JP7842745B2 - 再生可能な燃料を製造するための方法 - Google Patents

Description

本発明は、窒素不純物を有する酸素化炭化水素フィードストックから炭化水素を製造するためのプロセスに関し、および特には、そのようなプロセスにおける水素の効果的な利用に関する。

例えば原油などの石油、および例えば植物オイルまたは動物性脂肪などの再生可能なオイルを、例えばガソリン、航空燃料およびディーゼルなどの輸送用燃料などの高価値な生成物へと変換することは、水素を消費する水素化処理工程を含む。

重質原油、ならびに、例えば廃棄動物性脂肪などの低質な植物オイルおよび動物性脂肪の精製は、水素化処理プロセスにおける水素需要を増加させる。このため、オイルの水素化処理のための水素を生成すること、回収することおよび購入することは、製油所の操業コストに大きな影響を与える。

石油および再生可能なオイルの水素化処理は、理論的な消費量に比べ過剰な水素を用いて行われる。水素化処理工程後に残った水素は、精製され、および水素化処理工程において消費された水素を補うための新鮮な水素、いわゆる補給水素（make-up hydrogen）と共にリサイクルされ得る。

水素化処理のあいだ、多くの反応がフィードストックの組成に依存して様々な程度で起こる。水素化処理反応としては、二重結合の水素化、水素化脱酸素（ＨＤＯ）、水素化脱硫（ＨＤＳ）、水素化脱窒素（ＨＤＮ）、水素化脱芳香族化（ＨＤＡｒ）、水素化分解（ＨＣ）および水素異性化などが含まれる。

水素異性化は、典型的には、例えばＳＡＰＯ－１１などのモレキュラーシーブを担持している白金またはパラジウム触媒などの金属脱水素化官能基および酸性官能基の両方を有する二官能性触媒上で行われる。触媒の異性化選択性が重要であり、すなわち、水素化処理のあいだにフィードの平均分子量を低下させることが望まれない場合には、典型的には水素化異性化のあいだにもある程度起こる水素化分解が抑制される。これは、金属脱水素化官能基および酸性官能基のあいだのバランスを含み、これは、このバランスをシフトさせ得る要素に感受性である。アミン類は強酸性部位を中和し、触媒の低い酸性度および活性を導くと推測される。硫黄は、貴金属触媒の金属脱水素官能基を害することが知られている。

フィードの一般的な不純物のひとつに窒素があり、これは化石起源および再生可能起源のオイルならびに動物性脂肪の良く知られた成分である。原油中、９４０ｗ－ｐｐｍという平均の窒素不純物含有量、および７５００ｗ－ｐｐｍまでの高い含有量が報告されている（非特許文献１）。また、動物性廃棄物脂肪が１０００ｐｐｍまたはそれ以上の窒素を含み得ることも珍しくない。例えば窒素不純物などのフィードストック中の望ましくない不純物を処理する典型的な方法は、水素化処理に先立ってフィードストックを精製することである。水溶性の窒素化合物を脱ガムで除去することは典型的である。しかし、動物性脂肪の場合、窒素化合物の大部分は油溶性であり、および水溶性窒素化合物よりもはるかに除去が困難である。

特許文献１（IFP Energies Nouvelles）は、モリブデン触媒を使用して２つの触媒ゾーンにおいて再生可能資源からのフィードを水素化処理する方法を記載しており、ここで水素化処理反応の発熱性により入口においてよりも出口においてより高い温度を有する床からのガス状および液体状の流出物が、リサイクルとして直接的に、触媒ゾーンへの新鮮なフィードを加熱するために使用されている。特許文献１は、それぞれ１５および２３ｐｐｍの少量の窒素不純物を有する良質のパーム油および大豆油を用いる発明を例示しおり、および、再生可能な供給源からのフィードが、一般的に、例えば１～１００ｐｐｍ、およびさらには１ｗｔ％までの窒素不純物などの様々な不純物を含むことに言及している。

特許文献１は、実施例において窒素量を元の量の約２％に減らし、１～１００ｐｐｍである一般的な範囲から外れた窒素含有量を有する不純物フィードを水素化処理しない。比較例１は、特許文献１に記載されたプロセス条件で、約１ｗｔ％の窒素含有量を有する動物性脂肪を水素化処理および異性化しており、１～１００ｐｐｍである一般的な範囲から外れた窒素含有量を有する不純物フィードを水素化処理することが可能であることを示している。しかしながら、水素化脱酸素段階後の窒素含有量は約２～５ｐｐｍであり、および、異性化後、航空燃料のための要件と比較して－１０℃という高い流動点を有する航空燃料カットの収率はわずか５％であった。

従って、１～１００ｐｐｍである一般的な範囲から外れている窒素不純物を有する酸素化炭化水素を効果的に水素化処理し、および、水素化処理生成物中の低い窒素量を確実なものとすることができるさらなる水素化処理プロセスに対する必要性がある。さらに、１～１００ｐｐｍである一般的な範囲から外れている窒素不純物を有する酸素化炭化水素から、良好なコールドフロー特性を有する高品質な航空燃料カットを製造することができるプロセスに対する必要性が存在する。

可能な限り多くの窒素を除去するために、水素化前にフィードをさらに精製するという可能性もある。しかし、水溶性の窒素を除去するための精製方法は簡単に実施できるが、動物性脂肪中の窒素含有量の多くは油溶性であり、および除去することは非常に困難である。

加えて、過剰に添加され、および通常リサイクルされる水素のより効率的な使用に対する需要がある。

米国特許出願公開第２０１１／００９４１４９号明細書

Manrique et al. (1997) Basic Nitrogen Compounds in Crude Oils：Effect on Mineral Dissolution During Acid Stimulation Processes, SPE-37224-MS; https://www.onepetro.org/conference-paper/SPE-37224-MS

本発明は、上述した先行技術に鑑みてなされたものであり、および、本発明の目的は、窒素不純物を含む酸素化炭化水素フィードから得られる水素化処理生成物の品質を改善し得るプロセスであって、一方では同時に水素の使用をより効率的なものとするプロセスを提供することである。特には、改善された品質は、生成物中の低量の窒素不純物、および、異性化された生成物の改良された低温流動性特性を含む。

本課題を解決するために、本発明は、窒素元素として測定されて、１０ｗｐｐｍまたはそれ以上の窒素不純物を有する、酸素化炭化水素フィードストックから炭化水素を調製するプロセスを提供し、ここで、該プロセスは、第２の触媒ゾーン／水素化処理ゾーン（１０５）の上流に配置された第１の触媒ゾーン／ポリシングゾーン（１０２）を含む反応器（１０１）を含む。酸素化炭化水素フィードストックは水素化処理ゾーンに供給され、ここで第１の水素化処理ゾーンからの流出物は精製され、およびここで、第１の水素化処理ゾーンからの精製された流出物が、第２の水素化処理ゾーン（１０２）においてより高い温度で水素化処理され、および、第２の水素化処理ゾーン（１０２）へのフィードは、酸素化されたフィードストックと混合されず、すなわち新鮮なフィードと混合されない。

具体的には、本発明は、窒素元素として測定されて１０ｗｐｐｍまたはそれ以上の窒素不純物を有する、酸素化炭化水素フィードストックから炭化水素を調製するためのプロセスであって、
第２の触媒ゾーン（１０５）の上方に配置された第１の触媒ゾーン（１０２）を備える水素化処理反応器（１０１）であって、ここで、酸素化炭化水素フィードストック（１０４）、水素富化ガス（１２０）、および任意には生成物リサイクル希釈剤（１０８、１２６）を含む水素化処理入り口流が、第１の触媒ゾーン（１０２）と第２の触媒ゾーン（１０５）とのあいだの入口で第２の触媒ゾーン（１０５）へ導入され、それは第１の触媒ゾーンからの第１の水素化処理流出物の一部と混合され、第２の触媒ゾーンは、水素化処理反応器の第２の触媒ゾーン（１０５）からの第２の水素化処理流出物（１０６）が主に炭化水素を含む程度まで少なくとも水素脱酸素および水素脱窒を引き起こす温度および圧力で操作され、およびここで、酸素化炭化水素フィードストックが≧９５％の炭化水素に変換される水素化処理反応器（１０１）を含み、
水素化処理反応器の第２の触媒ゾーンからの第２の水素化処理流出物が、第２の水素化処理流出物（１０６）の少なくとも一部がガス状留分（１２１）と水素化処理液（１０８）とに分離され、該水素化処理液が≧９５ｗｔ％の炭化水素と＞１ｗｐｐｍの窒素とを含む分離段階（１０７）に付され、
水素化処理液（１０８）の少なくとも一部および水素富化ガス（１２０）が、水素化処理反応器の第２の触媒ゾーンにおける入口の温度よりも高い入口の温度で、および、水素化脱酸素および水素化脱窒素を引き起こす圧力で、水素化処理反応器（１０１）内の第１の触媒ゾーン（１０２）に導入され、
第１の触媒ゾーン（１０２）からの第１の水素化処理さ流出物の一部を含む生成物副流（１１２）が、第１の触媒ゾーンと第２の触媒ゾーンのあいだで取り出され、生成物副流（１１２）は液体成分およびガス状成分を含み、および副流の液体成分は、≧９９ｗｔ％の炭化水素、および、窒素元素として測定されて、≦１ｗｐｐｍの窒素、好ましくは≦０．４ｗｐｐｍの窒素、例えば≦０．３ｗｐｐｍの窒素（ＡＳＴＭ Ｄ４６２９検出）などを含む
プロセスに関する。

すなわち、本発明の発明者らは、本発明の第１の態様において、アンモニアおよび他の低沸点アミンが、気相および液相への分離によって第２の触媒ゾーン（１０５）（水素化処理ゾーン）からの流出物から除去され、その後、そこからの液相を第１の触媒ゾーン（１０２）（ポリシングゾーン）中で水素化処理し、ここで、この液相が他の酸素化炭化水素フィードと組み合わされず、また、第１の水素化処理液より高い窒素含有量を有する他のフィードと組み合わされない場合、窒素不純物を含む酸素化炭化水素が、１つの反応器内の２つの触媒ゾーンにおいて効率的に水素化処理され得ることを見いだした。第１の水素化処理流出物の少なくとも一部は、副流として取り出され、および、ガス状ストリームおよび第２の水素化処理液流に分離され、ここで分離は、ストリッピング工程であるかまたはストリッピング工程（１１４）の前であってもよく、ここで、第１の水素化処理液流は、ストリッピングされた副流（１１５）の窒素含有量を０．３ｗｐｐｍまたはそれ以下に低下させるために、ストリッピングガスを用いてストリッピングされてもよい。

具体的には、本発明者らは、水素化処理のあいだにフィードの窒素不純物から生成された水素富化流出物ガス中に存在するアンモニアが、このようなアンモニア不純物を含む水素富化ガスを、アンモニア不純物を事前に除去せずにポリシング工程に使用した場合、より進んだ水素化脱窒素／水素化脱窒素条件のあいだに生成物中に再取込みされ得ることを発見した。

水素化処理ゾーン（第２の触媒ゾーン）の上流のポリシングゾーン（第１の触媒ゾーン）を使用することにより、水素化処理ゾーンの下流にポリシングゾーンを有する反応器と比較して、新鮮な水素がより良好に利用され得る。これは、第１の触媒ゾーン（１０２）（ポリシングゾーン）へのフィードが、第２の触媒ゾーン（１０５）（水素化処理ゾーン）への酸素化炭化水素フィードと比較して、既に低量の窒素を含んでいるからであり、ポリシングゾーンに添加される新鮮な水素は、第２の触媒ゾーンからの流出物中に存在する窒素不純物を含まず、および同時に、第１の触媒ゾーン（１０２）（ポリシングゾーン）からの流出物に存在する過剰な水素は、第２の触媒ゾーン（１０５）（水素化処理ゾーン）中での使用に適した品質のままである。

本発明の反応器セットアップおよびプロセスは、より効率的な水素の使用を引き起こすと同時に、生成物副流（１１２）の低量の窒素不純物を確実なものとする。

生成物副流（１１２）は、それ自体の生成物として使用されるか、またはそれは、少なくとも１つの触媒ゾーンを含む第１の異性化反応器（１０３）において異性化され得、ここで、生成物副流（１１２）、および窒素元素として測定されて、≦１ｐｐｍ（ｍｏｌ／ｍｏｌ）窒素を有する水素富化ガス（１２０）は、異性化流出物（１１６）を生成するための少なくとも水素異性化を引き起こす入口の温度および圧力で触媒ゾーンに導入され、異性化反応器からの異性化流出物は、分離段階（１１７）に付され、ここで第１の異性化流出物（１１６）は、ガス状留分（１１８）および異性化液（１１９）に分離され、ここで第１の異性化液は、≧３０ｗｔ％の分岐の炭化水素、および／または、生成物副流（１１２）と比較して≧３０ｗｔ％の分岐の炭化水素の増加を含む。

