ケーシングの上部から前記ケーシングの下部にガスを循環させる。前記アンモニア濃度を検出する工程は、前記ケーシングの上部から放出される前記ガスのアンモニア濃度を検出する。前記ケーシングの上部からガスを放出する工程は、検出されるアンモニア濃度が、予め設定されたガス濃度基準値を下回った場合、前記ケーシングの上部から前記ケーシングの下部へのガスの循環を停止させるとともに、前記ケーシングの上部からガスを放出する。

本開示のスクラバー装置、及びスクラバー装置におけるガス処理方法によれば、吸収液の流量増加及びケーシングの容量増加を抑制しつつ外部へのアンモニアの放出を抑えることができる。

本開示の第一実施形態に係るスクラバー装置の構成を示す図である。 本開示の実施形態に係るスクラバー装置におけるガス処理方法の手順を示すフローチャートである。 本開示の実施形態に係るスクラバー装置におけるガス処理方法において、ケーシングの下部にガスを循環させる工程を示す図である。 本開示の実施形態に係るスクラバー装置におけるガス処理方法において、ケーシングの上部からガスを放出する工程を示す図である。 本開示の実施形態に係るスクラバー装置において、ケーシングの下部から吸収液を排出する状態を示す図である。 本開示の第二実施形態に係るスクラバー装置の構成を示す図である。 本開示の第二実施形態に係るスクラバー装置の制御装置のハードウェア構成を示す図である。 本開示の第二実施形態に係る制御装置の機能ブロック図である。

以下、本開示の実施形態に係るスクラバー装置、スクラバー装置におけるガス処理方法について、図１～図８を参照して説明する。
＜第一実施形態＞
（スクラバー装置の全体構成）
図１に示すように、この実施形態のスクラバー装置１０は、アンモニアを含むガスＧから、アンモニアを除去する処理を行う。このようなスクラバー装置１０は、アンモニアを取り扱うアンモニア設備に設けられている。アンモニア設備としては、アンモニアを貯蔵するタンクを備えた設備、アンモニアを燃料として用いる装置を備えた設備、アンモニアが流通する流通系統を備えた設備等が例示できる。また、アンモニア設備は、陸上に設置されるものであってもよいし、各種の船舶をはじめとする、海に浮かぶ浮体に備えられていてもよい。船舶の場合、船種は、特定の船種に限られない。船舶の船種としては、液化ガス運搬船、フェリー、ＲＯＲＯ船、自動車運搬船、客船等を例示できる。また、浮体は船舶に限られず、ＦＳＵ（Floating Storage Unit）、ＦＳＲＵ（Floating Storage and Regasification Unit）等であってもよい。

また、スクラバー装置１０は、アンモニアを取り扱うアンモニア設備から漏洩したアンモニアを含むガスや、アンモニアと反応しない不活性ガスによるパージを行い、不活性ガスとともに排出されたアンモニアを含むガス等を対象として、アンモニアを除去する。

図１に示すように、スクラバー装置１０は、ケーシング１１と、ガス供給部１５と、吸収液供給部２５と、散液部２０と、ガス放出部４０と、ガス循環ライン８０と、吸収液排出部５０と、吸収液循環ライン９０と、を少なくとも備えている。

ケーシング１１は、上下方向Ｄｖに延びる筒状に形成されている。ケーシング１１の内部空間１１ｓ（ケーシング内）の下部には、吸収液Ｌが貯留可能とされている。

ガス供給部１５は、ケーシング１１内にアンモニアを含むガスＧ（以下、単にガスＧと称する）を供給可能とされている。ガス供給部１５は、ガス供給ライン１６と、開閉弁１７と、を備えている。

ガス供給ライン１６の一端は、処理対象となるガスＧを発生するガス発生源（図示せず）に接続されている。ガス供給ライン１６の他端１６ｂは、ケーシング１１に接続されている。他端１６ｂは、ケーシング１１の内部空間１１ｓのうち吸収液Ｌの液面よりも上方の位置に開口している。

開閉弁１７は、ガス供給ライン１６内の流路を開閉する。開閉弁１７を開閉することで、ガス供給ライン１６を通した、ケーシング１１内へのガスＧの供給が断続される。この第一実施形態において、ガス供給ライン１６は、アンモニアを燃料とする燃焼装置の燃料供給系統を不活性ガスによりパージした際に、不活性ガスとともに送り出されるガスＧを、ケーシング１１の内部空間１１ｓに供給する。

また、ガス供給部１５は、副ガス供給ライン１８を備えている。副ガス供給ライン１８は、例えば、廃水タンクの空気抜き管等、アンモニアガスを含む系統から、低濃度、または少量のアンモニアを含むガスＧを、ケーシング１１内に供給する。副ガス供給ライン１８は、ケーシング１１に接続されている。副ガス供給ライン１８は、ケーシング１１の内部空間１１ｓのうち吸収液Ｌの液面よりも上方の位置に開口するよう、ケーシング１１に接続されている。副ガス供給ライン１８には、ケーシング１１側からのガスＧの逆流を防ぐ逆止弁１９が設けられている場合を例示している。

ガス供給部１５のガス供給ライン１６からケーシング１１の内部空間１１ｓに供給されたガスＧ、及び、副ガス供給ライン１８から、ケーシング１１の内部空間１１ｓに供給されたガスＧは、それぞれケーシング１１内の内部空間１１ｓを下部から上部に向かって上昇する。

吸収液供給部２５は、ケーシング１１の外部から散液部２０に吸収液Ｌを供給する。吸収液供給部２５は、吸収液供給ライン２６と、第五弁２７と、ポンプ２８と、を備えている。

吸収液供給ライン２６の一端は、吸収液Ｌの供給源（図示せず）に接続されている。吸収液Ｌとして、清水を用いる場合、吸収液供給ライン２６の一端は、供給源としての清水タンク（図示せず）に接続されている。また、スクラバー装置１０が浮体に設けられており、浮体が浮かぶ周囲の海水を吸収液として用いる場合、吸収液供給ライン２６の一端は、海中に臨むように配置されている。
吸収液供給ライン２６の他端２６ｂは、ケーシング１１内の内部空間１１ｓの上部に配置された散液ノズル２１に接続されている。吸収液供給ライン２６の途中には、ポンプ２８が設けられ、このポンプ２８により散液ノズル２１に、吸収液Ｌが供給される。

この第一実施形態で例示する吸収液供給ライン２６の途中には、散液部２０によりケーシング１１内の上部から散液される吸収液Ｌを冷却可能な吸収液冷却部２９が設けられている。吸収液冷却部２９は、吸収液供給ライン２６内の吸収液Ｌを、外部の熱媒との熱交換により冷却する。吸収液冷却部２９により吸収液Ｌが冷却されることで、吸収液Ｌによるアンモニアの吸収効率が高められる。

散液部２０は、吸収液供給部２５から供給される吸収液Ｌを、ケーシング１１内の上部から散液可能とされている。散液部２０は、散液ノズル２１を備えている。散液ノズル２１は、吸収液Ｌを、噴射、滴下、噴霧等により、ケーシング１１の内部空間１１ｓに散液する。散液された吸収液Ｌは、自重により、ケーシング１１の内部空間１１ｓを下方に移動していく。吸収液Ｌは、ケーシング１１の内部空間１１ｓを移動する過程で、ケーシング１１の内部空間１１ｓを下部から上部に向かって上昇するガスＧと接触し、ガスＧに含まれるアンモニア成分を吸収する。

