JP7476515B2 - 定着ベルト、定着装置、及び画像形成装置 - Google Patents

Description

本発明は、定着ベルト、定着装置、及び画像形成装置に関する。

電子写真方式を用いた画像形成装置（複写機、ファクシミリ、プリンタ等）では、記録材上に形成されたトナー像を、定着ベルトを備える定着装置によって定着して画像が形成される。

例えば、特許文献１には、「金属製の円筒状基体と、該円筒状基体の内周面に形成されたポリイミド樹脂層とを有する定着ベルトであって、該ポリイミド樹脂層は、イミド化率が７０～９３％である定着ベルト。」が開示されている。

また、特許文献２には、「 ポリイミド樹脂層と金属層とが積層されてなるベルト基材を有する定着ベルトであって、該ポリイミド樹脂層を形成するポリイミドのイミド化率が９５％以上である定着ベルト。」が開示されている。

また、特許文献３には、「ポリイミド樹脂層と、その表面に形成され電磁誘導により発熱する金属層と、最外周面に形成された離型層とを備える電磁誘導発熱用定着ベルトにおいて、前記ポリイミド樹脂層は脱水環化剤の存在下でポリアミド酸をイミド化したイミド化物を含有し、そのイミド化物のイミド化率が９５～１００％である電磁誘導発熱用定着ベルト」が開示されている。

また、特許文献４には、「少なくとも１層以上の金属層と、前記金属層に設けられた離型層とを有する無端状ベルトであり、前記金属層に用いられる金属材料は、ＪＩＳ Ｚ２２４１の金属材料の引張試験に準拠し、金属材料の試験片はＪＩＳ Ｚ２２０１の金属材料引張試験片に規定に従い、引っ張り試験に用いる試験機は、ＪＩＳ Ｂ７７２１の引張・圧縮試験機－力計測系の較正・検証方法に規定された試験機を用いて測定された応力－歪線図において、上降伏点までの応力が、３４３Ｎ／ｍｍ^２以上である無端状ベルト。」が開示されている。

また、特許文献５には、「合成樹脂からなる基層と、その上に積層された金属層と、さらにその上に積層された合成樹脂からなる被覆層とを有する無端状ベルトであって、前記金属層は、該ベルトに曲げ変形が生じたときにひずみが生じない中立軸の近傍に形成されているベルト。」が開示されている。

ＷＯ２０１１／０１３２２１号公報 特開２００５－１２１９７５号公報 特開２００４－０１２６６９号公報 特開２０１３－６１５６５号公報 特開２００４－７０１９１号公報

本発明の課題は、環状の樹脂基材層と、樹脂基材層の外周面上に設けられた金属層と、金属層の外周面上に設けられた弾性層と、を有する定着ベルトにおいて、樹脂基材層の吸水率が３％超えである場合に比べ、高温高湿環境下で長期保管後、繰り返しトナー像を定着したときの、樹脂基材層と金属層との剥がれを抑制した定着ベルトを提供することである。

前記課題を解決するための具体的手段には、下記の態様が含まれる。
＜１＞
吸水率が３％以下の環状の樹脂基材層と、
前記樹脂基材層の外周面上に設けられた金属層と、
前記金属層の外周面上に設けられた弾性層と、
を有する定着ベルト。
＜２＞
前記樹脂基材層の吸水率が、２．５％以下である＜１＞に記載の定着ベルト。
＜３＞
前記樹脂基材層の吸水率が、０．５％以上２．３％以下である＜２＞に記載の定着ベルト。
＜４＞
前記樹脂基材層が、芳香族ポリイミド樹脂を含む基材層である＜１＞～＜３＞のいずれか１項に記載の定着ベルト。
＜５＞
前記芳香族ポリイミド樹脂が、下記一般式（ＰＩ１）で表される構造単位を有するポリイミド樹脂である＜４＞に記載の定着ベルト。

（一般式中、Ｒ^Ｐ１はフェニル基、またはビフェニル基を示し、Ｒ^Ｐ２は２価の芳香族基を示す。）
＜６＞
前記金属層が、前記樹脂基材層の外周面上に設けられた下地金属層と、前記下地金属層の外周面上に設けられた金属発熱層と、前記金属発熱層の外周面上に設けられた金属保護層と、を有する＜１＞～＜５＞のいずれか１項に記載の定着ベルト。
＜７＞
＜１＞～＜６＞のいずれか１項に記載の定着ベルトと、
前記定着ベルトの外周面を加圧する加圧部材と、
前記定着ベルトの金属層の少なくとも一部を電磁誘導によって発熱させる電磁誘導装置と、
を有し、
未定着のトナー像が表面に形成された記録媒体を前記定着ベルトと前記加圧部材とで挟み込んで前記トナー像を前記記録媒体に定着させる定着装置。
＜８＞
前記電磁誘導装置による前記定着ベルトの表面の、室温から１２０℃までの昇温速度が４０℃／ｓｅｃ以上である＜７＞に記載の定着装置。
＜９＞
前記昇温速度が、５０℃／ｓｅｃ以上６０℃／ｓｅｃ以下である＜８＞に記載の定着装置。
＜１０＞
像保持体と、
前記像保持体の表面を帯電させる帯電装置と、
帯電した前記像保持体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成装置と、
前記像保持体の表面に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置と、
前記像保持体の表面に形成されたトナー像を記録媒体に転写する転写装置と、
前記トナー像を前記記録媒体に定着させる＜７＞～＜９＞のいずれか１項に記載の定着装置と、
を有する画像形成装置。

＜１＞、＜４＞、＜５＞、又は＜６＞に係る発明によれば、環状の樹脂基材層と、樹脂基材層の外周面上に設けられた金属層と、金属層の外周面上に設けられた弾性層と、を有する定着ベルトにおいて、樹脂基材層の吸水率が３％超えである場合に比べ、高温高湿環境下で保管後、繰り返しトナー像を定着したときの、樹脂基材層と金属層との剥がれを抑制した定着ベルトが提供される。

＜２＞、又は＜３＞に係る発明によれば、樹脂基材層の外周面におけるイミド化率が、２．５％超えである場合に比べ、高温高湿環境下で保管後、繰り返しトナー像を定着したときの、樹脂基材層と金属層との剥がれを抑制した定着ベルトが提供される。

