JP7493058B2 - Encapsulating material for organic EL display element, cured product thereof, and organic EL display device - Google Patents

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Description

本発明は、有機EL表示素子用封止材、その硬化物および有機EL表示装置に関する。 The present invention relates to a sealing material for organic electroluminescence display elements, a cured product thereof, and an organic electroluminescence display device.

有機EL表示素子の分野において、有機EL表示素子を封止する封止材の特性を向上させるための検討がなされている。In the field of organic EL display elements, studies are being conducted to improve the properties of the sealing materials that seal organic EL display elements.

有機EL表示素子は、消費電力が少ないことから、ディスプレイや照明装置などに用いられつつある。有機EL表示素子は、大気中の水分や酸素によって劣化しやすいことから、各種シール部材で封止されて使用されており、実用化に向けては各種シール部材の水分や酸素の耐久性の向上が望まれている。 Organic EL display elements are becoming increasingly used in displays and lighting devices due to their low power consumption. Organic EL display elements are susceptible to deterioration due to moisture and oxygen in the air, so they are sealed with various sealing materials before use, and there is a need to improve the durability of various sealing materials against moisture and oxygen in order to put them into practical use.

有機EL表示素子の封止方法としては、無機材料と有機材料とを交互に積層して封止する方法が挙げられる。たとえば、素子上に1層目の無機材料膜を被覆させた上に封止層を形成し、さらに2層目の無機材料膜を被覆させる方法が用いられている。
これらの無機材料膜は屈折率が高いため、無機材料膜に接する封止層には、無機材料膜との界面で生じる光の反射を抑えるため、高い屈折率が求められる。
As a method for sealing an organic EL display element, a method of alternately laminating an inorganic material and an organic material for sealing is used. For example, a method is used in which a first inorganic material film is coated on the element, a sealing layer is formed on the first inorganic material film, and a second inorganic material film is further coated on the sealing layer.
Since these inorganic material films have a high refractive index, the sealing layer in contact with the inorganic material film is required to have a high refractive index in order to suppress light reflection occurring at the interface with the inorganic material film.

ここで、封止層を無機材料膜で被覆する方法としては、たとえば、窒化珪素や酸化珪素からなる無機材料膜を蒸着により形成する方法が挙げられる。蒸着方法としては、スパッタリング法や電子サイクロトロン共鳴プラズマCVD法等が挙げられる。
蒸着に際して、封止層の表面がプラズマにさらされるので、封止層には、耐プラズマ性、即ちプラズマ処理等で劣化しにくいことも求められている。
Here, examples of a method for covering the sealing layer with an inorganic material film include a method for forming an inorganic material film made of silicon nitride or silicon oxide by vapor deposition, such as a sputtering method or an electron cyclotron resonance plasma CVD method.
Since the surface of the sealing layer is exposed to plasma during deposition, the sealing layer is required to have plasma resistance, that is, to be resistant to deterioration by plasma treatment or the like.

特許文献1には、硫黄系光硬化性モノマー、非-硫黄系光硬化性モノマー、および重合開始剤を含有する有機発光素子封止用組成物が記載されている。
特許文献2には、環状(メタ)アクリレート化合物及び重合開始剤を含有する樹脂組成物が記載されている。
特許文献3には、チオエポキシ基含有フルオレン誘導体、及びジチオール化合物を重合して得られるチオエポキシ樹脂を含む硬化性組成物が記載されている。
Patent Document 1 describes a composition for sealing an organic light-emitting device, which contains a sulfur-based photocurable monomer, a non-sulfur-based photocurable monomer, and a polymerization initiator.
Patent Document 2 describes a resin composition containing a cyclic (meth)acrylate compound and a polymerization initiator.
Patent Document 3 describes a curable composition containing a thioepoxy resin obtained by polymerizing a thioepoxy group-containing fluorene derivative and a dithiol compound.

特表2019-537217号公報JP 2019-537217 A 特開2014-229496号公報JP 2014-229496 A 特開2019-172880号公報JP 2019-172880 A

前述の通り、無機材料膜との界面で生じる光の反射を抑えるため、有機EL表示装置の封止材の硬化物には高い屈折率が求められる。この点、特許文献1および2に記載された樹脂組成物の硬化物は、いずれも屈折率が1.60未満と低く改善の余地があった。
また、特許文献2にされた樹脂組成物は、(メタ)アクリレート化合物の種類によっては、耐プラズマ性が低い場合があった。
さらに、特許文献3に記載された樹脂組成物は、粘度が高いため、スクリーン印刷やインクジェットでの塗布性に改善の余地があった。
As described above, in order to suppress the reflection of light at the interface with the inorganic material film, the cured product of the sealing material for the organic EL display device is required to have a high refractive index. In this regard, the cured products of the resin compositions described in Patent Documents 1 and 2 all have a low refractive index of less than 1.60, leaving room for improvement.
Furthermore, the resin composition disclosed in Patent Document 2 may have low plasma resistance depending on the type of (meth)acrylate compound.
Furthermore, the resin composition described in Patent Document 3 has a high viscosity, and therefore there is room for improvement in terms of coatability by screen printing or inkjet printing.

本発明はこれらの特許文献の記載に鑑みてなされたものであり、粘度、プラズマ耐性および硬化物にした際の屈折率のバランスに優れた有機EL表示素子用封止材を提供する。The present invention has been made in consideration of the descriptions in these patent documents, and provides an encapsulating material for organic EL display elements that has an excellent balance of viscosity, plasma resistance, and refractive index when cured.

本発明によれば、以下に示す有機EL表示素子用封止材、その硬化物および有機EL表示装置が提供される。
[1] 下記一般式(1)で表される(メタ)アクリルチオ基を有する化合物(A)を含有する、有機EL表示素子用封止材。

Figure 0007493058000001
[上記一般式(1)中、Rは水素原子またはメチル基を表し、*は結合位置を表す。]
[2] 上記化合物(A)が上記(メタ)アクリルチオ基を2個以上有する化合物である、[1]に記載の有機EL表示素子用封止材。
[3] (メタ)アクリル基を有する化合物(B)(但し上記化合物(A)を除く。)をさらに含有する、上記[1]又は[2]に記載の有機EL表示素子用封止材。
[4] 上記化合物(B)が、置換されてもよい芳香族基をさらに有する化合物である、上記[3]に記載の有機EL表示素子用封止材。
[5] E型粘度計で測定される25℃、20rpmにおける粘度が、5mPa・s以上50mPa・s以下である、上記[1]~[4]のいずれか1つに記載の有機EL表示素子用封止材。
[6] インクジェット法による塗布に用いられる、上記[1]~[5]のいずれか1つに記載の有機EL表示素子用封止材。
[7] 有機EL表示素子、第1の無機材料膜、封止層、第2の無機材料膜がこの順序で積層された構造を有する有機EL表示装置において、上記封止層の形成に用いられる、上記[1]~[6]のいずれか1つに記載の有機EL表示素子用封止材。
[8] ダム材とフィル材を用いた封止構造において、上記フィル材として用いられる、上記[1]~[7]のいずれか1つに記載の有機EL表示素子用封止材。
[9] 上記[1]~[8]のいずれか1つに記載の有機EL表示素子用封止材を硬化してなる硬化物。
[10] 有機EL表示素子と、
上記有機EL表示素子を被覆する封止層と、
を含み、上記封止層が、上記[9]に記載の硬化物を含有する、有機EL表示装置。 According to the present invention, there are provided a sealing material for an organic EL display element, a cured product thereof, and an organic EL display device, as shown below.
[1] A sealing material for an organic electroluminescence display element, comprising a compound (A) having a (meth)acrylthio group represented by the following general formula (1):
Figure 0007493058000001
[In the above general formula (1), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and * represents a bonding position.]
[2] The sealing material for an organic EL display element according to [1], wherein the compound (A) is a compound having two or more of the (meth)acrylthio groups.
[3] The sealing material for an organic EL display element according to the above [1] or [2], further comprising a compound (B) having a (meth)acrylic group (excluding the above compound (A)).
[4] The sealing material for an organic EL display element according to the above [3], wherein the compound (B) is a compound further having an aromatic group which may be substituted.
[5] The sealing material for an organic EL display element according to any one of the above [1] to [4], which has a viscosity of 5 mPa·s or more and 50 mPa·s or less at 25° C. and 20 rpm as measured with an E-type viscometer.
[6] The sealing material for an organic EL display element according to any one of the above [1] to [5], which is used for coating by an inkjet method.
[7] The sealing material for an organic EL display element according to any one of [1] to [6] above, which is used for forming a sealing layer in an organic EL display device having a structure in which an organic EL display element, a first inorganic material film, a sealing layer, and a second inorganic material film are laminated in this order.
[8] The sealing material for an organic EL display element according to any one of [1] to [7] above, which is used as the filler in a sealing structure using a dam material and a filler.
[9] A cured product obtained by curing the sealing material for an organic EL display element according to any one of [1] to [8] above.
[10] An organic EL display element;
a sealing layer that covers the organic EL display element;
wherein the sealing layer contains the cured product according to [9] above.

本発明によれば、粘度、プラズマ耐性および硬化物にした際の屈折率のバランスに優れた有機EL表示素子用封止材を提供することができる。According to the present invention, it is possible to provide a sealing material for organic EL display elements that has an excellent balance of viscosity, plasma resistance, and refractive index when cured.

実施形態における有機EL表示装置の構成例を示す断面図である。1 is a cross-sectional view showing a configuration example of an organic EL display device according to an embodiment.

以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。なお、すべての図面において、同様な構成要素には共通の符号を付し、適宜説明を省略する。また、本実施形態において、各成分について、それぞれ、1種を用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。また、数値範囲を表す「~」は、以上、以下を表し、上限値および下限値をいずれも含む。 Below, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In all drawings, similar components are given the same reference symbols and descriptions will be omitted as appropriate. In this embodiment, each component may be used alone or in combination of two or more types. In addition, "~" indicating a numerical range indicates greater than or equal to or less than, and includes both the upper limit and the lower limit.

<有機EL表示素子用封止材>
(化合物(A))
本実施形態において、有機EL表示素子用封止材(以下、適宜単に「封止材」とも呼ぶ。)は、下記一般式(1)で示す(メタ)アクリルチオ基を有する化合物(A)を含有する。本実施形態の封止材は、粘度、プラズマ耐性および硬化物にした際の屈折率のバランスに優れる。

Figure 0007493058000002
[上記一般式(1)中、Rは水素原子またはメチル基を表し、*は結合位置を表す。] <Sealing material for organic EL display elements>
(Compound (A))
In this embodiment, the sealing material for an organic EL display element (hereinafter, simply referred to as "sealant") contains a compound (A) having a (meth)acrylthio group represented by the following general formula (1). The sealing material of this embodiment has an excellent balance of viscosity, plasma resistance, and refractive index when cured.
Figure 0007493058000002
[In the above general formula (1), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and * represents a bonding position.]

封止材の硬化物の屈折率を大きくさせる観点から、化合物(A)は、(メタ)アクリルチオ基を2個以上有する化合物であることが好ましい。From the viewpoint of increasing the refractive index of the cured product of the sealing material, it is preferable that compound (A) is a compound having two or more (meth)acrylthio groups.

化合物(A)としては、以下の一般式(2)で表される化合物が挙げられる。

Figure 0007493058000003
[上記一般式(2)中、Rは一般式(1)の定義と同義であり、Rは置換されてもよい脂肪族基、置換されてもよい脂環族基、置換されてもよい芳香族基または置換されてもよい複素環基を表し、上記脂肪族基および上記脂環族基は、酸素原子または硫黄原子を有してもよく、nは1以上の整数を示す。] An example of the compound (A) is a compound represented by the following general formula (2).
Figure 0007493058000003
[In the above general formula (2), R1 has the same definition as in general formula (1), R2 represents an optionally substituted aliphatic group, an optionally substituted alicyclic group, an optionally substituted aromatic group, or an optionally substituted heterocyclic group, the aliphatic group and the alicyclic group may have an oxygen atom or a sulfur atom, and n represents an integer of 1 or more.]

封止材の粘度を低減させる観点から、Rは炭素数1~20であることが好ましく、炭素数1~12であることがより好ましく、炭素数1~10であることがさらに好ましい。 From the viewpoint of reducing the viscosity of the encapsulating material, R 2 preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably has 1 to 12 carbon atoms, and further preferably has 1 to 10 carbon atoms.

封止材の重合速度を調整させる観点、封止材の硬化物の屈折率を大きくさせる観点から、一般式(2)において、nは2以上であることが好ましい。また、nの上限に制限はないが、たとえば12以下、6以下または3以下とすることができる。From the viewpoint of adjusting the polymerization rate of the sealing material and increasing the refractive index of the cured product of the sealing material, it is preferable that n in the general formula (2) is 2 or more. There is no upper limit for n, but it can be, for example, 12 or less, 6 or less, or 3 or less.