ガス放出部４０は、ケーシング１１の上部から内部空間１１ｓのガスＧを放出可能とされている。ガス放出部４０は、ガス放出ライン４１と、第一弁４５と、を備えている。
この第一実施形態で例示するガス放出ライン４１の一端４１ａは、ケーシング１１の頂部に接続されている。ガス放出ライン４１の他端（図示せず）の接続先としては、ファンネル、ベントポスト等を例示できる。ガス放出部４０は、ガスＧを、例えば大気放出する。

第一弁４５は、ケーシング１１からガス放出部４０へのガスＧの流路を開閉する。第一弁４５は、ガス放出ライン４１の流路を開閉する。第一弁４５を開閉することで、ガス放出ライン４１を通した、ケーシング１１からのガスＧの放出が断続される。

ガス循環ライン８０は、ケーシング１１の上部からケーシング１１の下部にガスＧを循環させる。この第一実施形態のガス循環ライン８０は、ケーシング１１の上部からケーシング１１の外部を通り、ケーシング１１の下部にガスＧを循環させている。なお、ガス循環ライン８０は、ケーシング１１の上部からケーシング１１の内部を通り、ケーシング１１の下部にガスＧを循環させるようにしてもよい。

ガス循環ライン８０は、ガス循環接続管８１と、第二弁８５と、ファン８４と、逆止弁８６と、を有している。この第一実施形態のガス循環接続管８１の一端８１ａは、ガス放出ライン４１の一端４１ａと第一弁４５との間で、ガス放出ライン４１に接続されている。さらに、ガス循環接続管８１の他端８１ｂは、ガス供給ライン１６の他端１６ｂと開閉弁１７との間で、ガス供給ライン１６に接続されている。

この第一実施形態で例示するガス循環ライン８０は、その一部を、ガス放出ライン４１、及びガス供給ライン１６と共用している。具体的には、ガス循環ライン８０は、ガス放出ライン４１において、一端４１ａとガス循環接続管８１の一端８１ａが接続された部分との間の一部区間８２を、ガス放出ライン４１と共用している。また、ガス循環ライン８０は、ガス供給ライン１６において、一端１６ａと、ガス循環接続管８１の他端８１ｂが接続された部分との間の一部区間８３を、ガス供給ライン１６と共用している。すなわち、ガス循環ライン８０は、ガス放出ライン４１の一部区間８２と、ガス循環接続管８１と、ガス供給ライン１６の一部区間８３と、を含んでいる。ガス循環ライン８０は、ケーシング１１の上部から放出されたガスＧを、一部区間８２、ガス循環接続管８１、一部区間８３を通して、ケーシング１１の下部に循環させている。

第二弁８５は、ケーシング１１からガス循環ライン８０へのガスＧの流路を開閉する。この第一実施形態において、第二弁８５は、ガス循環接続管８１の途中に設けられている。第二弁８５を開閉することで、ガス循環接続管８１内のガスＧの流路が開閉される。第二弁８５を開閉することで、ケーシング１１から、ガス循環ライン８０のガス循環接続管８１へのガスＧの流入が断続される。

ファン８４は、ケーシング１１の上部からケーシング１１の内部空間１１ｓのガスＧを吸引して送り出す。この第一実施形態のファン８４は、一部区間８２に設けられており、より具体的には、後述するアンモニアガス濃度計１００と、ガス循環接続管８１の一端８１ａが接続された部分との間に設けられている。なお、ファン８４は、ガス循環接続管８１の一端８１ａと第二弁８５との間に設けられていてもよい。

逆止弁８６は、ガス循環接続管８１の途中に設けられている。具体的には、逆止弁８６は、ガス循環接続管８１のうち第二弁８５と他端８１ｂとの間に設けられている。逆止弁８６は、ガス循環接続管８１からガス供給ライン１６へのガスＧの流れを許容しつつ、一部区間８３側からケーシング１１内のガスＧの逆流を防いでいる。

吸収液排出部５０は、ケーシング１１の下部からケーシング１１の外部に吸収液Ｌを排出可能とされている。吸収液排出部５０は、吸収液排出ライン５１と、第三弁５５と、を備えている。

吸収液排出ライン５１の一端５１ａは、ケーシング１１の底部に接続されている。吸収液排出ライン５１の他端（図示せず）は、廃液タンク（図示せず）等に接続されている。

第三弁５５は、吸収液排出ライン５１の途中に設けられている。第三弁５５は、ケーシング１１から吸収液排出部５０に排出される吸収液Ｌの流路を開閉する。第三弁５５を開閉することで、吸収液排出ライン５１を通した、ケーシング１１からの吸収液Ｌの排出が断続される。

吸収液循環ライン９０は、ケーシング１１の下部から散液部２０を介してケーシング１１の上部に吸収液Ｌを循環可能とされている。吸収液循環ライン９０は、吸収液循環接続管９１と、第四弁９５と、を有している。吸収液循環接続管９１は、吸収液Ｌの流通する流路を形成している。吸収液循環接続管９１の一端９１ａは、ケーシング１１の下部に接続されている。一端９１ａは、ケーシング１１の内部空間１１ｓに貯留された吸収液Ｌの液面よりも下方の位置で、ケーシング１１に接続されている。吸収液循環接続管９１の他端９１ｂは、吸収液供給ライン２６の第五弁２７とポンプ２８との間で、吸収液供給ライン２６に接続されている。

この第一実施形態で例示する吸収液循環ライン９０は、その一部を、吸収液供給ライン２６と共用している。具体的には、吸収液循環ライン９０は、吸収液供給ライン２６のうち、吸収液循環接続管９１の他端９１ｂが接続された位置と吸収液供給ライン２６の他端２６ｂとの間の一部区間９２を、吸収液供給ライン２６と共用している。すなわち、この第一実施形態の吸収液循環ライン９０は、吸収液循環接続管９１と、吸収液供給ライン２６の一部区間９２と、を含んでいる。吸収液循環ライン９０は、ケーシング１１の下部から抽出した吸収液Ｌを、吸収液循環接続管９１、一部区間９２を通して、散液部２０の散液ノズル２１に供給する。

第四弁９５は、ケーシング１１から吸収液循環ライン９０への吸収液Ｌの流路を開閉する。この第一実施形態の第四弁９５は、吸収液循環接続管９１の途中に設けられている。第四弁９５を開閉することで、吸収液循環接続管９１内の吸収液Ｌの流路が開閉される。第四弁９５を開閉することで、ケーシング１１の下部から、吸収液循環ライン９０の吸収液循環接続管９１への吸収液Ｌの抽出が断続される。

この第一実施形態で例示するスクラバー装置１０は、アンモニアガス濃度計１００と、アンモニア吸収液濃度計２００と、を更に備えている。
アンモニアガス濃度計１００は、ケーシング１１からガス放出部４０に放出されたガスＧのアンモニア濃度を検出する。この第一実施形態のアンモニアガス濃度計１００は、ガス放出ライン４１の一端４１ａと、ガス放出ライン４１のうちガス循環接続管８１の一端８１ａと接続された位置との間に設けられている。

アンモニア吸収液濃度計２００は、ケーシング１１の吸収液Ｌのアンモニア濃度を検出する。この第一実施形態において、アンモニア吸収液濃度計２００は、ケーシング１１の内部空間１１ｓの下部に貯留された吸収液Ｌのアンモニア濃度を検出する。