＜７＞、＜８＞、＜９＞又は＜１０＞に係る発明によれば、環状の樹脂基材層と、樹脂基材層の外周面上に設けられた金属層と、金属層の外周面上に設けられた弾性層と、を有する定着ベルトにおいて、樹脂基材層の吸水率が３％超えである定着ベルトを有する場合に比べ、高温高湿環境下で保管後、繰り返しトナー像を定着したときの、樹脂基材層と金属層との剥がれを抑制した定着ベルトを備える定着装置、又は当該定着装置を備える画像形成装置が提供される。

本実施形態に係る定着ベルトの一例における層構成を示す概略断面図である。 本実施形態に係る定着装置の一例を示す概略構成図である。 本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。

以下、本発明の一例である実施形態について説明する。

［定着ベルト］
本実施形態に係る定着ベルトは、
吸水率が３％以下の環状の樹脂基材層と、
前記樹脂基材層の外周面上に設けられた金属層と、
前記金属層の外周面上に設けられた弾性層と、
を有する。

本実施形態に係る定着ベルトは、上記構成により、高温高湿環境下（例えば、３０℃、８５％ＲＨ）で長期保管後、繰り返しトナー像を定着したときの、樹脂基材層と金属層との剥がれが抑制される。その理由は、次の通り推測される。

電磁誘導加熱方式の定着装置では、例えば、電磁誘導装置によって定着ベルトの金属層の少なくとも一部（例えば、金属発熱層）を加熱する。そして、加熱された定着ベルトと加圧部材とで、未定着のトナー像が表面に形成された記録媒体を挟みこむことで、トナー像を記録媒体に定着させる。
上記電磁誘導加熱方式の定着装置では、電磁誘導装置による加熱を開始してから定着ベルトの表面が目的の温度に達するまでに時間（以下、「ウォームアップ時間」とも称する）の短縮化を図るため、昇温速度を上げることが望まれている。

一方、定着ベルトは、高温高湿下で保管されることがある。しかし、従来の定着ベルトは、樹脂基材層の吸水率が高く（例えば３％超えであり）、樹脂基材層中に多分の水分を含むことになる。

しかし、水分を含んだ樹脂基材層を有する定着ベルトを、高い昇温速度（例えば、４０℃／ｓｅｃ以上、）で加熱すると、樹脂基材層と金属層との界面に介在した水分が気化することで膨張し、樹脂基材層と金属層との接着性が低下する。特に、金属層は気化した水分を透過しないので、接着性が低下し易い。
そして、定着ベルトが、トナー像の定着時に屈曲が繰り返されることにより、接着性が低下に起因して、樹脂基材層と金属層との界面で剥離が生じることがある。

そこで、樹脂基材層の吸水率を３％以下に抑えると、定着ベルトを高温高湿下で保管されても、樹脂基材層に水分が含み難くなる。そのため、定着ベルトを、高い昇温速度（例えば、４０℃／ｓｅｃ以上）で加熱しても、樹脂基材層と金属層との界面に介在する水分量が少なくなり、樹脂基材層と金属層との接着性が抑制される。

以上から、本実施形態に係る定着ベルトでは、温高湿環境下で長期保管後、繰り返しトナー像を定着したときの、樹脂基材層と金属層との剥がれが抑制されると推測される。
そして、本実施形態に係る定着ベルトでは、樹脂基材層と金属層との剥がれに起因する、紙しわ又は画像不良が抑制される。

以下、本実施形態に係る定着ベルトの詳細について、図を用いて説明する。

図１は、定着ベルトの一例を示す概略構成図である。
図１に示す定着ベルト１０は、例えば、環状の樹脂基材層１０Ａの外周面上に、金属層１０Ｂと、接着剤層１０Ｃと、弾性層１０Ｄと、離型層１０Ｅと、が順に積層された層構成を有する定着ベルトである。接着剤層１０Ｃ及び離型層１０Ｅは、必要に応じて設けられる層である。
また、金属層１０Ｂは、例えば、下地金属層１０２、金属発熱層１０４、及び金属保護層１０６がこの順に積層されている。下地金属層１０２は必要に応じて設けられる層である。また、金属発熱層１０４は、定着ベルト１０を電磁誘導方式の定着装置に用いた場合、電磁誘導作用により自己発熱する層である。

なお、本実施形態に係る定着ベルト１０は、上記構造に限定されるものではなく、さらに他の層を有していてもよい。なお、以下の説明において、各層の符号は省略して説明する場合がある。

＜樹脂基材層１０Ａ＞
樹脂基材層１０Ａ（以下、単に「基材層１０Ａ」とも称する）は、樹脂を主成分として含む、なお、「主として」、「主成分」とは、質量比で５０％以上であることを意味し、以下も同義である。基材層１０Ａには、樹脂以外に周知の添加剤を含んでもよい。

基材層１０Ａ全体に対する樹脂の含有量としては、例えば５０質量％以上が挙げられ、６０質量％以上が好ましく、７０質量％以上がより好ましく、７８質量％以上がさらに好ましく、９０質量％以上が特に好ましい。

樹脂基材層の吸水率は、３％以下である。そして、温高湿環境下で保管後、繰り返しトナー像を定着したときの、樹脂基材層と金属層との剥がれ抑制の観点から、吸水率は、２．５％以下が好ましく、２．３％以下がより好ましい。ただし、屈曲耐久性の観点から、吸水率の下限は、０．５％以上が好ましい。つまり、吸水率は、０．５％以上２．３％以下であることが特に好ましい、

樹脂基材層の吸水率は、次の通り測定される。
沸騰した熱水に、測定対象の基材層の試料を１時間浸漬した後、吸水した基材層の試料の質量Ｗ１を測定する。
次に、吸水した基材層の試料を、１２０℃で２時間乾燥した後、乾燥した基材層の試料の質量Ｗ２を測定する。
そして、下記式により、基材層の吸水率を算出する。
吸水率（質量％）＝（Ｗ１－Ｗ２）／Ｗ２×１００

樹脂基材層の吸水率を上記範囲とする方法としては、次の方法が挙げられる。
１） 基材層作製時に十分な熱量を加えてイミド化率を十分に上げる方法、
２） 基材層中の溶媒又は他成分の含有率を十分に低くする方法、
３） 基材層上に積層する際にイミド結合の分解反応を最小限に抑える方法、

