JP7817643B2 - フルオロポリマーの製造方法および水性分散液 - Google Patents

フルオロポリマーの製造方法および水性分散液

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Description

本開示は、フルオロポリマーの製造方法および水性分散液に関する。
特許文献１には、過フッ素化モノマー、フルオロアルキル基中に１～３の炭素原子を有するフルオロアルキルスルフィン酸またはその塩、および、フルオロアルキルスルフィン酸またはその塩を酸化することができる酸化剤を含む水性混合物を調製し、フリーラジカル条件下で過フッ素化モノマーを重合させて、フルオロポリマーの水性分散液を調製するフルオロポリマーを製造するプロセスであって、重合上がりのフルオロポリマーの水性分散液中のパーフルオロオクタン酸またはその塩の量が、フルオロポリマー１グラム当たり２５ナノグラム以下であるプロセスが記載されている。
国際公開第２０２２／１８０５４７号
本開示では、親水基を有する含フッ素化合物の含有量が少ないフルオロポリマーの製造方法を提供することを目的とする。
本開示によれば、重合開始剤、テロゲン性を有する化合物および水性媒体の存在下に、フルオロモノマーを重合することにより、フルオロポリマーを得るフルオロポリマーの製造方法であって、前記重合開始剤が、疎水性の一次ラジカルを発生させる重合開始剤である製造方法が提供される。
本開示によれば、親水基を有する含フッ素化合物の含有量が少ないフルオロポリマーの製造方法を提供することができる。
本開示を具体的に説明する前に、本開示で使用するいくつかの用語を定義または説明する。
本開示において、フッ素樹脂とは、部分結晶性フルオロポリマーであり、フルオロプラスチックスである。フッ素樹脂は、融点を有し、熱可塑性を有するが、溶融加工性であっても、非溶融加工性であってもよい。
本開示において、溶融加工性とは、押出機及び射出成形機等の従来の加工機器を用いて、ポリマーを溶融して加工することが可能であることを意味する。従って、溶融加工性のフッ素樹脂は、後述する測定方法により測定されるメルトフローレートが０．０１～５００ｇ／１０分であることが通常である。
本開示において、フッ素ゴムとは、非晶質フルオロポリマーである。「非晶質」とは、フルオロポリマーの示差走査熱量測定〔ＤＳＣ〕（昇温速度１０℃／分）あるいは示差熱分析〔ＤＴＡ〕（昇温速度１０℃／分）において現われた融解ピーク（ΔＨ）の大きさが４．５Ｊ／ｇ以下であることをいう。フッ素ゴムは、架橋することにより、エラストマー特性を示す。エラストマー特性とは、ポリマーを延伸することができ、ポリマーを延伸するのに必要とされる力がもはや適用されなくなったときに、その元の長さを保持できる特性を意味する。
本開示において、ポリテトラフルオロエチレン〔ＰＴＦＥ〕は、全重合単位に対するテトラフルオロエチレン単位の含有量が９９モル％以上であるフルオロポリマーであることが好ましい。
本開示において、フッ素樹脂（但し、ポリテトラフルオロエチレンを除く）及びフッ素ゴムは、いずれも、全重合単位に対するテトラフルオロエチレンの含有量が９９モル％未満であるフルオロポリマーであることが好ましい。
本開示において、フルオロポリマーを構成する各モノマーの含有量は、ＮＭＲ、ＦＴ－ＩＲ、元素分析、蛍光Ｘ線分析をモノマーの種類によって適宜組み合わせることで算出できる。
本開示において、「有機基」は、１個以上の炭素原子を含有する基、または有機化合物から１個の水素原子を除去して形成される基を意味する。上記有機基としては、１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基が好ましい。
本開示において、端点によって表わされる範囲には、その範囲内に含まれるすべての数値が含まれる（たとえば、１～１０には、１．４、１．９、２．３３、５．７５、９．９８などが含まれる）。
本開示において、「少なくとも１」の記載には、１以上の全ての数値が含まれる（たとえば、少なくとも２、少なくとも４、少なくとも６、少なくとも８、少なくとも１０、少なくとも２５、少なくとも５０、少なくとも１００など）。
以下、本開示の具体的な実施形態について詳細に説明するが、本開示は、以下の実施形態に限定されるものではない。
１．製造方法
本開示は、重合開始剤、テロゲン性を有する化合物および水性媒体の存在下に、フルオロモノマーを重合することにより、フルオロポリマーを得るフルオロポリマーの製造方法に関する。
（重合開始剤）
本開示の製造方法においては、疎水性の一次ラジカルを発生させる重合開始剤を用いる。
本開示において、一次ラジカルとは、重合開始剤（重合開始剤がレドックス開始剤である場合は酸化剤および還元剤）から直接発生するラジカルを意味する。一次ラジカルには、重合開始剤が開裂することにより直接生じたラジカル、および、重合開始剤がレドックス開始剤である場合には、レドックス開始剤を構成する酸化剤が開裂して発生するラジカル（過硫酸アンモニウムが開裂して発生する硫酸ラジカルなど）と、還元剤（トリフルオロメタンスルフィン酸ナトリウムなど）と、が反応することにより生じるラジカル（ＣＦ３ＳＯ２ラジカル、ＣＦ３ラジカルなど）が含まれる。他方、重合開始剤から直接発生するラジカルが、連鎖移動剤、フルオロモノマーなどの重合開始剤以外の化合物と反応して生じるラジカルは、一次ラジカルには含まれない。
一次ラジカルは、通常、重合条件下で発生する。したがって、一次ラジカルには、重合開始時に発生する一次ラジカル、および、重合の途中に発生する一次ラジカルが含まれる。
ラジカルについて、疎水性とは、水との親和性が低い性質をいう。疎水性ラジカルの一例は、他の化合物（たとえば、連鎖移動剤や炭化水素系界面活性剤などテロゲン性を有する化合物）から引き抜かれた水素原子と結合することにより、２０℃における水への溶解度が１．０質量％未満の化合物を与えるラジカルである。疎水性ラジカルの他の一例は、親水基を持たないラジカルである。親水基とは、水との親和力が大きい有極性の原子団であり、その一例は－ＳＯ３Ｍ、－ＯＳＯ３Ｍ、－ＣＯＯＭ、－ＰＯ３Ｍ、－ＯＰＯ３Ｍ、－ＮＲ２、－ＯＨ、－ＮＲ３Ｘ等である（式中、Ｍはカチオン、ＲはＨまたは有機基、Ｘはアニオンである）。親水基としては、親水基を有する含フッ素化合物が有する親水基として後述するものが挙げられる。カチオンとしては、Ｈ＋、アンモニウムイオン、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオンなどが挙げられる。
疎水性の一次ラジカルの発生の有無は、たとえば、重合により得られるフルオロポリマーの１９Ｆ－固体ＮＭＲ分析により確認することができる。たとえば、重合開始剤として、トリフルオロメタンスルフィン酸ナトリウムおよび過硫酸アンモニウムから構成されるレドックス開始剤を用い、連鎖移動剤としてエタンを用いて、テトラフルオロエチレンを重合した場合、重合により得られるフルオロポリマーのＮＭＲスペクトルに、－ＣＦ３基および－ＣＦ２Ｈ基に由来するピークが観察される。－ＣＦ３基は、重合開始剤から発生したラジカルとテトラフルオロエチレンとの反応により形成され、－ＣＦ２Ｈ基は、成長ラジカルがエタンから引き抜かれた水素原子と結合することにより形成されたと推定することができる。したがって、重合開始剤として、トリフルオロメタンスルフィン酸ナトリウムおよび過硫酸アンモニウムから構成されるレドックス開始剤を用いた場合には、重合開始剤からＣＦ３ラジカルが発生したことが分かる。トリフルオロメタンスルフィン酸ナトリウムを用いず、重合開始剤として、過硫酸アンモニウムのみを用いた以外は上記の重合と同様にした場合、重合により得られるフルオロポリマーのＮＭＲスペクトルに、－ＣＦ３基のピークは観察されない。したがって、重合開始剤として、過硫酸アンモニウムのみを用いると、ＣＦ３ラジカルなどの疎水性の一次ラジカルが発生しないことが分かる。疎水性の一次ラジカルの発生の有無は水性分散液やフルオロポリマーに含まれるオリゴマーをＧＣ－ＭＳで分析することでも確認できる。たとえば、上記の例では、一般式：ＣＦ３－（ＣＦ２）ｎ－Ｈ（式中、ｎは０以上の整数）で表される化合物が検出される。
疎水性の一次ラジカルとしては、非パーフルオロアルキルラジカルまたはパーフルオロアルキルラジカルが好ましく、パーフルオロアルキルラジカルがより好ましい。非パーフルオロアルキルラジカルおよびパーフルオロアルキルラジカルのアルキル基の炭素数が２以上の場合、これらのラジカルは２つの炭素原子間に酸素原子を有してもよい。「非パーフルオロアルキル」には、「フッ素非含有アルキル」および「部分フッ素化アルキル」が含まれる。
また、疎水性の一次ラジカルとしては、炭素原子を含有するラジカルが好ましく、炭素数１～１９のラジカルがより好ましく、炭素数１～１９の非パーフルオロアルキルラジカル、２つの炭素原子間に酸素原子を有する炭素数が２～１９の非パーフルオロアルキルラジカル、炭素数１～１９のパーフルオロアルキルラジカルまたは２つの炭素原子間に酸素原子を有する炭素数が２～１９のパーフルオロアルキルラジカルがさらに好ましく、炭素数１～１９のパーフルオロアルキルラジカルが尚さらに好ましい。
疎水性の一次ラジカルとしては、たとえば、
一般式：Ｒ１・
（式中、Ｒ１は直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素数１～７の非パーフルオロアルキル基または直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素数１～７のパーフルオロアルキル基を表し、・は不対電子を表す。）
で表されるラジカル、
一般式：Ｒ１－Ｏ－Ｒ２・
（式中、Ｒ１およびＲ２は、独立に、直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素数１～６の非パーフルオロアルキル基または直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素数１～６のパーフルオロアルキル基を表し、・は不対電子を表す。）
で表されるラジカル、または、
一般式：Ｒ１－Ｏ－Ｒ２－Ｏ－Ｒ３・
（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、独立に、直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素数１～６の非パーフルオロアルキル基または直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素数１～６のパーフルオロアルキル基を表し、・は不対電子を表す。）
で表されるラジカル、
が挙げられる。
また、疎水性の一次ラジカルとしては、炭素原子を含有するラジカルが好ましく、炭素数が１～７のラジカルがより好ましく、炭素数が１～７の非パーフルオロアルキルラジカルまたは炭素数が１～７のパーフルオロアルキルラジカルがさらに好ましく、炭素数が１～７のパーフルオロアルキルラジカルが尚さらに好ましい。非パーフルオロアルキルラジカルおよびパーフルオロアルキルラジカルのアルキル基の炭素数が２以上の場合、これらのラジカルは２つの炭素原子間に酸素原子を有してもよい。
非パーフルオロアルキルラジカルおよびパーフルオロアルキルラジカルのアルキル基の炭素数は、好ましくは１～５であり、より好ましくは１～３であり、さらに好ましくは１である。
一実施形態において、疎水性の一次ラジカルは、
一般式：Ｒ１１１・
（式中、Ｒ１１１は直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素数１～７の非パーフルオロアルキル基または直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素数１～７のパーフルオロアルキル基を表し、・は不対電子を表す。Ｒ１１１の炭素数は、好ましくは１～５であり、より好ましくは１～３であり、さらに好ましくは１である。）
で表されるラジカル、
一般式：Ｒ１１２－Ｏ－Ｒ１１３・
（式中、Ｒ１１２およびＲ１１３は、独立に、直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素数１～６の非パーフルオロアルキル基または直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素数１～６のパーフルオロアルキル基を表し、・は不対電子を表す。Ｒ１１２およびＲ１１３の炭素数の合計は、２～７であり、好ましくは２～５であり、より好ましくは２～３であり、さらに好ましくは２である。）
で表されるラジカル、または、
一般式：Ｒ１１４－Ｏ－Ｒ１１５－Ｏ－Ｒ１１６・
（式中、Ｒ１１４、Ｒ１１５およびＲ１１６は、独立に、直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素数１～６の非パーフルオロアルキル基または直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素数１～６のパーフルオロアルキル基を表し、・は不対電子を表す。Ｒ１１４、Ｒ１１５およびＲ１１６の炭素数の合計は、３～７であり、好ましくは３～５であり、より好ましくは３である。）
で表されるラジカル
である。
一実施形態において、疎水性の一次ラジカルは、
一般式：Ｒ１１１・
（式中、Ｒ１１１は直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素数１～７の非パーフルオロアルキル基または直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素数１～７のパーフルオロアルキル基を表し、・は不対電子を表す。Ｒ１１１の炭素数は、好ましくは１～５であり、より好ましくは１～３であり、さらに好ましくは１である。）
で表されるラジカルである。
一実施形態において、疎水性の一次ラジカルは、
一般式：Ｒ１１１・
（式中、Ｒ１１１は直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素数１～７のパーフルオロアルキル基を表し、・は不対電子を表す。Ｒ１１１の炭素数は、好ましくは１～５であり、より好ましくは１～３であり、さらに好ましくは１である。）
で表されるラジカルである。
また、疎水性の一次ラジカルとしては、たとえば、
一般式：ＣＦ３－（ＣＦ２）ｎ・
（式中、ｎは０～６の整数を表し、・は不対電子を表す。）
で表されるラジカルが挙げられる。
重合開始剤としては、疎水性の重合開始剤であってもよく、水溶性の重合開始剤であってもよい。重合開始剤としては、水溶性の重合開始剤が好ましい。水溶性の重合開始剤とは、例えば２０℃における水への溶解度が１．０質量％以上の重合開始剤をいう。水溶性の重合開始剤を用いて、疎水性の一次ラジカルを発生させて、フルオロモノマーの重合を行うことによって、円滑に重合反応が進行するとともに、親水性化合物の副生を一層抑制することができる。または、水溶性の重合開始剤とは、反応工程が実施される条件で、少なくとも０．１質量％または少なくとも０．０１質量％の溶液が得られることを意味する。水に不溶な開始剤を用いると、重合反応中に凝集物が発生する原因となり、良好な水性分散液が得られない。
重合開始剤としては、レドックス開始剤が好ましい。レドックス開始剤としては、酸化剤と還元剤とから構成される開始剤であれば特に限定されないが、水溶性のレドックス開始剤が好ましい。水溶性のレドックス開始剤とは、水溶性を有する酸化剤と、水溶性を有する還元剤とから構成される開始剤をいう。水に不溶なレドックス開始剤を用いると、重合反応中に凝集物が発生する原因となり、良好な水性分散液が得られない。
レドックス開始剤を構成する還元剤としては、スルフィン酸塩、カルボン酸塩、亜硫酸塩、重亜硫酸塩、ジイミン、シュウ酸等が挙げられる。好ましくは、スルフィン酸塩、亜硫酸塩、重亜硫酸塩、ジイミン、シュウ酸等が挙げられる。
一実施形態において、レドックス開始剤を構成する還元剤は、
一般式：Ｒ１１１－ＳＯ２Ｍ
（式中、Ｒ１１１は直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素数１～７の非パーフルオロアルキル基または直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素数１～７のパーフルオロアルキル基を表し、Ｍはカチオンを表す。Ｒ１１１の炭素数は、好ましくは１～５であり、より好ましくは１～３であり、さらに好ましくは１である。）
で表される化合物、
一般式：Ｒ１１２－Ｏ－Ｒ１１３－ＳＯ２Ｍ
（式中、Ｒ１１２およびＲ１１３は、独立に、直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素数１～６の非パーフルオロアルキル基または直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素数１～６のパーフルオロアルキル基を表し、Ｍはカチオンを表す。Ｒ１１２およびＲ１１３の炭素数の合計は、２～７であり、好ましくは２～５であり、より好ましくは２～３であり、さらに好ましくは２である。）
で表される化合物、または、
一般式：Ｒ１１４－Ｏ－Ｒ１１５－Ｏ－Ｒ１１６－ＳＯ２Ｍ
（式中、Ｒ１１４、Ｒ１１５およびＲ１１６は、独立に、直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素数１～５の非パーフルオロアルキル基または直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素数１～５のパーフルオロアルキル基を表し、Ｍはカチオンを表す。Ｒ１１４、Ｒ１１５およびＲ１１６の炭素数の合計は、３～７であり、好ましくは３～５であり、より好ましくは３である。）
で表される化合物
である。
一実施形態において、レドックス開始剤を構成する還元剤は、
一般式：Ｒ１１１－ＳＯ２Ｍ
（式中、Ｒ１１１は直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素数１～７の非パーフルオロアルキル基または直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素数１～７のパーフルオロアルキル基を表し、Ｍはカチオンを表す。Ｒ１１１の炭素数は、好ましくは１～５であり、より好ましくは１～３であり、さらに好ましくは１である。）
で表される化合物である。
一実施形態において、レドックス開始剤を構成する還元剤は、
一般式：Ｒ１１１－ＳＯ２Ｍ
（式中、Ｒ１１１は直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素数１～７のパーフルオロアルキル基を表し、Ｍはカチオンを表す。Ｒ１１１の炭素数は、好ましくは１～５であり、より好ましくは１～３であり、さらに好ましくは１である。）
で表される化合物である。
レドックス開始剤を構成する還元剤の一般式において、カチオンとしては、Ｈ＋；アンモニウムイオン；アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、亜鉛イオンなどの金属イオン；などが挙げられる。
レドックス開始剤を構成する還元剤としては、含フッ素アルキルスルフィン酸またはその塩が好ましく、炭素数が１～７の含フッ素アルキルスルフィン酸またはその塩がより好ましい。
また、含フッ素アルキルスルフィン酸またはその塩としては、たとえば、
一般式：ＣＦ３－（ＣＦ２）ｎ－ＳＯ２Ｍ
（式中、ｎは０～６の整数を表し、Ｍはカチオンを表す。）
で表される化合物が挙げられる。カチオンとしては、Ｈ＋、アンモニウムイオン、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオンなどが挙げられる。
含フッ素アルキルスルフィン酸またはその塩としては、トリフルオロメタンスルフィン酸、トリフルオロメタンスルフィン酸ナトリウム、トリフルオロメタンスルフィン酸アンモニウム、トリフルオロメタンスルフィン酸カリウム、ペンタフルオロエタンスルフィン酸、ペンタフルオロエタンスルフィン酸ナトリウム、ペンタフルオロエタンスルフィン酸アンモニウム、ペンタフルオロエタンスルフィン酸カリウム、パーフルオロ－ｎ－プロパンスルフィン酸、パーフルオロ－ｎ－プロパンスルフィン酸ナトリウム、パーフルオロ－ｎ－プロパンスルフィン酸アンモニウム、パーフルオロ－ｎ－プロパンスルフィン酸カリウム、パーフルオロイソプロパンスルフィン酸、パーフルオロ－イソプロパンスルフィン酸ナトリウム、パーフルオロイソプロパンスルフィン酸アンモニウム、パーフルオロイソプロパンスルフィン酸カリウム、１，１－ジフルオロメタンスルフィン酸、１，１－ジフルオロメタンスルフィン酸亜鉛（ビス（ジフルオロメチルスルホニル）亜鉛）、１，１，２，２－テトラフルオロエタンスルフィン酸、１，１，２，２，３，３－ヘキサフルオロペンタンスルフィン酸などが挙げられる。
レドックス開始剤を構成する酸化剤としては、過硫酸塩、有機過酸化物、過マンガン酸塩、三酢酸マンガン、セリウム（ＩＶ）塩、銀（ＩＩ）塩、銅（ＩＩ）塩、鉄（ＩＩＩ）塩、臭素酸塩、塩素酸塩、次亜塩素酸塩、過リン酸塩、過ホウ酸塩などが挙げられる。
レドックス開始剤を構成する酸化剤としては、含フッ素アルキルスルフィン酸またはその塩を酸化することができる酸化剤が好ましく、過硫酸塩、セリウム（ＩＶ）塩、銀（ＩＩ）塩、臭素酸塩、塩素酸塩、次亜塩素酸塩、過リン酸塩、過ホウ酸塩、過炭酸塩がより好ましく、過硫酸塩がさらに好ましく、過硫酸アンモニウムまたは過硫酸カリウムが特に好ましい。
開始剤の分解速度を上げるため、レドックス開始剤の組み合わせには、銅塩、鉄塩、銀塩などの金属塩を加えることも好ましい。銅塩としては、硫酸銅（Ｉ）、鉄塩としては硫酸鉄（ＩＩ）、銀塩としては硝酸銀（Ｉ）等が挙げられる。
たとえば、還元剤として、一般式：Ｒ１１１－ＳＯ２Ｍ（式中、Ｒ１１１は直鎖状もしくは分岐鎖状の炭素数１～７のパーフルオロアルキル基を表し、Ｍはカチオンを表す。）で表される化合物を用い、酸化剤として過硫酸アンモニウムを用いて、テトラフルオロエチレン（ＣＦ２＝ＣＦ２）を重合した場合には、
一般式：Ｒ１１１－（ＣＦ２－ＣＦ２）ｎ１・
（式中、Ｒ１１１は上記のとおり、ｎ１は１～３の整数を表し、・は不対電子を表す。）
で表されるラジカルなどが生じるものと推測される。
このようにして生じたラジカルは、疎水性を有していることから、他の化合物（たとえば、連鎖移動剤や炭化水素系界面活性剤などテロゲン性を有する化合物）と反応した場合でも、親水性化合物が生成しない。したがって、本開示の製造方法は、テロゲン性を有する化合物の存在下にフルオロモノマーの重合を行うにも関わらず、疎水性の一次ラジカルを発生させる重合開始剤を用いてフルオロモノマーを重合するものであることから、重合中に親水性化合物が副生しにくい。
重合開始剤の添加量は、モノマーの種類、目的とするフルオロポリマーの分子量、反応速度によって適宜決定される。重合開始剤の添加量は、水性媒体に対して、好ましくは０．００００１～１０質量％であり、より好ましくは０．０００１質量％以上であり、さらに好ましくは０．００１質量％以上であり、特に好ましくは０．０１質量％以上であり、より好ましくは５質量％以下であり、さらに好ましくは２質量％以下である。
重合開始剤としてレドックス開始剤を用いる場合には、還元剤の添加量は、水性媒体に対して、好ましくは０．００００１～１０質量％であり、より好ましくは０．０００１質量％以上であり、さらに好ましくは０．００１質量％以上であり、特に好ましくは０．０１質量％以上であり、より好ましくは５質量％以下であり、さらに好ましくは２質量％以下である。酸化剤の添加量は、還元剤の添加量に応じて調整される。
重合開始剤は、重合開始時に一括して添加してもよいし、重合を開始させるために添加した後、重合中にさらに添加してもよい。重合開始剤として、レドックス開始剤を用いる場合は、酸化剤または還元剤のいずれかをあらかじめ重合槽に仕込み、ついでもう一方を連続的又は断続的に加えて重合を開始させてもよい。例えば、還元剤として、含フッ素アルキルスルフィン酸またはその塩を用い、酸化剤として、過硫酸塩を用いる場合には、重合系に含フッ素アルキルスルフィン酸またはその塩を添加し、そこへ過硫酸塩を連続的に添加することができる。
（テロゲン性を有する化合物）
本開示の製造方法においては、テロゲン性を有する化合物の存在下に重合を行う。テロゲン性を有する化合物としては、連鎖移動剤および炭化水素系界面活性剤からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。
従来のフルオロポリマーの製造方法において、テロゲン性を有する化合物の存在下にフルオロモノマーの重合を行うと、親水基を有する含フッ素化合物が含まれることが今や判明した。本開示の製造方法においては、疎水性の一次ラジカルを発生させる重合開始剤を用いて、テロゲン性を有する化合物の存在下にフルオロモノマーの重合を行うことから、親水基を有する含フッ素化合物の副生を抑制することができ、高い純度を有するフルオロポリマーを製造することができる。これにより、親水基を有する含フッ素化合物の含有量を低減するための追加の手法を用いる必要がない。これは、重合開始剤から水溶性ラジカルが発生することにより親水基を有する含フッ素化合物が生成していると推定している。
（連鎖移動剤）
連鎖移動剤としては、たとえば、炭素数１～６の炭化水素化合物が用いられる。
連鎖移動剤としては、たとえばマロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、コハク酸ジメチルなどのエステル類のほか、イソペンタン、メタン、エタン、プロパン、メタノール、イソプロパノール、アセトン、各種メルカプタン、四塩化炭素などの各種ハロゲン化炭化水素、シクロヘキサンなどがあげられる。
連鎖移動剤としては、なかでも、炭素数２～４の非ハロゲン化アルカンが好ましい。具体的には、メタン、エタン、プロパン、ブタンおよびイソブタンからなる群より選択される少なくとも１種がより好ましく、エタンおよびプロパンからなる群より選択される少なくとも１種がさらに好ましい。
上記連鎖移動剤の使用量は、通常、供給されるフルオロモノマー全量に対して、好ましくは１～５０，０００質量ｐｐｍであり、より好ましくは１～２０，０００質量ｐｐｍであり、さらに好ましくは１～１０，０００質量ｐｐｍであり、尚さらに好ましくは１～５，０００質量ｐｐｍである。
上記連鎖移動剤は、重合開始前に一括して反応容器中に添加してもよいし、重合開始後に一括して添加してもよいし、重合中に複数回に分割して添加してもよいし、また、重合中に連続的に添加してもよい。
（界面活性剤）
