JP7504976B2 - 文字盤を製造するためのプロセス - Google Patents

Description

本発明は、腕時計のガラス／水晶に面して配置されることを意図された文字盤の表面に含まれる少なくとも１つのパターンを設けられた、腕時計のこの文字盤を製造するためのプロセスおよびシステムに関する。

本発明は、このパターンを備える文字盤にも関する。

本発明はまた、そのような文字盤を含む腕時計にも関する。

文字盤を製造するプロセスは、一般に、アップリケを生成する前に、この文字盤の可視面の機械加工作業を備える。そのようなアップリケは、多くの場合、転写、またはシルクスクリーン、または文字盤の底面の成形作業を使用して生成される。そのようなアップリケを生成するために、金属プレートの打ち抜き／機械加工作業に続いて、この文字盤の可視面に接着剤を使用することもできる。

しかしながら、これらプロセスによって提案された解決策は、特に、美的外観、機械加工作業に起因する欠陥や傷がないこと、および堅牢性である文字盤製造要件基準に関して依然として不十分である。

この文脈において、上記の欠点を有していない代替解決策を開発する必要があることが理解される。

本発明の目的は、高い多用性および耐久性を備えた高品質な腕時計の文字盤を製造するためのプロセスおよびシステムを提案することにより、上記の欠点のすべてまたは一部を改善することである。

この目的のために、本発明は、文字盤の可視面上に少なくとも１つのパターンを備える腕時計の文字盤を製造するためのプロセスに関し、前記プロセスは、
－ 文字盤ブランクを備える支持プレートを設計するステップであって、このステップは、支持プレートの本体の厚さ内に、いくつかの貫通孔を生成することを備え、前記貫通孔は、そのようなプレートにおいて、文字盤ブランクの縁部を画定する、設計ステップと、
－ 前記文字盤ブランクの可視面上に少なくとも１つのパターンを生成するステップであって、このステップ中、
・ 第１の部品および第２の部品の可逆的組立てによって形成される金型内への、外部部品要素を備えるこの支持プレートの配置であって、前記配置ステップは、少なくとも１つの刻印を含む第１の部品を、文字盤ブランクの可視面に関連付けることによって、この金型内に少なくとも１つのキャビティを形成するサブステップを備える、配置と、
・ 文字盤ブランクの可視面上への、各パターンのブランクの構築であって、前記ステップは、前記キャビティの入口オリフィスを設けられ、前記文字盤ブランクに配置された貫通開口部を介して、キャビティ内に注入可能材料を注入することによってオーバモールドするサブステップを備える、構築と、
・ 可視面上にオーバモールドされたパターンの少なくとも１つのブランクを設けられた文字盤ブランクを備える支持プレートから、前記金型を除去するサブステップを備えるパターンのブランクの仕上げとが実行される、生成ステップとを備える。

他の実施形態では、
－ 仕上げステップは、金型の第２の部品から第１の部品を取り外すサブステップを実行した後、文字盤ブランク上にオーバモールドされた前記ブランクのすべてまたは一部にコーティングを適用するサブステップを備え、
－ 仕上げステップは、除去するサブステップを実行した後、文字盤ブランク上にオーバモールドされた前記ブランクのすべてまたは一部にコーティングを適用するサブステップを備え、
－ 設計ステップは、文字盤ブランクの厚さ内に、少なくとも１つの貫通開口部および少なくとも１つのブラインド開口部を作成するサブステップを備え、
－ 設計ステップは、この文字盤ブランクの上面上に少なくとも１つのコーティングを適用するサブステップを備え、
－ 前記配置ステップは、文字盤ブランクを備える支持プレートとの第２の部品の可逆的組立てサブステップを備え、前記サブステップは、この第２の部品に配置された注入回路の一端と、文字盤ブランクの貫通開口部の入口オリフィスとの接続段階を備え、
－ 前記除去サブステップは、前記文字盤ブランクを第２の部品に接続する注入点を破壊する段階を備え、
－ オーバモールドサブステップは、特に、キャビティ内に注入可能材料を注入する段階の開始前から、この材料の注入段階の終了までに至る期間中、またはこの注入段階の終了後、前記金型の温度を調節する段階を備え、
－ オーバモールドサブステップは、このキャビティ内に注入可能材料を注入する段階の前に、前記キャビティを排気する段階を備え、
－ 適用サブステップは、文字盤ブランク上にオーバモールドされたパターンのブランクの可視外面上に装飾的材料および／または機能的材料を堆積させる段階を備え、
－ プロセスは、製造される前記少なくとも１つのパターンに対して、少なくとも１つの元の部品を使用して、第１の部品に少なくとも１つの刻印を準備するステップを備える。

本発明はまた、このプロセスを実施する文字盤の可視面上に、少なくとも１つのパターンを備える腕時計の文字盤を製造するためのシステムに関し、このシステムは、
－ 文字盤ブランクを備える支持プレートを設計するためのデバイスと、
－ 文字盤ブランクの支持プレートを受け入れるように構成された、第１の部品および第２の部品の可逆的組立てによって形成される金型であって、この金型は、少なくとも１つの刻印を含む第１の部品を、文字盤ブランクの可視面に関連付けることによって形成される少なくとも１つのキャビティを備え、各キャビティは、注入可能材料を前記可視面上に注入することにより、オーバモールドからパターンのブランクを生成することを助ける、金型と、を備える。