基材層１０Ａの樹脂としては、耐熱性樹脂であることが好ましい。
樹脂としては、ポリイミド、芳香族ポリアミド、サーモトロピック液晶ポリマー等の液晶材料など、高耐熱かつ高強度の耐熱性樹脂等が挙げられ、これら以外にも、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルケトン、ポリサルフォン、ポリイミドアミド等が用いられる。これらの中でも、ポリイミドが好ましい。
なお、樹脂中に断熱効果のある充填材を加えたり、樹脂を発泡させたりすることにより、断熱効果を更に向上させてもよい。

これらの中でも、耐熱性の観点から、耐熱性樹脂としては、ポリイミド樹脂が好ましい
。
ポリイミド樹脂としては、例えば、テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物との重合体であるポリアミック酸（ポリイミド樹脂の前駆体）のイミド化物が挙げられる。ポリイミド樹脂として具体的には、テトラカルボン酸二無水物とジアミン化合物との等モル量を溶媒中で重合反応させてポリアミド酸の溶液として得て、そのポリアミド酸をイミド化して得られた樹脂が挙げられる。

テトラカルボン酸二無水物としては、芳香族系、脂肪族系いずれの化合物も挙げられるが、耐熱性の観点から、芳香族系の化合物であることがよい。

芳香族系テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’－ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’－ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８－ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７－ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’－ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’－ジメチルジフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’－テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４－フランテトラカルボン酸二無水物、４，４’－ビス（３，４－ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルフィド二無水物、４，４’－ビス（３，４－ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルホン二無水物、４，４’－ビス（３，４－ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルプロパン二無水物、３，３’，４，４’－パーフルオロイソプロピリデンジフタル酸二無水物、３，３’，４，４’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス（フタル酸）フェニルホスフィンオキサイド二無水物、ｐ－フェニレン－ビス（トリフェニルフタル酸）二無水物、ｍ－フェニレン－ビス（トリフェニルフタル酸）二無水物、ビス（トリフェニルフタル酸）－４，４’－ジフェニルエーテル二無水物、ビス（トリフェニルフタル酸）－４，４’－ジフェニルメタン二無水物等を挙げられる。

脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３－ジメチル－１，２，３，４－シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４－シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、２，３，５－トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、３，５，６－トリカルボキシノルボナン－２－酢酸二無水物、２，３，４，５－テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、５－（２，５－ジオキソテトラヒドロフリル）－３－メチル－３－シクロヘキセン－１，２－ジカルボン酸二無水物、ビシクロ［２，２，２］－オクト－７－エン－２，３，５，６－テトラカルボン酸二無水物等の脂肪族又は脂環式テトラカルボン酸二無水物；１，３，３ａ，４，５，９ｂ－ヘキサヒドロ－２，５－ジオキソ－３－フラニル）－ナフト［１，２－ｃ］フラン－１，３－ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ－ヘキサヒドロ－５－メチル－５－（テトラヒドロ－２，５－ジオキソ－３－フラニル）－ナフト［１，２－ｃ］フラン－１，３－ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ－ヘキサヒドロ－８－メチル－５－（テトラヒドロ－２，５－ジオキソ－３－フラニル）－ナフト［１，２－ｃ］フラン－１，３－ジオン等の芳香環を有する脂肪族テトラカルボン酸二無水物等が挙げられる。

これらの中でも、テトラカルボン酸二無水物としては、芳香族系テトラカルボン酸二無水物がよく、具体的には、例えば、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’－ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’－ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物がよく、更に、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’－ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物がよく、特に、３，３’，４，４’－ビフェニルテトラカルボン酸二無水物がよい。

なお、テトラカルボン酸二無水物は、１種単独で用いてもよいし、２種以上組み合わせて併用してもよい。
また、２種以上を組み合わせて併用する場合、芳香族テトラカルボン酸二無水物、又は脂肪族テトラカルボン酸二無水物を各々併用しても、芳香族テトラカルボン酸二無水物と脂肪族テトラカルボン酸二無水物とを組み合わせてもよい。

一方、ジアミン化合物は、分子構造中に２つのアミノ基を有するジアミン化合物である。ジアミン化合物としては、芳香族系、脂肪族系いずれの化合物も挙げられるが、芳香族系の化合物であることがよい。

ジアミン化合物としては、例えば、ｐ－フェニレンジアミン、ｍ－フェニレンジアミン、４，４’－ジアミノジフェニルメタン、４，４’－ジアミノジフェニルエタン、４，４’－ジアミノジフェニルエーテル、４，４’－ジアミノジフェニルスルフィド、４，４’－ジアミノジフェニルスルホン、１，５－ジアミノナフタレン、３，３－ジメチル－４，４’－ジアミノビフェニル、５－アミノ－１－（４’－アミノフェニル）－１，３，３－トリメチルインダン、６－アミノ－１－（４’－アミノフェニル）－１，３，３－トリメチルインダン、４，４’－ジアミノベンズアニリド、３，５－ジアミノ－３’－トリフルオロメチルベンズアニリド、３，５－ジアミノ－４’－トリフルオロメチルベンズアニリド、３，４’－ジアミノジフェニルエーテル、２，７－ジアミノフルオレン、２，２－ビス（４－アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、４，４’－メチレン－ビス（２－クロロアニリン）、２，２’，５，５’－テトラクロロ－４，４’－ジアミノビフェニル、２，２’－ジクロロ－４，４’－ジアミノ－５，５’－ジメトキシビフェニル、３，３’－ジメトキシ－４，４’－ジアミノビフェニル、４，４’－ジアミノ－２，２’－ビス（トリフルオロメチル）ビフェニル、２，２－ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２－ビス［４－（４－アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、１，４－ビス（４－アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’－ビス（４－アミノフェノキシ）－ビフェニル、１，３’－ビス（４－アミノフェノキシ）ベンゼン、９，９－ビス（４－アミノフェニル）フルオレン、４，４’－（ｐ－フェニレンイソプロピリデン）ビスアニリン、４，４’－（ｍ－フェニレンイソプロピリデン）ビスアニリン、２，２’－ビス［４－（４－アミノ－２－トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、４，４’－ビス［４－（４－アミノ－２－トリフルオロメチル）フェノキシ］－オクタフルオロビフェニル等の芳香族ジアミン；ジアミノテトラフェニルチオフェン等の芳香環に結合された２個のアミノ基と当該アミノ基の窒素原子以外のヘテロ原子を有する芳香族ジアミン；１，１－メタキシリレンジアミン、１，３－プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、４，４－ジアミノヘプタメチレンジアミン、１，４－ジアミノシクロヘキサン、イソフォロンジアミン、テトラヒドロジシクロペンタジエニレンジアミン、ヘキサヒドロ－４，７－メタノインダニレンジメチレンジアミン、トリシクロ［６，２，１，０^２．７］－ウンデシレンジメチルジアミン、４，４’－メチレンビス（シクロヘキシルアミン）等の脂肪族ジアミン及び脂環式ジアミン等が挙げられる。

