JP7466130B2 - ガラスパネルユニット、ガラスパネルユニットの製造方法 - Google Patents

Description

本開示は、ガラスパネルユニット、ガラスパネルユニットの製造方法に関する。詳細には、断熱用ガラスパネルユニット、断熱用ガラスパネルユニットを製造する方法に関する。

特許文献１には、ガラスパネルユニットの製造方法が開示されている。この方法では、第１基板と、第２基板と、ガス吸着体と、ガラス粉末及びバインダを含むガラス接着剤と、を含むガラス複合物を加熱することにより前記バインダを除去している。そして、バインダとして樹脂が用いられている。

国際公開第２０１７／０５６４１６号公報

しかし、特許文献１のように加熱によりバインダを除去しても、第１基板と第２基板とガラス接着剤の溶融物とで囲まれた内部空間を排気してなる減圧空間（真空空間）に、バインダや有機溶剤に由来するガス、ガラス接着剤に含まれる気泡から放出されるガスが残ってしまう可能性がある。また、第１基板及び第２基板に付着した有機汚染物質からもガスが放出される可能性がある。しかも、このガスをガス吸着体が十分に吸着できない可能性もある。

本開示の課題は、真空空間内にガスが残りにくくすることができる、ガラスパネルユニット、ガラスパネルユニットの製造方法を提供することである。

本開示の一態様に係るガラスパネルユニットは、第１ガラス板と、第２ガラス板と、枠体と、真空空間と、ガス吸着体と、を備える。前記第２ガラス板は、前記第１ガラス板に対向する。前記枠体は、前記第１ガラス板と前記第２ガラス板とを気密に接合する。前記真空空間は、前記第１ガラス板と、前記第２ガラス板と、前記枠体とで囲まれている。前記ガス吸着体は、前記真空空間内に配置されている。前記ガス吸着体は、少なくとも、ゼオライトからなる粒子と、セリウム化合物からなる粒子と、を含有する混合物である複合ゲッタ材を有している。

本開示の他の一態様に係るガラスパネルユニットの製造方法は、加工工程と、組立工程と、接合工程と、排気工程とを含む。前記加工工程は、複合ゲッタ材作製工程を含む。前記複合ゲッタ材作製工程は、ゼオライトからなる粒子と、セリウム化合物からなる粒子と、を含有する混合物である複合ゲッタ材を得る。前記組立工程は、組立て品を用意する工程である。前記組立て品は、第１ガラス板と、第２ガラス板と、枠状の周壁と、内部空間と、ガス吸着体と、排気口とを備える。前記第２ガラス板は、前記第１ガラス板に対向する。前記枠状の周壁は、前記第１ガラス板と前記第２ガラス板との間にある。前記内部空間は、前記第１ガラス板と、前記第２ガラス板と、前記周壁とで囲まれている。前記ガス吸着体は、前記内部空間内に配置され、かつ前記複合ゲッタ材を含有する。前記排気口は、前記内部空間と外部空間とをつなぐ。前記接合工程は、前記周壁を溶融させて前記第１ガラス板と前記第２ガラス板とを気密に接合させる工程である。前記排気工程は、前記排気口を介して前記内部空間を排気して真空空間とする工程である。

本開示の他の一態様に係るガラスパネルユニットの製造方法は、加工工程と、組立工程と、接合工程と、排気工程とを含む。前記加工工程は、ゲッタペースト作製工程を含む。前記ゲッタペースト作製工程は、ゼオライトからなる粒子を含有する第１のゲッタペーストと、セリウム化合物からなる粒子を含有する第２のゲッタペーストと、をそれぞれ得る。前記組立工程は、組立て品を用意する工程である。前記組立て品は、第１ガラス板と、第２ガラス板と、枠状の周壁と、内部空間と、第１のガス吸着体と、第２のガス吸着体と、排気口と、を備える。前記第２ガラス板は、前記第１ガラス板に対向する。前記枠状の周壁は、前記第１ガラス板と前記第２ガラス板との間にある。前記内部空間は、前記第１ガラス板と、前記第２ガラス板と、前記周壁とで囲まれている。前記第１のガス吸着体は、前記内部空間内に配置され、かつ前記第１のゲッタペーストから形成される。前記第２のガス吸着体は、前記内部空間内に配置され、かつ前記第２のゲッタペーストから形成されている。前記排気口は、前記内部空間と外部空間とをつなぐ。前記接合工程は、前記周壁を溶融させて前記第１ガラス板と前記第２ガラス板とを気密に接合させる工程である。前記排気工程は、前記排気口を介して前記内部空間を排気して真空空間とする工程である。

本開示によれば、真空空間内にガスが残りにくくすることができる。

図１Ａは、第１実施形態に係るガラスパネルユニットの中間体である組立て品を示す平面図である。図１Ｂは、図１ＡのＡ－Ａ線断面図である。 図２は、同上のガラスパネルユニットを示す平面図である。 図３は、第１実施形態に係るガラスパネルユニットの製造方法の説明図である。 図４は、第１実施形態に係るガラスパネルユニットの製造方法の説明図である。 図５は、第１実施形態に係るガラスパネルユニットの製造方法の説明図である。 図６は、第１実施形態に係るガラスパネルユニットの製造方法の説明図である。 図７は、第１実施形態に係るガラスパネルユニットの製造方法の説明図である。 図８は、第１実施形態に係るガラスパネルユニットの製造方法の説明図である。 図９Ａは、第２実施形態に係るガラスパネルユニットを示す平面図である。図９Ｂは、図９ＡのＢ－Ｂ線断面図である。 図１０は、第２実施形態に係るガラスパネルユニットの製造方法の説明図である。 図１１は、第２実施形態に係るガラスパネルユニットの中間体である組立て品を示す平面図である。 図１２は、第２実施形態に係るガラスパネルユニットの製造方法の説明図である。 図１３は、第２実施形態に係るガラスパネルユニットの製造方法の説明図である。 図１４は、第２実施形態に係るガラスパネルユニットの製造方法の説明図である。 図１５Ａは、第３実施形態に係るガラスパネルユニットの中間体である組立て品を示す説明図である。図１５Ｂは、第３実施形態に係るガラスパネルユニットの中間体である組立て品を示す説明図である。 図１６は、第４実施形態に係るガラスパネルユニットの製造方法の説明図である。 図１７は、酸化セリウム（ＩＶ）粉末を加熱したときに、酸化セリウム（ＩＶ）粉末から脱離した酸素の量に相当する強度（検出強度）と、温度との関係を示すグラフである。 図１８Ａは、銅イオン交換ゼオライト粉末を使用した複合ゲッタ材における酸化セリウム（ＩＶ）の添加量と、ガラスパネルユニットの熱コンダクタンスとの関係を示すプロット図である。図１８Ｂは、水素イオン交換ゼオライト粉末を使用した複合ゲッタ材における酸化セリウム（ＩＶ）の添加量と、ガラスパネルユニットの熱コンダクタンスとの関係を示すプロット図である。 図１９は、複合ゲッタ材における酸化セリウム（ＩＶ）の濃度と、ガラスパネルユニットの熱コンダクタンスとの関係を示すプロット図である。 図２０は、酸化セリウム（ＩＶ）粉末を加熱したときに、酸化セリウム（ＩＶ）から脱離した酸素の放出量と、温度との関係を示すグラフである。 図２１は、ゲッタ材における酸化セリウム（ＩＶ）の量と、ガラスパネルユニットの熱コンダクタンスとの関係を示すプロット図である。

まず、本開示に至った経緯を説明する。

ガラスパネルユニットは、２つのガラス板の間に真空空間を形成することで、断熱性を有する。このようなガラスパネルユニットの断熱性は、２つのガラス板の間に真空空間があっても、この真空空間にガスが残ることで低下してしまうと考えられる。このため、真空空間内にガスが残る量を減らすため、ガス吸着体が真空空間内に設けられている（特許文献１参照）。

しかし、ガス吸着体はガス吸着性を有する成分（ガス吸着成分）を１種類だけ含有していることが多い。このようなガス吸着体を用いた場合、ガス吸着成分に吸着されなかったガスは残留ガスとして真空空間内に存在してしまう可能性がある。

また、単純に２種以上のガス吸着成分を組み合わせただけでは、真空空間という低圧の環境下でガスの残留を抑えることは困難と考えられた。言い換えると、真空空間内のガス吸着に適したガス吸着成分を２種以上選択することは容易でないと考えられた。

そこで、発明者らは、鋭意研究の結果、真空空間内に、水蒸気、二酸化炭素、酸素、窒素、及びメタン等の各種ガス成分が存在し、中でも水蒸気及び二酸化炭素が占める割合が高いことを見出した。その一方で、窒素やメタンはガス吸着体に吸着されにくく、ガス吸着体の量を増やしても残留してしまっていることを突き止めた。このため、窒素やメタン等も含めて十分に吸着できるガス吸着体を用いることが必須である。しかし、窒素やメタンは吸着されにくい種類のガスであり、一般的なガス吸着体で十分に吸着させることは難しく、特にガス吸着体を１０Ｐａ以下の真空空間で用いる場合にはさらに十分な吸着をさせることが難しくなる。

また、一般に、例えばゼオライトのようなガス吸着体がガスを吸着できるようにするためには、吸着サイトにすでに吸着されているガスを事前に脱離させておかなければならない。しかし、窒素やメタンのような吸着されにくいガスですら吸着することが可能なガス吸着体は、強力なガス吸着力を持つということであり、ガス脱離の活性化エネルギーが高くなる。すなわち、例えば大気中にガス吸着材が放置されていた場合、すでに窒素やメタン以外のガスを強く吸着してしまっているため、これらのガスを脱離させるためには多大なエネルギーが必要になる。特に、３５０℃以下でガスを脱離させるときにこの傾向は顕著になる。また、ガス吸着体を用いた結果、窒素やメタンの分圧合計を１０Ｐａ以下にする必要がある場合など、低い平衡圧を保つためにはさらに強力な吸着力が必要になり、この傾向はさらに顕著となる。

このため、例えば真空空間が形成されたガラスパネルユニットの製造プロセスを低温化させると、ガラスパネルユニットの製造プロセス中でガス吸着体からガスを十分に脱離させることが困難になる。よって、ガス吸着体の吸着サイトを十分に空けることができず、窒素やメタン等を十分吸着させることが困難になる。すなわち、ガス吸着体によって十分な量の窒素やメタンが吸着されることができる状態を、３５０℃以下の低温プロセスで実現することは、これまでは原理的に困難であった。

これらの課題を解決するため、本開示に至った。

なお、以下では、ゼオライトからなる粒子を「ゼオライト粒子」という場合がある。またセリウム化合物からなる粒子を「セリウム化合物粒子」という場合がある。ゼオライト粒子は、ほとんどの構成成分がゼオライトであるが、不可避的に含まれる不純物を成分として含んでいてもよい。同様に、セリウム化合物粒子は、ほとんどの構成成分がセリウム化合物であるが、不可避的に含まれる不純物を構成成分として含んでいてもよい。

＜第１実施形態＞
次に、本実施形態に係るガラスパネルユニット１０の製造方法の概要を説明する。

ガラスパネルユニット１０の製造方法は、加工工程と、組立工程（図３～図５参照）と、接合工程（第１溶融工程、図６参照）と、排気工程（図６参照）とを含む。加工工程は、少なくとも、ゼオライトからなる粒子と、セリウム化合物からなる粒子と、を含有する複合ゲッタ材を得る複合ゲッタ材作製工程を含む。組立工程は、組立て品１００を用意する工程である。組立て品１００は、第１ガラス板２００と、第２ガラス板３００と、枠状の周壁４１０と、内部空間５００と、ガス吸着体６０と、排気口７００とを備える（図１Ａ及び図１Ｂ参照）。第２ガラス板３００は、第１ガラス板２００に対向する。周壁４１０は、第１ガラス板２００と第２ガラス板３００との間にある。内部空間５００は、第１ガラス板２００と、第２ガラス板３００と、周壁４１０とで囲まれる。ガス吸着体６０は、内部空間５００内に配置され、かつ上記の複合ゲッタ材を含有する。排気口７００は、内部空間５００と外部空間とをつなぐ。接合工程は、周壁４１０を溶融させて第１ガラス板２００と第２ガラス板３００とを気密に接合させる工程である。排気工程は、排気口７００を介して内部空間５００を排気して真空空間５０とする工程である。

上記の製造方法によれば、ガス吸着体６０が、少なくとも、ゼオライトからなる粒子（ゼオライト粒子）と、セリウム化合物からなる粒子（セリウム化合物粒子）と、を含有することで、真空空間５０内において、セリウム化合物粒子が吸着しやすいＣＯ_２などのガスを吸着する。よって、ゼオライトの吸着サイトがＣＯ_２で埋まってしまうことを防ぎ、ゼオライトでしか吸着できない窒素やメタン等を吸着するに十分な吸着サイトを確保することができる。このため、ゼオライト及びセリウム化合物のうち、一方だけでは吸着されにくい窒素やメタンガスを十分に吸着できるようになり、これらのガスが真空空間５０内に残りにくくなる。すなわち、真空空間５０内の残留ガスが少なくなる。

なお、「ゲッタ材」とは、所定の大きさより小さい分子を吸着する性質を有する材料を意味する。本実施形態においては、ゼオライト粒子及び複数のゼオライト粒子の集合体（粉末）はゲッタ材である。またセリウム化合物粒子及び複数のセリウム化合物粒子の集合体（粉末）もゲッタ材である。「複合ゲッタ材」とは、複数種のゲッタ材を含有するゲッタ材である。本実施形態において、複合ゲッタ材は、ゼオライト粒子とセリウム化合物粒子の両方を含んでいる。また複合ゲッタ材は、ゼオライト粒子及びセリウム化合物粒子以外の他のゲッタ材を含んでいてもよい。