例えば、副流は、ストリッピング段階（１１４）に付され、ここで、副流（１１６）は、ストリッピングされた副流（１１５）が、窒素元素として測定されて≦０．４ｗｐｐｍの窒素、例えば≦０．３ｗｐｐｍの窒素（ＡＳＴＭ Ｄ４６２９検出）を有するように、および、副流（１１６）と比較して低い窒素量を有するように、ストリッピングガス（Ｈ₂）を用いてストリッピングされる；このストリッピングされた副流（１１５）を、少なくとも１つの触媒ゾーンを含む第１の異性化反応器（１０３）において異性化する工程に付され得、ここで、ストリッピングされた副流（１１５）および窒素元素として測定されて≦１ｐｐｍ（ｍｏｌ／ｍｏｌ）の窒素を有する水素富化ガス（１２０）が、第１の異性化流出物（１１６）を生成するために、少なくとも水素化脱窒素を引き起こす温度および圧力で触媒ゾーンに導入され；
ここで、第１の異性化反応器（１０３）からの異性化流出物は、分離段階（１１７）に供され、ここで、異性化流出物は、ガス状留分および異性化液体（に分離され、第１の異性化液体は、≧３０ｗｔ％の分岐の炭化水素、および／または、ストリッピングされ副流（１１５）と比較して≧３０ｗｔ％増加した分岐の炭化水素を含む。

異性化液体は、－４０℃以下、例えば－４７℃以下などの凝固点を有する少なくとも航空燃料に分離され得る。

冷却は、第２の水素化処理液（１０６）の分離段階のあいだに、第２の水素化処理液（１０８）が第１の水素化処理反応器（１０１）の第１の触媒ゾーン（１０２）の入口の温度よりも低い温度を有する程度に適用され得る。

炭化水素希釈剤と同様に新鮮な酸素化炭化水素フィードストックも、水素化処理反応器（１０２）の第１の触媒ゾーンに導入されることを意図していない。

第２の触媒ゾーン（１０５）における水素化脱酸素および水素化脱窒素の程度は、第１の触媒ゾーン（１０２）において、第１の触媒ゾーンの入口と第１の触媒ゾーンの出口との間の温度上昇が１０℃を超えないような様式で制御され得る。

水素化処理反応器（１０１）内の第２の触媒ゾーン（１０５）は、水素化処理反応器（１０１）内の第１の触媒ゾーン（１０２）よりも低い水素化脱酸素活性を有し得る。

第１の触媒ゾーン（１０２）内で使用される水素富化ガス（１２０）は、窒素元素として測定されて、≦５ｗｐｐｍの窒素不純物を含み得る。

第２の触媒ゾーン（１０５）の入口の温度および圧力は、２００～４００℃および１０～１５０ｂａｒ、例えば２５０～３８０℃および２０～１２０ｂａｒ、例えば２８０～３６０℃および３０～１００ｂａｒなどであり得る。

水素化処理反応器の第２の触媒ゾーンは、例えば、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｗまたはこれらの任意の組み合わせからなる群より選択される触媒などの、担体に担持された水素化金属から選択される１つまたは複数の触媒を含み、好ましくは、第２の触媒ゾーンは、例えばアルミナ担体などの担体に担持されたＣｏＭｏ、ＮｉＭｏ、ＮｉＷ、ＣｏＮｉＭｏから選択される１つまたは複数の触媒を含み得る。

水素化処理反応器（１０１）は、０．５～３ｈ^-1の範囲のＷＨＳＶで、および、３５０～９００ Ｎｌ Ｈ₂／ｌフィードのＨ₂フローで操作され得る。

第１の触媒ゾーン（１０２）の入口の温度および圧力は、２５０～４５０℃および１０～１５０ｂａｒ、例えば３００～４３０℃および２０～１２０ｂａｒ、例えば３３０～４１０℃および３０～１００ｂａｒであり得る。

水素化処理反応器の第１の触媒ゾーンは、１つまたは複数の触媒を含み得、これらは例えば、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｗまたはこれらの任意の組み合わせからなる群より選択される触媒などの、担体に担持された水素化金属化合物から選択され得、好ましくは、第１の触媒ゾーンは、例えばアルミナ担体などの担体に担持されたＣｏＭｏ、ＮｉＭｏ、ＮｉＷ、ＣｏＮｉＭｏから選択される１つまたは複数の触媒を含む。

異性化反応器（１０３）の入口の温度および圧力は、２８０～３７０℃および０～５０ｂａｒであり得る。

異性化反応器の触媒ゾーンは、１つまたは複数の触媒を含み、これは担体に担持されたVIII族金属を含み得、ここで担体は、シリカ、アルミナ、クレー、酸化チタン、酸化ホウ素、ジルコニアから選択され、これらは単独でまたは混合物として使用され得、好ましくは、シリカおよび／またはアルミナである。

異性化反応器の触媒ゾーンは、例えばゼオライトなどのモレキュラーシーブをさらに含んでいてもよい。

異性化反応器（１０３）は、０．５～１ｈ^-1の範囲のＷＨＳＶで、および、３００～５００ Ｎｌ Ｈ₂／ｌフィードのＨ₂フローで操作され得る。

第１の異性化液は、１より大きいｎ－パラフィンに対するｉ－パラフィンの比、例えば５～３０または１５～３０などの比を有し得る。

第１の触媒ゾーン（１０２）からの第１の水素化処理流出物の一部は、例えば混合などによって、水素化処理入り口流を加熱するために使用され得る。

酸素化炭化水素フィードストックは、窒素元素として測定されて、３００ｗｐｐｍまたはそれ以上、好ましくは５００ｗｐｐｍまたはそれ以上の窒素不純を有し得る。

水素化処理入り口流は、１００～５００ｗｐｐｍの窒素不純物を含み得る。

第２の触媒ゾーンからの第２の水素化処理流出物（１０６）は、１００～５００ｗｐｐｍ以上の窒素不純物を含み得る。

図１は、第２の触媒ゾーン（１０５）（水素化処理床）の上方に配置された第１の触媒ゾーン（１０２）（ポリシング床）を含む水素化処理反応器（１０１）と、第１の異性化反応器（１０３）とを備えるプロセススキームを示す図である。 図２は、第１の水素化処理反応器（２０１）および第１の異性化反応器（２０３）を備える本発明によるものではない比較のプロセススキームを示す図である。 図３は、第１の水素化処理反応器（３０１）、第２の水素化処理反応器（３０２）および第１の異性化反応器（３０３）を備える本発明によるものではない比較のプロセススキームを示す図である。

本発明の実施形態を説明する際に、明確化のために特定の用語が使用されるであろう。しかしながら、本発明は、そのように選択された特定の用語に限定されることを意図しておらず、および、各特定の用語は、同様の目的を達成するために同様の様式で作動するすべての技術的等価物を含むと理解される。

本発明は、窒素元素として測定されて１０ｗｐｐｍまたはそれ以上の窒素不純物を有する、酸素化炭化水素フィードストックから炭化水素を調製するためのプロセスであって、
第２の触媒ゾーン（１０５）の上方に配置された第１の触媒ゾーン（１０２）を備える水素化処理反応器（１０１）であって、ここで、酸素化炭化水素フィードストック（１０４）、水素富化ガス（１２０）、および任意には生成物リサイクル希釈剤（１０８、１２６）を含む水素化処理入り口流が、第１の触媒ゾーン（１０２）と第２の触媒ゾーン（１０５）とのあいだの入口で第２の触媒ゾーン（１０５）へ導入され、それは第１の触媒ゾーンからの第１の水素化処理流出物の一部と混合され、第２の触媒ゾーンは、水素化処理反応器の第２の触媒ゾーン（１０５）からの第２の水素化処理流出物（１０６）が主に炭化水素を含む程度まで少なくとも水素脱酸素および水素脱窒を引き起こす温度および圧力で操作され、およびここで、酸素化炭化水素フィードストックが≧９５％の炭化水素に変換される水素化処理反応器（１０１）を含み、
水素化処理反応器の第２の触媒ゾーンからの第２の水素化処理流出物が、第２の水素化処理流出物（１０６）の少なくとも一部がガス状留分（１２１）と水素化処理液（１０８）とに分離され、該水素化処理液が≧９５ｗｔ％の炭化水素と＞１ｗｐｐｍの窒素とを含む分離段階（１０７）に付され、
水素化処理液（１０８）の少なくとも一部および水素富化ガス（１２０）が、水素化処理反応器の第２の触媒ゾーンにおける入口の温度よりも高い入口の温度で、および、水素化脱酸素および水素化脱窒素を引き起こす圧力で、水素化処理反応器（１０１）内の第１の触媒ゾーン（１０２）に導入され、
第１の触媒ゾーン（１０２）からの第１の水素化処理さ流出物の一部を含む生成物副流（１１２）が、第１の触媒ゾーンと第２の触媒ゾーンのあいだで取り出され、生成物副流（１１２）は液体成分およびガス状成分を含み、および副流の液体成分は、≧９９ｗｔ％の炭化水素、および、窒素元素として測定されて、≦１ｗｐｐｍの窒素、好ましくは≦０．４ｗｐｐｍの窒素、例えば≦０．３ｗｐｐｍの窒素（ＡＳＴＭ Ｄ４６２９検出）などを含む
プロセスに関する。

すなわち、本発明の発明者らは、本発明の第１の態様において、アンモニアおよび他の低沸点アミンが、気相および液相への分離によって第２の触媒ゾーン（１０５）（水素化処理ゾーン）からの流出物から除去され、その後、そこからの液相を第１の触媒ゾーン（１０２）（ポリシングゾーン）中で水素化処理し、ここで、この液相が他の酸素化炭化水素フィードと組み合わされず、また、第１の水素化処理液より高い窒素含有量を有する他のフィードと組み合わされない場合、窒素不純物を含む酸素化炭化水素が、１つの反応器内の２つの触媒ゾーンにおいて効率的に水素化処理され得ることを見いだした。第１の水素化処理流出物の少なくとも一部は、副流として取り出され、および、ガス状ストリームおよび第２の水素化処理液流に分離され、ここで分離は、ストリッピング工程であるかまたはストリッピング工程（１１４）の前であってもよく、ここで、第１の水素化処理液流は、ストリッピングされた副流（１１５）の窒素含有量を。０．４ｗｐｐｍまたはそれ以下、例えば０．３ｗｐｐｍまたはそれ以下の窒素（ＡＳＴＭ Ｄ４６２９検出）に低下させるために、ストリッピングガスを用いてストリッピングされてもよい。

具体的には、本発明者らは、水素化処理のあいだにフィードの窒素不純物から形成された水素富化流出物ガス中に存在するガス状アンモニアは、このようなアンモニア不純物を含む水素富化ガスを、アンモニア不純物を事前に除去せずにポリシング工程に使用した場合、より進んだ水素化脱酸素／水素化脱窒条件のあいだに生成物中に再取込みされ得ることを発見した。

水素化処理ゾーン（第２の触媒ゾーン）の上流にポリシングゾーン（第１の触媒ゾーン）を使用することにより、水素化処理ゾーンの下流にポリシングゾーンを有する反応器と比較して、新鮮な水素がより良好に利用され得る。これは、第１の触媒ゾーン（１０２）（ポリシングゾーン）へのフィードが、第２の触媒ゾーン（１０５）（水素化処理ゾーン）への酸素化炭化水素フィードと比較して、既に低量の窒素を含んでいるからであり、ポリシングゾーンに添加される新鮮な水素は、第２の触媒ゾーンからの流出物中に存在する窒素不純物を含まず、および同時に、第１の触媒ゾーン（１０２）（ポリシングゾーン）からの流出物に存在する過剰な水素は、第２の触媒ゾーン（１０５）（水素化処理ゾーン）中での使用に適した品質のままである。

本発明の反応器セットアップおよびプロセスは、より効率的な水素の使用を引き起こすと同時に、生成物副流（１１２）の低量の窒素不純物を確実なものとする。

本プロセスは、酸素化炭化水素フィードストックから炭化水素を調製するためのものである。酸素化炭化水素フィードストックの例としては、植物オイルおよび動物性脂肪中に大量に存在する脂肪酸およびトリグリセリドが挙げられる。例えば植物オイルおよび動物性脂肪などの再生可能な起源の酸素化炭化水素フィードストックは、このプロセスによく適している。これらの植物オイルおよび動物性脂肪の大部分は、遊離脂肪酸として、または遊離脂肪酸のエステルとして、２５ｗｔ％または４０ｗｔ％またはそれ以上から構成される。遊離脂肪酸のエステルの例は、脂肪酸グリセリドエステル（モノ－、ジ－および／またはトリ－グリセリド）または例えば脂肪酸メチルエステル（ＦＡＭＥ）または脂肪酸エチルエステル（ＦＡＥＥ）などである。従って、再生可能な起源の酸素化炭化水素フィードストックは、４０ｗｔ％またはそれ以上の脂肪酸または脂肪酸エステルを含み得る。