これらの中でも、ジアミン化合物としては、芳香族系ジアミン化合物がよく、具体的には、例えば、ｐ－フェニレンジアミン、ｍ－フェニレンジアミン、４，４’－ジアミノジフェニルメタン、４，４’－ジアミノジフェニルエーテル、３，４’－ジアミノジフェニルエーテル、４，４’－ジアミノジフェニルスルフィド、４，４’－ジアミノジフェニルスルホンがよく、特に、４，４’－ジアミノジフェニルエーテル、ｐ－フェニレンジアミンがよい。

なお、ジアミン化合物は、１種単独で用いてもよいし、２種以上組み合わせて併用してもよい。また、２種以上を組み合わせて併用する場合、芳香族ジアミン化合物、又は脂肪族ジアミン化合物を各々併用しても、芳香族ジアミン化合物と脂肪族ジアミン化合物とを組み合わせてもよい。

これらの中でも、耐熱性の観点から、ポリイミド樹脂としては、芳香族ポリイミド樹脂（具体的には、芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミン化合物との重合体であるポリアミック酸（ポリイミド樹脂の前駆体）のイミド化物）が好ましい。つまり、基材層１０Ａは、芳香族ポリイミド樹脂を含む基材層が好ましい。
そして、芳香族ポリイミド樹脂としては、下記一般式（ＰＩ１）で表される構造単位を有するポリイミド樹脂であることがより好ましい。

一般式中、Ｒ^Ｐ１はフェニル基、またはビフェニル基を示し、Ｒ^Ｐ２は２価の芳香族基を示す。
Ｒ^Ｐ２が示す２価の芳香族基は、フェニレン基、ナフチル基、ビフェニル基、ジフェニルエーテル基等が挙げられる。２価の芳香族基としては、屈曲耐久性の観点から、フェニレン基、ビフェニル基が好ましい。

ポリイミド樹脂の数平均分子量は、５０００以上１０００００以下であることがよく、より好ましくは７０００以上５００００以下、更に好ましくは１００００以上３００００以下である。

ポリイミド樹脂の数平均分子量は、下記測定条件のゲル・パーミエーション・クロマトグラフィ（ＧＰＣ）法で測定される。
・カラム：東ソーＴＳＫｇｅｌα－Ｍ（７．８ｍｍ Ｉ．Ｄ×３０ｃｍ）
・溶離液：ＤＭＦ（ジメチルホルムアミド）／３０ｍＭＬｉＢｒ／６０ｍＭリン酸
・流速：０．６ｍＬ／ｍｉｎ
・注入量：６０μＬ
・検出器：ＲＩ（示差屈折率検出器）

基材層１０Ａには、樹脂以外に、導電剤、充填剤、潤滑剤などの周知の添加剤を含んでもよい。

基材層
１０Ａの厚みは、例えば、２０μｍ以上２００μｍ以下が好ましく、３０μｍ以上１５０μｍ以下がより好ましく、４０μｍ以上１３０μｍ以下がさらに好ましい。

なお、基材層１０Ａの外周面は、下地金属層１０２を形成する際に金属粒子が付着し易いよう、表面粗さを予め粗くする処理（粗面化処理）が施されていてもよい。粗面化処理としては、例えば、アルミナ砥粒等を用いたサンドブラスト、切削、サンドペーパーがけ等が挙げられる。

＜下地金属層１０２＞
下地金属層１０２は、基材層１０Ａの外周面に金属発熱層１０４を電解めっき法により形成するために予め形成される層であり、必要に応じて設けられる。金属発熱層１０４の形成方法としては、コスト等の観点から電解めっき法が好ましいが、主に樹脂で構成される基材層１０Ａを用いる場合は、直接電解めっきを行うことが困難である。そこで、金属発熱層１０４形成のため、下地金属層１０２を設けることが好ましい。

基材層１０Ａの外周面に下地金属層１０２を形成する方法としては、無電解めっき法、スパッタリング法、蒸着法等が挙げられ、成膜の容易性の観点から化学めっき法（無電解めっき法）が好ましい。
下地金属層１０２としては、例えば、無電解ニッケルめっき層、無電解銅めっき層等が挙げられる。なお、「ニッケルめっき層」とは、Ｎｉを含むめっきの層（例えば、ニッケル層、ニッケル合金層等）であることを表し、「銅めっき層」とは、Ｃｕを含むめっきの層（例えば、銅層、銅合金層等）であることを表す。

下地金属層１０２の厚さは０．１μｍ以上５μｍ以下の範囲が好ましく、０．３μｍ以上３μｍ以下の範囲がより好ましい。

なお、定着ベルト１０を構成する各層の厚さは、ベルトの円筒体の周方向、軸方向について断面を作製し、走査型電子顕微鏡（日本電子社製「ＪＳＭ６７００Ｆ」）の加速電圧２．０ｋＶ、５０００倍における観察像から膜厚を測定した値である。

＜金属発熱層１０４＞
金属発熱層１０４は、磁界が印加された際にこの層内に発生する渦電流により発熱する機能を有する発熱層であり、電磁誘導作用を生ずる金属で構成される。
電磁誘導作用を生ずる金属としては、例えば、ニッケル、鉄、銅、金、銀、アルミニウム、クロム、錫、亜鉛などの単一金属、又は、２種類以上の金属を含む合金が挙げられる。コスト、発熱性能、及び加工性を考慮すると、銅、ニッケル、アルミニウム、鉄、クロムが適しており、その中でも特に、銅又は銅を主成分とする合金が好ましい。

金属発熱層１０４は、周知の方法、例えば電解めっき処理を施すことで形成される。

金属発熱層１０４の厚さは、その金属材質により最適な厚さが異なるが、例えば銅を金属発熱層１０４に用いる場合、効率的に発熱させる観点から、金属発熱層１０４の厚さは３μｍ以上５０μｍの範囲であることが好ましく、３μｍ以上３０μｍの範囲であることがより好ましく、５μｍ以上２０μｍの範囲であることがさらに好ましい。