上記第一弁４５、第二弁８５、第三弁５５、第四弁９５、及び第五弁２７は、それぞれ、例えばピストン弁等の自動操作弁であり、制御盤（図示せず）等の外部から受信する信号に基づいて、開閉動作を制御可能となっている。第一弁４５の弁駆動部４５ｖ、第二弁８５の弁駆動部８５ｖは、アンモニアガス濃度計１００で検出されるアンモニア濃度の検出値に基づいて、それぞれの開閉動作が実行される。第三弁５５の弁駆動部５５ｖ、第四弁９５の弁駆動部９５ｖ、第五弁２７の弁駆動部２７ｖは、アンモニア吸収液濃度計２００で検出される吸収液Ｌのアンモニア濃度の検出値に基づいて、それぞれの開閉動作が実行される。この第一実施形態において、弁駆動部４５ｖ，８５ｖ，５５ｖ，９５ｖ，２７ｖの開閉動作は、アンモニアガス濃度計１００、アンモニア吸収液濃度計２００の検出値を確認したオペレータにより、遠隔操作等によって実行される。

（スクラバー装置におけるガス処理方法の手順）
図２は、本開示の実施形態に係るスクラバー装置におけるガス処理方法の手順を示すフローチャートである。
図２に示すように、スクラバー装置１０におけるガス処理方法Ｓ１０は、ガスＧを循環させる工程Ｓ１１と、ガスＧのアンモニア濃度を検出する工程Ｓ１２と、ガス濃度基準値を下回ったか否かを判定する工程Ｓ１３と、ケーシング１１の上部からガスＧを放出する工程Ｓ１４と、を含む。

図３は、本開示の実施形態に係るスクラバー装置におけるガス処理方法において、ケーシングの下部にガスを循環させる工程を示す図である。
スクラバー装置１０では、ガスＧに含まれるアンモニアを除去する処理を行うべく起動後に、ガスＧを循環させる工程Ｓ１１を実行する。ガスＧを循環させる工程Ｓ１１では、図３に示すように、開閉弁１７を開き、第一弁４５を閉じ、第二弁８５を開く。開閉弁１７を開くことで、アンモニア含んだガスＧが、ガス供給ライン１６を通してケーシング１１の内部空間１１ｓに導入される。導入されたガスＧは、ケーシング１１の内部空間１１ｓで、散液部２０の散液ノズル２１から散液される吸収液Ｌによりアンモニアが吸収される。ケーシング１１の内部空間１１ｓでアンモニアが除去されたガスＧは、ガス循環ライン８０を通してケーシング１１の下部に循環され、再び、散液部２０から散液される吸収液Ｌと接触する。これにより、ガスＧのアンモニア濃度が低減される。この工程では、第一弁４５が閉じているので、処理中にガスＧが外部に排出されることがない。したがって、スクラバー装置１０が、浮体に搭載されている場合等において、動揺により、ガスＧが不用意に漏出することが抑えられる。

ガスＧのアンモニア濃度を検出する工程Ｓ１２では、ケーシング１１の上部から放出されるガスＧのアンモニア濃度を、アンモニアガス濃度計１００で検出する。

ガス濃度基準値を下回ったか否かを判定する工程Ｓ１３では、アンモニアガス濃度計１００で検出されたガスＧのアンモニア濃度が、ガス濃度基準値を下回ったか否かを判定する。この判定は、オペレータが目視等により行ってもよいが、アンモニアガス濃度計１００で検出されたガスＧのアンモニア濃度が、ガス濃度基準値を下回った場合、アンモニアガス濃度計１００の監視装置等によりアラーム信号等を出力するようにしてもよい。

工程Ｓ１３において、ガスＧのアンモニア濃度が、ガス濃度基準値を下回っていないと判定された場合（工程Ｓ１３でＮｏ）、工程Ｓ１１に戻る。一方で、工程Ｓ１３において、ガスＧのアンモニア濃度が、ガス濃度基準値を下回っていると判定された場合（工程Ｓ１３でＹｅｓ）、工程Ｓ１４に進む。

図４は、本開示の実施形態に係るスクラバー装置におけるガス処理方法において、ケーシングの上部からガスを放出する工程を示す図である。
ケーシング１１の上部からガスＧを放出する工程Ｓ１４では、図４に示すように、第一弁４５を開き、第二弁８５を閉じる。このように第二弁８５を閉じることで、ケーシング１１の上部からケーシング１１の下部へのガスＧの循環が停止する。そして第一弁４５を開くことで、ケーシング１１の内部空間１１ｓでアンモニア成分を除去されたガスＧが、ケーシング１１からガス放出部４０に放出される。このようにして、アンモニア成分が十分に除去されたガスＧのみを、ガス放出部４０に放出している。

ところで、上記したように、ガスＧに含まれるアンモニアを除去する処理を行う際、スクラバー装置１０では、基本的に、吸収液循環ライン９０により、吸収液Ｌは、ケーシング１１の下部から散液部２０を介してケーシング１１の上部に循環するようにしている。これには、図３、図４に示すように、第三弁５５、及び第五弁２７を閉じ、第四弁９５を開いた状態にする。
スクラバー装置１０では、アンモニア吸収液濃度計２００で検出された吸収液Ｌのアンモニア濃度を監視し、検出された吸収液Ｌのアンモニア濃度が、予め設定された吸収液濃度基準値以上であるか否かを判定する。この判定は、オペレータが目視等により行ってもよいが、アンモニア吸収液濃度計２００で検出された吸収液Ｌのアンモニア濃度が、吸収液濃度基準値以上となった場合、アンモニア吸収液濃度計２００の監視装置等において、アラーム信号等を出力するようにしてもよい。

図５は、本開示の実施形態に係るスクラバー装置において、ケーシングの下部から吸収液を排出する状態を示す図である。
アンモニア吸収液濃度計２００で検出された吸収液Ｌのアンモニア濃度が、吸収液濃度基準値以上となった場合、図５に示すように、第四弁９５を閉じ、第三弁５５、及び第五弁２７を開く。このように第三弁５５を開くことによって、アンモニアを含むガスＧとの接触によりアンモニアを吸収した吸収液Ｌが、吸収液排出部５０に排出される。また、第五弁２７を開くことによって、ケーシング１１の外部から、吸収液供給部２５によって新たな吸収液Ｌが散液部２０に供給される。これにより、ケーシング１１の内部空間１１ｓの吸収液Ｌのアンモニア濃度を低下させることができる。なお、図５では、ガスＧを循環させていないときに第三弁５５、及び第五弁２７を開く場合を例示したが、ガスＧを循環させているときであってもよい。

（作用効果）
上記第一実施形態では、ガス供給部１５により、ケーシング１１の内部空間１１ｓにアンモニアを含むガスＧが供給される。散液部２０は、ケーシング１１の外部から供給される吸収液Ｌを、ケーシング１１の内部空間１１ｓの上部から散液する。これにより、吸収液Ｌがアンモニアを含むガスＧに接触することで、ガスＧに含まれるアンモニアが吸収液Ｌに吸収される。アンモニアを吸収した吸収液Ｌは、自重によりケーシング１１の下部に落下する。アンモニアが除去されたガスＧは、ガス放出部４０により、ケーシング１１の上部から放出される。吸収液排出部５０は、ケーシング１１の下部から、アンモニアを吸収した吸収液Ｌを、ケーシング１１の外部に排出する。ガス循環ライン８０は、ケーシング１１の上部からケーシング１１の下部にガスＧを循環させる。つまり、ガス循環ライン８０は、散液部２０から散液された吸収液Ｌによってアンモニアが吸収された後のガスＧを、ケーシング１１の上部からケーシング１１の下部に循環させる。ケーシング１１の下部に循環されたガスＧは、ケーシング１１の内部空間１１ｓで、再び、散液部２０から散液された吸収液Ｌに接触する。これにより、吸収液Ｌによってアンモニアが吸収されたガスＧに、アンモニアが残存していた場合であっても、ガスＧがケーシング１１の下部に循環されることによって、複数回、吸収液Ｌによるアンモニアの吸収がなされることとなる。したがって、一度のみの吸収液Ｌとの接触では、十分にアンモニアを除去できない場合であっても、アンモニアを含むガスＧからアンモニアの除去を十分に行うことができる。また、そのために、吸収液Ｌの量を増やす必要や、ケーシング１１の容量を増やす必要も無い。したがって、吸収液Ｌの流量増加及びケーシング１１の容量増加を抑制しつつ外部へのアンモニアの放出を抑えることができる。

