JP7535530B2 - ピリダジン化合物および除草剤 - Google Patents
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Description
本願は、2019年9月25日に、日本に出願された特願2019-174532号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
本発明の課題は、低薬量でも確実な雑草防除効果を奏し、作物に対する薬害が少なく、且つ環境への安全性が高い、除草剤の有効成分として有用な新規ピリダジン化合物および除草剤を提供することである。
式(I)中、
R1は、置換若しくは無置換のC1~6アルキル基、置換若しくは無置換のC2~6アルケニル基、置換若しくは無置換のC2~6アルキニル基、または置換若しくは無置換のC3~6シクロアルキル基を示し、
R2は、水素原子、置換若しくは無置換のC1~6アルキル基、置換若しくは無置換のC2~6アルケニル基、置換若しくは無置換のC2~6アルキニル基、Ra-CO-で表される基、RaO-CO-で表される基、RaNH-CO-で表される基、Ra 2N-CO-で表される基、Ra-SO2-で表される基、Ra-CO-O-CRb 2-で表される基、またはRaO-CO-O-CRb 2-で表される基を示し、
Raは、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のC1~6アルキル基、置換若しくは無置換のC2~6アルケニル基、置換若しくは無置換のC2~6アルキニル基、置換若しくは無置換のC3~6シクロアルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、置換若しくは無置換のナフチル基、または置換若しくは無置換の5~6員ヘテロシクリル基を示し、
Rbは、それぞれ独立に、水素原子、または置換若しくは無置換のC1~6アルキル基を示し、
R3は、水素原子、置換若しくは無置換のC1~6アルキル基、置換若しくは無置換のC2~6アルケニル基、置換若しくは無置換のC2~6アルキニル基、または置換若しくは無置換のC3~6シクロアルキル基を示し、
R4は、ハロゲノ基、置換若しくは無置換のC1~6アルキル基、置換若しくは無置換のC1~6アルコキシ基、置換若しくは無置換のフェニル基、置換若しくは無置換のナフチル基、置換若しくは無置換の5~6員ヘテロアリール基、またはシアノ基を示し、
R5は、水素原子またはハロゲノ基を示し、
R6は、水素原子またはハロゲノ基を示し、
Aは、置換若しくは無置換のC1~4アルキレン基、置換若しくは無置換のC2~3アルケニレン基、または置換若しくは無置換のC1~2アルキレンオキシC1~C2アルキレン基を示し、
X1は、酸素原子、またはスルホニル基を示し、
X2は、酸素原子、スルフェニル基、スルフィニル基、スルホニル基、-S(=NRc)-で表される基、または-S(=O)(=NRc)-で表される基を示し、
Rcは、それぞれ独立に、水素原子、置換若しくは無置換のC1~6アルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、置換若しくは無置換のナフチル基、またはシアノ基を示し、
mは、0または1を示し、nは、0または1を示し、且つ
mとnの和は、1または2であり、且つAが置換若しくは無置換のメチレン基である場合、mとnの和は2である。
〔3〕 有用植物における単子葉類および/または双子葉類の雑草を防除する方法であって、前記〔1〕に記載の化合物若しくはその塩、または前記化合物を含有する除草剤を、前記雑草および/または前記植物および/またはその場所に施用する工程を含む、方法。
一方、「置換(substituted)」の用語は、母核となる基のいずれかの水素原子が、母核と同一または異なる構造の基(置換基)で置換されていることを意味する。従って、「置換基」は、母核となる基に結合した他の基である。置換基は1つであってもよいし、2つ以上であってもよい。2つ以上の置換基は同じでもよいし、異なってもよい。
「C1~6」などの用語は、母核となる基の炭素原子数が1~6個などであることを表している。この炭素原子数には、置換基の中にある炭素原子の数を含まない。例えば、置換基としてエトキシ基を有するブチル基は、C2アルコキシC4アルキル基に分類する。
メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、i-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基などのC1~6アルキル基;
ビニル基、1-プロペニル基、2-プロペニル基(アリル基)、1-ブテニル基、2-ブテニル基、3-ブテニル基、1-メチル-2-プロペニル基、2-メチル-2-プロペニル基などのC2~6アルケニル基;
エチニル基、1-プロピニル基、2-プロピニル基、1-ブチニル基、2-ブチニル基、3-ブチニル基、1-メチル-2-プロピニル基などのC2~6アルキニル基;
フェニル基、ナフチル基;
ベンジル基、フェネチル基などのフェニルC1~6アルキル基;
3~6員ヘテロシクリル基;
3~6員へテロシクリルC1~6アルキル基;
メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、i-プロポキシ基、n-ブトキシ基、s-ブトキシ基、i-ブトキシ基、t-ブトキシ基などのC1~6アルコキシ基;
ビニルオキシ基、アリルオキシ基、プロペニルオキシ基、ブテニルオキシ基などのC2~6アルケニルオキシ基;
エチニルオキシ基、プロパルギルオキシ基などのC2~6アルキニルオキシ基;
フェノキシ基、ナフトキシ基;
ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基などのフェニルC1~6アルコキシ基;
チアゾリルオキシ基、ピリジルオキシ基などの5~6員ヘテロアリールオキシ基;
チアゾリルメチルオキシ基、ピリジルメチルオキシ基などの5~6員ヘテロアリールC1~6アルキルオキシ基;
アセチル基、プロピオニル基などのC1~6アルキルカルボニル基;
ホルミルオキシ基;
アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基などのC1~6アルキルカルボニルオキシ基;
ベンゾイル基;
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n-プロポキシカルボニル基、i-プロポキシカルボニル基、n-ブトキシカルボニル基、t-ブトキシカルボニル基などのC1~6アルコキシカルボニル基;
メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、n-プロポキシカルボニルオキシ基、i-プロポキシカルボニルオキシ基、n-ブトキシカルボニルオキシ基、t-ブトキシカルボニルオキシ基などのC1~6アルコキシカルボニルオキシ基;
カルボキシル基;
クロロメチル基、クロロエチル基、トリフルオロメチル基、1,2-ジクロロ-n-プロピル基、2,2,2-トリフルオロエチル基、1-フルオロ-n-ブチル基などのC1~6ハロアルキル基;
2-クロロ-1-プロペニル基、2-フルオロ-1-ブテニル基などのC2~6ハロアルケニル基;
4,4-ジクロロ-1-ブチニル基、4-フルオロ-1-ペンチニル基、5-ブロモ-2-ペンチニル基などのC2~6ハロアルキニル基;
トリフルオロメトキシ基、2,2,2-トリフルオロエトキシ基、2,3-ジクロロブトキシ基などのC1~6ハロアルコキシ基;
2-クロロプロペニルオキシ基、3-ブロモブテニルオキシ基などのC2~6ハロアルケニルオキシ基;
クロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、トリクロロアセチル基などのC1~6ハロアルキルカルボニル基;
メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基などのC1~6アルキル置換アミノ基;
アニリノ基、ナフチルアミノ基;
ベンジルアミノ基、フェネチルアミノ基などのフェニルC1~6アルキルアミノ基;
ホルミルアミノ基;
アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、ブチリルアミノ基、i-プロピルカルボニルアミノ基などのC1~6アルキルカルボニルアミノ基;
メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、n-プロポキシカルボニルアミノ基、i-プロポキシカルボニルアミノ基などのC1~6アルコキシカルボニルアミノ基;
アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、N-フェニル-N-メチルアミノカルボニル基などの無置換若しくは置換基を有するアミノカルボニル基;
イミノメチル基、(1-イミノ)エチル基、(1-イミノ)-n-プロピル基などのイミノC1~6アルキル基;
N-ヒドロキシ-イミノメチル基、(1-(N-ヒドロキシ)-イミノ)エチル基、(1-(N-ヒドロキシ)-イミノ)プロピル基、N-メトキシ-イミノメチル基、(1-(N-メトキシ)-イミノ)エチル基などの置換若しくは無置換のN-ヒドロキシイミノC1~6アルキル基;
アミノカルボニルオキシ基;
エチルアミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基などのC1~6アルキル置換アミノカルボニルオキシ基;
メチルチオ基、エチルチオ基、n-プロピルチオ基、i-プロピルチオ基、n-ブチルチオ基、i-ブチルチオ基、s-ブチルチオ基、t-ブチルチオ基などのC1~6アルキルチオ基;
トリフルオロメチルチオ基、2,2,2-トリフルオロエチルチオ基などのC1~6ハロアルキルチオ基;
フェニルチオ基;
チアゾリルチオ基、ピリジルチオ基などの5~6員ヘテロアリールチオ基;
トリフルオロメチルスルフィニル基、2,2,2-トリフルオロエチルスルフィニル基などのC1~6ハロアルキルスルフィニル基;
フェニルスルフィニル基;
チアゾリルスルフィニル基、ピリジルスルフィニル基などの5~6員ヘテロアリールスルフィニル基;
メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、t-ブチルスルホニル基などのC1~6アルキルスルホニル基;
トリフルオロメチルスルホニル基、2,2,2-トリフルオロエチルスルホニル基などのC1~6ハロアルキルスルホニル基;
フェニルスルホニル基;
チアゾリルスルホニル基、ピリジルスルホニル基などの5~6員ヘテロアリールスルホニル基;
メチルスルホニルオキシ基、エチルスルホニルオキシ基、t-ブチルスルホニルオキシ基などのC1~6アルキルスルホニルオキシ基;
トリフルオロメチルスルホニルオキシ基、2,2,2-トリフルオロエチルスルホニルオキシ基などのC1~6ハロアルキルスルホニルオキシ基;
トリフェニルシリル基;
ペンタフルオロスルファニル基;
シアノ基;ニトロ基;
5~6員不飽和ヘテロシクリル基としては、ピロリニル基、ジヒドロフラニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリニル基、オキサゾリニル基、イソオキサゾリニル基、チアゾリニル基、イソチアゾリニル基、ジヒドロピラニル基、ジヒドロオキサジニル基などを挙げることができる。
6員ヘテロアリール基としては、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基などを挙げることができる。
R1は、置換若しくは無置換のC1~6アルキル基、置換若しくは無置換のC2~6アルケニル基、置換若しくは無置換のC2~6アルキニル基、または置換若しくは無置換のC3~6シクロアルキル基を示す。
C1~6アルキル基上の置換基は、ハロゲノ基、またはC1~6アルコキシ基が好ましい。
R2は、水素原子、置換若しくは無置換のC1~6アルキル基、置換若しくは無置換のC2~6アルケニル基、置換若しくは無置換のC2~6アルキニル基、Ra-CO-で表される基、RaO-CO-で表される基、RaNH-CO-で表される基、Ra 2N-CO-で表される基、Ra-SO2-で表される基、Ra-CO-O-CRb 2-で表される基、またはRaO-CO-O-CRb 2-で表される基を示す。
Raにおける「C2~6アルケニル基」としては、ビニル基、1-プロペニル基などを挙げることができる。
Raにおける「C2~6アルキニル基」としては、エチニル基、1-プロピニル基などを挙げることができる。
