JP7841988B2 - 被加工物への樹脂被覆方法 - Google Patents

被加工物への樹脂被覆方法

Info

Publication number
JP7841988B2
JP7841988B2 JP2022133802A JP2022133802A JP7841988B2 JP 7841988 B2 JP7841988 B2 JP 7841988B2 JP 2022133802 A JP2022133802 A JP 2022133802A JP 2022133802 A JP2022133802 A JP 2022133802A JP 7841988 B2 JP7841988 B2 JP 7841988B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
resin
workpiece
holding
temperature
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2022133802A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2024030724A (ja
Inventor
寛 小野寺
大資 廣内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Corp filed Critical Disco Corp
Priority to JP2022133802A priority Critical patent/JP7841988B2/ja
Publication of JP2024030724A publication Critical patent/JP2024030724A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7841988B2 publication Critical patent/JP7841988B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

本発明は、被加工物に樹脂を被覆する樹脂被覆方法に関する。
被加工物を平坦化するために、液状樹脂に被加工物を押し当てて液状樹脂で被加工物を被覆した後、液状樹脂を硬化させ、樹脂の被覆面の反対側の面を研削して平坦化し、その後、樹脂を剥離し、樹脂が被覆されていた面を研削して平坦化するというプロセスがある(例えば、特許文献1参照)。
上記プロセスでは、被加工物を被覆する樹脂の硬化時に、被加工物が持つ内部応力に応じた姿勢ではなく、矯正された姿勢で硬化されてしまうと、被加工物は矯正された状態で研削されて平坦化され、被加工物の内部応力に沿って平坦化できていないため、平坦化後に反りやうねりなどの変形が被加工物に生じるという問題があった。そこで、被加工物に樹脂を被覆した後、硬化する前に、被加工物の保持面の保持を解除し、被加工物自体が持つ内部応力に沿った姿勢に戻すための待機時間を設定していた。
特開2017-168565号公報
上記待機時間が短すぎると、被加工物の姿勢が十分に戻らない。他方、待機時間が長すぎると、液状樹脂が被加工物の外周に流れていき、被加工物の姿勢を変えてしまう。したがって、被加工物の姿勢が内部応力に沿った形状になった時点で液状樹脂の硬化を開始するように、待機時間を適切に設定する必要がある。
また、液状樹脂の粘度が高い方が、粘度が低い場合よりも待機時間が長くなる傾向があるが、液状樹脂の粘度は加工室内の温度によって変化するところ、加工室の温度は必ずしも一定ではないため、待機時間を一律に設定することができないという問題がある。
本発明は、このような問題にかんがみなされたもので、被加工物に樹脂を被覆する場合において、加工室内の温度との関係において、硬化開始までの適切な待機時間を設定できるようにすることを目的とする。
本発明は、被加工物への樹脂被覆方法であって、ステージの上面に液状樹脂を供給する樹脂供給ステップと、該ステージの上面に対向し被加工物を保持する保持面を有する保持テーブルの該保持面に被加工物を保持する保持ステップと、該保持テーブルと該ステージとの少なくとも一部を含む加工室において、少なくとも一箇所以上の温度を測定する温度測定ステップと、該保持テーブルを該ステージの該上面に相対的に接近させ、該保持テーブルに保持された被加工物を該液状樹脂に押しつけ、被加工物に樹脂を被覆する樹脂被覆ステップと、該保持テーブルによる被加工物の保持を解除し、被加工物の姿勢を被加工物自体の内部応力に沿う形に戻す待機ステップと、該待機ステップの実施後、被加工物に被覆された該液状樹脂を硬化させる硬化ステップと、を備え、該待機ステップにおける待機時間は、該加工室内の温度と該待機時間との事前に設定された相関関係データに基づき、該温度測定ステップで測定された温度によって算出される。