次に、本実施形態に係るガラスパネルユニット１０の製造方法（以下、製造方法という場合がある）を、図１～図８を参照して詳細に説明する。この製造方法は、図２のようなガラスパネルユニット１０を製造する方法である。なお、本実施形態では、方向Ｄ１は第１ガラス板２００の厚み方向と平行な方向であり、方向Ｄ２は、方向Ｄ１と直交する方向であり、方向Ｄ３は方向Ｄ１及び方向Ｄ２と直交する方向である。また方向Ｄ１は第１方向であってもよく、方向Ｄ２は第２方向であってもよく、方向Ｄ３は第３方向であってもよい。

製造方法は、準備工程と、除去工程とを含む。

準備工程は、図７に示す仕掛り品１１０を用意する工程である。仕掛り品１１０は、図１Ａ及び図１Ｂに示す組立て品１００から形成される。すなわち、仕掛り品１１０はガラスパネルユニット１０（図２参照）を作製するための中間生成物であり、組立て品１００は仕掛り品１１０を作製するための中間生成物である。

準備工程は、加工工程と、組立工程（図３～図５参照）と、接合工程（第１溶融工程、図６参照）と、排気工程（図６参照）と、封止工程（第２溶融工程、図６及び図７参照）とを含む。

加工工程は、複合ゲッタペーストを用意する工程である。この複合ゲッタペーストは、少なくとも、ゼオライトからなる粒子と、セリウム化合物からなる粒子と、溶媒（例えば、水）とを含有する。そして、ガス吸着体６０は複合ゲッタペーストの乾燥物である。これにより、第２溶融工程後にセリウム化合物が酸素を僅かに放出しても、この酸素をゼオライトが吸着する。このため、内部空間５００を排気した減圧空間（後述の真空空間５０）中に含まれる酸素の量を低減できる。セリウム化合物は減圧空間中の二酸化炭素に対して高い吸着性を有するため、減圧空間に含まれる二酸化炭素の量を低減できる。また、このように減圧空間に含まれる二酸化炭素の量を低減できると、ゼオライトの窒素やメタン等を吸着可能な吸着サイトが二酸化炭素で埋まってしまうことを防ぐことができる。その結果、セリウム化合物では吸着が難しい窒素及びメタンをゼオライトが十分に吸着することができる。したがって、減圧空間内にゼオライトとセリウム化合物とが存在することで、いずれか単体の場合よりも二酸化炭素だけでなく、窒素及びメタン等の炭化水素量も減らすことができ、減圧空間内の残留ガスが少なくなる。

なお、本実施形態では後述する熱接着剤（第１熱接着剤及び第２熱接着剤）の融点等を特に限定しないが、酸化セリウム粒子と銅イオン交換ゼオライト粒子を混合する効果は、熱接着剤の融点が４００℃以下のときに顕著になり、３５０℃以下のときにさらに顕著になる。または、排気工程の温度が３５０℃以下のときに特に顕著になる。これは、３５０℃を超えると、排気工程などの熱処理時に銅イオン交換ゼオライトが吸着しているガスを比較的脱離させやすくすることができるからである。すなわち、熱接着剤の融点が３５０℃以下の条件又は排気工程での温度が３５０℃以下の条件であっても、減圧空間内の残留ガスを少なくすることができる。

なお、酸化セリウム粒子とは、セリウム化合物として酸化セリウムを含む粒子であり、銅イオン交換ゼオライト粒子とは、ゼオライトとして銅イオン交換ゼオライトを含む粒子である。

加工工程は、加熱工程と、複合ゲッタ材作製工程と、混合工程とを含む。なお、この加工工程における加熱工程を省略しても、ゼオライト粒子にセリウム化合物粒子を混合する効果は得られる。このため、必ずしもゼオライト粒子またはセリウム化合物粒子に対して加熱工程を実施しなくてもよい。

加熱工程は、ゼオライト粒子とセリウム化合物粒子とのうちの一方又は両方を加熱する工程である。ゼオライト粒子とセリウム化合物粒子との両方を加熱する場合、ゼオライト粒子とセリウム化合物粒子とを分けて加熱してもよく、ゼオライト粒子とセリウム化合物粒子との混合物を加熱してもよい。また、ゼオライト粒子とセリウム化合物粒子とのうち一方を加熱する場合、残りの成分を加熱しなくてもよい。具体的には、ゼオライト粒子だけ加熱してセリウム化合物粒子を加熱しなくてもよく、あるいはセリウム化合物粒子だけ加熱してゼオライト粒子を加熱しなくてもよい。加熱工程の温度は、排気工程の温度（後述の排気温度Ｔｅ）よりも高いことが好ましく、第１溶融工程の温度（後述の第１溶融温度Ｔｍ１）よりも高いことがより好ましく、第２溶融工程の温度（後述の第２溶融温度Ｔｍ２）よりも高いことが特に好ましい。この場合、組立て品１００を作製する前に、ゼオライト粒子とセリウム化合物粒子とのうち一方又は両方が吸着していたガス成分を脱離させることができる。特にセリウム化合物粒子を加熱すると、セリウム化合物粒子から酸素を脱離させることができる。これにより、内部空間５００にセリウム化合物が酸素を放出する量を抑えることができ、しかもセリウム化合物粒子が有するガス吸着性を向上させることができる場合がある。

また、加熱工程において、ゼオライト粒子のみ、またはゼオライト粒子とセリウム化合物粒子との両方を加熱すると、ゼオライト粒子及びセリウム化合物粒子の各々に吸着されていた酸素を加熱工程によって脱離させることができる。これにより、接合工程以降で酸素を脱離させる量を減らすことができるため、排気工程を低温化でき、その結果、第１溶融工程、及び第２溶融工程を低温化させることができる。したがって、ガラスパネルユニット１０の製造コストを削減することができる。

ゼオライトは、複数のゼオライト構造を有する多孔質の成分である。このため、ゼオライト粒子は複数の細孔を有する。そして、この細孔内に、ガスが吸着される。ゼオライトが吸着するガスとして、例えば、水蒸気、二酸化炭素、酸素、窒素、及びメタン等の炭化水素等が挙げられる。中でも、ゼオライトは、セリウム化合物が吸着しにくい窒素及び炭化水素等のガス（特に窒素）を減圧空間内で吸着することができる。ゼオライト構造は、下記一般式（１）の組成を有する。
Ｍｅ_２／ＸＯ・Ａｌ_２Ｏ_３・ｍＳｉＯ_２・ｎＨ_２Ｏ …（１）
ここで、Ｍｅは細孔内に存在するｘ価のカチオンである。ｍはシリカ／アルミナ比であり、２以上の整数である。ｎは０以上の整数である。式（１）の組成中、各Ａｌで１価の負電荷が生じている。このため、Ｍｅが２価以上のカチオンである場合、ゼオライト粒子の細孔内で正電荷が生じる。また、Ｍｅが１価のカチオンである場合、細孔内は電気的に中性となる。

ゼオライト構造では、Ｍｅは１価のカチオンであってもよい。Ｍｅは２価以上のカチオンであってもよい。Ｍｅは１価のカチオンと、２価以上のカチオンを組み合わせていてもよい。１価のカチオンとして、例えば、Ｌｉ^＋、Ｎａ^＋、及びＫ^＋等のアルカリ金属イオン；プロトン；並びにアンモニウムイオン（ＮＨ^４＋）、Ａｇ^＋等が挙げられる。２価以上のカチオンとして、Ｃａ^２＋、Ｍｇ^２＋、及びＢａ^２＋等のアルカリ土類金属イオン；並びにＣｕ^２＋、Ａｕ^２＋、Ｆｅ^２＋、Ｚｎ^２＋及びＮｉ^２＋等の遷移金属イオンが挙げられる。

ゼオライト構造として、例えば、Ａ型ゼオライト構造、Ｘ型ゼオライト構造、Ｙ型ゼオライト構造、及びＺＳＭ－５構造等が挙げられる。ゼオライトは、上記の構造以外の任意のゼオライト構造を含有してもよい。

一般式（１）中の水（Ｈ_２Ｏ）は、結晶水としてゼオライトに含まれている。このような水は、例えば、ゼオライト粒子の細孔内に含まれている。ゼオライトを加熱すると、この結晶水だけでなく、加熱前に吸着していた酸素等のガス成分をゼオライトから脱離させることができる。これにより、ゼオライトが有するガス吸着性を向上させることができる。なお、結晶水が完全に脱離すると、一般式（１）中のｎは０になる。

加熱工程で得られるゼオライトは、酸素が脱離し、かつ窒素、一酸化炭素及び水分等のうち少なくとも１種の成分（以下、吸着成分という場合がある）を吸着していることが好ましい。すなわち、加熱工程で得られるゼオライト粒子の吸着容量は吸着成分で飽和していることが好ましい。この場合、吸着成分が排気工程等の加熱時にゼオライトから脱離することにより、ゼオライトのガス吸着性を回復させることができる。なお、加熱工程後のゼオライト粒子が水と混合されると、このゼオライトに、窒素又は一酸化炭素が吸着されていても、その一部は水分に置換されると考えられる。

ゼオライトは、銅イオン交換ゼオライトを含有することが好ましい。この銅イオン交換ゼオライトは、一般式（１）中のＭｅが銅イオンである成分である。ここで、銅イオン交換ゼオライトは、ゼオライト構造に銅イオンを保持させた成分である。このため、「銅イオン交換ゼオライト」は、ゼオライト構造に銅イオンを保持させる前の成分まで限定しない。また、ゼオライトの結晶構造はＺＳＭ－５等のＭＦＩ型、Ｙ型、ＵＳＹ型、モルデナイト型、フェリエライト型、Ｌ型等であることがより好ましい。特に、銅イオン交換されたＺＳＭ－５型ゼオライト（Ｃｕ－ＺＳＭ５）は、室温においても低圧下で窒素やメタン等を強く吸着することができるためより望ましい。なお、ゼオライトのシリカ／アルミナ比のモル比は５以上であることが望ましく、ＺＳＭ－５型のシリカ／アルミナのモル比は１０以上４５以下が望ましく、２０以上４０以下がさらに望ましいが、特にこれに限るものではない。

セリウム化合物は、セリウムを含有する化合物であって、減圧空間内の二酸化炭素を少なくとも吸着する性質を有する。このため、減圧空間でのゼオライト粒子による二酸化炭素吸着能力が十分ではなくても、この二酸化炭素をセリウム化合物粒子が吸着できる。セリウム化合物は、例えば、酸化セリウム（ＩＶ）（ＣｅＯ_２）や酸化セリウム（ＩＩＩ）（Ｃｅ_２Ｏ_３）等のセリウム酸化物、水酸化セリウム、炭酸セリウムからなる群から選択される少なくとも１種の化合物を含有する。中でも、セリウム化合物粒子は酸化セリウム（ＩＶ）を含有することが好ましい。また、セリウム化合物粒子は、Ｃｕ、Ｆｅなどの金属、ＳｃやＹなどの希土類を含んでいてもよい。また、ＬａやＮｄ、Ｇｄなどの希土類を含むセリウム化合物粒子や、ＡｕやＰｔ、Ｐｄなどの貴金属が担持されたセリウム化合物粒子であってもよい。また、セリウム化合物（特に、酸化セリウムの場合）粒子の細孔分布はピークが１ｎｍ以上１０ｎｍ以下であることが望ましい。

セリウム化合物が酸化セリウムの場合、酸化セリウム粒子は、３０℃／ｍｉｎで昇温したときの昇温脱離ガス分析において、酸素放出量が最大点となる温度を持つ酸素放出カーブを示すことが好ましい。この酸素放出カーブは、酸素放出カーブの最大点が２００℃以下であることが好ましい。または、酸素放出カーブは、酸素放出カーブの最大点が２５０℃以上であり、かつ酸素放出カーブの酸素放出開始温度が２５０℃以上であることが好ましい。

セリウム化合物粒子が加熱により還元されて酸素が放出されると、この酸素がゼオライトの吸着サイトに吸着し、ゼオライトのガス吸着性能が低下しやすい。特にＣｕ－ＺＳＭ５は酸化銅が還元されることで強いガス吸着力を持つようになるため、周囲から酸素を与えられる環境下では吸着能力を得られにくい。また、酸化セリウムが還元されやすい状態であると、セリウムがゼオライト中のシリカと反応することでゼオライトの構造が変化し、ゼオライトの吸着能力が低下する可能性もある。セリウム化合物は、酸素の放出開始温度が高いほど、酸素の脱離エネルギーが高くて、酸素の脱離が起こりにくく、ゼオライトのガス吸着性能の低下が抑制される。

そこで、本実施形態では、酸化セリウム粒子は、３０℃／ｍｉｎで昇温したときの昇温脱離ガス分析において、酸素放出量が最大点となる温度を持つ酸素放出カーブを示すことが好ましい。この酸素放出カーブは、酸素放出カーブの最大点が２００℃以下であることが好ましい。または、酸素放出カーブは、酸素放出カーブの最大点が２５０℃以上であり、かつ最大点の酸素放出開始温度が２５０℃以上であることが好ましい。これにより、セリウム化合物粒子からの酸素の脱離が起こりにくく、ゼオライト粒子のガス吸着性能の低下が抑制される。すなわち、セリウム化合物粒子としては、２５０℃以上にピークがある酸素放出カーブを持つ場合、２５０℃以上から酸素放出が始まる酸化セリウム粒子を使用することが好ましい。