Raにおける「C1~6アルキル基」、「C2~6アルケニル基」、または「C2~6アルキニル基」上の置換基としては、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、イオド基などのハロゲノ基; 水酸基; メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、i-プロポキシ基、n-ブトキシ基、s-ブトキシ基、i-ブトキシ基、t-ブトキシ基などのC1~6アルコキシ基; 2-クロロ-n-プロポキシ基、2,3-ジクロロブトキシ基、トリフルオロメトキシ基などのC1~6ハロアルコキシ基; シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのC3~6シクロアルキル基; フェニル基、ナフチル基; 4-クロロフェニル基、4-トリフルオロメチルフェニル基、4-トリフルオロメトキシフェニル基などの、ハロゲノ基置換、C1~6ハロアルキル基置換若しくはC1~6ハロアルコキシ基置換のフェニル基; ハロゲノ基置換、C1~6ハロアルキル基置換若しくはC1~6ハロアルコキシ基置換のナフチル基; またはシアノ基; が好ましい。
5~6員飽和ヘテロシクリル基としては、ピロリジニル基、テトラヒドロフラニル基、ジオキソラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、モルホリニル基、ジオキサニル基などを挙げることができる。
5員不飽和へテロシクリル基としては、ピロリニル基、ジヒドロフラニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリニル基、オキサゾリニル基、イソオキサゾリニル基、チアゾリニル基、イソチアゾリニル基などを挙げることができる。
6員不飽和ヘテロシクリル基としては、ジヒドロピラニル基、ジヒドロオキサジニル基などを挙げることができる。
5員ヘテロアリール基としては、ピロリル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、トリアゾリル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基、テトラゾリル基などを挙げることができる。
6員ヘテロアリール基として、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基などを挙げることができる。
Rbにおける「C1~6アルキル基」の具体例は、Raにおいて例示したものと同じものを挙げることができる。Rbにおける「C1~6アルキル基」上の置換基の具体例についても、Raにおいて例示したものと同じものを挙げることができる。
Raは、置換若しくは無置換のC1~6アルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換の5~6員ヘテロシクリル基であることが好ましい。
Rbは、水素原子または置換若しくは無置換のC1~6アルキル基であることが好ましい。
R2における「C1~6アルキル基」上の置換基としては、ハロゲノ基、C1~6アルコキシ基、C1~6ハロアルコキシ基、フェニル基; ハロゲノ基置換、C1~6ハロアルキル基置換若しくはC1~6ハロアルコキシ基置換のフェニル基; またはシアノ基が好ましい。特には、C1~6アルコキシ基、フェニル基; またはハロゲノ基置換、C1~6ハロアルキル基置換若しくはC1~6ハロアルコキシ基置換のフェニル基;が好ましい。
R3は、水素原子、置換若しくは無置換のC1~6アルキル基、置換若しくは無置換のC2~6アルケニル基、置換若しくは無置換のC2~6アルキニル基、または置換若しくは無置換のC3~6シクロアルキル基を示す。
R3における置換若しくは無置換のC1~6アルキル基、置換若しくは無置換のC2~6アルケニル基、置換若しくは無置換のC2~6アルキニル基、または置換若しくは無置換のC3~6シクロアルキル基の具体例としては、R1において例示したものと同じものを挙げることができる。
C1~6アルキル基上の置換基は、ハロゲノ基が好ましい。
C3~6シクロアルキル基上の置換基は、ハロゲノ基またはC1~6アルキル基が好ましい。
R4は、ハロゲノ基、置換若しくは無置換のC1~6アルキル基、置換若しくは無置換のC1~6アルコキシ基、置換若しくは無置換のフェニル基、置換若しくは無置換のナフチル基、置換若しくは無置換の5~6員ヘテロアリール基、またはシアノ基を示す。
6員ヘテロアリール基としては、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基などを挙げることができる。
C1~6アルキル基またはC1~6アルコキシ基上の置換基は、ハロゲノ基が好ましい。
R5は、水素原子またはハロゲノ基を示す。
R6は、水素原子またはハロゲノ基を示す。R6は水素原子が好ましい。
Aは、置換若しくは無置換のC1~4アルキレン基、置換若しくは無置換のC2~3アルケニレン基、または置換若しくは無置換のC1~2アルキレンオキシC1~C2アルキレン基を示す。
「C1~4アルキレン基」としては、メチレン基、ジメチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、などを挙げることができる。
「C2~3アルケニレン基」としては、ビニレン基(-CH=CH-)、プロペニレン基(-CH=CH-CH2-、-CH2-CH=CH-)などを挙げることができる。
「C1~2アルキレンオキシC1~C2アルキレン基」としては、メチレンオキシメチレン基(-CH2-O-CH2-)、メチレンオキシジメチレン基(-CH2-O-CH2CH2-)、ジメチレンオキシメチレン基(-CH2CH2-O-CH2-)、ジメチレンオキシジメチレン基(-CH2CH2-O-CH2CH2-)などを挙げることができる。
C1~4アルキレン基上の置換基としては、C1~6アルキル基、またはハロゲノ基が好ましい。
X1は、酸素原子、またはスルホニル基を示す。
X2は、酸素原子、スルフェニル基、スルフィニル基、スルホニル基、-S(=NRc)-で表される基、または-S(=O)(=NRc)-で表される基を示す。
Rcは、それぞれ独立に、水素原子、置換若しくは無置換のC1~6アルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、置換若しくは無置換のナフチル基、またはシアノ基を示す。Rcにおける「C1~6アルキル基」の具体例としては、Raにおいて例示したものと同じものを挙げることができる。
本発明においては、X1は、酸素原子、またはスルホニル基が好ましく、X2は、酸素原子、スルフェニル基、またはスルホニル基が好ましい。
化合物(I)の塩としては、リチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属の塩;カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属の塩;鉄、銅等の遷移金属の塩;アンモニウム塩;トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、ヒドラジン等の有機塩基の塩;等を挙げることができる。