界面活性剤は、含フッ素界面活性剤および炭化水素系界面活性剤のいずれであってもよい。本開示の製造方法においては、炭化水素系界面活性剤を用いることができる。炭化水素系界面活性剤はテロゲン性を示すが、本開示の製造方法を用いることにより、親水性化合物の副生を抑制できる。
（炭化水素系界面活性剤）
炭化水素系乳化剤はフッ素を含まない非フッ素炭化水素系乳化剤である。炭化水素系界面活性剤としては、例えば、特表２０１３－５４２３０８号公報、特表２０１３－５４２３０９号公報、特表２０１３－５４２３１０号公報に記載されているもの等を使用することができる。
上記炭化水素系界面活性剤は、同じ分子上に親水性部分及び疎水性部分を有する界面活性剤であってよい。これらは、カチオン性、非イオン性またはアニオン性であってよい。
カチオン性炭化水素系界面活性剤は、通常、アルキル化臭化アンモニウムなどのアルキル化ハロゲン化アンモニウムなどの正に帯電した親水性部分と、長鎖脂肪酸などの疎水性部分を有する。
アニオン性炭化水素系界面活性剤としては、カルボン酸又はその塩、スルホン酸又はその塩、硫酸又はその塩などが挙げられる。
アニオン性炭化水素系界面活性剤は、通常、カルボン酸、カルボン酸塩、スルホン酸、スルホン酸塩、硫酸、硫酸塩などの親水性部分と、アルキルなどの長鎖炭化水素部分である疎水性部分とを有する。
非イオン性炭化水素系界面活性剤は、通常、帯電した基を含まず、長鎖炭化水素である疎水性部分を有する。非イオン性界面活性剤の親水性部分は、エチレンオキシドとの重合から誘導されるエチレンエーテルの鎖などの水溶性官能基を含む。
非イオン性炭化水素系界面活性剤の例
ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエステル、ソルビタンアルキルエステル、ポリオキシエチレンソルビタンアルキルエステル、グリセロールエステル、それらの誘導体。
ポリオキシエチレンアルキルエーテルの具体例：ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンベヘニルエーテル等。
ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルの具体例：ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル等。
ポリオキシエチレンアルキルエステルの具体例：ポリエチレングリコールモノラウリレート、ポリエチレングリコールモノオレエート、ポリエチレングリコールモノステアレート等。
ソルビタンアルキルエステルの具体例：ポリオキシエチレンソルビタンモノラウリレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート等。
ポリオキシエチレンソルビタンアルキルエステルの具体例：ポリオキシエチレンソルビタンモノラウリレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート等。
グリセロールエステルの具体例：モノミリスチン酸グリセロール、モノステアリン酸グリセロール、モノオレイン酸グリセロール等。
上記誘導体の具体例：ポリオキシエチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレンアルキルフェニル－ホルムアルデヒド凝縮物、ポリオキシエチレンアルキルエーテルホスフェート等。
上記エーテル及びエステルは、１０～１８のＨＬＢ値を有してよい。
非イオン性炭化水素系界面活性剤としては、ダウ・ケミカル社製のＴｒｉｔｏｎ（登録商標）Ｘシリーズ（Ｘ１５、Ｘ４５、Ｘ１００等）、Ｔｅｒｇｉｔｏｌ（登録商標）１５－Ｓシリーズ、Ｔｅｒｇｉｔｏｌ（登録商標）ＴＭＮシリーズ（ＴＭＮ－６、ＴＭＮ－１０、ＴＭＮ－１００等）、Ｔｅｒｇｉｔｏｌ（登録商標）Ｌシリーズ、ＢＡＳＦ製のＰｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）Ｒシリーズ（３１Ｒ１、１７Ｒ２、１０Ｒ５、２５Ｒ４（ｍ～２２、ｎ～２３）、Ｉｃｏｎｏｌ（登録商標）ＴＤＡシリーズ（ＴＤＡ－６、ＴＤＡ－９、ＴＤＡ－１０）等が挙げられる。
アニオン性炭化水素系界面活性剤としては、Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ ＰｒｏｄｕｃｔｓのＶｅｒｓａｔｉｃ（登録商標）１０、ＢＡＳＦ製のＡｖａｎｅｌ Ｓシリーズ（Ｓ－７０、Ｓ－７４等）等が挙げられる。
アニオン性炭化水素系界面活性剤としては、フッ素原子を有しないアニオン性界面活性剤であれば特に限定されないが、
一般式（Ｘ）：ＲＺ－（Ｌ－Ｍ）ｘ
（式中、ＲＺは、１個以上の炭素原子を含有する疎水性炭化水素部分を表し、Ｌは、各出現において同じであっても異なっていてもよく、イオン性親水性部分を表し、Ｍは、各出現において同じであっても異なっていてもよく、イオン性親水性部分の１つ以上の対イオンを表す。ｘは、Ｒｚに結合する－Ｌ－Ｍで示される基の数を表し、１～３の整数である。）によって表されるアニオン性界面活性剤が挙げられる。
ＲＺとしては、ヘテロ原子を含んでもよい炭素数１～１００の炭化水素基が好ましい。ヘテロ原子は、炭素原子と炭素原子との間に挿入されていてもよいし、炭素原子に結合する置換基に含まれていてもよい。
Ｌとしては、－ＡｒＳＯ３ －、－ＡｒＳＯ４ －、－ＳＯ３ －、－ＳＯ４－、－ＰＯ３ －又は－ＣＯＯ－が好ましい。－ＡｒＳＯ３ －は、アリールスルホン酸塩である。－ＡｒＳＯ４ －は、アリール硫酸塩である。
Ｍとしては、Ｈ、金属原子、ＮＲ５Ｚ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムが好ましい。Ｒ５Ｚは、Ｈ又は有機基（好ましくは炭素数１～３のアルキル基）が好ましい。
より詳細には、以下に記載するアニオン性炭化水素系界面活性剤が挙げられる。
上記炭化水素系界面活性剤としては、ＲＺ－Ｌ－Ｍ（式中、ＲＺが、１個以上の炭素原子を含有する１価の有機基である。Ｌが、－ＡｒＳＯ３ －、－ＳＯ３ －、－ＳＯ４－、－ＰＯ３ －又は－ＣＯＯ－であり、Ｍが、Ｈ、金属原子、ＮＲ５Ｚ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウム、Ｒ５Ｚは、Ｈ又は有機基、－ＡｒＳＯ３ －は、アリールスルホン酸塩である。）によって表されるアニオン性界面活性剤も挙げられる。
具体的には、ラウリル酸、ラウリル硫酸（ドデシル硫酸）などに代表されるようなＣＨ３－（ＣＨ２）ｎ－Ｌ－Ｍ（式中、ｎが、６～１７の整数である。ＬおよびＭが、上記と同じ）によって表されるものが挙げられる。
ＲＺが、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であってもよい。ＲＺのアルキル基の炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでもよいし、環を形成してもよい
ＲＺが、１２～１６個の炭素原子を有するアルキル基であり、Ｌ－Ｍが、硫酸塩であるものの混合物も使用できる。
その他の界面活性能を有する化合物としては、Ｒ６Ｚ（－Ｌ－Ｍ）２（式中、Ｒ６Ｚが、１個以上の炭素原子を含有する１価の有機基である。Ｌが、－ＡｒＳＯ３ －、－ＳＯ３ －、－ＳＯ４－、－ＰＯ３ －又は－ＣＯＯ－であり、Ｍが、Ｈ、金属原子、ＮＲ５Ｚ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウム、Ｒ５Ｚは、Ｈ又は有機基、－ＡｒＳＯ３ －は、アリールスルホン酸塩である。）によって表されるアニオン性界面活性剤も挙げられる。
Ｒ６Ｚが、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキレン基であってもよい。Ｒ６Ｚのアルキレン基の炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでもよいし、環を形成してもよい。
上記炭化水素系界面活性剤としては、Ｒ７Ｚ（－Ｌ－Ｍ）３（式中、Ｒ７Ｚが、１個以上の炭素原子を含有する１価の有機基である。Ｌが、－ＡｒＳＯ３ －、－ＳＯ３ －、－ＳＯ４－、－ＰＯ３ －又は－ＣＯＯ－であり、Ｍが、Ｈ、金属原子、ＮＲ５Ｚ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウム、Ｒ５ＺはＨ又は有機基である。－ＡｒＳＯ３ －は、アリールスルホン酸塩である。）によって表されるアニオン性界面活性剤も挙げられる。
Ｒ７Ｚが、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキリジン基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキリジン基であってもよい。Ｒ７Ｚのアルキリジン基の炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでもよいし、環を形成してもよい。
上記Ｒ５ｚはＨ又はアルキル基が好ましく、Ｈ又は炭素数１～１０のアルキル基がより好ましく、Ｈ又は炭素数１～４のアルキル基が更に好ましい。
本開示中、特に断りのない限り、「置換基」は、置換可能な基を意味する。当該「置換基」の例は、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基、ヘテロ環オキシ基、脂肪族オキシカルボニル基、芳香族オキシカルボニル基、ヘテロ環オキシカルボニル基、カルバモイル基、脂肪族スルホニル基、芳香族スルホニル基、ヘテロ環スルホニル基、脂肪族スルホニルオキシ基、芳香族スルホニルオキシ基、ヘテロ環スルホニルオキシ基、スルファモイル基、脂肪族スルホンアミド基、芳香族スルホンアミド基、ヘテロ環スルホンアミド基、アミノ基、脂肪族アミノ基、芳香族アミノ基、ヘテロ環アミノ基、脂肪族オキシカルボニルアミノ基、芳香族オキシカルボニルアミノ基、ヘテロ環オキシカルボニルアミノ基、脂肪族スルフィニル基、芳香族スルフィニル基、脂肪族チオ基、芳香族チオ基、ヒドロキシ基、シアノ基、スルホ基、カルボキシ基、脂肪族オキシアミノ基、芳香族オキシアミノ基、カルバモイルアミノ基、スルファモイルアミノ基、ハロゲン原子、スルファモイルカルバモイル基、カルバモイルスルファモイル基、ジ脂肪族オキシホスフィニル基、又は、ジ芳香族オキシホスフィニル基を包含する。
上記炭化水素系界面活性剤としては、シロキサン炭化水素系界面活性剤も挙げられる。シロキサン炭化水素系界面活性剤については、米国特許第６，８４１，６１６号明細書にも開示されている。
アニオン性炭化水素系界面活性剤としては、Ａｋｚｏ Ｎｏｂｅｌ Ｓｕｒｆａｃｅ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ＬＬＣのスルホサクシネート界面活性剤Ｌａｎｋｒｏｐｏｌ（登録商標）Ｋ８３００等も挙げられる。
スルホサクシネート界面活性剤としては、スルホコハク酸ジイソデシルＮａ塩、（ＣｌａｒｉａｎｔのＥｍｕｌｓｏｇｅｎ（登録商標）ＳＢ１０）、スルホコハク酸ジイソトリデシルＮａ塩（Ｃｅｓａｐｉｎｉａ ＣｈｅｍｉｃａｌｓのＰｏｌｉｒｏｌ（登録商標）ＴＲ／ＬＮＡ）等が挙げられる。
上記炭化水素系界面活性剤としては、Ｏｍｎｏｖａ Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ，Ｉｎｃ．のＰｏｌｙＦｏｘ（登録商標）界面活性剤（ＰｏｌｙＦｏｘＴＭＰＦ－１５６Ａ、ＰｏｌｙＦｏｘＴＭＰＦ－１３６Ａ等）も挙げられる。
上記炭化水素系界面活性剤としては、アニオン性炭化水素系界面活性剤であることが好ましい。アニオン性炭化水素系界面活性剤としては上述したものを採用できるが、例えば、下記のアニオン性炭化水素系界面活性剤を好適に採用できる。
上記炭化水素系界面活性剤としては、一般式（１）：
（式中、Ｒ１～Ｒ５はＨ又は一価の置換基を表し、但し、Ｒ１及びＲ３のうち、少なくとも１つは、一般式：－Ｙ－Ｒ６で示される基、Ｒ２及びＲ５のうち、少なくとも１つは、一般式：－Ｘ－Ａで示される基、又は、一般式：－Ｙ－Ｒ６で示される基を表す。
また、Ｘは、各出現において同一又は異なって、２価の連結基、又は、結合手；
Ａは、各出現において同一又は異なって、－ＣＯＯＭ、－ＳＯ３Ｍ又は－ＯＳＯ３Ｍ（Ｍは、Ｈ、金属原子、ＮＲ７ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウム、Ｒ７は、Ｈ又は有機基）；
Ｙは、各出現において同一又は異なって、－Ｓ（＝Ｏ）２－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＲ８－及び－ＮＲ８ＣＯ－からなる群より選択される２価の連結基、又は、結合手、Ｒ８はＨ又は有機基；
Ｒ６は、各出現において同一又は異なって、カルボニル基、エステル基、アミド基及びスルホニル基からなる群より選択される少なくとも１種を炭素－炭素原子間に含んでもよい炭素数１以上のアルキル基；
を表す。
Ｒ１～Ｒ５のうち、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。）で示される界面活性剤（以下、界面活性剤（１）ともいう）が好ましく例示される。
界面活性剤（１）について説明する。
式中、Ｒ１～Ｒ５はＨ又は一価の置換基を表し、但し、Ｒ１及びＲ３のうち、少なくとも１つは、一般式：－Ｙ－Ｒ６で示される基、Ｒ２及びＲ５のうち、少なくとも１つは、一般式：－Ｘ－Ａで示される基、又は、一般式：－Ｙ－Ｒ６で示される基を表す。Ｒ１～Ｒ５のうち、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。
Ｒ１としての上記アルキル基が有してもよい上記置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３～１０の環状のアルキル基、ヒドロキシ基が好ましく、メチル基、エチル基が特に好ましい。
Ｒ１としての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
Ｒ１としては、置換基を有してもよい炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３～１０の環状のアルキル基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３～１０の環状のアルキル基がより好ましく、置換基を有さない炭素数１～１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、置換基を有さない炭素数１～３の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更により好ましく、メチル基（－ＣＨ３）又はエチル基（－Ｃ２Ｈ５）が特に好ましく、メチル基（－ＣＨ３）が最も好ましい。
一価の置換基としては、一般式：－Ｙ－Ｒ６で示される基、一般式：－Ｘ－Ａで示される基、－Ｈ、置換基を有していてもよいＣ１－２０のアルキル基、－ＮＨ２、－ＮＨＲ９（Ｒ９は有機基）、－ＯＨ、－ＣＯＯＲ９（Ｒ９は有機基）又は－ＯＲ９（Ｒ９は有機基）が好ましい。上記アルキル基の炭素数は１～１０が好ましい。
Ｒ９としては、Ｃ１－１０のアルキル基又はＣ１－１０のアルキルカルボニル基が好ましく、Ｃ１－４のアルキル基又はＣ１－４のアルキルカルボニル基がより好ましい。
式中、Ｘは、各出現において同一又は異なって、２価の連結基、又は、結合手を表す。
Ｒ６がカルボニル基、エステル基、アミド基及びスルホニル基のいずれをも含まない場合は、Ｘはカルボニル基、エステル基、アミド基及びスルホニル基からなる群より選択される少なくとも１種を含む２価の連結基であることが好ましい。
Ｘとしては、－ＣＯ－、－Ｓ（＝Ｏ）２－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｓ（＝Ｏ）２－Ｏ－、－Ｏ－Ｓ（＝Ｏ）２－、－ＣＯＮＲ８－及び－ＮＲ８ＣＯ－からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む２価の連結基、Ｃ１－１０のアルキレン基、又は、結合手が好ましい。Ｒ８はＨ又は有機基を表す。
Ｒ８における有機基としてはアルキル基が好ましい。Ｒ８としては、Ｈ又はＣ１－１０の有機基が好ましく、Ｈ又はＣ１－４の有機基がより好ましく、Ｈ又はＣ１－４のアルキル基が更に好ましく、Ｈが更により好ましい。
式中、Ａは、各出現において同一又は異なって、－ＣＯＯＭ、－ＳＯ３Ｍ又は－ＯＳＯ３Ｍ（Ｍは、Ｈ、金属原子、ＮＲ７ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウム、Ｒ７はＨ又は有機基である。４つのＲ７は、同一でも異なっていてもよい。）を表す。一般式（１）において、Ａは－ＣＯＯＭであることが好適な態様の一つである。
Ｒ７における有機基としてはアルキル基が好ましい。Ｒ７としては、Ｈ又はＣ１－１０の有機基が好ましく、Ｈ又はＣ１－４の有機基がより好ましく、Ｈ又はＣ１－４のアルキル基が更に好ましい。
上記金属原子としては、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。
Ｍとしては、Ｈ、金属原子又はＮＲ７ ４が好ましく、Ｈ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）又はＮＲ７ ４がより好ましく、Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ又はＮＨ４が更に好ましく、Ｎａ、Ｋ又はＮＨ４が更により好ましく、Ｎａ又はＮＨ４が特に好ましく、ＮＨ４が最も好ましい。
式中、Ｙは、各出現において同一又は異なって、－Ｓ（＝Ｏ）２－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＲ８－及び－ＮＲ８ＣＯ－からなる群より選択される２価の連結基、又は、結合手、Ｒ８はＨ又は有機基を表す。
Ｙとしては、結合手、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＲ８－及び－ＮＲ８ＣＯ－からなる群より選択される２価の連結基が好ましく、結合手、－ＣＯＯ－及び－ＯＣＯ－からなる群より選択される２価の連結基がより好ましい。
Ｒ８における有機基としてはアルキル基が好ましい。Ｒ８としては、Ｈ又はＣ１－１０の有機基が好ましく、Ｈ又はＣ１－４の有機基がより好ましく、Ｈ又はＣ１－４のアルキル基が更に好ましく、Ｈが更により好ましい。
式中、Ｒ６は、各出現において同一又は異なって、カルボニル基、エステル基、アミド基及びスルホニル基からなる群より選択される少なくとも１種を炭素－炭素原子間に含んでもよい炭素数１以上のアルキル基を表す。上記Ｒ６の有機基の炭素数は、２以上が好ましく、２０以下が好ましく、２～２０がより好ましく、２～１０がさらに好ましい。
Ｒ６のアルキル基は、炭素数が２以上である場合、炭素－炭素原子間にカルボニル基、エステル基、アミド基及びスルホニル基からなる群より選択される少なくとも１種を１又は２以上含むことができるが、上記アルキル基の両末端にこれらの基を含まない。上記Ｒ６のアルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
Ｒ６としては、
一般式：－Ｒ１０－ＣＯ－Ｒ１１で示される基、
一般式：－Ｒ１０－ＣＯＯ－Ｒ１１で示される基、
一般式：－Ｒ１１で示される基、
一般式：－Ｒ１０－ＮＲ８ＣＯ－Ｒ１１で示される基、又は、
一般式：－Ｒ１０－ＣＯＮＲ８－Ｒ１１で示される基、
（式中、Ｒ８はＨ又は有機基を表す。Ｒ１０はアルキレン基、Ｒ１１は置換基を有してもよいアルキル基）が好ましい。
Ｒ６としては、一般式：－Ｒ１０－ＣＯ－Ｒ１１で示される基がより好ましい。
Ｒ８における有機基としてはアルキル基が好ましい。Ｒ８としては、Ｈ又はＣ１－１０の有機基が好ましく、Ｈ又はＣ１－４の有機基がより好ましく、Ｈ又はＣ１－４のアルキル基が更に好ましく、Ｈが更により好ましい。
Ｒ１０のアルキレン基の炭素数は、１以上が好ましく、３以上がより好ましく、２０以下が好ましく、１２以下がより好ましく、１０以下が更に好ましく、８以下が特に好ましい。また、Ｒ１０のアルキレン基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、３～１０が更に好ましい。
Ｒ１１のアルキル基の炭素数は、１～２０であってよく、１～１５が好ましく、１～１２がより好ましく、１～１０が更に好ましく、１～８が更により好ましく、１～６が殊更好ましく、１～３が尚更に好ましく、１又は２が特に好ましく、１が最も好ましい。また、上記Ｒ１１のアルキル基は、１級炭素、２級炭素、３級炭素のみで構成されていることが好ましく、１級炭素、２級炭素のみで構成されるのが特に好ましい。すなわち、Ｒ１１としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基が好ましく、特にメチル基が最も好ましい。
一般式（１）において、Ｒ２及びＲ５のうち、少なくとも１つは、一般式：－Ｘ－Ａで示される基であり、該Ａは－ＣＯＯＭであることも好適な態様の一つである。
上記炭化水素系界面活性剤としては、下記式（１－０Ａ）：
（式中、Ｒ１Ａ～Ｒ５Ａは、Ｈ、炭素－炭素原子間にエステル基を含んでもよい１価の炭化水素基、又は、一般式：－ＸＡ－Ａで示される基である。但し、Ｒ２Ａ及びＲ５Ａの少なくとも１つは、一般式：－ＸＡ－Ａで示される基を表す。
ＸＡは、各出現において同一又は異なって、２価の炭化水素基、又は、結合手；
Ａは、各出現において同一又は異なって、－ＣＯＯＭ（Ｍは、Ｈ、金属原子、ＮＲ７ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウム、Ｒ７は、Ｈ又は有機基）；
Ｒ１Ａ～Ｒ５Ａのうち、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。）で示される界面活性剤（１－０Ａ）等も挙げられる。
一般式（１－０Ａ）中、Ｒ１Ａ～Ｒ５Ａにおいて、炭素－炭素原子間にエステル基を含んでもよい１価の炭化水素基の炭素数は１～５０であることが好ましく、５～２０であることがより好ましい。Ｒ１Ａ～Ｒ５Ａのうち、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。上記炭素－炭素原子間にエステル基を含んでもよい１価の炭化水素基としては、アルキル基が好ましい。
式中、ＸＡにおいて、２価の炭化水素基の炭素数は１～５０であることが好ましく、５～２０であることがより好ましい。上記２価の炭化水素基としては、アルキレン基、アルカンジイル基等が挙げられ、アルキレン基が好ましい。
一般式（１－０Ａ）中、Ｒ２Ａ及びＲ５Ａのいずれか１つが、上記一般式：－ＸＡ－Ａで示される基であることが好ましく、Ｒ２Ａが上記一般式：－ＸＡ－Ａで示される基であることがより好ましい。
一般式（１－０Ａ）中、好適な態様としては、Ｒ２Ａが、一般式：－ＸＡ－Ａで示される基であり、Ｒ１Ａ、Ｒ３Ａ、Ｒ４Ａ及びＲ５ＡがＨである態様である。この場合、ＸＡは結合手又は炭素数１～５のアルキレン基であることが好ましい。
一般式（１－０Ａ）中、好適な態様としてはまた、Ｒ２Ａが、一般式：－ＸＡ－Ａで示される基であり、Ｒ１Ａ及びＲ３Ａが－ＹＡ－Ｒ６で示される基であり、ＹＡは、各出現において同一又は異なって、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、又は、結合手であり、Ｒ６は各出現において同一又は異なって、炭素数１以上のアルキル基である態様である。この場合、Ｒ４Ａ及びＲ５ＡがＨであることが好ましい。
一般式（１－０Ａ）で表される炭化水素系界面活性剤としては、例えば、グルタル酸又はその塩、アジピン酸又はその塩、ピメリン酸又はその塩、スベリン酸又はその塩、アゼライン酸又はその塩、セバシン酸又はその塩等が挙げられる。
また、一般式（１－０Ａ）で表される脂肪族型のカルボン酸型炭化水素系界面活性剤は２鎖２親水基型合成界面活性剤であってもよく、例えば、ジェミニ型界面活性剤として、ジェミニサ－フ（中京油脂株式会社）、Ｇｅｍｓｕｒｆ α１４２（炭素数１２ ラウリル基）、Ｇｅｍｓｕｒｆ α１０２（炭素数１０）、Ｇｅｍｓｕｒｆ α１８２（炭素数１４）等が挙げられる。
上記炭化水素系界面活性剤としては、また、カルボニル基（但し、カルボキシル基中のカルボニル基を除く）を１つ以上有する炭化水素系界面活性剤も挙げられる。
また、上記カルボニル基（但し、カルボキシル基中のカルボニル基を除く）を１つ以上有する炭化水素系界面活性剤にラジカル処理又は酸化処理を行った炭化水素系界面活性剤も使用できる。
上記ラジカル処理とは、カルボニル基（但し、カルボキシル基中のカルボニル基を除く）を１つ以上有する炭化水素系界面活性剤にラジカルを発生させる処理であればよく、例えば、反応器に、脱イオン水、炭化水素系界面活性剤を加え、反応器を密閉し、系内を窒素で置換し、反応器を昇温・昇圧した後、重合開始剤を仕込み、一定時間撹拌した後、反応器を大気圧になるまで脱圧を行い、冷却を行う処理である。上記酸化処理とは、カルボニル基（但し、カルボキシル基中のカルボニル基を除く）を１つ以上有する炭化水素系界面活性剤に酸化剤を添加させる処理である。酸化剤としては、例えば、酸素、オゾン、過酸化水素水、酸化マンガン（ＩＶ）、過マンガン酸カリウム、二クロム酸カリウム、硝酸、二酸化硫黄などが挙げられる。ラジカル処理または酸化処理を促進するために、ラジカル処理または酸化処理をｐＨが調整された水溶液中で行ってもよい。ラジカル処理または酸化処理を行うための水溶液のｐＨは７未満であることが好ましく、硫酸、硝酸、塩酸などを用いて、水溶液のｐＨを調整できる。
上記カルボニル基（但し、カルボキシル基中のカルボニル基を除く）を１つ以上有する炭化水素系界面活性剤としては、式：ＲＸ－ＸＸ（式中、ＲＸは、カルボニル基（但し、カルボキシル基中のカルボニル基を除く）を１つ以上有する炭素数１～２０００のフッ素非含有有機基であり、ＸＸは、－ＯＳＯ３ＸＸ１、－ＣＯＯＸＸ１又は－ＳＯ３ＸＸ１（ＸＸ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲＸ１ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、ＲＸ１はＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。））で示される界面活性剤が好ましい。ＲＸは、炭素数が５００以下であることが好ましく、１００以下であることがより好ましく、５０以下であることが更に好ましく、３０以下であることが更により好ましい。ＲＸ１の有機基としてはアルキル基が好ましい。ＲＸ１としてはＨ又は炭素数１～１０の有機基が好ましく、Ｈ又は炭素数１～４の有機基がより好ましく、Ｈ又は炭素数１～４のアルキル基が更に好ましい。
上記炭化水素系界面活性剤としては、下記式（ａ）：