封止材の硬化物の屈折率を大きくさせる観点、また封止材の硬化物の耐プラズマ性を改善させる観点から、一般式(2)において、Rは置換されてもよい脂肪族基であり且つ硫黄原子を有するものであることが好ましい。 From the viewpoint of increasing the refractive index of the cured product of the encapsulating material and improving the plasma resistance of the cured product of the encapsulating material, it is preferable that R2 in general formula (2) is an optionally substituted aliphatic group and has a sulfur atom.

本実施形態の有機EL表示素子用封止材は、1種類の化合物(A)のみを含有してもよいし、複数種類の化合物(A)を含有してもよい。
封止材の硬化物の屈折率を大きくさせる観点、また封止材の硬化物の耐プラズマ性を改善させる観点から、本実施形態の有機EL表示素子用封止材は、一般式(2)におけるnの値が異なる複数種類の化合物(A)を含有するのが好ましい。
The sealing material for an organic EL display element of the present embodiment may contain only one type of compound (A) or may contain multiple types of compounds (A).
From the viewpoint of increasing the refractive index of the cured product of the encapsulant and improving the plasma resistance of the cured product of the encapsulant, the encapsulant for an organic EL display element of this embodiment preferably contains multiple types of compounds (A) having different values of n in general formula (2).

一般式(2)の化合物は、例えば、一般式(3)で表されるチオール化合物と(メタ)アクリル酸ハライドとから脱ハロゲン化脱水素化により製造される。

Figure 0007493058000004
[上記一般式(3)中、Rおよびnはそれぞれ一般式(2)のRおよびnの定義と同様である。] The compound of general formula (2) is produced, for example, from a thiol compound represented by general formula (3) and a (meth)acrylic acid halide by dehalogenation and dehydrogenation.
Figure 0007493058000004
[In the above general formula (3), R2 and n are defined as R2 and n in general formula (2), respectively.]

一般式(3)で表されるチオール化合物は、メルカプト基以外に、例えばヒドロキシ基を有していてもよい。The thiol compound represented by general formula (3) may have, in addition to a mercapto group, for example, a hydroxyl group.

下記に一般式(3)で表されるチオール化合物の具体例を列挙する。なお、一般式(2)におけるRの具体例としては、下記の化合物由来の基を挙げることができる。 Specific examples of the thiol compound represented by the general formula (3) are listed below. Specific examples of R2 in the general formula (2) include groups derived from the following compounds.

一般式(3)で表されるチオール化合物のうち、チオール基を1つ有するモノチオール化合物として、具体的には、メチルメルカプタン、エチルメルカプタン、プロピルメルカプタン、ブチルメルカプタン、アミルメルカプタン、ヘキシルメルカプタン、ヘプチルメルカプタン、オクチルメルカプタン、ノニルメルカプタン、デシルメルカプタン、ウンデシルメルカプタン、ドデシルメルカプタン、トリデシルメルカプタン、テトラデシルメルカプタン、セチルメルカプタン、オクタデシルメルカプタン、アリルメルカプタン、2-ブテン-1-チオール、1-ブテン-4-チオール、メタリルメルカプタン、1-ペンテニルメルカプタン、2-i-ペンテニルメルカプタン、オレイルメルカプタン、シクロペンチルメルカプタン、シクロへキシルメルカプタン、シクロペンチルメチルメルカプタン、シクロヘプチルメルカプタン、3-メチルシクロペンチルメチルメルカプタン、2-メチルシクロヘキシルメルカプタン、3-メチルシクロヘキシルメルカプタン、4-メチルシクロヘキシルメルカプタン、3-メチルシクロヘキシルメチルメルカプタン、1-シクロペンチルメルカプタン、2-シクロヘキセニルメルカプタン、β-シクロヘキシルエチルメルカプタン、2,2,6,6-テトラメチルシクロヘキシルメルカプタン、ε-シクロヘキシルアミルメルカプタン、コレステリルメルカプタン、フルフリルメルカプタン、メチルフルフリルメルカプタン、2-メルカプトチオフェン、3-メルカプトチオフェン、2-エチル-3-メルカプトチオフェン、チオフェノール、チオクレゾール、エチルチオフェノール、2,4-チオキシレノール、2,5-チオキシレノール、プロピルチオフェノール、アリルチオフェノール、2-アリル-4-メチルチオフェノール、フェニルチオフェノール、クロルチオフェノール、ブロモチオフェノール、ヨードチオフェノール、ニトロチオフェノール、トリニトロチオフェノール、ジニトロチオフェノール、ニトロブロモチオフェノール、ニトロクロルチオフェノール、メチルスルホニルチオフェノール、ベンゼンチオール、ベンジルメルカプタン、ニトロベンジルメルカプタン、α-フェニルエチルメルカプタン、β-フェニルエチルメルカプタン、α-フェニルプロピルメルカプタン、γ-フェニルプロピルメルカプタン、β-フェニルプロピルメルカプタン、β-フェニル-i-プロピルメルカプタン、D-β-フェニルブチルメルカプタン、ε-フェニルアミルメルカプタン、α,β-ジフェニルエチルメルカプタン、メチルベンジルメルカプタン、2-ニトロ-p-トリルメルカプタン、α-(o-トリル)ベンジルメルカプタン、α-(p-トリル)ベンジルメルカプタン、クロルベンジルメルカプタン、ジクロルベンジルメルカプタン、ブロモベンジルメルカプタン、α-フェニル-p-クロルベンジルメルカプタン、3-ヒドロキシ-5-メチルベンジルメルカプタン、シンナミルメルカプタン、β-γ-ジフェニルアリルメルカプタン、4,4′-ジクロルベンズヒドリルメルカプタン、トリフェニルメチルメルカプタン、α-チオナフトール、β-チオナフトール、4-クロル-α-チオナフトール、4-ブロモ-α-チオナフトール、1-ニトロ-β-チオナフトール、4-ニトロ-α-チオナフトール等が挙げられる。Among the thiol compounds represented by the general formula (3), specific examples of monothiol compounds having one thiol group include methyl mercaptan, ethyl mercaptan, propyl mercaptan, butyl mercaptan, amyl mercaptan, hexyl mercaptan, heptyl mercaptan, octyl mercaptan, nonyl mercaptan, decyl mercaptan, undecyl mercaptan, dodecyl mercaptan, tridecyl mercaptan, tetradecyl mercaptan, cetyl mercaptan, octadecyl mercaptan, allyl mercaptan, 2-butene-1-thiol, 1-butene-4-thiol, methallyl mercaptan, 1-pentenyl mercaptan, 2-i-pentenyl mercaptan, oleyl mercaptan, cyclopentyl mercaptan, cyclohexyl mercaptan, cyclopentyl mercaptan, ethyl methyl mercaptan, cycloheptyl mercaptan, 3-methylcyclopentyl methyl mercaptan, 2-methylcyclohexyl mercaptan, 3-methylcyclohexyl mercaptan, 4-methylcyclohexyl mercaptan, 3-methylcyclohexyl methyl mercaptan, 1-cyclopentyl mercaptan, 2-cyclohexenyl mercaptan, β-cyclohexyl ethyl mercaptan, 2,2,6,6-tetramethylcyclohexyl mercaptan, ε-cyclohexyl amyl mercaptan, cholesteryl mercaptan, furfuryl mercaptan, methylfurfuryl mercaptan, 2-mercaptothiophene, 3-mercaptothiophene, 2-ethyl-3-mercaptothiophene, thiophenol, thiocresol, ethylthiophenol, 2,4-thioxylene thiophenol, 2,5-thioxyleneol, propylthiophenol, allylthiophenol, 2-allyl-4-methylthiophenol, phenylthiophenol, chlorothiophenol, bromothiophenol, iodothiophenol, nitrothiophenol, trinitrothiophenol, dinitrothiophenol, nitrobromothiophenol, nitrochlorothiophenol, methylsulfonylthiophenol, benzenethiol, benzyl mercaptan, nitrobenzyl mercaptan, α-phenylethyl mercaptan, β-phenylethyl mercaptan, α-phenylpropyl mercaptan, γ-phenylpropyl mercaptan, β-phenylpropyl mercaptan, β-phenyl-i-propyl mercaptan, D-β-phenylbutyl mercaptan, ε-phenylamyl mercaptan, mercaptan, α,β-diphenylethyl mercaptan, methylbenzyl mercaptan, 2-nitro-p-tolyl mercaptan, α-(o-tolyl)benzyl mercaptan, α-(p-tolyl)benzyl mercaptan, chlorobenzyl mercaptan, dichlorobenzyl mercaptan, bromobenzyl mercaptan, α-phenyl-p-chlorobenzyl mercaptan, 3-hydroxy-5-methylbenzyl mercaptan, cinnamyl mercaptan, β-γ-diphenylallyl mercaptan, 4,4'-dichlorobenzhydryl mercaptan, triphenylmethyl mercaptan, α-thionaphthol, β-thionaphthol, 4-chloro-α-thionaphthol, 4-bromo-α-thionaphthol, 1-nitro-β-thionaphthol, 4-nitro-α-thionaphthol, and the like.