また、上記第一実施形態では、第一弁４５を開閉することで、ケーシング１１からガス放出部４０へのガスＧの放出を断続できる。また、第二弁８５を開閉することで、ケーシング１１からガス循環ライン８０へのガスＧの循環を断続できる。アンモニアガス濃度計１００は、ケーシング１１からガス放出部４０に流れるガスＧのアンモニア濃度を検出する。これにより、アンモニアガス濃度計１００で検出されるガスＧのアンモニア濃度に基づき、第一弁４５、及び第二弁８５を開閉することができる。例えば、検出されるガスＧのアンモニア濃度が、予め設定したガス濃度基準値を下回っている場合、第一弁４５を開き、第二弁８５を閉じる。これにより、ケーシング１１の内部空間１１ｓでアンモニアが除去されたガスＧは、ケーシング１１からガス放出部４０に放出される。また、検出されるガスＧのアンモニア濃度が、予め設定したガス濃度基準値以上である場合、第一弁４５を閉じ、第二弁８５を開く。すると、ケーシング１１の内部空間１１ｓでアンモニアが除去されたガスＧは、ガス循環ライン８０を通してケーシング１１の下部に循環され、再び、散液部２０から散液される吸収液Ｌと接触する。これにより、ガスＧのアンモニア濃度が低減される。

また、上記第一実施形態では、吸収液循環ライン９０により、ケーシング１１の下部から散液部２０を介してケーシング１１の上部に吸収液Ｌを循環させることができる。第三弁５５は、ケーシング１１から吸収液排出部５０への吸収液Ｌの排出を断続できる。第四弁９５は、ケーシング１１から吸収液循環ライン９０を通した吸収液Ｌの循環を断続できる。アンモニア吸収液濃度計２００は、ケーシング１１の内部空間１１ｓの吸収液Ｌのアンモニア濃度を検出する。これにより、ケーシング１１の内部空間１１ｓの吸収液Ｌのアンモニア濃度に基づき、第三弁５５、及び第四弁９５を開閉して、吸収液Ｌを、吸収液排出部５０に排出するか、吸収液循環ライン９０を通してケーシング１１の上部に循環させるかを、切り替えることができる。

また、上記第一実施形態では、アンモニア吸収液濃度計２００で検出される吸収液Ｌのアンモニア濃度が、予め設定された吸収液濃度基準値以上となった場合、第五弁２７を開く。すると、吸収液供給部２５により、ケーシング１１の外部から吸収液Ｌが散液部２０に供給される。これにより、吸収液Ｌのアンモニア濃度を低下させることができる。

また、上記第一実施形態では、吸収液冷却部２９により、散液部２０によりケーシング１１の内部空間１１ｓの上部から散液される吸収液Ｌを冷却できる。特に、吸収液循環ライン９０により、循環される吸収液Ｌは、アンモニアの吸収時における反応熱により温度上昇している。温度上昇した吸収液Ｌを冷却することで、吸収液Ｌのアンモニアの吸収効率を高めることができる。

また、上記第一実施形態では、ファン８４により、ケーシング１１の上部からガスＧを送り出すことができる。特に、ガスＧを、ガス循環ライン８０により、ケーシング１１の上部からケーシング１１の下部に循環させる場合、ガスＧの循環を効率良く行うことができる。

＜第二実施形態＞
次に、本開示の第二実施形態に係るスクラバー装置、スクラバー装置におけるガス処理方法ついて説明する。以下に説明する第二実施形態においては、第一実施形態と制御装置６０を備える構成のみが異なるので、第一実施形態と同一部分に同一符号を付して説明するとともに、重複説明を省略する。
図６は、本開示の第二実施形態に係るスクラバー装置の構成を示す図である。
図６に示すように、この実施形態のスクラバー装置１０Ｂは、ケーシング１１と、ガス供給部１５と、散液部２０と、ガス放出部４０と、ガス循環ライン８０と、吸収液排出部５０と、吸収液循環ライン９０と、制御装置６０と、を少なくとも備えている。

(ハードウェア構成図）
図７は、本開示の第二実施形態に係るスクラバー装置の制御装置のハードウェア構成を示す図である。
図７に示すように、制御装置６０は、ＣＰＵ６１（Central Processing Unit）、ＲＯＭ６２（Read Only Memory）、ＲＡＭ６３（Random Access Memory）、ＨＤＤ（Hard Disk Drive）等のストレージ６４、信号送受信モジュール６５を備えるコンピュータである。

（機能ブロック図）
図８は、本開示の第二実施形態に係るスクラバー装置の機能ブロック図である。
図８に示すように、制御装置６０のＣＰＵ６１は予めＲＡＭ６３やストレージ６４等に記憶されたプログラムを実行することにより、信号受信部７１、ガス流路制御部７２、吸収液流路制御部７３、指令信号出力部７４の各機能構成を実現する。
信号受信部７１は、ハードウェアである信号送受信モジュール６５を介してアンモニアガス濃度計１００、アンモニア吸収液濃度計２００からの検出信号を受信する。

ガス流路制御部７２は、アンモニアガス濃度計１００で検出されるガスＧのアンモニア濃度に基づき、第一弁４５、及び第二弁８５の開閉を制御するための指令信号を出力する。出力された指令信号は、指令信号出力部７４から、第一弁４５の弁駆動部４５ｖ、第二弁８５の弁駆動部８５ｖに出力される。
ガス流路制御部７２は、アンモニアガス濃度計１００で検出されるガスＧのアンモニア濃度が、予め設定されたガス濃度基準値以上となった場合、第一弁４５を閉じるとともに、第二弁８５を開くように、指令信号を出力する。すると、ケーシング１１の内部空間１１ｓでアンモニアが除去されたガスＧは、ガス循環ライン８０を通してケーシング１１の下部に循環され、再び、散液部２０から散液される吸収液Ｌと接触する。これにより、ガスＧのアンモニア濃度が低減される。

ガス流路制御部７２は、アンモニアガス濃度計１００で検出されるガスＧのアンモニア濃度が、予め設定されたガス濃度基準値を下回っている場合、第一弁４５を開くとともに、第二弁８５を閉じるように、指令信号を出力する。これにより、ケーシング１１の内部空間１１ｓでアンモニアが除去されたガスＧは、ケーシング１１からガス放出部４０に放出される。

吸収液流路制御部７３は、アンモニア吸収液濃度計２００で検出される吸収液Ｌのアンモニア濃度に基づき、第三弁５５、及び第四弁９５の開閉を制御するための指令信号を出力する。出力された指令信号は、指令信号出力部７４から、第三弁５５の弁駆動部５５ｖ、第四弁９５の弁駆動部９５ｖ、第五弁２７の弁駆動部２７ｖに出力される。