上記被加工物への樹脂被覆方法では、加工室内の温度と、被加工物に液状樹脂を被覆してから被加工物の姿勢が内部応力に沿った形状になるまでの待機時間との関係を相関関係データとしてあらかじめ取得しておき、実際の樹脂の被覆時は、加工室内の温度を測定し、相関関係データを用いてその測定温度に対応する待機時間を求め、液状樹脂の被覆後、その待機時間を経過してから液状樹脂を硬化させる。したがって、被加工物の姿勢が内部応力に沿った形状になった時点で液状樹脂の硬化が開始され、被加工物を、矯正された姿勢ではなく、被加工物の内部応力に沿って平坦化することができるため、平坦化後の被加工物の変形を防止することができる。
樹脂被覆装置の例を示す斜視図である。 樹脂被覆装置の一部を示す側面図である。 本発明を工程別に示す流れ図である。 ウェーハの一方の面に樹脂を被覆する様子を段階的に示す断面図であり、(a)は保持テーブルにウェーハを保持するともにフィルム上に液状樹脂を滴下した状態、(b)は液状樹脂をウェーハによって押圧する状態、(c)は保持テーブルによるウェーハの保持を解除した状態、(d)は液状樹脂に紫外線を照射して硬化させる状態を模式的に示した断面図である。 液状樹脂が被加工物の外周側に流れウェーハの姿勢を強制的に変えてしまった例を模式的に示す断面図である。 相関関係データの例を示すグラフである。 内部応力に沿って平坦化され樹脂が被覆されたウェーハを研削する様子を段階的に示す断面図であり、(a)は樹脂が被覆された研削前のウェーハ、(b)は研削装置のチャックテーブルに樹脂側が吸引保持されウェーハの他方の面を研削する状態、(c)は研削装置のチャックテーブルに研削された他方の面が吸引保持されウェーハの一方の面を研削する状態を模式的に示す断面図である。 内部応力に沿って平坦化されずに樹脂が被覆されたウェーハを研削する様子を段階的に示す断面図であり、(a)は樹脂が被覆された研削前のウェーハ、(b)は研削装置のチャックテーブルに樹脂側が吸引保持されウェーハの他方の面を研削する状態、(c)は研削装置のチャックテーブルに研削された他方の面が吸引保持されウェーハの一方の面を研削する状態、(d)は研削装置のチャックテーブルによる吸引保持が解除された状態を模式的に示す断面図である。
図1に示す樹脂被覆装置1は、被加工物であるウェーハの一方の面に液状樹脂を押し拡げて硬化させることにより当該一方の面に樹脂を被覆する装置の一例であり、筐体100と、筐体100内に配設された装置ベース101と、装置ベース101から立設されたコラム102と、装置ベース101に隣接して配設された支持ベース103と、筐体100の後端側(+Y方向側)に連結され上下方向に2段の収容スペース2a,2bを有するカセット収容本体104とを備えている。筐体100によって囲まれた空間は、樹脂の被覆が行われる加工室100aを構成している。上段の収容スペース2aには、一方の面に樹脂が被覆される前のウェーハWが複数収容されたカセット3aが配設され、下段の収容スペース2bには、一方の面に樹脂が被覆された後のウェーハWが複数収容されるカセット3bが配設されている。
コラム102の+Y方向側には、第1支持台6aと、第1支持台6aの下方側に位置する第2支持台6bとが設けられている。第1支持台6aには、樹脂が被覆される前のウェーハWの中心位置及び向きを検出するウェーハ検出部7が配設されている。第2支持台6bには、ウェーハWに被覆された樹脂と一体となったフィルムをウェーハWの外形に沿って切断するフィルムカッター8が配設されている。
カセット収容本体104とウェーハ検出部7及びフィルムカッター8との間には、樹脂が被覆される前のウェーハWをカセット3aから搬出して第1支持台6aに搬入するとともに、樹脂を被覆した後のウェーハWを第2支持台6bから搬出してカセット3bに搬入する第1ウェーハ搬送機構4が配設されている。
第1ウェーハ搬送機構4は、ウェーハWを吸引保持する保持部45と、先端に保持部45が装着され屈曲可能なアーム部46と、アーム部46を昇降させる昇降駆動部47と、昇降駆動部47を支持するベース部48とを備えている。ベース部48は、X軸方向駆動機構49によって駆動されてX軸方向に移動可能となっている。X軸方向駆動機構49は、X軸方向に延在するボールネジ491と、ボールネジ491を回転させるモータ492と、ボールネジ491と平行に配設された一対のガイドレール493とから構成され、モータ492がボールネジ491を正逆転することにより、ベース部48の内部の不図示のナットが+X方向又は-X方向のいずれかに移動し、これにより第1ウェーハ搬送機構4が同方向に移動する構成となっている。
装置ベース101には、上面に樹脂が滴下されるフィルム12がロール状に巻かれたロール部11を有するフィルム供給機構10と、フィルム12を保持する円形のフィルム保持面21を有するステージ20とを備えている。ステージ20は、例えばガラスのような透光性を有する材料によって形成されている。フィルム保持面21は、例えば石英ガラスによって形成されている。図示していないが、フィルム保持面21には、吸引源に接続された複数の吸引孔が形成され、フィルム保持面21に載置されたフィルム12を下方から吸引保持する構成となっている。フィルム保持面21の外周にはリング状の凸部22が形成されており、この凸部22の内側の領域に液状樹脂を溜めて、凸部22の外側に液状樹脂が飛散するのを防止する構成となっている。