一般式(3)で表されるチオール化合物のうち、チオール基を2つ以上有するポリチオール化合物として、具体的には、
メタンジチオール、1,2-ケタンジチオール、1,1-プロパンジチオール、1,2-プロパンジチオール、1,3-プロパンジチオール、2,2-プロパンジチオール、1,6-ヘキサンジチオール、1,2,3-プロパントリチオール、1,1-シクロヘキサンジチオール、1,2-シクロヘキサンジチオール、2,2-ジメチルプロパン-1,3-ジチオール、3,4-ジメトキシブタン-1,2-ジチオール、2-メチルシクロヘキサン-2,3-ジチオール、ビシクロ[2,2,1]ヘプタ-エクソ-シス-2,3-ジチオール、1,1-ビス(メルカプトメチル)シクロヘキサン、チオリンゴ酸ビス(2-メルカプトエチルエステル)、2,3-ジメルカプトコハク酸(2-メルカプトエチルエステル)、2,3-ジメルカプト-1-プロパノール(2-メルカプトアセテート)、2,3-ジメルカプト-1-プロパノール(3-メルカプトアセテート)、ジエチレングリコールビス(2-メルカプトアセテート)、ジエチレングリコールビス(3-メルカプトプロピオネート)、1,2-ジメルカプトプロピルメチルエーテル、2,3-ジメルカプトプロピルメチルエーテル、2,2-ビス(メルカプトメチル)-1,3-プロパンジチオール、ビス(2-メルカプトエチル)エーテル、エチレングリコールビス(2-メルカプトアセテート)、エチレングリコールビス(3-メルカプトプロピオネート)、トリメチロールプロパンビス(2-メルカプトアセテート)、トリメチロールプロパンビス(3-メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(2-メルカプトアセテート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3-メルカプトプロピオネート)等の脂肪族ポリチオール、並びにそれらの塩素置換体及び臭素置換体等のハロゲン置換脂肪族ポリチオール;
1,2-ジメルカプトベンゼン、1,3-ジメルカプトベンゼン、1,4-ジメルカプトベンゼン、1,2-ビス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,3-ビス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,4-ビス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2-ビス(メルカプトエチル)ベンゼン、1,3-ビス(メルカプトエチル)ベンゼン、1,4-ビス(メルカプトエチル)ベンゼン、1,2-ビス(メルカプトメチレンオキシ)ベンゼン、1,3-ビス(メルカプトメチレンオキシ)ベンゼン、1,4-ビス(メルカプトメチレンオキシ)ベンゼン、1,2-ビス(メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,3-ビス(メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,4-ビス(メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,2,3-トリメルカプトベンゼン、1,2,4-トリメルカプトベンゼン、1,3,5-トリメルカプトベンゼン、1,2,3-トリス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2,4-トリス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,3,5-トリス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2,3-トリス(メルカプトエチル)ベンゼン、1,2,4-トリス(メルカプトエチル)ベンゼン、1,3,5-トリス(メルカプトエチル)ベンゼン、1,2,3-トリス(メルカプトメチレンオキシ)ベンゼン、1,2,4-トリス(メルカプトメチレンオキシ)ベンゼン、1,3,5-トリス(メルカプトメチレンオキシ)ベンゼン、1,2,3-トリス(メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,2,4-トリス(メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,3,5-トリス(メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,2,3,4-テトラメルカプトベンゼン、1,2,3,5-テトラメルカプトベンゼン、1,2,4,5-テトラメルカプトベンゼン、1,2,3,4-テトラキス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2,3,5-テトラキス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2,4,5-テトラキス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2,3,4-テトラキス(メルカプトエチル)ベンゼン、1,2,3,5-テトラキス(メルカプトエチル)ベンゼン、1,2,4,5-テトラキス(メルカプトエチル)ベンゼン、1,2,3,4-テトラキス(メルカプトメチレンオキシ)ベンゼン、1,2,3,5-テトラキス(メルカプトメチレンオキシ)ベンゼン、1,2,4,5-テトラキス(メルカプトメチレンオキシ)ベンゼン、1,2,3,4-テトラキス(メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,2,3,5-テトラキス(メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,2,4,5-テトラキス(メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、2,2′-ジメルカプトビフェニル、4,4′-チオビス-ベンゼンチオール、4,4′-ジメルカプトビフェニル、4,4′-ジメルカプトビベンジル、2,5-トルエンジチオール、3,4-トルエンジチオール、1,4-ナフタレンジチオール、1,5-ナフタレンジチオール、2,6-ナフタレンジチオール、2,7-ナフタレンジチオール、2,4-ジメチルベンゼン-1,3-ジチオール、4,5-ジメチルベンゼン-1,3-ジチオール、9,10-アントラセンジメタンチオール、1,3-ジ(p-メトキシフェニル)プロパン-2,2-ジチオール、1,3-ジフェニルプロパン-2,2-ジチオール、フェニルメタン-1,1-ジチオール、2,4-ジ(p-メルカプトフェニル)ペンタン、ビス(4-メルカプトフェニル)スルフィド等の芳香族ポリチオール;
2,5-ジクロロベンゼン-1,3-ジチオール、1,3-ジ(p-クロロフェニル)プロパン-2,2-ジチオール、3,4,5-トリブロム-1,2-ジメルカプトベンゼン、2,3,4,6-テトラクロル-1,5-ビス(メルカプトメチル)ベンゼン等芳香族ポリチオールの塩素置換体及び芳香族ポリチオールの臭素置換体等のハロゲン置換芳香族ポリチオール;
2-メチルアミノ-4,6-ジチオール-sym-トリアジン、2-エチルアミノ-4,6-ジチオール-sym-トリアジン、2-アミノ-4,6-ジチオール-sym-トリアジン、2-モルホリノ-4,6-ジチオール-sym-トリアジン、2-シクロヘキシルアミノ-4,6-ジチオール-sym-トリアジン、2-メトキシ-4,6-ジチオール-sym-トリアジン、2-フェノキシ-4,6-ジチオール-sym-トリアジン、2-チオベンゼンオキシ-4,6-ジチオール-sym-トリアジン、2-チオブチルオキシ-4,6-ジチオール-sym-トリアジン、3,4-チオフェンジチオール、ビスムチオール等の複素環を含有したポリチオール;
1,2-ビス(メルカプトメチルチオ)ベンゼン、1,3-ビス(メルカプトメチルチオ)ベンゼン、1,4-ビス(メルカプトメチルチオ)ベンゼン、1,2-ビス(メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,3-ビス(メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,4-ビス(メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,2,3-トリス(メルカプトメチルチオ)ベンゼン、1,2,4-トリス(メルカプトメチルチオ)ベンゼン、1,3,5-トリス(メルカプトメチルチオ)ベンゼン、1,2,3-トリス(メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,2,4-トリス(メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,3,5-トリス(メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,2,3,4-テトラキス(メルカプトメチルチオ)ベンゼン、1,2,3,5-テトラキス(メルカプトメチルチオ)ベンゼン、1,2,4,5-テトラキス(メルカプトメチルチオ)ベンゼン、1,2,3,4-テトラキス(メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,2,3,5-テトラキス(メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,2,4,5-テトラキス(メルカプトエチルチオ)ベンゼン等の芳香族化合物の核アルキル化物由来のポリチオール;
ビス(メルカプトメチル)スルフィド、ビス(メルカプトエチル)スルフィド、ビス(メルカプトプロピル)スルフィド、ビス(メルカプトメチルチオ)メタン、ビス(2-メルカプトエチルチオ)メタン、ビス(3-メルカプトプロピルチオ)メタン、1,2-ビス(メルカプトメチルチオ)エタン、1,2-ビス(2-メルカプトエチルチオ)エタン、1,2-ビス(3-メルカプトプロピル)エタン、1,3-ビス(メルカプトメチルチオ)プロパン、1,3-ビス(2-メルカプトエチルチオ)プロパン、1,3-ビス(3-メルカプトプロピルチオ)プロパン、1,2,3-トリス(メルカプトメチルチオ)プロパン、1,2,3-トリス(2-メルカプトエチルチオ)プロパン、1,2,3-トリス(3-メルカプトプロピルチオ)プロパン、テトラキス(メルカプトメチルチオメチル)メタン、テトラキス(2-メルカプトエチルチオメチル)メタン、テトラキス(3-メルカプトプロピルチオメチル)メタン、ビス(2,3-ジメルカプトプロピル)スルフィド、2,5-ジメルカプト-1,4-ジチアン、ビス(メルカプトメチル)ジスルフィド、ビス(メルカプトエチル)ジスルフィド、ビス(メルカプトプロピル)ジスルフィド等の脂肪族ポリチオール、並びにそれらのチオグリコール酸エステル及びメルカプトプロピオン酸エステル;
ヒドロキシメチルスルフィドビス(2-メルカプトアセテート)、ヒドロキシメチルスルフィドビス(3-メルカプトプロピオネート)、ヒドロキシエチルスルフィドビス(2-メルカプトアセテート)、ヒドロキシエチルスルフィドビス(3-メルカプトプロピオネート)、ヒドロキシプロピルスルフィドビス(2-メルカプトアセテート)、ヒドロキシプロピルスルフィドビス(3-メルカプトプロピオネート)、ヒドロキシメチルジスルフィドビス(2-メルカプトアセテート)、ヒドロキシメチルジスルフィドビス(3-メルカプトプロピオネート)、ヒドロキシエチルジスルフィドビス(2-メルカプトアセテート)、ヒドロキシエチルジスルフィドビス(3-メルカプトプロピオネート)、ヒドロキシプロピルジスルフィドビス(2-メルカプトアセテート)、ヒドロキシプロピルジスルフィドビス(3-メルカプトプロピオネート)、2-メルカプトエチルエーテルビス(2-メルカプトアセテート)、2-メルカプトエチルエーテルビス(3-メルカプトプロピオネート)、1,4-ジチアン-2,5-ジオールビス(2-メルカプトアセテート)、1,4-ジチアン-2,5-ジオールビス(3-メルカプトプロピオネート)、チオジグリコール酸ビス(2-メルカプトエチルエステル)、チオジプロピオン酸ビス(2-メルカプトエチルエステル)、4,4-チオジブチル酸ビス(2-メルカプトエチルエステル)、ジチオグリコール酸ビス(2-メルカプトエチルエステル)、ジチオジプロピオン酸ビス(2-メルカプトエチルエステル)、4,4-ジチオジブチル酸ビス(2-メルカプトエチルエステル)、チオジグリコール酸ビス(2,3-ジメルカプトプロピルエステル)、チオジプロピオン酸ビス(2,3-ジメルカプトプロピルエステル)、ジチオグリコール酸ビス(2,3-ジメルカプトプロピルエステル)、ジチオジプロピオン酸ビス(2,3-ジメルカプトプロピルエステル)等の脂肪族ポリチオールのエステル;
2-メルカプトエタノール、3-メルカプト-1,2-プロパンジオール、グルセリンジ(メルカプトアセテート)、1-ヒドロキシ-4-メルカプトシクロヘキサン、2,4-ジメルカプトフェノール、2-メルカプトハイドロキノン、4-メルカプトフェノール、3,4-ジメルカプト-2-プロパノール、1,3-ジメルカプト-2-プロパノール、2,3-ジメルカプト-1-プロパノール、1,2-ジメルカプト-1,3-ブタンジオール、ペンタエリスリトールトリス(3-メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールモノ(3-メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールビス(3-メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールトリス(チオグリコレート)、ペンタエリスリトールペンタキス(3-メルカプトプロピオネート)、ヒドロキシメチル-トリス(メルカプトエチルチオメチル)メタン、1-ヒドロキシエチルチオ-3-メルカプトエチルチオベンゼン、4-ヒドロキシ-4′-メルカプトジフェニルスルホン、2-(2-メルカプトエチルチオ)エタノール、ジヒドロキシエチルスルフィドモノ(3-メルカプトプロピオネート)、ジメルカプトエタンモノ(サルチレート)、ヒドロキシエチルチオメチル-トリス(メルカプトエチルチオメチル)メタン、2,2'-((3-メルカプトプロパン-1,2-ジイル)ビス(スルファンジイル))ビス(エタン-1-チオール)、3,3'-チオビス(2-((2-メルカプトエチル)チオ)プロパン-1-チオール)等のポリチオール;
が挙げられる。
さらには、これらの塩素置換体、臭素置換体等のハロゲン置換体が挙げられる。
Among the thiol compounds represented by the general formula (3), specific examples of polythiol compounds having two or more thiol groups include:
Methanedithiol, 1,2-ketanedithiol, 1,1-propanedithiol, 1,2-propanedithiol, 1,3-propanedithiol, 2,2-propanedithiol, 1,6-hexanedithiol, 1,2,3-propanetrithiol, 1,1-cyclohexanedithiol, 1,2-cyclohexanedithiol, 2,2-dimethylpropane-1,3-dithiol, 3,4-dimethoxybutane-1,2-dithiol, 2- Methylcyclohexane-2,3-dithiol, bicyclo[2,2,1]hepta-exo-cis-2,3-dithiol, 1,1-bis(mercaptomethyl)cyclohexane, thiomalic acid bis(2-mercaptoethyl ester), 2,3-dimercaptosuccinic acid (2-mercaptoethyl ester), 2,3-dimercapto-1-propanol (2-mercaptoacetate), 2,3-dimercapto-1-propanol (3-mercaptoethyl ester), aliphatic polythiols such as 1,2-dimercaptopropyl methyl ether, 2,3-dimercaptopropyl methyl ether, 2,2-bis(mercaptomethyl)-1,3-propanedithiol, bis(2-mercaptoethyl)ether, ethylene glycol bis(2-mercaptoacetate), ethylene glycol bis(3-mercaptopropionate), trimethylolpropane bis(2-mercaptoacetate), trimethylolpropane bis(3-mercaptopropionate), pentaerythritol tetrakis(2-mercaptoacetate), and pentaerythritol tetrakis(3-mercaptopropionate), as well as halogen-substituted aliphatic polythiols such as chlorine-substituted and bromine-substituted products thereof;
1,2-dimercaptobenzene, 1,3-dimercaptobenzene, 1,4-dimercaptobenzene, 1,2-bis(mercaptomethyl)benzene, 1,3-bis(mercaptomethyl)benzene, 1,4-bis(mercaptomethyl)benzene, 1,2-bis(mercaptoethyl)benzene, 1,3-bis(mercaptoethyl)benzene, 1,4-bis(mercaptoethyl)benzene, 1,2-bis(mercaptomethyleneoxy)benzene, 1,3-bis(mercaptomethyleneoxy)benzene, 1,4-bis(mercaptomethyleneoxy)benzene, 1,2-bis(mercaptoethyleneoxy)benzene, 1,3-bis(mercaptoethyleneoxy)benzene, 1,4-bis(mercaptoethyleneoxy)benzene, 1,2,3-trimercaptobenzene, 1,2,4-trimercaptobenzene, 1,3,5-trimercapto Mercaptobenzene, 1,2,3-tris(mercaptomethyl)benzene, 1,2,4-tris(mercaptomethyl)benzene, 1,3,5-tris(mercaptomethyl)benzene, 1,2,3-tris(mercaptoethyl)benzene, 1,2,4-tris(mercaptoethyl)benzene, 1,3,5-tris(mercaptoethyl)benzene, 1,2,3-tris(mercaptomethyleneoxy)benzene, 1,2,4-tris(mercaptomethyleneoxy)benzene, 1,3,5-tris(mercaptomethyleneoxy)benzene, 1,2,3-tris(mercaptoethyleneoxy)benzene, 1,2,4-tris(mercaptoethyleneoxy)benzene, 1,3,5-tris(mercaptoethyleneoxy)benzene, 1,2,3,4-tetramercaptobenzene, 1,2,3,5-tetramercaptobenzene, 1, 2,4,5-tetramercaptobenzene, 1,2,3,4-tetrakis(mercaptomethyl)benzene, 1,2,3,5-tetrakis(mercaptomethyl)benzene, 1,2,4,5-tetrakis(mercaptomethyl)benzene, 1,2,3,4-tetrakis(mercaptoethyl)benzene, 1,2,3,5-tetrakis(mercaptoethyl)benzene, 1,2,4,5-tetrakis(mercaptoethyl)benzene, 1,2,3,4-tetrakis(mercaptomethyleneoxy)benzene, 1,2,3,5-tetrakis(mercaptomethyleneoxy)benzene, 1,2,3,4-tetrakis(mercaptoethyleneoxy)benzene, 1,2,3,5-tetrakis(mercaptoethyleneoxy)benzene, 1,2,4,5-tetrakis(mercapto ethyleneoxy)benzene, 2,2'-dimercaptobiphenyl, 4,4'-thiobis-benzenethiol, 4,4'-dimercaptobiphenyl, 4,4'-dimercaptobibenzyl, 2,5-toluenedithiol, 3,4-toluenedithiol, 1,4-naphthalenedithiol, 1,5-naphthalenedithiol, 2,6-naphthalenedithiol, 2,7-naphthalenedithiol, 2,4-dimethylbenzene-1,3-dithiol, 4,5-dimethylbenzene-1,3-dithiol, 9,10-anthracenedimethanethiol, 1,3-di(p-methoxyphenyl)propane-2,2-dithiol, 1,3-diphenylpropane-2,2-dithiol, phenylmethane-1,1-dithiol, 2,4-di(p-mercaptophenyl)pentane, aromatic polythiols such as bis(4-mercaptophenyl)sulfide;
halogen-substituted aromatic polythiols such as chlorine-substituted aromatic polythiols and bromine-substituted aromatic polythiols, such as 2,5-dichlorobenzene-1,3-dithiol, 1,3-di(p-chlorophenyl)propane-2,2-dithiol, 3,4,5-tribromo-1,2-dimercaptobenzene, and 2,3,4,6-tetrachloro-1,5-bis(mercaptomethyl)benzene;
Heterocycle-containing polythiols such as 2-methylamino-4,6-dithiol-sym-triazine, 2-ethylamino-4,6-dithiol-sym-triazine, 2-amino-4,6-dithiol-sym-triazine, 2-morpholino-4,6-dithiol-sym-triazine, 2-cyclohexylamino-4,6-dithiol-sym-triazine, 2-methoxy-4,6-dithiol-sym-triazine, 2-phenoxy-4,6-dithiol-sym-triazine, 2-thiobenzeneoxy-4,6-dithiol-sym-triazine, 2-thiobutyloxy-4,6-dithiol-sym-triazine, 3,4-thiophenedithiol, and bismuthiol;
1,2-bis(mercaptomethylthio)benzene, 1,3-bis(mercaptomethylthio)benzene, 1,4-bis(mercaptomethylthio)benzene, 1,2-bis(mercaptoethylthio)benzene, 1,3-bis(mercaptoethylthio)benzene, 1,4-bis(mercaptoethylthio)benzene, 1,2,3-tris(mercaptomethylthio)benzene, 1,2,4-tris(mercaptomethylthio)benzene, 1,3,5-tris(mercaptomethylthio)benzene, 1,2,3-tris(mercaptoethylthio)benzene, 1,2,4-tris(mercaptomethylthio)benzene, Polythiols derived from nuclear alkylation products of aromatic compounds such as tris(mercaptoethylthio)benzene, 1,3,5-tris(mercaptoethylthio)benzene, 1,2,3,4-tetrakis(mercaptomethylthio)benzene, 1,2,3,5-tetrakis(mercaptomethylthio)benzene, 1,2,4,5-tetrakis(mercaptomethylthio)benzene, 1,2,3,4-tetrakis(mercaptoethylthio)benzene, 1,2,3,5-tetrakis(mercaptoethylthio)benzene, and 1,2,4,5-tetrakis(mercaptoethylthio)benzene;
bis(mercaptomethyl)sulfide, bis(mercaptoethyl)sulfide, bis(mercaptopropyl)sulfide, bis(mercaptomethylthio)methane, bis(2-mercaptoethylthio)methane, bis(3-mercaptopropylthio)methane, 1,2-bis(mercaptomethylthio)ethane, 1,2-bis(2-mercaptoethylthio)ethane, 1,2-bis(3-mercaptopropyl)ethane, 1,3-bis(mercaptomethylthio)propane, 1,3-bis(2-mercaptoethylthio)propane, 1,3-bis(3-mercaptopropylthio)propane, 1,2,3-tris(mercaptomethylthio)propane, Aliphatic polythiols such as 1,2,3-tris(2-mercaptoethylthio)propane, 1,2,3-tris(3-mercaptopropylthio)propane, tetrakis(mercaptomethylthiomethyl)methane, tetrakis(2-mercaptoethylthiomethyl)methane, tetrakis(3-mercaptopropylthiomethyl)methane, bis(2,3-dimercaptopropyl)sulfide, 2,5-dimercapto-1,4-dithiane, bis(mercaptomethyl)disulfide, bis(mercaptoethyl)disulfide, bis(mercaptopropyl)disulfide, and thioglycolic acid esters and mercaptopropionic acid esters thereof;
Hydroxymethyl sulfide bis(2-mercaptoacetate), hydroxymethyl sulfide bis(3-mercaptopropionate), hydroxyethyl sulfide bis(2-mercaptoacetate), hydroxyethyl sulfide bis(3-mercaptopropionate), hydroxypropyl sulfide bis(2-mercaptoacetate), hydroxypropyl sulfide bis(3-mercaptopropionate), hydroxymethyl disulfide bis(2-mercaptoacetate), hydroxymethyl disulfide bis(3-mercaptopropionate), hydroxyethyl disulfide bis(2-mercaptoacetate), hydroxyethyl disulfide bis(3-mercaptopropionate), hydroxypropyl disulfide bis(2-mercaptoacetate), hydroxypropyl disulfide bis(3-mercaptopropionate), 2-mercaptoethyl ether bis(2-mercaptoacetate), 2-mercaptoethyl esters of aliphatic polythiols such as thiodiethyl ether bis(3-mercaptopropionate), 1,4-dithiane-2,5-diol bis(2-mercaptoacetate), 1,4-dithiane-2,5-diol bis(3-mercaptopropionate), thiodiglycolic acid bis(2-mercaptoethyl ester), thiodipropionic acid bis(2-mercaptoethyl ester), 4,4-thiodibutyric acid bis(2-mercaptoethyl ester), dithioglycolic acid bis(2-mercaptoethyl ester), dithiodipropionic acid bis(2-mercaptoethyl ester), 4,4-dithiodibutyric acid bis(2-mercaptoethyl ester), thiodiglycolic acid bis(2,3-dimercaptopropyl ester), thiodipropionic acid bis(2,3-dimercaptopropyl ester), dithioglycolic acid bis(2,3-dimercaptopropyl ester), dithiodipropionic acid bis(2,3-dimercaptopropyl ester);
2-mercaptoethanol, 3-mercapto-1,2-propanediol, glycerin di(mercaptoacetate), 1-hydroxy-4-mercaptocyclohexane, 2,4-dimercaptophenol, 2-mercaptohydroquinone, 4-mercaptophenol, 3,4-dimercapto-2-propanol, 1,3-dimercapto-2-propanol, 2,3-dimercapto-1-propanol, 1,2-dimercapto-1,3-butanediol, pentaerythritol tris(3-mercaptopropionate), pentaerythritol mono(3-mercaptopropionate), pentaerythritol bis(3-mercaptopropionate), pentaerythritol tris(thioglycolate), pentaerythritol Polythiols such as rupentakis (3-mercaptopropionate), hydroxymethyl-tris (mercaptoethylthiomethyl) methane, 1-hydroxyethylthio-3-mercaptoethylthiobenzene, 4-hydroxy-4'-mercaptodiphenyl sulfone, 2- (2-mercaptoethylthio) ethanol, dihydroxyethyl sulfide mono (3-mercaptopropionate), dimercaptoethane mono (saltylate), hydroxyethylthiomethyl-tris (mercaptoethylthiomethyl) methane, 2,2'- ((3-mercaptopropane-1,2-diyl) bis (sulfanediyl)) bis (ethane-1-thiol), 3,3'-thiobis (2- ((2-mercaptoethyl) thio) propane-1-thiol);
Examples include:
Further examples include halogen-substituted products such as chlorine-substituted and bromine-substituted products of these.