本発明はまた、前記プロセスを使用して、可視面上に生成できる少なくとも１つのパターンを備える腕時計用の文字盤に関する。

本発明はまた、そのような文字盤を備える腕時計にも関する。

本発明の他の目的、利点、および特徴は、以下に挙げる添付の図面を参照して行われる以下の説明からより明らかになるであろう。

図１は、本発明の実施形態による、少なくとも１つのパターンを設けられた腕時計の文字盤を製造するためのシステムの図である。 図２は、本発明の実施形態による、少なくとも１つのパターンを設けられた文字盤を製造するためのプロセスに関する論理図である。 図３は、本発明の実施形態による、システムの金型の一部の断面図である。 図４は、本発明の実施形態による、腕時計の文字盤ブランクを備える支持プレートの図であって、可視面上にオーバモールドされた、アップリケのようないくつかのパターンブランクを設けられた、この文字盤ブランクの可視面を見ることができる図である。 図５は、本発明の実施形態による、腕時計の文字盤ブランクを備える支持プレートの図であって、図示されていない金型の第２の部品によって本質的に形成されたスプルーに接続された、この文字盤ブランクの隠蔽面を見ることができる図である。 図６は、本発明の実施形態による、金型内に形成された文字盤ブランクおよびスプルーを備える支持プレートの側面図である。 図７は、本発明の実施形態による、文字盤ブランクにオーバモールドされたパターンブランクの異なる代替実施形態の断面図である。 図８は、本発明の実施形態による、文字盤ブランクにオーバモールドされたパターンブランクの異なる代替実施形態の断面図である。 図９は、本発明の実施形態による、少なくとも１つのパターンを設けられた文字盤を備える腕時計を表す図である。

図１は、少なくとも１つのパターンを設けられた腕時計の文字盤を製造するためのシステム１の概略図を示す。図１、図３、図４から図９に表されるこのパターン１０は、この文字盤４の（または、この文字盤の製造のために使用される文字盤ブランクの）上面とも呼ばれる可視面２１ａ上、すなわちこの文字盤４がこの部品１００に取り付けられたとき、腕時計１００の装着者が見ることができる面２１ａ上に生成される。文字盤４のこの面２１ａは、たとえば、この要素４が文字盤である場合、この可視面２１ａの反対側にある、この文字盤４の他の面２１ｂとは異なり、腕時計１００に嵌め込まれたときに知覚される可能性を称して「可視」と呼ばれる。

そのようなシステム１は、腕時計１００のすべてまたは一部の部品の製造に専用の自動組立設備（または自動組立ライン）内で実施することができる。そのような状況において、このシステム１は、この自動組立設備内で少なくとも１つのパターン１０を備える外部部品要素４の製造および確実な分配に役立つ。

腕時計１００は、ともに組み立てられた外部部品要素４と時計構成要素（図示せず）とからなる。この文脈において、外部部品要素４は、腕時計１００が、装着者としても知られるユーザによって装着されたときに、腕時計１００の可視または観察可能な要素となることができる。時計構成要素に関して言えば、外部部品要素４は、時計ムーブメントを形成する要素、この腕時計１００に含まれる接合部および／またはリングを、非制限的かつ非網羅的に備える。したがって、これら条件下では、各文字盤４は、時計ムーブメントを取り囲み、腕時計にその外観、視覚的魅力、およびスタイルを与える腕時計１００の要素の中にあることが理解される。たとえば、この文字盤４は、非限定的および非網羅的に、文字盤、フランジ、ベゼルなどとできる。

図９を参照して説明される実施形態では、文字盤４は、ここでは腕時計１００の文字盤であり、パターン１０は、この文字盤のアップリケであることに留意されたい。

上述したように、この文字盤４は、（図４から図８において見える）可視面２１ａの反対側の面である、底面とも呼ばれるいわゆる隠蔽面２１ｂも備える。

図１および図３を参照して示すように、このシステム１は、非網羅的かつ非限定的に、
－ 少なくとも１つの文字盤ブランク４を備える支持プレート３を受け入れることができる、第２の部品８ｂとの第１の部品８ａの可逆的組立てによって形成される金型２と、
－ 注入可能材料をこの金型２に注入するためのデバイス１１と、
－ 文字盤ブランク４上にオーバモールドされたパターン１０のブランクにコーティングを適用するためのデバイス１２であって、文字盤ブランク４の可視面２１ａ上にオーバモールドされた前記ブランク２０にコーティングを適用して、パターン１０のこのブランク２０の仕上げを助けるデバイス１２と、
－ 製造されるパターン１０に関して、元の部品、すなわち「マスタ」部品を設計するために、特に紫外線投影光リソグラフィ、深紫外（ＤＵＶ）投影光リソグラフィ、液浸リソグラフィ、二重露光リソグラフィ、極紫外線リソグラフィ、および／またはナノインプリントリソグラフィであるリソグラフィ技法を特に実施する、デバイス１３と、
－ 元の部品から前記少なくとも１つのパターン１０を準備するために、特にＮｉシムまたはＢＭＧ複製技法を実施する、デバイス１４と、
－ 前記金型２を排気するためのデバイス１５、および／または、この金型２の内部の温度を調節するためのデバイス１６と、
－ 少なくとも１つの文字盤ブランク４の支持プレート３を除去して金型２内に配置するためのデバイス１７ａと、
－ 支持プレートを設計するためのデバイス１７ｂとを備える。

この構成では、支持プレートを設計するためのデバイス１７ｂは、
－ 支持プレートの本体の厚さ内に、いくつかの貫通孔を生成するためのモジュールであって、前記貫通孔は、そのようなプレートにおいて、文字盤ブランクの縁部を画定する、生成するためのモジュールと、
－ 文字盤ブランクの厚さ内に、少なくとも１つの貫通開口部１８ａおよび少なくとも１つのブラインド開口部１８ｂを作成するためのモジュールと、
－ この文字盤ブランクの上面上に、少なくとも１つのコーティングを適用するためのモジュールとを備える。