例えば、化合物(I)のうち、R2が、水素原子または低級アルキル基以外の化合物(式(I-a)の化合物)は、以下の反応スキーム1に示されるように、式(I-b)の化合物から調製され得る。なお、式(I-b)は、化合物(I)のうち、R2が水素原子の化合物を示す。式(I-a)および式(I-b)中の記号は式(I)中のそれらと同様の意味を示す。式(2)中のXaは、クロロ基、ブロモ基などのハロゲノ基を示す。式(2)中のR2aは、水素原子または低級アルキル基以外のR2を示す。
式(I-b)の化合物は、以下の反応スキーム2に示されるように、式(I-c)の化合物から調製され得る。なお、式(I-c)中の記号は式(I)中のそれらと同様の意味を示す。R2aは、低級アルキル基、例えばメチル基を示す。以下R2aは、同じ意味を示す。
式(I-c)の化合物は、以下の反応スキーム3に示すように、式(4)の化合物と式(5)の化合物を縮合させることで調製され得る。
なお、式(4)中の記号は式(I)中のそれらと同様の意味を示す。Ryは、低級アルキル基、例えばメチル基、エチル基などを示す。また、Ry同士が結合して、1,3,2-ジオキサボロラン環を形成してもよい。式(5)中のQは式(I)中の置換基R4を有するベンゼン環部分を意味する。Xbはハロゲノ基を示す。
金属触媒およびリガンドは、予め形成された錯体(例えば、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウムジクロリドまたは[1,1-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウムジクロリドジクロロメタン付加物などのパラジウム/ホスフィン錯体)として加えられ得る。
式(4)の化合物は、以下の反応スキーム4に示すように、式(6)の化合物から調製され得る。なお、式(6)中の記号は式(I)中のそれらと同様の意味を示す。
金属触媒およびリガンドは、予め形成された錯体(例えば、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウムジクロリドまたは[1,1-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウムジクロリドジクロロメタン付加物などのパラジウム/ホスフィン錯体)として加えられ得る。
式(6)の化合物は、以下の反応スキーム5に示すように、式(7)の化合物から調製され得る。なお、式(7)中の記号は式(I)中のそれらと同様の意味を示す。
式(7)の化合物は、公知の方法により調製され得る。
式(I-c)の化合物は、以下の反応スキーム3Aに示すように、式(6)の化合物と式(8)の化合物を縮合させることで調製され得る。
式(8)中のQは式(I)中の置換基R4を有するベンゼン環部分を意味する。Xbはハロゲノ基を示す。Ryは、低級アルキル基、例えばメチル基、エチル基などを示す。また、Ry同士が結合して、1,3,2-ジオキサボロラン環を形成してもよい。
金属触媒およびリガンドは、予め形成された錯体(例えば、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウムジクロリドまたは[1,1-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウムジクロリドジクロロメタン付加物などのパラジウム/ホスフィン錯体)として加えられ得る。
本発明化合物は、各種畑雑草に有効で、トウモロコシ、コムギ等の作物に選択性を示すことがある。
本発明の除草剤は、化合物(I)および化合物(I)の塩からなる群から選ばれる少なくともひとつを有効成分として含有するものである。
すなわち、本発明の態様のひとつは、化合物(I)およびその塩からなる群から選ばれる少なくともひとつを有効成分として含有する除草剤である。
本発明の除草剤は、畑作条件で、土壌処理、茎葉処理のいずれの方法でも高い除草活性を示す。
また、本発明の除草剤は、水田雑草のノビエ、タマガヤツリ、オモダカ、ホタルイ等に対し、優れた殺草効力を有し、イネに選択性を示すことがある。
更に本発明の除草剤は、果樹園、芝生、線路端、空き地等の雑草の防除にも適用することができる。
作物は、果樹、ヤシの木、ココヤシの木または他の木の実などの木も含み得る。ブドウ、果実の低木、果実植物および野菜などのつる植物も含まれる。
(A)単子葉類の雑草
(1)カヤツリグサ科(Cyperaceae)の雑草
カヤツリグサ属(Cyperus)の雑草、例えばショクヨウガヤツリ(Cyperus esculentus)、コゴメガヤツリ(Cyperus iria)、カヤツリグサ(Cyperus microiria)、ハマスゲ(Cyperus rotundus)。
(2)イネ科(Poaceae)の雑草
スズメノテッポウ属(Alopecurus)の雑草、例えばスズメノテッポウ(Alopecurus aequalis)、ブラックグラス(ノスズメノテッポウ(Alopecurus myosuroides));
セイヨウヌカボ属(Apera)の雑草、例えばセイヨウヌカボ(Apera spica-venti);
カラスムギ属(Avena)の雑草、例えばエンバク(Avena sativa);
スズメノチャヒキ属(Bromus)の雑草、例えばスズメノチャヒキ(Bromus japonicus)、アレチノチャヒキ(Bromus sterilis);
メヒシバ属(Digitaria)の雑草、例えばメヒシバ(Digitaria ciliaris)、オニメヒシバ(Digitaria sanguinalis);
ヒエ属(Echinochloa)の雑草、例えばイヌビエ(Echinochloa crus-galli);
オヒシバ属(Eleusine)の雑草、例えばオヒシバ(Eleusine indica);
ドクムギ属(Lolium)の雑草、例えばイタリアンライグラス(ネズミムギ(Lolium multiflorum Lam.));
キビ属(Panicum)の雑草、例えばオオクサキビ(Panicum dichotomiflorum);
イチゴツナギ属(Poa)の雑草、例えばスズメノカタビラ(Poa annua);
エノコログサ属(Setaria)の雑草、例えばアキノエノコログサ(Setaria faberi)、キンエノコロ(Setaria pumila)、エノコログサ(Setaria viridis);
モロコシ属(Sorghum)の雑草、例えばモロコシ(Sorghum bicolor);
ニクキビモドキ属(Urochloa)の雑草、例えばメリケンニクキビ(Urochloa platyphylla)。