（式中、Ｒ１ａは、炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素原子に結合した水素原子がヒドロキシ基又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよく、炭素数が２以上の場合はカルボニル基を含んでもよく、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を形成していてもよい。Ｒ２ａ及びＲ３ａは、独立に、単結合又は２価の連結基である。Ｒ１ａ、Ｒ２ａ及びＲ３ａは、炭素数が合計で６以上である。Ｘａは、Ｈ、金属原子、ＮＲ４ａ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ４ａはＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。Ｒ１ａ、Ｒ２ａ及びＲ３ａは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。）で示される界面活性剤（ａ）、下記式（ｂ）：
（式中、Ｒ１ｂは、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を形成していてもよい。Ｒ２ｂ及びＲ４ｂは、独立に、Ｈ又は置換基である。Ｒ３ｂは、置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキレン基である。ｎは、１以上の整数である。ｐ及びｑは、独立に、０以上の整数である。Ｘｂは、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ｂ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ５ｂはＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ及びＲ４ｂは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。Ｌは、単結合、－ＣＯ２－Ｂ－＊、－ＯＣＯ－Ｂ－＊、－ＣＯＮＲ６ｂ－Ｂ－＊、－ＮＲ６ｂＣＯ－Ｂ－＊、又は、－ＣＯ－（但し、－ＣＯ２－Ｂ－、－ＯＣＯ－Ｂ－、－ＣＯＮＲ６ｂ－Ｂ－、－ＮＲ６ＣＯ－Ｂ－に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１から１０のアルキレン基であり、Ｒ６ｂは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１～４のアルキル基である。＊は、式中の－ＯＳＯ３Ｘｂに結合する側を指す。）で示される界面活性剤（ｂ）、下記式（ｃ）：
（式中、Ｒ１ｃは、炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素原子に結合した水素原子がヒドロキシ基又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよく、炭素数が２以上の場合はカルボニル基を含んでもよく、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を形成していてもよい。Ｒ２ｃ及びＲ３ｃは、独立に、単結合又は２価の連結基である。Ｒ１ｃ、Ｒ２ｃ及びＲ３ｃは、炭素数が合計で５以上である。Ａｃは、－ＣＯＯＸｃ又は－ＳＯ３Ｘｃ（Ｘｃは、Ｈ、金属原子、ＮＲ４ｃ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ４ｃはＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。）である。Ｒ１ｃ、Ｒ２ｃ及びＲ３ｃは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。）で示される界面活性剤（ｃ）、及び、下記式（ｄ）：
（式中、Ｒ１ｄは、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を形成していてもよい。Ｒ２ｄ及びＲ４ｄは、独立に、Ｈ又は置換基である。Ｒ３ｄは、置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキレン基である。ｎは、１以上の整数である。ｐ及びｑは、独立に、０以上の整数である。Ａｄは、－ＳＯ３Ｘｄ又は－ＣＯＯＸｄ（Ｘｄは、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ｄ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ５ｄはＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。）である。Ｒ１ｄ、Ｒ２ｄ、Ｒ３ｄ及びＲ４ｄは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。Ｌは、単結合、－ＣＯ２－Ｂ－＊、－ＯＣＯ－Ｂ－＊、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－＊、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－＊、又は、－ＣＯ－（但し、－ＣＯ２－Ｂ－、－ＯＣＯ－Ｂ－、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１から１０のアルキレン基であり、Ｒ６ｄは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１～４のアルキル基である。＊は、式中のＡｄに結合する側を指す。）で示される界面活性剤（ｄ）からなる群より選択される少なくとも１種がより好ましい。
界面活性剤（ａ）について説明する。
式（ａ）中、Ｒ１ａは、炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３以上の環状のアルキル基である。
上記アルキル基は、炭素数が３以上の場合、２つの炭素原子間にカルボニル基（－Ｃ（＝Ｏ）－）を含んでもよい。また、上記アルキル基は、炭素数が２以上の場合、上記アルキル基の末端に上記カルボニル基を含むこともできる。すなわち、ＣＨ３－Ｃ（＝Ｏ）－で示されるアセチル基等のアシル基も、上記アルキル基に含まれる。
また、上記アルキル基は、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含むこともできるし、環を形成することもできる。上記複素環としては、不飽和複素環が好ましく、含酸素不飽和複素環がより好ましく、例えば、フラン環等が挙げられる。Ｒ１ａにおいて、２価の複素環が２つの炭素原子間に挿入されていてもよいし、２価の複素環が末端に位置して－Ｃ（＝Ｏ）－と結合してもよいし、１価の複素環が上記アルキル基の末端に位置してもよい。
なお、本開示において、上記アルキル基の「炭素数」には、カルボニル基を構成する炭素原子の数及び上記複素環を構成する炭素原子の数も含めるものとする。例えば、ＣＨ３－Ｃ（＝Ｏ）－ＣＨ２－で示される基は炭素数が３であり、ＣＨ３－Ｃ（＝Ｏ）－Ｃ２Ｈ４－Ｃ（＝Ｏ）－Ｃ２Ｈ４－で示される基は炭素数が７であり、ＣＨ３－Ｃ（＝Ｏ）－で示される基は炭素数が２である。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（－ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ１０１ａ（式中、Ｒ１０１ａはアルキル基）で示される基が挙げられる。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
式中、Ｒ２ａ及びＲ３ａは、独立に、単結合又は２価の連結基である。
Ｒ２ａ及びＲ３ａは、独立に、単結合又は炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基又は炭素数３以上の環状のアルキレン基であることが好ましい。
Ｒ２ａ及びＲ３ａを構成する上記アルキレン基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（－ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ１０２ａ（式中、Ｒ１０２ａはアルキル基）で示される基が挙げられる。
上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキレン基であることが好ましい。
Ｒ１ａ、Ｒ２ａ及びＲ３ａは、炭素数が合計で６以上である。合計の炭素数としては、８以上が好ましく、９以上がより好ましく、１０以上が更に好ましく、２０以下が好ましく、１８以下がより好ましく、１５以下が更に好ましい。
Ｒ１ａ、Ｒ２ａ及びＲ３ａは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。
式（ａ）中、Ｘａは、Ｈ、金属原子、ＮＲ４ａ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ４ａはＨ又は有機基である。４つのＲ４ａは、同一でも異なっていてもよい。Ｒ４ａにおける有機基としてはアルキル基が好ましい。Ｒ４ａとしては、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基が好ましく、Ｈ又は炭素数１～４の有機基がより好ましく、Ｈ又は炭素数１～４のアルキル基が更に好ましい上記金属原子としては、１、２価の金属原子が挙げられ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。
Ｘａとしては、Ｈ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）又はＮＲ４ａ ４が好ましく、水に溶解しやすいことから、Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ又はＮＨ４がより好ましく、水に更に溶解しやすいことから、Ｎａ、Ｋ又はＮＨ４が更に好ましく、Ｎａ又はＮＨ４が特に好ましく、除去が容易であることから、ＮＨ４が最も好ましい。ＸａがＮＨ４であると、上記界面活性剤の水性媒体への溶解性が優れるとともに、ポリマー中又は最終製品中に金属成分が残留しにくい。
界面活性剤（ａ）としては、次の界面活性剤が例示できる。各式中、Ｘａは上述のとおりである。
次に界面活性剤（ｂ）について説明する。
式（ｂ）中、Ｒ１ｂは、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基である。
上記アルキル基は、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含むこともできるし、環を形成することもできる。上記複素環としては、不飽和複素環が好ましく、含酸素不飽和複素環がより好ましく、例えば、フラン環等が挙げられる。Ｒ１ｂにおいて、２価の複素環が２つの炭素原子間に挿入されていてもよいし、２価の複素環が末端に位置して－Ｃ（＝Ｏ）－と結合してもよいし、１価の複素環が上記アルキル基の末端に位置してもよい。
なお、本開示において、上記アルキル基の「炭素数」には、上記複素環を構成する炭素原子の数も含めるものとする。
Ｒ１ｂとしての上記アルキル基が有してもよい上記置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３～１０の環状のアルキル基、ヒドロキシ基が好ましく、メチル基、エチル基が特に好ましい。
Ｒ１ｂとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
Ｒ１ｂとしては、置換基を有してもよい炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３～１０の環状のアルキル基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３～１０の環状のアルキル基がより好ましく、置換基を有さない炭素数１～１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、置換基を有さない炭素数１～３の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更により好ましく、メチル基（－ＣＨ３）又はエチル基（－Ｃ２Ｈ５）が特に好ましく、メチル基（－ＣＨ３）が最も好ましい。
式（ｂ）中、Ｒ２ｂ及びＲ４ｂは、独立に、Ｈ又は置換基である。複数個のＲ２ｂ及びＲ４ｂは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
Ｒ２ｂ及びＲ４ｂとしての上記置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３～１０の環状のアルキル基、ヒドロキシ基が好ましく、メチル基、エチル基が特に好ましい。
Ｒ２ｂ及びＲ４ｂとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
Ｒ２ｂ及びＲ４ｂとしての上記アルキル基としては、カルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３～１０の環状のアルキル基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基がより好ましく、置換基を有さない炭素数１～３の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、メチル基（－ＣＨ３）又はエチル基（－Ｃ２Ｈ５）が特に好ましい。
Ｒ２ｂ及びＲ４ｂとしては、独立に、Ｈ又はカルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基が好ましく、Ｈ又は置換基を有さない炭素数１～３の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基がより好ましく、Ｈ、メチル基（－ＣＨ３）又はエチル基（－Ｃ２Ｈ５）が更により好ましく、Ｈが特に好ましい。
式（ｂ）中、Ｒ３ｂは、置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキレン基である。Ｒ３ｂは、複数個存在する場合、同一でも異なっていてもよい。
上記アルキレン基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキレン基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
上記アルキレン基としては、置換基を有してもよい炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基又は置換基を有してもよい炭素数３～１０の環状のアルキレン基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基又はカルボニル基を含まない炭素数３～１０の環状のアルキレン基が好ましく、置換基を有さない炭素数１～１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基がより好ましく、メチレン基（－ＣＨ２－）、エチレン基（－Ｃ２Ｈ４－）、イソプロピレン基（－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－）又はプロピレン基（－Ｃ３Ｈ６－）が更に好ましい。
Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ及びＲ４ｂは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよいが、環を形成していないことが好ましい。
式（ｂ）中、ｎは、１以上の整数である。ｎとしては、１～４０の整数が好ましく、１～３０の整数がより好ましく、５～２５の整数が更に好ましく、５～９、１１～２５の整数が特に好ましい。
式（ｂ）中、ｐ及びｑは、独立に、０以上の整数である。ｐとしては、０～１０の整数が好ましく、０又は１がより好ましい。ｑとしては、０～１０の整数が好ましく、０～５の整数がより好ましい。
ｎ、ｐ及びｑは、合計が５以上の整数であることが好ましい。ｎ、ｐ及びｑの合計は８以上の整数であることがより好ましい。ｎ、ｐ及びｑの合計はまた、６０以下の整数であることが好ましく、５０以下の整数であることがより好ましく、４０以下の整数であることが更に好ましい。
式（ｂ）中、Ｘｂは、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ｂ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ５ｂはＨ又は有機基である。４つのＲ５ｂは、同一でも異なっていてもよい。Ｒ５ｂにおける有機基としてはアルキル基が好ましい。Ｒ５ｂとしては、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基が好ましく、Ｈ又は炭素数１～４の有機基がより好ましく、Ｈ又は炭素数１～４のアルキル基が更に好ましい。上記金属原子としては、１、２価の金属原子が挙げられ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。Ｘｂは金属原子又はＮＲ５ｂ ４（Ｒ５ｂは上記のとおり）であってよい。
Ｘｂとしては、Ｈ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）又はＮＲ５ｂ ４が好ましく、水に溶解しやすいことから、Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ又はＮＨ４がより好ましく、水に更に溶解しやすいことから、Ｎａ、Ｋ又はＮＨ４が更に好ましく、Ｎａ又はＮＨ４が特に好ましく、除去が容易であることから、ＮＨ４が最も好ましい。ＸｂがＮＨ４であると、上記界面活性剤の水性媒体への溶解性が優れるとともに、ポリマー中又は最終製品中に金属成分が残留しにくい。
式（ｂ）中、Ｌは、単結合、－ＣＯ２－Ｂ－＊、－ＯＣＯ－Ｂ－＊、－ＣＯＮＲ６ｂ－Ｂ－＊、－ＮＲ６ｂＣＯ－Ｂ－＊、又は、－ＣＯ－（但し、－ＣＯ２－Ｂ－、－ＯＣＯ－Ｂ－、－ＣＯＮＲ６ｂ－Ｂ－、－ＮＲ６ＣＯ－Ｂ－に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキレン基であり、Ｒ６ｂは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１～４のアルキル基である。上記アルキレン基は、炭素数が１～５であることがより好ましい。また、上記Ｒ６は、Ｈ又はメチル基であることがより好ましい。＊は、式中の－ＯＳＯ３Ｘｂに結合する側を指す。
Ｌは単結合であることが好ましい。
界面活性剤（ｂ）としては、例えば、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ３）３ＣＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ３）２ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ２）５ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｈ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｌｉ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｋ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３ＮＨ４、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ３）３ＣＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ３）２ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ２）５ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｈ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｌｉ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｋ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３ＮＨ４、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ等が挙げられる。
界面活性剤（ｃ）について説明する。
式（ｃ）中、Ｒ１ｃは、炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３以上の環状のアルキル基である。
上記アルキル基は、炭素数が３以上の場合、２つの炭素原子間にカルボニル基（－Ｃ（＝Ｏ）－）を含んでもよい。また、上記アルキル基は、炭素数が２以上の場合、上記アルキル基の末端に上記カルボニル基を含むこともできる。すなわち、ＣＨ３－Ｃ（＝Ｏ）－で示されるアセチル基等のアシル基も、上記アルキル基に含まれる。
また、上記アルキル基は、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含むこともできるし、環を形成することもできる。上記複素環としては、不飽和複素環が好ましく、含酸素不飽和複素環がより好ましく、例えば、フラン環等が挙げられる。Ｒ１ｃにおいて、２価の複素環が２つの炭素原子間に挿入されていてもよいし、２価の複素環が末端に位置して－Ｃ（＝Ｏ）－と結合してもよいし、１価の複素環が上記アルキル基の末端に位置してもよい。
なお、本開示において、上記アルキル基の「炭素数」には、カルボニル基を構成する炭素原子の数及び上記複素環を構成する炭素原子の数も含めるものとする。例えば、ＣＨ３－Ｃ（＝Ｏ）－ＣＨ２－で示される基は炭素数が３であり、ＣＨ３－Ｃ（＝Ｏ）－Ｃ２Ｈ４－Ｃ（＝Ｏ）－Ｃ２Ｈ４－で示される基は炭素数が７であり、ＣＨ３－Ｃ（＝Ｏ）－で示される基は炭素数が２である。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（－ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ１０１ｃ（式中、Ｒ１０１ｃはアルキル基）で示される基が挙げられる。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
式（ｃ）中、Ｒ２ｃ及びＲ３ｃは、独立に、単結合又は２価の連結基である。
Ｒ２ｃ及びＲ３ｃは、独立に、単結合又は炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基又は炭素数３以上の環状のアルキレン基であることが好ましい。
Ｒ２ｃ及びＲ３ｃを構成する上記アルキレン基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（－ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ１０２ｃ（式中、Ｒ１０２ｃはアルキル基）で示される基が挙げられる。
上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキレン基であることが好ましい。
Ｒ１ｃ、Ｒ２ｃ及びＲ３ｃは、炭素数が合計で５以上である。合計の炭素数としては、７以上が好ましく、９以上がより好ましく、２０以下が好ましく、１８以下がより好ましく、１５以下が更に好ましい。
Ｒ１ｃ、Ｒ２ｃ及びＲ３ｃは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。
式（ｃ）中、式中、Ａｃは、－ＣＯＯＸｃ又は－ＳＯ３Ｘｃ（Ｘｃは、Ｈ、金属原子、ＮＲ４ｃ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ４ｃはＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。）である。Ｒ４ｃにおける有機基としてはアルキル基が好ましい。Ｒ４ｃとしては、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基が好ましく、Ｈ又は炭素数１～４の有機基がより好ましく、Ｈ又は炭素数１～４のアルキル基が更に好ましい。上記金属原子としては、１、２価の金属原子が挙げられ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。
Ｘｃとしては、Ｈ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）又はＮＲ４ｃ ４が好ましく、水に溶解しやすいことから、Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ又はＮＨ４がより好ましく、水に更に溶解しやすいことから、Ｎａ、Ｋ又はＮＨ４が更に好ましく、Ｎａ又はＮＨ４が特に好ましく、除去が容易であることから、ＮＨ４が最も好ましい。ＸｃがＮＨ４であると、上記界面活性剤の水性媒体への溶解性が優れるとともに、ポリマー中又は最終製品中に金属成分が残留しにくい。
上記界面活性剤（ｃ）としては、次の界面活性剤が例示できる。各式中、Ａｃは上述のとおりである。
界面活性剤（ｄ）について説明する。
式（ｄ）中、Ｒ１ｄは、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基である。
上記アルキル基は、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含むこともできるし、環を形成することもできる。上記複素環としては、不飽和複素環が好ましく、含酸素不飽和複素環がより好ましく、例えば、フラン環等が挙げられる。Ｒ１ｄにおいて、２価の複素環が２つの炭素原子間に挿入されていてもよいし、２価の複素環が末端に位置して－Ｃ（＝Ｏ）－と結合してもよいし、１価の複素環が上記アルキル基の末端に位置してもよい。
なお、本開示において、上記アルキル基の「炭素数」には、上記複素環を構成する炭素原子の数も含めるものとする。
Ｒ１ｄとしての上記アルキル基が有してもよい上記置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３～１０の環状のアルキル基、ヒドロキシ基が好ましく、メチル基、エチル基が特に好ましい。
Ｒ１ｄとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