(化合物(B))
本実施形態の有機EL表示素子用封止材は、化合物(B)をさらに含んでもよい。化合物(B)は(メタ)アクリル基含有化合物(但し上記化合物(A)を除く。)である。
ここで、本明細書において、(メタ)アクリロイル基とは、アクリロイル基とメタクリロイル基のうちの少なくとも一方を意味する。また、(メタ)アクリルとは、アクリルまたはメタクリルのうちの少なくとも一方を意味する。また、(メタ)アクリレートとは、アクリレートとメタクリレートのうちの少なくとも一方を意味する。
(Compound (B))
The sealing material for an organic EL display element of the present embodiment may further contain a compound (B). The compound (B) is a (meth)acrylic group-containing compound (excluding the above-mentioned compound (A)).
In this specification, the term "(meth)acryloyl group" refers to at least one of an acryloyl group and a methacryloyl group, the term "(meth)acrylic" refers to at least one of an acrylic group and a methacrylic group, and the term "(meth)acrylate" refers to at least one of an acrylate group and a methacrylate group.

(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリル化合物の具体例として、1官能のモノ(メタ)アクリル化合物、2官能のジ(メタ)アクリル化合物、3官能以上の多官能(メタ)アクリル化合物が挙げられる。 Specific examples of (meth)acrylic compounds having a (meth)acryloyl group include monofunctional mono(meth)acrylic compounds, difunctional di(meth)acrylic compounds, and trifunctional or higher polyfunctional (meth)acrylic compounds.

モノ(メタ)アクリル化合物の具体例としては、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、3,3,5-トリメチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、4-ターシャルブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレ-ト、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t-ブチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2-メトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、2-エトキシエチル(メタ)アクリレート、3-メトキシブチル(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシジキシルエチル(メタ)アクリレート、エチルジグリコール(メタ)アクリレート、環状トリメチロールプロパンフォルマルモノ(メタ)アクリレート、イミド(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、エトキシ化コハク酸(メタ)アクリレート、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、ω-カルボキシポリカプロラクトンモノ(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2-(2-エトキシエトキシ)エチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、オクチル/デシル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、カプロラクトン(メタ)アクリレート、エトキシ化(4)ノニルフェノール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(350)モノ(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(550)モノ(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、メチルフェノキシエチル(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、トリブロモフェニル(メタ)アクリレート、エトキシ化トリブロモフェニル(メタ)アクリレート、2-フェノキシエチル(メタ)アクリレート、2-フェノキシエチル(メタ)アクリレートのエチレンオキサイド付加物、2-フェノキシエチル(メタ)アクリレートのプロピレンオキサイド付加物、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、3-メタクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、及び3-(メタ)アクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド等が挙げられる。
また、モノ(メタ)アクリル化合物の具体的な製品名および入手先としては、エトキシ化オルトフェニルフェノールアクリレート(NKエステルA-LEN-10、新中村化学工業社製)、m-フェノキシベンジルアクリレート(ライトアクリレートPOB-A、共栄社化学社製)等が挙げられる。
Specific examples of mono(meth)acrylic compounds include isobornyl(meth)acrylate, dicyclopentanyl(meth)acrylate, 3,3,5-trimethylcyclohexyl(meth)acrylate, 4-tertiarybutylcyclohexyl(meth)acrylate, dicyclopentenyloxyethyl(meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl(meth)acrylate, 2-hydroxyethyl(meth)acrylate, 4-hydroxybutyl(meth)acrylate, isobutyl(meth)acrylate, t-butyl(meth)acrylate, isooctyl(meth)acrylate, 2-methoxyethyl(meth)acrylate, methoxytriethylene glycol(meth)acrylate, 2-ethoxyethyl(meth)acrylate, (meth)acrylate, 3-methoxybutyl (meth)acrylate, ethoxyethyl (meth)acrylate, butoxyethyl (meth)acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth)acrylate, methoxydixylethyl (meth)acrylate, ethyl diglycol (meth)acrylate, cyclic trimethylolpropane formal mono (meth)acrylate, imide (meth)acrylate, isoamyl (meth)acrylate, ethoxylated succinic acid (meth)acrylate, trifluoroethyl (meth)acrylate, ω-carboxypolycaprolactone mono (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl (meth)acrylate, stearyl alcohol, aryl (meth)acrylate, diethylene glycol monobutyl ether (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, isodecyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, octyl/decyl (meth)acrylate, tridecyl (meth)acrylate, caprolactone (meth)acrylate, ethoxylated (4) nonylphenol (meth)acrylate, methoxypolyethylene glycol (350) mono(meth)acrylate, methoxypolyethylene glycol (550) mono(meth)acrylate, phenoxyethyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, Examples of the acrylates include methylphenoxyethyl (meth)acrylate, caprolactone-modified tetrahydrofurfuryl (meth)acrylate, tribromophenyl (meth)acrylate, ethoxylated tribromophenyl (meth)acrylate, 2-phenoxyethyl (meth)acrylate, an ethylene oxide adduct of 2-phenoxyethyl (meth)acrylate, a propylene oxide adduct of 2-phenoxyethyl (meth)acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth)acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth)acrylate, 3-methacryloyloxymethylcyclohexene oxide, and 3-(meth)acryloyloxymethylcyclohexene oxide.
Specific product names and sources of mono(meth)acrylic compounds include ethoxylated orthophenylphenol acrylate (NK Ester A-LEN-10, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), m-phenoxybenzyl acrylate (Light Acrylate POB-A, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), and the like.