＜金属保護層１０６＞
金属保護層１０６は、金属発熱層１０４の膜強度を向上させ、繰り返しの変形による亀裂、長時間の繰り返し加熱による酸化劣化等を抑制し、発熱特性を維持するために、金属発熱層１０４と接触して設けられる。

金属保護層１０６は、薄膜で破断強度が高く、耐久性及び耐酸化性が高いことが良く、耐酸化金属であることが好ましい。具体的には、例えば、銅、又はニッケルを含んで構成されることがよく、特に、繰り返しの変形による亀裂の発生、及び繰り返し加熱での酸化劣化等の抑制の点から、耐酸化金属であるニッケル（又はニッケル合金）を含むことが好ましい。

金属保護層１０６の厚さは、その材質により最適な厚さが異なるが、例えばニッケルによって金属保護層を形成する場合は、２μｍ以上２０μｍ以下の範囲であることが好ましく、２μｍ以上１５μｍ以下の範囲であることがより好ましく、５μｍ以上１０μｍ以下の範囲であることがさらに好ましい。

金属保護層１０６は、薄膜での加工性も考慮した場合、電解めっき法で形成することが好ましく、中でも強度が高い電解ニッケルめっきがより好ましい。
電界めっき法により形成する場合、まずニッケルイオン等の金属イオンを含むめっき液を準備し、このめっき液に下地金属層１０２及び金属発熱層１０４を有する基材層１０Ａを浸漬して電解めっきを行い、求められる厚さの電解めっき層を形成する。

＜接着剤層１０Ｃ＞
金属層１０Ｂの外周表面を構成する層（図１では金属保護層１０６）と弾性層１０Ｄとの間には、両層の接着性を向上させる観点で、必要に応じて、接着剤層１０Ｃを介在させてもよい。

なお、熱伝導性等の観点から、接着剤層１０Ｃは通常薄膜の層（例えば１μｍ以下）として設けられる。接着剤層１０Ｃの厚さとしては、接着剤層の成形容易性の観点から、０．１μｍ以上１μｍ以下が好ましく、０．２μｍ以上０．５μｍ以下がより好ましい。

接着剤層１０Ｃに用いられる接着剤としては、隣接する金属層１０Ｂが発熱した状態でも物性の変化が少なく、かつ外周表面側への伝熱性に優れるものが好ましい。具体的には、シランカップリング剤系接着剤、シリコーン系接着剤、エポキシ樹脂系接着剤、及びウレタン樹脂系接着剤等が挙げられる。

接着剤層１０Ｃの形成は、公知の方法を適用すればよく、例えば接着層形成用塗布液を、塗布法によって金属層１０Ｂ上に形成すればよい。接着層形成用塗布液の調製は、公知の方法で行えばよく、例えば、接着剤と、必要に応じて溶剤と、を混合し、攪拌することで、接着層形成用塗布液を調製すればよい。
具体的には、例えば、まず、接着層形成用塗布液を金属層１０Ｂ上に塗布（例えば、フローコート法（螺旋巻き塗布）による塗布）して、必要に応じて、乾燥および加熱することで接着剤皮膜を形成する。上記乾燥における乾燥温度としては、例えば、１０℃以上３５℃以下が挙げられ、乾燥時間としては、例えば１０分以上３６０分以下が挙げられる。また、上記加熱における加熱温度としては、１００℃以上２００℃以下の範囲が挙げられ、加熱時間としては、例えば１０分以上３６０分以下が挙げられる。なお、加熱は、不活性ガス（例えば、窒素ガス、アルゴンガス等）雰囲気下で行ってもよい。

＜弾性層１０Ｄ＞
弾性層１０Ｄは、弾性を有する層であればよく、特に限定されるものではない。
弾性層１０Ｄは、定着ベルト１０への外周側からの加圧に対して弾性を付与する観点で設けられる層であり、記録媒体上のトナー像の凹凸に追従して、定着ベルトの表面がトナー像に密着する役割を担う。

弾性層１０Ｄは、例えば、１００Ｐａの外力印加により変形させても、もとの形状に復元する弾性材料から構成されることがよい。
弾性層１０Ｄに用いられる弾性材料としては、例えば、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、シリコーンゴム、フッ素ゴム、フルオロシリコーンゴム等が挙げられる。弾性層の材質としては、耐熱性、熱伝導性、絶縁性等の観点から、シリコーンゴム及びフッ素ゴムが好ましく、シリコーンゴムがより好ましい。

シリコーンゴムとしては、例えば、ＲＴＶシリコーンゴム、ＨＴＶシリコーンゴム、液状シリコーンゴムなどが挙げられ、具体的には、ポリジメチルシリコーンゴム（ＭＱ）、メチルビニルシリコーンゴム（ＶＭＱ）、メチルフェニルシリコーンゴム（ＰＭＱ）、フルオロシリコーンゴム（ＦＶＭＱ）等が挙げられる。
シリコーンゴムの市販品としては、例えば、ダウコーニング社製の液状シリコーンゴムＳＥ６７４４等が挙げられる。

シリコーンゴムとしては、架橋形態として付加反応型を主とするものが好ましい。また、シリコーンゴムは様々な種類の官能基が知られており、メチル基を有するジメチルシリコーンゴム、メチル基とフェニル基を有するメチルフェニルシリコーンゴム、ビニル基を有するビニルシリコーンゴム（ビニル基含有シリコーンゴム）などが好ましい。なお、ビニル基を有するビニルシリコーンゴムがより好ましく、さらにビニル基を有するオルガノポリシロキサン構造とケイ素原子に結合する水素原子（ＳｉＨ）を有するハイドロジェンオルガノポリシロキサン構造とを有するシリコーンゴムが好ましい。

フッ素ゴムとしては、フッ化ビニリデン系ゴム、四フッ化エチレン／プロピレン系ゴム、四フッ化エチレン／パーフルオロメチルビニルエーテルゴム、フォスファゼン系ゴム、フルオロポリエーテル等が挙げられる。
フッ素ゴムの市販品としては、例えば、ＤｕＰｏｎｔ Ｄｏｗ ｅｌａｓｔｍｅｒｓ社製のバイトンＢ－２０２等が挙げられる。

弾性層１０Ｄに用いられる弾性材料は、シリコーンゴムが主成分である（つまり質量比で５０％以上含む）ことが好ましく、さらにその含有率は９０質量％以上であることがより好ましく、９９質量％以上であることがさらに好ましい。