(1)ヒユ科(Amaranthaceae)の雑草
ヒユ属(Amaranthus blitum)の雑草、例えばイヌビユ(Amaranthus blitum)、オオホナガアオゲイトウ(Amaranthus palmeri)、アオゲイトウ(Amaranthus retroflexus)、ホソバイヌビユ(Amaranthus rudis);
アカザ属(Chenopodium)の雑草、例えばシロザ(Chenopodium album);
バッシア属(Bassia)の雑草、例えばホウキギ(Bassia scoparia)。
(2)キク科(Asteraceae)の雑草
ブタクサ属(Ambrosia)の雑草、例えばブタクサ(Ambrosia artemisiifolia)、オオブタクサ(Ambrosia trifida);
イズハハコ属(Conyza)の雑草、例えばヒメムカシヨモギ(Conyza canadensis)、オオアレチノギク(Conyza sumatrensis);
ムカシヨモギ属(Erigeron)の雑草、例えばヒメジョオン(Erigeron annuus);
シカギク属(Matricaria)の雑草、例えばイヌカミツレ(Matricaria inodora)、カミツレ(Matricaria recutita);
オナモミ属(Xanthium)の雑草、例えばオオオナモミ(Xanthium occidentale)。
(3)ナデシコ科(Caryophyllaceae)の雑草
ツメクサ属(Sagina)の雑草、例えば ツメクサ(Sagina japonica);
ハコベ属(Stellaria)の雑草、例えばコハコベ(Stellaria media)。
(4)ヒルガオ科(Convolvulaceae)の雑草
ヒルガオ属(Calystegia)の雑草、例えばヒルガオ(Calystegia japonica);
サツマイモ属(Ipomoea)の雑草、例えばマルバルコウ(Ipomoea coccinea)、アメリカアサガオ(Ipomoea hederacea)、マメアサガオ(Ipomoea lacunosa)、ホシアサガオ(Ipomoea triloba)。
(5)シソ科(Lamiaceae)の雑草
オドリコソウ属(Lamium)の雑草、例えばオドリコソウ(Lamium album var. barbatum)、ホトケノザ(Lamium amplexicaule)、ヒメオドリコソウ(Lamium purpureum)。
(6)アオイ科(Malvaceae)の雑草
イチビ属(Abutilon)の雑草、例えばイチビ(Abutilon theophrasti);
キンゴジカ属(Sida)の雑草、例えばアメリカキンゴジカ(Sida spinosa)。
(7)オオバコ科(Plantaginaceae)の雑草
クワガタソウ属(Veronica)の雑草、例えばオオイヌノフグリ(Veronica persica)。
(8)タデ科(Polygonaceae)の雑草
ソバカズラ属(Fallopia)の雑草、例えばソバカズラ(Fallopia convolvulus)。
イヌタデ属(Persicaria)の雑草、例えばオオイヌタデ(Persicaria lapathifolia)、イヌタデ(Persicaria longiseta)。
(9)アカネ科(Rubiaceae)の雑草
ヤエムグラ属(Galium)の雑草、例えばヤエムグラ(Galium spurium var. echinospermon)。
(A)単子葉類の雑草
(1)オモダカ科(Alismataceae)の雑草
オモダカ属(Sagittaria)の雑草、例えばウリカワ(Sagittaria pygmaea Miq.)、オモダカ(Sagittaria trifolia)。
(2)カヤツリグサ科(Cyperaceae)の雑草の雑草
カヤツリグサ属(Cyperus)の雑草、例えばミズガヤツリ(Cyperus serotinus)、タマガヤツリ(Cyperus difforis);
ハリイ属(Eleocharis)の雑草、例えばクログワイ(Eleocharis kuroguwai Ohwi);
ホソガタホタルイ属(Schoenoplectiella)の雑草、例えばホタルイ(Schoenoplectiella hotarui)、イヌホタルイ(Schoenoplectiella juncoides Roxb.)。
アブラガヤ属(Scirpus)の雑草、例えばコウキヤガラ(Scirpus martimus)、シズイ(Scirpus nipponicus)。
(3)イネ科(Poaceae)の雑草
ヒエ属(Echinochloa)の雑草(いわゆるノビエ)の雑草、例えばタイヌビエ(Echinochloa oryzoides)、イヌビエ(Echinochloa crus-galli);
サヤヌカグサ属(Leersia)の雑草、例えばアシカキ(Leersia japonica);
スズメノヒエ属(Paspalum)の雑草、例えばキシュウスズメノヒエ(Paspalum distichum)。
(4)ミズアオイ科(Pontederiaceae)の雑草
ミズアオイ属(Monochoria)の雑草、例えばミズアオイ(Monochoria korsakowii)、
コナギ(Monochoria vaginalis var. plantaginea)。
(1)セリ科(Apiaceae)の雑草
セリ属(Oenanthe)の雑草、例えばセリ(Oenanthe javanica)。
(2)ミゾハコベ科(Elatinaceae)の雑草
ミゾハコベ属(Elatine)の雑草、例えばミゾハコベ(Elatine triandra)。
(3)アゼナ科(Linderniaceae)の雑草
アゼナ属(Lindernia)の雑草、例えば アメリカアゼナ(Lindernia dubia subsp. major)、タケトアゼナ(Lindernia dubia subsp. dubia)、アゼナ(Lindernia procumbens)。
(4)ミソハギ科(Lythraceae)の雑草
キカシグサ属(Rotala)の雑草、例えばキカシグサ(Rotala indica var. uliginosa)。
本発明方法を用いることで、有用植物および/または雑草を含む場所においても、雑草を選択的に防除することが可能である。
さらに、有用植物が成長している場所以外にも、有用植物が成長する予定である場所においても、雑草の防除が可能である。
施用方法は、一般に、除草剤を剤型にあわせて、噴霧、散粉、点滴、灌注、混和などの方法によって行うことができる。
すなわち、本発明の態様のひとつは、農芸化学的に許容できる固体担体、および/または液体担体を含む、除草剤である。