支持ベース103には、フィルム載置機構30が配設されている。フィルム載置機構30は、Y軸方向と水平に直交する方向であるX軸方向に延在するアーム部31と、アーム部31の-Y方向側の側面に取り付けられたクランプ部32と、アーム部31の例えば下面側に配設された第1温度センサ33とを備えている。クランプ部32は、ロール部11に巻かれたフィルム12をクランプして+Y方向に移動することによってフィルム12を引っ張り、ステージ20に載置することができる。第1温度センサ33は、例えばクランプ部32がフィルム12をクランプして+Y方向に引っ張る際に、ステージ20の上方の通過時に温度を測定する。
ステージ20の近傍には、ステージ20が保持するフィルム12の上に所定量の液状樹脂を滴下させる樹脂供給機構40を備えている。樹脂供給機構40は、樹脂供給ノズル41と、樹脂供給ノズル41に液状樹脂を送出するディスペンサ42と、樹脂供給ノズル41とディスペンサ42とを接続する接続管43とを備えている。樹脂供給ノズル41は、ステージ20のフィルム保持面21に向けて液状樹脂を吐出する供給口41aを有している。ディスペンサ42は、図示しない樹脂供給源に接続されている。樹脂供給ノズル41は、供給口41aをステージ20の上方とステージ20の上方から退避した位置との間を旋回可能となっている。
コラム102の-Y方向側の側面には、ステージ20のフィルム保持面21に対向する位置に配設されウェーハWの他方の面(樹脂が被覆されない面)を吸引保持する保持機構50と、保持機構50をステージ20に向けて下降させて保持機構50が保持するウェーハWでフィルム12の上に滴下された液状樹脂を押し拡げる拡張機構60とを備えている。装置ベース101内におけるステージ20の下方には、拡張機構60によってウェーハWの一方の面に押し拡げられた液状樹脂を硬化させる硬化機構70を備えている。硬化機構70は、例えば紫外線を上方に向けて放射するUVランプを有している。
保持機構50は、図2に示すように、円板状のホイール51と、ウェーハWを吸引保持するウェーハ保持面52aを下面に有する保持テーブル52と、ホイール51内に配設されウェーハ保持面52aの温度を測定する第2温度センサ53とを備えている。保持テーブル52は、例えば、ポーラス部材または複数のピンが吸引経路となる間隔をあけて配置されたピンチャックテーブルにより形成されている。保持テーブル52には、図示しない吸引源が接続されており、ウェーハ保持面52aにおいてウェーハWを吸引保持することができる。保持テーブル52のウェーハ保持面52aは、ステージ20の上面に対向している。
第2温度センサ53は、例えば接触式の温度センサによって構成され、保持テーブル52に接触した状態で配設されている。第2温度センサ53は、保持テーブル52において吸引保持するウェーハWが液状樹脂を押し拡げる際のウェーハ保持面52aの表面温度を測定することができる。
図1及び図2に示すように、拡張機構60は、Z軸方向に延在するボールネジ61と、ボールネジ61の一端に接続されたモータ62と、ボールネジ61と平行に延在する一対のガイドレール63と、一方の面に保持機構50が連結された昇降板64とを備えている。一対のガイドレール63には、昇降板64の他方の面が摺接し、昇降板64の他方の面側に形成された不図示のナットにはボールネジ61が螺合している。拡張機構60においては、モータ62によって駆動されてボールネジ61が回転すると、一対のガイドレール63に沿って昇降板64がZ軸方向に移動し、ステージ20のフィルム保持面21に対して垂直な方向に保持機構50を昇降させることができる。
図1に示すように、コラム102の-X方向側には、ウェーハWを、第1支持台6a又は第2支持台6bとステージ20との間で搬送する第2ウェーハ搬送機構5が配設されている。第2ウェーハ搬送機構5は、ウェーハWを吸引保持する保持部54と、先端に保持部54が装着され屈曲可能なアーム部55と、アーム部55を昇降させる昇降駆動部56と、昇降駆動部56を支持するベース部57とを備えている。ベース部57は、Y軸方向駆動機構58によって駆動されてX軸方向に移動可能となっている。Y軸方向駆動機構58は、Y軸方向に延在するボールネジ581と、ボールネジ581を回転させる不図示のモータと、ボールネジ581と平行に配設された一対のガイドレール582とから構成され、モータがボールネジ581を正逆転することにより、ベース部57の内部の不図示のナットが+Y方向又は-Y方向のいずれかに移動し、これにより第2ウェーハ搬送機構5が+Y方向又は-Y方向に移動する構成となっている。
樹脂被覆装置1は、第1ウェーハ搬送機構4、第2ウェーハ搬送機構5、ウェーハ検出部7、フィルム供給機構10、ステージ20、フィルム載置機構30、樹脂供給機構40、保持機構50、拡張機構60等を制御する制御部80を備えている。制御部80は、少なくともCPUとメモリ等の記億部とを備えている。