このデバイス１７ｂにおいて、適用モジュールは特に、この装飾的材料および／または機能的材料を放出するための機関、および／または、そのような材料を気化させるための機関、および／または、そのような材料を含むコーティング／フィルムを気化させるための機関を設けられる。このモジュールは、ＰＶＤ、ラッカー塗装、またはセルロースニス塗りによっても、この適用を実行できることに留意されたい。

システム１では、この金型２は、第２の部品８ｂとの第１の部品８ａの組立てによって形成される台を備え、文字盤ブランク４を備える支持プレート３を配置することができる。プレート３は、単一の文字盤ブランク４、または代わりにいくつかの外部部品要素４を備えることができることが理解される。

この金型２では、第２の部品８ｂは、そのような支持プレート３を受け入れるように構成された受入面を備える。より具体的には、支持プレート３は、文字盤ブランク４の隠蔽面２１ｂが、この受入面のすべてまたは一部と対向または接触するように、第２の部品８ｂの受入面に取り付けられる。この構成では、文字盤ブランク４の可視面２１ａは、その一部について、第１の部品８ａの内面に面し、接触している。言い換えれば、支持プレート３、したがって文字盤ブランク４は、この金型２の第１の部品８ａと第２の部品８ｂとの間に挟まれながら、この金型２の台に配置される。

金型２のこの第１の部品８ａの内面は、文字盤ブランク４の可視面２１ａ上にオーバモールドされるパターン１０に関して、単一の刻印５または複数の刻印５をおのおの備えることができる。これら刻印５はおのおの、第１の部品８ａのこの平坦な内面に画定された中空形状を有する。

文字盤ブランク４の可視面２１ａは、オーバモールドゾーン６とも呼ばれるゾーン６を備え、このゾーン６は、パターン１０の前記ブランク２０の設計に寄与するように、注入可能材料が注入されるキャビティ７を前記刻印５で形成するように画定される。このキャビティ７は、前記ブランク２０の最終形状を画定し、したがって、刻印５と、文字盤ブランク４の可視面２１ａの対応するゾーン６との協働によって生成されるパターン１０の最終形状を画定する。したがって、この構成では、このゾーン６は、第１の部品８ａと文字盤ブランク４とがともに組み立てられるとき、前記刻印５に面して配置される。金型２は、この第１の部品８ａが含む刻印５と同数の、および／または、文字盤ブランク４が備えるオーバモールドゾーン６と同数の、キャビティ７を備えることに留意されたい。

これに関連して、システム１が、前記金型２の内部の温度を調節するためのデバイス１６を設けられている場合、第１の部品８ａは、基本的に各刻印５の下に配置される、この第１の部品８ａの本体に画定された注入回路（図示せず）を備えることができる。そのような回路は、温度調節デバイス１６に接続され、温度調節デバイスは、この回路内で冷却流体または加熱流体の循環を生成することができる。

支持プレート３に含まれる文字盤ブランク４では、可視面２１ａと隠蔽面２１ｂとが平面であることが好ましい。これら可視面２１ａおよび隠蔽面２１ｂはそれぞれ、文字盤ブランク４の上面および底面とも呼ばれる。この金型２において、この文字盤ブランク４の可視面２１ａは、この第１の部品８ａが第２の部品８ｂと組み立てられるとき、第１の部品８ａの内面と接触することができる。この構成において、文字盤ブランク４は、これら第１の部品８ａと第２の部品８ｂとの間に挟まれて、この金型２内に配置されることが理解される。

図３を参照して示すように、この文字盤ブランク４はまた、文字盤ブランク４の隠蔽面２１ｂを、第２の部品８ｂの受入面に接続する、貫通チャネルまたは貫通孔とも呼ばれる少なくとも１つの貫通開口部１８ａを備え、この貫通開口部１８ａは、金型２のキャビティ７に開口している、出口オリフィスと呼ばれる第１の端部と、文字盤ブランク４の隠蔽面２１ｂに開口している、入口オリフィスと呼ばれる第２の端部とを備える。文字盤ブランク４は、金型２が備えるキャビティ７と少なくとも同数の貫通開口部１８ａを備えていると理解される。

図７および図８を参照して示すように、この文字盤ブランク４では、貫通開口部１８ａが、パターン１０の脚部２３ａを形成するのに役立つ注入可能材料を備えていることに留意されたい。この脚部２３ａは、特に、このパターン１０を、文字盤ブランク４の本体に固定するような形状に構成されている。さらに、前記刻印５を用いてキャビティ７を形成するために設けられたゾーン６は、この貫通開口部１８ａに加えて、文字盤ブランク４の可視面２１ａに画定された入口オリフィスを備える、ブラインド孔とも呼ばれるブラインド開口部１８ｂを備えることができ、注入可能材料を備えるそのようなブラインド開口部１８ｂは、文字盤ブランク４の本体内にこのパターン１０を固定するような形状に特に構成されたパターン１０の別の脚部２３ｂを形成するのに役立つ。