固体の剤形を目的とする場合は、大豆粉、小麦粉等の植物性粉末、珪藻土、燐灰石、石こう、タルク、ベントナイト、パイロフィライト、クレイ等の鉱物性微粉末、安息香酸ソーダ、尿素、芒硝等の有機及び無機化合物などの固体担体を用いることができる。
液体の剤形を目的とする場合は、ケロシン、キシレン及びソルベントナフサ等の石油留分、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アルコール、アセトン、トリクロルエチレン、メチルイソブチルケトン、鉱物油、植物油、水などの液体担体を用いることができる。
すなわち、本発明の態様のひとつは、1つ以上のさらなる除草活性成分を含む除草剤である。
また、本発明の態様のひとつは、1つ以上のさらなる薬害軽減剤を含む除草剤である。
(a) クロジナホッププロパルギル(clodinafop-propargyl)、シハロホップブチル(cyhalofop-butyl)、ジクロホップメチル(diclofop-methyl)、フェノキサプロップP エチル(fenoxaprop-P-ethyl)、フルアジホップP(fluazifop-P)、フルアジホップ-P-ブチル(fluazifop-P-butyl)、ハロキシホップメチル(haloxyfop-methyl)、ピリフェノップナトリウム(pyriphenop-sodium)、プロパキザホップ(propaquizafop)、キザロホップP エチル(quizalofop-P-ethyl)、メタミホップ(metamifop)等のアリ-ルオキシフェノキシプロピオン酸エステル系;アロキシジム(alloxydim)、ブトロキシジム(butroxydim)、クレトジム(clethodim)、シクロキシジム(cycloxydim)、プロホキシジム(profoxydim)、セトキシジム(sethoxydim)、テプラロキシジム(tepraloxydim)、トラルコキシジム(tralkoxydim)等のシクロヘキサンジオン系;ピノキサデン(pinoxaden)等のフェニルピラゾリン系;その他の植物のアセチルCoAカルボキシラーゼを阻害することで除草効力を示すとされているもの。
(h) グルホシネート(glufosinate)、グルホシネートアンモニウム(glufosinate-ammonium)、ビアラホス(ビラナホス(bilanafos))等のホスフィン酸系等のグルタミン合成酵素阻害
その他の植物のアミノ酸生合成を阻害することで除草効力を示すとされているもの。
本発明の除草剤に関する製剤例を若干示すが、本発明化合物(有効成分)、添加物及び添加割合は、本実施例にのみ限定されることなく、広い範囲で変更可能である。製剤実施例中の部は重量部を示す。
本発明化合物 20部
ホワイトカーボン 20部
ケイソウ土 52部
アルキル硫酸ソーダ 8部
以上を均一に混合、微細に粉砕して、有効成分20%の水和剤を得る。
本発明化合物 20部
キシレン 55部
ジメチルホルムアミド 15部
ポリオキシエチレンフェニルエーテル 10部
以上を混合、溶解して有効成分20%の乳剤を得る。
本発明化合物 5部
タルク 40部
クレイ 38部
ベントナイト 10部
アルキル硫酸ソーダ 7部
以上を均一に混合して微細に粉砕後、直径0.5~1.0mmの粒状に造粒して有効成分5%の粒剤を得る。
5-(1,1-ジオキサド-8-(トリフルオロメチル)チオクロマン-5-イル)-4-メトキシ-2-メチルピリダジン-3(2H)-オン〔5-(1,1-dioxido-8-(trifluoromethyl)thiochroman-5-yl)-4-methoxy-2-methylpyridazin-3(2H)-one〕の合成:(化合物番号A-1)
(工程1)
3-(6-ブロモ-2-フルオロ-3-(トリフルオロメチル)フェニル)プロピオン酸の合成
得られた液に塩酸を加え、析出固形物を濾別した。得られた固形物を乾燥させることによって目的化合物53.8gを得た。
3-(6-ブロモ-2-フルオロ-3-(トリフルオロメチル)フェニル)プロパン-1-オールの合成
得られた液を塩酸に注ぎ、次いで酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過した。ろ液を減圧濃縮した。得られた濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによって目的化合物28.9gを得た。
1-ブロモ-2-(3-クロロプロピル)-3-フルオロ-4-(トリフルオロメチル)ベンゼンの合成
得られた液を減圧濃縮した。得られた濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによって目的化合物16.4gを得た。
5-ブロモ-8-(トリフルオロメチル)チオクロマンの合成
得られた液を水に注ぎ、次いで酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過した。ろ液を減圧濃縮した。得られた濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによって目的化合物6.8gを得た。
5-ブロモ-8-(トリフルオロメチル)チオクロマン 1,1-ジオキシドの合成
得られた液をろ過した。ろ液を減圧濃縮した。これに水を注ぎ、次いで酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過した。ろ液を減圧濃縮した。得られた濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによって目的化合物2.0gを得た。
5-(1,1-ジオキサド-8-(トリフルオロメチル)チオクロマン-5-イル)-4-メトキシ-2-メチルピリダジン-3(2H)-オン〔5-(1,1-dioxido-8-(trifluoromethyl)thiochroman-5-yl)-4-methoxy-2-methylpyridazin-3(2H)-one〕の合成(化合物番号:A-1)
得られた液をろ過した。ろ液を減圧濃縮した。得られた濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによって目的化合物0.22gを得た。
化合物A-1:1H-NMR(400MHz, CDCl3): δ 2.40-2.48(m, 2H), 2.72-2.80(m, 1H), 2.86-2.95(m, 1H), 3.40(t, 2H), 3.83(s, 3H), 4.12(s, 3H), 7.41(d, 1H), 7.44(s, 1H), 7.84(d, 1H).