本実施形態では、セリウム化合物は、Ｏ_２が脱離し始める温度がプロセス温度以上であることが好ましい。プロセス温度とは、後述の排気行程で使用される排気温度Ｔｅであり、例えば、２５０℃である。またセリウム化合物は、Ｏ_２が脱離し始める温度がシールの融解温度以上であることがさらに好ましい。シールの融解温度は後述の第２封着材の第２軟化点であり、例えば、２６５℃である。さらに、セリウム化合物は、Ｏ_２が脱離し始める温度が３００℃以上、より好ましくは５００℃以上、特に５５０℃以上が好ましい。

なお、セリウム化合物からのＯ_２が脱離し始める温度は、セリウム化合物粒子の細孔径分布及びセリウム化合物の担持金属、添加物濃度などにより変わる。また、担持物質によっては、担持物質自体から酸素を放出する場合もあるため、これらも含めてセリウム化合物の種類を考える必要がある。

また昇温脱離ガス分析は、真空加熱/昇温により発生したガスを温度毎にモニターできる装置を用いた質量分析法であり、ＴＤＳ（Thermal Desorption Spectrometry）と呼ばれる。

複合ゲッタ材作製工程は、加熱工程後または未加熱のゼオライト粒子とセリウム化合物粒子とを用いて複合ゲッタ材を得る工程である。複合ゲッタ材作製工程の際、ゼオライト粒子とセリウム化合物粒子とを混合する。本実施の形態において、複合ゲッタ材は、ゼオライト粒子を含む第１のゲッタ材と、セリウム化合物粒子を含む第２のゲッタ材と、を含有している。複合ゲッタ材は、第１のゲッタ材と第２のゲッタ材以外のゲッタ材を含有していてもよい。複合ゲッタ材は、第１のゲッタ材と第２のゲッタ材の複合した粉体（粉末）の焼結体も含む。その他単一のゲッタ材を合わせて焼結体に形成したものでもよい。

ゼオライト粒子の平均粒子径及びセリウム化合物粒子の平均粒子径は、それぞれ、０．００１μｍ～３０μｍの範囲が好ましいが、特に、この範囲に限定されない。ゼオライト粒子の平均粒子径及びセリウム化合物粒子の平均粒子径が上記範囲であれば、混合しやすく、またガス吸着性能に優れる。特に、ゼオライト粒子の平均粒子径及びセリウム化合物粒子の平均粒子径は、それぞれ、０．３μｍ以上２μｍ以下の範囲とするのが好ましい。

複合ゲッタ材に含まれるセリウム化合物の割合は、複合ゲッタ材の質量に対して、５０質量％以下であることが好ましい。この場合、セリウム化合物から酸素が脱離する量を少なくできるため、この酸素が第２溶融工程後の内部空間５００（真空空間５０）内に残りにくくなる。複合ゲッタ材を占めるセリウム化合物粒子の割合は、ゼオライト粒子の割合よりも小さいことが好ましい。すなわち、ゼオライト粒子の割合は、セリウム化合物粒子の割合よりも大きいことが好ましい。ゼオライト粒子の割合が大きくなるほど、セリウム化合物粒子が吸着しにくい窒素及び炭化水素は、ゼオライト粒子で吸着されて減圧空間に残りにくくなる。しかも、第２溶融工程以降でセリウム化合物粒子から脱離した酸素により、ゼオライト粒子の吸着容量を飽和させにくくできる。セリウム化合物粒子の割合は、４０質量％以下であることがより好ましく、２０質量％以下であることが更に好ましく、１５質量％以下であることが特に好ましい。セリウム化合物粒子の割合の下限は特に限定されないが、セリウム化合物粒子の割合は、例えば、０質量％よりも大きく、０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上が更に好ましく、２質量％以上が特に好ましい。

なお、加熱工程を行う場合であって、加熱工程中にゼオライト粒子とセリウム化合物粒子とが混合されている場合、ゲッタ材作製工程は加熱工程と同時に行われる。ゲッタ材作製工程の後、混合工程が行われる。

本実施形態において、複合ゲッタ材は、その目的から、ゼオライト粒子および酸化セリウム粒子は、互いに担持されている必要はない。このため、ゼオライト粒子および酸化セリウム粒子の平均粒子径が少なくとも１０ｎｍ以上であることが望ましい。これは、ゼオライト粒子または酸化セリウム粒子の細孔の内部に粒子が拡散し、ゼオライト粒子および酸化セリウム粒子の性能を悪化させないようにするためである。また、より望ましくは、ゼオライト粒子および酸化セリウム粒子の平均粒子径は２０ｎｍ以上であることが望ましく、さらに望ましくは５０ｎｍ以上であることが望ましい。このことによって、ゼオライト粒子に酸化セリウム微粒子が付着すること、または酸化セリウムにゼオライト微粒子が付着することを抑制し、表面積を大きく保つことができる。例えば、平均粒子径が５０ｎｍ以上のＣｕ－ＺＳＭ５粉末と、平均粒子径が２０ｎｍ以上の酸化セリウム粉末とを混合したものであることが望ましい。なお、本開示において、平均粒子径は、ＴＥＭまたはＳＥＭ等を用いて顕微鏡法で観察した球相当径で考えればよい。

混合工程は、複合ゲッタ材と溶媒とを混合してゲッタペーストを得る工程である。溶媒として水を用いる場合、このゲッタペーストでは水が複合ゲッタ材を覆うようにして存在する。これにより、ゲッタペーストの状態で、複合ゲッタ材は空気と接しにくくなる。すなわち、複合ゲッタ材は空気（特に空気中の酸素）等を吸着しにくくなる。したがって、ゲッタペーストの保存が容易となり、ガラスパネルユニット１０を製造する際の煩雑性を軽減できる。ゲッタペーストにおける水の含有量は、任意に選択できる。溶媒は水を使用できる。また溶媒は水を主成分とする溶液を使用できる。例えば、溶媒は、不純物としての有機物やカルシウム、ナトリウムなどの成分が混合された水であってもよい。また溶媒は、５０質量％以下のエタノール等の有機溶媒が混合された水であってもよい。また溶媒は、エタノール又はブチルカルビトールアセテート、ターピネオールなどの有機溶媒及びこれらの混合物であってもよい。また、ポリカーボネート、ポリイソブチルメタアクリレートなどの一般的な有機バインダを加えてもよい。例えば粘性の高い有機溶媒や有機バインダを用いることで、固形分の沈降を抑制し、塗布性能が向上するなどの効果が得られる。さらに、銅イオン交換型ゼオライト粒子と酸化セリウム粒子を水で混合したペーストの場合、長期間にわたってペーストとして保存したときに性能がわずかに劣化することが確認された。これは、水溶媒中では酸化セリウムと銅イオン交換ゼオライトの間でわずかに反応が起こるためであると考えられる。このため、長期間の保存が必要な場合など、条件によっては有機溶媒の方が有利な面もある。また、セリウム化合物粒子は、有機溶媒や有機バインダが分解することで放出される二酸化炭素も吸着するため、セリウム化合物粒子とゼオライト粒子と溶媒との混合の効果はより大きく得られる。ただし、ある程度早めに塗布することを前提に、可能な限り純水、超純水、イオン交換水、蒸留水等を用いることが、溶媒によるゼオライト粒子の吸着能力への悪影響を抑制するために、より望ましい。混合工程の後、組立工程が行われる。

組立工程は、組立て品１００を用意する工程である。

組立て品１００は、図１Ａ及び図１Ｂに示すように、第１ガラス板２００と、第２ガラス板３００と、周壁４１０と、仕切り４２０と、を備える。また、組立て品１００は、第１及び第２ガラス板２００，３００と周壁４１０とで囲まれた内部空間５００を有する。さらに、組立て品１００は、内部空間５００内に、ガス吸着体６０と、複数のピラー（スペーサ）７０と、を備える。さらに、組立て品１００は、排気口７００を備える。

第１ガラス板（第１ガラス基板）２００は、後述の第１ガラス板２０の基礎となる部材であり、第１ガラス板２０と同じ材料で形成されている。第２ガラス板（第２ガラス基板）３００は、後述の第２ガラス板３０の基礎となる部材であり、第２ガラス板３０と同じ材料で形成されている。第１及び第２ガラス板２００，３００は同じ平面形状である。本実施形態では、第１ガラス板２００は、後述の第１ガラス板２０を少なくとも１つ形成可能な大きさを有し、第２ガラス板３００は、後述の第２ガラス板３０を少なくとも１つ形成可能な大きさを有する。

第１及び第２ガラス板２００，３００はいずれも多角形（本実施形態では長方形）の平板状である。

第１ガラス板２００は、本体２１０と、低放射膜２２０とを含む。

低放射膜２２０は、内部空間５００内にあり、本体２１０を覆う。低放射膜２２０は、本体２１０に接している。低放射膜２２０は、赤外線反射膜とも呼ばれ、透光性を有するものの、赤外線を反射する。このため、低放射膜２２０は、ガラスパネルユニット１０の断熱性を向上させることができる。低放射膜２２０は、例えば、金属製の薄膜である。低放射膜２２０は、例えば、銀を含有する。低放射膜２２０の一例は、Ｌｏｗ－Ｅ膜である。

第１ガラス板２００は、上記の通り、本体２１０を含む。本体２１０は、第１面２１１と第２面２１２とを有する。第１面２１１は、平坦な面であって、低放射膜２２０に覆われる。第２面２１２は、第１面２１１と平行で、かつ平坦な面であって、方向Ｄ１において内部空間５００と反対側にある。本体２１０は、第１ガラス板２００の主な形状を構成するため、矩形の平板状である。本体２１０の材料は、例えば、ソーダライムガラス、高歪点ガラス、化学強化ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、ネオセラム、物理強化ガラスである。

第２ガラス板３００は、本体３１０を含む。本体３１０は、第１面３１１と第２面３１２とを有する。第１面３１１は、平坦な面であって、低放射膜２２０と対向する。第２面３１２は、第１面３１１と平行で、かつ平坦な面であって、方向Ｄ１において内部空間５００と反対側にある。本体３１０は、第２ガラス板３００の主な形状を構成するため、矩形の平板状である。本体３１０は、本体２１０と同形状である。第２ガラス板３００は、本実施形態では、本体３１０のみからなるが、本体３１０に加えて低放射膜２２０と同様の低放射膜を備えてもよい。第２ガラス板３００が低放射膜を備える場合、この低放射膜は、内部空間５００内で、本体３１０を覆い、かつ本体３１０に接する。本体３１０の材料は、例えば、ソーダライムガラス、高歪点ガラス、化学強化ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、ネオセラム、物理強化ガラスである。

周壁４１０は、第１封着材（第１熱接着剤）を含む。周壁４１０は、第１ガラス板２００と第２ガラス板３００との間に配置される。周壁４１０は、図１Ａに示すように、枠状である。特に、周壁４１０は、矩形の枠状である。周壁４１０は、第１及び第２ガラス板２００，３００の外周に沿って形成されている。これにより、組立て品１００では、周壁４１０と第１ガラス板２００と第２ガラス板３００とで囲まれた内部空間５００が形成される。

第１熱接着剤は、例えば、ガラスフリットを含む。ガラスフリットの例としては、低融点ガラスフリットが挙げられる。低融点ガラスフリットの例としては、ビスマス系ガラスフリット、鉛系ガラスフリット、バナジウム系ガラスフリットが挙げられる。また、第１熱接着剤は、ガラスフリットに限定されず、例えば、低融点金属、又はホットメルト接着材を含むことができる。第１熱接着剤は、有機バインダ及び有機溶剤のうちの一方または両方をさらに含んでもよい。この場合、封止工程（第２溶融工程）後に有機バインダ及び有機溶剤のうちの一方または両方に由来するガスが真空空間５０に放出されても、このガスをガス吸着体６０が吸着することにより、真空空間５０内にガスが残りにくくなる。

有機バインダは、例えば樹脂を含む。この樹脂として、例えば、ポリイソブチルメタアクリレート、エチルセルロース、脂肪族ポリカーボネート、アクリル樹脂、及びブチラール樹脂が挙げられる。有機バインダは、上記の樹脂に限らず、任意の成分を含むことができる。有機バインダを構成する樹脂は、低分子量で分解しやすい樹脂であることが好ましい。

有機溶剤として、例えば、酢酸ブチルカルビトール、及び酢酸エチルカルビトール等のエステル類が挙げられる。しかし、有機溶剤は、上記の成分に限らず、テルペン系溶剤などの一般的なスクリーン印刷に用いられる溶剤、及びディスペンス塗布に用いられる溶剤のうち少なくとも１種を含んでもよい。

周壁４１０が樹脂をさらに含有する場合、組立工程の後、この樹脂に由来するガスが内部空間５００内に放出されても、樹脂に由来するガスは、排気工程によって排気される。排気工程後、樹脂に由来するガスが残留ガスとして真空空間５０内に存在しても、この残留ガスをガス吸着体６０が吸着することができる。

仕切り４２０は、内部空間５００内に配置される。仕切り４２０は、内部空間５００を、第１空間５１０と、第２空間（通気空間）５２０とに仕切る。このため、第１空間５１０は排気工程で排気される空間であり、第２空間５２０は第１空間５１０の排気に使用される空間である。仕切り４２０は、第１空間５１０が第２空間５２０よりも大きくなるように、第２ガラス板３００の中央よりも第２ガラス板３００の長さ方向（図１Ａにおける左右方向）の第１端側（図１Ａにおける右端側）に形成される。仕切り４２０は、第２ガラス板３００の幅方向（図１Ａにおける上下方向）に沿うようにして内部空間５００内に配置される。ただし、仕切り４２０の長さ方向の両端は、周壁４１０と接していない。本実施形態では、第２ガラス板３００の幅方向は方向Ｄ２と平行であり、第２ガラス板３００の長さ方向は方向Ｄ３と平行である。