Ｒ１ｄとしては、置換基を有してもよい炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３～１０の環状のアルキル基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３～１０の環状のアルキル基がより好ましく、置換基を有さない炭素数１～１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、置換基を有さない炭素数１～３の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更により好ましく、メチル基（－ＣＨ３）又はエチル基（－Ｃ２Ｈ５）が特に好ましく、メチル基（－ＣＨ３）が最も好ましい。
式（ｄ）中、Ｒ２ｄ及びＲ４ｄは、独立に、Ｈ又は置換基である。複数個のＲ２ｄ及びＲ４ｄは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
Ｒ２ｄ及びＲ４ｄとしての上記置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３～１０の環状のアルキル基、ヒドロキシ基が好ましく、メチル基、エチル基が特に好ましい。
Ｒ２ｄ及びＲ４ｄとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
Ｒ２ｄ及びＲ４ｄとしての上記アルキル基としては、カルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３～１０の環状のアルキル基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基がより好ましく、置換基を有さない炭素数１～３の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、メチル基（－ＣＨ３）又はエチル基（－Ｃ２Ｈ５）が特に好ましい。
Ｒ２ｄ及びＲ４ｄとしては、独立に、Ｈ又はカルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基が好ましく、Ｈ又は置換基を有さない炭素数１～３の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基がより好ましく、Ｈ、メチル基（－ＣＨ３）又はエチル基（－Ｃ２Ｈ５）が更により好ましく、Ｈが特に好ましい。
式（ｄ）中、Ｒ３ｄは、置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキレン基である。Ｒ３ｄは、複数個存在する場合、同一でも異なっていてもよい。
上記アルキレン基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキレン基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
上記アルキレン基としては、置換基を有してもよい炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基又は置換基を有してもよい炭素数３～１０の環状のアルキレン基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基又はカルボニル基を含まない炭素数３～１０の環状のアルキレン基が好ましく、置換基を有さない炭素数１～１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基がより好ましく、メチレン基（－ＣＨ２－）、エチレン基（－Ｃ２Ｈ４－）、イソプロピレン基（－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－）又はプロピレン基（－Ｃ３Ｈ６－）が更に好ましい。
Ｒ１ｄ、Ｒ２ｄ、Ｒ３ｄ及びＲ４ｄは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。
式（ｄ）中、ｎは、１以上の整数である。ｎとしては、１～４０の整数が好ましく、１～３０の整数がより好ましく、５～２５の整数が更に好ましい。
式（ｄ）中、ｐ及びｑは、独立に、０以上の整数である。ｐとしては、０～１０の整数が好ましく、０又は１がより好ましい。ｑとしては、０～１０の整数が好ましく、０～５の整数がより好ましい。
ｎ、ｐ及びｑは、合計が６以上の整数であることが好ましい。ｎ、ｐ及びｑの合計は８以上の整数であることがより好ましい。ｎ、ｐ及びｑの合計はまた、６０以下の整数であることが好ましく、５０以下の整数であることがより好ましく、４０以下の整数であることが更に好ましい。
式（ｄ）中、Ａｄは、－ＳＯ３Ｘｄ又は－ＣＯＯＸｄ（Ｘｄは、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ｄ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ５ｄはＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。）である。Ｒ５ｄにおける有機基としてはアルキル基が好ましい。Ｒ５ｄとしては、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基が好ましく、Ｈ又は炭素数１～４の有機基がより好ましく、Ｈ又は炭素数１～４のアルキル基が更に好ましい。 上記金属原子としては、１、２価の金属原子が挙げられ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。Ｘｄは金属原子又はＮＲ５ｄ ４（Ｒ５ｄは上記のとおり）であってよい。
Ｘｄとしては、Ｈ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）又はＮＲ５ｄ ４が好ましく、水に溶解しやすいことから、Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ又はＮＨ４がより好ましく、水に更に溶解しやすいことから、Ｎａ、Ｋ又はＮＨ４が更に好ましく、Ｎａ又はＮＨ４が特に好ましく、除去が容易であることから、ＮＨ４が最も好ましい。ＸｄがＮＨ４であると、上記界面活性剤の水性媒体への溶解性が優れるとともに、ポリマー中又は最終製品中に金属成分が残留しにくい。
式（ｄ）中、Ｌは、単結合、－ＣＯ２－Ｂ－＊、－ＯＣＯ－Ｂ－＊、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－＊、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－＊、又は、－ＣＯ－（但し、－ＣＯ２－Ｂ－、－ＯＣＯ－Ｂ－、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキレン基であり、Ｒ６ｄは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１～４のアルキル基である。上記アルキレン基は、炭素数が１～５であることがより好ましい。また、上記Ｒ６ｄは、Ｈ又はメチル基であることがより好ましい。＊は、式中のＡｄに結合する側を指す。
Ｌは単結合であることが好ましい。
上記界面活性剤（ｄ）としては、例えば、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＫ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
（ＣＨ３）３ＣＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
（ＣＨ３）２ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
（ＣＨ２）５ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ２ＣＯＯＫ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯＯＫ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＯＯＨ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＯＯＬｉ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＯＯＮＨ４、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＯＯＫ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ３）３ＣＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ３）２ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ２）５ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｈ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｋ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｌｉ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３ＮＨ４、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＳＯ３Ｎａ
等が挙げられる。
上記炭化水素系界面活性剤としては、下記式Ｉ：
Ｒ－（ＸＺ）ｎ （Ｉ）
（式中、Ｒは、１つ以上の飽和又は不飽和、非環式又は環式の脂肪族基を含む疎水性炭化水素部分である。１つ以上の脂肪族基中のＣＨ３、ＣＨ２及びＣＨ基の合計に対するＣＨ３基の合計の百分率は少なくとも約７０％であり、疎水性部分はシロキサン単位を含まない。各Ｘは、同じであっても異なっていてもよく、イオン性親水性部分を表す。各Ｚは、同じであっても異なっていてもよく、イオン性親水性部分の１つ以上の対イオンを表す。ｎは、１～３である。）で示される化合物Ｉも挙げられる。
化合物Ｉは、フルオロモノマーの重合において重合開始剤及び／又は成長するフルオロポリマーラジカルとの低い反応性を示す。
化合物Ｉは、次式：
（式中、Ｙ＋は、水素、アンモニウム、四級アンモニウム、窒素複素環、アルカリ金属、又はアルカリ土類である。）で示される置換部分を含むことが好ましい。
化合物Ｉは、下記式ＩＩ：
（式中、Ｒ２’及びＲ２’’は、同じであるか又は異なり、４～１６個の炭素原子を有する飽和又は不飽和、非環式又は環式の脂肪族基であり、Ｒ２’及びＲ２’’基中のＣＨ３、ＣＨ２及びＣＨ基の合計に対するＣＨ３基の合計の百分率は少なくとも約７０％であるか、又はＲ２’及びＲ２’’は、一緒に結合して、エーテル又はエステル結合を含有し得る飽和又は不飽和脂肪族環を形成し得る。ただし、環中のＣＨ３、ＣＨ２及びＣＨ基の合計に対するＣＨ３基の合計の百分率は少なくとも約７０％である。Ｒ１は、水素、メトキシ、エトキシ又はフェノキシである。Ｙ＋は、水素、アンモニウム、四級アンモニウム、窒素複素環、アルカリ金属、又はアルカリ土類である。）で示される化合物ＩＩであることが好ましい。
化合物ＩＩとしては、例えば、以下の化合物が好ましい。
上記式中のＹ＋は、水素、アンモニウム、又はアルカリ金属であってよい。
化合物Ｉは、下記式ＩＩＩ：
（式中、Ｒ３、Ｒ４’、及びＲ４’’は、同じであるか又は異なり、水素あるいは４～１６個の炭素原子を有する飽和又は不飽和、非環式又は環式の脂肪族基であり、Ｒ３、Ｒ４’、及びＲ４’’基におけるＣＨ３、ＣＨ２及びＣＨ基の合計に関してＣＨ３の合計の百分率が少なくとも約７０％である。ただし、Ｒ３、Ｒ４’、及びＲ４’’のうちの少なくとも１つは水素ではなく、Ｒ４’及びＲ４’’が水素である場合、Ｒ３は水素ではなく、Ｒ３が水素である場合、Ｒ４’及びＲ４’’は水素ではない。Ｙ＋は、水素、アンモニウム、四級アンモニウム、窒素複素環、アルカリ金属、又はアルカリ土類である。）で示される化合物ＩＩＩであることも好ましい。
化合物ＩＩＩとしては、例えば、以下の化合物が好ましい。
上記式中のＹ＋は、水素、アンモニウム、又はアルカリ金属であってよい。
本開示の製造方法においては、上記炭化水素系界面活性剤を２種以上同時に用いてもよい。
また、炭化水素系界面活性剤としては、例えば、上述した界面活性剤（１）、上述したカルボニル基（但し、カルボキシル基中のカルボニル基を除く）を１つ以上有する炭化水素系界面活性剤、又は、カルボニル基（但し、カルボキシル基中のカルボニル基を除く）を１つ以上有する炭化水素系界面活性剤にラジカル処理または酸化処理を行った特定の炭化水素系界面活性剤もあげられる。
特定の炭化水素系界面活性剤は、上述したカルボニル基（但し、カルボキシル基中のカルボニル基を除く）を１つ以上有する炭化水素系界面活性剤、又は、カルボニル基（但し、カルボキシル基中のカルボニル基を除く）を１つ以上有する炭化水素系界面活性剤にラジカル処理または酸化処理を行った炭化水素系界面活性剤であることも好ましい。
ラジカル処理または酸化処理を行った特定の炭化水素系界面活性剤を用いることによって、平均一次粒子径およびアスペクト比が小さい一次粒子が容易に得られ、それによって、水性媒体中でのモノマーの重合が円滑に進行し、ポリマーを容易に製造することができる。
ラジカル処理とは、炭化水素系界面活性剤にラジカルを作用させる処理であればよく、例えば、反応器に、脱イオン水、炭化水素系界面活性剤を加え、反応器を密閉し、系内を窒素で置換し、反応器を昇温・昇圧した後、重合開始剤を仕込み、一定時間撹拌した後、反応器を大気圧になるまで脱圧を行い、冷却を行う処理である。上記酸化処理とは、カルボン酸型炭化水素系界面活性剤に酸化剤を作用させる処理である。酸化剤としては、例えば、酸素、オゾン、過酸化水素水、酸化マンガン（ＩＶ）、過マンガン酸カリウム、二クロム酸カリウム、硝酸、二酸化硫黄などが挙げられる。
上記特定の炭化水素系界面活性剤としては、上記一般式（１）で示される界面活性剤（１）、上記式（ａ）で表される界面活性剤（ａ）、上記式（ｂ）で示される界面活性剤（ｂ）、上記式（ｃ）で示される界面活性剤（ｃ）、上記式（ｄ）で示される界面活性剤（ｄ）、及び、これらの界面活性剤（ａ）～（ｄ）にラジカル処理または酸化処理を行った界面活性剤、からなる群より選択される少なくとも１種が好ましく、上記式（ａ）で表される界面活性剤（ａ）、上記式（ｂ）で示される界面活性剤（ｂ）、上記式（ｃ）で示される界面活性剤（ｃ）、上記式（ｄ）で示される界面活性剤（ｄ）、及び、これらの界面活性剤（ａ）～（ｄ）にラジカル処理または酸化処理を行った界面活性剤、からなる群より選択される少なくとも１種がより好ましい。
本開示の製造方法において用いる炭化水素系界面活性剤は、カルボン酸型炭化水素系界面活性剤であることも好ましい。カルボン酸型炭化水素系界面活性剤は、硫酸エステル系の界面活性剤と比較すると凝析完了時間が短くなる傾向にある。しかし、本開示の製造方法によれば、カルボン酸型炭化水素系界面活性剤を使用する場合であっても、長い凝析完了時間を有する水性分散液を製造することができる。
すなわち、本開示の製造方法は、炭化水素系界面活性剤がカルボン酸型炭化水素系界面活性剤である場合に特に好適である。
上記カルボン酸型炭化水素系界面活性剤としては、通常、カルボン酸塩の親水性部分と、アルキルなどの長鎖炭化水素部分である疎水性部分とを有するアニオン性の炭化水素系界面活性剤である。具体的には、カルボキシル基（－ＣＯＯＨ）又はカルボキシル基の水素原子が無機陽イオン（例えば、金属原子、アンモニウム等）で置換された基を有するものであれば限定されず、例えば、上述した炭化水素系界面活性剤の中から、カルボキシル基又はカルボキシル基の水素原子が無機陽イオンに置換された基を有する炭化水素系界面活性剤を使用することができる。
カルボン酸型炭化水素系界面活性剤としては、脂肪族型のカルボン酸型炭化水素系界面活性剤であってもよいし、脂肪族型以外のカルボン酸型炭化水素系であってもよい。
なお、本開示では、「脂肪族型のカルボン酸型炭化水素系界面活性剤」とは、カルボニル基（但し、カルボキシル基及びエステル基中のカルボニル基を除く）を含まないカルボン酸型の炭化水素系界面活性剤を意味する。
なお、上記エステル基は、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－で示される基を意味する。
カルボン酸型炭化水素系界面活性剤としては、例えば、上述した炭化水素系界面活性剤の中から、カルボキシル基又はカルボキシル基の水素原子が無機陽イオンに置換された基を有する炭化水素系界面活性剤を使用することができる。
カルボン酸型炭化水素系界面活性剤としては、界面活性剤（１）、上述した式：Ｒ６ｚ（－Ｌ－Ｍ）２によって表されるアニオン性界面活性剤、及び、上述した式：Ｒ７ｚ（－Ｌ－Ｍ）３によって表されるアニオン性界面活性剤のうち、カルボキシル基（－ＣＯＯＨ）又はカルボキシル基の水素原子が無機陽イオン（例えば、金属原子、アンモニウム等）で置換された基を有するもの、界面活性剤（１－０Ａ）、並びに、これらの界面活性剤にラジカル処理または酸化処理を行ったものからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。上記カルボン酸型の炭化水素系界面活性剤は、１種で用いてもよいし、２種以上の混合物であってもよい。
カルボン酸型炭化水素系界面活性剤としては、特に、ラウリン酸、カプリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、及び、これらの塩、並びに、これらの化合物にラジカル処理または酸化処理を行ったものからなる群より選択される少なくとも１種が好ましく、ラウリン酸及びその塩、並びに、これらの化合物にラジカル処理または酸化処理を行ったものからなる群より選択される少なくとも１種がより好ましく、ラウリン酸の塩及びこれにラジカル処理または酸化処理を行ったものからなる群より選択される少なくとも１種がさらに好ましく、ラウリン酸ナトリウム及びこれにラジカル処理または酸化処理を行ったものからなる群より選択される少なくとも１種がさらに好ましい。上記塩としては、カルボキシル基の水素が上述した式Ｍの金属原子、ＮＲ１０１ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムであるものが挙げられるが特に限定されない。
（含フッ素界面活性剤）
本開示の製造方法においては、炭化水素系界面活性剤に代えて、または、炭化水素系界面活性剤に加えて、含フッ素界面活性剤を用いることができる。含フッ素界面活性剤としては、アニオン性含フッ素界面活性剤等が挙げられる。上記アニオン性含フッ素界面活性剤は、例えば、アニオン性基を除く部分の総炭素数が２０以下のフッ素原子を含む界面活性剤であってよい。
上記含フッ素界面活性剤としてはまた、アニオン性部分の分子量が１０００以下のフッ素を含む界面活性剤であってよい。
なお、上記「アニオン性部分」は、上記含フッ素界面活性剤のカチオンを除く部分を意味する。例えば、後述する式（Ｉ）で表されるＦ（ＣＦ２）ｎ１ＣＯＯＭの場合には、「Ｆ（ＣＦ２）ｎ１ＣＯＯ」の部分である。
上記含フッ素界面活性剤として具体的には、米国特許出願公開第２００７／００１５８６４号明細書、米国特許出願公開第２００７／００１５８６５号明細書、米国特許出願公開第２００７／００１５８６６号明細書、米国特許出願公開第２００７／０２７６１０３号明細書、米国特許出願公開第２００７／０１１７９１４号明細書、米国特許出願公開第２００７／１４２５４１号明細書、米国特許出願公開第２００８／００１５３１９号明細書、米国特許第３２５０８０８号明細書、米国特許第３２７１３４１号明細書、特開２００３－１１９２０４号公報、国際公開第２００５／０４２５９３号、国際公開第２００８／０６０４６１号、国際公開第２００７／０４６３７７号、特開２００７－１１９５２６号公報、国際公開第２００７／０４６４８２号、国際公開第２００７／０４６３４５号、米国特許出願公開第２０１４／０２２８５３１号、国際公開第２０１３／１８９８２４号、国際公開第２０１３／１８９８２６号に記載されたもの等が挙げられる。
上記アニオン性含フッ素界面活性剤としては、下記一般式（Ｎ０）：
Ｘｎ０－Ｒｆｎ０－Ｙ０ （Ｎ０）
（式中、Ｘｎ０は、Ｈ、Ｃｌ又は及びＦである。Ｒｆｎ０は、炭素数３～２０で、鎖状、分枝鎖状または環状で、一部または全てのＨがＦにより置換されたアルキレン基であり、該アルキレン基は１つ以上のエーテル結合を含んでもよく、一部のＨがＣｌにより置換されていてもよい。Ｙ０はアニオン性基である。）で表される化合物が挙げられる。
Ｙ０のアニオン性基は、－ＣＯＯＭ、－ＳＯ２Ｍ、又は、－ＳＯ３Ｍであってよく、－ＣＯＯＭ、又は、－ＳＯ３Ｍであってよい。
Ｍは、Ｈ、金属原子、ＮＲ７ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ７は、Ｈ又は有機基である。
上記金属原子としては、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、例えば、Ｎａ、Ｋ又はＬｉである。
Ｒ７としては、Ｈ又はＣ１－１０の有機基であってよく、Ｈ又はＣ１－４の有機基であってよく、Ｈ又はＣ１－４のアルキル基であってよい。
Ｍは、Ｈ、金属原子又はＮＲ７ ４であってよく、Ｈ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）又はＮＲ７ ４であってよく、Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ又はＮＨ４であってよい。
上記Ｒｆｎ０は、Ｈの５０％以上がフッ素に置換されているものであってよい。
上記一般式（Ｎ０）で表される化合物としては、
下記一般式（Ｎ１）：
Ｘｎ０－（ＣＦ２）ｍ１－Ｙ０ （Ｎ１）
（式中、Ｘｎ０は、Ｈ、Ｃｌ及びＦであり、ｍ１は３～１５の整数であり、Ｙ０は、上記定義したものである。）で表される化合物、下記一般式（Ｎ２）：
Ｒｆｎ１－Ｏ－（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｍ２ＣＦＸｎ１－Ｙ０ （Ｎ２）
（式中、Ｒｆｎ１は、炭素数１～５のパーフルオロアルキル基であり、ｍ２は、０～３の整数であり、Ｘｎ１は、Ｆ又はＣＦ３であり、Ｙ０は、上記定義したものである。）で表される化合物、下記一般式（Ｎ３）：
Ｒｆｎ２（ＣＨ２）ｍ３－（Ｒｆｎ３）ｑ－Ｙ０ （Ｎ３）
（式中、Ｒｆｎ２は、炭素数１～１３のエーテル結合を含み得る、部分または完全フッ素化されたアルキル基であり、ｍ３は、１～３の整数であり、Ｒｆｎ３は、直鎖状又は分岐状の炭素数１～３のパーフルオロアルキレン基であり、ｑは０又は１であり、Ｙ０は、上記定義したものである。）で表される化合物、下記一般式（Ｎ４）：
Ｒｆｎ４－Ｏ－（ＣＹｎ１Ｙｎ２）ｐＣＦ２－Ｙ０ （Ｎ４）
（式中、Ｒｆｎ４は、炭素数１～１２のエーテル結合及び／又は塩素原子を含み得る直鎖状または分枝鎖状の部分または完全フッ素化されたアルキル基であり、Ｙｎ１及びＹｎ２は、同一若しくは異なって、Ｈ又はＦであり、ｐは０又は１であり、Ｙ０は、上記定義したものである。）で表される化合物、及び、一般式（Ｎ５）：
（式中、Ｘｎ２、Ｘｎ３及びＸｎ４は、同一若しくは異なってもよく、Ｈ、Ｆ、又は、炭素数１～６のエーテル結合を含んでよい直鎖状または分岐鎖状の部分または完全フッ素化されたアルキル基である。Ｒｆｎ５は、炭素数１～３のエーテル結合を含み得る直鎖状または分岐鎖状の部分または完全フッ素化されたアルキレン基であり、Ｌは連結基であり、Ｙ０は、上記定義したものである。但し、Ｘｎ２、Ｘｎ３、Ｘｎ４及びＲｆｎ５の合計炭素数は１８以下である。）で表される化合物が挙げられる。
上記一般式（Ｎ０）で表される化合物としてより具体的には、下記一般式（Ｉ）で表されるパーフルオロカルボン酸（Ｉ）、下記一般式（ＩＩ）で表されるω－Ｈパーフルオロカルボン酸（ＩＩ）、下記一般式（ＩＩＩ）で表されるパーフルオロエーテルカルボン酸（ＩＩＩ）、下記一般式（ＩＶ）で表されるパーフルオロアルキルアルキレンカルボン酸（ＩＶ）、下記一般式（Ｖ）で表されるパーフルオロアルコキシフルオロカルボン酸（Ｖ）、下記一般式（ＶＩ）で表されるパーフルオロアルキルスルホン酸（ＶＩ）、下記一般式（ＶＩＩ）で表されるω－Ｈパーフルオロスルホン酸（ＶＩＩ）、下記一般式（ＶＩＩＩ）で表されるパーフルオロアルキルアルキレンスルホン酸（ＶＩＩＩ）、下記一般式（ＩＸ）で表されるアルキルアルキレンカルボン酸（ＩＸ）、下記一般式（Ｘ）で表されるフルオロカルボン酸（Ｘ）、下記一般式（ＸＩ）で表されるアルコキシフルオロスルホン酸（ＸＩ）、下記一般式（ＸＩＩ）で表される化合物（ＸＩＩ）、下記一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物（ＸＩＩＩ）などが挙げられる。
上記パーフルオロカルボン酸（Ｉ）は、下記一般式（Ｉ）
Ｆ（ＣＦ２）ｎ１ＣＯＯＭ （Ｉ）
（式中、ｎ１は、３～１４の整数であり、Ｍは、Ｈ、金属原子、ＮＲ７ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ７は、Ｈ又は有機基である。）で表されるものである。
上記ω－Ｈパーフルオロカルボン酸（ＩＩ）は、下記一般式（ＩＩ）
Ｈ（ＣＦ２）ｎ２ＣＯＯＭ （ＩＩ）
（式中、ｎ２は、４～１５の整数であり、Ｍは、上記定義したものである。）で表されるものである。
上記パーフルオロエーテルカルボン酸（ＩＩＩ）は、下記一般式（ＩＩＩ）
Ｒｆ１－Ｏ－（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｎ３ＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＯＭ （ＩＩＩ）
（式中、Ｒｆ１は、炭素数１～５のパーフルオロアルキル基であり、ｎ３は、０～３の整数であり、Ｍは、上記定義したものである。）で表されるものである。
上記パーフルオロアルキルアルキレンカルボン酸（ＩＶ）は、下記一般式（ＩＶ）
Ｒｆ２（ＣＨ２）ｎ４Ｒｆ３ＣＯＯＭ （ＩＶ）
（式中、Ｒｆ２は、炭素数１～５のパーフルオロアルキル基であり、Ｒｆ３は、直鎖状又は分岐状の炭素数１～３のパーフルオロアルキレン基、ｎ４は、１～３の整数であり、Ｍは、上記定義したものである。）で表されるものである。
上記アルコキシフルオロカルボン酸（Ｖ）は、下記一般式（Ｖ）
Ｒｆ４－Ｏ－ＣＹ１Ｙ２ＣＦ２－ＣＯＯＭ （Ｖ）