次に、樹脂被覆装置1の動作例について、図3のフローチャートを参照して説明する。なお、本実施形態に示すウェーハWは、円形板状の被加工物の一例であって、例えば、インゴットから切り出されたシリコンウェーハ、表面にバンプが形成されたウェーハ等である。樹脂が被覆される前のウェーハWはカセット3aに複数収容されている。
1 保持ステップ(S1)
まず、第1ウェーハ搬送機構4により、カセット3aからウェーハWを1枚取り出して、第1支持台6aに搬送する。ウェーハ検出部7がウェーハWの中心位置及び向きを検出すると、第2ウェーハ搬送機構5が第1支持台6aからウェーハWを搬出して保持機構50に受け渡す。保持機構50は、図2に示すように、保持テーブル52のウェーハ保持面52aでウェーハWの他方の面である上面W2を吸引保持する。ウェーハ保持面52aにおいて上面W2が保持されたウェーハWは、反りやうねりがあったとしても、ウェーハ保持面52aの吸引力によってそれらが矯正された状態となっている。
2 フィルム載置ステップ(S2)
ウェーハWの保持機構50への搬送と並行して、または、当該搬送に先立って、図1に示すフィルム載置機構30のクランプ部32がフィルム12をクランプし、+Y方向に移動してフィルム12をロール部11から引き出し、ステージ20のフィルム保持面21に載置する。そして、フィルム12は、図示しない吸引源の作用を受けてフィルム保持面21で吸引保持される。なお、本ステップは必須ではなく、フィルムを用いなくてもよい。
3 温度測定ステップ(S3)
本ステップは、例えばフィルム載置ステップS2と並行して実施される。フィルム載置ステップS2においてクランプ部32がフィルム12をクランプして+Y方向に移動する際には、アーム部31の下部に配設された第1温度センサ33がステージ20の上方を通過するため、その通過時に、ステージ20の上方の温度を測定する。その温度測定値は、制御部80に備える記憶部に記憶させておく。
なお、本ステップでは、第1温度センサ33によるステージ20の上方の温度測定に代えて、図2に示した第2温度センサ53を用いてウェーハ保持面52aの温度を測定して制御部80に備える記憶部に記憶させてもよいし、第1温度センサ33によるステージ20の上方の温度測定とともに第2温度センサ53によるウェーハ保持面52aの温度測定をしてもよい。第1温度センサ33による温度測定及び第2温度センサ53による温度測定を行った場合は、例えば2つの温度測定値の平均値を制御部80の記憶部に記憶させる。または液状樹脂44の粘度への影響度に応じて、少なくともいずれかの温度測定値に係数をかけた状態で温度測定値を算出しても良い。
4 液状樹脂供給ステップ(S4)
次に、樹脂供給機構40は、図2に示すように、樹脂供給ノズル41を旋回させることにより、供給口41aをステージ20の上方に位置づける。続いて、図1に示したディスペンサ42により樹脂供給ノズル41に所定温度(例えば、19℃)に温度管理されている液状樹脂44を送出して、供給口41aからステージ20に吸引保持されているフィルム12に向けて液状樹脂44を滴下する。液状樹脂44としては、例えば、紫外線硬化樹脂を使用する。そして、所定量の液状樹脂44がフィルム12上に堆積すると、樹脂供給機構40は、フィルム12への液状樹脂44の供給を停止する。
5 樹脂被覆ステップ(S5)
次いで、図4(a)に示すように、保持機構50のウェーハ保持面52aにおいてウェーハWの上面W2を吸引保持した状態で、拡張機構60は、モータ62の駆動によりボールネジ61を回転させて保持機構50を下降させ、保持テーブル52をステージ20の上面に相対的に接近させる。そうすると、保持機構50に吸引保持されたウェーハWの一方の面である下面W1が液状樹脂44に接触し、さらに保持機構50が下降すると、図4(b)に示すように、ウェーハWの下面W1によって下方に押圧された液状樹脂44は、ウェーハWの径方向に拡張される。ウェーハWは、保持ステップS1において反りやうねりが矯正された状態で保持機構50のウェーハ保持面52aに吸引保持され、その状態が維持されているため、反りやうねりが矯正されたウェーハWの一方の面に液状樹脂44が押し広げられた状態となっており、その状態でウェーハWの一方の面に樹脂が被覆される。
6 待機時間算出ステップ(S6)
樹脂被覆ステップにおいてウェーハWの一方の面に押し広げられた液状樹脂44は、保持機構50のウェーハ保持面52aによってウェーハWの他方の面が保持された状態のままで硬化されると、その状態では姿勢が矯正されているため、研削による平坦化後に反りやうねり等の変形が生じるという問題がある。そこで、液状樹脂を硬化させる前に、ウェーハ保持面52aにおける保持を解除して待機させる待機時間を設ける。ここで、待機時間が短すぎるとウェーハWの姿勢が本来の姿勢に戻りきれない。他方、待機時間が長すぎると、図5に示すように、液状樹脂が被加工物の外周側に流れていき、ウェーハWの姿勢を強制的に変えてしまう。そこで、ウェーハWの姿勢が内部応力に沿った形状になるように待機時間を設定する必要がある。そのために、図6に示すような、加工室内の温度と待機時間との相関関係データ81をあらかじめ準備し、加工室内の温度に応じて待機時間を決定することとする。