仕切り４２０は、その本体を構成する本体部（仕切り本体部）４２１と、遮断部４２２とを備える。遮断部４２２は、第１遮断部４２２１と、第２遮断部４２２２とを備える。本体部４２１は、方向Ｄ２に沿う直線状である。この方向Ｄ２は、例えば、第２ガラス板３００の幅方向である。また、方向Ｄ２において、本体部４２１の両端は、周壁４１０と接触していない。本体部４２１の両端のうち、一端から第２空間５２０に向かって延びるようにして第１遮断部４２２１が形成され、他端から第２空間５２０に向かって延びるようにして第２遮断部４２２２が形成されている。本体部４２１の一端は第１端（図１Ａにおける上端側）であってもよく、他端（図１Ａにおける下端側）は第２端であってもよい。

仕切り４２０は、第２封着材（第２熱接着剤）を含む。第２熱接着剤は、例えば、ガラスフリットである。ガラスフリットの例としては、低融点ガラスフリットが挙げられる。低融点ガラスフリットの例としては、ビスマス系ガラスフリット、鉛系ガラスフリット、バナジウム系ガラスフリットが挙げられる。また、第２熱接着剤は、ガラスフリットに限定されず、例えば、低融点金属、またはホットメルト接着材であってもよい。なお、本実施形態では、第１熱接着剤と第２熱接着剤とは同じものを使用している。つまり、第１封着材と第２封着材とは、同じ材料である。

通気路６００は、図１Ａに示すように、内部空間５００内で第１空間５１０と第２空間５２０とをつなぐ。通気路６００は、第１通気路６１０と、第２通気路６２０と、を含む。第１通気路６１０は、仕切り４２０の第１端（図１Ａの上端）と周壁４１０との間に介在する隙間である。第２通気路６２０は、仕切り４２０の第２端（図１Ａの下端）と周壁４１０との間に介在する隙間である。

排気口７００は、第２空間５２０と外部空間とをつなぐ孔である。排気口７００は、第２空間５２０および通気路６００（第１通気路６１０及び第２通気路６２０）を介して第１空間５１０を排気するために用いられる。したがって、通気路６００と第２空間５２０と排気口７００とは、第１空間５１０を排気するための排気路を構成する。排気口７００は、第２空間５２０と外部空間とをつなぐように第２ガラス板３００に形成されている。具体的には、排気口７００は、第２ガラス板３００の角部分にある。

ガス吸着体６０及び複数のスペーサ７０は第１空間５１０内に配置されている。特に、ガス吸着体６０は、第２ガラス板３００の長さ方向の第２端側（図１Ａにおける左端側）に、第２ガラス板３００の幅方向に沿って形成されている。つまり、ガス吸着体６０は、第１空間５１０（真空空間５０）の端に配置される。このようにすれば、ガス吸着体６０を目立たなくすることができる。また、ガス吸着体６０は、仕切り４２０および通気路６００から離れた位置にある。そのため、第１空間５１０の排気時に、ガス吸着体６０が排気を妨げる可能性を低くできる。

組立工程は、組立て品１００を得るために、第１ガラス板２００、第２ガラス板３００、周壁４１０、仕切り４２０、内部空間５００、通気路６００、排気口７００、ガス吸着体６０、及び複数のスペーサ７０を形成する工程である。組立工程は、第１～第６工程を有する。なお、第２～第５工程の順番は、適宜変更してもよい。

第１工程は、第１ガラス板２００及び第２ガラス板３００を形成する工程（基板形成工程）である。例えば、第１工程では、第１ガラス板２００及び第２ガラス板３００を作製し、必要に応じて、第１ガラス板２００及び第２ガラス板３００を洗浄する。

第２工程は、排気口７００を形成する工程である。第２工程では、第２ガラス板３００に、排気口７００を形成する。また、第２工程では、必要に応じて、第２ガラス板３００を洗浄する。

第３工程は、スペーサ７０を形成する工程（スペーサ形成工程）である（図３参照）。第３工程では、複数のスペーサ７０を予め形成しておき、チップマウンタなどを利用して、複数のスペーサ７０を、第２ガラス板３００の所定位置に配置する。複数のスペーサ７０は、組立て品１００が仕掛り品１１０となった状態で、第１及び第２ガラス板２００，３００間の間隔を所定間隔に維持するために用いられる。このようなスペーサ７０を構成する材料として、例えば、金属、ガラス、及び樹脂が挙げられる。スペーサ７０は、これらの材料のうち、１種又は複数種含むことができる。

本実施形態の第３工程では、上記の通り、スペーサ７０を予め形成して第２ガラス板３００に配置しているが、周知の薄膜形成技術を利用して複数のスペーサ７０を第２ガラス板３００に形成してもよい。また、スペーサ７０が樹脂を含む場合、複数のスペーサ７０は、上記の形成方法と異なる方法として、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術を利用して形成されていてもよい。この場合、複数のスペーサ７０は、光硬化性材料などを用いて形成することができる。

なお、スペーサ７０の大きさ、スペーサ７０の数、スペーサ７０の間隔、スペーサ７０の配置パターンは、適宜選択することができる。各スペーサ７０は、上記所定間隔とほぼ等しい高さを有する円柱状である。例えば、スペーサ７０は、直径が１ｍｍ、高さが１００μｍである。なお、各スペーサ７０は、角柱状や球状などの所望の形状であってもよい。

第４工程は、ガス吸着体６０を形成する工程（ガス吸着体形成工程）である（図３参照）。第４工程では、ディスペンサなどを利用して、加工工程のゲッタペーストを第２ガラス板３００上に塗布する。そして、塗布後のゲッタペーストを乾燥することにより、ガス吸着体６０が形成される。すなわち、第４工程は、ゲッタペーストを乾燥する乾燥工程を含む。ゲッタペーストを乾燥することにより、複合ゲッタ材のガス吸着性を回復させることができる。また、ゲッタペーストを塗布することにより、ガス吸着体６０を小さくできる。したがって、第１空間５１０が狭くてもガス吸着体６０を配置できる。

第５工程は、周壁４１０、及び仕切り４２０を配置する工程（封着材配置工程）である（図３参照）。第５工程では、ディスペンサなどを利用して、第１封着材を第２ガラス板３００上に塗布し、その後第１封着材を乾燥させて周壁４１０を形成する。また、ディスペンサなどを利用して、第２封着材を第２ガラス板３００上に塗布し、その後第２封着材を乾燥させて仕切り４２０を形成する。

第１工程から第５工程が終了することで、図３に示されるような、第２ガラス板３００が得られる。この第２ガラス板３００には、周壁４１０、仕切り４２０、通気路６００、排気口７００、ガス吸着体６０及び複数のスペーサ７０が形成されている。

第６工程は、第１ガラス板２００と第２ガラス板３００とを配置する工程（配置工程）である。第６工程では、図４に示すように、第１ガラス板２００と第２ガラス板３００とは、互いに平行かつ対向するように配置される。

上述した組立工程によって、図５に示す組立て品１００が得られる。そして、組立工程の後には、図６に示すような、第１溶融工程（接合工程）と、排気工程と、第２溶融工程（封止工程）とが実行される。

第１溶融工程は、周壁４１０を一旦溶融させて周壁４１０で第１ガラス板２００と、第２ガラス板３００とを気密に接合する工程である。具体的には、第１ガラス板２００及び第２ガラス板３００は、溶融炉内に配置され、第１溶融温度Ｔｍ１で所定時間（第１溶融時間）ｔｍ１だけ加熱される（図６参照）。本実施形態では、第１封着材と第２封着材とが、上記の通り、同じ材料であるため、第１封着材の軟化点（第１軟化点）は、第２封着材の軟化点（第２軟化点）と同じである。このため、第１溶融温度Ｔｍ１は、第１及び第２軟化点以上に設定される。第１溶融温度Ｔｍ１が第１及び第２軟化点以上であっても、排気工程は第１溶融工程後に開始されるため（図６参照）、第１溶融工程では仕切り４２０は通気路６００を塞がない。すなわち、第１溶融工程では通気路６００を確保している。第１溶融工程において、例えば、第１及び第２軟化点が２６５℃である場合、第１溶融温度Ｔｍ１は、２８５℃に設定される。また、第１溶融時間ｔｍ１は、例えば、１５分である。

本実施形態において、第１軟化点が第２軟化点と同じである態様は、第１軟化点が第２軟化点と厳密に同じである態様だけでなく、第１軟化点が第２軟化点と略同じである態様も含む。

第１溶融温度Ｔｍ１で周壁４１０を加熱することにより、仕切り４２０の変形を抑制しながらも、周壁４１０を軟化させることができる。これにより、周壁４１０によって第１ガラス板２００と第２ガラス板３００とを気密に接合しやすくなる。

排気工程は、通気路６００と第２空間５２０と排気口７００とを介して第１空間５１０を排気して第１空間５１０を真空空間５０とする工程である。排気は、例えば、真空ポンプを用いて行われる。真空ポンプは、図５に示されるように、排気管８１０と、シールヘッド８２０と、により組立て品１００に接続される。排気管８１０は、例えば、排気管８１０の内部と排気口７００とが連通するように第２ガラス板３００に接合される。そして、排気管８１０にシールヘッド８２０が取り付けられ、これによって、真空ポンプの吸気口が排気口７００に接続される。第１溶融工程と排気工程と第２溶融工程とは、組立て品１００を溶融炉内に配置したまま行われる。そのため、排気管８１０は、少なくとも第１溶融工程の前に、第２ガラス板３００に接合される。

排気工程では、第２溶融工程の開始前までに、排気温度Ｔｅ以上で所定時間（排気時間）ｔｅ以上、通気路６００と第２空間５２０と排気口７００とを介して第１空間５１０を排気する（図６参照）。排気温度Ｔｅは、第２封着材の第２軟化点（例えば２６５℃）より低く設定される。例えば、排気温度Ｔｅは、２５０℃である。このようにすれば、排気工程でも仕切り４２０は変形しない。排気工程の際、ガス吸着体６０中の少なくとも水分が気化して第１空間５１０内に放出され、第１空間５１０は、通気路６００、第２空間５２０、及び、排気口７００を通じて排出される。ガス吸着体６０から放出された水分が排気されることで、複合ゲッタ材のガス吸着性をさらに回復させることができる。排気時間ｔｅは、所望の真空度（例えば、０．１Ｐａ以下の真空度）の真空空間５０が得られるように設定される。例えば、排気時間ｔｅは、１２０分に設定される。

第２溶融工程は、仕切り４２０を変形させて少なくとも通気路６００を塞ぐことで隔壁４２を形成して仕掛り品１１０を得る工程である。つまり、第２溶融工程では、仕切り４２０を変形させて、通気路６００を塞ぐ。言い換えると、変形した仕切り４２０により第１空間５１０が塞がれて、第１空間５１０と第２空間５２０とが分離される。これにより、真空空間５０を囲む枠体４０が形成される（図７参照）。本実施形態では、仕切り４２０の長さ方向の両端（第１及び第２遮断部４２２１、４２２２）が周壁４１０に接して一体となるように、仕切り４２０を変形させている。これによって、図７に示すように、内部空間５００を第１空間５１０（真空空間５０）と第２空間５２０とに気密に分離する隔壁４２が形成される。より詳細には、第２封着材の第２軟化点以上の所定温度（第２溶融温度）Ｔｍ２で仕切り４２０を一旦溶融させることで、仕切り４２０を変形させる。具体的には、第１ガラス板２００及び第２ガラス板３００は、溶融炉内で、第２溶融温度Ｔｍ２で所定時間（第２溶融時間）ｔｍ２だけ加熱される（図６参照）。第２溶融温度Ｔｍ２及び第２溶融時間ｔｍ２は、仕切り４２０が軟化し、通気路６００が塞がれるように設定される。第２溶融温度Ｔｍ２の下限は、第２軟化点（例えば２６５℃）である。第２溶融温度Ｔｍ２は、例えば、２９０℃に設定される。また、第２溶融時間ｔｍ２は、例えば、３０分である。本実施形態の封止工程は第２溶融工程であるが、封止工程は、要するに、真空空間５０を、真空空間５０以外の空間から空間的に分離する工程である。真空空間５０以外の空間は、本実施形態では、第２空間５２０に相当する。

本実施形態では、図６に示すように、排気工程は、第１溶融工程の後に開始され、第２溶融工程の終了とともに終了している。このため、第２溶融工程の際に、通気路６００と第２空間５２０と排気口７００とを介して第１空間５１０が排気されている。そのため、組立て品１００の内外の圧力差が生じ、この圧力差によって、第１及び第２ガラス板２００，３００が互いに接近するように移動させられる。これにより、第２溶融工程では、第２溶融温度Ｔｍ２で、通気路６００と第２空間５２０と排気口７００とを介して第１空間５１０を排気しながら、仕切り４２０を変形させて通気路６００を塞ぐ隔壁４２を形成する。

また、図６に示す第２溶融工程では、第２溶融時間ｔｍ２が経過した後、溶融炉内の温度を室温まで等速で冷却する。そして、シールヘッド８２０を取り外すことで、第２溶融工程及び排気工程を終了する。