これに関連して、これら貫通開口部１８ａおよびブラインド開口部１８ｂの本体は、これら開口部１８ａ，１８ｂの長手方向軸Ａ，Ｂに垂直な一組の軸方向断面Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４から形成される。この構成では、貫通開口部１８ａは、入口オリフィスの中心と、出口オリフィスの中心とを相互接続する長手方向軸Ａに沿って延在する。ブラインド開口部１８ｂに関して、貫通開口部１８ａはまた、注入可能材料の入口オリフィスの中心と、この開口部１８ｂの底部の中心とを相互接続する長手方向軸Ｂに沿って延在する。これら長手方向軸Ａ，Ｂは、互いに実質的に平行または厳密に平行である。この構成では、
－ 貫通開口部１８ａは、入口オリフィスと出口オリフィスとの間に、少なくとも１つの軸方向断面Ｓ１，Ｓ３を備え、その表面エリアは、入口オリフィスを備える軸方向断面、入口オリフィスを備える軸方向断面の表面エリア、および出口オリフィスを備える軸方向断面の表面エリアと厳密に異なるか、または実質的に異なり、
－ 貫通開口部１８ａは、入口オリフィスと出口オリフィスとの間に、少なくとも１つの軸方向断面Ｓ１，Ｓ３を備え、その表面エリアは、入口オリフィスを備える軸方向断面、または入口オリフィスを備える軸方向断面の表面エリア、または出口オリフィスを備える軸方向断面の表面エリアと厳密に異なるか、または実質的に異なり、
－ 貫通開口部１８ａは、入口オリフィスと出口オリフィスとの間に、少なくとも１つの軸方向断面Ｓ１，Ｓ３備え、その表面エリアは、
・出口オリフィスを備える軸方向断面の表面エリアよりも厳密に大きいかまたは実質的に大きい、および／または
・入口オリフィスを備える軸方向断面の表面エリアよりも厳密に小さいかまたは実質的に小さく、
－ ブラインド開口部１８ｂは、入口オリフィスと底部との間に、少なくとも１つの軸方向断面Ｓ２，Ｓ４を備え、その表面エリアは、入口オリフィスを備える軸方向断面、入口オリフィスを備える軸方向断面の表面エリア、および底部を備える軸方向断面の表面エリアと厳密に異なるか、または実質的に異なり、
－ ブラインド開口部１８ｂは、入口オリフィスと底部との間に、少なくとも１つの軸方向断面Ｓ２，Ｓ４を備え、その表面エリアは、入口オリフィスを備える軸方向断面、または入口オリフィスを備える軸方向断面の表面エリア、または底部を備える軸方向断面の表面エリアと厳密に異なるか、または実質的に異なり、
－ ブラインド開口部１８ｂは、入口オリフィスと底部との間に、少なくとも１つの軸方向断面Ｓ２，Ｓ４を備え、その表面エリアは、
・出口オリフィスを備える軸方向断面の表面エリアよりも厳密に大きい、または実質的に大きい、および／または、
・入口オリフィスを備える軸方向断面の表面エリアよりも厳密に小さい、または実質的に小さいことが留意される。

これに関連して、たとえば図７において、貫通開口部１８ａおよびブラインド開口部１８ｂは、本質的に円錐台形状、または、本体が、異なる断面を有する２つの部分を備えるチューブの形状と同様の形状、または図８に表されるように異なる直径を有することができる。

前述したように、金型２は、少なくとも１つのキャビティ７を備える。このキャビティ７は、第１の部品８ａの内面に含まれる刻印５と、文字盤ブランク４の可視面２１ａの対応するゾーン６との組立てによって形成される。ゾーン６は、文字盤ブランク４に配置された貫通開口部１８ａを備え、この貫通開口部は、その出口オリフィスを介してキャビティ７に開口する。この貫通開口部１８ａは、その入口オリフィスを介して、金型２の第２の部品８ｂに画定された注入回路９を介して、注入可能材料注入デバイス１１に接続／連結される。この構成では、キャビティ７がブラインド開口部１８ｂも備える場合、この開口部の入口オリフィスは、文字盤ブランク４の可視面２１ａのオーバモールドゾーン６に画定されることに留意されたい。

この構成では、貫通開口部１８ａの入口オリフィス内で凝固する注入可能材料の部分は、以下に説明するように、特に文字盤ブランク４の第２の部品８ｂからの取り外し中に破壊されるように画定される注入点２２を形成する。実際、この注入点２２は、この金型２に形成されたスプルー１９に連結することによって、支持プレート３を、したがって、文字盤ブランク４を、第２の部品８ｂ上に保持するのに役立つ。この注入点２２は、好ましくは、貫通開口部１８ａの入口オリフィスに位置する。言い換えれば、この注入点２２は、このパターン１０の貫通開口部１８ａに形成された脚部２３ａの端部または基部に位置する。

図６に見られるこのスプルー１９は、貫通開口部１８ａ内での注入可能材料の固化によって形成される第１の部品と、第２の部品８ｂに配置された注入回路９内での注入可能材料の固化によって形成される第２の部品とを備えることに留意されたい。

さらに、この構成では、刻印５は、アップリケなどのパターン１０の可視部分を形成し、その部品のための文字盤ブランク４の対応するゾーン６は、このアップリケの脚部２３ａ，２３ｂを使用して、文字盤ブランクとの、このアップリケの連結部分を形成するのに役立つことが理解される。

すでに述べたように、この金型２では、第２の部品８ｂは、支持プレート３の組立面と、および／または、文字盤ブランク４の隠蔽面２１ｂと、可逆的に組み立てられるように設けられている。この第２の部品８ｂは、第１の端部で注入デバイス１１に、第２の端部で支持プレート３の文字盤ブランク４の各貫通開口部１８ａに接続された、前記少なくとも１つの注入可能材料の注入回路９を備える。その後、システム１は、前記金型２を排気するためのデバイス１５を設けられ、一端において文字盤ブランク４の貫通開口部１８ａに、また、他端においてこの排気デバイス１５に接続された第２の部品８ｂの本体内に真空回路を画定することができ、前記デバイス１５は、金型２の各キャビティ７内に空気空間を生じさせることができることに留意されたい。この構成では、第２の部品８ｂの機能のうちの１つの機能は、材料を注入するために、注入可能材料の、貫通開口部１８ａへのルーティングを提供し、適用可能な場合、金型２のキャビティ７を排気するのに役立つことが理解される。