図6の相関関係データ81は、実際にウェーハWに樹脂を被覆する前に、実験用の複数のウェーハを用いてテストを繰り返すことによってあらかじめ取得しておく。具体的には、例えば以下のような手順によって相関関係データ81を取得する。
(1)加工室100a内の温度を一定としつつ、待機時間を変更しながらウェーハWへの樹脂の被覆を繰り返し実施し、狙った貼り付け形状になる待機時間を求める。なお、ここにいう狙った貼り付け形状には、ウェーハWが本来有する内部応力に沿った姿勢を有する形状のほか、反りやうねりが少ない形状、例えば凸形状等の意図的に形成した特定の形状も含まれる。
(2)狙った貼り付け形状になった時の加工室100a内の温度と待機時間とを対応させて記録する。
(3)加工室100a内の温度を変化させつつ、各温度について、(1)と同様に待機時間を変更しながらウェーハWへの樹脂の被覆を繰り返し実施し、狙った貼り付け形状になる待機時間を求め、そのときの加工室100a内の温度と待機時間とを対応させて記録する。
(4)例えば横軸を加工室100a内の温度、縦軸を待機時間として、記録したデータをプロットしていき、関数(グラフ)をつくり、制御部80の記憶部に記憶させる。
なお、被加工物の種類と、使用する液状樹脂の種類と、それらの組み合わせとによって、最適な待ち時間が異なるため、異なる条件ごとに上記(1)-(4)を実施して相関関係データを作成する。
この相関関係データ81は、例えば制御部80の記憶部にあらかじめ記憶される。液状樹脂の粘度は、温度が高くなるほど低下し、温度が低くなるほど上昇する。したがって、温度が高くなるほど待機時間を短くし、温度が低くなるほど待機時間を長くする。このように、加工室100a内の温度と液状樹脂の粘度との間には相関関係があるため、加工室100a内の温度と待機時間との間にも相関関係が認められ、この相関関係を利用することにより、ウェーハWを狙った形状にすることが可能となる。
本ステップでは、相関関係データ81を用い、温度測定ステップS3において測定した温度に対応する待機時間を求め、その待機時間を例えば制御部80の記憶部に記憶させる。例えば、温度測定ステップS3における測定結果が26℃であった場合、図6の相関関係データ81において26℃に対応するのは5秒であるため、待機時間を5秒とする。
7 待機ステップ(S7)
本ステップでは、図4(c)に示すように、ウェーハ保持面52aによるウェーハWの吸引保持を解除し、保持機構50を上昇させる。すなわち、ウェーハWの姿勢がウェーハ保持面52aによって拘束されない状態とすることで、ウェーハWの姿勢を、そのウェーハW自体の内部応力に沿う形に近づけていく。
ここで、吸引保持を解除した時に、例えば制御部80が有するタイマを起動し、待機時間算出ステップS6で求めた待機時間をタイマにセットする。そして、その待機時間が経過すると、制御部80にその旨が通知され、次の硬化ステップS8に移行する。例えば、温度測定ステップS3における測定結果が26℃であった場合、図6の相関関係データ81において26℃に対応するのは5秒であるため、待機時間を5秒とする。待ち時間が長すぎるとウェーハWが変形し、待ち時間が短すぎるとウェーハWにうねりが発生するが、相関関係データ81を用いて加工室100a内の温度との関係で求まる待ち時間だけ待機させてから液状樹脂44を硬化させることにより、矯正された姿勢ではなく、ウェーハWの内部応力に沿って平坦化するため、平坦化後の変形を防止する事ができる。
8 硬化ステップ(S8)
本ステップでは、図4(d)に示すように、ウェーハ保持面52aによるウェーハWの吸引保持を解除した状態で、硬化機構70からステージ20及びフィルム12を介して液状樹脂44に紫外線70aを照射することにより、液状樹脂44を硬化させる。待機ステップS7において、図6に示した相関関係データ81を用いて待機時間を設定したため、本ステップの開始時、ウェーハWは本来有する内部応力に沿って平坦化しており、液状樹脂44が硬化することで、内部応力に沿って平坦化した状態でウェーハWが固定される。
液状樹脂の硬化後は、このようにして、樹脂が被覆されたウェーハWは、第2ウェーハ搬送機構5によって、第2支持台6bに搬送され、フィルムカッター8によってウェーハWの外形に沿って余分なフィルム12が切断された後、第1ウェーハ搬送機構4によりカセット3bに収容される。
9 研削ステップ(S9)
次に、図7(a)に示すように、研削装置90のチャックテーブル91においてフィルム12側を吸引保持し、ウェーハWの上面W2を露出させる。ここで、ウェーハWの内部においてウェーハWの面方向に延びるラインW3は、ウェーハWの厚さ方向の中間を示す面である。