（式中、Ｒｆ４は、炭素数１～１２のエーテル結合及び／又は塩素原子を含み得る直鎖状または分枝鎖状の部分または完全フッ素化されたアルキル基であり、Ｙ１及びＹ２は、同一若しくは異なって、Ｈ又はＦであり、Ｍは、上記定義したものである。）で表されるものである。
上記パーフルオロアルキルスルホン酸（ＶＩ）は、下記一般式（ＶＩ）
Ｆ（ＣＦ２）ｎ５ＳＯ３Ｍ （ＶＩ）
（式中、ｎ５は、３～１４の整数であり、Ｍは、上記定義したものである。）で表されるものである。
上記ω－Ｈパーフルオロスルホン酸（ＶＩＩ）は、下記一般式（ＶＩＩ）
Ｈ（ＣＦ２）ｎ６ＳＯ３Ｍ （ＶＩＩ）
（式中、ｎ６は、４～１４の整数であり、Ｍは、上記定義したものである。）で表されるものである。
上記パーフルオロアルキルアルキレンスルホン酸（ＶＩＩＩ）は、下記一般式（ＶＩＩＩ）
Ｒｆ５（ＣＨ２）ｎ７ＳＯ３Ｍ （ＶＩＩＩ）
（式中、Ｒｆ５は、炭素数１～１３のパーフルオロアルキル基であり、ｎ７は、１～３の整数であり、Ｍは、上記定義したものである。）で表されるものである。
上記アルキルアルキレンカルボン酸（ＩＸ）は、下記一般式（ＩＸ）
Ｒｆ６（ＣＨ２）ｎ８ＣＯＯＭ （ＩＸ）
（式中、Ｒｆ６は、炭素数１～１３のエーテル結合を含み得る直鎖状または分岐鎖状の部分または完全フッ素化されたアルキル基であり、ｎ８は、１～３の整数であり、Ｍは、上記定義したものである。）で表されるものである。
上記フルオロカルボン酸（Ｘ）は、下記一般式（Ｘ）
Ｒｆ７－Ｏ－Ｒｆ８－Ｏ－ＣＦ２－ＣＯＯＭ （Ｘ）
（式中、Ｒｆ７は、炭素数１～６のエーテル結合及び／又は塩素原子を含み得る直鎖状または分枝鎖状の部分または完全フッ素化されたアルキル基であり、Ｒｆ８は、炭素数１～６の直鎖状または分枝鎖状の部分または完全フッ素化されたアルキル基であり、Ｍは、上記定義したものである。）で表されるものである。
上記アルコキシフルオロスルホン酸（ＸＩ）は、下記一般式（ＸＩ）
Ｒｆ９－Ｏ－ＣＹ１Ｙ２ＣＦ２－ＳＯ３Ｍ （ＸＩ）
（式中、Ｒｆ９は、炭素数１～１２のエーテル結合を含み得る直鎖状または分枝鎖状であって、塩素を含んでもよい、部分または完全フッ素化されたアルキル基であり、Ｙ１及びＹ２は、同一若しくは異なって、Ｈ又はＦであり、Ｍは、上記定義したものである。）で表されるものである。
上記化合物（ＸＩＩ）は、下記一般式（ＸＩＩ）：
（式中、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は、同一若しくは異なってもよく、Ｈ、Ｆ及び炭素数１～６のエーテル結合を含み得る直鎖状または分岐鎖状の部分または完全フッ素化されたアルキル基であり、Ｒｆ１０は、炭素数１～３のパーフルオロアルキレン基であり、Ｌは連結基であり、Ｙ０はアニオン性基である。）で表されるものである。
Ｙ０は、－ＣＯＯＭ、－ＳＯ２Ｍ、又は、－ＳＯ３Ｍであってよく、－ＳＯ３Ｍ、又は、ＣＯＯＭであってよい（式中、Ｍは上記定義したものである。）。
Ｌとしては、例えば、単結合、炭素数１～１０のエーテル結合を含みうる部分又は完全フッ素化されたアルキレン基が挙げられる。
上記化合物（ＸＩＩＩ）は、下記一般式（ＸＩＩＩ）：
Ｒｆ１１－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ９（ＣＦ２Ｏ）ｎ１０ＣＦ２ＣＯＯＭ （ＸＩＩＩ）
（式中、Ｒｆ１１は、塩素を含む炭素数１～５のフルオロアルキル基であり、ｎ９は、０～３の整数であり、ｎ１０は、０～３の整数であり、Ｍは、上記定義したものである。）で表されるものである。化合物（ＸＩＩＩ）としては、ＣＦ２ＣｌＯ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）ｎ９（ＣＦ２Ｏ）ｎ１０ＣＦ２ＣＯＯＮＨ４（平均分子量７５０の混合物、式中、ｎ９およびｎ１０は上記定義したものである。）が挙げられる。
上述したように上記アニオン性含フッ素界面活性剤としては、カルボン酸系界面活性剤、スルホン酸系界面活性剤等が挙げられる。
含フッ素界面活性剤は、１種の含フッ素界面活性剤であってもよいし、２種以上の含フッ素界面活性剤を含有する混合物であってもよい。
（水性媒体）
水性媒体は、重合を行わせる反応媒体であって、水を含む液体を意味する。上記水性媒体は、水を含むものであれば特に限定されず、水と、たとえば、エーテル、ケトン等のフッ素非含有有機溶媒、及び／又は、沸点が４０℃以下であるフッ素含有有機溶媒とを含むものであってもよい。
水性媒体としては、重合を円滑に進めることができることから、水のみを含有する水性媒体、または、水およびフッ素非含有有機溶媒のみを含有する水性媒体が好ましく、水のみを含有する水性媒体がより好ましい。
水性媒体中の水の含有量は、重合を円滑に進めることができることから、水性媒体の質量に対して、好ましくは９０％以上であり、より好ましくは９５％以上であり、さらに好ましくは９９．０％以上であり、尚さらに好ましくは９９．５％以上であり、特に好ましくは９９．９％以上であり、１００％であってよい。
（添加剤）
上記重合において、添加剤を使用することができる。上記添加剤としては、緩衝剤、ｐＨ調整剤、安定化助剤、分散安定剤などが挙げられる。
安定化助剤としては、パラフィンワックス、フッ素系オイル、フッ素系溶剤、シリコーンオイルなどが好ましい。安定化助剤は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。安定化助剤としては、パラフィンワックスがより好ましい。パラフィンワックスとしては、室温で液体でも、半固体でも、固体であってもよいが、炭素数１２以上の飽和炭化水素が好ましい。パラフィンワックスの融点は、通常４０～６５℃が好ましく、５０～６５℃がより好ましい。
安定化助剤の使用量は、使用する水性媒体の質量基準で０．１～１２質量％が好ましく、０．１～８質量％がより好ましい。安定化助剤は十分に疎水的で、重合後に水性分散液と完全に分離されて、コンタミ成分とならないことが望ましい。
一実施形態において、上記重合は、重合反応器に、水性媒体、モノマー、テロゲン性を有する化合物および添加剤を仕込み、反応器の内容物を撹拌し、そして反応器を所定の重合温度に保持し、次に重合開始剤を加え、重合反応を開始することにより行う。重合反応開始後に、目的に応じて、モノマー、重合開始剤、テロゲン性を有する化合物等を追加添加してもよい。
通常、重合温度は、５～１２０℃であり、重合圧力は、０．０５～１０ＭＰａＧである。重合温度、重合圧力は、使用するモノマーの種類、目的とするフルオロポリマーの分子量、反応速度によって適宜決定される。
（フルオロモノマー）
フルオロモノマーとしては、二重結合を少なくとも１つ有するものが好ましい。上記フルオロモノマーとしては、テトラフルオロエチレン［ＴＦＥ］、ヘキサフルオロプロピレン［ＨＦＰ］、クロロトリフルオロエチレン［ＣＴＦＥ］、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン［ＶＤＦ］、トリフルオロエチレン、フルオロアルキルビニルエーテル、フルオロアルキルエチレン、フルオロアルキルアリルエーテル、トリフルオロプロピレン、ペンタフルオロプロピレン、トリフルオロブテン、テトラフルオロイソブテン、ヘキサフルオロイソブテン、一般式（１００）：ＣＨＸ１０１＝ＣＸ１０２Ｒｆ１０１（式中、Ｘ１０１およびＸ１０２は、一方がＨであり、他方がＦであり、Ｒｆ１０１は炭素数１～１２の直鎖又は分岐したフルオロアルキル基）で表されるフルオロモノマー、フッ素化ビニルヘテロ環状体、及び、架橋部位を与えるモノマーからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
上記フルオロアルキルビニルエーテルとしては、例えば、
一般式（１１０）：ＣＦ２＝ＣＦ－ＯＲｆ１１１
（式中、Ｒｆ１１１は、パーフルオロ有機基を表す。）で表されるフルオロモノマー、
一般式（１２０）：ＣＦ２＝ＣＦ－ＯＣＨ２－Ｒｆ１２１
（式中、Ｒｆ１２１は、炭素数１～５のパーフルオロアルキル基）で表されるフルオロモノマー、
一般式（１３０）：ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＯＲｆ１３１
（式中、Ｒｆ１３１は炭素数１～６の直鎖又は分岐状パーフルオロアルキル基、炭素数５～６の環式パーフルオロアルキル基、１～３個の酸素原子を含む炭素数２～６の直鎖又は分岐状パーフルオロオキシアルキル基である。）で表されるフルオロモノマー、
一般式（１４０）：ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２ＣＦ（Ｙ１４１）Ｏ）ｍ（ＣＦ２）ｎＦ
（式中、Ｙ１４１はフッ素原子又はトリフルオロメチル基を表す。ｍは１～４の整数である。ｎは１～４の整数である。）で表されるフルオロモノマー、及び、
一般式（１５０）：ＣＦ２＝ＣＦ－Ｏ－（ＣＦ２ＣＦＹ１５１－Ｏ）ｎ－（ＣＦＹ１５２）ｍ－Ａ１５１
（式中、Ｙ１５１は、フッ素原子、塩素原子、－ＳＯ２Ｆ基又はパーフルオロアルキル基を表す。パーフルオロアルキル基は、エーテル性の酸素及び－ＳＯ２Ｆ基を含んでもよい。ｎは、０～３の整数を表す。ｎ個のＹ１５１は、同一であってもよいし異なっていてもよい。Ｙ１５２は、フッ素原子、塩素原子又は－ＳＯ２Ｆ基を表す。ｍは、１～５の整数を表す。ｍ個のＹ１５２は、同一であってもよいし異なっていてもよい。Ａ１５１は、－ＳＯ２Ｘ１５１、－ＣＯＺ１５１又は－ＰＯＺ１５２Ｚ１５３を表す。Ｘ１５１は、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、－ＯＲ１５１又は－ＮＲ１５２Ｒ１５３を表す。Ｚ１５１、Ｚ１５２及びＺ１５３は、同一又は異なって、－ＮＲ１５４Ｒ１５５又は－ＯＲ１５６を表す。Ｒ１５１、Ｒ１５２、Ｒ１５３、Ｒ１５４、Ｒ１５５及びＲ１５６は、同一又は異なって、Ｈ、アンモニウム、アルカリ金属、フッ素原子を含んでも良いアルキル基、アリール基、若しくはスルホニル含有基を表す。）で表されるフルオロモノマー
からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
本開示において、上記「パーフルオロ有機基」とは、炭素原子に結合する水素原子が全てフッ素原子に置換されてなる有機基を意味する。上記パーフルオロ有機基は、エーテル酸素を有していてもよい。
一般式（１１０）で表されるフルオロモノマーとしては、Ｒｆ１１１が炭素数１～１０のパーフルオロアルキル基であるフルオロモノマーが挙げられる。上記パーフルオロアルキル基の炭素数は、好ましくは１～５である。
一般式（１１０）におけるパーフルオロ有機基としては、例えば、パーフルオロメチル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基等が挙げられる。
一般式（１１０）で表されるフルオロモノマーとしては、更に、上記一般式（１１０）において、Ｒｆ１１１が炭素数４～９のパーフルオロ（アルコキシアルキル）基であるもの、Ｒｆ１１１が下記式：
（式中、ｍは、０又は１～４の整数を表す。）で表される基であるもの、Ｒｆが下記式：
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２－（Ｏ－ＣＦ（ＣＦ３）－ＣＦ２）ｎ－
（式中、ｎは、１～４の整数を表す。）で表される基であるもの等が挙げられる。
一般式（１１０）で表されるフルオロモノマーとしては、なかでも、
一般式（１６０）：ＣＦ２＝ＣＦ－ＯＲｆ１６１
（式中、Ｒｆ１６１は、炭素数１～１０のパーフルオロアルキル基を表す。）で表されるフルオロモノマーが好ましい。Ｒｆ１６１は、炭素数が１～５のパーフルオロアルキル基であることが好ましい。
フルオロアルキルビニルエーテルとしては、一般式（１６０）、（１３０）及び（１４０）で表されるフルオロモノマーからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
一般式（１６０）で表されるフルオロモノマーとしては、パーフルオロ（メチルビニルエーテル）、パーフルオロ（エチルビニルエーテル）、及び、パーフルオロ（プロピルビニルエーテル）からなる群より選択される少なくとも１種が好ましく、パーフルオロ（メチルビニルエーテル）、及び、パーフルオロ（プロピルビニルエーテル）からなる群より選択される少なくとも１種がより好ましい。
一般式（１３０）で表されるフルオロモノマーとしては、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＯＣＦ３、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ３、及び、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ３からなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
一般式（１４０）で表されるフルオロモノマーとしては、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ（ＣＦ２）３Ｆ、ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）２（ＣＦ２）３Ｆ、及び、ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）Ｏ）２（ＣＦ２）２Ｆからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
一般式（１５０）で表されるフルオロモノマーとしては、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ２ＳＯ２Ｆ、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＳＯ２Ｆ、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ２ＣＦ２ＳＯ２Ｆ）ＯＣＦ２ＣＦ２ＳＯ２Ｆ及びＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ（ＳＯ２Ｆ）２からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。
一般式（１００）で表されるフルオロモノマーとしては、Ｒｆ１０１が直鎖のフルオロアルキル基であるフルオロモノマーが好ましく、Ｒｆ１０１が直鎖のパーフルオロアルキル基であるフルオロモノマーがより好ましい。Ｒｆ１０１の炭素数は１～６であることが好ましい。一般式（１００）で表されるフルオロモノマーとしては、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２ＣＦ３、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｈ、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３、ＣＨＦ＝ＣＨＣＦ３（Ｅ体）、ＣＨＦ＝ＣＨＣＦ３（Ｚ体）などが挙げられ、なかでも、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ３で示される２，３，３，３－テトラフルオロプロピレンが好ましい。
フルオロアルキルエチレンとしては、
一般式（１７０）：ＣＨ２＝ＣＨ－（ＣＦ２）ｎ－Ｘ１７１
（式中、Ｘ１７１はＨ又はＦであり、ｎは３～１０の整数である。）で表されるフルオロアルキルエチレンが好ましく、ＣＨ２＝ＣＨ－Ｃ４Ｆ９、及び、ＣＨ２＝ＣＨ－Ｃ６Ｆ１３からなる群より選択される少なくとも１種であることがより好ましい。
上記フルオロアルキルアリルエーテルとしては、例えば、
一般式（１８０）：ＣＦ２＝ＣＦ－ＣＦ２－ＯＲｆ１１１
（式中、Ｒｆ１１１は、パーフルオロ有機基を表す。）で表されるフルオロモノマーが挙げられる。
一般式（１８０）のＲｆ１１１は、一般式（１１０）のＲｆ１１１と同じである。Ｒｆ１１１としては、炭素数１～１０のパーフルオロアルキル基または炭素数１～１０のパーフルオロアルコキシアルキル基が好ましい。一般式（１８０）で表されるフルオロアルキルアリルエーテルとしては、ＣＦ２＝ＣＦ－ＣＦ２－Ｏ－ＣＦ３、ＣＦ２＝ＣＦ－ＣＦ２－Ｏ－Ｃ２Ｆ５、ＣＦ２＝ＣＦ－ＣＦ２－Ｏ－Ｃ３Ｆ７、及び、ＣＦ２＝ＣＦ－ＣＦ２－Ｏ－Ｃ４Ｆ９からなる群より選択される少なくとも１種が好ましく、ＣＦ２＝ＣＦ－ＣＦ２－Ｏ－Ｃ２Ｆ５、ＣＦ２＝ＣＦ－ＣＦ２－Ｏ－Ｃ３Ｆ７、及び、ＣＦ２＝ＣＦ－ＣＦ２－Ｏ－Ｃ４Ｆ９からなる群より選択される少なくとも１種がより好ましく、ＣＦ２＝ＣＦ－ＣＦ２－Ｏ－ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ３がさらに好ましい。
上記フッ素化ビニルヘテロ環状体としては、一般式（２３０）：
（式中、Ｘ２３１及びＸ２３２は、独立に、Ｆ、Ｃｌ、メトキシ基又はフッ素化メトキシ基であり、Ｙ２３１は式Ｙ２３２又は式Ｙ２３３である。
（式中、Ｚ２３１及びＺ２３２は、独立に、Ｆ又は炭素数１～３のフッ素化アルキル基である。））で表されるフッ素化ビニルヘテロ環状体が挙げられる。
架橋部位を与えるモノマーとしては、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＮ、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＯＯＨ、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｉ、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｉ、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＮ、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＯＯＨ、ＣＨ２＝ＣＦＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＨ２ＯＨ、ＣＨ２＝ＣＨＣＦ２ＣＦ２Ｉ、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）２ＣＨ＝ＣＨ２、ＣＨ２＝ＣＨ（ＣＦ２）６ＣＨ＝ＣＨ２、及び、ＣＦ２＝ＣＦＯ（ＣＦ２）５ＣＮからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましく、ＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＮ及びＣＦ２＝ＣＦＯＣＦ２ＣＦ２ＣＨ２Ｉからなる群より選択される少なくとも１種であることがより好ましい。
上記重合において、上記フルオロモノマーとフッ素非含有モノマーとを重合してもよい。上記フッ素非含有モノマーとしては、上記フルオロモノマーと反応性を有する炭化水素系モノマー等が挙げられる。
上記炭化水素系モノマーとしては、例えば、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソブチレン等のアルケン類；エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等のアルキルビニルエーテル類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ｎ－酪酸ビニル、イソ酪酸ビニル、吉草酸ビニル、ピバリン酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリル酸ビニル、カプリン酸ビニル、バーサチック酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ミリスチン酸ビニル、パルミチン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、安息香酸ビニル、パラ－ｔ－ブチル安息香酸ビニル、シクロヘキサンカルボン酸ビニル、モノクロル酢酸ビニル、アジピン酸ビニル、アクリル酸ビニル、メタクリル酸ビニル、クロトン酸ビニル、ソルビン酸ビニル、桂皮酸ビニル、ウンデシレン酸ビニル、ヒドロキシ酢酸ビニル、ヒドロキシプロピオイン酸ビニル、ヒドロキシ酪酸ビニル、ヒドロキシ吉草酸ビニル、ヒドロキシイソ酪酸ビニル、ヒドロキシシクロヘキサンカルボン酸ビニル等のビニルエステル類；エチルアリルエーテル、プロピルアリルエーテル、ブチルアリルエーテル、イソブチルアリルエーテル、シクロヘキシルアリルエーテル等のアルキルアリルエーテル類；エチルアリルエステル、プロピルアリルエステル、ブチルアリルエステル、イソブチルアリルエステル、シクロヘキシルアリルエステル等のアルキルアリルエステル；メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ビニルメタクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル類等が挙げられる。
上記フッ素非含有モノマーとしては、また、官能基含有炭化水素系モノマー（但し、架橋部位を与えるモノマーを除く）であってもよい。上記官能基含有炭化水素系モノマーとしては、例えば、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシプロピルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、ヒドロキシイソブチルビニルエーテル、ヒドロキシシクロヘキシルビニルエーテル等のヒドロキシアルキルビニルエーテル類；アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、コハク酸、無水コハク酸、フマル酸、無水フマル酸、クロトン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、パーフルオロブテン酸等のカルボキシル基を有するフッ素非含有モノマー；ビニルスルホン酸などのスルホ基を有するフッ素非含有単量体；グリシジルビニルエーテル、グリシジルアリルエーテル等のグリシジル基を有するフッ素非含有モノマー；アミノアルキルビニルエーテル、アミノアルキルアリルエーテル等のアミノ基を有するフッ素非含有モノマー；（メタ）アクリルアミド、メチロールアクリルアミド等のアミド基を有するフッ素非含有モノマー；アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のニトリル基を有するフッ素非含有単量体等が挙げられる。
本開示の製造方法においては、フルオロモノマーとして、少なくともＴＦＥを用いることが好ましい。一実施形態において、フルオロモノマーとして、ＴＦＥのみ、または、ＴＦＥとＴＦＥ以外のフルオロモノマーとの組み合わせを用いる。ＴＦＥ以外のフルオロモノマーとしては、上述したフルオロモノマーのうち、ＴＦＥ以外のフルオロモノマーが挙げられ、たとえば、ＨＦＰ、ＣＴＦＥ、フルオロアルキルエチレンおよびフルオロアルキルアリルエーテルからなる群より選択される少なくとも１種を好適に用い得る。ＴＦＥ以外のフルオロモノマーとしては、なかでも、ＨＦＰが好ましい。一実施形態において、重合に供するモノマーとして、フッ素非含有モノマーを用いない。一実施形態において、フルオロモノマーとして、ＴＦＥのみ、または、ＴＦＥとＴＦＥ以外のフルオロモノマーとの組み合わせを用い、重合に供するモノマーとして、フッ素非含有モノマーを用いない。
また、フルオロモノマーの重合の一実施形態において、親水基を有するモノマーを用いない。親水基としては、親水基を有する含フッ素化合物が有する親水基として後述するものが挙げられる。
上記重合において、上記フルオロモノマーの１種又は２種以上を重合することにより、所望のフルオロポリマーを得ることができる。
（フルオロポリマー）
上記重合により、フルオロポリマーを含む水性分散液を得ることができる。上記フルオロポリマーは、通常、上記重合を行うことにより得られる水性分散液の８～５０質量％の濃度である。上記水性分散液中において、フルオロポリマーの濃度の好ましい下限は１０質量％、より好ましい下限は１５質量％、好ましい上限は４０質量％、より好ましい上限は３５質量％である。
水性分散液中のフルオロポリマーの含有量（固形分濃度）（Ｐ質量％）は、試料約１ｇ（Ｘｇ）を直径５ｃｍのアルミカップにとり、１１０℃、３０分で加熱し、更に３００℃、３０分加熱した加熱残分（Ｚｇ）に基づき、式：Ｐ＝Ｚ／Ｘ×１００（質量％）にて決定することができる。
製造方法の一実施形態においては、フルオロモノマーとして、少なくともＴＦＥを用いて、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）を製造する。
ＴＦＥの重合が終了した時点で、固形分濃度が１．０～５０質量％、平均一次粒子径が５０～５００ｎｍの重合分散液を得ることができる。
上記固形分濃度の下限は５質量％が好ましく、８質量％がより好ましい。上限は特に限定されないが４０質量％であってもよく、３５質量％であってもよい。
上記平均一次粒子径の下限は１００ｎｍが好ましく、１５０ｎｍがより好ましい。上限は４００ｎｍが好ましく、３５０ｎｍがより好ましい。
また、水性分散液中のフルオロポリマーを凝析させ、乾燥させることにより、フルオロポリマー粉末を得ることができる。また、凝析物を乾燥させる前に、凝析物を洗浄してもよい。
本開示の製造方法により、フルオロポリマーを得ることができる。フルオロポリマーとしては、ポリマーにおけるモノマーのモル分率が最も多いモノマー（以下、「最多単量体」）がＴＦＥであるＴＦＥ重合体、最多単量体がＶＤＦであるＶＤＦ重合体、最多単量体がＣＴＦＥであるＣＴＦＥ重合体等が挙げられる。
上記フルオロポリマーは、５３より高いイオン交換率（ＩＸＲ）を有することが好ましい。好ましいフルオロポリマーは、イオン性基を全く有さないか、または約１００より高いイオン交換率をもたらす限られた数のイオン性基を有する。好ましいフルオロポリマーのイオン交換率は、１０００以上が好ましく、２０００以上がより好ましく、５０００以上が更に好ましい。
ＴＦＥ重合体としては、好適には、ＴＦＥ単独重合体であってもよいし、（１）ＴＦＥ、（２）炭素原子２～８個を有する１つ又は２つ以上のＴＦＥ以外のフッ素含有モノマー、特にＨＦＰ若しくはＣＴＦＥ、及び、（３）その他のモノマーからなる共重合体であってもよい。上記（３）その他のモノマーとしては、例えば、炭素原子１～５個、特に炭素原子１～３個を有するアルキル基を持つパーフルオロアルキルエチレン；ω－ヒドロパーフルオロオレフィン等が挙げられる。
ＴＦＥ重合体としては、また、ＴＦＥと、１つ又は２つ以上のフッ素非含有モノマーとの共重合体であってもよい。上記フッ素非含有モノマーとしては、例えば、エチレン、プロピレン等のアルケン類；ビニルエステル類；ビニルエーテル類が挙げられる。ＴＦＥ重合体としては、また、ＴＦＥと、炭素原子２～８個を有する１つ又は２つ以上のフッ素含有モノマーと、１つ又は２つ以上のフッ素非含有モノマーとの共重合体であってもよい。