このシステム１において、文字盤ブランク４上にオーバモールドされたパターン１０のブランク２０上に、コーティングを適用するためのデバイス１２は、金属のタイプの装飾的材料、および／または、機能的材料を備えるコーティングを、このパターン１０のブランク２０の外面２４に適用／堆積することができる。そのようなデバイス１２は、この装飾的材料および／または機能的材料を放出するための機関、および／または、そのような材料を気化させるための機関、および／または、そのような材料を含むコーティング／フィルムを気化させるための機関を特に設けられた印刷モジュールを備えることができる。気化機関は、直流カソードスパッタリング機関、または頭字語ＨＩＰＩＭＳとしてよく知られている高出力インパルスマグネトロンスパッタリング機関であり得ることに留意されたい。ブランク２０上に、コーティングの「高温転写」と呼ばれるものなど、他の技法を使用できることに留意されたい。

このシステム１において、装飾的材料は、インクから、または金属または金属合金から形成することができる。この装飾的材料は、このパターン１０のブランク２０に適用されることによって、パターン１０の視覚的外観を変更するのに役立つ。機能的材料に関しては、たとえば、
－ 半導体または絶縁性である電気伝導性、
－ 半導電性、
－ エレクトロルミネッセンス、
－ フォトルミネッセンス（たとえば、紫外線への反応）、
－ 燐光、
－ 「Ｘクロミズム」（フォトクロミック、エレクトロクロミック、サーモクロミック、イオノクロミック、メカノクロミックなど）、
－ 電気活性化、
－ 磁気、
－ などに関連付けられる物理的および／または化学的な機能的特性をパターン１０に与えることが意図される。

このシステム１では、注入可能材料は、たとえば、有機および／または複合材料、または金属またはセラミック材料、または熱変形性、熱硬化性、または熱可塑性材料である。例として、この材料は以下の要素、すなわち、
－ ＳＬＮ（燐光）タイプの荷電プラスチックおよび着色および／または蛍光顔料、
－ 着色顔料の有無に関わらず、セラミックを充填したポリマ、
－ アルミニウム粉末、金属粉末などの金属／光沢外観を与えるための添加剤、
－ （技術的な理由または化学／ガルバニックまたは他の後処理のために）ポリマを導電化するための添加剤、
－ 素材（真珠層、石など）を模した審美的な仕上げを与える添加剤、
－ 特定の機械的特性および／またはトライボロジ特性を与える添加剤、
－ 「Ｂｕｌｋ Ｍｅｔａｌｌｉｃ Ｇｌａｓｓ」の頭字語でよく知られているＢＭＧ、
－ ステンレス材料、
－ 焼結可能金属材料、
－ セラミック、
－ シリコン、および／または
－ これら要素の互いとの１つまたは別の組合せ、またはそれらいくつかの互いとの組合せを備えることができる。

この構成では、そのようなシステム１は、文字盤ブランク４の可視面２１ａ上に同時にオーバモールドされるいくつかのパターン１０を製造することを可能にできることが理解される。この目的のために、第１の部品８ａは、いくつかの刻印５を備え、特に、文字盤ブランク４を使用して、この文字盤ブランク４の可視面２１ａ上にオーバモールドされた一連のパターン１０を取得するのに役立つ。あるいは、第１の部品８ａは、文字盤ブランク４の可視面２１ａ上にオーバモールドされたパターン１０のブランクに対して単一の刻印５を備えることができることが理解される。

図２を参照して示すように、このシステム１は、文字盤（４）の可視面（２１ａ）上に、少なくとも１つのパターン（１０）を備える腕時計（１００）の文字盤（４）を製造するためのプロセスを実施する。

そのようなプロセスはまた、文字盤ブランクを備える支持プレート３を設計するステップ２５を備える。前記ステップ２５は、支持プレートの本体の厚さ内に、いくつかの貫通孔を生成するサブステップ２６ａを備え、前記貫通孔は、そのようなプレートに、文字盤ブランクの縁部を画定する。この構成では、文字盤ブランクは、２つの貫通孔の間におのおの含まれるこのプレートの部品によって、プレートの本体の残りに保持される。

次に、このステップ２５は、文字盤ブランクの厚さ内に、少なくとも１つの貫通開口部１８ａと、少なくとも１つのブラインド開口部１８ｂとを作成するサブステップ２６ｂを備える。すでに述べたように、そのような開口部１８ａは、文字盤ブランク４の隠蔽面２１ｂを、金型の第２の部品８ｂを受け入れる面に後で接続するために設けられる。

このステップ２５は、その後、この文字盤ブランクの上面に少なくとも１つのコーティングを適用するサブステップ２７を備える。この上面は、この設計ステップ２５の後に支持プレートにおいて取得される文字盤ブランクの可視面に対応することに留意されたい。このサブステップ２７中に、この可視面上にいくつかのコーティングを適用できる。

例によれば、このサブステップ２７は、半透明、または透明、または着色した材料の、少なくとも１つの装飾的なコーティングの堆積段階２８を備えることができる。この前記少なくとも１つの装飾的なコーティングはまた、たとえば、
－ 半導体または絶縁性である電気伝導性、
－ 半導電性、
－ エレクトロルミネッセンス、
－ フォトルミネッセンス（たとえば、紫外線への反応）、
－ 燐光、
－ 「Ｘクロミズム」（フォトクロミック、エレクトロクロミック、サーモクロミック、イオノクロミック、メカノクロミックなど）、
－ 電気活性化、
－ 磁気、
－ などに関連付けられる物理的および／または化学的な機能的特性を最終的な文字盤ブランク、および特にその可視面に与えることを目的とした機能的材料を備えることができる。

それに加えて、この前記少なくとも１つのコーティングは、文字盤ブランクが金属材料でできている場合、アクリルまたはエポキシのニス塗り、および／または、耐酸化性材料を備えることができる。