チャックテーブル91においてフィルム12側を吸引保持した状態で、図7(b)に示すように、チャックテーブル91を回転させながら、上面W2に回転するスピンドル92の下端のホイール93に装着された研削砥石94を接触させて平坦化させる。次に、樹脂44を除去した後、図7(c)に示すように、ウェーハWを反転し、チャックテーブル91において平坦化された上面W2側を保持し、チャックテーブル91を回転させるとともにウェーハWの下面W1側に回転する研削砥石94を接触させて研削し、ウェーハWの下面W1を平坦化する。ラインW3は、研削前、研削中、研削後のいずれにおいてもウェーハWの厚さ方向中間部を通り面方向に延びているため、樹脂44の貼り付け時の変形の影響を受けないウェーハWが形成される。
なお、待機時間が適切でないために、図8(a)に示すようにウェーハWの上部が突出した凸型に変形した状態で液状樹脂44が硬化した場合、その厚さ方向中間部を面方向に延びる面を示すラインW4も、上方に突出した凸型となる。したがって、図8(b)に示すように、チャックテーブル91においてフィルム12側を吸引保持し、チャックテーブル91を回転させながら、上面W2に回転するスピンドル92の下端のホイール93に装着された研削砥石94を接触させて平坦化し、さらに、図8(c)に示すように、樹脂44を除去した後、ウェーハWを反転し、チャックテーブル91において平坦化された上面W2側を保持し、チャックテーブル91を回転させるとともに下面W1側に回転する研削砥石94を接触させて研削し、ウェーハWの下面W1を平坦化すると、ラインW4は、下部が突出した凸型になる。したがって、チャックテーブル91における吸引保持を解除すると、ラインW4が一直線状になるようにウェーハWが変形しようとして、図8(d)のような湾曲が生じてしまう。
しかしながら、相関関係データ81を用いて、加工室100aの温度に応じて待機時間を設定すれば、図7に示したように、研削ステップ終了後も湾曲しないウェーハWを形成することができる。
なお、第1温度センサ33及び第2温度センサ53を設置する位置は、筐体100に覆われた空間である加工室100a内であれば特に限定されないが、液状樹脂44の被覆が行われる位置に近いほどよく、ウェーハ保持面52a及びステージ20の近くにあることが望ましい。また、相関関係データ81を取得するためのテストを行う際に温度を測定する位置と、温度測定ステップS3を実施する位置とを同じとすることが望ましい。
また、加工室100aは、少なくとも保持テーブル52とステージ20との少なくとも一部が含まれる空間であればよい。したがって、保持テーブル52又はステージ20の一部が筐体100の外側に位置していてもよい。
また、温度測定ステップを実施するタイミングは、待機時間算出ステップS6の前であれば、上記例には限定されないが、温度センサの配設場所によって、最適な実施タイミングは異なる。フィルム載置機構30に設けた第1温度センサ33のみを用いて温度測定ステップを実施する場合は、本実施形態のようにフィルム載置ステップS2においてフィルムを引き出しながら温度測定をすると、生産性が低下するのを防ぐことができる。
一方、第2温度センサ53のみによる温度測定を行う場合は、フィルム載置ステップS2と並行して実施されなくてもよく、待機時間算出ステップS6の前までに本ステップを終了していればよいが、時間の経過による温度変化があり得ることを考慮すると、待機時間算出ステップS6の直前に温度を測定することが望ましい。
1:樹脂被覆装置
2a:収容スペース 2b:収容スペース
3a:カセット 3b:カセット
4:第1ウェーハ搬送機構
45:保持部 46:アーム部 47:昇降駆動部 48:ベース部
49:X軸方向駆動機構 491:ボールネジ 492:モータ 493:ガイドレール
5:第2ウェーハ搬送機構
54:保持部 55:アーム部 56:昇降駆動部 57:ベース部
58:Y軸方向駆動機構 581:ボールネジ 582:ガイドレール
6a:第1支持台 6b:第2支持台 7:ウェーハ検出部 8:フィルムカッター
10:フィルム供給機構 11:ロール部 12:フィルム
20:ステージ 21:フィルム保持面 22:凸部
30:フィルム載置機構 31:アーム部 32:クランプ部 33:第1温度センサ
40:樹脂供給機構
41:樹脂供給ノズル 41a:供給口 42:ディスペンサ 43:接続管
44:液状樹脂
50:保持機構 51:ホイール 52:保持テーブル 52a:ウェーハ保持面
53:第2温度センサ
60:拡張機構
61:ボールネジ 62:モータ 63:ガイドレール 64:昇降板
70:硬化機構 70a:紫外線
8:制御部 81:相関関係データ
90:研削装置
91:チャックテーブル 92:スピンドル 93:ホイール 94:研削砥石
100:筐体 100a:加工室 101:装置ベース 102:コラム
103:支持ベース 104:カセット収容本体
W:ウェーハ
W1:下面 W2:上面 W3:ライン W4:ライン