5-(1,1-ジオキサド-8-(トリフルオロメチル)チオクロマン-5-イル)-4-ヒドロキシ-2-メチルピリダジン-3(2H)-オン〔5-(1,1-dioxido-8-(trifluoromethyl)thiochroman-5-yl)-4-hydroxy-2-methylpyridazin-3(2H)-one〕の合成(化合物番号A-2)
得られた液を塩酸に注ぎ、次いで酢酸エチルで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ過した。ろ液を減圧濃縮することで目的物0.31gを得た。
1-((5-(1,1-ジオキシド-8-(トリフルオロメチル)チオクロマン-5-イル)-2-メチル-3-オキソ-2,3-ジヒドロピリダジン-4-イル)オキシ)エチル メチル カーボネート〔1-((5-(1,1-dioxido-8-(trifluoromethyl)thiochroman-5-yl)-2-methyl-3-oxo-2,3-dihydropyridazin-4-yl)oxy)ethyl methyl carbonate〕の合成(化合物番号A-3)
得られた液を減圧濃縮した。得られた濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによって目的化合物0.11gを得た。
化合物A-4:1H-NMR(400MHz, DMSO d-6): δ2.20-2.26(m, 2H), 2.78-2.79(m, 2H), 3.68-3.72(m, 5H), 7.65(d, 1H), 7.70(s, 1H), 8.07(d, 1H).
化合物A-7:1H-NMR(400MHz, CDCl3): δ2.25(s, 3H), 2.46-2.52(m, 2H), 2.90-2.96(m, 2H), 3.40-3.43(m, 2H), 3.91(s, 3H), 4.06(s, 3H), 6.63(s, 1H), 7.51(d, 1H), 7.64(s, 1H), 7.86(d, 1H).
化合物A-18:1H-NMR(400MHz, CDCl3): δ2.05-2.17(m, 2H), 2.64(m, 2H), 3.06-3.08(m, 2H), 3.88(s, 3H), 6.87(d, 1H), 7.28(d, 1H), 7.61(s, 1H).
化合物B-1:1H-NMR(400MHz, DMSO d-6): δ2.30-2.36(m, 2H), 3.16-3.19(m, 2H), 3.50-3.58(m, 2H), 3.70(s, 3H), 7.47(d, 1H), 7.62(s, 1H), 8.01(d, 1H).
化合物B-4:1H-NMR(400 MHz,DMSO d-6): δ2.21-2.28(m, 2H), 2.76-2.81(m, 2H), 3.54-3.56(m, 2H), 3.72(s, 3H), 7.77(d, 1H).
次に本発明化合物が除草剤の有効成分として有用であることを以下の試験例で示す。
(1)試験用乳剤の調製
POAアリルフェニルエーテル(4.1重量部)、POE-POPグリコール(1重量部)、POEソルビタンラウレート(0.8重量部)、グリセリン(2.6重量部)、ジメチルホルムアミド(65.9重量部)、N-メチルピロリドン(5.1重量部)、シクロヘキサノン(15.4重量部)、および芳香族炭化水素(5.1重量部)を混合し溶解させて、乳剤を調製した。この乳剤(100μL)に対し、本発明化合物(4mg)を溶解させて、試験用乳剤を調製した。なお、POAは「ポリオキシアルキレン」を、POEは「ポリオキシエチレン」を、POPは「ポリオキシプロピレン」を意味する。
(2)茎葉散布処理
150cm2のポットに土壌を充填し、表層にエンバク(Avena sativa)、カミツレ(Matricaria chamomilla)、アキノエノコログサ(Setaria faberi)、メヒシバ(Digitaria ciliaris)、イチビ(Abutilon theophrasti)およびアオゲイトウ(Amaranthus retroflexus)の種子を播き、軽く覆土した。その後、温室内で生育させた。各植物が2~4cmの草丈に生育した時点で、所定の有効成分量になるように上記の試験用乳剤を水で希釈し、ヘクタール当たり250Lの散布水量にて小型噴霧器で茎葉部に散布した。
(3)評価
3週間後、雑草ごとに無処理区および処理区の地上部生草重を測定し、下記の算出式によって殺草率を算出した。
(4)殺草率の算出式
殺草率 (%) = 〔(無処理区の地上部生草重 - 処理区の地上部生草重) /(無処理区の地上部生草重)〕×100
表3に示す化合物を、ヘクタール当たり250gの散布量になるように希釈乳剤を散布した。結果、いずれの化合物もエンバクに対し、100%の殺草活性を示した。
表4に示す化合物を、ヘクタール当たり250gの散布量になるように希釈乳剤を散布した。結果、いずれの化合物もカミツレに対し、80%以上の殺草活性を示した。
表5に示す化合物を、ヘクタール当たり250gの散布量になるように希釈乳剤を散布した。結果、いずれの化合物もアキノエノコログサに対し、100%の殺草活性を示した。