上述の準備工程によって、図７示す仕掛り品１１０が得られる。仕掛り品１１０は、図７に示すように、第１ガラス板２００と、第２ガラス板３００と、周壁４１と、隔壁４２と、を備える。また、仕掛り品１１０は、真空空間５０と、第２空間５２０とを有する。さらに、仕掛り品１１０は、真空空間５０内に、ガス吸着体６０と、複数のピラー（スペーサ）７０と、を備える。さらに、仕掛り品１１０は、排気口７００を備える。

第１及び第２ガラス板２００，３００はいずれも矩形の平板状である。第１及び第２ガラス板２００，３００は同じ平面形状である。

隔壁４２は、真空空間５０を第２空間５２０から（空間的に）分離する。言い換えれば、仕掛り品１１０の第２空間５２０は排気口７００を介して外部空間と（空間的に）繋がっているため、隔壁４２は、真空空間５０と外部空間とを分離する。そして、隔壁４２と周壁４１０とが一体となって、真空空間５０を囲む枠体４０を構成する。枠体４０は、真空空間５０を完全に囲むとともに、第１ガラス板２００と第２ガラス板３００とを気密に接合する。

ガス吸着体６０は、真空空間５０内に配置される。具体的には、ガス吸着体６０は、長尺の平板状であり、第２ガラス板３００に配置されている。ガス吸着体６０は、不要なガス（残留ガス等）を吸着するために用いられる。不要なガスは、例えば、枠体４０となる熱接着剤（第１熱接着剤、及び第２熱接着剤）が加熱される際に、熱接着剤から放出されるガスである。

複数のスペーサ７０は、真空空間５０内に配置されている。複数のスペーサ７０は、第１及び第２ガラス板２００，３００間の距離を所望の値に維持するために使用される。

真空空間５０は、上記の通り、第２空間５２０及び排気口７００を介して第１空間５１０を排気することで形成される。換言すれば、真空空間５０は、真空度が所定値以下の第１空間５１０である。所定値は、たとえば、０．１Ｐａである。真空空間５０は、第１ガラス板２００と第２ガラス板３００と枠体４０とで完全に密閉されているから、第２空間５２０及び排気口７００から分離されている。

除去工程は、準備工程の後に実行される。除去工程は、図８に示すように、仕掛り品１１０から第２空間５２０を有する部分１１を除去することで、真空空間５０を有する部分であるガラスパネルユニット１０を得る工程である。

ガラスパネルユニット１０は、第１ガラス板２０と、第２ガラス板３０と、を備える。第１ガラス板２０は、第１ガラス板２００のうち第１空間５１０（真空空間５０）に対応する部分であり、第２ガラス板３０は、第２ガラス板３００のうち第１空間５１０（真空空間５０）に対応する部分である。

一方、不要な部分１１は、第１ガラス板２００のうち第２空間５２０に対応する部分２３０と、第２ガラス板３００のうち第２空間５２０に対応する部分３２０と、を含む。なお、ガラスパネルユニット１０の製造コストを考慮すれば、不要な部分１１は小さいほうが好ましい。

除去工程では、具体的には、溶融炉から取り出された仕掛り品１１０は、隔壁４２に沿って切断され、真空空間５０を有する部分（ガラスパネルユニット）１０と、第２空間５２０を有する部分（不要な部分）１１と、に分割される。なお、仕掛り品１１０を切断する部分（切断線）の形状は、ガラスパネルユニット１０の形状によって定まる。ガラスパネルユニット１０は矩形状であるから、切断線は隔壁４２の長さ方向に沿った直線となっている。

上述の、準備工程及び除去工程を経て、図２に示すガラスパネルユニット１０が得られる。

図２は、本実施形態のガラスパネルユニット（ガラスパネルユニットの完成品）１０を示す。ガラスパネルユニット１０は、第１ガラス板２０と、第２ガラス板３０と、枠体４０と、を備える。また、ガラスパネルユニット１０は、第１及び第２ガラス板２０，３０と枠体４０とで囲まれた真空空間５０を有する。さらに、ガラスパネルユニット１０は、真空空間５０内に、ガス吸着体６０と、複数のピラー（スペーサ）７０と、を備える。ガラスパネルユニット１０は、第１及び第２ガラス板２０、３０に排気口７００を備えない。

第１及び第２ガラス板２０，３０はいずれも矩形の平板状である。第１及び第２ガラス板２０，３０は同じ平面形状である。

本実施形態の第１ガラス板２０は、除去工程により第１ガラス板２００の不要な部分２３０が除去されたものである。このため、第１ガラス板２０は、第１ガラス板２００と同様の構成を有する。すなわち、第１ガラス板２０は、その主な形状を構成する本体と、低放射膜２２０とを含む。この本体は、真空空間５０内で低放射膜２２０により覆われる。第１ガラス板２０は、矩形の平板状である。

本実施形態の第２ガラス板３０は、除去工程により第２ガラス板３００の不要な部分３２０が除去されたものである。このため、第２ガラス板３０は、第２ガラス板３００と同様の構成を有する。すなわち、第２ガラス板３０は、その主な形状を構成する本体を備える。第２ガラス板３０は、本実施形態では、その本体のみからなるが、この本体に加えて低放射膜２２０と同様の低放射膜を備えてもよい。第２ガラス板３０が低放射膜を備える場合、この低放射膜は、真空空間５０内で、第２ガラス板３０の本体を覆い、かつこの本体に接する。

枠体４０は、第１ガラス板２０と、第２ガラス板３０との間にあり、第１ガラス板２０と第２ガラス板３０とを気密に接合する。これによって、真空空間５０は、第１ガラス板２０と、第２ガラス板３０と、枠体４０とで囲まれている。枠体４０は、第１及び第２ガラス板２０，３０と同様の多角形（本実施形態では四角形）の枠状である。枠体４０は、第１及び第２ガラス板２０，３０の外周に沿って形成されている。

複数のスペーサ７０は、真空空間５０内に配置されている。複数のスペーサ７０は、第１及び第２ガラス板２０，３０間の距離を所望の値に維持するために使用される。

ガス吸着体６０は、複合ゲッタ材を含んでいる。すなわち、ガス吸着体６０は、第１のゲッタ材であるゼオライト粒子と、第２のゲッタ材であるセリウム化合物粒子との両方を有している。この場合、ガス吸着体６０は、ゼオライト粒子とセリウム化合物粒子とを含む粒子の混合物（粉末）で構成されている。

＜第２実施形態＞
次に本実施形態に係るガラスパネルユニット１０Ａの製造方法（以下、単に製造方法という場合がある）を、図９Ａ～図１４を参照して説明する。下記において、第１実施形態と重複する構成は、図面に同じ符号を付して説明を省略することがある。なお、本実施形態では、方向Ｄ１は第１ガラス板２０の厚み方向と平行な方向であり、方向Ｄ２は、方向Ｄ１と直交する方向であり、方向Ｄ３は方向Ｄ１及び方向Ｄ２と直交する方向である。

本実施形態の製造方法は、図９Ａ及び図９Ｂのようなガラスパネルユニット１０Ａを製造する方法である。

ガラスパネルユニット１０Ａは、第１ガラス板２０と、第２ガラス板３０と、枠体４０と、孔封止材４３と、ガス吸着体６０と、を備える。また、ガラスパネルユニット１０Ａは、第１及び第２ガラス板２０，３０と枠体４０とで囲まれた真空空間５０を有する。さらに、ガラスパネルユニット１０Ａは、真空空間５０内に、複数のピラー（スペーサ）７０と、堰部材４７と、を備える。

第１及び第２ガラス板２０，３０はいずれも矩形の平板状である。第１及び第２ガラス板２０，３０は同じ平面形状である。

第１ガラス板２０は、本体２１と、低放射膜２２０と、排気口７００と、を含む。低放射膜２２０は、真空空間５０内にあり、本体２１を覆う。排気口７００は、孔封止材４３により封止されている。低放射膜２２０は、本体２１と接触している。本体２１は、第１ガラス板２０の主な形状を構成するため、矩形の平板状である。本体２１の材料として、例えば、ソーダライムガラス、高歪点ガラス、化学強化ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、ネオセラム、及び物理強化ガラスが挙げられる。本体２１は、第１ガラス板２０と同形状である。

第２ガラス板３０は、本体３１を備える。本体３１は、第２ガラス板３０の主な形状を構成するため、矩形の平板状である。第２ガラス板３０は、本実施形態では、本体３１のみからなるが、この本体３１に加えて低放射膜２２０と同様の低放射膜を備えてもよい。第２ガラス板３０が低放射膜を備える場合、この低放射膜は、真空空間５０内で、本体３１を覆い、かつ本体３１に接する。本体３１の材料として、例えば、ソーダライムガラス、高歪点ガラス、化学強化ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、ネオセラム、及び物理強化ガラスが挙げられる。

堰部材４７は、図９Ａに示すように、一部が切り欠かれた環状（例えば、Ｃ字状）の形状を有する。堰部材４７は、平面視において、排気口７００の周縁に沿うようにして配置されている。これにより、堰部材４７は、その内周側にある空間内に孔封止材４３を留めることができる。このため、孔封止材４３は排気口７００を封止できる。

本実施形態では、加工工程と、組立工程（図１０～図１１参照）と、接合工程（溶融工程、図１２参照）と、排気工程（図１２～図１３参照）と、封止工程（図１２、及び図１４参照）を実行することで、上述のガラスパネルユニット１０Ａが得られる。但し、本実施形態の製造方法は、第１実施形態の除去工程を含まない。

加工工程は、第１実施形態と同様、ゲッタペーストを用意する工程である。加工工程は、加熱工程と、複合ゲッタ材作製工程と、混合工程とを含む。加熱工程の温度は、封止工程の温度（後述の封止温度Ｔｓ）よりも高いことが好ましく、溶融工程の温度（後述の溶融温度Ｔｍ）よりも高いことがより好ましい。ただし、加熱工程は省略することもできる。

組立工程は、図１１のような組立て品１０１を用意する工程である。組立て品１０１は、図１０及び図１１のように、第１及び第２ガラス板２０，３０と、周壁４１０と、を備える。また、組立て品１０１は、第１及び第２ガラス板２０，３０と周壁４１０とで囲まれた内部空間５００を有する。更に、組立て品１０１は、内部空間５００内に、ガス吸着体６０と、複数のピラー（スペーサ）７０と、堰部材４７と、を備える。さらに組立て品１０１は、排気口７００を備える。組立て品１０１では、内部空間５００が排気されていなく、周壁４１０と堰部材４７とが溶融硬化されていなく、排気口７００が封止されていない。

堰部材４７は、封着材（熱接着剤）を含む。堰部材４７は、第２ガラス板３０上で、かつ内部空間５００内に形成されている。堰部材４７は、排気口７００の外周に沿うようにして、一部が切り欠かれた環状（たとえばＣ字状）の形状を有する。堰部材４７は、周壁４１０から離間されているものの、周壁４１０に近づけて形成されている。すなわち、堰部材４７は、内部空間５００の端に形成されている。堰部材４７は、周壁４１０と同じ封着材を含む。この堰部材４７を形成することにより、封止工程で孔封止材４３の押し込み後の形状を安定化させる効果があるが、堰部材４７はなくてもよい。

組立工程は、組立て品１０１を得るために、第１ガラス板２０、第２ガラス板３０、ガス吸着体６０、周壁４１０、堰部材４７、内部空間５００、排気口７００、及び複数のスペーサ７０を形成する工程である。組立工程は、第１～第６工程を有する。なお、第４～第５工程の順番は、適宜変更してもよい。

第１工程は、第１ガラス板２０及び第２ガラス板３０を形成する工程（ガラス板形成工程）である。例えば、第１工程では、第１ガラス板２０及び第２ガラス板３０を板状に作製する。また、第１工程では、必要に応じて、第１ガラス板２０及び第２ガラス板３０を洗浄する。

第２工程は、排気口７００を形成する工程である。第２工程では、例えば、第１ガラス板２０に、排気口７００を形成する。また、第２工程では、必要に応じて、第１ガラス板２０を洗浄する。

第３工程は、スペーサ７０を形成する工程（スペーサ形成工程）である。第３工程では、複数のスペーサ７０を予め形成しておき、チップマウンタなどを利用して、複数のスペーサ７０を、第２ガラス板３０の所定位置に配置する。なお、複数のスペーサ７０は、フォトリソグラフィ技術及びエッチング技術を利用して形成されていてもよい。この場合、複数のスペーサ７０は、光硬化性材料などを用いて形成される。あるいは、複数のスペーサ７０は、周知の薄膜形成技術を利用して形成されていてもよい。また、複数のスペーサ７０は、樹脂フィルムをパンチングまたはレーザー加工して形成されていてもよい。

第４工程は、周壁４１０、及び堰部材４７を配置する工程（封着材配置工程）である。第４工程では、ディスペンサなどを利用して、第２ガラス板３０の外周に沿って封着材を第２ガラス板３０上に塗布して枠状の封着材を形成し、その後枠状の封着材を乾燥させて周壁４１０を形成する（図１０参照）。また、ディスペンサなどを利用して、周壁４１０に近い位置で周壁４１０から離間させながら封着材を第２ガラス板３０上に塗布して一部が切り欠かれた環状の封着材を形成し、その後環状の封着材を乾燥させて堰部材４７を形成する（図１０参照）。なお、第４工程では、枠状の封着材と環状の封着材とを乾燥させるとともに、仮焼成してもよい。例えば、枠状の封着材と環状の封着材とが形成された第２ガラス板３０を４８０℃で２０分間加熱する。この場合、第１ガラス板２０を第２ガラス板３０と一緒に加熱してもよい。つまり、第１ガラス板２０を第２ガラス板３０と同じ条件（４８０℃で２０分間）で加熱してもよい。これにより、第１ガラス板２０と第２ガラス板３０との反りの差を低減できる。