ジ(メタ)アクリル化合物の具体例としては、ジオールのジ(メタ)アクリレート、(ポリ)アルキレングリコールのジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
また、ジ(メタ)アクリル化合物の具体的な製品名および入手先としては、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート(NKエステルA-HD-N、新中村化学工業社製;ライトアクリレート1,6HX-A、共栄社化学社製)、1,9-ノナンジオールジアクリレート(NKエステルA-NOD-N、新中村化学工業社製;ライトアクリレート1,9ND-A、共栄社化学社製)、1,10-デカンジオールジアクリレート(NKエステルA-DOD-N、新中村化学工業社製)、ネオペンチルグリコールジアクリレート(NKエステルA-NPG、新中村化学工業社製;ライトアクリレートNP-A、共栄社化学社製)、エチレングリコールジアクリレート(SR206NS、アルケマ社製)、ポリエチレングリコールジアクリレート(NKエステルA-400、新中村化学工業社製)、ポリプロピレングリコールジアクリレート(NKエステルAPG-400、新中村化学工業社製)、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート(別名:ジメチロール-トリシクロデカンジアクリレート)(NKエステルA-DCP、新中村化学工業社製;ライトアクリレートDCP-A、共栄社化学社製)、1,3-ブタンジオールジメタクリレート(NKエステルBG、新中村化学工業社製)、1,4-ブタンジオールジメタクリレート(NKエステルBD、新中村化学工業社製)、1,6-ヘキサンジオールジメタクリレート(NKエステルHD-N、新中村化学工業社製)、1,9-ノナンジオールジメタクリレート(NKエステルNOD-N、新中村化学工業社製)、1,10-デカンジオールジメタクリレート(NKエステルDOD-N、新中村化学工業社製)、1,12-ドデカンジオールジアクリレート(SR262、サートマー社製)ネオペンチルグリコールジメタクリレート(NKエステルNPG、新中村化学工業社製)等が挙げられる。
Specific examples of the di(meth)acrylic compound include di(meth)acrylates of diols and di(meth)acrylates of (poly)alkylene glycols.
Specific product names and sources of di(meth)acrylic compounds include 1,6-hexanediol diacrylate (NK Ester A-HD-N, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.; Light Acrylate 1,6HX-A, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), 1,9-nonanediol diacrylate (NK Ester A-NOD-N, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.; Light Acrylate 1,9ND-A, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), 1,10-decanediol diacrylate (NK Ester A-DOD-N, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), neopentyl glycol diacrylate (NK Ester A-NPG, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.; Light Acrylate NP-A, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), ethylene glycol diacrylate (SR206NS, manufactured by Arkema), polyethylene glycol diacrylate (NK Ester A-400, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), polypropylene glycol diacrylate (NK Ester APG-400, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), tricyclodecane dimethanol diacrylate (also known as dimethylol-tricyclodecane diacrylate) (NK Ester A-DCP, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.; Light Acrylate DCP-A, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), 1,3-butanediol dimethacrylate (NK Ester BG, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), 1,4-butanediol dimethacrylate (NK Ester BD, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), 1,6-hexanediol dimethacrylate acrylate (NK Ester HD-N, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), 1,9-nonanediol dimethacrylate (NK Ester NOD-N, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), 1,10-decanediol dimethacrylate (NK Ester DOD-N, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), 1,12-dodecanediol diacrylate (SR262, manufactured by Sartomer Corporation), neopentyl glycol dimethacrylate (NK Ester NPG, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), and the like.

多官能(メタ)アクリル化合物の具体的な製品名および入手先としては、
トリメチロールプロパントリアクリレート(NKエステルA-TMPT、新中村化学工業社製;ライトアクリレートTMP-A、共栄社化学社製)、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート(NKエステルA-TMPT-EO、新中村化学工業社製)、エトキシ化グリセリントリアクリレート(NKエステルA-GLY-6E、新中村化学工業社製)、プロポキシ化グリセリントリアクリレート(NKエステルA-GLY-3P、新中村化学工業社製)等の3官能(メタ)アクリル化合物;
ペンタエリスリトールテトラアクリレート(NKエステルA-TMMT、新中村化学工業社製)、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート(NKエステルATM-4E、新中村化学工業社製)、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート(NKエステルAD-TMP-L、新中村化学工業社製)等の4官能(メタ)アクリル化合物;
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(M-402、東亞合成社製)等の5官能(メタ)アクリル化合物;
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(GM66G0H、國精化學社製)等の官能(メタ)アクリル化合物;
等が挙げられる。
Specific product names and sources of polyfunctional (meth)acrylic compounds are as follows:
trifunctional (meth)acrylic compounds such as trimethylolpropane triacrylate (NK ESTER A-TMPT, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.; Light Acrylate TMP-A, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), ethoxylated trimethylolpropane triacrylate (NK ESTER A-TMPT-EO, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), ethoxylated glycerin triacrylate (NK ESTER A-GLY-6E, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), and propoxylated glycerin triacrylate (NK ESTER A-GLY-3P, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.);
tetrafunctional (meth)acrylic compounds such as pentaerythritol tetraacrylate (NK Ester A-TMMT, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), ethoxylated pentaerythritol tetraacrylate (NK Ester ATM-4E, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), and ditrimethylolpropane tetraacrylate (NK Ester AD-TMP-L, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.);
Pentafunctional (meth)acrylic compounds such as dipentaerythritol pentaacrylate (M-402, manufactured by Toagosei Co., Ltd.);
hexafunctional (meth)acrylic compounds such as dipentaerythritol hexaacrylate (GM66G0H, manufactured by Kokusei Chemical Industry Co., Ltd.);
etc.

封止材の硬化物の屈折率を大きくさせる観点から、化合物(B)が、置換されてもよい芳香族基をさらに有する化合物であることが好ましい。化合物(B)における置換されてもよい芳香族基の具体例としては、上記において一般式(3)で表されるチオール化合物として例示した化合物由来の基のうち、置換されてもよい芳香族基であるものを適用することができる。From the viewpoint of increasing the refractive index of the cured product of the sealing material, it is preferable that compound (B) is a compound further having an aromatic group which may be substituted. Specific examples of the aromatic group which may be substituted in compound (B) include those derived from the compounds exemplified above as the thiol compound represented by general formula (3), which are aromatic groups which may be substituted.

封止材の硬化物の強度を大きくする観点から、化合物(A)と化合物(B)の合計量は、本実施形態の封止材の全組成に対し、好ましくは70質量%以上であり、より好ましくは90質量%以上、さらに好ましくは95質量%以上、さらにより好ましくは99質量%以上である。From the viewpoint of increasing the strength of the cured product of the sealing material, the total amount of compound (A) and compound (B) is preferably 70 mass% or more, more preferably 90 mass% or more, even more preferably 95 mass% or more, and even more preferably 99 mass% or more, based on the total composition of the sealing material of this embodiment.

化合物(A)と化合物(B)の合計100質量部に対し、化合物(A)は好ましくは50質量部以上100質量部以下であり、さらに好ましくは60質量部以上100質量部以下である。
また、化合物(A)と化合物(B)の合計100質量部に対し、化合物(A)を、例えば70質量部以上100質量部以下、80質量部以上100質量部以下とすることもできる。
The amount of compound (A) is preferably 50 parts by mass or more and 100 parts by mass or less, and more preferably 60 parts by mass or more and 100 parts by mass or less, relative to 100 parts by mass of the total of compound (A) and compound (B).
Furthermore, the amount of compound (A) can be, for example, 70 parts by mass or more and 100 parts by mass or less, or 80 parts by mass or more and 100 parts by mass or less, relative to 100 parts by mass in total of compound (A) and compound (B).

化合物(A)と化合物(B)の合計100質量部に対し、化合物(B)は好ましくは0質量部以上で50質量部以下であり、さらに好ましくは0質量部以上40質量部以下である。
また、化合物(A)と化合物(B)の合計100質量部に対し、化合物(B)を、例えば0質量部以上30質量部以下、例えば0質量部以上20質量部以下とすることもできる。
The amount of compound (B) is preferably 0 parts by mass or more and 50 parts by mass or less, and more preferably 0 parts by mass or more and 40 parts by mass or less, relative to 100 parts by mass in total of compound (A) and compound (B).
Further, the amount of compound (B) can be, for example, 0 parts by mass or more and 30 parts by mass or less, for example, 0 parts by mass or more and 20 parts by mass or less, relative to 100 parts by mass in total of compound (A) and compound (B).

(重合開始剤)
本実施形態の封止材は重合開始剤をさらに含んでもよい。低温で安定的に硬化物を形成する観点から、重合開始剤は、好ましくは、紫外線または可視光線の照射によりラジカルまたは酸を発生する化合物である光重合開始剤である。
光重合開始剤としては、アシルフォスフィンオキサイド系開始剤、オキシフェニル酢酸エステル系開始剤、ベンゾイルギ酸系開始剤およびヒドロキシフェニルケトン系開始剤等が挙げられる。
(Polymerization initiator)
The sealing material of the present embodiment may further include a polymerization initiator. From the viewpoint of stably forming a cured product at low temperatures, the polymerization initiator is preferably a photopolymerization initiator, which is a compound that generates radicals or acids when irradiated with ultraviolet rays or visible light.
Examples of the photopolymerization initiator include acylphosphine oxide initiators, oxyphenylacetic acid ester initiators, benzoylformic acid initiators, and hydroxyphenyl ketone initiators.