表6に示す化合物を、ヘクタール当たり250gの散布量になるように希釈乳剤を散布した。結果、いずれの化合物もメヒシバに対し、100%の殺草活性を示した。
表7に示す化合物を、ヘクタール当たり250gの散布量になるように希釈乳剤を散布した。結果、いずれの化合物もイチビに対し、80%以上の殺草活性を示した。
表8に示す化合物を、ヘクタール当たり250gの散布量になるように希釈乳剤を散布した。結果、いずれの化合物もアオゲイトウに対し、100%の殺草活性を示した。
(1)試験用乳剤の調製
試験例1と同様に調製した。
(2)茎葉散布処理
150cm2のポットに土壌を充填し、表層にイタリアンライグラス(Loliummultiflorum)、メヒシバ(Digitaria ciliaris)、および飼料用トウモロコシ(Zea mays)の種子を播き、軽く覆土した。その後、温室内で生育させた。イタリアンライグラスおよびメヒシバが2~4cmの草丈に、飼料用トウモロコシが20~30cmの草丈に、生育した時点で、所定の有効成分量になるように上記の試験用乳剤を水で希釈し、ヘクタール当たり250Lの散布水量にて小型噴霧器で茎葉部に散布した。
(3)評価
4週間後、イタリアンライグラス、メヒシバおよび飼料用トウモロコシの無処理区および処理区の地上部生草重を測定し、下記の算出式によって殺草率を算出した。
(4)殺草率の算出式
殺草率 (%) = 〔(無処理区の地上部生草重 - 処理区の地上部生草重) /(無処理区の地上部生草重)〕×100
また、特許文献1に記載の化合物(A)についても同様に散布した。
(1)試験用乳剤の調製
試験例1と同様に調製した。
(2)茎葉散布処理
150cm2のポットに土壌を充填し、表層に飼料用トウモロコシ(Zea mays)、スズメノテッポウ(Alopecurus myosuroides)、イタリアンライグラス(Loliummultiflorum)、エンバク(Avena sativa)、メヒシバ(Digitaria ciliaris)、アキノエノコログサ(Setaria faberi)、イチビ(Abutilon theophrasti)およびアオゲイトウ(Amaranthus retroflexus)の種子を播き、軽く覆土した。その後、温室内で生育させた。スズメノテッポウ、イタリアンライグラス、エンバク、メヒシバ、アキノエノコログサ、イチビおよびアオゲイトウが2~4cmの草丈に、飼料用トウモロコシが20~30cmの草丈に、生育した時点で、所定の有効成分量になるように上記の試験用乳剤を水で希釈し、ヘクタール当たり250Lの散布水量にて小型噴霧器で茎葉部に散布した。
(3)評価
3週間後、雑草ごとに無処理区および処理区の地上部生草重を測定し、下記の算出式によって殺草率を算出した。
(4)殺草率の算出式
殺草率 (%) = 〔(無処理区の地上部生草重 - 処理区の地上部生草重) /(無処理区の地上部生草重)〕×100
また、特許文献1に記載の化合物(A)についても同様に散布した。
各化合物の殺草率を表10に示す。表10中、「gai」は活性成分(active ingredient)のグラム(g)を示す。
Claims (3)
- 式(I)で表される化合物またはその塩。
式(I)中、
R1は、置換若しくは無置換のC1~6アルキル基、置換若しくは無置換のC2~6アルケニル基、または置換若しくは無置換のC3~6シクロアルキル基を示し、
R2は、水素原子、置換若しくは無置換のC1~6アルキル基、R a-CO-で表される基、RaO-CO-で表される基、R a-SO2-で表される基、Ra-CO-O-CRb 2-で表される基、またはRaO-CO-O-CRb 2-で表される基を示し、
Raは、それぞれ独立に、置換若しくは無置換のC1~6アルキル基、置換若しくは無置換のフェニル基、または置換若しくは無置換のピラゾリル基を示し、
Rbは、それぞれ独立に、水素原子、または置換若しくは無置換のC1~6アルキル基を示し、
R3は、水素原子、置換若しくは無置換のC1~6アルキル基、または置換若しくは無置換のC3~6シクロアルキル基を示し、
R4は、ハロゲノ基、置換若しくは無置換のC1~6アルキル基、置換若しくは無置換のC1~6アルコキシ基、またはシアノ基を示し、
R5は、水素原子またはハロゲノ基を示し、
R6は、水素原子を示し、
Aは、置換若しくは無置換のC1~4アルキレン基を示し、
X1は、スルホニル基を示し、
X2は、スルフェニル基、またはスルホニル基を示し、
mは、0または1を示し、nは、0または1を示し、且つ
mとnの和は、1または2であり、且つAが置換若しくは無置換のメチレン基である場合、mとnの和は2である。 - 請求項1に記載の化合物およびその塩からなる群から選ばれる少なくともひとつを有効成分として含有する除草剤。
- 有用植物における単子葉類および/または双子葉類の雑草を防除する方法であって、請求項1に記載の化合物若しくはその塩、または前記化合物を含有する除草剤を、前記雑草および/または前記植物および/またはその場所に施用する工程を含む、方法。
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