弾性層１０Ｄは、弾性材料のほか、補強、耐熱、及び伝熱等を目的として、無機系の充填剤を含んでもよい。無機系の充填剤としては、公知のものが挙げられ、例えば、煙霧状シリカ、結晶性シリカ、酸化鉄、アルミナ、金属珪素等が好ましく挙げられる。
無機系の充填剤の材質としては、上記のほか炭化物（例えば、カーボンブラック、カーボンファイバ、カーボンナノチューブ等）、酸化チタン、炭化ケイ素、タルク、マイカ、カオリン、炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、酸化マグネシウム、黒鉛、窒化ケイ素、窒化ホウ素、酸化セリウム、炭酸マグネシウム等の周知の無機フィラーが挙げられる。
これらの中でも、熱伝導性の点からは、窒化ケイ素、炭化ケイ素、黒鉛、窒化ホウ素、炭化物が好ましい。
弾性層１０Ｄにおける無機系の充填剤の含有量は、求められる熱伝導性、機械的強度等により決定されればよく、例えば、１質量％以上２０質量％以下が挙げられ、３質量％以上１５質量％以下が好ましく、５質量％以上１０質量％以下がより好ましい。

また、弾性層１０Ｄは、添加剤として、例えば、軟化剤（パラフィン系等）、加工助剤（ステアリン酸等）、老化防止剤（アミン系等）、加硫剤（硫黄、金属酸化物、過酸化物等）、機能性充填剤（アルミナ等）等が含んでいてもよい。

弾性層１０Ｄの厚みは、例えば、３０μｍ以上６００μｍ以下の範囲であることがよく、１００μｍ以上５００μｍ以下の範囲であることが好ましい。

弾性層１０Ｄの形成は、公知の方法を適用すればよく、例えば、塗布法によって接着剤層１０Ｃ上に形成すればよい。
弾性層１０Ｄの弾性材料としてシリコーンゴムを用いる場合、例えば、まず、加熱により硬化されてシリコーンゴムとなる液状シリコーンゴムを含む弾性層形成用塗布液を調製する。次に、接着層形成用塗布液の塗布及び乾燥により形成された接着剤皮膜上に、弾性層形成用塗布液を塗布（例えば、フローコート法（螺旋巻き塗布）による塗布）して弾性塗膜を形成し、例えば、必要に応じて弾性塗膜を加硫させることで、接着剤層上に弾性層が形成される。なお、加硫における加硫温度としては、例えば１５０℃以上２５０℃以下が挙げられ、加硫時間としては、例えば３０分以上１２０分以下が挙げられる。

＜離型層１０Ｅ＞
離型層１０Ｅは、記録媒体と接触する側の面（外周面）に、定着時に溶融状態のトナー像が固着するのを抑制する役割を担う層である。離型層は、必要に応じて設けられる。

離型層１０Ｅは、例えば耐熱性や離型性が求められる。この観点から、離型層を構成する材料には耐熱性離型材料を用いることが好ましく、具体的にはフッ素ゴム、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミド樹脂等が挙げられる。
これらの中でも、耐熱性離型材料としては、フッ素樹脂がよい。
フッ素樹脂として、具体的には、テトラフルオロエチレン－パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン－ヘキサフルオロプロピレン共重合体（ＦＥＰ）、ポリエチレン－テトラフルオロエチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリクロロ三フッ化エチレン（ＰＣＴＦＥ）、フッ化ビニル（ＰＶＦ）等が挙げられる。

離型層の弾性層側の面には表面処理を施してもよい。表面処理としては、湿式処理であっても乾式処理であってもよく、例えば、液体アンモニア処理、エキシマレーザ処理、プラズマ処理等が挙げられる。

離型層１０Ｅの厚さは、１０μｍ以上１００μｍ以下の範囲であることがよく、２０μｍ以上５０μｍ以下の範囲であることがより好ましい。

離型層１０Ｅの形成は公知の方法を適用すればよく、例えば塗布法によって形成すればよい。
また、離型層１０Ｅは、チューブ状の離型層を予め準備し、例えばチューブの内面に接着剤層を形成した上で、弾性層１０Ｄの外周上に被覆させることで、離型層１０Ｅを形成してもよい。

＜定着装置＞
本実施形態に係る定着装置は、前述の本実施形態に係る定着ベルトと、前記定着ベルトの外周面を加圧し、未定着のトナー画像が表面に形成された記録媒体を前記定着ベルトと共に挟み込む加圧部材と、前記定着ベルトの金属層の少なくとも一部（具体的には、金属発熱層）を電磁誘導によって発熱させる電磁誘導装置と、を有する。
以下、本実施形態に係る定着装置の一例を説明するが、これに限られない。

図２は、本実施形態に係る定着装置の一例を示す概略構成図である。
本実施形態に係る定着装置１００は上記本実施形態に係る定着ベルトを備える電磁誘導方式の定着装置である。図２に示すごとく、定着ベルト１０の一部を加圧するよう加圧ロール（加圧部材）１１が配置され、効率的に定着を行う観点で定着ベルト１０と加圧ロール１１との間に接触領域（ニップ）が形成され、定着ベルト１０は加圧ロール１１の周面に沿った形に湾曲している。また、記録媒体の剥離性を確保する観点で前記接触領域（ニップ）の末端において定着ベルト１０が屈曲する屈曲部が形成される。

加圧ロール１１は、基材１１Ａ上にシリコーンゴム等による弾性層１１Ｂが形成され、さらに弾性層１１Ｂ上にフッ素系化合物による離型層１１Ｃが形成されて構成されている。

定着ベルト１０の内側には、加圧ロール１１と対向する位置に対向部材１３が配置されている。対向部材１３は、金属、耐熱性樹脂、耐熱ゴム等からなり、定着ベルト１０の内周面に接して局所的に圧力を高めるパッド１３Ｂと、パッド１３Ｂを支持する支持体１３Ａを有している。