Claims (1)

  1. 被加工物への樹脂被覆方法であって、
    ステージの上面に液状樹脂を供給する樹脂供給ステップと、
    該ステージの上面に対向し被加工物を保持する保持面を有する保持テーブルの該保持面に被加工物を保持する保持ステップと、
    該保持テーブルと該ステージとの少なくとも一部を含む加工室において、少なくとも一箇所以上の温度を測定する温度測定ステップと、
    該保持テーブルを該ステージの該上面に相対的に接近させ、該保持テーブルに保持された被加工物を該液状樹脂に押しつけ、被加工物に樹脂を被覆する樹脂被覆ステップと、
    該保持テーブルによる被加工物の保持を解除し、被加工物の姿勢を被加工物自体の内部応力に沿う形に戻す待機ステップと、
    該待機ステップの実施後、被加工物に被覆された該液状樹脂を硬化させる硬化ステップと、
    を備え、
    該待機ステップにおける待機時間は、該加工室内の温度と該待機時間との事前に設定された相関関係データに基づき、該温度測定ステップで測定された温度によって算出されることを特徴とする
    被加工物への樹脂被覆方法。
JP2022133802A 2022-08-25 2022-08-25 被加工物への樹脂被覆方法 Active JP7841988B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022133802A JP7841988B2 (ja) 2022-08-25 2022-08-25 被加工物への樹脂被覆方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2022133802A JP7841988B2 (ja) 2022-08-25 2022-08-25 被加工物への樹脂被覆方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2024030724A JP2024030724A (ja) 2024-03-07
JP7841988B2 true JP7841988B2 (ja) 2026-04-07