光重合開始剤の具体例としては、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、4,4'-ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、キサントン、チオキサントン、イソプロピルキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2-エチルアントラキノン、アセトフェノン、2-ヒドロキシ-2-メチル-4'-イソプロピルプロピオフェノン、イソプロピルベンゾインエーテル、イソブチルベンゾインエーテル、2,2-ジエトキシアセトフェノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、カンファーキノン、ベンズアントロン、4-ジメチルアミノ安息香酸エチル、4-ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、4,4'-ジ(t-ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,4,4'-トリ(t-ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3',4,4'-テトラ(t-ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3',4,4'-テトラ(t-ヘキシルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3'-ジ(メトキシカルボニル)-4,4'-ジ(t-ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,4'-ジ(メトキシカルボニル)-4,3'-ジ(t-ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、4,4'-ジ(メトキシカルボニル)-3,3'-ジ(t-ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、2-(4'-メトキシスチリル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(3',4'-ジメトキシスチリル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(2',4'-ジメトキシスチリル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(2'-メトキシスチリル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、2-(4'-ペンチルオキシスチリル)-4,6-ビス(トリクロロメチル)-s-トリアジン、4-[p-N,N-ジ(エトキシカルボニルメチル)]-2,6-ジ(トリクロロメチル)-s-トリアジン、1,3-ビス(トリクロロメチル)-5-(2'-クロロフェニル)-s-トリアジン、1,3-ビス(トリクロロメチル)-5-(4'-メトキシフェニル)-s-トリアジン、2-(p-ジメチルアミノスチリル)ベンズオキサゾール、2-(p-ジメチルアミノスチリル)ベンズチアゾール、2-メルカプトベンゾチアゾール、3,3'-カルボニルビス(7-ジエチルアミノクマリン)、2-(o-クロロフェニル)-4,4',5,5'-テトラフェニル-1,2'-ビイミダゾール、2,2'-ビス(2-クロロフェニル)-4,4',5,5'-テトラキス(4-エトキシカルボニルフェニル)-1,2'-ビイミダゾール、2,2'-ビス(2,4-ジクロロフェニル)-4,4',5,5'-テトラフェニル-1,2'-ビイミダゾール、2,2'-ビス(2,4-ジブロモフェニル)-4,4',5,5'-テトラフェニル-1,2'-ビイミダゾール、2,2'-ビス(2,4,6-トリクロロフェニル)-4,4',5,5'-テトラフェニル-1,2'-ビイミダゾール、3-(2-メチル-2-ジメチルアミノプロピオニル)カルバゾール、3,6-ビス(2-メチル-2-モルフォリノプロピオニル)-9-n-ドデシルカルバゾール、ビス(η5-2,4-シクロペンタジエン-1-イル)-ビス(2,6-ジフルオロ-3-(1H-ピロール-1-イル)-フェニル)チタニウム、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-1-プロパノン、1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)-フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパノン、2-ヒドロキシ-1-{4-[4-(2-ヒドロキシ-2-メチル-プロピオニル)-ベンジル]フェニル}-2-メチル-1-プロパノン、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルホリノ-1-プロパノン、2-(ジメチルアミノ)-1-(4-モルホリノフェニル)-2-ベンジル-1-ブタノン、2-(ジメチルアミノ)-2-[(4-メチルフェニル)メチル]-1-[4-(4-モルホリニル)フェニル]-1-ブタノン、オキシ-フェニル-酢酸2-[2-オキソ-2-フェニル-アセトキシ-エトキシ]-エチルエステル、オキシ-フェニル-酢酸2-[2-ヒドロキシ-エトキシ]-エチルエステル、ベンゾイルギ酸メチル、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフィンオキサイド、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィン酸エステル、1-[4-(フェニルチオ)フェニル]-1,2-オクタンジオン2-(O-ベンゾイルオキシム)、1-[9-エチル-6-(2-メチルベンゾイル)-9H-カルバゾール-3-イル]-エタノン-1-(O-アセチルオキシム)等を挙げることができる。 Specific examples of photopolymerization initiators include benzophenone, Michler's ketone, 4,4'-bis(diethylamino)benzophenone, xanthone, thioxanthone, isopropylxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-ethylanthraquinone, acetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-4'-isopropylpropiophenone, isopropyl benzoin ether, isobutyl benzoin ether, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, camphorquinone, benzanthrone, and 4-dimethylaminobenzoic acid ether. ethyl, 4-dimethylaminobenzoate isoamyl, 4,4'-di(t-butylperoxycarbonyl)benzophenone, 3,4,4'-tri(t-butylperoxycarbonyl)benzophenone, 3,3',4,4'-tetra(t-butylperoxycarbonyl)benzophenone, 3,3',4,4'-tetra(t-hexylperoxycarbonyl)benzophenone, 3,3'-di(methoxycarbonyl)-4,4'-di(t-butylperoxycarbonyl)benzophenone, 3,4'-di(methoxycarbonyl)-4,3'-di(t-butylperoxycarbonyl)benzphenone benzophenone, 4,4'-di(methoxycarbonyl)-3,3'-di(t-butylperoxycarbonyl)benzophenone, 2-(4'-methoxystyryl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(3',4'-dimethoxystyryl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(2',4'-dimethoxystyryl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(2'-methoxystyryl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, 2-(4'-pentyloxystyryl)-4,6-bis(trichloromethyl)-s-triazine, trichloromethyl)-s-triazine, 4-[p-N,N-di(ethoxycarbonylmethyl)]-2,6-di(trichloromethyl)-s-triazine, 1,3-bis(trichloromethyl)-5-(2'-chlorophenyl)-s-triazine, 1,3-bis(trichloromethyl)-5-(4'-methoxyphenyl)-s-triazine, 2-(p-dimethylaminostyryl)benzoxazole, 2-(p-dimethylaminostyryl)benzthiazole, 2-mercaptobenzothiazole, 3,3'-carbonylbis(7-diethylaminocoumarin), 2-(o-chlorophenoxy ...2-(o-chlorophenoxy)-s-triazine, 2-(p-dimethylaminostyryl)benzoxazole, 2-(p-dimethylaminostyryl)benzthiazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-(o-chlorophenoxy)-s-triazine, 2-(p-dimethylaminostyryl)benzoxazole, 2-(p-dimethylaminostyryl)benzthiazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-(o 2,2'-bis(2-chlorophenyl)-4,4',5,5'-tetrakis(4-ethoxycarbonylphenyl)-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis(2,4-dichlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis(2,4-dibromophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis(2,4,6-trichlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole Imidazole, 3-(2-methyl-2-dimethylaminopropionyl)carbazole, 3,6-bis(2-methyl-2-morpholinopropionyl)-9-n-dodecylcarbazole, bis(η5-2,4-cyclopentadiene-1-yl)-bis(2,6-difluoro-3-(1H-pyrrol-1-yl)-phenyl)titanium, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-1-propanone, 1-[4-(2-hydroxyethoxy)-phenyl]-2-hydroxy-2-methyl-1-propanone, 2-hydroxy -1-{4-[4-(2-hydroxy-2-methyl-propionyl)-benzyl]phenyl}-2-methyl-1-propanone, 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholino-1-propanone, 2-(dimethylamino)-1-(4-morpholinophenyl)-2-benzyl-1-butanone, 2-(dimethylamino)-2-[(4-methylphenyl)methyl]-1-[4-(4-morpholinyl)phenyl]-1-butanone, oxy-phenyl-acetic acid 2-[2-oxo-2-phenyl-acetoxy-ethoxy]-ethyl ester, oxy-phenyl-acetic acid Acid 2-[2-hydroxy-ethoxy]-ethyl ester, methyl benzoylformate, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphinic acid ester, 1-[4-(phenylthio)phenyl]-1,2-octanedione 2-(O-benzoyloxime), 1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)-9H-carbazol-3-yl]-ethanone-1-(O-acetyloxime), and the like can be mentioned.

封止材の硬化性を向上させる観点から、光重合開始剤は、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-1-プロパノン、1-[4-(2-ヒドロキシエトキシ)-フェニル]-2-ヒドロキシ-2-メチル-1-プロパノン、2-ヒドロキシ-1-{4-[4-(2-ヒドロキシ-2-メチル-プロピオニル)-ベンジル]フェニル}-2-メチル-1-プロパノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、オキシ-フェニル-酢酸2-[2-オキソ-2-フェニル-アセトキシ-エトキシ]-エチルエステル、オキシ-フェニル-酢酸2-[2-ヒドロキシ-エトキシ]-エチルエステル、ベンゾイルギ酸メチル、ビス(2,4,6-トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフィンオキサイド、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド(TPO)、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィン酸エステルから成る群から選択される1または2以上の化合物であることが好ましい。 In order to improve the curing properties of the sealing material, the photopolymerization initiator is 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-1-propanone, 1-[4-(2-hydroxyethoxy)-phenyl]-2-hydroxy-2-methyl-1-propanone, 2-hydroxy-1-{4-[4-(2-hydroxy-2-methyl-propionyl)-benzyl]phenyl}-2-methyl-1-propanone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, oxy-phenyl-acetic acid. It is preferable that the compound is one or more compounds selected from the group consisting of 2-[2-oxo-2-phenyl-acetoxy-ethoxy]-ethyl ester, oxy-phenyl-acetic acid 2-[2-hydroxy-ethoxy]-ethyl ester, methyl benzoylformate, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)phenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide (TPO), and 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphinic acid ester.

光重合開始剤の具体的な製品名および入手先としては、Irgacure184、Irgacure651、Irgacure127、Irgacure1173、Irgacure500、Irgacure2959、Irgacure754、IrgacureMBF、IrgacureTPO(以上、BASF社製)、Omnirad TPO H(IGM Resins社製)等が挙げられる。Specific product names and sources of photopolymerization initiators include Irgacure 184, Irgacure 651, Irgacure 127, Irgacure 1173, Irgacure 500, Irgacure 2959, Irgacure 754, Irgacure MBF, Irgacure TPO (all manufactured by BASF), Omnirad TPO H (manufactured by IGM Resins), etc.

封止材の硬化性を向上させる観点から、重合開始剤の含有量は、封止材の全組成に対し、好ましくは0.1質量%以上であり、より好ましくは0.5質量%以上、さらに好ましくは1質量%以上、さらにより好ましくは2質量%以上である。From the viewpoint of improving the curing properties of the sealing material, the content of the polymerization initiator is preferably 0.1 mass% or more, more preferably 0.5 mass% or more, even more preferably 1 mass% or more, and even more preferably 2 mass% or more, based on the total composition of the sealing material.

また、封止材の着色を抑制する観点から、重合開始剤の含有量は、封止材の全組成に対し、好ましくは10質量%以下であり、より好ましくは8質量%以下、さらに好ましくは6質量%以下、さらにより好ましくは5質量%以下である。In addition, from the viewpoint of suppressing discoloration of the sealing material, the content of the polymerization initiator is preferably 10 mass% or less, more preferably 8 mass% or less, even more preferably 6 mass% or less, and even more preferably 5 mass% or less, relative to the total composition of the sealing material.

(その他の成分)
本実施形態の封止材は、上記以外の成分(その他の成分)として、粘着付与剤、充填剤、硬化促進剤、可塑剤、界面活性剤、熱安定剤、酸化防止剤、難燃剤、帯電防止剤、消泡剤、レベリング剤および紫外線吸収剤からなる群から選択される1または2以上の成分を含んでいてもよい。
その他の成分の含有量は、封止材の全組成に対し、好ましくは5質量%以下であり、より好ましくは1質量%以下である。
(Other ingredients)
The encapsulant of the present embodiment may contain, as components other than those described above (other components), one or more components selected from the group consisting of a tackifier, a filler, a curing accelerator, a plasticizer, a surfactant, a heat stabilizer, an antioxidant, a flame retardant, an antistatic agent, an antifoaming agent, a leveling agent, and an ultraviolet absorber.
The content of the other components is preferably 5 mass % or less, and more preferably 1 mass % or less, based on the total composition of the encapsulant.

封止材の熱安定性を向上させる観点から、封止材は熱安定剤を含有することが好ましい。
熱安定剤としてはヒンダードフェノール化合物を用いることができる。
ヒンダードフェノール化合物としては、ジブチルヒドロキシトルエン(別名:2,6-ビス(1,1-ジメチルエチル)-4-メチルフェノール)(製品名BHT、和光純薬社製)、3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシトルエン、ペンタエリトリトール-テトラキス[3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート](製品名IRGANOX1010、BASF社製;製品名アデカスタブAO-60、ADEKA社製)、オクタデシル-3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート(製品名IRGANOX1076、BASF社製)などが挙げられる。
封止材の熱安定性をより向上させる観点から、封止材は熱安定剤としてジブチルヒドロキシトルエンおよびペンタエリトリトールテトラキス[3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート]の少なくとも1つを含有することが好ましい。
From the viewpoint of improving the thermal stability of the encapsulating material, the encapsulating material preferably contains a thermal stabilizer.
As the heat stabilizer, a hindered phenol compound can be used.
Examples of the hindered phenol compound include dibutylhydroxytoluene (also known as 2,6-bis(1,1-dimethylethyl)-4-methylphenol) (product name BHT, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 3,5-di-tert-butyl-4-hydroxytoluene, pentaerythritol-tetrakis[3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate] (product name IRGANOX1010, manufactured by BASF; product name Adeka STAB AO-60, manufactured by ADEKA Corporation), and octadecyl-3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate (product name IRGANOX1076, manufactured by BASF Corporation).
From the viewpoint of further improving the thermal stability of the sealing material, the sealing material preferably contains at least one of dibutylhydroxytoluene and pentaerythritol tetrakis[3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate] as a thermal stabilizer.

酸化防止剤としては、リン系酸化防止剤を用いることができる。
リン系酸化防止剤としては、亜リン酸エステルが挙げられ、例えば、2,2-メチレンビス(4,6-ジt-ブチルフェニル)オクチルホスファイト(製品名アデカスタブHP-10、ADEKA社製)、トリス(2,4-ジt-ブチルフェニル)ホスファイト(製品名IRGAFOS168、BASF社製)などが挙げられる。
As the antioxidant, a phosphorus-based antioxidant can be used.
Examples of the phosphorus-based antioxidant include phosphite esters, such as 2,2-methylenebis(4,6-di-t-butylphenyl)octylphosphite (product name: Adeka STAB HP-10, manufactured by ADEKA CORPORATION) and tris(2,4-di-t-butylphenyl)phosphite (product name: IRGAFOS168, manufactured by BASF Corporation).

(封止材の特性)
本実施形態の封止材の性状は限定されないが、インクジェット法等の塗布に好適であるという観点から、好ましくは液状である。
(Characteristics of sealing material)
The properties of the sealing material of the present embodiment are not limited, but it is preferably liquid from the viewpoint of suitability for application by an inkjet method or the like.

また、実施形態において、封止層を安定的に形成する観点から、封止材は、好ましくは塗布に用いられる封止材であり、より好ましくはインクジェット法による塗布に用いられる封止材である。 In addition, in an embodiment, from the viewpoint of stably forming a sealing layer, the sealing material is preferably a sealing material used for application, and more preferably a sealing material used for application by an inkjet method.

E型粘度計を用いて25℃、20rpmにて測定される封止材の粘度は、インクジェット吐出性向上の観点から、好ましくは5mPa・s以上であり、より好ましくは8mPa・s以上、さらに好ましくは10mPa・s以上である。
また、インクジェット吐出性向上の観点から、上記封止材の粘度は、好ましくは50mPa・s以下であり、より好ましくは40mPa・s以下、さらに好ましくは30mPa・s以下である。
The viscosity of the sealing material measured at 25° C. and 20 rpm using an E-type viscometer is preferably 5 mPa·s or more, more preferably 8 mPa·s or more, and even more preferably 10 mPa·s or more, from the viewpoint of improving inkjet ejection properties.
From the viewpoint of improving the inkjet ejection properties, the viscosity of the sealing material is preferably 50 mPa·s or less, more preferably 40 mPa·s or less, and further preferably 30 mPa·s or less.

(封止材の製造方法)
封止材の製造方法を説明する。封止材の製造方法は限定されず、たとえば、化合物(A)、および、適宜化合物(B)、その他の成分、たとえば必要に応じて添加する各種添加剤を混合することを含む。
各成分を混合する方法として、たとえば、遊星式撹拌装置、ホモディスパー、万能ミキサー、バンバリーミキサー、ニーダー、2本ロール、3本ロール、押出機等の公知の各種混練機を単独または併用して、常温下または加熱下で、常圧下、減圧下、加圧下または不活性ガス気流下等の条件下で均一に混練する方法が挙げられる。
(Method of manufacturing sealing material)
The method for producing the encapsulant is described below. The method for producing the encapsulant is not limited, and includes, for example, mixing the compound (A), appropriately the compound (B), and other components, such as various additives that are added as necessary.
Examples of methods for mixing the components include a method in which the components are uniformly kneaded using various known kneading machines, such as a planetary mixer, a homodisper, a universal mixer, a Banbury mixer, a kneader, a two-roll mill, a three-roll mill, an extruder, or the like, either alone or in combination, at room temperature or with heating, under normal pressure, reduced pressure, pressurized or in an inert gas stream, or the like.