定着ベルト１０を中心として加圧ロール１１（加圧部材の一例）と対向する位置には、電磁誘導コイル（励磁コイル）１２ａを内蔵した電磁誘導発熱装置１２が設けられている。電磁誘導発熱装置（電磁誘導装置）１２は、電磁誘導コイルに交流電流を印加することにより、発生する磁場を励磁回路で変化させ、定着ベルト１０の金属層１０Ｂ（特に図１に示す態様の定着ベルトでは金属発熱層１０４）に渦電流を発生させる。この渦電流が金属層１０Ｂの電気抵抗によって熱（ジュール熱）に変換され、結果的に定着ベルト１０の表面が発熱する。
なお、電磁誘導発熱装置１２の位置は図２に示す位置に限定されず、例えば、定着ベルト１０の接触領域に対して回転方向Ｂの上流側に設置されていてもよいし、定着ベルト１０の内側に設置されていてもよい。

本実施形態に係る定着装置１００では、定着ベルト１０の端部に固定されたギアに駆動装置により駆動力が伝達されることで、定着ベルト１０が矢印Ｂ方向に自己回転し、定着ベルト１０の回転に伴って加圧ロール１１は逆方向、すなわち矢印Ｃ方向に回転する。
未定着トナー像１４が形成された記録媒体１５は、矢印Ａ方向に、定着装置１００における定着ベルト１０と加圧ロール１１との接触領域（ニップ）に通され、未定着トナー像１４が溶融状態として圧力が加えられて記録媒体１５に定着される。

ここで、本実施形態に係る定着装置１００において、電磁誘導装置による定着ベルトの表面の、例えば２５℃から１２０℃までの昇温速度が４０℃／ｓｅｃ以上（好ましくは５０℃／ｓｅｃ以上６０℃／ｓｅｃ以下）とすることがよい。
４０℃／ｓｅｃ以上（好ましくは５０℃／ｓｅｃ以上６０℃／ｓｅｃ以下）という早い昇温速度で、定着ベルトを加熱すると、樹脂基材層中に含まれる水分に起因する、樹脂基材層と金属層との剥がれが発生し易くなる。
しかし、本実施形態に係る定着ベルトを採用することで、早い昇温速度で、定着ベルトを加熱しても、樹脂基材層と金属層との剥がれが抑制される。

＜画像形成装置＞
本実施形態に係る画像形成装置は、像保持体と、前記像保持体の表面を帯電させる帯電装置と、帯電した前記像保持体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成装置と、前記像保持体の表面に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置と、前記像保持体の表面に形成されたトナー像を記録媒体に転写する転写装置と、前記トナー像を前記記録媒体に定着させる本実施形態に係る定着装置と、を有する。

図３は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置２００は、図３に示すように、感光体（像保持体の一例）２０２、帯電装置２０４、レーザ露光装置（潜像形成装置の一例）２０６、ミラー２０８、現像装置２１０、中間転写体２１２、転写ロール（転写装置の一例）２１４、クリーニング装置２１６、除電装置２１８、定着装置１００、及び給紙装置（給紙ユニット２２０、給紙ローラ２２２、位置合わせローラ２２４、及び記録媒体ガイド２２６）を備えている。

この画像形成装置２００で画像形成を行う場合、まず、感光体２０２に近接して設けられた非接触型の帯電装置２０４が、感光体２０２の表面を帯電させる。

帯電装置２０４により帯電した感光体２０２の表面に各色の画像情報（信号）に応じたレーザ光が、ミラー２０８を介してレーザ露光装置２０６より照射されて静電潜像が形成される。

現像装置２１０は、感光体２０２の表面に形成された潜像にトナーを付与することによりトナー像を形成する。現像装置２１０は、シアン、マゼンタ、イエロー、ブラックの４色のトナーをそれぞれ収容した各色の現像器（不図示）を備えており、現像装置２１０が矢印方向に回転することにより、感光体２０２の表面に形成されている潜像に各色のトナーを付与し、トナー像が形成される。

感光体２０２の表面に形成された各色のトナー像は、感光体２０２と中間転写体２１２との間に印加されたバイアス電圧により、感光体２０２と中間転写体２１２との接触部において、各色のトナー像毎に画像情報と一致するように中間転写体２１２の外周面に重ねて転写される。

中間転写体２１２は、外周面が感光体２０２の表面に接触し矢印Ｅ方向に回転する。
中間転写体２１２の周囲には、感光体２０２の他に、転写ロール２１４が設けられている。

多色のトナー像が転写された中間転写体２１２は矢印Ｅ方向に回転する。中間転写体２１２上のトナー像は、転写ロール２１４と中間転写体２１２との接触部において、給紙装置によって接触部に矢印Ａ方向に搬送されてきた記録媒体１５の表面に転写される。

なお、中間転写体２１２と転写ロール２１４との接触部への給紙は、給紙ユニット２２０に収納された記録媒体が、給紙ユニット２２０に内蔵された不図示の記録媒体押し上げ手段により給紙ローラ２２２に接触する位置まで押し上げられ、その記録媒体１５が給紙ローラ２２２に接触した時点で、給紙ローラ２２２及び位置合わせローラ２２４が回転することにより記録媒体ガイド２２６に沿って矢印Ａ方向に搬送されることにより行われる。

記録媒体１５の表面に転写されたトナー像は、矢印Ａ方向に移動し、定着ベルト１０と加圧ロール１１との接触領域（ニップ）では、トナー像１４は溶融状態で記録媒体１５の表面に押圧され、記録媒体１５の表面に定着される。これにより、記録媒体の表面に定着した画像が形成される。

中間転写体２１２の表面にトナー像を転写した後の感光体２０２の表面はクリーニング装置２１６によって清掃される。
感光体２０２の表面はクリーニング装置２１６によって清掃された後、除電装置２１８によって除電される。

以下、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

＜実施例１＞
（ポリイミド樹脂基材層）
外径３０ｍｍの円筒形ステンレス型の表面に、下記構造式（ＰＩ）で示される繰り返し単位からなるポリイミド樹脂の前駆体塗料を塗布し、３９０℃で６０分焼成してイミド化させ、ステンレス型の表面からポリイミド皮膜を剥離することにより、内径３０ｍｍ、膜厚６０μｍ、長さ３９０ｍｍの無端ベルト状のポリイミド樹脂基材層を得た。

（下処理）
ブラスト処理済の６０μｍのポリイミド基材層を、ｐＨ１１に調整した水酸化ナトリウム水溶液を温度５℃で５分間浸漬した。

（金属層形成）
次に、ポリイミド樹脂基材層の外周面に、下地金属層として膜厚０．３μｍの無電解ニッケルめっき層、金属発熱層として１０μｍの電解銅めっき層と、金属保護層として１０μｍの層を順次形成した。