Family

ID=90106088

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2022133802A Active JP7841988B2 (ja) 2022-08-25 2022-08-25 被加工物への樹脂被覆方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7841988B2 (ja)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010155297A (ja) 2008-12-26 2010-07-15 Disco Abrasive Syst Ltd 樹脂被覆方法および樹脂被覆装置
JP2014192307A (ja) 2013-03-27 2014-10-06 Disco Abrasive Syst Ltd サファイア基板の平坦加工方法
JP2017168565A (ja) 2016-03-15 2017-09-21 株式会社ディスコ 保護部材形成装置
JP2020188058A (ja) 2019-05-10 2020-11-19 株式会社ディスコ 保護部材形成装置
JP2021019161A (ja) 2019-07-23 2021-02-15 株式会社ディスコ 樹脂貼り機

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010155297A (ja) 2008-12-26 2010-07-15 Disco Abrasive Syst Ltd 樹脂被覆方法および樹脂被覆装置
JP2014192307A (ja) 2013-03-27 2014-10-06 Disco Abrasive Syst Ltd サファイア基板の平坦加工方法
JP2017168565A (ja) 2016-03-15 2017-09-21 株式会社ディスコ 保護部材形成装置
JP2020188058A (ja) 2019-05-10 2020-11-19 株式会社ディスコ 保護部材形成装置
JP2021019161A (ja) 2019-07-23 2021-02-15 株式会社ディスコ 樹脂貼り機

Also Published As

Publication number Publication date
JP2024030724A (ja) 2024-03-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6602702B2 (ja) 保護部材形成装置
US6451670B1 (en) Substrate processing apparatus, substrate support apparatus, substrate processing method, and substrate fabrication method
US10763172B2 (en) Method of processing wafer
CN102233311A (zh) 半导体装置制造装置
JP7841988B2 (ja) 被加工物への樹脂被覆方法
US7768285B2 (en) Probe card for semiconductor IC test and method of manufacturing the same
JP2020188058A (ja) 保護部材形成装置
JP5167072B2 (ja) フリップチップボンダ装置
JP5167071B2 (ja) フリップチップボンダ装置の作業台板の水平化調整方法及びプログラム
JP7436289B2 (ja) 保護部材形成装置
JPH0831732A (ja) 回転式基板処理装置
JP2024099153A (ja) 樹脂被覆方法
JP6765943B2 (ja) 硬化エネルギー測定方法及び保護部材形成装置
JP2025156768A (ja) 保護部材形成装置
JP2003033926A (ja) 光学素子の製造方法
JP6602703B2 (ja) 保護部材形成装置
JP7721382B2 (ja) 研磨パッドの製造方法
TWI894512B (zh) 運送設備、基材處理設備、運送方法、及物件製造方法
JP4422303B2 (ja) レンズ素材の貼付方法
JP2019204895A (ja) 型を用いて基板上の組成物を成形する成形装置、成形方法、基板処理方法、および、物品製造方法
JP7488117B2 (ja) 保護部材の厚み調整方法
JP2023154792A (ja) 液状樹脂の硬化判断方法及び保護部材形成装置
JP7418127B2 (ja) 平坦化装置、平坦化方法及び物品の製造方法
JP5327588B2 (ja) 研磨方法および研磨装置
JP2025165677A (ja) 保護部材形成装置、保護部材形成方法及びウェーハの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20250620

TRDD Decision of grant or rejection written
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20260227

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20260303

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20260326

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7841988

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150