例えばフィードストックおよび生成物などの炭素含有組成物の再生可能な性質は、フィードストックの¹⁴Ｃ同位体含有量を１９５０年の大気中の¹⁴Ｃ同位体含有量と比較することによって決定され得る。¹⁴Ｃ同位体含有量は、フィードストックまたは生成物の再生可能な起源の証明として使用され得る。再生可能な物質の炭素原子は、化石起源の炭素原子と比較して、不安定な放射性炭素（¹⁴Ｃ）原子を多く含んでいる。したがって、¹²Ｃおよび¹⁴Ｃの同位体の比を分析することにより、生物的供給源由来の炭素化合物と化石供給源由来の炭素化合物とを区別することが可能である。したがって、該同位体の特定の比率が、再生可能な炭素化合物を特定し、非再生可能なすなわち化石炭素化合物からそれらを区別するために使用され得る。同位体比は、化学反応の過程で変化しない。生物学的供給源由来の炭素の含有量を分析するための適切な方法の例として、ＡＳＴＭ Ｄ６８６６ （２０２０）がある。燃料中の再生可能な含有量を決定するためにいかにＡＳＴＭ Ｄ６８６６を適用するかという例は、Dijsらの論文、Radiocarbon、48（3）、2006、pp 315-323に示されている。本発明の目的のために、例えばフィードストックまたは生成物などの炭素含有材料が、ＡＳＴＭ Ｄ６８６６を使用して測定されて、９０％またはそれ以上の現在の標準の炭素、例えば１００％などの現在の標準の炭素などを含む場合、再生可能起源であるとみなされる。

多くの植物オイルおよび動物性脂肪は、典型的な量の窒素不純物、例えば１～１００ｐｐｍの間など量の窒素不純物を含み得、これらもまた、本発明のプロセスを使用して水素化処理され得る。しかしながら、本発明のプロセスは、水素化処理プロセスが、高い窒素不純物を含む、例えば１０ｗｐｐｍまたはそれ以上の窒素不純物を含む酸素化炭化水素フィードストックを変換できるという観点から有利である。例えば３００ｗｐｐｍ～２５００ｗｐｐｍ、またはそれ以上、例えば５００ｗｐｐｍまたはそれ以上、例えば８００ｗｐｐｍまたはそれ以上など。酸素化炭化水素フィードストックは、例えば、１５００ｗｐｐｍまで、例えば２５００ｗｐｐｍまでの窒素不純物を有し得る。高い窒素不純度をもつ酸素化炭化水素フィードストックの例は、いくつかの動物性脂肪であり、これらは、約１０００ｗｐｐｍ、例えば６００～１４００ｗｐｐｍの範囲内の窒素不純物を含み得る。酸素化炭化水素フィードストックは、それが好ましい場合、種々の供給源からの酸素化炭化水素の混合物で構成されていてもよい。例えば、２３ｐｐｍの窒素不純物を含むパーム油５０％が、５１２ｐｐｍの窒素不純物を含む酸素化炭化水素フィードストックを製造するために、１０００ｐｐｍの窒素不純物を含む動物性脂肪５０％と混合されてもよい。したがって、酸素化炭化水素フィードストックは、植物オイル、動物性脂肪、またはそれらの混合物から選択され得る。

窒素不純物は、窒素元素として測定される。このような窒素元素の測定方法としては、ＡＳＴＭ Ｄ４６２９があり、０．３～１００ｗｐｐｍの範囲で使用され、および、別の方法としてはＡＳＴＭ Ｄ５７２があり、これは１００ｗｐｐｍを超える範囲でより適切であり得る。本発明においては、窒素不純物を窒素元素として測定するために、両方の方法が必要に応じて使用され得る。

第２の触媒ゾーン（１０５）の上方に配置された第１の触媒ゾーン（１０２）を含む水素化処理反応器（１０１）がプロセスに使用され、該プロセスは、第１の触媒ゾーン（１０２）と第２の触媒ゾーン（１０５）との間の入口で、第２の触媒ゾーン（１０５）に水素化処理入り口流を流すことを含む。水素化処理入り口流は、酸素化炭化水素フィードストック（１０４）を含み、これは、上述のように選択され得、例えば、１０ｗｐｐｍまたはそれ以上の窒素、例えば３００ｗｐｐｍまたはそれ以上の窒素、例えば５００～１５００ｗｐｐｍの窒素を含む植物油、動物性脂肪またはそれらの混合物である。

酸素化炭化水素フィードストックは、第１の触媒ゾーンからの第１の水素化処理流出物の一部、および任意には生成物リサイクル希釈剤（１０８、１２６）と混合される。炭化水素希釈剤として第１の触媒ゾーンからの第１の水素化処理流出物の一部を使用することは、それが溶存水素と共に炭化水素を含むという観点から有利であり、その結果、第２の触媒ゾーンにおいてより効果的な水素化脱酸素（ＨＤＯ）および水素化脱窒素（ＨＤＮ）がもたらされる。炭化水素希釈剤として生成物リサイクル（１０８、１２６）を使用することは、炭化水素希釈剤として第１の水素化処理流出物を使用することと比較して、より大量の第１の水素化処理流出物生成物が生成物副流（１１２）として引き抜かれ得るという点で有利である。

炭化水素希釈剤は、当該技術分野でよく知られており、水素化処理反応（例えば、ＨＤＯおよびＨＤＮ反応）の発熱特性を制御するために使用される。さらに、炭化水素希釈剤は溶存水素を含み得、これは効率的な水素化処理に必要とされるものであり、水素化処理反応を進行させるためには、触媒は酸素化炭化水素フィードストックに接触されていると同時に水素にも接触されていなければならないからである。

炭化水素希釈剤として第１の触媒ゾーン（図１、Ｉ）からの第１の水素化処理流出物の一部を使用することは、そればすでに溶存水素を含んであろうこと、および第２の触媒ゾーン（１０５）の入口を加熱するために使用され得る高い温度を有しているため有利である。

炭化水素希釈剤として、第１の触媒ゾーン（図１、Ｉ）からの第１の水素化処理流出物および第２の触媒ゾーン（１０８、１２６）からの生成物リサイクルの両方の混合物、例えば少なくとも両方の１０％などを使用することは、溶存水素を含む留分がより早い段階からの生成物リサイクルと混合され、これにより、生成物副流（１１２）の取出し量を増加させ、これによって炭化水素希釈剤として第１の水素化分解流出物（図１、Ｉ）のみを使用する場合と比較して、反応器の処理量を増加させるという観点から優位である。

第１の触媒ゾーン（１０２）からの第１の水素化処理流出物の一部はまた、例えば混合などによって、水素化処理入り口流を加熱するためにも使用され得る。

上述されるように、炭化水素希釈剤は、生成物リサイクル（１０８、１２６）または化石起源もしくは再生可能起源の炭化水素であり得る。それは通常、生成物リサイクルおよび／または第１の触媒ゾーンからの第１の水素化流出物であろう。炭化水素希釈剤は、典型的には、１：１～４：１（総計の炭化水素希釈剤：総計の酸素化フィードストック）の範囲の量で添加されるであろう。上述のように、炭化水素希釈剤は、化石起源または再生可能起源であり得る。化石起源の炭化水素フィードのいくつかは、多量の窒素不純物を含み得る。化石起源のこれらの炭化水素フィードはまた、単独でまたは他の炭化水素希釈剤と混合されて、例えば生成物リサイクルおよび／または第１の触媒ゾーンからの第１の水素化流出物などの炭化水素希釈剤の一部であり得る。例えば、炭化水素希釈剤は、生成物リサイクルおよび化石炭化水素の混合物であり得る。

生成物リサイクルおよび第１の触媒ゾーンからの第１の水素化流出物は、それらが典型的には、液相に溶存している水素に依存する水素化処理反応に関連する溶存水素を含むであろうことから、使用に有利である。

水素化処理入り口流は、１００ｗｐｐｍまたはそれ以上、例えば１００～５００ｗｐｐｍなどの窒素不純物を有し、および／または、第２の触媒ゾーンからの第２の水素化処理流出物（１０６）は、１００ｗｐｐｍまたはそれ以上、例えば１００～５００ｗｐｐｍまたはそれ以上などの窒素不純物を有し得る。本発明のプロセスは、水素化処理プロセスが、水素化処理入り口流の総計の窒素不純物を低減するための過度の希釈を必要とせずに多くの窒素不純物を有する酸素化炭化水素フィードストックを変換できるという点で、有利である。これは、過度の希釈が水素化処理プロセスの酸素化炭化水素フィードストックの処理される量を低下させるであろうことから有利である。代替的に、または追加で、窒素含有量はまた、１００ｗｐｐｍまたはそれ以上、例えば１００～５００ｗｐｐｍまたはそれ以上なおの窒素不純物を有し得る第２の触媒ゾーンからの第２の水素化処理流出物（１０６）においても測定され得る。

存在しうる窒素不純物の最大量に関して。不純物として存在するどのくらい多くの窒素不純物、またはどのくらい高い不純物量が現実的に除去され得るのかについては、制限があり得る。したがって、水素化処理入り口流および／または第２の触媒ゾーンからの第２の水素化処理流出物（１０６）は、５００ｗｐｐｍ以下までの窒素不純物を有し得、すなわち水素化処理入り口流および／または第１の水素化処理反応器からの第２の水素化処理流出物（１０６）は、１００～５００ｗｐｐｍの間の窒素不純物を有し得る。

水素化処理入り口流は、第２の触媒ゾーン（１０５）の上方に備えられた第１の触媒ゾーン（１０２）を備える第１の水素化処理反応器（１０１）に、水素富化ガス（１２０）と共に導入される。

水素富化ガス（１２０）は、第１の水素化処理反応器（１０１）の第１および第２の触媒ゾーン（１０２、１０５）中で水素化脱酸素（ＨＤＯ）および水素化脱窒素（ＨＤＮ）反応を行うために必要である。水素富化ガスは、例えば、水素、水、アンモニア、および、アミンスクラビングおよび／またはメンブレン分離が続いて行われる他の軽質成分を含むガス状留分（１２３）への分離（１２２）などの、１つまたは複数の精製工程（１２２）によって精製された、プロセス（１２３、１１８）からの過剰水素などであり得る。第２の触媒ゾーン中で使用される水素富化ガスの純度は、好適には例えばアンモニアなどのいかなる反応性窒素も含まない、例えば窒素元素として測定されて、０．３ｗｐｐｍ未満の窒素しか含まない第１の触媒ゾーン（１０２）に使用される水素富化ガス、異性化反応器（１１４）の前のストリッピングに使用される水素富化ガスまたは異性化反応器（１０３）に使用される水素富化ガスの純度ほど重要ではない。典型的には、第２の触媒ゾーンのために使用される水素富化ガスは、９５ｍｏｌ％以上の純度を有することが許容されるが、９５ｍｏｌ％より低い水素純度を有することもまた可能である。補給水素もまた、水素富化ガスを形成するために混合され得、または、水素富化ガスが、すべて補給ガスから構成されてもよい。

水素化処理反応器（１０１）は、少なくとも２つの触媒ゾーン（１０２、１０５）を収容することができる容器である。本発明において、トリクルベッド反応器が好適である。トリクルベッド反応器は、水素化処理入り口流の下方への移動を含み、一方で、同流または向流様式で水素と接触される。トリクルベッド反応器の一例は、断熱トリクルベッド反応器である。

水素化処理反応器（１０１）は、第２の触媒ゾーン（１０５）の上方に配置される第１の触媒ゾーン（１０２）を含んでいる。触媒ゾーンは、最も単純な形態では、触媒粒子の固定床であり得る。触媒ゾーンは単一の固定床を含んでいてもよく、また、同じまたは異なる触媒粒子を有する複数の固定床を含んでいてもよく、または、異なる活性および／または組成の触媒粒子の多数の層であってもよい。

第１の触媒ゾーン（１０２）は、単一の固定床であってもよく、および／または、第２の触媒ゾーン（１０５）は、少なくとも３つの固定床を備え得る。

水素化処理入り口流は、水素富化ガス（１２０）と共に、第１の触媒ゾーン（１０２）および第２の触媒ゾーン（１０５）のあいだの入口で第２の触媒ゾーン（１０５）に導入される。