上記フルオロポリマーは、ガラス状、可塑性又はエラストマー性であり得る。これらのものは非晶性又は部分的に結晶性であり、圧縮焼成加工、溶融加工又は非溶融加工に供することができる。
本開示の製造方法では、例えば、（Ｉ）非溶融加工性フッ素樹脂として、テトラフルオロエチレン重合体［ＴＦＥ重合体（ＰＴＦＥ）］が、（ＩＩ）溶融加工性フッ素樹脂として、エチレン／ＴＦＥ共重合体［ＥＴＦＥ］、ＴＦＥ／ＨＦＰ共重合体［ＦＥＰ］、ＴＦＥ／パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）共重合体［ＰＦＡ、ＭＦＡ等］、ＴＦＥ／パーフルオロアリルエーテル共重合体、ＴＦＥ／ＶＤＦ共重合体、電解質ポリマー前駆体が、（ＩＩＩ）フッ素ゴムとして、ＴＦＥ／プロピレン共重合体、ＴＦＥ／プロピレン／第３モノマー共重合体（上記第３モノマーは、ＶＤＦ、ＨＦＰ、ＣＴＦＥ、フルオロアルキルビニルエーテル類等）、ＴＦＥとフルオロアルキルビニルエーテル類とからなる共重合体；ＨＦＰ／エチレン共重合体、ＨＦＰ／エチレン／ＴＦＥ共重合体；ＶＤＦ／ＨＦＰ共重合体、ＨＦＰ／エチレン共重合体、ＶＤＦ／ＴＦＥ／ＨＦＰ共重合体；及び、特公昭６１－４９３２７号公報に記載の含フッ素セグメント化ポリマー等が好適に製造されうる。
フルオロポリマーの下記式により算出されるフッ素置換率は、好ましくは５０％以上であり、より好ましくは５５％以上であり、さらに好ましくは６０％以上であり、尚さらに好ましくは７５％以上であり、特に好ましくは８０％以上である。フルオロポリマーのフッ素置換率は、９０～１００％であることが最も好ましい。
上記フルオロポリマーとしては、フッ素樹脂が好ましく、なかでも下記式により算出されるフッ素置換率が５０％以上のフッ素樹脂がより好ましく、上記フッ素置換率が５０％を超えるフッ素樹脂が更に好ましく、上記フッ素置換率が５５％以上のフッ素樹脂が更により好ましく、上記フッ素置換率が６０％以上のフッ素樹脂が更により好ましく、上記フッ素置換率が７５％以上のフッ素樹脂が更により好ましく、上記フッ素置換率が８０％以上のフッ素樹脂が特に好ましく、上記フッ素置換率が９０～１００％のフッ素樹脂、すなわちパーフルオロ樹脂が最も好ましい。
（式）
フッ素置換率（％）＝（フルオロポリマーを構成する炭素原子に結合するフッ素原子の個数）／（（フルオロポリマーを構成する炭素原子に結合する水素原子の個数）＋（フルオロポリマーを構成する炭素原子に結合するフッ素原子及び塩素原子の個数））×１００
上記パーフルオロ樹脂としては、上記フッ素置換率が９５～１００％のフッ素樹脂がより好ましく、ＰＴＦＥ又はＦＥＰがさらに好ましく、ＰＴＦＥが尚さらに好ましく、低分子量ＰＴＦＥが特に好ましい。
上記フルオロポリマーは、コアシェル構造を有していてもよい。コアシェル構造を有するフルオロポリマーとしては、例えば、粒子中に高分子量のＰＴＦＥのコアと、より低分子量のＰＴＦＥ又は変性のＰＴＦＥシェルとを含む変性ＰＴＦＥが挙げられる。このような変性ＰＴＦＥとしては、例えば、特表２００５－５２７６５２号公報に記載されるＰＴＦＥが挙げられる。
上記コアシェル構造としては、次の構造をとり得る。
コア：ＴＦＥ単独重合体 シェル：ＴＦＥ単独重合体
コア：変性ＰＴＦＥ シェル：ＴＦＥ単独重合体
コア：変性ＰＴＦＥ シェル：変性ＰＴＦＥ
コア：ＴＦＥ単独重合体 シェル：変性ＰＴＦＥ
コア：低分子量ＰＴＦＥ シェル：高分子量ＰＴＦＥ
コア：高分子量ＰＴＦＥ シェル：低分子量ＰＴＦＥ
上記コアシェル構造を有するフルオロポリマーにおいて、コアの比率の下限は、好ましくは０．５質量％、より好ましくは１．０質量％、更に好ましくは２．０質量％、尚更に好ましくは３．０質量％、特に好ましくは５．０質量％、最も好ましくは１０．０質量％である。コアの比率の上限は、好ましくは９９．５質量％、より好ましくは９９．０質量％、更に好ましくは９８．０質量％、更により好ましくは９７．０質量％、特に好ましくは９５．０質量％、最も好ましくは９０．０質量％である。
上記コアシェル構造を有するフルオロポリマーにおいて、シェルの比率の下限は、好ましくは０．５質量％、より好ましくは１．０質量％、更に好ましくは２．０質量％、尚更に好ましくは３．０質量％、特に好ましくは５．０質量％、最も好ましくは１０．０質量％である。シェルの比率の上限は、好ましくは９９．５質量％、より好ましくは９９．０質量％、更に好ましくは９８．０質量％、更により好ましくは９７．０質量％、特に好ましくは９５．０質量％、最も好ましくは９０．０質量％である。
ＰＴＦＥは、フルオロモノマーとして、少なくともＴＦＥを重合することにより、製造することができる。ＰＴＦＥの製造において、知られている各種変性モノマーを併用することもできる。本開示において、ＰＴＦＥは、ＴＦＥ単独重合体のみならず、ＴＦＥと変性モノマーとの共重合体（以下、「変性ＰＴＦＥ」という。）をも含む概念である。
上記変性モノマーとしては、ＴＦＥとの共重合が可能なものであれば特に限定されず、フルオロモノマーおよび非フルオロモノマーが挙げられる。また、用いる変性モノマーは１種であってもよいし、複数種であってもよい。
非フルオロモノマーとしては、特に限定されず、一般式：
ＣＨ２＝ＣＲＱ１－ＬＲＱ２
（式中、ＲＱ１は、水素原子またはアルキル基を表す。Ｌは、単結合、－ＣＯ－Ｏ－＊、－Ｏ－ＣＯ－＊または－Ｏ－を表す。＊はＲＱ２との結合位置を表す。ＲＱ２は、水素原子、アルキル基またはニトリル基を表す。）で表されるモノマーが挙げられる。
非フルオロモノマーとしては、例えば、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレートブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ビニルメタクリレート、酢酸ビニル、アクリル酸、メタクリル酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテルなどが挙げられる。非フルオロモノマーとしては、なかでも、ブチルメタクリレート、酢酸ビニル、アクリル酸が好ましい。
フルオロモノマーとして、例えば、ヘキサフルオロプロピレン〔ＨＦＰ〕等のパーフルオロオレフィン；トリフルオロエチレン、フッ化ビニリデン〔ＶＤＦ〕等の水素含有フルオロオレフィン；クロロトリフルオロエチレン等のパーハロオレフィン；パーフルオロビニルエーテル；（パーフルオロアルキル）エチレン；パーフルオロアリルエーテル等が挙げられる。
上記変性モノマーは、ＴＦＥとの反応性の観点からは、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）及び（パーフルオロアルキル）エチレンからなる群より選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。
より好ましくは、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ（メチルビニルエーテル）、パーフルオロ（プロピルビニルエーテル）、（パーフルオロブチル）エチレン、（パーフルオロヘキシル）エチレン、及び、（パーフルオロオクチル）エチレンからなる群より選択される少なくとも１種を含むことである。
さらに好ましくは、ヘキサフルオロプロピレンを含むことである。
上記ＴＦＥ重合体の製造において、更に、反応系の分散安定剤として、実質的に反応に不活性であって、上記反応条件で液状となる炭素数が１２以上の飽和炭化水素を、水性媒体１００質量部に対して２～１０質量部で使用することもできる。また、反応中のｐＨを調整するための緩衝剤として、炭酸アンモニウム、リン酸アンモニウム等を添加してもよい。
ＴＦＥ重合体の水性分散液を凝析することによりファインパウダーを製造できる。上記ＴＦＥ重合体の水性分散液は、凝析、洗浄、乾燥を経てファインパウダーとして各種用途に使用することができる。上記ＴＦＥ重合体の水性分散液に対して凝析を行う場合、通常、ポリマーラテックス等の重合により得た水性分散液を、水を用いて５～２０質量％のポリマー濃度になるように希釈し、場合によっては、ｐＨを中性又はアルカリ性に調整した後、撹拌機付きの容器中で反応中の撹拌よりも激しく撹拌して行う。上記凝析は、メタノール、アセトン等の水溶性有機化合物、硝酸カリウム、炭酸アンモニウム等の無機塩や、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸等を凝析剤として添加しながら撹拌を行ってもよい。上記凝析は、また、インラインミキサー等を使用して連続的に行ってもよい。
上記凝集により生じる排水中の未凝集の上記ＴＦＥ重合体濃度は、生産性の観点から低いことが好ましく、０．４質量％未満がより好ましく、０．３質量％未満が特に好ましい。
本開示の製造方法により、ＰＴＦＥとして、低分子量ＰＴＦＥを製造することもできる。
分子量６０万以下の低分子量ＰＴＦＥ（ＰＴＦＥマイクロパウダーとも呼ばれる）は、化学的安定性に優れ、表面エネルギーが極めて低いことに加え、フィブリル化が生じにくいので、滑り性や塗膜表面の質感を向上させること等を目的とした添加剤として、プラスチック、インク、化粧品、塗料、グリース、オフィスオートメーション機器部材、トナー等の製造に好適である（例えば、特開平１０－１４７６１７号公報参照。）。
上記重合により得られる低分子量ＰＴＦＥを粉末として用いる場合、上記水性分散液を凝析させることで粉末粒子とすることができる。
本開示の製造方法により、ＰＴＦＥとして、高分子量ＰＴＦＥを製造することもできる。
本開示において、高分子量ＰＴＦＥとは、非溶融加工性及びフィブリル化性を有するＰＴＦＥを意味する。他方、低分子量ＰＴＦＥとは、溶融加工性を有し、フィブリル化性を有しないＰＴＦＥを意味する。
上記非溶融加工性とは、ＡＳＴＭ Ｄ １２３８及びＤ ２１１６に準拠して、結晶化融点より高い温度でメルトフローレートを測定できない性質を意味する。
フィブリル化性の有無は、ＴＦＥの重合体から作られた粉末である「高分子量ＰＴＦＥ粉末」を成形する代表的な方法である「ペースト押出し」で判断できる。通常、ペースト押出しが可能であるのは、高分子量のＰＴＦＥがフィブリル化性を有するからである。ペースト押出しで得られた未焼成の成形物に実質的な強度や伸びがない場合、例えば伸びが０％で引っ張ると切れるような場合はフィブリル化性がないとみなすことができる。
上記高分子量ＰＴＦＥは、標準比重（ＳＳＧ）が２．１３０～２．２８０であることが好ましい。上記標準比重は、ＡＳＴＭ Ｄ４８９５－８９に準拠して成形されたサンプルを用い、ＡＳＴＭ Ｄ ７９２に準拠した水置換法により測定する。本開示において、「高分子量」とは、上記標準比重が上記の範囲内にあることを意味する。
上記低分子量ＰＴＦＥは、３８０℃における溶融粘度が１×１０２～７×１０５Ｐａ・ｓである。本開示において、「低分子量」とは、上記溶融粘度が上記の範囲内にあることを意味する。溶融粘度は、ＡＳＴＭ Ｄ １２３８に準拠し、フローテスター（島津製作所社製）及び２φ－８Ｌのダイを用い、予め３８０℃で５分間加熱しておいた２ｇの試料を０．７ＭＰａの荷重にて上記温度に保って測定する値である。
上記高分子量ＰＴＦＥは、上記低分子量ＰＴＦＥよりも溶融粘度が極めて高く、その正確な溶融粘度を測定することは困難である。他方、上記低分子量ＰＴＦＥの溶融粘度は測定可能であるが、上記低分子量ＰＴＦＥからは、標準比重の測定に使用可能な成形品を得ることが難しく、その正確な標準比重を測定することが困難である。従って、本開示では、上記高分子量ＰＴＦＥの分子量の指標として、標準比重を採用し、上記低分子量ＰＴＦＥの分子量の指標として、溶融粘度を採用する。なお、上記高分子量ＰＴＦＥ及び上記低分子量ＰＴＦＥのいずれについても、直接に分子量を特定できる測定方法は知られていない。
上記高分子量ＰＴＦＥは、融点が３３３～３４７℃であることが好ましく、３３５～３４５℃であることがより好ましい。上記低分子量ＰＴＦＥは、融点が３２２～３３３℃であることが好ましく、３２４～３３２℃であることがより好ましい。融点は、エスアイアイ・ナノテクノロジー社製の示差走査熱量測定機ＲＤＣ２２０（ＤＳＣ）を用い、事前に標準サンプルとして、インジウム、鉛を用いて温度校正した上で、ＰＴＦＥ粉末約３ｍｇをアルミ製パン（クリンプ容器）に入れ、２００ｍｌ／分のエアー気流下で、２５０～３８０℃の温度領域を１０℃／分で昇温させて行い、上記領域における融解熱量の極小点として、特定できる。
ＰＴＦＥの融点は、３２２～３４７℃であってよい。
ＰＴＦＥが高分子量ＰＴＦＥである場合のＰＴＦＥの融点の上限は、３４７℃以下、３４６℃以下、３４５℃以下、３４４℃以下、３４３℃以下、３４２℃以下、３４１℃以下、３４０℃以下であってよい。
ＰＴＦＥが高分子量ＰＴＦＥである場合のＰＴＦＥの融点の下限は、３３３℃以上、３３５℃以上であってよい。
ＰＴＦＥが低分子量ＰＴＦＥである場合のＰＴＦＥの融点の上限は、３３３℃以下、３３２℃以下であってよい。
ＰＴＦＥが低分子量ＰＴＦＥである場合のＰＴＦＥの融点の下限は、３２２℃以上、３２４℃以上であってよい。
低分子量ＰＴＦＥの一次粒子の平均一次粒子径は、好ましくは１０～３５０ｎｍであり、より好ましくは１００ｎｍ以上であり、さらに好ましくは１５０ｎｍ以上であり、より好ましくは４００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは３５０ｎｍ以下である。
上記高分子量ＰＴＦＥは、３００℃以上の温度に加熱した履歴がないＰＴＦＥについて示差走査熱量計〔ＤＳＣ〕を用いて１０℃／分の速度で昇温したときの融解熱曲線において、３３３～３４７℃の範囲に少なくとも１つ以上の吸熱ピークが現れ、上記融解熱曲線から算出される２９０～３５０℃の融解熱量が５２ｍＪ／ｍｇ以上であることが好ましい。ＰＴＦＥの融解熱量は、より好ましくは５５ｍＪ／ｍｇ以上であり、さらに好ましくは５８ｍＪ／ｍｇ以上である。
本開示の製造方法により、ＴＦＥ／ＨＦＰ共重合体（ＦＥＰ）を製造することもできる。
ＦＥＰの好ましい単量体組成（質量％）は、ＴＦＥ：ＨＦＰ＝（６０～９５）：（５～４０）、より好ましくは（８５～９２）：（８～１５）である。
ＴＦＥおよびＨＦＰに加えて、これらの単量体と共重合可能な他の単量体を重合することにより、ＦＥＰとして、ＴＦＥ、ＨＦＰおよび他の単量体の共重合体を得てもよい。他の単量体としては、上述した含フッ素単量体（ただし、ＴＦＥおよびＨＦＰを除く）およびフッ素非含有単量体が挙げられる。他の単量体として、１種または複数種を用いることができる。他の単量体としては、パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）が好ましい。ＦＥＰにおける他の単量体単位の含有量は、全単量体単位に対して、０．１～２質量％であってよい。
本開示の製造方法によりＴＦＥ／パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）共重合体（ＰＦＡ）を製造することもできる。
ＴＦＥ／パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）共重合体の好ましい単量体組成（モル％）は、ＴＦＥ：パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）＝（９０～９９．７）：（０．３～１０）、より好ましくは（９７～９９）：（１～３）である。上記パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）としては、式：ＣＦ２＝ＣＦＯＲｆ４（式中、Ｒｆ４は炭素数１～６のパーフルオロアルキル基）で表されるものを使用することが好ましい。
ＴＦＥおよびパーフルオロ（アルキルビニルエーテル）に加えて、これらの単量体と共重合可能な他の単量体を重合することにより、ＴＦＥ／パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）共重合体として、ＴＦＥ、パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）および他の単量体の共重合体を得てもよい。他の単量体としては、上述した含フッ素単量体（ただし、ＴＦＥおよびパーフルオロ（アルキルビニルエーテル）を除く）およびフッ素非含有単量体が挙げられる。他の単量体として、１種または複数種を用いることができる。ＴＦＥ／パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）共重合体における他の単量体単位の含有量は、全単量体単位に対して、０．１～２質量％であってよい。
２．水性分散液
本開示は、ＰＴＦＥ粒子および水性媒体を含有する水性分散液であって、ＰＴＦＥ粒子の平均一次粒子径が、１００～５００ｎｍであり、親水基を有する含フッ素化合物の含有量が少ない水性分散液にも関する。本開示の水性分散液は、本開示の製造方法を用いることにより、製造することができる。
水性分散液中のＰＴＦＥ粒子を形成するＰＴＦＥは、本開示の製造方法により得られるＰＴＦＥと同様の構成を有し得る。したがって、ＰＴＦＥとしては、高分子量ＰＴＦＥであってもよいし、低分子量ＰＴＦＥであってもよい。
ＰＴＦＥの平均一次粒子径は、５００ｎｍ以下であり、好ましくは４５０ｎｍ以下であり、より好ましくは４００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは３５０ｎｍ以下であり、尚さらに好ましくは３００ｎｍ以下であり、特に好ましくは２５０ｎｍ以下であり、好ましくは１０ｎｍ以上であり、より好ましくは１００ｎｍ以上であり、さらに好ましくは１５０ｎｍ以上である。
フルオロモノマーの重合を、上述した界面活性剤の存在下で行うことによって、ＰＴＦＥの平均一次粒子径を、上記した範囲に容易に調整することができる。
平均一次粒子径とは、水性分散液中に分散した一次粒子の平均粒子径であり、一次粒子が凝集して形成される二次粒子（粉末）の平均粒子径とは異なる。平均一次粒子径は、動的光散乱法により測定することができる。まず、ポリマー固形分濃度を約１．０質量％に調整した低分子量ＰＴＦＥ水性分散液を作製し、動的光散乱法を使用して、測定温度を２５℃、溶媒（水）の屈折率を１．３３２８、溶媒（水）の粘度を０．８８７８ｍＰａ・ｓ、積算回数を７０回として、測定できる。動的光散乱法においては、たとえば、ＥＬＳＺ－１０００Ｓ（大塚電子社製）が使用できる。
また、上記平均一次粒子径は、次の方法によっても測定できる。分散液を水で固形分濃度が０．１５質量％になるまで希釈し、得られた希釈ラテックスの単位長さに対する５５０ｎｍの投射光の透過率と、透過型電子顕微鏡写真により定方向径を測定して決定した数基準長さ平均粒子径とを測定して、検量線を作成する。この検量線を用いて、各試料の５５０ｎｍの投射光の実測透過率から平均粒子径を求めることができる。
（親水基を有する含フッ素化合物）
本開示の製造方法を用いることにより、親水基を有する含フッ素化合物の含有量が少ない水性分散液が得られる。
水性分散液中の親水基を有する含フッ素化合物の含有量は、５００質量ｐｐｂ以下であってよく、０質量ｐｐｂ超であってよい。水性分散液中の親水基を有する含フッ素化合物の含有量は、ＰＴＦＥ粒子に対して、５００質量ｐｐｂ未満、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、２０質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満、３質量ｐｐｂ以下または１質量ｐｐｂ以下であってよい。親水基を有する含フッ素化合物の含有量は、最も好ましくは、液体クロマトグラフィー質量分析法（ＬＣ／ＭＳ）による測定で、定量下限未満である。
親水基は、アニオン性基であってよく、酸基または酸塩基であってよい。親水基としては、例えば、－ＮＨ２、－ＰＯ３Ｍ、－ＯＰＯ３Ｍ、－ＳＯ３Ｍ、－ＯＳＯ３Ｍ、－ＣＯＯＭ（各式において、Ｍは、Ｈ、金属原子、ＮＲ７ｙ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウム、Ｒ７ｙは、Ｈ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。）が挙げられる。上記親水基としては、なかでも、－ＰＯ３Ｍ、－ＯＰＯ３Ｍ、－ＳＯ３Ｍ、－ＯＳＯ３Ｍ又は－ＣＯＯＭが好ましく、－ＳＯ３Ｍ又は－ＣＯＯＭがより好ましく、－ＣＯＯＭがさらに好ましい。Ｒ７ｙにおける有機基としてはアルキル基が好ましい。Ｒ７ｙとしては、Ｈ又はＣ１－１０の有機基が好ましく、Ｈ又はＣ１－４の有機基がより好ましく、Ｈ又はＣ１－４のアルキル基が更に好ましい。
上記金属原子としては、１、２価の金属原子が挙げられ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。
親水基を有する含フッ素化合物としては、含フッ素界面活性剤として上述したものが挙げられる。含フッ素界面活性剤として、典型的な化合物は、分子量１０００ｇ／ｍｏｌ以下、好ましくは８００ｇ／ｍｏｌ以下の含フッ素界面活性剤である。
水性分散液の一実施形態においては、親水基を有する含フッ素化合物として、下記の一般式（１）で表される化合物を実質的に含有しない。
一般式（１）：［Ｘ－Ｒｆ－Ａ－］ｉＭｉ＋
（式中、Ｘは、Ｈ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＦまたはＩ、Ｒｆは、直鎖若しくは分枝鎖の部分フッ素化若しくは完全フッ素化脂肪族基、または、少なくとも１個の酸素原子により中断された直鎖若しくは分枝鎖の部分フッ素化若しくは完全フッ素化脂肪族基、Ａ－は酸基、Ｍｉ＋は価数ｉを有するカチオン、ｉは１～３の整数を表す）
水性分散液の一実施形態においては、親水基を有する含フッ素化合物として、下記の一般式（２）で表される化合物を実質的に含有しない。
一般式（２）：［Ｃｎ－１Ｆ２ｎ－１ＣＯＯ－］Ｍ＋
（式中、ｎは９～１４の整数、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一般式（２）で表される化合物（パーフルオロアルカン酸）は、パーフルオロアルキルビニルエーテルなどを変性モノマーとして用いた場合に、重合中に形成されることが知られている（国際公開第２０１９／１６１１５３号参照）。
水性分散液の一実施形態においては、親水基を有する含フッ素化合物として、下記の一般式（３）で表される化合物を実質的に含有しない。
一般式（３）：［Ｒ１－Ｏ－Ｌ－ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｒ１は、直鎖若しくは分枝鎖の部分フッ素化若しくは完全フッ素化脂肪族基、または、少なくとも１個の酸素原子により中断された直鎖若しくは分枝鎖の部分フッ素化若しくは完全フッ素化脂肪族基、Ｌは、直鎖若しくは分枝鎖の非フッ素化、部分フッ素化または完全フッ素化アルキレン基、Ｍ＋はカチオンを表す。）
水性分散液の一実施形態においては、親水基を有する含フッ素化合物として、一般式（４）で示される化合物を実質的に含有しない。
一般式（４）：［Ｈ－（ＣＦ２）ｍ－１ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、ｍは４～２０の整数、Ｍ＋はカチオンを表す。）
本開示において、一般式（１）～（４）で表される化合物のいずれかを実質的に含有しないとは、水性分散液中の一般式（１）～（４）で表される化合物のいずれかの含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して、５００質量ｐｐｂ以下であることを意味する。フルオロポリマー中の一般式（１）～（４）で表される化合物のいずれかの含有量は、ＰＴＦＥ粒子に対して、５００質量ｐｐｂ未満、４５０質量ｐｐｂ以下、４００質量ｐｐｂ以下、３００質量ｐｐｂ以下、２００質量ｐｐｂ以下、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であってよい。上記の含有量は、最も好ましくは、液体クロマトグラフィー質量分析法（ＬＣ／ＭＳ）による測定で、定量下限未満である。
カチオンとしては、Ｈ＋、アンモニウムイオン、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオンなどが挙げられる。
一実施形態において、水性分散液中の下記一般式（４－ａ３）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して５００質量ｐｐｂ以下である。
一般式（４－ａ３）：［Ｈ－（ＣＦ２）３ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一般式（４－ａ３）で表わされる化合物の含有量は、ＰＴＦＥ粒子に対して、５００質量ｐｐｂ未満、４００質量ｐｐｂ以下、３００質量ｐｐｂ以下、２００質量ｐｐｂ以下、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であってよい。上記の含有量は、最も好ましくは、液体クロマトグラフィー質量分析法（ＬＣ／ＭＳ）による測定で、定量下限未満である。
一実施形態において、水性分散液中の下記一般式（４－ａ４）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して５００質量ｐｐｂ以下である。
一般式（４－ａ４）：［Ｈ－（ＣＦ２）４ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一般式（４－ａ４）で表わされる化合物の含有量は、ＰＴＦＥ粒子に対して、５００質量ｐｐｂ未満、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であってよい。上記の含有量は、最も好ましくは、液体クロマトグラフィー質量分析法（ＬＣ／ＭＳ）による測定で、定量下限未満である。
一実施形態において、水性分散液中の下記一般式（４－ａ５）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して５００質量ｐｐｂ以下である。
一般式（４－ａ５）：［Ｈ－（ＣＦ２）５ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一般式（４－ａ５）で表わされる化合物の含有量は、ＰＴＦＥ粒子に対して、５００質量ｐｐｂ未満、４００質量ｐｐｂ以下、３００質量ｐｐｂ以下、２００質量ｐｐｂ以下、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であってよい。上記の含有量は、最も好ましくは、液体クロマトグラフィー質量分析法（ＬＣ／ＭＳ）による測定で、定量下限未満である。