吸収液流路制御部７３は、アンモニア吸収液濃度計２００で検出される吸収液Ｌのアンモニア濃度が、予め設定された吸収液濃度基準値を下回っている場合、第三弁５５を閉じるとともに、第四弁９５を開くように、指令信号を出力する。これにより、吸収液Ｌが、吸収液循環ライン９０を通してケーシング１１の上部に循環され、再び、散液部２０から散液されてアンモニアを含むガスＧに接触する。
吸収液流路制御部７３は、アンモニア吸収液濃度計２００で検出される吸収液Ｌのアンモニア濃度が、予め設定された吸収液濃度基準値以上となった場合、第三弁５５を開くとともに、第四弁９５を閉じるように、指令信号を出力する。吸収液Ｌのアンモニア濃度が、予め設定した吸収液濃度基準値以上である場合、吸収液Ｌによるアンモニア吸収効率が低下するため、吸収液Ｌを、ケーシング１１から吸収液排出部５０に排出させる。

また、吸収液流路制御部７３は、アンモニア吸収液濃度計２００で検出される吸収液Ｌのアンモニア濃度が、予め設定された吸収液濃度基準値以上となった場合、第五弁２７を開くように、指令信号を出力する。すると、吸収液供給部２５により、ケーシング１１の外部から吸収液Ｌが散液部２０に供給される。これにより、吸収液Ｌのアンモニア濃度を低下させる。

（スクラバー装置におけるガス処理方法の手順）
図２は、本開示の実施形態に係るスクラバー装置におけるガス処理方法の手順を示すフローチャートである。
スクラバー装置１０Ｂでは、上記第一実施形態で示したスクラバー装置におけるガス処理方法と同様の手順を、制御装置６０が実行する。図２に示すように、スクラバー装置１０Ｂにおけるガス処理方法Ｓ２０は、ガスＧを循環させる工程Ｓ２１と、ガスＧのアンモニア濃度を検出する工程Ｓ２２と、ガス濃度基準値を下回ったか否かを判定する工程Ｓ２３と、ケーシング１１の上部からガスＧを放出する工程Ｓ２４と、を含む。

ガスＧに含まれるアンモニアを除去する処理の起動後、ガスＧを循環させる工程Ｓ２１では、制御装置６０が、開閉弁１７を開き、第一弁４５を閉じ、第二弁８５を開く。開閉弁１７を開くことで、アンモニア含んだガスＧが、ガス供給ライン１６を通してケーシング１１の内部空間１１ｓに導入される。導入されたガスＧは、ケーシング１１の内部空間１１ｓで、散液部２０の散液ノズル２１から散液される吸収液Ｌによりアンモニアが吸収される。ケーシング１１の内部空間１１ｓでアンモニアが除去されたガスＧは、ガス循環ライン８０を通してケーシング１１の下部に循環され、再び、散液部２０から散液される吸収液Ｌと接触する。これにより、ガスＧのアンモニア濃度が低減される。

ガスＧのアンモニア濃度を検出する工程Ｓ２２では、ケーシング１１の上部から放出されるガスＧのアンモニア濃度を、アンモニアガス濃度計１００で検出する。

ガス濃度基準値を下回ったか否かを判定する工程Ｓ２３では、制御装置６０が、アンモニアガス濃度計１００で検出されたガスＧのアンモニア濃度がガス濃度基準値を下回ったか否かを判定する。
工程Ｓ２３において、ガスＧのアンモニア濃度が、ガス濃度基準値を下回っていないと判定された場合（工程Ｓ２３でＮｏ）、工程Ｓ２２に戻る。一方で、工程Ｓ２３において、ガスＧのアンモニア濃度が、ガス濃度基準値を下回っていると判定された場合（工程Ｓ２３でＹｅｓ）、工程Ｓ２４に進む。

ケーシング１１の上部からガスＧを放出する工程Ｓ２４では、制御装置６０が、第一弁４５を開き、第二弁８５を閉じる。これにより、第二弁８５を閉じることで、ケーシング１１の上部からケーシング１１の下部へのガスＧの循環が停止される。第一弁４５を開くことで、ケーシング１１の内部空間１１ｓでアンモニア成分を除去されたガスＧが、ケーシング１１からガス放出部４０に放出される。このようにして、アンモニア成分が十分に除去されたガスＧのみを、ガス放出部４０に放出している。

また、制御装置６０は、上記したように、ガスＧに含まれるアンモニアを除去する処理を行う際、第三弁５５、及び第五弁２７を閉じ、第四弁９５を開く。これにより、吸収液Ｌは、吸収液循環ライン９０により、ケーシング１１の下部から散液部２０を介してケーシング１１の上部に循環される。
制御装置６０は、アンモニア吸収液濃度計２００で検出された吸収液Ｌのアンモニア濃度を監視し、検出された吸収液Ｌのアンモニア濃度が、予め設定された吸収液濃度基準値以上であるか否かを判定する。

アンモニア吸収液濃度計２００で検出された吸収液Ｌのアンモニア濃度が、吸収液濃度基準値以上となった場合、制御装置６０は、第四弁９５を閉じ、第三弁５５、及び第五弁２７を開く。第三弁５５を開くことによって、アンモニアを含むガスＧとの接触によりアンモニアを吸収した吸収液Ｌが、吸収液排出部５０に排出される。また、第五弁２７を開くことによって、吸収液供給部２５により、ケーシング１１の外部から、新たな吸収液Ｌが散液部２０に供給される。これにより、ケーシング１１の内部空間１１ｓの吸収液Ｌのアンモニア濃度を低下させることができる。

（作用効果）
上記第二実施形態によれば、上記第一実施形態と同様に、吸収液Ｌの流量増加及びケーシング１１の容量増加を抑制しつつ外部へのアンモニアの放出を抑えることができる。

また、上記第二実施形態では、ガス流路制御部７２が、アンモニアガス濃度計１００で検出されるガスＧのアンモニア濃度に基づき、第一弁４５、及び第二弁８５の開閉を制御する。これにより、吸収液Ｌによるアンモニア除去処理後のガスＧのアンモニア濃度に応じて、ガスＧをガス放出部４０に放出するか、ガスＧをガス循環ライン８０に循環させるかを、自動的に判断して実行させることができる。

また、上記第二実施形態では、ガスＧのアンモニア濃度が、予め設定したガス濃度基準値を下回っている場合には、ガス流路制御部７２の制御により、ガスＧを、ケーシング１１からガス放出部４０に放出させることができる。また、検出されるガスＧのアンモニア濃度が、予め設定したガス濃度基準値以上である場合、ガスＧを、ガス循環ライン８０を通してケーシング１１の下部に循環させ、再び、散液部２０から散液される吸収液Ｌと接触させることができる。

また、上記第二実施形態では、吸収液流路制御部７３が、アンモニア吸収液濃度計２００で検出される吸収液Ｌのアンモニア濃度に基づき、第三弁５５、及び第四弁９５の開閉を制御する。これにより、アンモニアを含むガスＧとの接触によりアンモニアを吸収した吸収液Ｌを、吸収液排出部５０に排出するか、吸収液循環ライン９０を通してケーシング１１の上部に循環させるかを、自動的に判断して実行させることができる。

また、上記第二実施形態では、吸収液流路制御部７３の制御により、吸収液Ｌのアンモニア濃度が、予め設定した吸収液濃度基準値を下回っている場合には、吸収液Ｌを、吸収液循環ライン９０を通してケーシング１１の上部に循環させ、再び、散液部２０から散液させてアンモニアを含むガスＧと接触させることができる。また、検出される吸収液Ｌのアンモニア濃度が、予め設定した吸収液濃度基準値以上である場合、吸収液Ｌによるアンモニア吸収効率が低下するため、吸収液Ｌを、ケーシング１１から吸収液排出部５０に排出させることができる。

また、上記第二実施形態では、吸収液流路制御部７３は、アンモニア吸収液濃度計２００で検出される吸収液Ｌのアンモニア濃度が、予め設定された吸収液濃度基準値以上となった場合、第五弁２７を開く。すると、吸収液供給部２５により、ケーシング１１の外部から吸収液Ｌが散液部２０に供給される。これにより、吸収液Ｌのアンモニア濃度を低下させることができる。