第５工程は、ガス吸着体６０を形成する工程（ガス吸着体形成工程）である。第５工程では、ディスペンサなどを利用して、加工工程のゲッタペーストを第２ガラス板３０上に塗布する。そして、塗布後のゲッタペーストを乾燥することにより、ガス吸着体６０が形成される。すなわち、第５工程は、ゲッタペーストを乾燥する乾燥工程を含む。

第１工程から第５工程が終了することで、周壁４１０、堰部材４７、ガス吸着体６０及び複数のスペーサ７０が形成された第２ガラス板３０が得られる。本実施形態では、第１工程～第５工程が終了してから第６工程が行われる。

第６工程は、第１ガラス板２０と第２ガラス板３０とを配置する工程（配置工程）である。第６工程では、図１０に示すように、第１ガラス板２０と第２ガラス板３０とは、互いに平行かつ対向するように配置される。

上述した組立工程によって、図１１に示す組立て品１０１が得られる。そして、組立工程の後には、図１２に示すような、溶融工程（接合工程）と、排気工程と、封止工程とが実行される。

溶融工程は、第１所定温度（溶融温度）Ｔｍで、周壁４１０を溶融させ、溶融後の周壁４１０で第１ガラス板２０と、第２ガラス板３０とを気密に接合する工程である。具体的には、組立て品１０１は、焼成炉内に配置される。その後組立て品１０１は、溶融温度Ｔｍで第１所定時間（溶融時間）ｔｍだけ加熱される（図１２参照）。また、溶融工程では、堰部材４７も溶融され、溶融後の堰部材４７は第１ガラス板２０と、第２ガラス板３０とを気密に接合する。溶融温度Ｔｍは、封着材の軟化点以上に選択される。溶融温度Ｔｍは、好ましくは、５００℃以下であり、より好ましくは、３５０℃以下であり、さらにより好ましくは、３００℃以下である。また、第１ガラス板２０と、第２ガラス板３０とのうち少なくとも一方のガラス板が強化ガラスを含む場合、溶融温度Ｔｍは、好ましくは、３００℃以下に選択される。封着材の軟化点は、例えば、２６５℃である。なお、溶融時間ｔｍは、例えば、第１及び第２ガラス板２０，３０の大きさ、及び周壁４１０の大きさに応じて任意に選択される。

また、本実施形態では、溶融工程後、封止工程を実行するために焼成炉内の温度が下げられる。これにより、周壁４１０は硬化して枠体４０となり、堰部材４７は硬化する。これにより、仕掛り品１１１が得られる。

排気工程は、排気口７００を介して内部空間５００を排気して真空空間５０とする工程である。排気は、例えば、真空ポンプを用いて行われる。真空ポンプは、図１３に示されるように、減圧機構７１により仕掛り品１１１に接続される。減圧機構７１は、排気ヘッド７５と、接続部７５３と、押圧機構７３と、を備える。接続部７５３は、排気ヘッド７５と、真空ポンプとをつなぐ。排気ヘッド７５は、その内部と、内部空間５００とを排気口７００を介してつなぐようして仕掛り品１１１に押し当てられる。具体的には、排気ヘッド７５は、第１ガラス板２０のうち排気口７００の開口を囲む部分に、気密に押し当てられる。そして、排気ヘッド７５内の空気が、接続部７５３を通じて吸引（図１３中の白抜き矢印参照）されると、排気口７００を通じて、内部空間５００が排気される。押圧機構７３は、排気ヘッド７５の内部に設けられている。押圧機構７３は、減圧機構７１によって真空空間５０を維持した状態で、排気口７００に挿入された孔封止材４３を、第２ガラス板３０に向けて押し込むように構成されている。排気工程中、排気口７００に、排気口７００の内径よりも小さい径の孔封止材４３とプレート４６が挿入される（図１３参照）。プレート４６は、孔封止材４３と押圧機構７３との間に介在している。この状態で、孔封止材４３とプレート４６は、押圧機構７３により、第２ガラス板３０に向けて弾性的に押し込まれる。

孔封止材４３は、例えばガラスフリットを用いて形成された固形の封止材である。孔封止材４３は、ブロック状の形状を有するが、上下に貫通した筒状の形状を有することも好ましい。また、孔封止材４３は、ガラスフリット以外に、周壁４１０と同様の有機バインダをさらに含有してもよい。この場合、封止工程後、孔封止材４３等からガスが真空空間５０に放出されても、このガスをガス吸着体６０が吸着することにより、真空空間５０内にガスが残りにくくなる。

本実施形態では、排気工程は、図１２に示すように、溶融工程の途中から開始される。したがって、溶融工程においても、排気口７００を介して内部空間５００が排気される。そのため、溶融工程において組立て品１０１の内外の圧力差が生じ、この圧力差によって、第１及び第２ガラス板２０，３０が互いに接近するように移動させられる。これによって、第１及び第２ガラス板２０，３０に反りがある場合でも、周壁４１０によって第１ガラス板２０と第２ガラス板３０とを気密に接合しやすくなる。また、排気工程が溶融工程の途中から開始されることで、溶融工程中に周壁４１０及び堰部材４７から放出された不要なガス等が排気される。このため、図９Ｂのような真空空間５０内に周壁４１０及び堰部材４７に由来する不要なガスを残留させにくくできる。

封止工程は、排気口７００内に挿入された孔封止材４３を局所加熱して溶融させ、溶融後の孔封止材４３で排気口７００を封止する工程である。封止工程中、図１２に示すように、排気工程は継続して実行される。また封止工程の温度は、溶融工程の温度（溶融温度）Ｔｍ以下の第２所定温度（封止温度）Ｔｓに保持される。具体的には、封止工程の温度は、溶融温度Ｔｍよりも低い封止温度Ｔｓに保持される。封止工程では、封止温度Ｔｓよりも高い温度で孔封止材４３だけが局所加熱されて溶融する。封止温度Ｔｓは、例えば、２５０℃である。また、封止工程では第２所定時間（封止時間）ｔｓだけ孔封止材４３が局所加熱される。封止時間ｔｓは、孔封止材４３の大きさに応じて任意に選択される。本実施形態の封止工程は、要するに、真空空間５０を、真空空間５０以外の空間から空間的に分離する工程である。真空空間５０以外の空間は、本実施形態では、仕掛り品１１１の外部空間に相当する。

本実施形態では、封止工程は、図１４に示すように、加熱機構７２を用いて実行される。加熱機構７２は、仕掛り品１１１に対して排気ヘッド７５とは反対側に配置される。加熱機構７２は、排気口７００に挿入された孔封止材４３を、非接触で加熱するように構成されている。この場合、孔封止材４３は加熱機構７２により局所加熱されているため、仕掛り品１１１の温度は封止温度Ｔｓに保持されている。

加熱機構７２は、照射器７２０を含む。照射器７２０は、第２ガラス板３０を介して、孔封止材４３に赤外線（近赤外線）を照射し、孔封止材４３を加熱するように構成されている。

封止工程中、加熱機構７２と押圧機構７３の両方を実行させることで、真空空間５０が維持されたまま、排気口７００が孔封止材４３により封止される。この場合、孔封止材４３を溶融させ、溶融した孔封止材４３が堰部材４７の内周側にある空間内に留められる。その後、溶融した孔封止材４３が硬化することで、排気口７００は封止される。

つまり、封止工程では、加熱機構７２によって孔封止材４３が加熱溶融され、かつ、押圧機構７３がプレート４６を介して及ぼす付勢力によって、孔封止材４３が第２ガラス板３０に向けて押し付けられる。孔封止材４３は、真空空間５０内において堰部材４７の内周面に当たるまで変形する。堰部材４７に設けられた切欠き部分は、変形した孔封止材４３によって封止される。

排気口７００を封止することで、排気ヘッド７５を取り外しても、真空空間５０を維持させることができる。排気ヘッド７５を取り外すにあたって、溶融した孔封止材４３を、除熱によって硬化させる。排気口７００を孔封止材４３で封止させた後、排気工程を停止させる。これにより、図９Ａ及び図９Ｂのようなガラスパネルユニット１０Ａが得られる。

＜複合ゲッタ材の用途＞
上記説明では、複合ゲッタ材が第１及び第２実施形態のガラスパネルユニット１０、１０Ａの各々に用いられた例を挙げたが、本開示の複合ゲッタ材は、ＭＥＭＳ機器やディスプレイ等の電子機器にも使用することができる。もちろん、複合ゲッタ材を含有するゲッタペーストもＭＥＭＳ機器やディスプレイ等の電子機器に使用することができる。

＜第３実施形態＞
本実施形態に係るガラスパネルユニット１０の製造方法は、第１実施形態に対して、加工工程のゲッタペースト作製工程と、ガス吸着体の構成と、が異なる。下記において、第１実施形態と重複する構成は、図面に同じ符号を付して説明を省略することがある。

本実施形態では、ゲッタペースト作製工程において、第１のゲッタ材であるゼオライト粒子と、第２のゲッタ材であるセリウム化合物とを混合せずに、別々に得る。すなわち、第１実施形態では、複合ゲッタ材作製工程は、ゼオライト粒子とセリウム化合物粒子との両方を含有する複合ゲッタを作製するものであるが、本実施形態では、ゼオライト粒子を含有する第１のゲッタペーストと、セリウム化合物を含有する第２のゲッタペーストと、を別々に形成するゲッタペースト作製工程を備える。すなわち、第１のゲッタペーストには、第２のゲッタ材（セリウム化合物粒子）を含有しない。第２のゲッタペーストには第１のゲッタ材（ゼオライト粒子）を含有しない。

また本実施形態では、第１実施形態におけるガス吸着体６０の代わりに、図１５Ａ及び図１５Ｂに示すように、第１のガス吸着体６１と、第２のガス吸着体６２、とを備える。第１のガス吸着体６１は、第１のゲッタ材を含有している。すなわち、第１のガス吸着体６１は、ゼオライト粒子を含有している。第２のガス吸着体６２は、第２のゲッタ材を含有している。すなわち、第２のガス吸着体６２は、セリウム化合物粒子を含有している。

図１５Ａでは、第２のガス吸着体６２は、第２ガラス板３００の長さ方向の第２端側（図１５Ａにおける左端側）に、第２ガラス板３００の幅方向（方向Ｄ２）に沿って形成されている。第１のガス吸着体６１は、第２ガラス板３００の幅方向の一端側に、第２ガラス板３００の長さ方向（方向Ｄ３）に沿って形成されている。第１及び第２ガラス板２００，３００が、方向Ｄ２よりも方向Ｄ３の方が長い長方形の場合、第１のガス吸着体６１は、第２のガス吸着体６２よりも長く形成される。これにより、内部空間５００内には、ゼオライトがセリウム化合物よりも多く配置される。

図１５Ｂでは、第１のガス吸着体６１及び第２のガス吸着体６２は、両方とも、第２ガラス板３００の長さ方向の第２端側（図１５Ｂにおける左端側）に、第２ガラス板３００の幅方向（方向Ｄ２）に沿って形成されている。すなわち、第１のガス吸着体６１及び第２のガス吸着体６２は、平行に配置されている。これにより、ガラスパネルユニット１０のデザイン性がよくなる場合がある。第１のガス吸着体６１及び第２のガス吸着体６２は、図１５Ａ及び図１５Ｂに示す場合に限られず、どのように形状や位置に形成してもよい。

本実施形態では、混合工程及び組立工程における第４工程以外は、第１実施形態と同様にしてガラスパネルユニット１０を製造する。

本実施形態では、混合工程により、ゲッタ材と溶媒とを混合してゲッタペーストを得る。この場合、第１のゲッタ材と溶媒とを混合した第１のゲッタペーストと、第２のゲッタ材と溶媒とを混合した第２のゲッタペーストと、を得る。第１のゲッタペーストの溶媒と、第２のゲッタペーストの溶媒とは、同じ種類であってもよいし、異なる種類であってもよい。

本実施形態では、第１実施形態と同様に、組立工程における第４工程により、第１のガス吸着体６１及び第２のガス吸着体６２を形成する。この場合、ディスペンサなどを利用して、第１のゲッタペーストと、第２のゲッタペーストとを、各々、第２ガラス板３００上に塗布する。そして、塗布後のゲッタペーストを乾燥することにより、第１のガス吸着体６１と、第２のガス吸着体６２とが、各々、形成される。

第１実施形態のように、ゼオライトとセリウム化合物とを含有するガス吸着体６０よりも、本実施形態のように、ゼオライトを含有する第１のガス吸着体６１と、セリウム化合物を含有する第２のガス吸着体６２とを別々に形成するほうが、ゼオライト（特に、Ｃｕ－ＺＳＭ５）がセリウム化合物（特に、ＣｅＯ_２）からの酸素脱離の影響を受けにくい。したがって、第１のガス吸着体６１による高い吸着能力が得られる場合がある。

＜第４実施形態＞
本実施形態に係るガラスパネルユニット１０の製造方法は、第１実施形態に対して、加工工程のゲッタ材作製工程と、ガス吸着体の構成と、が異なる。下記において、第１実施形態と重複する構成は、図面に同じ符号を付して説明を省略することがある。

本実施形態では、ゲッタペースト作製工程において、第１のゲッタ材である銅イオン交換ゼオライトからなる粒子を含有する第１のゲッタペーストと、第２のゲッタ材であるセリウム化合物かなる粒子を含有する第２のゲッタペーストと、を得る。すなわち、第１実施形態では、複合ゲッタ材は、ゼオライト粒子とセリウム化合物粒子との両方を含有するものであるが、本実施形態では、銅イオン交換ゼオライト粒子を含有する第１のゲッタペーストと、セリウム化合物粒子を含有する第２のゲッタペーストと、を別々に形成する。すなわち、第１のゲッタペーストには、第２のゲッタ材（セリウム化合物粒子）を含有しない。第２のゲッタペーストには第１のゲッタ材（銅イオン交換ゼオライト粒子）を含有しない。