一実施形態において、水性分散液中の下記一般式（４－ａ６）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して５００質量ｐｐｂ以下である。
一般式（４－ａ６）：［Ｈ－（ＣＦ２）６ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一般式（４－ａ６）で表わされる化合物の含有量は、ＰＴＦＥ粒子に対して、５００質量ｐｐｂ未満、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であってよい。上記の含有量は、最も好ましくは、液体クロマトグラフィー質量分析法（ＬＣ／ＭＳ）による測定で、定量下限未満である。
一実施形態において、水性分散液中の下記一般式（４－ａ７）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して４５０質量ｐｐｂ以下である。
一般式（４－ａ７）：［Ｈ－（ＣＦ２）７ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一般式（４－ａ７）で表わされる化合物の含有量は、ＰＴＦＥ粒子に対して、４００質量ｐｐｂ以下、３００質量ｐｐｂ以下、２００質量ｐｐｂ以下、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であってよい。上記の含有量は、最も好ましくは、液体クロマトグラフィー質量分析法（ＬＣ／ＭＳ）による測定で、定量下限未満である。
一実施形態において、水性分散液中の下記一般式（４－ａ８）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して５００質量ｐｐｂ以下である。
一般式（４－ａ８）：［Ｈ－（ＣＦ２）８ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一般式（４－ａ８）で表わされる化合物の含有量は、ＰＴＦＥ粒子に対して、５００質量ｐｐｂ未満、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であってよい。上記の含有量は、最も好ましくは、液体クロマトグラフィー質量分析法（ＬＣ／ＭＳ）による測定で、定量下限未満である。
一実施形態において、水性分散液中の下記一般式（４－ａ９）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して５００質量ｐｐｂ以下である。
一般式（４－ａ９）：［Ｈ－（ＣＦ２）９ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一般式（４－ａ９）で表わされる化合物の含有量は、ＰＴＦＥ粒子に対して、５００質量ｐｐｂ未満、４００質量ｐｐｂ以下、３００質量ｐｐｂ以下、２００質量ｐｐｂ以下、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であってよい。上記の含有量は、最も好ましくは、液体クロマトグラフィー質量分析法（ＬＣ／ＭＳ）による測定で、定量下限未満である。
一実施形態において、水性分散液中の下記一般式（４－ａ１０）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して５００質量ｐｐｂ以下である。
一般式（４－ａ１０）：［Ｈ－（ＣＦ２）１０ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一般式（４－ａ１０）で表わされる化合物の含有量は、ＰＴＦＥ粒子に対して、５００質量ｐｐｂ未満、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であってよい。上記の含有量は、最も好ましくは、液体クロマトグラフィー質量分析法（ＬＣ／ＭＳ）による測定で、定量下限未満である。
一実施形態において、水性分散液中の下記一般式（４－ａ１１）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して５００質量ｐｐｂ以下である。
一般式（４－ａ１１）：［Ｈ－（ＣＦ２）１１ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一般式（４－ａ１１）で表わされる化合物の含有量は、ＰＴＦＥ粒子に対して、５００質量ｐｐｂ未満、４００質量ｐｐｂ以下、３００質量ｐｐｂ以下、２００質量ｐｐｂ以下、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であってよい。上記の含有量は、最も好ましくは、液体クロマトグラフィー質量分析法（ＬＣ／ＭＳ）による測定で、定量下限未満である。
一実施形態において、水性分散液中の下記一般式（４－ａ１２）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して５００質量ｐｐｂ以下である。
一般式（４－ａ１２）：［Ｈ－（ＣＦ２）１２ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一般式（４－ａ１２）で表わされる化合物の含有量は、ＰＴＦＥ粒子に対して、５００質量ｐｐｂ未満、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であってよい。上記の含有量は、最も好ましくは、液体クロマトグラフィー質量分析法（ＬＣ／ＭＳ）による測定で、定量下限未満である。
一実施形態において、水性分散液中の下記一般式（４－ａ１３）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して５００質量ｐｐｂ以下である。
一般式（４－ａ１３）：［Ｈ－（ＣＦ２）１３ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一般式（４－ａ１３）で表わされる化合物の含有量は、ＰＴＦＥ粒子に対して、５００質量ｐｐｂ未満、４００質量ｐｐｂ以下、３００質量ｐｐｂ以下、２００質量ｐｐｂ以下、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であってよい。上記の含有量は、最も好ましくは、液体クロマトグラフィー質量分析法（ＬＣ／ＭＳ）による測定で、定量下限未満である。
一実施形態において、水性分散液中の下記一般式（４－ａ１４）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して５００質量ｐｐｂ以下である。
一般式（４－ａ１４）：［Ｈ－（ＣＦ２）１４ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一般式（４－ａ１４）で表わされる化合物の含有量は、ＰＴＦＥ粒子に対して、５００質量ｐｐｂ未満、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であってよい。上記の含有量は、最も好ましくは、液体クロマトグラフィー質量分析法（ＬＣ／ＭＳ）による測定で、定量下限未満である。
一実施形態において、水性分散液中の下記一般式（４－ａ１５）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して５００質量ｐｐｂ以下である。
一般式（４－ａ１５）：［Ｈ－（ＣＦ２）１５ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一般式（４－ａ１５）で表わされる化合物の含有量は、ＰＴＦＥ粒子に対して、５００質量ｐｐｂ未満、４００質量ｐｐｂ以下、３００質量ｐｐｂ以下、２００質量ｐｐｂ以下、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であってよい。上記の含有量は、最も好ましくは、液体クロマトグラフィー質量分析法（ＬＣ／ＭＳ）による測定で、定量下限未満である。
一実施形態において、水性分散液中の下記一般式（４－ａ１６）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して５００質量ｐｐｂ以下である。
一般式（４－ａ１６）：［Ｈ－（ＣＦ２）１６ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一般式（４－ａ１６）で表わされる化合物の含有量は、ＰＴＦＥ粒子に対して、５００質量ｐｐｂ未満、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であってよい。上記の含有量は、最も好ましくは、液体クロマトグラフィー質量分析法（ＬＣ／ＭＳ）による測定で、定量下限未満である。
一実施形態において、水性分散液中の下記一般式（４－ａ１７）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して５００質量ｐｐｂ以下である。
一般式（４－ａ１７）：［Ｈ－（ＣＦ２）１７ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一般式（４－ａ１７）で表わされる化合物の含有量は、ＰＴＦＥ粒子に対して、５００質量ｐｐｂ未満、４００質量ｐｐｂ以下、３００質量ｐｐｂ以下、２００質量ｐｐｂ以下、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であってよい。上記の含有量は、最も好ましくは、液体クロマトグラフィー質量分析法（ＬＣ／ＭＳ）による測定で、定量下限未満である。
一実施形態において、水性分散液中の下記一般式（４－ａ１８）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して５００質量ｐｐｂ以下である。
一般式（４－ａ１８）：［Ｈ－（ＣＦ２）１８ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一般式（４－ａ１８）で表わされる化合物の含有量は、ＰＴＦＥ粒子に対して、５００質量ｐｐｂ未満、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であってよい。上記の含有量は、最も好ましくは、液体クロマトグラフィー質量分析法（ＬＣ／ＭＳ）による測定で、定量下限未満である。
一実施形態において、水性分散液中の下記一般式（４－ａ１９）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して５００質量ｐｐｂ以下である。
一般式（４－ａ１９）：［Ｈ－（ＣＦ２）１９ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一般式（４－ａ１９）で表わされる化合物の含有量は、ＰＴＦＥ粒子に対して、５００質量ｐｐｂ未満、４００質量ｐｐｂ以下、３００質量ｐｐｂ以下、２００質量ｐｐｂ以下、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であってよい。上記の含有量は、最も好ましくは、液体クロマトグラフィー質量分析法（ＬＣ／ＭＳ）による測定で、定量下限未満である。
一実施形態において、水性分散液中の下記一般式（４－ａ７）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して４５０質量ｐｐｂ以下であり、なおかつ、水性分散液中の下記一般式（４－ａ８）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して５００質量ｐｐｂ以下である。
一般式（４－ａ７）：［Ｈ－（ＣＦ２）７ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一般式（４－ａ８）：［Ｈ－（ＣＦ２）８ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一実施形態において、一般式（４－ａ７）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して、４００質量ｐｐｂ以下、３００質量ｐｐｂ以下、２００質量ｐｐｂ以下、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であって、なおかつ、一般式（４－ａ８）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して、５００質量ｐｐｂ未満、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であってよい。上記の含有量は、最も好ましくは、液体クロマトグラフィー質量分析法（ＬＣ／ＭＳ）による測定で、定量下限未満である。
一実施形態において、水性分散液中の下記一般式（４－ａ７）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して４５０質量ｐｐｂ以下であり、なおかつ、水性分散液中の下記一般式（４－ａ８）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して５００質量ｐｐｂ以下であり、なおかつ、水性分散液中の下記一般式（４－ａ１３）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して５００質量ｐｐｂ以下である。
一般式（４－ａ７）：［Ｈ－（ＣＦ２）７ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一般式（４－ａ８）：［Ｈ－（ＣＦ２）８ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一般式（４－ａ１３）：［Ｈ－（ＣＦ２）１３ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一実施形態において、一般式（４－ａ７）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して、４００質量ｐｐｂ以下、３００質量ｐｐｂ以下、２００質量ｐｐｂ以下、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であって、なおかつ、一般式（４－ａ８）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して、５００質量ｐｐｂ未満、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であって、なおかつ、一般式（４－ａ１３）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して、５００質量ｐｐｂ未満、４００質量ｐｐｂ以下、３００質量ｐｐｂ以下、２００質量ｐｐｂ以下、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であってよい。上記の含有量は、最も好ましくは、液体クロマトグラフィー質量分析法（ＬＣ／ＭＳ）による測定で、定量下限未満である。
一実施形態において、水性分散液中の下記一般式（４－ａ７）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して４５０質量ｐｐｂ以下であり、なおかつ、水性分散液中の下記一般式（４－ａ８）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して５００質量ｐｐｂ以下であり、なおかつ、水性分散液中の下記一般式（４－ａ１３）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して５００質量ｐｐｂ以下であり、なおかつ、水性分散液中の下記一般式（４－ａ１２）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して５００質量ｐｐｂ以下である。
一般式（４－ａ７）：［Ｈ－（ＣＦ２）７ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一般式（４－ａ８）：［Ｈ－（ＣＦ２）８ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一般式（４－ａ１３）：［Ｈ－（ＣＦ２）１３ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一般式（４－ａ１２）：［Ｈ－（ＣＦ２）１２ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一実施形態において、一般式（４－ａ７）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して、４００質量ｐｐｂ以下、３００質量ｐｐｂ以下、２００質量ｐｐｂ以下、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であって、なおかつ、一般式（４－ａ８）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して、５００質量ｐｐｂ未満、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であって、なおかつ、一般式（４－ａ１３）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して、５００質量ｐｐｂ未満、４００質量ｐｐｂ以下、３００質量ｐｐｂ以下、２００質量ｐｐｂ以下、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であって、なおかつ、一般式（４－ａ１２）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して、５００質量ｐｐｂ未満、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であってよい。上記の含有量は、最も好ましくは、液体クロマトグラフィー質量分析法（ＬＣ／ＭＳ）による測定で、定量下限未満である。
一実施形態において、水性分散液中の下記一般式（４－ａ１３）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して５００質量ｐｐｂ以下であり、なおかつ、水性分散液中の下記一般式（４－ａ１２）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して５００質量ｐｐｂ以下である。
一般式（４－ａ１３）：［Ｈ－（ＣＦ２）１３ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一般式（４－ａ１２）：［Ｈ－（ＣＦ２）１２ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一実施形態において、一般式（４－ａ１３）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して、５００質量ｐｐｂ未満、４００質量ｐｐｂ以下、３００質量ｐｐｂ以下、２００質量ｐｐｂ以下、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であって、なおかつ、一般式（４－ａ１２）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して、５００質量ｐｐｂ未満、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であってよい。上記の含有量は、最も好ましくは、液体クロマトグラフィー質量分析法（ＬＣ／ＭＳ）による測定で、定量下限未満である。
一実施形態において、水性分散液中の下記一般式（４－ａ１３）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して５００質量ｐｐｂ以下であり、なおかつ、水性分散液中の下記一般式（４－ａ１２）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して５００質量ｐｐｂ以下であり、なおかつ、水性分散液中の下記一般式（４－ａ７）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して５００質量ｐｐｂ以下である。
一般式（４－ａ１３）：［Ｈ－（ＣＦ２）１３ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一般式（４－ａ１２）：［Ｈ－（ＣＦ２）１２ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一般式（４－ａ７）：［Ｈ－（ＣＦ２）７ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一実施形態において、一般式（４－ａ１３）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して、５００質量ｐｐｂ未満、４００質量ｐｐｂ以下、３００質量ｐｐｂ以下、２００質量ｐｐｂ以下、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であって、なおかつ、一般式（４－ａ１２）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して、５００質量ｐｐｂ未満、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であって、なおかつ、一般式（４－ａ７）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して、４５０質量ｐｐｂ以下、４００質量ｐｐｂ以下、３００質量ｐｐｂ以下、２００質量ｐｐｂ以下、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であってよい。上記の含有量は、最も好ましくは、液体クロマトグラフィー質量分析法（ＬＣ／ＭＳ）による測定で、定量下限未満である。
一実施形態において、水性分散液中の下記一般式（４－ａ１３）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して５００質量ｐｐｂ以下であり、なおかつ、水性分散液中の下記一般式（４－ａ１２）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して５００質量ｐｐｂ以下であり、なおかつ、水性分散液中の下記一般式（４－ａ７）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して５００質量ｐｐｂ以下であり、なおかつ、水性分散液中の下記一般式（４－ａ８）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して５００質量ｐｐｂ以下である。
一般式（４－ａ１３）：［Ｈ－（ＣＦ２）１２ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一般式（４－ａ１２）：［Ｈ－（ＣＦ２）１２ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一般式（４－ａ７）：［Ｈ－（ＣＦ２）７ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一般式（４－ａ８）：［Ｈ－（ＣＦ２）８ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
一実施形態において、一般式（４－ａ１３）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して、５００質量ｐｐｂ未満、４００質量ｐｐｂ以下、３００質量ｐｐｂ以下、２００質量ｐｐｂ以下、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であって、なおかつ、一般式（４－ａ１２）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して、５００質量ｐｐｂ未満、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であって、なおかつ、一般式（４－ａ７）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して、４５０質量ｐｐｂ以下、４００質量ｐｐｂ以下、３００質量ｐｐｂ以下、２００質量ｐｐｂ以下、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であって、なおかつ、一般式（４－ａ８）で表わされる化合物の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して、５００質量ｐｐｂ未満、１００質量ｐｐｂ以下、５０質量ｐｐｂ以下、２５質量ｐｐｂ以下、１０質量ｐｐｂ以下、５質量ｐｐｂ未満または１質量ｐｐｂ以下であってよい。上記の含有量は、最も好ましくは、液体クロマトグラフィー質量分析法（ＬＣ／ＭＳ）による測定で、定量下限未満である。
一実施形態において、水性分散液は、一般式（４）で表わされる化合物を含有する。一般式（４）で表わされる化合物の含有量は、０質量ｐｐｂ超であってよい。
一実施形態において、水性分散液は、一般式（４－ａ３）で表わされる化合物を含有する。一般式（４－ａ３）で表わされる化合物の含有量は、０質量ｐｐｂ超であってよい。
一実施形態において、水性分散液は、一般式（４－ａ４）で表わされる化合物を含有する。一般式（４－ａ４）で表わされる化合物の含有量は、０質量ｐｐｂ超であってよい。
一実施形態において、水性分散液は、一般式（４－ａ５）で表わされる化合物を含有する。一般式（４－ａ５）で表わされる化合物の含有量は、０質量ｐｐｂ超であってよい。
一実施形態において、水性分散液は、一般式（４－ａ６）で表わされる化合物を含有する。一般式（４－ａ６）で表わされる化合物の含有量は、０質量ｐｐｂ超であってよい。
一実施形態において、水性分散液は、一般式（４－ａ７）で表わされる化合物を含有する。一般式（４－ａ７）で表わされる化合物の含有量は、０質量ｐｐｂ超であってよい。
一実施形態において、水性分散液は、一般式（４－ａ８）で表わされる化合物を含有する。一般式（４－ａ８）で表わされる化合物の含有量は、０質量ｐｐｂ超であってよい。
一実施形態において、水性分散液は、一般式（４－ａ９）で表わされる化合物を含有する。一般式（４－ａ９）で表わされる化合物の含有量は、０質量ｐｐｂ超であってよい。
一実施形態において、水性分散液は、一般式（４－ａ１０）で表わされる化合物を含有する。一般式（４－ａ１０）で表わされる化合物の含有量は、０質量ｐｐｂ超であってよい。