水素化処理入り口流は、水素富化ガス（１２０）と共に、水素化反応器の第２の触媒ゾーン（１０５）からの第２の水素化処理流出物（１０６）が主に炭化水素を含む程度まで少なくとも水素化脱酸素および水素化脱窒素を引き起こす入口の温度および圧力で、第２の触媒ゾーンに導入される。

酸素が酸素化炭化水素から除去され、それによって副産物として水を生成する、および窒素不純物が酸素化炭化水素から除去され、それによって副産物としてアンモニアを生成し、それによって主に炭化水素を含む生成物を得る程度までＨＤＯとＨＤＮを引き起こすであろう、多くの種々の入口の温度および圧力の組み合わせが存在する。

例えば、第２の触媒ゾーン（１０５）の入口の温度および圧力は、２００～４００℃および１０～１５０ｂａｒ、例えば２５０～３８０℃および２０～１２０ｂａｒ、例えば２８０～３６０℃および３０～１００ｂａｒであり得る。

第２の触媒ゾーンからの第２の水素化処理流出物（１０６）が主に炭化水素を含み、酸素化炭化水素フィードストックが≧９５％の炭化水素、好適には≧９８％の炭化水素に変換されており、酸素化炭化水素フィードストックの≦２％が存在する程度まで少なくとも水素化脱酸素および水素化脱窒素を引き起こす温度および圧力の種々の組み合わせを選択することは、当業者の通常の作業の事項である。

当業者が温度および圧力の様々な組み合わせを選択できるのと同様に、当業者であればまた、第２の触媒ゾーン（１０５）の触媒ゾーンに適切な１つまたは複数の触媒を選択することも可能であろう。

例えば、水素化処理反応器の第２の触媒ゾーンは、例えば、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｗまたはこれらの任意の組み合わせからなる群より選択される触媒などの、担体に担持された水素化金属から選択される１つまたは複数の触媒を含み得、好ましくは、第２の触媒ゾーンは、例えばアルミナ担体などの担体に担持されたＣｏＭｏ、ＮｉＭｏ、ＮｉＷ、ＣｏＮｉＭｏから選択される１つまたは複数の触媒を含む。

水素化処理反応器（１０１）は、０．５～３ｈ^-1の範囲のＷＨＳＶで、および、３５０～９００ Ｎｌ Ｈ₂／ｌフィードのＨ₂フローで操作され得る。

第２の触媒ゾーン（１０５）のためのより一般的な反応条件は、水素化処理反応器としてトリクルベッド反応器を備え得、第２の触媒ゾーンを含み、触媒ゾーンはモリブデンを含む担持された水素化触媒を含み、ここで、水素化処理は、２００～４００℃の温度で、１０～１５０ｂａｒのあいだの圧力で、水素の存在下行われ、ここでＷＨＳＶは０．５～３ｈ^-1の範囲であり、および、３００～２１００ Ｎｌ Ｈ₂／ｌフィードのＨ₂フローである。

第２の触媒ゾーンは、第２の水素化処理流出物（１０６）を生成し、これは、過剰な水素、ＨＤＯから生成された水蒸気、酸素化炭化水素フィード中のカルボン酸の脱炭酸／脱カルボニル反応から生成されたＣＯおよびＣＯ₂、およびＨ₂Ｓの形状であるガス状成分を含むであろう。最後に、ＨＤＮ反応からＮＨ₃が生成されるであろう。例えば１～１００ｐｐｍである典型的な量の窒素を含む通常のフィード、例えば２３ｐｐｍの窒素を含み得るパーム油などの水素化処理のあいだよりも、酸素化炭化水素フィードストックが３００ｗｐｐｍまたはそれ以上の窒素を含むプロセスにおいて、はるかに多くのアンモニア（ＮＨ₃）が生成されるであろう。本発明者らは、驚くべきことに、水素化処理流出物が、添加されたメークアップ水素と共にさらなる水素化処理工程に付された場合に、水素化処理流出物中のアンモニアの増加された量が特に、窒素の再取込みを引き起こすことを発見した。つまり、発明者らは、追加の水素化処理工程からのさらなる水素化処理流出物が、水素ガスを用いたストリッピング後でも２～５ｐｐｍの窒素を含んでいたことを確認したのであって、すなわち、異性化触媒と接触させる前に窒素をできるだけ完全に除去したいという要望があったとしても、窒素量を２～５ｐｐｍ未満にすることは、ストリッピング後でさえも単に不可能であった。これは、追加の水素化処理工程が、より進んだＨＤＯおよびＨＤＮ水素化処理を行い、それによって、第２の水素化処理流出物からより多くの酸素および窒素を除去するという特定の期待から、より高温で実施されたため、非常に予想外であった。さらに、仮にアンモニアが追加の水素化処理工程の条件下でアミンまたはアミドを生成するように反応したとしても、そのような窒素化合物が生成する理論的可能性があったとしても、これらの生成化合物がそれらからアンモニアを除去するように再び水素化脱窒素（ＨＤＮ）を受けたとしても、すでに生成した炭化水素はアンモニアとのいかなる反応にも不活性であるべきであることが予期されていた。ところが、驚くべきことに、追加の水素化処理工程の水素化処理条件下で消失しない窒素化合物が再び生成されることが判明した。それら化合物は、第２級アミドおよび３級アミドであった。

当技術分野で知られているように、窒素は異性化触媒を不活性化する可能性があり、そのため、異性化反応器に向かう流出物に含まれるアンモニアは、通常、ストリッピングガスでストリッピングされ、溶存アンモニアはストリッピングガスによって置換／ストリッピングされ、それによって任意の残存する窒素量は除去される。比較例１および２において本発明者らによって見出されたように、酸素化炭化水素フィードストックを水素化処理する際に、第１および第２の水素化処理工程（それぞれ、第２の触媒ゾーンおよび第１の触媒ゾーンに該当する）のあいだに分離工程が存在しないことは、異性化反応器に供給されて存在する窒素含有量をより高くさせ、その結果、－４０℃またはそれ以下の曇点を有する航空燃料カットの収率の低下を引き起こす。

図２および３の第１の水素化処理流出物中のアンモニアが第２の水素化処理反応器中に窒素の再取込みを引き起こし、および、これらの窒素化合物がまた、ＨＤＮ条件に予想外に耐性があり、異性化前のストリッピング工程における残存アンモニアの通常除去を引き起こす条件が無効であることは予想外の発見であった。このことは、本発明者らにとって驚くべきことであり、本発明者らは、第１の水素化処理反応器の後に分離段階を含ませることによって水素化処理工程を変更し、このようにすることで、水素化処理反応器の第２の触媒ゾーンからの第２の水素化処理流出物が分離段階（１０７）に付され、そこで第２の水素化処理流出物（１０６）の少なくとも一部がガス状留分（１２１）と水素化処理液（１０８）とに分離される。

分離段階（１０７）は、例えば、第２の水素化処理流出物（１０６）がガス状留分（１２１）と第２の水素化処理液（１０８）とに分離され得ることが当該技術分野において知られている１つまたは複数の高圧または低圧の分離器であり得る。分離のために水素ストリッピングを用いてもよい（図面には示さず）。分離段階は、全体的に高温分離段階であってもよく、ここで、流出物は積極的に冷却されることはない。第１の水素化処理流出物を冷却しないことは、第１の触媒ゾーンでより少ない加熱が必要とされるという観点から有益である。また、分離された第２の水素化処理液が、酸素化炭化水素フィードストックを希釈するための生成物リサイクルとして使用される場合にもまた、有益であり得る。

分離段階はまた、できるだけ多くのアンモニアが第１の水素化処理液から分離されるという観点から有益であるため、水素化処理流出物が例えば熱交換器などによって積極的に冷却される低温分離を含んでいてもよい。従って、冷却は、第２の水素化処理液（１０８）が水素化処理反応器（１０１）の第１の触媒ゾーン（１０２）の入口温度より低い温度、例えば第１の水素化処理の入口の温度よりも少なくとも１００℃低い温度を有する程度に、第２の水素化処理流出物（１０６）の分離段階のあいだ適用され得る。第１の水素化処理流出物の低温分離は、例えば、１２０～２００℃の間の温度で実施され得る。

第２の水素化処理流出物（１０６）の全量、または、第２の水素化処理流出物（１０６）の少なくとも一部分が分離され得る。例えば、第２の水素化処理流出物は、２つのストリームに分割され得、ここで、１つのストリームは、上記のように第２の水素化処理液（１０８）とガス状留分（１２１）とに分離され、および、もう一つのストリームは、分離されずに炭化水素希釈剤として使用される。もう一つのストリームは、炭化水素に加えて、過剰な水素と、アンモニアを含むすべてのガス状不純物を含み、これらは第２の触媒ゾーンに再導入されるであろう。

さらなる窒素化合物を形成するために酸素化炭化水素と反応し得、したがって第２の水素化処理流出物中に存在し得ることとなる、第２の触媒ゾーンにおけるアンモニアの蓄積を回避するため、または第２の触媒ゾーンへのさらなる量のアンモニアの添加（第２の水素化処理流出物が生成物リサイクルとして使用される場合）を回避するために、第２の水素化処理流出物（１０６）の全量が分離され得る。

分離段階（１０７）において、第２の水素化処理流出物（１０６）は、ガス状留分（１２１）と第２の水素化処理液（１０８）とに分離される。ガス状留分（１２１）は、過剰な水素、ＨＤＯから生成される水蒸気、酸素化炭化水素フィード中のカルボン酸の脱炭酸／脱カルボニル化から生成されるＣＯおよびＣＯ₂ならびにＨ₂Ｓを含むであろう。最後に、ＮＨ₃がＨＤＮ反応から生成されるであろう。第２の水素化処理液（１０８）は、≧９０ｗｔ％の炭化水素を含み、残りは例えば未反応の酸素化炭化水素などのヘテロ原子含有炭化水素であろう。水素化処理が可能な限り完全であること、すなわち、第２の水素化処理液体（１０８）が≧９５ｗｔ％の炭化水素、例えば≧９８ｗｔ％の炭化水素を含むことが望まれる。しかしながら、触媒のコーキング、および他の望ましくない副作用を引き起こす可能性のある反応条件の厳しさを増加させることなく、水素化処理入り口流を完全に水素化処理することは、常に実現可能または可能ではない。したがって、変換は、第２の水素化処理液（１０８）が≦９９ｗｔ％の炭化水素も含むように、すなわち、第２の水素化処理液（１０８）が９５～９９ｗｔ％の炭化水素を含む程度まで水素化処理入り口流が水素化処理されるようにすることもできる。

第１の水素化処理液の残りの成分は、例えば酸素化炭化水素または窒素含有炭化水素などのヘテロ原子含有炭化水素であろう。初期の窒素不純物が非常に高い場合、窒素は依然として、第１の水素化処理液中にある程度残存すると考えられ、窒素元素として測定されて、＞１ｗｐｐｍの窒素、例えば＞５ｗｐｐｍ、および１００ｗｐｐｍまでの窒素を含み得る。

例えば５～１００ｗｐｐｍの窒素不純物を含む第２の水素化処理液（１０８）、または第２の水素化処理液（１０８）の少なくとも一部は、水素富化ガス（１２０）と共に第１の触媒ゾーン（１０２）内に導入される。

水素富化ガス（１２０）は、上述されるように、第２の触媒ゾーン（１０５）中だけでなく、第１の触媒ゾーン（１０２）においても、つまり水素化脱酸素（ＨＤＯ）および水素化脱窒素（ＨＤＮ）反応を行うために必要である。水素富化ガスは、例えば、水、アンモニア、および、アミンスクラビングおよび／またはメンブレン分離が続いて行われる他の軽質成分を含むガス状留分（１２３）への分離（１２２）などの、１つまたは複数の精製工程（１２２）によって精製された、プロセス（１２３、１１８）からの過剰水素などであり得る。第２の触媒ゾーン中で使用される水素富化ガスの純度は、第１の触媒ゾーン（１０２）中で使用される水素富化ガス、異性化反応器（１１４）の前のストリッピングに使用される水素富化ガスまたは異性化反応器（１０３）に使用される水素富化ガスの純度ほど重要ではない。第１の触媒ゾーンのために使用される水素富化ガスは、典型的には９０ｍｏｌ％、しばしば９５ｍｏｌ％またはそれより高い純度を有し、および、ガス状炭化水素を含み得る。第１の水素化処理流出物中に窒素が再取込みされて生成物副流（１１２）として取り出されるリスクをできるだけ低減することを目的としているため、第１の触媒ゾーン（１０２）に用いられる水素富化ガス（１２０）は、理想的には、例えばアンモニアなどの反応性窒素をほとんど含まないまたは全く含まない。具体的には、第１の触媒ゾーン（１０２）に用いられる水素富化ガス（１２０）中の窒素含有量は、理想的には、第１の触媒ゾーン（１０２）にフィード（１２７＋１０２）を形成するために第１の水素化処理液（１０８）と混合される際に、第１の触媒ゾーン（１０２）のためのフィード（１２７＋１０２）の液相の窒素含有量における増加を引き起こさないべきである。