すでに理解したように、そのような設計ステップ２５により、金属材料、金属合金、および／または、ポリマで作られた、文字盤ブランクがすでに生成されているプレートを使用して、文字盤ブランクを備える支持プレートを取得することが可能となる。次に、この支持プレートを使用して、文字盤ブランク４の可視面上に、２次元または３次元の少なくとも１つのパターンを生成する。

より具体的には、プロセスは、その後、腕時計の文字盤ブランク４の可視面上に、少なくとも１つのパターンを生成するサブステップ２９を備える。このステップ２９は、製造される前記少なくとも１つのパターン１０に対して少なくとも１つの元の部品を使用して、第１の部品８ａに少なくとも１つの刻印５を準備するステップ３０を備える。このステップ３０は、生成するパターン１０と同数の刻印５を生成するのに役立ち、そのような刻印５は、同じ文字盤ブランク４上にオーバモールドされると理解される。このステップ３０は、「マスタ」とも呼ばれる元の部品からの刻印５の生成を提供する。この元の部品は、生成されるパターン１０の形状と同様の形状を有する。このステップ３０の実施は、生成されるべき刻印５と同数の元の部品を必要とすることに留意されたい。

これに関連して、準備ステップ３０は、リソグラフィ技法を使用して実施された前記元の部品を設計するサブステップ３１を備える。このリソグラフィ技法は、ここでは詳細に説明されない先行技術から知られている以下の技法、すなわち、紫外光投影リソグラフィ、ＤＵＶ投影光リソグラフィ、液浸リソグラフィ、二重露光リソグラフィ、極紫外線リソグラフィ、ナノインプリントリソグラフィから選択される。

次に、この準備ステップ３０は、元の部品のネガ形状を再生することによって外部部品要素４を生成することを目的として、元の部品を複製するサブステップ３２を備える。特に、このサブステップ３２は、ここでは詳細に説明されない先行技術から知られているＮｉシムまたはＢＭＧ（「Ｂｕｌｋ Ｍｅｔａｌｌｉｃ Ｇｌａｓｓ」の頭字語）技法の実施を提供する。

その後、プロセスは、文字盤ブランク４を備える支持プレート３の金型２における配置ステップ３３を含み、前記金型２は、第１の部品８ａおよび第２の部品８ｂの可逆的組立てによって形成される。このステップ３３の間、支持プレート３は、これら第１の部品８ａおよび第２の部品８ｂの可逆的組立てによって画定される台に配置される。そのような配置ステップ３３は、この文字盤ブランク４を備える支持プレート３との第２の部品８ｂの可逆的組立サブステップ３４を備える。このサブステップ３４は、この第２の部品８ｂに配置された注入回路９の一端と、文字盤ブランク４の貫通開口部１８ａの入口オリフィスとの接続段階３５を備える。そのようなサブステップ３４は、この第２の部品８ｂに配置された注入回路９の端部と、外部部品要素４に画定された貫通開口部１８ａとの間、特にこの開口部１８ａの入口オリフィスとの間の最適な接続を行うのに役立つ。この回路９は、文字盤ブランク４が備える、貫通開口部１８ａの入口オリフィスと、同数の端部を含むことが理解される。入口オリフィスは、文字盤ブランク４の隠蔽面２１ｂに含まれることに留意されたい。そのような配置ステップ３３はまた、少なくとも１つの刻印５を含む第１の部品８ａを、文字盤ブランク４の可視面２１ａに関連付けることによって、この金型２に、少なくとも１つのキャビティ７を形成するサブステップ３６を備える。各キャビティ７は、パターン１０のブランク２０の準備／形成のために画定されることに留意されたい。言い換えれば、金型２のこのキャビティ７は、金型２の第１の部品８ａの少なくとも１つの刻印５を、この金型２の外部部品要素の可視面２１ａに関連付けることによって形成されることにより、ここで生成されるパターン１０のブランク２０の体積および形状に対応する空間を画定する。

次に、プロセスは、文字盤ブランク４の可視面２１ａ上におけるパターン１０に対して、前記少なくとも１つのブランク２０を構築するステップ３７を備える。このステップ３７は、キャビティ７の入口オリフィスを設けられた前記文字盤ブランク４に配置された貫通開口部１８ａを介して、注入可能材料を前記キャビティ７に注入することによるオーバモールドサブステップ３８を備える。このサブステップ３８の目的は、文字盤ブランク４の可視面２１ａの対応するゾーン６において、パターン１０のブランク２０のオーバモールドを実行することである。そのようなサブステップ３８は、この材料を注入するためのデバイス１１から、注入可能材料のこのキャビティ７への注入段階３９を備える。これに関連して、注入デバイス１１からの注入可能材料は、第２の部品８ｂに画定された注入可能材料の注入回路９と、この注入可能材料の注入回路９をキャビティ７へ接続する文字盤ブランク４に含まれる貫通開口部１８ａとを通過することによって、前記キャビティ７へ導入される。したがって、注入可能材料は、その後、パターン１０のこのブランク２０を形成することを目的として、刻印５に面して配置された文字盤ブランク４の可視面２１ａの対応するゾーン６をオーバモールドすることによって、キャビティ７に画定された全容積を占有する。

そのようなオーバモールドステップ３８は、以下の段階、すなわち、
－ このキャビティ７に注入可能材料を注入する段階３９を実行する前に、前記キャビティ７を排気する段階４０、および／または、
－ 特に、キャビティ７へ注入可能材料を注入する段階３９の開始前から、この材料の注入段階３９の終了までに至る期間中、またはこの注入段階３９のこの終了後、キャビティ７の温度を調節する段階４１を備えることができる。

排気４０および温度調節４１のそのような段階は、このブランク２０の可視外面に存在可能なあらゆる欠陥の存在を除去するために、文字盤ブランク４におけるオーバモールド中に、パターン１０のブランク２０の構造均一性を確保することを目的としている。そのような欠陥は、たとえば、ブランク２０の可視外面上の溶接線の存在からなり、キャビティ７内への注入可能材料の２つの流れの合流後に形成される。そのような溶接線は、６，８，または０の数字の形状を有するアップリケに関して、パターン１０のブランク２０に存在することが多い。