<硬化物>
本実施形態の封止材の硬化物は、本実施形態の封止材を硬化してなるものである。
例えば、本実施形態の封止材の硬化物は、本実施形態の封止材を基材上に塗布し、硬化することで得られる。塗布には、インクジェット法、スクリーン印刷、ディスペンサー塗布等の公知の手法を用いることができる。
<Cured Product>
The cured product of the sealing material of this embodiment is obtained by curing the sealing material of this embodiment.
For example, the cured product of the encapsulant of the present embodiment can be obtained by applying the encapsulant of the present embodiment onto a substrate and curing the applied encapsulant. For application, a known method such as an inkjet method, screen printing, or dispenser application can be used.

基材上に塗布した封止材を乾燥させることにより硬化することができる。封止材を乾燥させる方法としては、たとえば化合物(A)が重合しない温度に加熱すること等により行うことができる。封止材を硬化して得られる硬化物の形状に制限はなく、たとえば膜状または層状とすることができる。The sealing material applied to the substrate can be cured by drying. The sealing material can be dried, for example, by heating to a temperature at which compound (A) does not polymerize. There are no limitations on the shape of the cured product obtained by curing the sealing material, and it can be, for example, a film or layer.

また、基材上に塗布した封止材を光硬化することもできる。封止材を光硬化する方法としては、たとえば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、エキシマレーザ、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ、ナトリウムランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、UV-LED等のLEDランプ、蛍光灯、太陽光、電子線照射装置等の光源を使用して光照射して硬化する方法が挙げられる。The sealant applied to the substrate can also be photocured. Examples of methods for photocuring the sealant include methods of curing the sealant by irradiating it with light using a light source such as a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an extra-high pressure mercury lamp, an excimer laser, a chemical lamp, a black light lamp, a microwave excited mercury lamp, a metal halide lamp, a sodium lamp, a halogen lamp, a xenon lamp, an LED lamp such as a UV-LED, a fluorescent lamp, sunlight, or an electron beam irradiation device.

本実施形態の封止材の硬化物の室温(25℃)でのd線(波長587.6nm)における屈折率(nd)は、好ましくは1.60以上であり、より好ましくは1.61以上、さらに好ましくは1.62以上、さらに好ましくは1.63以上、さらに好ましくは1.64以上、さらに好ましくは1.65以上である。また、屈折率の上限に制限はないが、たとえば2.00以下、1.90以下または1.80以下とすることができる。硬化後の封止材の屈折率はアッベ屈折計により測定することができる。The refractive index (nd) of the cured product of the encapsulant of this embodiment at room temperature (25°C) at d-line (wavelength 587.6 nm) is preferably 1.60 or more, more preferably 1.61 or more, even more preferably 1.62 or more, even more preferably 1.63 or more, even more preferably 1.64 or more, and even more preferably 1.65 or more. There is no upper limit to the refractive index, but it can be, for example, 2.00 or less, 1.90 or less, or 1.80 or less. The refractive index of the encapsulant after curing can be measured with an Abbe refractometer.

封止材の硬化物は、有機EL表示素子を封止する封止材料として用いることができる。本実施形態の封止材の硬化物によれば、屈折率が高く、耐プラズマ性に優れるため、封止材料として好ましい。The cured product of the encapsulant can be used as an encapsulating material for encapsulating organic EL display elements. The cured product of the encapsulant of this embodiment has a high refractive index and excellent plasma resistance, making it preferable as an encapsulating material.

<有機EL表示装置>
本実施形態の有機EL表示装置は、有機EL表示素子と、本実施形態の封止材の硬化物を含有する封止層とを有する。封止層を有することで、基板上に配置された有機EL表示素子が封止層により封止されることになり、有機EL表示素子内への水分の浸入が充分に防止され、有機EL表示素子の性能および耐久性を高く維持することができる。
<Organic EL display device>
The organic EL display device of the present embodiment includes an organic EL display element and a sealing layer containing the cured product of the sealing material of the present embodiment. By including the sealing layer, the organic EL display element disposed on the substrate is sealed by the sealing layer, so that the intrusion of moisture into the organic EL display element can be sufficiently prevented, and the performance and durability of the organic EL display element can be maintained at a high level.

封止層は、無機材料膜で被覆されていてもよい。また、基板上に配置された有機EL表示素子は、封止層で封止される前に、あらかじめ無機材料膜で被覆されていてもよい。The sealing layer may be coated with an inorganic material film. Also, the organic EL display element disposed on the substrate may be coated with an inorganic material film in advance before being sealed with the sealing layer.

具体的には、有機EL表示素子、第1の無機材料膜、封止層、第2の無機材料膜がこの順序で積層された構造を有する有機EL表示装置において、本実施形態の封止材が当該封止層の形成に用いられるということである。Specifically, in an organic EL display device having a structure in which an organic EL display element, a first inorganic material film, a sealing layer, and a second inorganic material film are laminated in this order, the sealing material of this embodiment is used to form the sealing layer.

図1は、本実施形態における有機EL表示装置の構成例を示す断面図である。
図1に示した有機EL表示装置100では、基材50上に有機EL表示素子10が配置され、有機EL表示素子10の表面は、第1の無機材料膜21で被覆されている。
第1の無機材料膜21で被覆された有機EL表示素子10は、第1の封止層22により封止されている。
第1の封止層22の表面は、第2の無機材料膜23でさらに被覆されている。
第2の無機材料膜23で被覆された第1の封止層22は、第2の封止層24によりにさらに封止されている。
第2の封止層24の表面には表面保護層25が設けられている。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the configuration of an organic EL display device according to this embodiment.
In the organic EL display device 100 shown in FIG. 1, an organic EL display element 10 is disposed on a substrate 50 , and the surface of the organic EL display element 10 is covered with a first inorganic material film 21 .
The organic EL display element 10 covered with the first inorganic material film 21 is sealed with a first sealing layer 22 .
The surface of the first sealing layer 22 is further covered with a second inorganic material film 23 .
The first sealing layer 22 covered with the second inorganic material film 23 is further sealed by a second sealing layer 24 .
A surface protection layer 25 is provided on the surface of the second sealing layer 24 .

有機EL表示装置100は、トップエミッション構造であっても、ボトムエミッション構造であってもよい。The organic EL display device 100 may have a top emission structure or a bottom emission structure.

基材50の材料は限定されず、たとえば、ガラス基板、シリコン基板、プラスチック基板等種々のものを用いることができる。基板上に複数のTFT(薄膜トランジスタ)および平坦化層を備えたTFT基板を用いることもできる。The material of the substrate 50 is not limited, and various substrates such as a glass substrate, a silicon substrate, a plastic substrate, etc. can be used. A TFT substrate having a plurality of TFTs (thin film transistors) and a planarization layer on the substrate can also be used.

第1の無機材料膜21および第2の無機材料膜23を構成する無機材料としては、たとえば、窒化珪素(SiN)、酸化珪素(SiO)、酸化アルミニウム(Al)等が挙げられる。無機材料膜は、1層でもよく、複数種の層の積層体でもよい。 Examples of inorganic materials constituting the first inorganic material film 21 and the second inorganic material film 23 include silicon nitride (SiN x ), silicon oxide (SiO x ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), etc. The inorganic material film may be a single layer or a laminate of multiple types of layers.

第1の無機材料膜21および第2の無機材料膜23による被覆方法としては、たとえば上記無機材料膜が窒化珪素や酸化珪素からなる場合には、スパッタリング法や電子サイクロトロン共鳴プラズマCVD法等が挙げられる。 Methods for coating with the first inorganic material film 21 and the second inorganic material film 23 include, for example, sputtering and electron cyclotron resonance plasma CVD when the inorganic material film is made of silicon nitride or silicon oxide.

このうち、スパッタリング法は、たとえば、キャリアガスとしてアルゴンや窒素等の単独または混合ガスを用い、室温、電力50~1000W、圧力0.001~0.1Torrの条件でおこなうことができる。Of these, the sputtering method can be carried out, for example, using a single or mixed gas such as argon or nitrogen as a carrier gas under conditions of room temperature, power of 50 to 1000 W, and pressure of 0.001 to 0.1 Torr.

また、電子サイクロトロン共鳴プラズマCVD法は、たとえば、SiHとOとの混合ガス又はSiHとNとの混合ガスを用い、温度30℃~100℃、圧力10mTorr~1Torr、周波数2.45GHz、電力10~1000Wの条件でおこなうことができる。 In addition, the electron cyclotron resonance plasma CVD method can be performed, for example, using a mixed gas of SiH4 and O2 or a mixed gas of SiH4 and N2 under conditions of a temperature of 30°C to 100°C, a pressure of 10 mTorr to 1 Torr, a frequency of 2.45 GHz, and a power of 10 to 1000 W.

本実施形態の封止層は耐プラズマ性に優れるため、その表面に電子サイクロトロン共鳴プラズマCVD法等のプラズマ処理により無機材料膜を成膜したとしても、樹脂層が劣化しづらく、有機EL発光素子へのダメージが抑制される。Because the sealing layer of this embodiment has excellent plasma resistance, even if an inorganic material film is formed on its surface by plasma processing such as electron cyclotron resonance plasma CVD, the resin layer is less likely to deteriorate and damage to the organic EL light-emitting element is suppressed.

第1の無機材料膜21および第2の無機材料膜23の厚さは限定されないが、バリア性能を向上させる観点から、たとえば0.01~10μmであり、好ましくは0.1~5μmである。The thickness of the first inorganic material film 21 and the second inorganic material film 23 is not limited, but from the viewpoint of improving the barrier performance, it is, for example, 0.01 to 10 μm, preferably 0.1 to 5 μm.

封止層を得る方法としては、封止材を塗工し硬化する方法等が挙げられる。塗工する方法としては、インクジェット法を用いることができる。また、スクリーン印刷、ディスペンサー塗布、インクジェット印刷、スリットコーティング、スプレーコーティング等の手法により、封止材を面状に塗布することができる。 Methods for obtaining a sealing layer include coating and curing a sealing material. An inkjet method can be used for coating. The sealing material can also be applied to a surface by screen printing, dispenser coating, inkjet printing, slit coating, spray coating, or other methods.

封止層の厚さは限定されないが、封止性能とフレキシブル性能を向上させる観点から、たとえば0.1~50μmであり、好ましくは1~20μmである。The thickness of the sealing layer is not limited, but from the viewpoint of improving sealing performance and flexibility performance, it is, for example, 0.1 to 50 μm, and preferably 1 to 20 μm.

なお、有機EL表示素子を封止する方法として、有機EL表示素子の周りに高粘度の硬化性樹脂(ダム材)によりダムを形成し、その中に低粘度の硬化性樹脂(フィル材)を流し込んで硬化させる方法がある。このようなダム材とフィル材を用いた封止構造において、本実施形態の封止材をフィル材として用いることができる。本実施形態の封止材は、粘度が低減され流動性に優れるため、フィル材として好適に用いることができる。One method for sealing an organic EL display element is to form a dam around the organic EL display element using a high-viscosity curable resin (dam material), and then pour a low-viscosity curable resin (fill material) into the dam and allow it to harden. In such a sealing structure using a dam material and a fill material, the sealing material of this embodiment can be used as the fill material. The sealing material of this embodiment has a reduced viscosity and excellent fluidity, making it suitable for use as a fill material.

以下、本発明を実施例および比較例により説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。The present invention will be described below with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these.

(封止材の作製)
はじめに、以下の例において用いた材料を示す。
(Preparation of sealing material)
First, the materials used in the following examples are listed.