したがって、第１の触媒ゾーン（１０２）中で使用される水素富化ガス（１２０）は、窒素元素として測定されて、≦１０ｗｐｐｍまたはそれより低い窒素不純物、例えば≦５ｗｐｐｍなどの窒素不純物、例えば≦１ｗｐｐｍなどの窒素不純物を含み得る。

水素富化ガスは、十分な品質を有するものであれば、精製された過剰の水素ガス、いわゆる水素リサイクルでもよい。また、水素富化ガスはまた、プロセスでまだ使用されていない新鮮な水素であってもよく、および、水素リサイクルと新鮮な水素との混合物であってもよい。

当業者には理解されるように、窒素不純物に言及する場合、水素化処理または水素異性化条件下で、新しい結合を形成するために反応すると考えられ得る窒素不純物すなわち非不活性または反応性の窒素を含むことが意図される。例えば、第２の水素化処理流出物（１０６）、第１の異性化流出物などの本発明の生成物および中間体中に取り込まれる、生成物副流（１１２）または異性化流出物（１１６）として取り出され得ることが可能である窒素が、本発明による窒素不純物であると考えられる。窒素ガス（Ｎ₂）が、本発明で使用される場合に、窒素不純物という用語に該当するべきであることは意図されていない。窒素不純物は、元素分析を用いて測定され得、有機窒素、アンモニアおよびアンモニウムを含む。

上記で参照されるように、水素化処理反応器（１０１）は、第２の触媒ゾーン（１０５）の上方に配置される第１の触媒ゾーン（１０２）を備える。第１の触媒ゾーン（１０２）は、単一の固定床であり得る。

第２の水素化処理液（１０８、１２７）の少なくとも一部は、水素富化ガス（１２０）と共に、副流の液体成分が≧９９ｗｔ％の炭化水素、および、窒素元素として測定されて≦１ｗｐｐｍの窒素、好ましくは≦０．４ｗｐｐｍの窒素、例えば≦０．３ｗｐｐｍの窒素など（ＡＳＴＭ Ｄ４６２９検出）を含む程度まで少なくとも水素化脱酸素および水素化脱窒素を引き起こす入口の温度および圧力で、第１の触媒ゾーン（１０２）に導入される。

具体的には、副流（１１２）の液体成分の窒素含有量は、第２の水素化処理液（１０８）の窒素含有量より低い。

第２の水素化処理液が、第１の触媒ゾーン（１０２）内での水素化処理の前またはそのあいだに、例えば炭化水素などの任意の希釈剤で希釈されなければならない必要はなく、また意図もされていない。むしろ、第２の水素化処理液（１０８、１２７）は、第２の水素化処理反応器へのフィードとして使用される。しかしながら、第２の水素化処理液（１０８、１２７）が第２の水素化処理液（１０８、１２７）の酸素含有量よりも高い酸素含有量を有するフィードと混合されない限り、および、第１の水素化処理液が≧５ｗｐｐｍの窒素含有量を有するフィードと混合されない限り、第２の水素化処理液（１０８、１２７）を他の炭化水素フィードと混合することは可能である。

炭化水素希釈剤は、第１の触媒ゾーン中での水素化処理反応の発熱特性を制御するためには必要ではない。したがって、例えば炭化水素希釈剤のような希釈剤は、それ故、第２の水素化処理反応器中に存在していなくてもよく、すなわち、炭化水素希釈剤は、場合によっては、水素化処理反応器（１０２）の第１の触媒ゾーンに導入されない。

残存する酸素化炭化水素から酸素が除去され、それによって副産物として水を生成する、および窒素不純物が第２の水素化処理液（１０８）と比較してさらに低下され、それによって副産物としてのアンモニア、および、第２の水素化処理液（１０８）よりも低い量の窒素不純物を含む生成物副流（１１２）の液体成分を生成する程度までＨＤＯとＨＤＮを引き起こすであろう、多くの種々の入口の温度および圧力の組み合わせが存在する。

特には、第１の触媒ゾーン（１０２）における入口の温度は、水素化処理反応器（１０１）の第２の触媒ゾーン（１０５）における入口の温度よりも高い。

例えば、第１の触媒ゾーン（１０２）における入口の温度および圧力は、２５０～４５０℃および１０～１５０ｂａｒ、例えば３００～４３０℃および２０～１２０ｂａｒ、例えば３３０～４１０℃および３０～１００ｂａｒであり得る。

より進んだＨＤＯおよびＨＤＮ反応を引き起こすために、第１の触媒ゾーン（１０２）の入口の温度は、第２の触媒ゾーン（１０５）の入口の温度と比較して高い。例えば、第１の触媒ゾーン（１０２）の入口の温度は、第２の触媒ゾーン（１０５）の入口の温度よりも１０～１５℃高くてもよく、さらに高くてもよい。

酸素化炭化水素の量が、第２の触媒ゾーン（１０５）への水素化処理入り口流に比べ、第２の水素化処理液（１０８、１２７）中において著しく少ないため、発熱反応が起こりにくいという事実に起因して、これは、第１の触媒ゾーン（１０２）における温度上昇が第２の触媒ゾーン（１０５）におけるほど高くならないことを意味する。

例えば、第２の水素化処理反応器の反応器入口と反応器出口との間の温度上昇は、小さく、例えば３５℃より高くなく、または、第１の水素化処理反応器における温度上昇の５０％以下であり得る。

したがって、第２の触媒ゾーン（１０５）における水素化脱酸素および水素化脱窒素の程度は、第１の触媒ゾーン（１０２）において、第１の触媒ゾーンの入口と第１の触媒ゾーンの出口との間の温度上昇が１０℃を超えないような様式で制御され得る。これは、第１の水素化処理反応器における酸素化炭化水素フィードの十分な転化を確実なものとし、第１の水素化処理液中に例えば酸素および窒素などのヘテロ原子を有する炭化水素を少量のみ残すことによって（これは、発熱性の水素化処理反応をする物質の残存量に起因するより小さな温度上昇をもたらすであろう）制御され得る。

水素化処理反応器（１０１）中の第２の触媒ゾーン（１０５）は、水素化処理反応器（１０１）中の第１の触媒ゾーン（１０２）よりも低い水素化脱酸素活性を有し得る。

第１の触媒ゾーンにおける水素化処理活性を高めるために、上述のように、より進んだＨＤＯおよびＨＤＮ反応を得るために温度を上昇させることが可能である。第１の触媒ゾーン（１０２）が、第２の触媒ゾーン（１０５）よりも高い水素化脱酸素活性を有することを確実にすることによって、水素化処理活性を高めることもまた可能である。

触媒活性はまた、例えば両方の反応器に同じ活性を有する触媒を使用することなどによって、第１および第２の触媒ゾーン両方において同じであるように開始することもできる。時間の経過とともに第２の触媒ゾーン（１０５）は、第１の触媒ゾーン（１０２）よりも速く不活性化することになるが、これは、より不純なフィード、水素化処理入り口流が第２の触媒ゾーンに提供されるのに対し、より純粋なフィード、第２の水素化処理液（１０８、１２７）が第１の触媒ゾーン（１０２）に提供されることによる。従って、第２の触媒ゾーン（１０５）は、第１の触媒ゾーン（１０２）よりも低い水素化脱酸素活性を有し得る。触媒活性は、新鮮な触媒と比較して測定され得る。

当業者がより進んだＨＤＯおよびＨＤＮ反応を引き起こすための温度および圧力の様々な組み合わせを選択できるのと同様に、当業者であれば、第１の触媒ゾーンにおいてより進んだＨＤＯおよびＨＤＮ反応を引き起こすために適切な１つまたは複数の触媒および条件を選択することも可能であろう。

水素化処理反応器の第１の触媒ゾーンは、例えば、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｗまたはこれらの任意の組み合わせからなる群より選択される触媒などの、担体に担持された水素化金属から選択される１つまたは複数の触媒を含み得る。例えば、触媒ゾーンは、例えばアルミナ担体などの担体に担持されたＣｏＭｏ、ＮｉＭｏ、ＮｉＷ、ＣｏＮｉＭｏから選択される１つまたは複数の触媒を含み得る。触媒がＮｉ、Ｃｏ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｗまたはこれらの任意の組み合わせからなる群から選択される場合、典型的には、触媒は硫化され、および、硫黄源は、水素化処理入り口流中および／または水素富化ガス中に添加されるかまたは存在している。

水素化処理反応器の第１の触媒ゾーンは、０．５～３ｈ^-1、例えば０．５～１．５ｈ^-1の範囲のＷＨＳＶで、および、３５０～２１００ Ｎｌ Ｈ₂／ｌフィード、例えば５００～１５００ Ｎｌ Ｈ₂／ｌフィードのＨ₂フローで操作され得る。

第１の触媒ゾーンのためのより一般的な反応条件は、第１および第２の触媒ゾーンを含むトリクルベッド反応器を備え得、触媒ゾーンはモリブデンを含む担持された水素化触媒を含み、ここで、水素化処理は、２５０～４００℃の温度で、１０～１５０ｂａｒのあいだの圧力で、水素の存在下行われ、ここでＷＨＳＶは０．５～３ｈ^-1の範囲であり、および、５００～２１００ Ｎｌ Ｈ₂／ｌフィードのＨ₂フローである。

第１の触媒ゾーン（１０２）からの第１の水素化処理流出物の一部を含む生成物副流（１１２）は、第１の触媒ゾーンと第２の触媒ゾーンの間で取り出される。第１の水素化処理抽出物は、例えば、流出ガス（図１、ｇ）を第２の触媒ゾーン（１０５）へ、下流方向に通過させることが可能となるための、および、第１の水素化処理抽出物のオーバーフロー（図１、Ｉ）を第２の触媒ゾーンへ、下流方向に通過させることが可能となるための１または複数のオーバーフロー堰またはチムニーを備えるトレイに集められ得る。

液体成分および任意には気体成分を含む生成物副流（１１２）は、第１の触媒ゾーンと第２の触媒ゾーンの間で取り出され得る。副流の液体成分は、≧９９ｗｔ％の炭化水素、および、窒素元素として測定されて、≦１ｗｐｐｍの窒素、好ましくは≦０．４ｗｐｐｍの窒素、例えば≦０．３ｗｐｐｍの窒素（ＡＳＴＭ Ｄ４６２９検出）を含む。

生成物副流（１１２）は、例えば、生成物副流（１１２）を液体留分と気体留分とに分離することができるように当技術分野において知られている１つまたは複数の高圧または低圧分離器に付され得る。分離段階は、生成物副流（１１２）が積極的に冷却されない、完全な高温分離段階であってもよい。生成物副流（１１２）を冷却しないことは、異性化工程などの任意の後続の工程で必要とされる加熱がより少ないという観点から有益である。

分離段階（１１４）はストリッパーであってもよく、生成物副流（１１２）または生成物副流の液体成分中の不純物を除去するために、ガス、通常は水素を使用する。水素が通常、ストリッピングガスとして使用されるが、これは、ストリッピング段階が、不純物を除去すること、および、ある量の水素が生成物副流の液体成分（１１２）および／またはストリッピングされた液体副流（１１５）中に溶解することを確実とする（これは、これらの液が例えば第１の異性化反応器（１０３）などの例えば水素異性化段階へ運ばれた場合に有益である）ことの両方を目的として機能するためである。生成物副流の液体成分（１１２）およびストリッピングが使用される場合のストリッピングされた液体副流（１１５）の窒素含有量は、第２の水素化処理液（１０８）の窒素含有量より低い。

したがって、第１の触媒ゾーン（１０２）からの生成物副流（１１２）は、ストリッピング段階（１１４）に供されるストリッピングガス（例えば水素など）を用いてストリッピングされ、これにより、ストリッピングされた液体副流（１１５）は、窒素元素として測定されて、≦０．４ｗｐｐｍの窒素、例えば≦０．３ｗｐｐｍの窒素（ＡＳＴＭ Ｄ４６２９検出限界）を有する。

水素を使用するストリッピング段階は、上述されるように、不純物を除去すること、および、ある量の水素が液相中に溶解することを確実とするために使用することが有益である。ストリッピング段階は、液体が例えば異性化反応器（１０３）などの、例えば水素異性化段階に運ばれる場合特に有用である。