一実施形態において、水性分散液は、一般式（４－ａ１１）で表わされる化合物を含有する。一般式（４－ａ１１）で表わされる化合物の含有量は、０質量ｐｐｂ超であってよい。
一実施形態において、水性分散液は、一般式（４－ａ１２）で表わされる化合物を含有する。一般式（４－ａ１２）で表わされる化合物の含有量は、０質量ｐｐｂ超であってよい。
一実施形態において、水性分散液は、一般式（４－ａ１３）で表わされる化合物を含有する。一般式（４－ａ１３）で表わされる化合物の含有量は、０質量ｐｐｂ超であってよい。
一実施形態において、水性分散液は、一般式（４－ａ１４）で表わされる化合物を含有する。一般式（４－ａ１４）で表わされる化合物の含有量は、０質量ｐｐｂ超であってよい。
一実施形態において、水性分散液は、一般式（４－ａ１５）で表わされる化合物を含有する。一般式（４－ａ１５）で表わされる化合物の含有量は、０質量ｐｐｂ超であってよい。
一実施形態において、水性分散液は、一般式（４－ａ１６）で表わされる化合物を含有する。一般式（４－ａ１６）で表わされる化合物の含有量は、０質量ｐｐｂ超であってよい。
一実施形態において、水性分散液は、一般式（４－ａ１７）で表わされる化合物を含有する。一般式（４－ａ１７）で表わされる化合物の含有量は、０質量ｐｐｂ超であってよい。
一実施形態において、水性分散液は、一般式（４－ａ１８）で表わされる化合物を含有する。一般式（４－ａ１８）で表わされる化合物の含有量は、０質量ｐｐｂ超であってよい。
一実施形態において、水性分散液は、一般式（４－ａ１９）で表わされる化合物を含有する。一般式（４－ａ１９）で表わされる化合物の含有量は、０質量ｐｐｂ超であってよい。
本開示の水性分散液の一実施形態においては、含フッ素界面活性剤を実質的に含有しない。
本開示において、「含フッ素界面活性剤を実質的に含有しない」とは、水性分散液中の含フッ素界面活性剤の含有量が、１０質量ｐｐｍ以下であることを意味し、好ましくは１質量ｐｐｍ以下であり、より好ましくは１００質量ｐｐｂ以下であり、更に好ましくは１０質量ｐｐｂ以下であり、更により好ましくは１質量ｐｐｂ以下であり、特に好ましくは、液体クロマトグラフィー－質量分析法（ＬＣ／ＭＳ）による測定による、含フッ素界面活性剤が定量下限未満である。
水性分散液中の親水基を有する含フッ素化合物の含有量は、公知な方法で定量できる。例えば、ＬＣ／ＭＳ分析にて定量することができる。
まず、水性分散液にメタノールを加え、抽出を行ない、得られた抽出液をＬＣ／ＭＳ分析する。更に抽出効率を高めるために、ソックスレー抽出、超音波処理等による処理を行ってもよい。
得られた抽出液を適宜窒素パージで濃縮し、濃縮後の抽出液中の親水基を有する含フッ素化合物をＬＣ／ＭＳ測定する。
得られたＬＣ／ＭＳスペクトルから、分子量情報を抜出し、候補となる親水基を有する含フッ素化合物の構造式との一致を確認する。
その後、確認された親水基を有する含フッ素化合物の５水準以上の含有量の水溶液を作製し、それぞれの含有量の水溶液のＬＣ／ＭＳ分析を行ない、含有量と、その含有量に対するエリア面積と関係をプロットし、検量線を描く。
そして、検量線を用いて、抽出液中の親水基を有する含フッ素化合物のＬＣ／ＭＳクロマトグラムのエリア面積を、親水基を有する含フッ素化合物の含有量に換算することができる。
なお、得られた抽出液を窒素パージすることで濃縮できることから、測定方法の定量下限を下げることが出来る。
本開示の水性分散液の一実施形態においては、非イオン性界面活性剤を実質的に含有しない。
本開示において、「非イオン性界面活性剤を実質的に含有しない」とは、水性分散液中の非イオン性界面活性剤の含有量が、ＰＴＦＥ粒子に対して、１．０質量％未満であることを意味し、好ましくは０．５質量％以下であり、より好ましくは０．１質量以下である。
水性分散液中の非イオン性界面活性剤の含有量は、水性分散液１ｇを、１１０℃にて３０分で加熱した加熱残分（Ｙｇ）、更に、得られた加熱残分（Ｙｇ）を３００℃にて３０分加熱した加熱残分（Ｚｇ）より、式：Ｎ＝［（Ｙ－Ｚ）／Ｚ］×１００（質量％）から算出することにより得られる値である。
本開示の水性分散液は、上述した用途に好適に利用することができる。
以上、実施形態を説明したが、特許請求の範囲の趣旨および範囲から逸脱することなく、形態や詳細の多様な変更が可能なことが理解されるであろう。
＜１＞ 本開示の第１の観点によれば、
重合開始剤、テロゲン性を有する化合物および水性媒体の存在下に、フルオロモノマーを重合することにより、フルオロポリマーを得るフルオロポリマーの製造方法であって、
前記重合開始剤が、疎水性の一次ラジカルを発生させる重合開始剤である製造方法が提供される。
＜２＞ 本開示の第２の観点によれば、
前記重合開始剤が、水溶性である第１の観点による製造方法が提供される。
＜３＞ 本開示の第３の観点によれば、
前記重合開始剤が、レドックス開始剤である第１または第２の観点による製造方法が提供される。
＜４＞ 本開示の第４の観点によれば、
前記一次ラジカルが、非パーフルオロアルキルラジカルまたはパーフルオロアルキルラジカルである第１～第３のいずれかの観点による製造方法が提供される。
＜５＞ 本開示の第５の観点によれば、
前記一次ラジカルが、パーフルオロアルキルラジカルである第１～第４のいずれかの観点による製造方法が提供される。
＜６＞ 本開示の第６の観点によれば、
前記一次ラジカルが、炭素数が１～７の一次ラジカルである第１～第５のいずれかの観点による製造方法が提供される。
＜７＞ 本開示の第７の観点によれば、
前記レドックス開始剤が、含フッ素アルキルスルフィン酸またはその塩、および、前記含フッ素アルキルスルフィン酸またはその塩を酸化することができる酸化剤から構成される第３の観点による製造方法が提供される。
＜８＞ 本開示の第８の観点によれば、
前記フルオロモノマーが、テトラフルオロエチレンである第１～第７のいずれかの観点による製造方法が提供される。
＜９＞ 本開示の第９の観点によれば、
前記フルオロモノマーが、テトラフルオロエチレン、または、テトラフルオロエチレンおよびテトラフルオロエチレン以外のフルオロモノマーである第１～第８のいずれかの観点による製造方法が提供される。
＜１０＞ 本開示の第１０の観点によれば、
前記フルオロポリマーがフッ素樹脂である第１～第９のいずれかの観点による製造方法が提供される。
＜１１＞ 本開示の第１１の観点によれば、
前記テロゲン性を有する化合物が、連鎖移動剤である第１～第１０のいずれかの観点による製造方法が提供される。
＜１２＞ 本開示の第１２の観点によれば、
前記テロゲン性を有する化合物が、炭化水素系界面活性剤である第１～第１１のいずれかの観点による製造方法が提供される。
＜１３＞ 本開示の第１３の観点によれば、
前記重合開始剤が、レドックス開始剤であり、
前記レドックス開始剤を構成する還元剤が、炭素数が１～７の含フッ素アルキルスルフィン酸またはその塩であり、
前記レドックス開始剤を構成する酸化剤が、過硫酸塩であり、
前記テロゲン性を有する化合物が、連鎖移動剤および炭化水素系界面活性剤からなる群より選択される少なくとも１種であり、
前記連鎖移動剤が、エタンおよびプロパンからなる群より選択される少なくとも１種あり、
前記炭化水素系界面活性剤が、ドデシル硫酸であり、
前記フルオロモノマーが、テトラフルオロエチレン、または、テトラフルオロエチレンおよびテトラフルオロエチレン以外のフルオロモノマーであり、
前記フルオロポリマーが、ポリテトラフルオロエチレンである
第１～第１１のいずれかの観点による製造方法が提供される。
＜１４＞ 本開示の第１４の観点によれば、
ポリテトラフルオロエチレン粒子および水性媒体を含有する水性分散液であって、
前記ポリテトラフルオロエチレン粒子の平均一次粒子径が、１００～５００ｎｍであり、
下記一般式（４－ａ７）で表わされる化合物の含有量が、前記ポリテトラフルオロエチレン粒子に対して、４５０質量ｐｐｂ以下である
水性分散液が提供される。
一般式（４－ａ７）：［Ｈ－（ＣＦ２）７ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
＜１５＞ 本開示の第１５の観点によれば、
下記一般式（４－ａ８）で表わされる化合物の含有量が、前記ポリテトラフルオロエチレン粒子に対して、５００質量ｐｐｂ以下である第１４の観点による水性分散液が提供される。
一般式（４－ａ８）：［Ｈ－（ＣＦ２）８ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
＜１６＞ 本開示の第１６の観点によれば、
ポリテトラフルオロエチレン粒子および水性媒体を含有する水性分散液であって、
前記ポリテトラフルオロエチレン粒子の平均一次粒子径が、１００～５００ｎｍであり、
下記一般式（４－ａ１３）で表わされる化合物の含有量が、前記ポリテトラフルオロエチレン粒子に対して、５００質量ｐｐｂ以下である
水性分散液が提供される。
一般式（４－ａ１３）：［Ｈ－（ＣＦ２）１３ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
＜１７＞ 本開示の第１７の観点によれば、
下記一般式（４－ａ１２）で表わされる化合物の含有量が、前記ポリテトラフルオロエチレン粒子に対して、５００質量ｐｐｂ以下である第１６の観点による水性分散液が提供される。
一般式（４－ａ１２）：［Ｈ－（ＣＦ２）１２ＣＯ２ －］Ｍ＋
（式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
＜１８＞ 本開示の第１８の観点によれば、
前記ポリテトラフルオロエチレン粒子が、低分子量ポリテトラフルオロエチレンの粒子である第１４～第１７のいずれかの観点による水性分散液が提供される。
＜１９＞ 本開示の第１９の観点によれば、
含フッ素界面活性剤を実質的に含有しない第１４～第１８のいずれかの観点による水性分散液が提供される。
＜２０＞ 本開示の第２０の観点によれば、
非イオン性界面活性剤を実質的に含有しない第１４～第１９のいずれかの観点による水性分散液が提供される。
つぎに本開示の実施形態について実施例をあげて説明するが、本開示はかかる実施例のみに限定されるものではない。
実施例の各数値は以下の方法により測定した。
＜親水基を有する含フッ素化合物の測定＞
水性分散液に含まれる親水基を有する含フッ素化合物の含有量は、水性分散液から抽出される親水基を有する含フッ素化合物の含有量として求めた。
０．水性分散液からの親水基を有する含フッ素化合物の抽出
５０ｍＬポリプロピレン製遠沈管に、固形分で２ｇ相当の水性分散液とメタノールを２０ｇ加え、密閉した状態で振とうすることにより、フルオロポリマーを凝析させた。ポリプロピレン製遠沈管内の凝析したポリマーと上澄をソックスレー抽出器内の円筒濾紙に入れた。さらに５０ｍＬポリプロピレン製遠沈管内を１３０ｇのメタノールで洗い、５０ｍＬポリプロピレン製遠沈管内に残った液とポリマーと合わせてソックスレー抽出器内の円筒濾紙に入れた。その後、ソックスレー抽出により抽出を２０回繰り返すことにより、抽出液を得た。得られた抽出液の質量ｍｅ（ｇ）と２０℃における比重ｄｅ（ｇ／ｍL）から、下記関係式（１）より抽出液の体積Ｖｅ（ｍL）を得た。
Ｖｅ＝ｍｅ／ｄｅ （１）
＜一般式（４）で表される化合物の測定（測定法１）＞
一般式（４）で表される化合物の含有量は、パーフルオロオクタン酸に換算することにより求めた。
１．パーフルオロオクタン酸の検量線
濃度既知のパーフルオロオクタン酸のメタノール標準溶液をそれぞれ５水準調製し、液体クロマトグラフ質量分析計（Ａｇｉｌｅｎｔ，６４７０Ｂ トリプル四重極ＬＣ－ＭＳ）を用いてＤｙｎａｍｉｃ ＭＲＭ法により測定を行った。それぞれの濃度範囲において、メタノール標準溶液濃度とパーフルオロオクタン酸のピーク面積から一次近似を用い、関係式（２）により、ａ、ｂを求めた。
Ａ＝ａ×Ｘ＋ｂ （２）
Ａ：パーフルオロオクタン酸のピーク面積
Ｘ：パーフルオロオクタン酸の濃度（ｎｇ／ｍＬ）
測定機器構成とＬＣ－ＭＳ測定条件
ＭＲＭ測定パラメータ
２．水性分散液に含まれる一般式（４）で表される化合物の含有量
液体クロマトグラフ質量分析計を用い、Ｄｙｎａｍｉｃ ＭＲＭ法により、抽出液に含まれる炭素数ｍの一般式（４）で表される化合物のピーク面積を測定した。
ＭＲＭ測定パラメータ
抽出液中の炭素数ｍの一般式（４）で示される化合物の含有量は関係式（３）を用いて算出した。関係式（３）のａ、ｂは関係式（２）より求めた。
ＸＣｍ＝（（ＡＣｍ－ｂ）／ａ）×（（５０×ｍ－５）／４１３） （３）
ＸＣｍ：抽出液中の炭素数ｍの一般式（４）で示される化合物の含有量（ｎｇ／ｍＬ）
ＡＣｍ：抽出液中の炭素数ｍの一般式（４）で示される化合物のピーク面積
水性分散液に含まれる炭素数ｍの一般式（４）で示される化合物の含有量
水性分散液に含まれる炭素数ｍの一般式（４）で示される化合物の含有量は関係式（４）により求めた。
ＹＣｍ＝ＸＣｍ×Ｖｅ／２ （４）
ＹＣｍ：水性分散液に含まれる炭素数ｍの一般式（４）で示される化合物の含有量（質量ｐｐｂ／フルオロポリマー）
測定法１での水性分散液に含まれる炭素数ｍの一般式（４）で表される化合物の含有量の定量下限はそれぞれ５質量ｐｐｂ／フルオロポリマーである。
＜炭素数が８の一般式（４）で表される化合物の測定（測定法２）＞
炭素数ｍが８の一般式（４）で表される化合物は以下の方法により求めてもよい。
１．炭素数ｍが８の一般式（４）で表される化合物の検量線
濃度既知の炭素数ｍが８の一般式（４）で表される化合物のメタノール標準溶液をそれぞれ５水準調製し、液体クロマトグラフ質量分析計（Ａｇｉｌｅｎｔ，６４７０Ｂ トリプル四重極ＬＣ－ＭＳ）を用いてＤｙｎａｍｉｃ ＭＲＭ法により測定を行った。それぞれの濃度範囲において、メタノール標準溶液濃度と素数ｍが８の一般式（４）で表される化合物のピーク面積から一次近似を用い、関係式（２’）により、ａ’、ｂ’を求めた。
Ａ’＝ａ’×Ｘ’＋ｂ’ （２’）
Ａ’：炭素数ｍが８の一般式（４）で表される化合物のピーク面積
Ｘ’：炭素数ｍが８の一般式（４）で表される化合物の濃度（ｎｇ／ｍＬ）
測定機器構成とＬＣ－ＭＳ測定条件は表１に記載のものを用いた。
ＭＲＭパラメータは表３に記載のものを用いた。
抽出液中の炭素数ｍが８の一般式（４）で示される化合物の含有量は関係式（３’）を用いて算出した。関係式（３’）のａ’、ｂ’は式（２’）より求めた。
ＸＣｍ’＝（（Ｃｍ’－ｂ’）／ａ’） （３’）
ＸＣｍ’：抽出液中の炭素数ｍが８の一般式（４）で示される化合物の含有量（ｎｇ／ｍＬ）
ＡＣｍ’：抽出液中の炭素数ｍが８の一般式（４）で示される化合物のピーク面積
水性分散液に含まれる炭素数ｍが８の一般式（４）で示される化合物の含有量
水性分散液に含まれる炭素数ｍが８の一般式（４）で示される化合物の含有量は関係式（４’）により求めた。
ＹＣｍ’＝ＸＣｍ’×Ｖｅ／２ （４’）
ＹＣｍ’：水性分散液に含まれる炭素数が８の一般式（４）で示される化合物の含有量（質量ｐｐｂ／フルオロポリマー）
測定法２での水性分散液に含まれる炭素数が８の一般式（４）で表される化合物の含有量の定量下限は５質量ｐｐｂ／フルオロポリマーである。
＜固形分濃度＞
試料約１ｇ（Ｘｇ）を直径５ｃｍのアルミカップにとり、１１０℃、３０分で加熱し、更に３００℃、３０分加熱した加熱残分（Ｚｇ）に基づき、式：Ｐ＝Ｚ／Ｘ×１００（質量％）にて決定した。
＜溶融粘度＞
ＡＳＴＭ Ｄ １２３８に準拠し、フローテスター（島津製作所社製）及び２φ－８Ｌのダイを用い、予め測定温度（３８０℃）で５分間加熱しておいた２ｇの試料を０．７ＭＰａの荷重にて上記温度に保って測定を行った。
平均一次粒子径
動的光散乱法により測定した。フルオロポリマー固形分濃度１．０質量％に調整したフルオロポリマー水性分散液を作成し、ＥＬＳＺ－１０００Ｓ（大塚電子株式会社製）を使用して２５℃、積算７０回にて測定した。溶媒（水）の屈折率は１．３３２８、溶媒（水）の粘度は０．８８７８ｍＰａ・ｓとした。
エスアイアイ・ナノテクノロジー社製の示差走査熱量測定機ＲＤＣ２２０（ＤＳＣ）を用い、事前に標準サンプルとして、インジウム、鉛を用いて温度校正した上で、ＰＴＦＥ粉末約３ｍｇをアルミ製パン（クリンプ容器）に入れ、２００ｍｌ／分のエアー気流下で、２５０～３８０℃の温度領域を１０℃／分で昇温させて行い、上記領域における融解熱量の極小点を融点とした。
比較例１
連鎖移動剤としてエタンを４８０ｍｇ、重合開始剤として過硫酸アンモニウム［ＡＰＳ］３３０ｍｇを加え、槽内温度を７０±１℃に調節する以外は国際公開第２００９／０２０１８７号の実施例１に記載の方法を用いて、低分子量ＰＴＦＥの水性分散液、および低分子量ＰＴＦＥの粉末を得た。得られた低分子量ＰＴＦＥの水性分散液の固形分濃度は２０．７質量％、平均一次粒子径は１８７ｎｍ、低分子量ＰＴＦＥの溶融粘度は９８００Ｐａ・ｓであった。
実験例１
重合開始剤として、順番にトリフルオロメチルスルフィン酸ナトリウム２５０ｍｇとＡＰＳ３３０ｍｇを加える以外は、比較例１に記載の方法を用いて、低分子量ＰＴＦＥの水性分散液、および低分子量ＰＴＦＥの粉末を得た。得られた低分子量ＰＴＦＥの水性分散液の固形分濃度は２１．０質量％、平均一次粒子径は２１０ｎｍ、低分子量ＰＴＦＥの溶融粘度は９５００Ｐａ・ｓであった。
実験例２
重合開始剤として、順番にトリフルオロメチルスルフィン酸ナトリウム６６０ｍｇとＡＰＳ３３０ｍｇを加える以外は、比較例１に記載の方法を用いて、低分子量ＰＴＦＥの水性分散液、および低分子量ＰＴＦＥの粉末を得た。得られた低分子量ＰＴＦＥの水性分散液の固形分濃度は２０．７質量％、平均一次粒子径は２０９ｎｍ、低分子量ＰＴＦＥの溶融粘度は１０９００Ｐａ・ｓであった。
実験例３
重合開始剤として、順番にトリフルオロメチルスルフィン酸ナトリウム２６４０ｍｇとＡＰＳ３３０ｍｇを加える以外は、比較例１に記載の方法を用いて、低分子量ＰＴＦＥの水性分散液、および低分子量ＰＴＦＥの粉末を得た。得られた低分子量ＰＴＦＥの水性分散液の固形分濃度は２１．７質量％、平均一次粒子径は２２１ｎｍ、低分子量ＰＴＦＥの溶融粘度は１００００Ｐａ・ｓであった。
実験例４
重合開始剤として、順番にビス（ジフルオロメチルスルホニル）亜鉛６６０ｍｇとＡＰＳ３３０ｍｇを加える以外は、比較例１に記載の方法を用いて、低分子量ＰＴＦＥの水性分散液、および低分子量ＰＴＦＥの粉末を得た。得られた低分子量ＰＴＦＥの水性分散液の固形分濃度は２１．５質量％、平均一次粒子径は２９８ｎｍ、低分子量ＰＴＦＥの溶融粘度は１１０００Ｐａ・ｓであった。水性分散液に含まれる炭素数が８の一般式（４）で表される化合物の測定（測定法２）で求めた炭素数が８の一般式（４）で表される化合物の含有量は１９０質量ｐｐｂ／フルオロポリマーであった。
実験例５
重合開始剤として、順番に硝酸銀（Ｉ）２６ｍｇとトリフルオロメチルスルフィン酸ナトリウム２５０ｍｇとＡＰＳ３３０ｍｇを加える以外は、比較例１に記載の方法を用いて、低分子量ＰＴＦＥの水性分散液、および低分子量ＰＴＦＥの粉末を得た。得られた低分子量ＰＴＦＥの水性分散液の固形分濃度は２１．７質量％、平均一次粒子径は２１２ｎｍ、低分子量ＰＴＦＥの溶融粘度は９０００Ｐａ・ｓであった。
実験例６
重合開始剤として、順番に硝酸銀（Ｉ）２６４ｍｇとトリフルオロメチルスルフィン酸ナトリウム６６０ｍｇとＡＰＳ３３０ｍｇを加える以外は、比較例１に記載の方法を用いて、低分子量ＰＴＦＥの水性分散液、および低分子量ＰＴＦＥの粉末を得た。得られた低分子量ＰＴＦＥの水性分散液の固形分濃度は２１．１質量％、平均一次粒子径は１９９ｎｍ、低分子量ＰＴＦＥの溶融粘度は１１０００Ｐａ・ｓであった。
実験例７
重合開始剤として、順番に硝酸銀（Ｉ）２６４ｍｇとトリフルオロメチルスルフィン酸ナトリウム１３２０ｍｇとＡＰＳ３３０ｍｇを加える以外は、比較例１に記載の方法を用いて、低分子量ＰＴＦＥの水性分散液、および低分子量ＰＴＦＥの粉末を得た。得られた低分子量ＰＴＦＥの水性分散液の固形分濃度は２１．８質量％、平均一次粒子径は２１３ｎｍ、低分子量ＰＴＦＥの溶融粘度は８０００Ｐａ・ｓであった。
実験例８
重合開始剤として、順番に硫酸鉄（ＩＩ）７水和物４３ｍｇとトリフルオロメチルスルフィン酸ナトリウム２５０ｍｇとＡＰＳ３３０ｍｇを加える以外は、比較例１に記載の方法を用いて、低分子量ＰＴＦＥの水性分散液、および低分子量ＰＴＦＥの粉末を得た。得られた低分子量ＰＴＦＥの水性分散液の固形分濃度は２１．３質量％、平均一次粒子径は１９３ｎｍ、低分子量ＰＴＦＥの溶融粘度は１１２０００Ｐａ・ｓであった。
実験例９
連鎖移動剤の代わりに、炭化水素系界面活性剤として、ドデシル硫酸ナトリウム３３ｍｇ、重合開始剤として、順番にトリフルオロメチルスルフィン酸ナトリウム２５０ｍｇとＡＰＳ３３０ｍｇを加える以外は、比較例１に記載の方法を用いて、ＰＴＦＥの水性分散液、およびＰＴＦＥの粉末を得た。得られたＰＴＦＥの水性分散液の固形分濃度は２３．８質量％、平均一次粒子径は２３４ｎｍ、得られたＰＴＦＥの溶融粘度は測定できなかったため、得られたＰＴＦＥは高分子量ＰＴＦＥであり、融点は３３３．９℃であった。

Claims (21)

  1. 重合開始剤、テロゲン性を有する化合物および水性媒体の存在下に、フルオロモノマーを重合することにより、フルオロポリマーを得るフルオロポリマーの製造方法であって、
    前記重合開始剤が、疎水性の一次ラジカルを発生させる重合開始剤であり、前記疎水性の一次ラジカルが、炭素数１～３のラジカルである製造方法。
  2. 前記重合開始剤が、水溶性である請求項１に記載の製造方法。
  3. 前記重合開始剤が、レドックス開始剤である請求項１または２に記載の製造方法。
  4. 前記一次ラジカルが、アルキルラジカルであり、かつ、前記アルキルラジカルが、非パーフルオロアルキルラジカルまたはパーフルオロアルキルラジカルである請求項１または２に記載の製造方法。
  5. 前記一次ラジカルが、パーフルオロアルキルラジカルである請求項１または２に記載の製造方法。
  6. 前記レドックス開始剤が、含フッ素アルキルスルフィン酸またはその塩、および、前記含フッ素アルキルスルフィン酸またはその塩を酸化することができる酸化剤から構成される請求項３に記載の製造方法。
  7. 前記フルオロモノマーが、テトラフルオロエチレンである請求項１または２に記載の製造方法。
  8. 前記フルオロモノマーが、テトラフルオロエチレン、または、テトラフルオロエチレンおよびテトラフルオロエチレン以外のフルオロモノマーである請求項１または２に記載の製造方法。
  9. 前記フルオロポリマーが、フッ素樹脂であり、前記フッ素樹脂は、部分結晶性フルオロポリマーである請求項１または２に記載の製造方法。
  10. 前記テロゲン性を有する化合物が、連鎖移動剤である請求項１または２に記載の製造方法。
  11. 前記テロゲン性を有する化合物が、炭化水素系界面活性剤である請求項１または２に記載の製造方法。
  12. 前記重合開始剤が、レドックス開始剤であり、
    前記レドックス開始剤を構成する還元剤が、炭素数が１～７の含フッ素アルキルスルフィン酸またはその塩であり、
    前記レドックス開始剤を構成する酸化剤が、過硫酸塩であり、
    前記テロゲン性を有する化合物が、連鎖移動剤および炭化水素系界面活性剤からなる群より選択される少なくとも１種であり、
    前記連鎖移動剤が、エタンおよびプロパンからなる群より選択される少なくとも１種あり、
    前記炭化水素系界面活性剤が、ドデシル硫酸またはその塩であり、
    前記フルオロモノマーが、テトラフルオロエチレン、または、テトラフルオロエチレンおよびテトラフルオロエチレン以外のフルオロモノマーであり、
    前記フルオロポリマーが、ポリテトラフルオロエチレンである
    請求項１または２に記載の製造方法。
  13. 下記式により算出される、フルオロポリマーのフッ素置換率が、５５％以上である請求項１または２に記載の製造方法。
    フッ素置換率（％）＝（フルオロポリマーを構成する炭素原子に結合するフッ素原子の個数）／（（フルオロポリマーを構成する炭素原子に結合する水素原子の個数）＋（フルオロポリマーを構成する炭素原子に結合するフッ素原子及び塩素原子の個数））×１００
  14. フルオロポリマーのフッ素置換率が、６０％以上である請求項１３に記載の製造方法。
  15. ポリテトラフルオロエチレン粒子および水性媒体を含有する水性分散液であって、
    前記ポリテトラフルオロエチレン粒子の平均一次粒子径が、１００～５００ｎｍであり、
    下記一般式（４－ａ７）で表わされる化合物の含有量が、前記ポリテトラフルオロエチレン粒子に対して、４５０質量ｐｐｂ以下である
    水性分散液。
    一般式（４－ａ７）：［Ｈ－（ＣＦ２）７ＣＯ２ －］Ｍ＋
    （式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
  16. 下記一般式（４－ａ８）で表わされる化合物の含有量が、前記ポリテトラフルオロエチレン粒子に対して、５００質量ｐｐｂ以下である請求項１５に記載の水性分散液。
    一般式（４－ａ８）：［Ｈ－（ＣＦ２）８ＣＯ２ －］Ｍ＋
    （式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
  17. ポリテトラフルオロエチレン粒子および水性媒体を含有する水性分散液であって、
    前記ポリテトラフルオロエチレン粒子の平均一次粒子径が、１００～５００ｎｍであり、
    下記一般式（４－ａ１３）で表わされる化合物の含有量が、前記ポリテトラフルオロエチレン粒子に対して、５００質量ｐｐｂ以下である
    水性分散液。
    一般式（４－ａ１３）：［Ｈ－（ＣＦ２）１３ＣＯ２ －］Ｍ＋
    （式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
  18. 下記一般式（４－ａ１２）で表わされる化合物の含有量が、前記ポリテトラフルオロエチレン粒子に対して、５００質量ｐｐｂ以下である請求項１７に記載の水性分散液。
    一般式（４－ａ１２）：［Ｈ－（ＣＦ２）１２ＣＯ２ －］Ｍ＋
    （式中、Ｍ＋はカチオンを表す。）
  19. 前記ポリテトラフルオロエチレン粒子が、低分子量ポリテトラフルオロエチレンの粒子であり、前記低分子量ポリテトラフルオロエチレンは、３８０℃における溶融粘度が１×１０２～７×１０５Ｐａ・ｓである請求項１５または１７に記載の水性分散液。
  20. 水性分散液中の含フッ素界面活性剤の含有量が、１０質量ｐｐｍ以下である請求項１５または１７に記載の水性分散液。
  21. 水性分散液中の非イオン性界面活性剤の含有量が、ポリテトラフルオロエチレン粒子に対して、１．０質量％未満である請求項１５または１７に記載の水性分散液。
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