化合物(A)としては以下のチオ化合物A1~A5を用いた。
チオ化合物A1:特公平7-91262号公報の実施例2の記載にしたがい調製された下記式の化合物

Figure 0007493058000005
チオ化合物A2:特許2708607号公報の実施例3の記載にしたがい調製された下記式の化合物
Figure 0007493058000006
チオ化合物A3:特開平9-324023号公報の合成例6の記載にしたがい調製された下記式の化合物
Figure 0007493058000007
チオ化合物A4:特許2708607号公報の実施例1の4,4'-チオビス-ベンゼンチオール25.0部(0.10モル)をベンジルメルカプタン24.8部(0.20モル)に代えた以外は特許2708607号公報の実施例1と同様の操作をすることにより調整された下記式の化合物
Figure 0007493058000008
チオ化合物A5:特許2708607号公報の実施例1の記載にしたがい調製された下記式の化合物
Figure 0007493058000009
As compound (A), the following thio compounds A1 to A5 were used.
Thio Compound A1: A compound of the following formula, prepared according to the description in Example 2 of JP-B-7-91262:
Figure 0007493058000005
Thio Compound A2: A compound of the following formula, prepared according to the description in Example 3 of Japanese Patent No. 2708607:
Figure 0007493058000006
Thio Compound A3: A compound of the following formula prepared according to Synthesis Example 6 of JP-A-9-324023.
Figure 0007493058000007
Thio Compound A4: A compound of the following formula prepared by the same procedure as in Example 1 of Japanese Patent No. 2708607, except that 25.0 parts (0.10 moles) of 4,4'-thiobis-benzenethiol in Example 1 of Japanese Patent No. 2708607 was replaced with 24.8 parts (0.20 moles) of benzyl mercaptan.
Figure 0007493058000008
Thio Compound A5: A compound of the following formula prepared according to the description in Example 1 of Japanese Patent No. 2708607
Figure 0007493058000009

化合物(B)としては、下記の(メタ)アクリル化合物B1~B4を用いた。
(メタ)アクリル化合物B1:エトキシ化オルトフェニルフェノールアクリレート、製品名NKエステルA-LEN-10、新中村化学工業社製
(メタ)アクリル化合物B2:m-フェノキシベンジルアクリレート、製品名ライトアクリレートPOB-A、共栄社化学社製
(メタ)アクリル化合物B3:ベンジルアクリレート、製品名ビスコート♯160、共栄社化学社製
(メタ)アクリル化合物B4:1,9-ノナンジオールジアクリレート、製品名ライトアクリレート1,9-ND-A、共栄社化学社製
As the compound (B), the following (meth)acrylic compounds B1 to B4 were used.
(Meth)acrylic compound B1: ethoxylated orthophenylphenol acrylate, product name NK Ester A-LEN-10, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. (Meth)acrylic compound B2: m-phenoxybenzyl acrylate, product name Light Acrylate POB-A, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. (Meth)acrylic compound B3: benzyl acrylate, product name Viscoat #160, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. (Meth)acrylic compound B4: 1,9-nonanediol diacrylate, product name Light Acrylate 1,9-ND-A, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.

熱安定剤としては、ペンタエリトリトール-テトラキス[3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート](製品名アデカスタブAO-60、ADEKA社製)を用いた。光ラジカル開始剤としては、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド(製品名Omnirad TPO H、IGM Resins社製)を用いた。The thermal stabilizer used was pentaerythritol-tetrakis[3-(3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propionate] (product name: Adeka STAB AO-60, manufactured by ADEKA Corporation). The photoradical initiator used was 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide (product name: Omnirad TPO H, manufactured by IGM Resins Corporation).

表1に示した配合組成となるように各成分を配合して、液状の封止材を得た。
表1における化合物(A)および化合物(B)の配合組成の単位は、化合物(A)と化合物(B)の合計100質量部に対する化合物(A)または化合物(B)の質量部である。また、表1における熱安定剤および光ラジカル開始剤の配合組成の単位は封止材の全組成に対する質量%である。
The components were mixed so as to obtain the composition shown in Table 1, thereby obtaining a liquid sealing material.
The units of the compound (A) and compound (B) in Table 1 are parts by mass of compound (A) or compound (B) relative to 100 parts by mass of the total of compound (A) and compound (B). The units of the compounded compositions of the heat stabilizer and photoradical initiator in Table 1 are % by mass relative to the total composition of the encapsulant.

得られた封止材の物性を以下の方法で測定した。測定結果を表1に示す。The physical properties of the resulting encapsulant were measured using the following methods. The measurement results are shown in Table 1.

(粘度)
得られた封止材について、E型粘度計(LV DV-II+ Pro、BROOKFIELD社製)を用いて25℃、20rpmの条件で粘度を測定した。評価は下記の基準で行った。結果を表1に示す。
〇:5~50mPa・s
×:5mPa・s未満または50mPa・sより大きい
(viscosity)
The viscosity of the obtained sealing material was measured using an E-type viscometer (LV DV-II+ Pro, manufactured by BROOKFIELD) at 25° C. and 20 rpm. The evaluation was performed according to the following criteria. The results are shown in Table 1.
○: 5 to 50 mPa·s
×: Less than 5 mPa·s or more than 50 mPa·s

(屈折率)
得られた封止材を硬化させてなる硬化フィルムの屈折率を以下の方法で評価した。
100μm厚のテフロン(登録商標)シートを型枠として、透明ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムの上に当該型枠を置き、そこに上記の方法で得られた封止材を流し込み、その上にさらに透明PETフィルムを載せることで、2枚の透明PETフィルムの間に封止材を挟みこみ、波長395nmのUV-LEDで照度1000mW/cm、積算光量1500mJ/cmの条件で硬化させることで硬化フィルムを得た。
得られた硬化フィルムについて、室温(25℃)でのd線(波長587.6nm)における硬化後のフィルムの屈折率(nd)をアッベ屈折計(アタゴ社製、DR-M4)により測定した。評価は下記の基準で行った。結果を表1に示す。
〇:1.60以上
×:1.60未満
(Refractive Index)
The refractive index of the cured film obtained by curing the obtained encapsulant was evaluated by the following method.
A 100 μm thick Teflon (registered trademark) sheet was used as a mold, and the mold was placed on top of a transparent polyethylene terephthalate (PET) film. The encapsulant obtained by the above method was poured into the mold, and a transparent PET film was placed on top of the mold, sandwiching the encapsulant between the two transparent PET films. The encapsulant was then cured using a UV-LED with a wavelength of 395 nm at an illuminance of 1000 mW/cm 2 and an accumulated light quantity of 1500 mJ/cm 2 to obtain a cured film.
The refractive index (nd) of the cured film after curing at room temperature (25° C.) with d-line (wavelength 587.6 nm) was measured using an Abbe refractometer (DR-M4, manufactured by Atago Co., Ltd.). Evaluation was performed according to the following criteria. The results are shown in Table 1.
◯: 1.60 or more ×: less than 1.60

(耐プラズマ性)
耐プラズマ性として、平行平板型の電子サイクロトロン共鳴プラズマCVD装置を用いたプラズマ処理工程における素子ダメージを以下の方法で評価した。
上記の方法により得られた封止材を、インクジェットカートリッジDMC-11610(富士フイルムDimatix社製)に導入した。そのインクジェットカートリッジをインクジェット装置DMP-2831(富士フイルムDimatix社製)にセットし、吐出状態の調整を行った後、ガラス基板に、硬化後の厚みが10μmとなるように、15mm×15mmのサイズで塗布した。
得られた塗膜を、窒素がフローされ且つ室温(25℃)に調整されたボックスに入れ、5分間静置し、次いで波長395nmのUV-LEDを用い照度1000mW/cm、積算光量1500mJ/cmの条件で照射をし、硬化膜を形成した。
硬化膜の表面に、平行平板型の電子サイクロトロン共鳴プラズマCVD装置を用いて、出力100W、硬化膜表面温度100℃の条件で、膜厚1μmの無機材料膜(SiN膜)を蒸着した。
得られたサンプルを85℃85%の恒温恒湿槽に投入して240時間後の外観を観察した。評価は下記の基準で行った。結果を表1に示す。
〇:白化しなかった
×:白化した
(Plasma resistance)
As the plasma resistance, element damage in a plasma treatment process using a parallel plate type electron cyclotron resonance plasma CVD apparatus was evaluated by the following method.
The encapsulant obtained by the above method was introduced into an inkjet cartridge DMC-11610 (manufactured by Fujifilm Dimatix Corp.). The inkjet cartridge was set into an inkjet device DMP-2831 (manufactured by Fujifilm Dimatix Corp.), and after adjusting the discharge state, the encapsulant was applied to a glass substrate in a size of 15 mm x 15 mm so that the thickness after curing was 10 μm.
The resulting coating film was placed in a box with nitrogen flowing and adjusted to room temperature (25°C), left to stand for 5 minutes, and then irradiated with a UV-LED having a wavelength of 395 nm at an illuminance of 1000 mW/ cm2 and an accumulated light quantity of 1500 mJ/ cm2 to form a cured film.
On the surface of the cured film, an inorganic material film ( SiNx film) was deposited to a thickness of 1 μm using a parallel plate type electron cyclotron resonance plasma CVD apparatus under conditions of an output of 100 W and a cured film surface temperature of 100° C.
The obtained sample was placed in a thermo-hygrostat at 85° C. and 85% humidity for 240 hours, after which the appearance was observed. Evaluation was performed according to the following criteria. The results are shown in Table 1.
◯: No whitening ×: Whitening

Figure 0007493058000010
Figure 0007493058000010

表1に示された通り、各実施例で得られた封止材およびその硬化物は、プラズマ照射に対する素子ダメージの抑制効果に優れるとともに、屈折率が高く、塗布に適した低い粘度を有するものであった。As shown in Table 1, the sealing material and its cured product obtained in each example had excellent effect of suppressing element damage due to plasma exposure, as well as a high refractive index and a low viscosity suitable for application.

この出願は、2020年11月18日に出願された日本出願特願2020-191965号を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てをここに取り込む。 This application claims priority based on Japanese Patent Application No. 2020-191965, filed on November 18, 2020, the disclosure of which is incorporated herein in its entirety.

10 有機EL表示素子
21 第1の無機材料膜
22 第1の封止層
23 第2の無機材料膜
24 第2の封止層
25 表面保護層
50 基材
100 有機EL表示装置
REFERENCE SIGNS LIST 10 Organic EL display element 21 First inorganic material film 22 First sealing layer 23 Second inorganic material film 24 Second sealing layer 25 Surface protective layer 50 Substrate 100 Organic EL display device

Claims (9)

下記一般式(1)で表される(メタ)アクリルチオ基を有する化合物(A)を含有し、
(メタ)アクリル基を有する化合物(B)(但し前記化合物(A)を除く。)をさらに含有し、
前記化合物(A)と前記化合物(B)の合計100質量部に対し、前記化合物(A)の含有量が50質量部以上である、有機EL表示素子用封止材。
Figure 0007493058000011
[上記一般式(1)中、Rは水素原子またはメチル基を表し、*は結合位置を表す。]
The composition contains a compound (A) having a (meth)acrylthio group represented by the following general formula (1) ,
Further containing a compound (B) having a (meth)acrylic group (excluding the compound (A)),
The sealing material for an organic electroluminescence display element , wherein the content of the compound (A) is 50 parts by mass or more per 100 parts by mass of the total of the compound (A) and the compound (B).
Figure 0007493058000011
[In the above general formula (1), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and * represents a bonding position.]
前記化合物(A)が前記(メタ)アクリルチオ基を2個以上有する化合物である、請求項1に記載の有機EL表示素子用封止材。 The sealing material for organic EL display elements according to claim 1, wherein the compound (A) is a compound having two or more (meth)acrylthio groups. 前記化合物(B)が、置換されてもよい芳香族基をさらに有する化合物である、請求項1または2に記載の有機EL表示素子用封止材。 3. The sealing material for an organic EL display element according to claim 1 , wherein the compound (B) is a compound further having an aromatic group which may be substituted. E型粘度計で測定される25℃、20rpmにおける粘度が、5mPa・s以上50mPa・s以下である、請求項1~のいずれか1項に記載の有機EL表示素子用封止材。 4. The sealing material for an organic EL display element according to claim 1 , wherein the viscosity measured with an E-type viscometer at 25° C. and 20 rpm is 5 mPa·s or more and 50 mPa·s or less. インクジェット法による塗布に用いられる、請求項1~のいずれか1項に記載の有機EL表示素子用封止材。 The sealing material for an organic EL display element according to any one of claims 1 to 4 , which is used for coating by an inkjet method. 有機EL表示素子、第1の無機材料膜、封止層、第2の無機材料膜がこの順序で積層された構造を有する有機EL表示装置において、前記封止層の形成に用いられる、請求項1~のいずれか1項に記載の有機EL表示素子用封止材。 The sealing material for an organic EL display element according to any one of claims 1 to 5, which is used for forming a sealing layer in an organic EL display device having a structure in which an organic EL display element, a first inorganic material film, a sealing layer, and a second inorganic material film are laminated in this order. ダム材とフィル材を用いた封止構造において、前記フィル材として用いられる、請求項1~のいずれか1項に記載の有機EL表示素子用封止材。 The sealing material for an organic EL display element according to any one of claims 1 to 6 , which is used as a filler material in a sealing structure using a dam material and a filler material. 請求項1~のいずれか1項に記載の有機EL表示素子用封止材を硬化してなる硬化物。 A cured product obtained by curing the sealing material for an organic EL display element according to any one of claims 1 to 7 . 有機EL表示素子と、
前記有機EL表示素子を被覆する封止層と、
を含み、前記封止層が、請求項に記載の硬化物を含有する、有機EL表示装置。
An organic EL display element;
a sealing layer that covers the organic EL display element;
The organic electroluminescence display device according to claim 8, wherein the sealing layer comprises the cured product according to claim 8 .
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