また本実施形態では、第１実施形態におけるガス吸着体６０として、図１６に示すように、第１のガス吸着体６０１と、第２のガス吸着体６０２、とを備える。第１のガス吸着体６０１は、第１のゲッタ材を含有している。すなわち、第１のガス吸着体６０１は、銅イオン交換ゼオライト粒子を含有している。第２のガス吸着体６０２は、第２のゲッタ材を含有している。すなわち、第２のガス吸着体６０２は、セリウム化合物粒子を含有している。

このように本実施形態においては、ガス吸着体６０は、少なくとも２種類のゲッタ材（第１のゲッタ材と第２のゲッタ材）を有している。前記２種類のゲッタ材は、各々、銅イオン交換ゼオライト粒子とセリウム化合物粒子とを含有する。すなわち、第１のゲッタ材は銅イオン交換ゼオライト粒子を含有している。また第２のゲッタ材はセリウム化合物粒子を含有している。第１のガス吸着体６０１と第２のガス吸着体６０２とは、真空空間５０内において、別々に配置されている。これにより、第１のガス吸着体６０１と第２のガス吸着体６０２とは、異なる位置に配置されている。

ここで、第１のガス吸着体６０１と第２のガス吸着体６０２とが別々に配置されている状態には、第１のガス吸着体６０１と第２のガス吸着体６０２とが表面同士で接触している場合を含む。この場合、第１のガス吸着体６０１と第２のガス吸着体６０２とが全面にわたって接触していてもよいし、一部の表面同士が接触していてもよい。例えば、第１のガス吸着体６０１と第２のガス吸着体６０２とが重なった状態で配置されている場合は、第１のガス吸着体６０１と第２のガス吸着体６０２とは、第１ガラス板２００及び第２ガラス板３００に対する垂直方向（方向Ｄ１）の位置が異なる。したがって、銅イオン交換ゼオライト粉体とセリウム化合物粒子が、第１のガス吸着体６０１と第２のガス吸着体６０２の境界のみでの接触となるため、別々に配置に含まれる。

また第１のガス吸着体６０１と、第２のガス吸着体６０２とは、離れて配置されていてもよい。第１のガス吸着体６０１と第２のガス吸着体６０２とが、離れて配置された状態とは、第１のガス吸着体６０１と第２のガス吸着体６０２とが、接触しない状態で配置されている状態である。例えば、第１ガラス板２００に第１のガス吸着体６０１と第２のガス吸着体６０２のいずれか一方が配置され、他方が第２ガラス板３００に配置されており、第１ガラス板２００または第２ガラス板３００に垂直な方向（図１６の方向Ｄ１）から見たときに、第１のガス吸着体６０１と第２のガス吸着体６０２とが重なって見える場合も、第１ガラス板２００及び第２ガラス板３００に対する垂直方向（方向Ｄ１）の位置が異なるため、離れて配置に含まれる。

ただし、可能な限り銅イオン交換ゼオライト粒子とセリウム化合物粒子の接触部が少なくなるように配置される方が、セリウム化合物粒子からの酸素脱離の影響を小さくできるため、より望ましい。

図１６では、第１のガス吸着体６０１は、第２ガラス板３００の長さ方向の第２端側（図１６における左端側）に、第２ガラス板３００の幅方向（方向Ｄ２）に沿って形成されている。第２のガス吸着体６０２は点状に複数形成されている。すなわち、複数の点状の第２のガス吸着体６０２が、第２ガラス板３００の表面（第１空間５１０に向く面）の全面にわたって形成されている。各第２のガス吸着体６０２は、スペーサ７０よりも小さく形成されている。また複数の第２のガス吸着体６０２は、スペーサ７０及び第１のガス吸着体６０１とは、離れて配置されている。すなわち、複数の第２のガス吸着体６０２は、隣り合うスペーサ７０の間、又はスペーサ７０と第１のガス吸着体６０１との間に配置されている。

本実施形態では、混合工程及び組立工程における第４工程以外は、第１実施形態と同様にしてガラスパネルユニット１０を製造する。

本実施形態では、第１のガス吸着体６０１は第１のゲッタペーストにより形成される。第１のゲッタペーストは、第１実施形態と同様に、混合工程により、ゲッタ材と溶媒とを混合してゲッタペーストを得る。この場合、第１のゲッタ材と溶媒とを混合する。一方、第２のガス吸着体６０２は、ゲッタ材を含むパウダーで構成されている。すなわち、第２のガス吸着体６０２は、複数のセリウム化合物粒子を含むパウダーで構成される。第２のガス吸着体６０２は、例えば、酸化セリウムパウダーで形成することができる。酸化セリウムパウダーとしては、例えば、Strem Chemicals, Inc.製の酸化セリウムナノパウダー（後述の製造例１８、１９で使用したものと同様、市販品、型式５０－１４００）が挙げられる。この酸化セリウムパウダーは、酸化セリウム化合物粒子としてのナノ粒子（粒径１～１００ｎｍ）の集合体である。このように第２のガス吸着体６０２として、酸化セリウム粒子のナノパウダーを用いることで、第２のガス吸着体６０２を散布した際に目視されにくくすることができ、ガラスパネルユニット１０の透明性が損なわれにくい。またナノパウダーで構成される第２のガス吸着体６０２は、大きな塊（バルク）で構成される第２のガス吸着体６０２に比べて、表面積を稼ぐ（大きくする）ことができる。したがって、仮に、ナノパウダーの担持物質がなくても、第２のガス吸着体６０２の吸着能力を高くすることができる。

そして、本実施形態では、第１実施形態と同様に、組立工程における第４工程により、第１のガス吸着体６０１及び第２のガス吸着体６０２を形成する。この場合、第２のガス吸着体６０２は、酸化セリウム粒子のナノパウダーを第２ガラス板３００上の全体に散布して形成される。また第１のガス吸着体６０１は、ディスペンサなどを利用して、第１のゲッタペーストを第２ガラス板３００上に塗布し、塗布後の第１のゲッタペーストを乾燥することにより形成される。

第１実施形態、第２実施形態及び第３実施形態では、第２ガラス板３００上の外周付近にガス吸着体６０を形成しているため、ゲッタペーストを塗布できる量は限られ、よって、ガス吸着体６０を大きく形成することが難しい場合がある。一方、本実施形態においては、酸化セリウム粒子のナノパウダーのみで第２のガス吸着体６０２を形成した場合、酸化セリウム粒子のナノパウダーを第２ガラス板３００上の全体に散布することにより、狭い空間でも第２のガス吸着体６０２を形成することができる。したがって、スペースを効率的に活用できる。

またゼオライト粒子はガスを吸着することで色が変わるため、ゼオライト粒子を含む第１のガス吸着体６０１の変色により、ガラスパネルユニット１０の内部（真空空間５０）の真空度を確認しやすくなる。一方、ゼオライト粒子と酸化セリウム粒子とを混合してガス吸着体６０が形成されると、ガス吸着体６０の色の変化を確認することが難しくなる。本実施形態では、銅イオン交換ゼオライト粒子とセリウム化合物粒子とが別々に配置されるため、銅イオン交換ゼオライト粒子の色の変化が確認可能となり、真空空間５０の真空度を確認しやすくなる。

また本実施形態では、ゼオライト粒子を含有する第１のガス吸着体６０１と、セリウム化合物粒子を含有する第２のガス吸着体６０２とを別々に形成するので、ゼオライト（特に、Ｃｕ－ＺＳＭ５）粒子がセリウム化合物（特に、ＣｅＯ_２）粒子からの酸素脱離の影響を受けにくくなる。したがって、第１のガス吸着体６１による高い吸着能力が得られる場合がある。

以下、本開示を実施例によって具体的に説明する。

＜酸化セリウム（ＩＶ）の分析＞
チャンバ内に未加熱の酸化セリウム（ＩＶ）粉末を配置させた。この配置後、チャンバ内を排気させて真空空間にさせた。その後、チャンバ内の温度を３０℃／ｍｉｎの昇温速度で昇温させながら、各温度で、酸化セリウム（ＩＶ）粉末から脱離する酸素の量を昇温脱離ガス分析法にて定量した。その結果を酸素放出カーブとして図１７に示す。なお、図１７の縦軸に示す「強度」は、酸素の検出強度（酸素イオン電流値）の常用対数を示す。図１７の結果から、２００℃以上の温度で、酸化セリウム（ＩＶ）粉末から多くの酸素が脱離することが分かった。

＜製造例Ａ＞
本開示の製造例Ａを、下記の製造例１～製造例６にて説明する。

＜＜製造例１～製造例６＞＞
各製造例は、下記に示す部材を用いて行われた。
・第１ガラス板（ガラス板のサイズ；幅×長さ×厚さ＝３００ｍｍ×３００ｍｍ×３ｍｍ、Ｌｏｗ－Ｅガラス放射率＝０．０４）、
・第２ガラス板（ガラス板のサイズ；幅×長さ×厚さ＝３００ｍｍ×３００ｍｍ×３ｍｍ）、
・スペーサ（サイズ；直径×高さ＝０．５ｍｍ×０．１ｍｍ、樹脂製）、
・ガラスフリット；バナジウム系ガラスフリット（軟化点；２６５℃）。

［製造例１］
まず、酸化セリウム（ＩＶ）粉末（２質量部）と銅イオン交換ゼオライト（Ｃｕ－ＺＳＭ５）粉末（９８質量部）とを混合して複合ゲッタ材を作製した。そして、１００質量部の複合ゲッタ材と、４００質量部の水とを均一に混合してゲッタペーストを作製した。次に、排気口を有する第２ガラス板の一表面に、複合ゲッタ材の量が５０ｍｇとなるようにして、スパチュラーでゲッタペーストを塗布した。この塗布後、第２ガラス板上のゲッタペーストを乾燥させてガス吸着体を作製した。ガス吸着体の作製後、第２ガラス板の一表面に、封着材からなる周壁と、封着材からなる仕切りと、通気路と、複数のスペーサとをさらに形成した。周壁と仕切りとを形成する際、８８質量部のガラスフリットと、２質量部の有機バインダと、１０質量部の有機溶剤を混合することで封着材を作製し、この封着材を第２ガラス板に塗布した後、乾燥させた。封着材を作製する際、有機バインダとして脂肪族ポリカーボネートを、有機溶剤として酢酸エチルカルビトールとを用いた。また、スペーサを形成する際、隣り合うスペーサ同士の間隔が２０ｍｍとなるようにして複数のスペーサをチップマウンタで第２ガラス板に配置した。

次に、第２ガラス板と対向するようにして第１ガラス板を配置させた。これにより、第１ガラス板と第２ガラス板との間に内部空間が形成された組み立て品が得られた。

続いて、真空ポンプと排気口とを排気管及びシールヘッドにより接続してから、組み立て品を溶融炉内に配置した。この配置後、組み立て品を２８５℃（第１溶融温度）で１５分間加熱することで、周壁を一旦溶融させた。この溶融時に通気路は塞がれていなかった。

周壁の溶融後、溶融炉内の温度を排気温度である２５０℃まで降温させた。そして、真空ポンプを作動させることにより、内部空間を２５０℃で１２０分間排気させた。

その後、真空ポンプを作動させたまま、溶融炉内の温度を第２溶融温度である２９０℃まで昇温させ、この温度で１５分間組み立て品を加熱した。この加熱により仕切りを変形させて通気路を塞ぐ隔壁を形成した。

隔壁の形成後、溶融炉内の温度を室温まで降温させた。この降温後、真空ポンプを停止してシールヘッドを脱着させた。シールヘッドの脱着後、切断により不要な部分を取り除くことで、ガラスパネルユニットを作製した。

［製造例２］
酸化セリウム（ＩＶ）粉末（１０質量部）と、銅イオン交換ゼオライト(Ｃｕ－ＺＳＭ５)粉末（９０質量部）とを用いた以外は製造例１と同様にしてガラスパネルユニットを作製した。

［製造例３］
酸化セリウム（ＩＶ）粉末（２０質量部）と、銅イオン交換ゼオライト(Ｃｕ－ＺＳＭ５)粉末（８０質量部）とを用いた以外は製造例１と同様にしてガラスパネルユニットを作製した。

［製造例４］
酸化セリウム（ＩＶ）粉末（５０質量部）と、銅イオン交換ゼオライト(Ｃｕ－ＺＳＭ５)粉末調整例２の熱処理物（５０質量部）とを用いた以外は製造例１と同様にしてガラスパネルユニットを作製した。

［製造例５］
酸化セリウム（ＩＶ）粉末の量を１００質量部にして、銅イオン交換ゼオライト(Ｃｕ－ＺＳＭ５)粉末を用いなかった以外は、製造例１と同様にしてガラスパネルユニットを作製した。

［製造例６］
銅イオン交換ゼオライト(Ｃｕ－ＺＳＭ５)粉末の量を１００質量部にして、酸化セリウム（ＩＶ）粉末を用いなかった以外は、製造例１と同様にしてガラスパネルユニットを作製した。