排気段階４０の実施中、キャビティ７内に存在する流体、たとえば、空気などの気体は、注入段階３９を実行する前にキャビティ７から排出される。

キャビティ７の温度調節段階４１を実行するとき、キャビティ７内の温度は、注入段階３９を実行する前に、この材料を注入するためのデバイス１１からの注入可能材料の温度よりも高いか、または実質的に高い温度に加熱される。その後、注入可能材料の注入段階３９が実行される、すなわち完了すると、キャビティ７は直ちに冷却される。

次に、プロセスは、パターン１０の前記少なくとも１つのブランクの仕上げステップ４２を備える。このステップ４２は、文字盤ブランク４上にオーバモールドされたこのパターン１０の前記ブランク２０のすべてまたは一部へのコーティングの、適用サブステップ４３を備える。そのような適用サブステップ４３は、この仕上げステップ４２の以下のサブステップ、すなわち、
・金型２の第２の部品８ｂから第１の部品８ａを取り外すサブステップ４４、または
・この文字盤ブランク４の可視面上にオーバモールドされたパターン１０の前記少なくとも１つのブランク２０を設けられた文字盤ブランク４を備える支持プレート３から、前記金型２を除去するサブステップ４５を実行した後に実施される。

実際、これら２つのサブステップ４４，４５の一方または他方の後、適用サブステップ４３は、この文字盤ブランク４上にオーバモールドされたパターン１０の各ブランク２０の可視外面上への装飾的材料および／または機能的材料の堆積段階４６を備える。たとえば、この堆積段階４６は、金属組成物を備える装飾的材料のブランク２０の、この外面における適用を提供できる。その後、そのような堆積段階４６は、頭字語ＨＩＰＩＭＳでよく知られている、直流カソードスパッタリングまたは高出力インパルスマグネトロンスパッタリングを実施する技術にしたがって実行できる。

金型２の第２の部品８ｂから第１の部品８ａを取り外すサブステップ４４に続いて適用サブステップ４３が実行される場合、堆積段階４６は、金型２の第２の部品８ｂにまだ適合／固定されている支持プレート３を用いて実行されることに留意されたい。さらに、この文脈では、この堆積段階４６に続いて、プロセスは、金型２からの支持プレート３の除去サブステップ４５の実施を提供する。

このプロセスでは、除去サブステップ４５は、パターン１０のブランク２０またはパターン１０を備える、支持プレート３および／または文字盤ブランク４を、第２の部品８ｂへ連結する注入点２２を破壊する段階４７を備える。この段階４７は、第２の部品８ｂに対するこのプレートの回転運動または並進運動を引き起こすことを目的として、この文字盤ブランク４を備える支持プレート３に力を加え、したがって、この注入点２２の破壊を引き起こすサブ段階４８を備える。注入点２２が破壊されると、貫通開口部１８ａに形成されたパターン１０の脚部の基部は、文字盤ブランク４の隠蔽面２１ｂと実質的に同じ高さになるか、または、この隠蔽面２１ｂと厳密に同じ高さになることに留意されたい。

支持プレート３が、この第２の部品８ｂから除去されると、腕時計に取り付けるために、または、次に、残りの可視面２１ａ上に、すなわち、パターン１０によって隠蔽されていないこの面２１ａの部分に、コーティング層を適用することによって仕上げるために、文字盤ブランク４が、支持プレート３から分離される。

さらに、上述したように、各文字盤４は、いくつかのパターン１０を備えることができ、これら条件下では、パターン１０と同数の注入点２２を備えることができることに留意されたい。

したがって、本発明は、計時器の外部部品要素４の可視面２１ａ上に、少なくとも１つのパターン１０を生成するのに役立つ。

１ システム
２ 金型
３ 支持プレート
４ 文字盤、文字盤ブランク
５ 刻印
６ ゾーン、オーバモールドゾーン
７ キャビティ
８ａ 第１の部品
８ｂ 第２の部品
９ 注入回路
１０ パターン
１１ 注入デバイス
１２ 適用デバイス
１３ 設計デバイス
１４ 準備デバイス
１５ 排気デバイス
１６ 調節デバイス
１７ａ 配置デバイス
１７ｂ 設計デバイス
１８ａ 貫通開口部
１８ｂ ブラインド開口部
１９ スプルー
２０ ブランク
２１ａ 可視面
２１ｂ 隠蔽面
２２ 注入点
２３ａ 脚部
２３ｂ 脚部
２４ 外面
２５ 設計ステップ
２６ａ 生成サブステップ
２６ｂ 作成サブステップ
２７ サブステップ
２８ 堆積段階
２９ 生成ステップ
３０ 準備ステップ
３１ 設計サブステップ
３２ 複製サブステップ
３３ 配置ステップ
３４ 可逆的組立サブステップ
３５ 接続段階
３６ 形成サブステップ
３７ 構築ステップ
３８ オーバモールドサブステップ
３９ 注入段階
４０ 排気段階
４１ 温度調節段階
４２ 仕上げステップ
４３ 適用サブステップ
４４ 取外しサブステップ
４５ 除去サブステップ
４６ 堆積段階
４７ 破壊段階
４８ 破壊サブ段階
１００ 腕時計
Ａ 長手方向軸
Ｂ 長手方向軸
Ｓ１ 軸方向断面
Ｓ２ 軸方向断面
Ｓ３ 軸方向断面
Ｓ４ 軸方向断面

Claims (12)