（その他の実施形態）
以上、本開示の実施の形態について図面を参照して詳述したが、具体的な構成は各実施形態に限られるものではなく、本開示の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。
なお、上記実施形態では、スクラバー装置１０におけるガス処理方法Ｓ１０，Ｓ２０の手順を示したが、その順序、具体的な各工程の内容は、適宜変更可能である。
さらに、上記実施形態では、浮体の浮かぶ周囲の海水を直接吸入して吸収液として用いる構成を一例にして説明したが、この構成に限られるものでは無い。例えば、船内に設けられたバラストタンク等の海水タンク（図示せず）に貯蔵された海水を用いたり、浮体の浮かぶ周囲の海水と、船内に設けられた海水タンク（図示せず）の海水と、を適宜切り換えて用いたりしてもよい。
また、上記実施形態では、アンモニア吸収液濃度計２００で検出された吸収液Ｌのアンモニア濃度が、予め設定された吸収液濃度基準値以上となった際に、外部から散液部２０にアンモニア濃度の低い新しい吸収液Ｌを供給する場合について説明した。しかし上記実施形態の構成に限られるものでは無い。上記実施形態の構成に加えて、例えば、アンモニアガス濃度計１００により検出されたガスＧのアンモニア濃度が予め設定されたアンモニア濃度の上限規定値を超えた場合にも、散液部２０に外部からアンモニア濃度の低い新しい吸収液Ｌを供給してもよい。これにより、循環させている吸収液Ｌのアンモニア濃度が急上昇するような状況であっても、循環させている吸収液Ｌのアンモニア濃度を、吸収液濃度基準値を超える前に低下させることができる。

＜付記＞
各実施形態に記載のスクラバー装置１０，１０Ｂ、スクラバー装置１０，１０Ｂにおけるガス処理方法Ｓ１０，Ｓ２０は、例えば以下のように把握される。

（１）第１の態様に係るスクラバー装置１０，１０Ｂは、ケーシング１１と、前記ケーシング１１内にアンモニアを含むガスＧを供給可能なガス供給部１５と、前記ケーシング１１の外部から供給される吸収液Ｌを、前記ケーシング１１内の上部から散液可能な散液部２０と、前記ケーシング１１の上部からガスＧを放出可能なガス放出部４０と、前記ケーシング１１の下部から吸収液Ｌを排出可能な吸収液排出部５０と、前記ケーシング１１の上部から前記ケーシング１１の下部にガスＧを循環させるガス循環ライン８０と、を備える。
吸収液Ｌとしては、清水、海水が挙げられる。

このスクラバー装置１０，１０Ｂは、ガス供給部１５により、ケーシング１１内にアンモニアを含むガスＧが供給される。散液部２０は、ケーシング１１の外部から供給される吸収液Ｌを、ケーシング１１内の上部から散液する。これにより、吸収液Ｌがアンモニアを含むガスＧに接触することで、ガスＧに含まれるアンモニアが吸収液Ｌに吸収される。アンモニアを吸収した吸収液Ｌは、自重によりケーシング１１の下部に落下する。アンモニアが除去されたガスＧは、ガス放出部４０により、ケーシング１１の上部から放出される。吸収液排出部５０は、ケーシング１１の下部から、アンモニアを吸収した吸収液Ｌを、ケーシング１１の外部に排出する。ガス循環ライン８０は、ケーシング１１の上部からケーシング１１の下部にガスＧを循環させる。つまり、ガス循環ライン８０は、散液部２０から散液された吸収液Ｌによってアンモニアが吸収された後のガスＧを、ケーシング１１の上部からケーシング１１の下部に循環させる。ケーシング１１の下部に循環されたガスＧは、ケーシング１１内で、再び、散液部２０から散液された吸収液Ｌに接触する。これにより、吸収液Ｌによってアンモニアが吸収されたガスＧに、アンモニアが残存していた場合であっても、ガスＧがケーシング１１の下部に循環されることによって、複数回、吸収液Ｌによるアンモニアの吸収がなされることとなる。したがって、一度のみの吸収液Ｌとの接触では、十分にアンモニアを除去できない場合であっても、アンモニアを含むガスＧからアンモニアの除去を十分に行うことができる。また、そのために、吸収液Ｌの量を増やす必要や、ケーシング１１の容量を増やす必要も無い。したがって、吸収液Ｌの流量増加及びケーシング１１の容量増加を抑制しつつ外部へのアンモニアの放出を抑えることができる。

（２）第２の態様に係るスクラバー装置１０，１０Ｂは、（１）のスクラバー装置１０，１０Ｂであって、前記ケーシング１１から前記ガス放出部４０への前記ガスＧの流路を開閉する第一弁４５と、前記ケーシング１１から前記ガス循環ライン８０への前記ガスＧの流路を開閉する第二弁８５と、前記ケーシング１１から前記ガス放出部４０に流れる前記ガスＧのアンモニア濃度を検出するアンモニアガス濃度計１００と、を更に備える。

これにより、第一弁４５を開閉することで、ケーシング１１からガス放出部４０へのガスＧの放出を断続できる。また、第二弁８５を開閉することで、ケーシング１１からガス循環ライン８０へのガスＧの循環を断続できる。アンモニアガス濃度計１００は、ケーシング１１からガス放出部４０に流れるガスＧのアンモニア濃度を検出する。これにより、アンモニアガス濃度計１００で検出されるガスＧのアンモニア濃度に基づき、第一弁４５、及び第二弁８５を開閉することができる。例えば、検出されるガスＧのアンモニア濃度が、予め設定したガス濃度基準値を下回っている場合、第一弁４５を開き、第二弁８５を閉じる。これにより、ケーシング１１内でアンモニアが除去されたガスＧは、ケーシング１１からガス放出部４０に放出される。また、検出されるガスＧのアンモニア濃度が、予め設定したガス濃度基準値以上である場合、第一弁４５を閉じ、第二弁８５を開く。すると、ケーシング１１内でアンモニアが除去されたガスＧは、ガス循環ライン８０を通してケーシング１１の下部に循環され、再び、散液部２０から散液される吸収液Ｌと接触する。これにより、ガスＧのアンモニア濃度が低減される。

（３）第３の態様に係るスクラバー装置１０Ｂは、（２）のスクラバー装置１０Ｂであって、前記アンモニアガス濃度計１００で検出される前記ガスＧのアンモニア濃度に基づき、前記第一弁４５、及び前記第二弁８５の開閉を制御するガス流路制御部７２を更に備える。

これにより、ガス流路制御部７２が、アンモニアガス濃度計１００で検出されるガスＧのアンモニア濃度に基づき、第一弁４５、及び第二弁８５の開閉を制御することで、吸収液Ｌによるアンモニア除去処理後のガスＧのアンモニア濃度に応じて、ガスＧをガス放出部４０に放出するか、ガスＧをガス循環ライン８０に循環させるかを、自動的に判断して実行させることができる。

（４）第４の態様に係るスクラバー装置１０Ｂは、（３）のスクラバー装置１０Ｂであって、前記ガス流路制御部７２は、前記アンモニアガス濃度計１００で検出される前記ガスＧのアンモニア濃度が、予め設定されたガス濃度基準値を下回っている場合、前記第一弁４５を開くとともに、前記第二弁８５を閉じ、前記アンモニアガス濃度計１００で検出される前記ガスＧのアンモニア濃度が、予め設定されたガス濃度基準値以上となった場合、前記第一弁４５を閉じるとともに、前記第二弁８５を開く。