（弾性層形成）
次に、得られた層の外周面に、液状シリコーンゴム（Ｘ３４－１０５３、信越化学工業社製）を膜厚２００μｍになるように塗布し１１０℃１５分で硬化させ弾性層を得た。

（離型層形成）
次に、ＰＦＡ（三井デュポンフロロケミカル（株）製、４５１ＨＰ－Ｊ）を原料とするフッ素樹脂チューブを、射出成形により成形した。
次に、フッ素樹脂チューブの内面にプラズマ処理を施した。このフッ素樹脂チューブを弾性層の上に被せ、２００℃４時間加熱し、フッ素樹脂チューブからなる離型層を形成した。

以上の工程を経て、定着ベルトを得た。

＜実施例２＞
下処理を実施する前にポリイミド樹脂基材層を３００℃で１時間追加加熱した。次に、下処理において、ブラスト処理済の６０μｍのポリイミド基材を、ｐＨ１１に調整した水酸化ナトリウム水溶液を温度５０℃で５分間浸漬した。それ以外は実施例１と同様の方法で定着ベルトを得た。

＜比較例１＞
下処理において、ブラスト処理済の６０μｍのポリイミド樹脂基材層を、ｐＨ１１に調整した水酸化ナトリウム水溶液を温度６０℃の水溶液に１０分間浸漬した。それ以外は実施例１と同様の方法でＩＨベルトを得た。

＜吸水率測定＞
各例の定着ベルトの吸水率について、既述の方法に従って測定した。

＜画像形成評価＞
各例の定着ベルトを、９５℃１００％ＲＨの環境下で９６時間保管した。
保管後の定着ベルトを、画像形成装置「ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ－IV Ｃ５５７１（富士ゼロックス社製）」の定着装置に装着した。
ただし、定着装置は、定着ベルトの表面の、室温（２５℃）から１２０℃までの昇温速度が５０℃／ｍｉｎとなるように調整した。
この画像形成装置を用いて、Ａ４用紙（Ｎｃｏｌｏｒ０８１ 坪量８１グラム／平方メートル）に、画像濃度５０％のハーフトーン画像を１０枚出力した。
出力した画像の画質不良又は紙しわの有無と、および定着ベルトを観察して基材層と金属層と界面での剥離有無について目紙観察した。以下の基準で評価した。
Ａ（○）： 界面での剥離、画質不良／紙しわ 発生無し
Ｂ（×）： 界面での剥離、画質不良／紙しわ 発生あり

上記結果から、本実施例の定着ベルトは、比較例の定着ベルトに比べ、界面での剥離が抑制され、画質不良又は紙しわの発生も抑制されていることがわかる。

１０ ベルト
１０Ａ 基材
１０２ 下地金属層
１０４ 金属発熱層
１０６ 金属保護層
１０Ｂ 金属層
１０Ｃ 接着剤層
１０Ｄ 弾性層
１０Ｅ 離型層
１１ 加圧ロール
１１Ａ 基材
１１Ｂ 弾性層
１１Ｃ 離型層
１２ 電磁誘導発熱装置
１３ 対向部材
１３Ａ 支持体
１３Ｂ パッド
１４ トナー像
１５ 記録媒体
１００ 定着装置
２００ 画像形成装置
２０２ 感光体
２０４ 帯電装置
２０６ 露光装置
２１０ 現像装置
２１２ 中間転写体
２１４ 転写ロール

Claims (10)

1. 下記測定法により定義される吸水率が３％以下の環状の樹脂基材層と、
   前記樹脂基材層の外周面上に設けられた金属層と、
   前記金属層の外周面上に設けられた弾性層と、
   を有する定着ベルト。
   －吸水率の測定法－
   （１）沸騰した熱水に、測定対象の前記樹脂基材層の試料を１時間浸漬した後、吸水した前記樹脂基材層の試料の質量Ｗ１を測定する。
   （２）吸水した前記樹脂基材層の試料を、１２０℃で２時間乾燥した後、乾燥した前記樹脂基材層の試料の質量Ｗ２を測定する。
   （３）下記式により、前記樹脂基材層の吸水率を算出する。
   式：吸水率（質量％）＝（Ｗ１－Ｗ２）／Ｗ２×１００
2. 前記樹脂基材層の吸水率が、２．５％以下である請求項１に記載の定着ベルト。
3. 前記樹脂基材層の吸水率が、０．５％以上２．３％以下である請求項２に記載の定着ベルト。
4. 前記樹脂基材層が、芳香族ポリイミド樹脂を含む基材層である請求項１～請求項３のいずれか１項に記載の定着ベルト。
5. 前記芳香族ポリイミド樹脂が、下記一般式（ＰＩ１）で表される構造単位を有するポリイミド樹脂である請求項４に記載の定着ベルト。
   
   
   （一般式中、Ｒ^Ｐ１はフェニル基、またはビフェニル基を示し、Ｒ^Ｐ２は２価の芳香族基を示す。）
6. 前記金属層が、前記樹脂基材層の外周面上に設けられた下地金属層と、前記下地金属層の外周面上に設けられた金属発熱層と、前記金属発熱層の外周面上に設けられた金属保護層と、を有する請求項１～請求項５のいずれか１項に記載の定着ベルト。
7. 請求項１～請求項６のいずれか１項に記載の定着ベルトと、
   前記定着ベルトの外周面を加圧する加圧部材と、
   前記定着ベルトの金属層の少なくとも一部を電磁誘導によって発熱させる電磁誘導装置と、
   を有し、
   未定着のトナー像が表面に形成された記録媒体を前記定着ベルトと前記加圧部材とで挟み込んで前記トナー像を前記記録媒体に定着させる定着装置。
8. 前記電磁誘導装置による前記定着ベルトの表面の、２５℃から１２０℃までの昇温速度が４０℃／ｓｅｃ以上である請求項７に記載の定着装置。
9. 前記昇温速度が、５０℃／ｓｅｃ以上６０℃／ｓｅｃ以下である請求項８に記載の定着装置。
10. 像保持体と、
    前記像保持体の表面を帯電させる帯電装置と、
    帯電した前記像保持体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成装置と、
    前記像保持体の表面に形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置と、
    前記像保持体の表面に形成されたトナー像を記録媒体に転写する転写装置と、
    前記トナー像を前記記録媒体に定着させる請求項７～請求項９のいずれか１項に記載の定着装置と、
    を有する画像形成装置。