生成物副流（１１２）は、それ自体の生成物として使用されてもよく、または、異性化によってさらに精製されてもよい。

生成物副流（１１２）は、少なくとも１つの触媒ゾーンを備える異性化反応器（１０３）内で異性化され得、ここで、生成物副流（１１２）および水素富化ガス（１２０）（ここで水素富化ガスは窒素元素として測定されて≦１ｐｐｍ（ｍｏｌ／ｍｏｌ）窒素を含み得る）は、異性化流出物（１１６）を生成するための少なくとも水素異性化を引き起こす入口の温度および圧力で触媒ゾーンに導入される。

水素富化ガス（１２０）はまた、上述されるように、第１および第２の触媒ゾーン（１０２、１０５）において水素化脱酸素（ＨＤＯ）および水素化脱窒素（ＨＤＮ）を行うために必要であるが、異性化反応器（１０３）においても同様である。

水素富化ガスは、例えば、水、アンモニア、および、アミンスクラビングおよび／またはメンブレン分離が続いて行われる他の軽質成分を含むガス状留分（１２３）への分離（１２２）などの、１つまたは複数の精製工程（１２２）によって精製された、プロセス（１２３、１１８）からの過剰水素などであり得る。第１の異性化反応器中で使用される水素富化ガスの純度は、重要である。

異性化反応器のために使用される水素富化ガスは、９５％またはそれ以上の純度を有する。これは、異性化反応器の触媒ゾーンを被毒するリスクを可能な限り低減することを意図しているためである。したがって、第２の水素化処理反応器のために使用される水素富化ガスは、理想的には、例えばアンモニアなど反応性窒素をほとんど含まないか、または全く含まない。

したがって、異性化反応器（１０３）で使用される水素富化ガス（１２０）は、窒素元素として測定されて、≦１ｐｐｍ（ｍｏｌ／ｍｏｌ）の窒素不純物を含み得る。水素富化ガスは、十分な品質を有するものであれば、精製された過剰の水素ガス、いわゆる水素リサイクルでもよい。また、水素富化ガスはまた、プロセスでまだ使用されていない新鮮な水素であってもよく、および、水素リサイクルと新鮮な水素との混合物であってもよい。

当業者には理解されるように、窒素不純物に言及する場合、水素化処理またはヒドロ異性化条件下で、新しい結合を形成するために反応すると考えられる窒素不純物すなわち非不活性または反応性の窒素を含むことが意図される。例えば、第１もしくは第２の水素化処理流出物、または第１の異性化流出物などの本発明の生成物および中間体中に取り込まれることが可能である窒素が、本発明による窒素不純物であると考えられる。窒素ガス（Ｎ₂）が、本発明で使用される場合に、窒素不純物という用語に該当するべきであることは意図されていない。異性化触媒が貴金属触媒、例えばＰｄまたはＰｔを含む触媒などを含む場合、硫黄不純物は存在するとしても、少ないべきである。

異性化反応器（１０３）は、少なくとも１つの触媒ゾーンを収容することができる容器である。本発明では、トリクルベッド反応器が好適である。トリクルベッド反応器は、フィードの下方への移動を含み、一方で、同流または向流様式で水素と接触される。トリクルベッド反応器の例としては、断熱トリクルベッド反応器が挙げられる。

異性化反応器（１０３）は、少なくとも１つの触媒ゾーンを含んでいる。そのような触媒ゾーンは、最も単純な形態では、触媒粒子の固定床であり得る。また、同じまたは異なる触媒粒子を有する複数の固定床であってもよく、または異なる活性および／または組成の触媒粒子の多数の層であってもよい。第１の異性化反応器（１０３）は、単一の触媒ゾーンを備え得る。

副流の液体成分（１１２）またはストリッピングされた副流（１１５）は、水素富化ガス（１２０）と共に、異性化反応器（１０３）に導入され、そこで、異性化流出物（１１６）の液体部分（１１９）が≧３０ｗｔ％の分岐の炭化水素、および／または、第２の水素化処理液と比較して分岐の炭化水素の≧３０ｗｔ％の増加を含む程度まで、異性化流出物（１１６）を生成するための少なくとも水素化脱窒素を引き起こす入口の温度および圧力で、少なくとも１つの触媒ゾーンと接触される。

異性化された流出物（１１６）が≧３０ｗｔ％の分岐の炭化水素、および／または、第２の水素化処理液と比較して分岐の炭化水素の≧３０ｗｔ％の増加を含む程度まで水素化脱窒素を引き起こすであろう、多くの種々の入口の温度および圧力の組み合わせが存在する。

例えば、異性化反応器（１０３）の入口の温度および圧力は、２５０～４０℃および２０～５０ｂａｒ、例えば２８０～３７０℃および２０～５０ｂａｒ、または２９５～３７０℃および２５～５０ｂａｒであり得る。

第１の異性化反応器の触媒ゾーンは、担体に担持されたVIII族金属を含む１つまたは複数の触媒を含み得、ここで担体は、シリカ、アルミナ、クレー、酸化チタン、酸化ホウ素、ジルコニアから選択され得、これらは単独でまたは混合物として使用され得る。例えば、担体は、シリカおよび／またはアルミナであり得る。さらに、１つまたは複数の触媒は、例えばゼオライトなどのモレキュラーシーブをさらに含んでいてもよい。

異性化反応器（１０３）は、０．５～３ｈ^-1の範囲のＷＨＳＶで、および、１５０～８００ Ｎｌ Ｈ₂／ｌフィードのＨ₂フローで、例えば、０．５～１ｈ^-1のＷＨＳＶ、３００～５００ Ｎｌ Ｈ₂／ｌフィードのＨ₂フローで操作され得る。

当業者には、第１の異性化流出物（１１６）の液体部分（１１９）が、生成物副流の液体成分（１１２）と比較してより多くの分岐の炭化水素を含む水素化異性化の程度を得るために、上記の条件を操作する方法は周知である。例えば、第１の異性化流出物（１１６）の液体部分（１１９）が、≧３０ｗｔ％の分岐の炭化水素、および／または、第２の水素化処理液と比較して分岐の炭化水素の≧３０ｗｔ％の増加を含む程度までである。

第１の異性化液はまた、ｎ－パラフィンに対するイソパラフィンの比が１より大きい、例えば５～３０など、または１５～３０となる程度に異性化され得る。

異性化の程度は、フィードおよび生成物のあいだ、ここでは生成物副流の液体成分（１１２）と異性化処理流出物の液体部分（１１９）とのあいだの曇点の差としてしばしば測定され、ここで、曇点における低下の大きさは、いかに広範囲の水素異性化が行われたかを決定する。従って、第１の異性化液は、第２の水素化処理液から第１の異性化流出物の液体部分（１１９）までの曇点の低下が１０℃またはそれ以上となる程度にまで異性化され得る。

通常、曇点は低いほど良いと考えられており、これは、このことが良好なコールドフロー特性をもたらすであろうためである。しかしながら、水素異性化条件下では、ある程度の水素化分解も発生する。当該技術分野では、通常、水素化分解が進みすぎ、液体生成物の損失が曇点低下の可能性を上回ることになる点がある。触媒およびそれに含まれる任意の不純物、ならびに水素異性化の条件は、水素異性化および水素化分解の程度に影響を与え得るパラメータのうちの１つである。比較例１および実施例１を参照すると、異性化反応器に入る前の窒素不純物は、実施例1（≦０．３ｗｐｐｍ）と比較して、比較例1（０．６～２．９ｗｐｐｍ）ではるかに高いことがわかる。異性化反応器への窒素含有量のこのような差は、特定燃料カットの収率に影響を与えるだけでなく、そのコールドフロー特性にも顕著な影響を与える。

例えば、副流は、ストリッピング段階（１１４）に供され、ここで、副流（１１６）は、窒素元素として測定されて、ストリッピングされた副流（１１５）が≦０．４ｗｐｐｍ窒素、例えば≦０．３ｗｐｐｍなどの窒素（ＡＳＴＭ Ｄ４６２９検出）、および、副流（１１６）と比較して低い窒素量を有するようにストリッピングガス（Ｈ₂）でストリッピングされ；副流（１１５）および窒素元素として測定されて、例えば≦０．３ｗｐｐｍの窒素（ＡＳＴＭ Ｄ４６２９検出）を有するストリッピングされた水素富化ガス（１２０）が、第１の異性化流出物（１１６）を生成するために少なくとも水素異性化を引き起こす温度および圧力で触媒ゾーンに導入される、少なくとも一つの触媒ゾーンを備える異性化反応器（１０３）中でストリッピングされた副流（１１５）を異性化するステップに供され；異性化反応器（１０３）からの異性化流出物が分離段階に供され、そこで異性化流出物がガス状留分と異性化液体とに分離され、第１の異性化液体が≧３０ｗｔ％の分岐の炭化水素、および／または、ストリッピングされた副流（１１５）と比較して分岐の炭化水素の≧３０ｗｔ％の増加を含む。

異性化ステップのためのより一般的な反応条件は、異性化反応器として触媒ゾーンを含むトリクルベッド反応器を備え得、触媒ゾーンは、ＷまたはＰｔまたはＰｄ、およびゼオライトを含む担持された水素化触媒を含み、ここで、水素異性化は、第１の異性化流出物の第２の水素化処理液から液体部分（１１９）までの曇点における低下が１０℃またはそれ以上に低下される程度となるように、水素の存在下で、２９５～３７０℃の温度で、２０～５０ｂａｒのあいだの圧力で行われ、ここでＷＨＳＶは０．５～１．５ｈ^-1の範囲であり、および、１５０～８００ Ｎｌ Ｈ₂／ｌフィードのＨ₂フローである。

異性化反応器（１０３）からの異性化流出物（１１６）は、分離段階（１１７）に供され、ここで異性化流出物（１１６）は、ガス状留分（１１８）との異性化液（１１９）とに分離される。分離段階（１１７）は、例えば、異性化流出物（１１６）をガス状留分（１１８）と第１の異性化液（１１９）とに分離できることが当業者に知られている、１または複数の高圧または低圧の分離器であってよい。分離段階（１１７）はまた、蒸留であり得るが、通常、蒸留の前にガス状留分を液体留分から分離することが有益である。

上述されるように、第１の異性化液は、≧３０ｗｔ％の分岐の炭化水素を含む、および／または第２の水素化処理液と比較して≧３０ｗｔ％分岐の炭化水素を増加させる。

異性化流出物（１１６）または異性化液（１１９）は、１つまたは複数の製品留分を製造するために蒸留段階に付され得る。このような分別蒸留は、当該技術分野において周知である。

特に、本発明のプロセスは、特定の条件が高品質の航空燃料の大きな留分をもたらすことが驚くべきことに見出されたため有益である（実施例１を参照のこと）。航空燃料留分は、Ｃ８～Ｃ１６の炭化水素を含み、特に、航空燃料の大部分はＣ９～Ｃ１２の炭化水素を含む。航空燃料留分はまた、例えば１５０～２５０℃の間の蒸留範囲を有するものとしてなど、蒸留範囲によって特徴付けられ得る。

異性化液体は、－２５℃以下、例えば－３０℃以下、例えば－４０℃以下、例えば－４７℃以下などの曇点を有する少なくとも航空燃料に分離され得る。

図１は、水素富化ガス（１２０）および生成物リサイクルの形状である炭化水素希釈剤（１２６）と混合された酸素化炭化水素フィードストック（１０４）を、第２の触媒ゾーン（１０５）の上流に第１の触媒ゾーン（１０２）を備える水素化処理反応器（１０１）の第２の触媒ゾーン（１０５）へ供給することを記載している。第２の水素化処理流出物（１０６）は、分離器（１０７）においてガス状留分（１２１）と第２の水素化処理液（１０８）とに分離される。ガス状留分（１２１）は、分離器（１２２）において、ガス状留分（１２３）、水富化留分（１２５）、および炭化水素富化留分（１２４）に、より低い温度で再びフラッシングされ得る。第１の水素化処理液（１０８）は、含まれる第１の触媒ゾーン（１０２）のためのフィード（１１０）を形成するために、加熱され（１０９、１１１）および再圧縮（１１０）され、および水素富化ガス（１２０）と混合され得、ここで、水素化脱酸素および水素化脱窒素が、第１の水素化処理流出物を得るために引き起こされて、ここから生成物副流（１１２）が取り出され得る。生成物副流（１１２）は、ストリッパー（１１４）において、ストリッピングされた水素化処理液（１１５）を形成するために、水素富化ガス（１２０）と共にストリッピングされ、これは水素富化ガス（１２０）と混合され、および、少なくとも一つの触媒ゾーンを備える異性化反応器（１０３）へ供給され、ここで、ストリッピングされた水素化処理液（１１５）は、異性化流出物（１１６）を得るために異性化され、これは、分離器（１１７）において、ガス状留分（１１８）と異性化処理液（１１９）とに分離される。この特定の配置は、第１の触媒ゾーンでのポリシングのために新鮮な水素を効率的に使用して、溶存水素に富むポリシングされた炭化水素製品を提供し、ここで、このような製品の一部（図１、Ｉ（液体オーバーフロー））および過剰な水素ガス（図１、ｇ）は、第２の触媒ゾーンでの下流の水素化処理において炭化水素希釈剤およびメークアップ水素として使用され得、および／または、ポリシング床と水素化処理床のあいだで生成物副流（１１２）として取り出され得、および異性化反応器内で異性化され得る。