これにより、ガスＧのアンモニア濃度が、予め設定したガス濃度基準値を下回っている場合には、ガスＧを、ケーシング１１からガス放出部４０に放出させることができる。また、検出されるガスＧのアンモニア濃度が、予め設定したガス濃度基準値以上である場合、ガスＧを、ガス循環ライン８０を通してケーシング１１の下部に循環させ、再び、散液部２０から散液される吸収液Ｌと接触させることができる。

（５）第５の態様に係るスクラバー装置１０，１０Ｂは、（１）から（４）の何れか一つのスクラバー装置１０，１０Ｂであって、前記ケーシング１１の下部から前記散液部２０を介して前記ケーシング１１の上部に吸収液Ｌを循環可能な吸収液循環ライン９０と、前記ケーシング１１から前記吸収液排出部５０に排出される前記吸収液Ｌの流路を開閉する第三弁５５と、前記ケーシング１１から前記吸収液循環ライン９０への前記吸収液Ｌの流路を開閉する第四弁９５と、前記ケーシング１１内の前記吸収液Ｌのアンモニア濃度を検出するアンモニア吸収液濃度計２００と、を更に備える。

これにより、吸収液循環ライン９０は、ケーシング１１の下部から散液部２０を介してケーシング１１の上部に吸収液Ｌを循環させることができる。第三弁５５は、ケーシング１１から吸収液排出部５０への吸収液Ｌの排出を断続できる。第四弁９５は、ケーシング１１から吸収液循環ライン９０を通した吸収液Ｌの循環を断続できる。アンモニア吸収液濃度計２００は、ケーシング１１内の吸収液Ｌのアンモニア濃度を検出する。これにより、ケーシング１１内の吸収液Ｌのアンモニア濃度に基づき、第三弁５５、及び第四弁９５を開閉して、吸収液Ｌを、吸収液排出部５０に排出するか、吸収液循環ライン９０を通してケーシング１１の上部に循環させるかを、切り替えることができる。

（６）第６の態様に係るスクラバー装置１０Ｂは、（５）のスクラバー装置１０Ｂであって、前記アンモニア吸収液濃度計２００で検出される前記吸収液Ｌのアンモニア濃度に基づき、前記第三弁５５、及び前記第四弁９５の開閉を制御する吸収液流路制御部７３を更に備える。

このような構成では、吸収液流路制御部７３が、アンモニア吸収液濃度計２００で検出される吸収液Ｌのアンモニア濃度に基づき、第三弁５５、及び第四弁９５の開閉を制御する。これにより、アンモニアを含むガスＧとの接触によりアンモニアを吸収した吸収液Ｌを、吸収液排出部５０に排出するか、吸収液循環ライン９０を通してケーシング１１の上部に循環させるかを、自動的に切り替えることができる。

（７）第７の態様に係るスクラバー装置１０Ｂは、（６）の何れか一つのスクラバー装置１０Ｂであって、前記吸収液流路制御部７３は、前記アンモニア吸収液濃度計２００で検出される前記吸収液Ｌのアンモニア濃度が、予め設定された吸収液濃度基準値を下回っている場合、前記第三弁５５を閉じるとともに、前記第四弁９５を開き、前記アンモニア吸収液濃度計２００で検出される前記吸収液Ｌのアンモニア濃度が、予め設定された吸収液濃度基準値以上となった場合、前記第三弁５５を開くとともに、前記第四弁９５を閉じる。

これにより、吸収液Ｌのアンモニア濃度が、予め設定した吸収液濃度基準値を下回っている場合には、吸収液Ｌを、吸収液循環ライン９０を通してケーシング１１の上部に循環させ、再び、散液部２０から散液させてアンモニアを含むガスＧと接触させることができる。また、検出される吸収液Ｌのアンモニア濃度が、予め設定した吸収液濃度基準値以上である場合、吸収液Ｌによるアンモニア吸収効率が低下するため、吸収液Ｌを、ケーシング１１から吸収液排出部５０に排出させることができる。

（８）第８の態様に係るスクラバー装置１０Ｂは、（７）のスクラバー装置１０Ｂであって、前記ケーシング１１の外部から前記散液部２０に前記吸収液Ｌを供給する吸収液供給部２５と、前記吸収液供給部２５から前記散液部２０への前記吸収液Ｌの流路を開閉する第五弁２７を更に備え、前記吸収液流路制御部７３は、前記アンモニア吸収液濃度計２００で検出される前記吸収液Ｌのアンモニア濃度が、予め設定された吸収液濃度基準値以上となった場合、前記第五弁２７を開く。

これにより、吸収液流路制御部７３は、アンモニア吸収液濃度計２００で検出される吸収液Ｌのアンモニア濃度が、予め設定された吸収液濃度基準値以上となった場合、第五弁２７を開く。すると、吸収液供給部２５により、ケーシング１１の外部から吸収液Ｌが散液部２０に供給される。これにより、吸収液Ｌのアンモニア濃度を低下させることができる。

（９）第９の態様に係るスクラバー装置１０，１０Ｂは、（１）から（８）の何れか一つのスクラバー装置１０，１０Ｂであって、前記散液部２０により前記ケーシング１１内の上部から散液される前記吸収液Ｌを冷却可能な吸収液冷却部２９を更に備える。

これにより、吸収液冷却部２９は、散液部２０によりケーシング１１内の上部から散液される吸収液Ｌを冷却できる。特に、吸収液循環ライン９０により、循環される吸収液Ｌは、アンモニアの吸収時における反応熱により温度上昇している。温度上昇した吸収液Ｌを冷却することで、吸収液Ｌのアンモニアの吸収効率を高めることができる。

（１０）第１０の態様に係るスクラバー装置１０，１０Ｂは、（１）から（９）の何れか一つのスクラバー装置１０，１０Ｂであって、前記ケーシング１１の上部から前記ガスＧを送り出すファン８４を更に備える。

これにより、ファン８４により、ケーシング１１の上部からガスＧを送り出すことができる。特に、ガスＧを、ガス循環ライン８０により、ケーシング１１の上部からケーシング１１の下部に循環させる場合、ガスＧの循環を効率良く行うことができる。

（１１）第１１の態様に係るスクラバー装置１０，１０Ｂにおけるガス処理方法Ｓ１０，Ｓ２０は、（１）から（１０）の何れか一つのスクラバー装置１０，１０Ｂにおけるガス処理方法Ｓ１０，Ｓ２０であって、前記ケーシング１１内にアンモニアを含むガスＧを供給しつつ、前記ケーシング１１の外部から供給される水を前記ケーシング１１内の上部から散水し、前記ケーシング１１の上部から前記ケーシング１１の下部にガスＧを循環させる工程Ｓ１１，Ｓ２１と、前記ケーシング１１の上部から放出される前記ガスＧのアンモニア濃度を検出する工程Ｓ１２，Ｓ２２と、検出されるアンモニア濃度が、予め設定されたガス濃度基準値を下回った場合、前記ケーシング１１の上部から前記ケーシング１１の下部へのガスＧの循環を停止させるとともに、前記ケーシング１１の上部からガスＧを放出する工程Ｓ１４，Ｓ２４と、を含む。