1. 文字盤（４）の可視面（２１ａ）上に少なくとも１つのパターン（１０）を備える腕時計（１００）の前記文字盤（４）を製造するためのプロセスであって、前記プロセスは、
   － 文字盤ブランクを備える支持プレートを設計するステップ（２５）であって、前記ステップは、支持プレートの本体の厚さ内に、いくつかの貫通孔を生成することを備え、前記貫通孔は、前記支持プレートにおいて、前記文字盤ブランクの縁部を画定する、設計ステップと、
   － 前記文字盤ブランクの可視面上に少なくとも１つのパターンを生成する生成ステップ（２９）であって、前記生成ステップ（２９）中、
   ・ 第１の部品および第２の部品の可逆的組立てによって形成される金型内への、外部部品要素を備える前記支持プレートの配置ステップ（３３）であって、少なくとも１つの刻印を含む前記第１の部品を、前記文字盤ブランクの前記可視面に関連付けることによって、前記金型内に少なくとも１つのキャビティを形成するサブステップを備える、前記配置ステップ（３３）と、
   ・ 前記文字盤ブランクの前記可視面上への、各パターンのブランクの構築ステップ（３７）であって、前記キャビティの入口オリフィスを設けられ、前記文字盤ブランクに配置された貫通開口部を介して、前記キャビティ内に注入可能材料を注入することによってオーバモールドするサブステップを備える、前記構築ステップ（３７）と、
   ・ 前記可視面上にオーバモールドされたパターンの少なくとも１つのブランクを設けられた前記文字盤ブランクを備える前記支持プレートから、前記金型を除去する除去サブステップ（４５）を備える前記パターンの前記ブランクの仕上げステップ（４２）と、が実行される、生成ステップとを備え、
   前記設計ステップ（２５）は、前記文字盤ブランクの厚さ内に、少なくとも１つの貫通開口部（１８ａ）および少なくとも１つのブラインド開口部（１８ｂ）を作成するサブステップ（２６ｂ）を備える、プロセス。
2. 前記仕上げステップ（４２）は、前記仕上げステップ（４２）の以下のサブステップ、すなわち、
   － 前記金型（２）の前記第２の部品（８ｂ）から前記第１の部品（８ａ）を取り外す取り外しサブステップ（４４）、または、
   － 前記除去サブステップ（４５）、
   のうちの１つを実行した後、前記文字盤ブランク（４）上にオーバモールドされた前記ブランク（２０）のすべてまたは一部にコーティングを適用する適用サブステップ（４３）を備え、
   前記取り外しサブステップ（４４）が実行される場合、前記除去サブステップ（４５）は前記適用サブステップ（４３）の後に実行される、請求項１に記載のプロセス。
3. 前記設計ステップ（２５）は、前記文字盤ブランクの上面上に少なくとも１つのコーティングを適用するサブステップ（２７）を備える、請求項１に記載のプロセス。
4. 前記配置ステップ（３３）は、前記文字盤ブランク（４）を備える前記支持プレート（３）との前記第２の部品（８ｂ）の可逆的組立てサブステップ（３４）を備え、前記サブステップ（３４）は、前記第２の部品（８ｂ）に配置された注入回路（９）の一端と、前記文字盤ブランク（４）の前記貫通開口部（１８）の入口オリフィスとの接続段階（３５）を備える、請求項１に記載のプロセス。
5. 前記除去サブステップ（４５）は、前記文字盤ブランク（４）を前記第２の部品（８ｂ）に接続する注入点（２２）を破壊する段階（４７）を備える、請求項１に記載のプロセス。
6. 前記オーバモールドサブステップ（３８）は、特に、前記キャビティ（７）内に注入可能材料を注入する段階（３９）の開始前から、この材料の注入段階（３９）の終了までに至る期間中、またはこの注入段階（３９）のこの終了後、前記金型（２）の温度を調節する段階（４１）を備える、請求項１に記載のプロセス。
7. 前記オーバモールドサブステップ（３８）は、前記キャビティ（７）内に前記注入可能材料を注入する前記注入段階（３９）の前に、前記キャビティ（７）を排気する段階（４０）を備える、請求項６に記載のプロセス。
8. 前記適用サブステップ（４３）は、前記文字盤ブランク（４）上にオーバモールドされた前記パターン（１０）の前記ブランク（２０）の可視外面上に装飾的材料および／または機能的材料を堆積させる段階（４６）を備える、請求項２に記載のプロセス。
9. 製造される前記少なくとも１つのパターン（１０）に対して、前記第１の部品（８ａ）に少なくとも１つの刻印（５）を準備するステップ（３０）を備える、請求項１に記載のプロセス。
10. 請求項１に記載のプロセスを実施する可視面（２１ａ）上に、少なくとも１つのパターンを備える腕時計（１００）の文字盤（４）を製造するためのシステム（１）であって、前記システム（１）は、
    － 前記文字盤ブランク（４）を備える支持プレート（３）を設計するためのデバイス（１７ｂ）と、
    － 前記文字盤ブランク（４）の支持プレート（３）を受け入れるように構成された、第１の部品（８ａ）および第２の部品（８ｂ）の可逆的組立てによって形成される金型（２）とを備え、前記金型（２）は、少なくとも１つの刻印（５）を含む前記第１の部品（８ａ）を、前記文字盤ブランク（４）の前記可視面（２１ａ）に関連付けることによって形成される少なくとも１つのキャビティ（７）を備え、各キャビティ（７）は、注入可能材料を前記可視面（２１ａ）上に注入することにより、オーバモールドから前記パターン（１０）のブランク（２０）を生成することを助ける、システム（１）。
11. 請求項１に記載の前記プロセスを使用して、前記可視面（２１ａ）上に生成できる少なくとも１つのパターンを備える腕時計の文字盤。
12. 請求項１１に記載の文字盤（４）を備える腕時計（１００）。

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