図２は、比較例１および表７で参照された比較例のための反応器セットアップである。図１と類似しているが、第２の水素化処理反応器が省かれている。図２は、水素富化ガス（２２０）および炭化水素希釈剤（２２６）と混合された酸素化炭化水素フィードストック（２０４）を、少なくとも１つの触媒ゾーン（２０５）を備える第１の水素化処理反応器（２０１）に供給することを記載している。第１の水素化処理流出物（２０６）は、分離器（２０７）において、ガス状留分（２２１）と第１の水素化処理液（２０８）とに分離される。ガス状留分（２２１）は、分離機（２２２）において、ガス状留分（２２３）、水富化留分（２２５）、および炭化水素富化留分（２２４）に、より低い温度で再びフラッシングされ得る。第１の水素化処理液（２０８）は、ストリッピングされた水素化処理液（２１５）を形成するために、ストリッパー（２１４）において、水素富化ガス（２２０）と共にストリッピングされ、これは水素富化ガス（２２０）と混合され、および、少なくとも一つの触媒ゾーンを備える第１の異性化反応器（２０３）へ供給され、ここで、ストリッピングされた水素化処理液（２１５）は、第１の異性化処理流出物（２１６）を得るために異性化され、これは、分離器（２１７）において、ガス状留分（２１８）と第１の異性化処理液（２１９）とに分離される。

図３は、比較例２および表７で参照された比較例のための反応器セットアップである。図１と類似しているが、第１および第２の水素化処理反応器のあいだの分離ステップを含まない。図３は、水素富化ガス（３２０）および生成物リサイクルの形状である炭化水素希釈剤（３２６）と混合された酸素化炭化水素フィードストック（３０４）を、少なくとも１つの触媒ゾーン（３０５）を備える第１の水素化処理反応器（３０１）へ供給することを記載している。第１の水素化処理流出物（３０６）は、少なくとも１つの触媒ゾーンを備える第２の水素化処理反応器（３０２）のためのフィードを形成するために、水素富化ガス（３２０）と混合され、ここで、水素化脱酸素および水素化脱窒素が、第２の水素化処理流出物（３３０）を得るために引き起こされて、これは分離器（３０７）においてガス状留分（３２１）と第2の水素化処理液（３１２）とに分離される。ガス状留分（３２１）は、分離器（３２２）において、ガス状留分（３２３）、水富化留分（３２５）、および炭化水素富化留分（３２４）に、より低い温度で再びフラッシングされ得る。第２の水素化処理液（３１２）は、ストリッパー（３１４）において、ストリッピングされた水素化処理液（３１５）を形成するために、水素富化ガス（３２０）と共にストリップされ、これは、水素富化ガス（３２０）と混合されて、および、少なくとも一つの触媒ゾーンを備える第１の異性化反応器（３０３）に供給され、ここで、ストリッピングされた水素化処理液（３１５）は、第１の異性化流出物（３１６）を得るために異性化され、これは、分離器（３１７）において、ガス状留分（３１８）と第１の異性化処理液（３１９）とに分離される。

本発明の実施形態を説明する際、すべての可能な実施形態の組み合わせおよび順列が、明示的に説明されているわけではない。しかし、ある手段が相互に異なる従属請求項に記載されているか、または異なる実施形態に記載されているという単なる事実は、これらの手段の組み合わせが有利に使用できないことを示すものではない。本発明は、記載された実施形態のすべての可能な組み合わせおよび順列を想定している。

本明細書における用語「含む（comprising）」、「含む（comprise）」および「含む（comprises）」は、あらゆる例において、それぞれ用語「からなる（consisting of）」、「からなる（consist of）」および「からなる（consists of）」と任意に置換可能であることが発明者により意図されている。

実施例１
牛脂、豚脂、および鶏脂を含む動物性脂肪廃棄物由来の低品質の廃棄物が、再生可能燃料プロセスのためのフィードストックとして使用された。このフィードストックは、水素化処理プロセスにそれを導く前に、漂白による前処理を用いて精製された。表１は、ＩＳＯ １５３０４Ｍに従ってＧＣにより測定された、前処理前に使用された低品質の動物性脂肪フィードストックの炭素数分布を示している。

フィードストックは、水素化処理プロセスのためのフィードストックとしてそれを使用する前に漂白によって前処理され、これにより、総計の窒素元素として算出される窒素量は、１０００ｗ－ｐｐｍに減少され、これは、水素化処理プロセスにそれが入る際のフィードストリームの窒素不純物レベルとなった（表４の「ＨＤＯへのフィード中の窒素量」の項目を参照のこと）。

水素化処理によって処理されるフィードストックは、無機および有機の窒素不純物を含み、有機不純物は主に例えばアミドおよびアミンなどの有機窒素化合物の形状であり、これらはフィードから分析された。例えばＣａ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｚｎなどの金属不純物の量は、使用した特定のＩＣＰ規格の分析検出精度限界である１ｗ－ｐｐｍ未満であった。同様に、ＡｌおよびＮａの不純物量は、２ｗ－ｐｐｍ未満、ならびに、Ｐの含有量は、１ｗ－ｐｐｍ未満であった。

様々な窒素量を有する本発明を示すために、この前処理されたフィードストックを、１８ｗ－ｐｐｍの窒素含有量を有するパーム油と混合し、本実施例のラン１～６で使用する６種類の窒素濃度（２５、７５、１５０、３００、５００、１０００ｗ－ｐｐｍ）を得た。

様々な量の窒素を含む前処理されたフィードストック（新鮮なフィード）が、図第１による水素化脱窒素（ＨＤＯ）固定床トリクルベッド反応器セットアップへと、６回の別々のランとして導入された。ＨＤＯ反応は、アルミナ担体上に担持された４５０００ｋｇの硫化ＮｉＭｏを含む触媒床（１５０）の存在下（新鮮なＨＤＯ触媒活性と比較した相対的なＨＤＯ活性を有する新鮮な触媒）、５０ｂａｒの圧力下で、４８０００ｋｇ／ｈのＨＤＯ反応器への供給速度、触媒床（１５０）のための１．１ｈ^-1である総計の供給速度ＷＨＳＶ、約５００ Ｎｌ Ｈ₂／ｌフィードのＨ₂フローで、および、ＨＤＯ反応器入口で測定された約３０９℃の反応温度（Ｔ_IN）、ＨＤＯ反応器出口での約３４０℃の温度（Ｔ_OUT）で行われた。反応器への新鮮な水素フィードは、２８７００ｍ³／ｈ（ＮＴＰ）であり、および、低品質の動物性脂肪廃棄物のフィード量は、５７ｍ³／ｈであった。液状のＨＤＯ生成物は希釈剤（１２６）としてリサイクルされ、および、生成物リサイクル量の新鮮なフィードに対する比は約６：１であった。

ＨＤＯ反応器からの流出物は、ＨＤＯ床の上流に位置されているポリシング床（１０２）に供給される前に、高温分離器内で液相と気相とへの分離に付された。ポリシング床は、ＨＤＯ床と同じアルミナ担体上に担持された硫化ＮｉＭｏ触媒（新鮮なＨＤＯ触媒活性と比較した相対的なＨＤＯ活性を有する新鮮な触媒）を含む固定床であり、ここで、触媒材料の量は１５０００ｋｇであった。ポリシング床は、５０ｂａｒの圧力下で、総計の液体フィードを基に算出されて約８．２ｈ^-1である供給速度ＷＨＳＶを有し、および、ポリシング床入口の温度（Ｔ_IN）は約３４０℃、すなわちＨＤＯ入口の温度より３１℃高い温度であった。使用された水素量は、ＨＤＯ反応器触媒床中で使用された水素量の約２５ｖｏｌ－％であった。

表４は、上述したように、図１に示されるセットアップを用いた試験ランの結果を示すものであり、ここで、組み合われたＨＤＯ反応器はおよびポリシング床が使用され、ここで、窒素含有化合物を含むガス状副生成物が２つの床の間で除去される。表４から明らかなように、新鮮なフィードの非常に高い窒素含有量にもかかわらず、ポリシング工程後の窒素含有量は低く保たれ得る。低い窒素量は様々な理由で製品に望ましく、特に低い窒素量は異性化反応に影響を与え、これによって異性化前に高い窒素量を有する生成物と比較して、同一の異性化条件下でより優れたコールドフロー特性を引き起こす（データは示さず）。

窒素含有量は、プロセス条件を変更することにより、特にポリシング床の処理温度を上昇させることよって、≦０．４ｗ－ｐｐｍまで減少させることができる。最終的な窒素不純物は、すべてのラン（１～６）において≦０．３ｗ－ｐｐｍであった。ＨＤＯ床の温度を上げることは、典型的には、最終的な異性化生成物における低温特性の劣化を引き起こす制御不能な反応を導く。水素化脱窒素およびポリシングの後、最終的な液体パラフィン流出物が異性化反応器内で水素異性化された。異性化は、固定床トリクルベッド反応器において、Ｐｔ－ＳＡＰＯ触媒の存在下、４０ｂａｒの圧力下、１．５ｈ^-1のＷＨＳＶで、および３２８℃の反応温度で行われた。水素／フィード比は、フィード１リットルあたり３００ノルマリットルのＨ₂であった。すべての実験における非常に低い窒素含有量は、優れた低温特性をもつ生成物を与えた。異性化および蒸留による分離後、１８５～２０５のＴ１０（℃）カットオフ温度、２７０～２９５℃のＴ９０（℃）カットオフ温度、および２７５～３００℃の最終沸点（℃）を有する航空燃料カットが得られ、これは、ＡＳＴＭ Ｄ７５６６（２０１６）、Ａｎｎｅｘ Ａ２仕様を満たし、７７２ｋｇ／ｍ³未満の密度（ＡＳＴＭ ４０５２（２０１８）にしたがって測定された）および－４０℃未満（ＩＰ５２９にしたがって測定された）の凝固点（ＩＰ５２９にしたがって測定された）有していた。約６０ｗｔ－％の優れた収率で得られた航空燃料成分は、さらに、－３０℃より低い濁点（ＡＳＴＭ Ｄ５７７１（２０１７）にしたがって測定された）を有する。

比較例１
望ましくない酸素および窒素不純物を効率的に除去するための代替として、図２による反応器セットアップが試験された。図２のセットアップでは、実施例１と同じフィード組成物が適用され、および、この反応器セットアップでは、ＨＤＯ反応器の下流のポリシング床（１０２）がなかったということを除き、実施例１で使用された操作条件と実質的に同じ操作条件（温度、圧力、触媒など）が使用された。この例ではむしろ、新鮮な触媒の全触媒量（６００００ｋｇ）は、単一のＨＤＯ反応器内にあった。ＨＤＯ反応は、５０ｂａｒの圧力、４８０００ｋｇ／ｈのＨＤＯ反応器への供給速度、０．８ｈ^-1である総計の供給速度ＷＨＳＶ、約５９０ Ｎｌ Ｈ₂／ｌフィードのＨ₂フローで、および、ＨＤＯ反応器入口で測定された約３０８℃の反応温度（Ｔ_IN）、ＨＤＯ反応器出口での約３４０℃の温度（Ｔ_OUT）で行われた。反応器への新鮮な水素フィードは、３３４００ｍ³／ｈ（ＮＴＰ）であり、および、低品質の動物性脂肪廃棄物のフィード量は、５７ｍ³／ｈであった。液状のＨＤＯ生成物は希釈剤としてリサイクルされ、および、生成物リサイクル量の新鮮なフィードに対する比は約６：１であった。

表５は、図２に示されている単一のＨＤＯ反応器でのランの結果を示しており、ここで、窒素含有化合物を含むガス状副生成物は、ＨＤＯ反応器の後、液体パラフィン流出物を異性化段階に投入する前に除去されている。

表５から分かるように、全てのラン（７～１２）の異性化反応器前の窒素含有量は、実施例１における窒素含有量と比較して高かった。比較例１では、実施例１と比較して同じ量の触媒が使用されたが、本例では単一の反応器内部にあった。この比較は、単一の反応器は、触媒量を２つの別々の反応器に分割し、および、これら２つの反応器のあいだで気相を除去する場合と同様には、効率的な様式で窒素を除去することができないことを示している。