このスクラバー装置１０，１０Ｂにおけるガス処理方法Ｓ１０，Ｓ２０は、アンモニアガス濃度計１００で検出されるガスＧのアンモニア濃度が、予め設定したガス濃度基準値以上である場合、ケーシング１１内でアンモニアが除去されたガスＧを、ケーシング１１の下部に循環させる。ガスＧがケーシング１１の下部に循環されることによって、複数回、吸収液Ｌによるアンモニアの吸収がなされることとなる。したがって、一度のみの吸収液Ｌとの接触では、十分にアンモニアを除去できない場合であっても、アンモニアを含むガスＧからアンモニアの除去を十分に行うことができる。また、そのために、吸収液Ｌの量を増やす必要や、ケーシング１１の容量を増やす必要も無い。したがって、吸収液Ｌの流量増加及びケーシング１１の容量増加を抑制しつつ外部へのアンモニアの放出を抑えることができる。

１０，１０Ｂ…スクラバー装置 １１…ケーシング １１ｓ…内部空間 １５…ガス供給部 １６…ガス供給ライン １６ａ…一端 １６ｂ…他端 １７…開閉弁 １８…副ガス供給ライン １９…逆止弁 ２０…散液部 ２１…散液ノズル ２５…吸収液供給部 ２６…吸収液供給ライン ２６ｂ…他端 ２７…第五弁 ２７ｖ…弁駆動部 ２８…ポンプ ２９…吸収液冷却部 ４０…ガス放出部 ４１…ガス放出ライン ４１ａ…一端 ４５…第一弁 ４５ｖ…弁駆動部 ５０…吸収液排出部 ５１…吸収液排出ライン ５１ａ…一端 ５５…第三弁 ５５ｖ…弁駆動部 ６０…制御装置 ６１…ＣＰＵ ６２…ＲＯＭ ６３…ＲＡＭ ６４…ストレージ ６５…信号送受信モジュール ７１…信号受信部 ７２…ガス流路制御部 ７３…吸収液流路制御部 ７４…指令信号出力部 ８０…ガス循環ライン ８１…ガス循環接続管 ８１ａ…一端 ８１ｂ…他端 ８２…一部区間 ８３…一部区間 ８４…ファン ８５…第二弁 ８５ｖ…弁駆動部 ８６…逆止弁 ９０…吸収液循環ライン ９１…吸収液循環接続管 ９１ａ…一端 ９１ｂ…他端 ９２…一部区間 ９５…第四弁 ９５ｖ…弁駆動部 １００…アンモニアガス濃度計 ２００…アンモニア吸収液濃度計 Ｄｖ…上下方向 Ｇ…ガス Ｌ…吸収液 Ｓ１０，Ｓ２０…スクラバー装置におけるガス処理方法 Ｓ１１，Ｓ２１…ガスを循環させる工程 Ｓ１２，Ｓ２２…ガスのアンモニア濃度を検出する工程 Ｓ１３，Ｓ２３…ガス濃度基準値を下回ったか否かを判定する工程 Ｓ１４，Ｓ２４…ケーシングの上部からガスを放出する工程

Claims (10)

1. ケーシングと、
   前記ケーシング内にアンモニアを含むガスを供給可能なガス供給部と、
   前記ケーシングの外部から供給される吸収液を、前記ケーシング内の上部から散液可能な散液部と、
   一端が前記ケーシングの上部に接続されたガス放出ラインと前記ガス放出ラインの流路を開閉する第一弁とを有し、前記ケーシングの上部からガスを放出可能なガス放出部と、
   前記ケーシングの下部から吸収液を排出可能な吸収液排出部と、
   前記ケーシングの上部から前記ケーシングの下部にガスを循環させるガス循環ラインと、
   前記ケーシングから前記ガス放出部に流れる前記ガスのアンモニア濃度を検出するアンモニアガス濃度計と、
   を備え、
   前記ガス循環ラインは、前記ガス放出ラインの一端と前記第一弁との間に一端が接続されるガス循環接続管と、前記ガス循環接続管の途中に設けられ前記ガス循環接続管の流路を開閉する第二弁と、前記ケーシングの上部から前記ガスを送り出すファンと、を備え、
   前記ガス循環ラインの一部は、前記ガス放出ラインの一端と前記ガス循環接続管の一端が接続された部分との間の一部区間を、前記ガス放出ラインと共用し、
   前記アンモニアガス濃度計及び前記ファンは、前記一部区間に設けられている
   備えるスクラバー装置。
2. 前記ケーシングから前記ガス放出部への前記ガスの流路を開閉する第一弁と、
   前記ケーシングから前記ガス循環ラインへの前記ガスの流路を開閉する第二弁と、を更に備える
   請求項１に記載のスクラバー装置。
3. 前記アンモニアガス濃度計で検出される前記ガスのアンモニア濃度に基づき、前記第一弁、及び前記第二弁の開閉を制御するガス流路制御部を更に備える
   請求項２に記載のスクラバー装置。
4. 前記ガス流路制御部は、
   前記アンモニアガス濃度計で検出される前記ガスのアンモニア濃度が、予め設定されたガス濃度基準値を下回っている場合、前記第一弁を開くとともに、前記第二弁を閉じ、
   前記アンモニアガス濃度計で検出される前記ガスのアンモニア濃度が、予め設定されたガス濃度基準値以上となった場合、前記第一弁を閉じるとともに、前記第二弁を開く
   請求項３に記載のスクラバー装置。
5. 前記ケーシングの下部から前記散液部を介して前記ケーシングの上部に吸収液を循環可能な吸収液循環ラインと、
   前記ケーシングから前記吸収液排出部に排出される前記吸収液の流路を開閉する第三弁と、
   前記ケーシングから前記吸収液循環ラインへの前記吸収液の流路を開閉する第四弁と、
   前記ケーシング内の前記吸収液のアンモニア濃度を検出するアンモニア吸収液濃度計と、
   を更に備える
   請求項１又は２に記載のスクラバー装置。
6. 前記アンモニア吸収液濃度計で検出される前記吸収液のアンモニア濃度に基づき、前記第三弁、及び前記第四弁の開閉を制御する吸収液流路制御部を更に備える
   請求項５に記載のスクラバー装置。
7. 前記吸収液流路制御部は、
   前記アンモニア吸収液濃度計で検出される前記吸収液のアンモニア濃度が、予め設定された吸収液濃度基準値を下回っている場合、前記第三弁を閉じるとともに、前記第四弁を開き、
   前記アンモニア吸収液濃度計で検出される前記吸収液のアンモニア濃度が、予め設定された吸収液濃度基準値以上となった場合、前記第三弁を開くとともに、前記第四弁を閉じる
   請求項６に記載のスクラバー装置。
8. 前記ケーシングの外部から前記散液部に前記吸収液を供給する吸収液供給部と、
   前記吸収液供給部から前記散液部への前記吸収液の流路を開閉する第五弁を更に備え、
   前記吸収液流路制御部は、前記アンモニア吸収液濃度計で検出される前記吸収液のアンモニア濃度が、予め設定された吸収液濃度基準値以上となった場合、前記第五弁を開く
   請求項７に記載のスクラバー装置。
9. 前記散液部により前記ケーシング内の上部から散液される前記吸収液を冷却可能な吸収液冷却部を更に備える
   請求項１又は２に記載のスクラバー装置。
10. 請求項１又は２に記載のスクラバー装置におけるガス処理方法であって、
    前記ケーシング内にアンモニアを含むガスを供給しつつ、前記ケーシングの外部から供給される水を前記ケーシング内の上部から散水し、前記ケーシングの上部から前記ケーシングの下部にガスを循環させる工程と、
    前記ケーシングの上部から放出される前記ガスのアンモニア濃度を検出する工程と、
    検出されるアンモニア濃度が、予め設定されたガス濃度基準値を下回った場合、前記ケーシングの上部から前記ケーシングの下部へのガスの循環を停止させるとともに、前記ケーシングの上部からガスを放出する工程と、を含む
    スクラバー装置におけるガス処理方法。