フィード中の窒素含有量の増加は、必然的に、異性化に対する最終の液体パラフィン流出物ストリーム中の窒素の増加をもたらし、その結果、異性化後の分留から回収される航空燃料成分の低温特性および収率の低下をもたらした。窒素の初期含有量が１０００ｐｐｍであったラン１２では、約－１０℃の濁点が、５ｗｔ－％の航空燃料の収率と共に得られた。

比較例２
図３によって示される反応セットアップは、直列の２つのＨＤＯ反応器が使用され、および第１のＨＤＯ反応器（３０１）の下流の第２のＨＤＯ反応器（３０２）へとフィード（３０６）を投入する前に、第１のＨＤＯ反応器の後のガス除去がないことを除いて、他の点では実施例１と同様である。図１のポリシング床と同様の触媒床が、第２のＨＤＯ反応器（３０２）の内部に設置された。第１のＨＤＯ反応器からの液体パラフィン流出物（３０６）は、第２のＨＤＯ反応器に直接、すなわち液体パラフィン流出物を第２のＨＤＯ反応器に投入する前に第１のＨＤＯ反応器の後で窒素含有化合物を含むガス状副生成物を除去することなく、導かれた。第２のＨＤＯ反応器（３０２）の後で得られた最終的な液体パラフィン流出物ストリーム（３１２）は、ガス状不純物を除去するためにストリッパー（３１４）へと導かれ、およびその後、異性化反応器へと導かれた。触媒および反応条件は、実施例１と同じであった。

この反応器設定は、特許文献１に記載されている先行技術の反応器セットアップと同様であった。

表６からわかるように、全てのラン（１３～１８）の窒素含有量は、実施例１の窒素含有量と比較して、はるかに高い窒素含有量を導いた。

図３によるセットアップは、初期フィード中のより低い量の窒素含有量、例えば約２５ｐｐｍまたはそれ以下などの窒素含有量では、より低い量である窒素不純物を低減することができることが分かった。しかしながら、新鮮なフィード中の窒素量が１５０ｗｐｐｍまたはそれ以上に増加されると、ＨＤＯおよびポリシングの後に残存する窒素は、０．８ｐｐｍ、またはそれ以上の値まで増加した。異性化における窒素量の増加は、異性化後の分留から回収される航空燃料成分の低下した低温特性および収率を結果としてもたらし、窒素の初期含有量が１０００ｐｐｍであったラン１８では、約－１５℃の濁点が、１０ｗｔ－％の航空燃料の収率と共に得られた。

Claims (23)

1. 窒素元素として測定されて１０ｗｐｐｍまたはそれ以上の窒素不純物を有する、酸素化炭化水素フィードストックから炭化水素を調製するためのプロセスであって、
   第２の触媒ゾーン（１０５）の上方に配置された第１の触媒ゾーン（１０２）を備える水素化処理反応器（１０１）であって、ここで、酸素化炭化水素フィードストック（１０４）、水素富化ガス（１２０）、および任意には生成物リサイクル希釈剤（１０８、１２６）を含む水素化処理入り口流が、前記第１の触媒ゾーン（１０２）と前記第２の触媒ゾーン（１０５）とのあいだの入口で前記第２の触媒ゾーン（１０５）へ導入され、それは前記第１の触媒ゾーンからの第１の水素化処理流出物の一部と混合され、前記第１の水素化処理流出物の一部は、溶存水素を含む液体炭化水素を含み、前記第２の触媒ゾーンは、前記水素化処理反応器の第２の触媒ゾーン（１０５）からの第２の水素化処理流出物（１０６）が主に炭化水素を含む程度まで少なくとも水素脱酸素および水素脱窒を引き起こす温度および圧力で操作され、およびここで、前記酸素化炭化水素フィードストックが≧９５％の炭化水素に変換される水素化処理反応器（１０１）：
   前記水素化処理反応器の前記第２の触媒ゾーンからの第２の水素化処理流出物が、前記第２の水素化処理流出物（１０６）の少なくとも一部がガス状留分（１２１）と第２の水素化処理液（１０８）とに分離され、前記第２の水素化処理液（１０８）が≧９５ｗｔ％の炭化水素と＞１ｗｐｐｍの窒素とを含む分離段階（１０７）に付され；
   前記第２の水素化処理液（１０８）の少なくとも一部および水素富化ガス（１２０）が、前記水素化処理反応器の前記第２の触媒ゾーンにおける入口の温度よりも高い入口の温度で、および、水素化脱酸素および水素化脱窒素を引き起こす圧力で、前記水素化処理反応器（１０１）内の第１の触媒ゾーン（１０２）に導入され；
   前記第１の触媒ゾーン（１０２）からの前記第１の水素化処理流出物の一部を含む生成物副流（１１２）が、前記第１の触媒ゾーンと前記第２の触媒ゾーンのあいだで取り出され、前記生成物副流（１１２）は液体成分およびガス状成分を含み、および前記生成物副流の液体成分は、≧９９ｗｔ％の炭化水素、および、窒素元素として測定されて、≦１ｗｐｐｍの窒素を含み；
   任意には、少なくとも１つの触媒ゾーンを含む異性化反応器（１０３）内で前記生成物副流を異性化することを含み、ここで前記生成物副流（１１２）と窒素元素として測定されて≦１ｐｐｍ（ｍｏｌ／ｍｏｌ）の窒素を含む水素富化ガス（１２０）とが、異性化流出物（１１６）を生成するための少なくとも水素異性化を引き起こす入口の温度および圧力で触媒ゾーンに導入され；
   前記異性化反応器からの異性化流出物が、分離段階（１１７）に付され、ここで、異性化流出物（１１６）はガス状留分（１１８）および異性化液（１１９）に分離され、ここで前記異性化液は、≧３０ｗｔ％の分岐の炭化水素、および／または、前記第２の水素化処理液（１０８）と比較して≧３０ｗｔ％の分岐の炭化水素の増加を含み；
   ここで、第１の触媒ゾーン（１０２）からの第１の水素化処理流出物の一部が水素化処理入り口流を加熱し；および
   前記第２の触媒ゾーン（１０５）の入口の温度および圧力が、２００～４００℃および１０～１５０ｂａｒであり、かつ
   前記第１の触媒ゾーン（１０２）の入口の温度および圧力が、２５０～４５０℃および１０～１５０ｂａｒである
   ことを含み、
   炭化水素希釈剤および新鮮な酸素化炭化水素フィードストックが、前記水素化処理反応器の前記第１の触媒ゾーン（１０２）に導入されない、プロセス。
2. 前記生成物副流は、ストリッピング段階（１１４）に付され、ここで、前記生成物副流（１１２）は、ストリッピングされた生成物副流（１１５）が、窒素元素として測定されて≦０．４ｗｐｐｍの窒素を有するように、および、前記生成物副流（１１２）と比較して低い窒素量を有するように、ストリッピングガス（Ｈ₂）を用いてストリッピングされ；
   前記ストリッピングされた生成物副流（１１５）を、少なくとも１つの触媒ゾーンを含む第１の異性化反応器（１０３）において異性化する工程であって、ここで、前記ストリッピングされた生成物副流（１１５）および窒素元素として測定されて≦１ｐｐｍ（ｍｏｌ／ｍｏｌ）の窒素を有する水素富化ガス（１２０）が、第１の異性化流出物（１１６）を生成するために、少なくとも水素化脱窒素を引き起こす温度および圧力で触媒ゾーンに導入され；
   前記第１の異性化反応器（１０３）からの異性化流出物が、分離段階（１１７）に供され、ここで、異性化流出物は、ガス状留分および異性化液体に分離され、ここで前記異性化液体は、≧３０ｗｔ％の分岐の炭化水素を含む
   請求項１記載のプロセス。
3. 前記異性化液が、－４０℃以下の凝固点を有する少なくとも航空燃料に分離される請求項１または２記載のプロセス。
4. 冷却が、前記第２の水素化処理流出物（１０６）の前記分離段階のあいだに、前記第２の水素化処理液（１０８）が前記水素化処理反応器の第１の触媒ゾーンの入口の温度よりも低い温度を有する程度に適用される請求項１～３のいずれか１項に記載のプロセス。
5. 前記第２の触媒ゾーン（１０５）における水素化脱酸素および水素化脱窒素の程度が、前記第１の触媒ゾーン（１０２）において、反応器入口と反応器出口との間の温度上昇が１０℃を超えないような様式で制御される請求項１～４のいずれか１項に記載のプロセス。
6. 前記水素化処理反応器（１０１）内の前記第２の触媒ゾーン（１０５）が、前記水素化処理反応器（１０１）内の前記第１の触媒ゾーン（１０２）よりも低い水素化脱酸素活性を有する請求項１～５のいずれか１項に記載のプロセス。
7. 前記第１の触媒ゾーン（１０２）内で使用される水素富化ガス（１２０）が、窒素元素として測定されて、≦５ｗｐｐｍの窒素不純物を含む請求項１～６のいずれか１項に記載のプロセス。
8. 前記第２の触媒ゾーン（１０５）の入口の温度および圧力が、２５０～３８０℃および２０～１２０ｂａｒである請求項１～７のいずれか１項に記載のプロセス。
9. 前記水素化処理反応器の第２の触媒ゾーンが、担体に担持された水素化金属から選択される１つまたは複数の触媒を含む請求項１～８のいずれか１項に記載のプロセス。
10. 前記水素化処理反応器（１０１）が、０．５～３ｈ^-1の範囲のＷＨＳＶで、および、３５０～９００ Ｎｌ Ｈ₂／ｌフィードのＨ₂フローで操作される請求項１～９のいずれか１項に記載のプロセス。
11. 前記第１の触媒ゾーン（１０２）の入口の温度および圧力が、３００～４３０℃および２０～１２０ｂａｒである請求項１～１０のいずれか１項に記載のプロセス。
12. 前記水素化処理反応器の第１の触媒ゾーンが、担体に担持された水素化金属から選択される１つまたは複数の触媒を含む請求項１～１１のいずれか１項に記載のプロセス。
13. 前記異性化反応器（１０３）の入口の温度および圧力が、２８０～３７０℃および２０～５０ｂａｒである請求項１～１２のいずれか１項に記載のプロセス。
14. 前記異性化反応器の前記触媒ゾーンが、担体に担持されたVIII族金属を含む１つまたは複数の触媒を含み、ここで担体は、シリカ、アルミナ、クレー、酸化チタン、酸化ホウ素、ジルコニアから選択され、これらは単独でまたは混合物として使用され得る請求項１～１３のいずれか１項に記載のプロセス。
15. 前記１つまたは複数の触媒が、モレキュラーシーブをさらに含む請求項１４記載のプロセス。
16. 前記異性化反応器（１０３）が、０．５～１ｈ^-1の範囲のＷＨＳＶで、および、３００～５００ Ｎｌ Ｈ₂／ｌフィードのＨ₂フローで操作される請求項１～１５のいずれか１項に記載のプロセス。
17. 前記異性化液が、５～３０または１５～３０であるｎ－パラフィンに対するイソパラフィンの比を有する請求項１～１６のいずれか１項に記載のプロセス。
18. 前記酸素化炭化水素フィードストックが、窒素元素として測定されて、３００ｗｐｐｍまたはそれ以上の窒素不純物を含む請求項１～１７のいずれか１項に記載のプロセス。
19. 前記水素化処理入り口流が、１００～５００ｗｐｐｍの窒素不純物を含む請求項１～１８のいずれか１項に記載のプロセス。
20. 前記第２の触媒ゾーンからの前記第２の水素化処理流出物（１０６）が１００～５００ｗｐｐｍまたはそれ以上の窒素不純物を含む請求項１～１９のいずれか１項に記載のプロセス。
21. 前記第１の触媒ゾーンと前記第２の触媒ゾーンのあいだで取り出される前記第１の触媒ゾーン（１０２）からの前記第１の水素化処理流出物の一部を含む生成物副流（１１２）が、液体成分およびガス状成分を含み、および前記生成物副流の前記液体成分は、≧９９ｗｔ％の炭化水素、および、窒素元素として測定されて、≦０．３ｗｐｐｍの窒素を含む請求項１～２０のいずれか１項に記載のプロセス。
22. 前記酸素化炭化水素フィードストックが、４０ｗｔ％またはそれ以上の脂肪酸または脂肪酸エステルを含み得る請求項１～２１のいずれか１項に記載のプロセス。
23. 前記酸素化炭化水素フィードストックが、植物オイルおよび動物性脂肪から選択され得る請求項１～２２のいずれか１項に記載のプロセス。