｛評価｝
＜熱コンダクタンス＞
各製造例のガラスパネルユニットの熱コンダクタンスを下記の手順で評価した。測定装置の高温部と低温部とがガラスパネルユニットにより仕切られた状態で、第１ガラス板の外面に第１温度計を配置し、第２ガラス板の外面に第２温度計及びセンサとを配置した。この配置後、ガラスパネルユニットを介して加温部から冷却部に伝えられた熱の流束をセンサで検出し、第１温度計で第１ガラス板の表面温度を測定し、第２温度計で第２ガラス板の表面温度を測定した。

そして、熱流束と、第１ガラス板の表面温度と、第２ガラス板の表面温度と、を下記式（１）に導入することで、ガラスパネルユニットの熱コンダクタンスを算出した。
Ｑ＝Ｃ（Ｔ１－Ｔ２） ・・・（１）
式（１）中、Ｑは熱流束（Ｗ／ｍ^２）を示し、Ｔ１は第１ガラス板の表面温度（Ｋ）を示し、Ｔ２は第２ガラス板の表面温度（Ｋ）を示し、Ｃは熱コンダクタンス（Ｗ／ｍ^２Ｋ）を示す。

図１８Ａに各製造例の熱コンダクタンスと、酸化セリウム（ＩＶ）（ＣｅＯ_２）の添加量との関係を示す。図１８Ａの結果から、製造例１～４の熱コンダクタンスは、製造例５～６の熱コンダクタンスよりも低くなる傾向が得られた。この傾向から、真空空間において、ＣｅＯ_２が二酸化炭素を吸着すると共に、銅イオン交換ゼオライトはＣｅＯ_２から脱離した酸素だけでなく窒素及びメタン等のガスも吸着していると考えられた。これにより、銅イオン交換ゼオライトとＣｅＯ_２とを併用することで、真空空間中のガスが残りにくいと考えられた。

また、図１８Ａの結果から、ＣｅＯ_２を添加することで熱コンダクタンスが低くなる傾向と、ＣｅＯ_２の添加量が小さくなるほど熱コンダクタンスが低くなる傾向とが得られた。これらの傾向から、ＣｅＯ_２から脱離する酸素の量を少なくでき、真空空間中のガスがさらに残りにくいと考えられた。

ここで、銅イオン交換ゼオライトの代わりに、水素イオン交換ゼオライト（ＨＺＳＭ－５）を使用した場合について説明する。水素イオン交換ゼオライトとは、水素イオン交換されたＺＳＭ－５型ゼオライトである。したがって、水素イオン交換ゼオライトは、ゼオライト構造に水素イオンを保持させた成分である。

図１８Ｂは、図１８Ａと同様に、複合ゲッタ材におけるＣｅＯ_２の添加量と、ガラスパネルユニットの熱コンダクタンスとの関係を示すグラフである。図１８Ｂの結果が得られるガラスパネルユニットは、複合ゲッタ材が、銅イオン交換ゼオライトの代わりに、水素イオン交換ゼオライトを使用して作製されている。

対比製造例２は、製造例２において、酸化セリウム（ＩＶ）粉末（１０質量部）と、水素イオン交換ゼオライト(ＨＺＳＭ－５)粉末（９０質量部）とを用いた以外は製造例１と同様にしてガラスパネルユニットを作製した。

対比製造例４は、製造例４において、酸化セリウム（ＩＶ）粉末（５０質量部）と、水素イオン交換ゼオライト(ＨＺＳＭ－５)粉末（５０質量部）とを用いた以外は製造例１と同様にしてガラスパネルユニットを作製した。

対比製造例５は、製造例５と同様に酸化セリウム（ＩＶ）粉末の量を１００質量部にして、水素イオン交換ゼオライト(ＨＺＳＭ－５)粉末を用いなかった以外は、製造例１と同様にしてガラスパネルユニットを作製した。

対比製造例６は、製造例６において、水素イオン交換ゼオライト(ＨＺＳＭ－５)粉末の量を１００質量部にして、酸化セリウム（ＩＶ）粉末を用いなかった以外は、製造例１と同様にしてガラスパネルユニットを作製した。

図１８Ａと図１８Ｂとを対比すると、図１８Ａでは、製造例１～４のプロットにおけるＣｅＯ_２の添加量付近で、熱コンダクタンスの極小値が現れている。一方、図１８Ｂでは、比較製造例２及び４のプロットにおけるＣｅＯ_２の添加量付近で、熱コンダクタンスの極小値が現れていない。

すなわち、銅イオン交換ゼオライトとＣｅＯ_２とを混合して併用したゲッタ材は、水素イオン交換ゼオライトとＣｅＯ_２とを混合して併用したゲッタ材と比較して、特異的な効果がある。すなわち、銅イオン交換ゼオライトとＣｅＯ_２とを含むゲッタ材は、水素イオン交換ゼオライトとＣｅＯ_２とを含むゲッタ材よりも、ＣｅＯ_２の添加量が少なくても、熱コンダクタンスが低いガラスパネルユニットが得られる。

＜製造例Ｂ＞
酸化セリウム（ＩＶ）粉末と銅イオン交換ゼオライト粉末の混合前に、下記の調整例１および調整例２のような処理をした以外は製造例Ａと同様である。

［調整例１］
チャンバ内に０．２ｇの銅イオン交換ゼオライト粉末（未加熱）を配置させた。この配置後、チャンバ内を排気させて真空空間にさせながら、銅イオン交換ゼオライト粉末を５００℃で４時間加熱した。これにより、未加熱の銅イオン交換ゼオライト粉末が吸着していた成分を脱離させた。その後、チャンバ内を室温まで冷却させた。この冷却後、チャンバ内に窒素ガスを流し込んで、チャンバ内の気圧を大気圧にした。これにより、銅イオン交換ゼオライト粉末の熱処理物を得た。

［調整例２］
チャンバ内に０．１ｇの酸化セリウム（ＩＶ）粉末（未加熱）を配置させた。この配置後、チャンバ内を排気させて真空空間にさせながら、酸化セリウム（ＩＶ）粉末を５００℃で２時間加熱した。これにより、酸化セリウム（ＩＶ）粉末から酸素を脱離させた。その後、チャンバ内を室温まで冷却させた。この冷却後、チャンバ内に二酸化炭素ガスを流し込んで、チャンバ内の気圧を大気圧にした。これにより、酸化セリウム（ＩＶ）粉末の熱処理物を得た。

このようにゼオライト粉末または酸化セリウム（ＩＶ）粉末を事前に熱処理することで、複合ゲッタ材の吸着能力の改善および酸化セリウム粉末からの酸素脱離量低減がなされ、より吸着性能の高い複合ゲッタ材が得られた。

＜製造例Ｃ＞
製造例７～１３は、酸化セリウム（ＩＶ）粉末と銅イオン交換ゼオライト粉末の合計量（製造例Ａにおける「ゲッタ材の量」）を２０ｍｇへ変更した。また製造例１０～１３は、さらに、酸化セリウム（ＩＶ）および銅イオン交換ゼオライト粉末を塗布前に混合せず、同じ真空空間中の別々の離れた位置に配置されるようにした。これら以外は、製造例Ａと同様である。

[製造例７]
酸化セリウム（ＩＶ）粉末（１０質量部）と、銅イオン交換ゼオライト(Ｃｕ－ＺＳＭ５)粉末（９０質量部）とを用い、合計量を２０ｍｇとした以外は製造例１と同様にしてガラスパネルユニットを作製した。

[製造例８]
酸化セリウム（ＩＶ）粉末（１５質量部）と、銅イオン交換ゼオライト(Ｃｕ－ＺＳＭ５)粉末（８５質量部）とを用いた以外は製造例７と同様にしてガラスパネルユニットを作製した。

[製造例９]
酸化セリウム（ＩＶ）粉末（２５質量部）と、銅イオン交換ゼオライト(Ｃｕ－ＺＳＭ５)粉末（７５質量部）とを用いた以外は製造例７と同様にしてガラスパネルユニットを作製した。

[製造例１０]
酸化セリウム（ＩＶ）粉末（１０質量部）と、銅イオン交換ゼオライト(Ｃｕ－ＺＳＭ５)粉末（９０質量部）とを用い、これらの合計量を２０ｍｇとし、酸化セリウム（ＩＶ）粉末と水(４０質量部)とを混合し、銅イオン交換ゼオライト粉末と水(３６０質量部)とを混合して２種類のゲッタペーストを作成した。各ゲッタペーストを同一真空空間内にそれぞれ異なる位置に塗布した以外は製造例１と同様にしてガラスパネルユニットを作製した。

[製造例１１]
酸化セリウム（ＩＶ）粉末（１５質量部）と、銅イオン交換ゼオライト(Ｃｕ－ＺＳＭ５)粉末（８５質量部）とを用いた以外は製造例１０と同様にしてガラスパネルユニットを作製した。

[製造例１２]
酸化セリウム（ＩＶ）粉末（２５質量部）と、銅イオン交換ゼオライト(Ｃｕ－ＺＳＭ５)粉末（７５質量部）とを用いた以外は製造例１０と同様にしてガラスパネルユニットを作製した。

[製造例１３]
酸化セリウム（ＩＶ）粉末（５０質量部）と、銅イオン交換ゼオライト(Ｃｕ－ＺＳＭ５)粉末（５０質量部）とを用いた以外は製造例１０と同様にしてガラスパネルユニットを作製した。

｛評価｝
＜熱コンダクタンス＞
製造例Ａと同様の方法で熱コンダクタンスを測定した。図１９に結果を示す。

製造例７、８、９を見ると、酸化セリウムの濃度が１０ｗｔ％以上２５ｗｔ％以下において、濃度が上がるとともに熱コンダクタンスが上昇している。一方、製造例１０、１１、１２を見ると、酸化セリウムの濃度１０ｗｔ％以上２５ｗｔ％以下において熱コンダクタンスは濃度上昇とともに低下している。これは、ＣｅＯ_２からの脱離酸素がＣｕ－ＺＳＭ５に影響することを抑制したためであると考えられる。

また、製造例１３のように、酸化セリウムの濃度５０ｗｔ％になると別塗布の場合でも熱コンダクタンスが上昇している。これは、酸化セリウムと銅イオン交換ゼオライトとを別々に塗布しているとはいえ、酸化セリウムと銅イオン交換ゼオライトとが同じ真空空間内にあるので、Ｃｕ－ＺＳＭ５がＣｅＯ_２からの酸素脱離の影響を受けてしまうためであると考えられる。またこれに加え、ＣｅＯ_２濃度を上げることで、結果として、通常では吸着が難しい窒素やメタンを吸着できるＣｕ－ＺＳＭ５の量が減ってしまったためであると考えられる。

なお、２０ｍｇのＣｕ－ＺＳＭ５単体の場合、熱コンダクタンス値は２０Ｗ／ｍ^２Ｋ程度になる。このため、混合塗布の場合でもＣｅＯ_２混合の効果は大きく得られることが分かる。別塗布の場合、ＣｅＯ_２からの脱離酸素の影響を受けにくいという大きなメリットがある反面、塗布工程の時間が長くなってしまう、ガス吸着体が外観上目立ちやすい、といったデメリットもある。このため、製造工程や製品特性を考慮した上で、混合塗布、別塗布のうち望ましい方を選択すればよい。

＜製造例Ｄ＞
酸化セリウム（ＩＶ）粉末に異なる還元温度のものを用いることと、酸化セリウム粉末の混合量が異なること以外は、製造例８と同様である。なお、製造例１４及び１５は、金属担持の酸化セリウム（ＩＶ）粉末を使用している。製造例１６及び１７は、製造例１４及び１５より金属担持物質の濃度を小さくした酸化セリウム（ＩＶ）粉末を使用している。製造例１８及び１９は、金属担持なしの酸化セリウム（ＩＶ）粉末を使用している。

［製造例１４］
還元温度が２００℃の酸化セリウム（ＩＶ）粉末（１５質量部）を用いた以外は製造例７と同様にしてガラスパネルユニットを作製した。

［製造例１５］
還元温度が２００℃の酸化セリウム（ＩＶ）粉末（５０質量部）と、銅イオン交換ゼオライト（Ｃｕ－ＺＳＭ５）粉末（８５質量部）とを用い、合計２７ｍｇとした以外は製造例１４と同様にしてガラスパネルユニットを作製した。

［製造例１６］
還元温度が５５０℃の酸化セリウム（ＩＶ）粉末（１５質量部）を用いた以外は製造例１４と同様にしてガラスパネルユニットを作製した。

［製造例１７］
還元温度が５５０℃の酸化セリウム（ＩＶ）粉末（５０質量部）を用いた以外は製造例１５と同様にしてガラスパネルユニットを作製した。

［製造例１８］
還元温度が６５０℃を超える酸化セリウム（ＩＶ）粉末（１５質量部）を用いた以外は製造例１４と同様にしてガラスパネルユニットを作製した。

［製造例１９］
還元温度が６５０℃を超える酸化セリウム（ＩＶ）粉末（５０質量部）を用いた以外は製造例１５と同様にしてガラスパネルユニットを作製した。

｛評価｝
＜還元温度＞
還元温度は昇温脱離ガス分析にて酸素放出の立ち上がりを調べることで決定した。超高真空下において、昇温速度を３０℃／ｍｉｎとし、サンプル温度が６５０℃となるまで測定した。サンプル温度は、サンプルを直径１ｃｍのカーボンシートに挟んだ上で、下から赤外線で加熱し、カーボンシートの上から熱電対を当てることで測定した。測定結果を酸素放出カーブとして図２０に示す。なお、Ｏ_２の放出量の測定装置は、電子科学社製の昇温脱離分析装置ＴＤＳ１２００ＩＩを用いた。図２０のグラフの縦軸は、各温度の時点でのＯ_２のイオン電流値を、単位時間当たりのＯ_２放出量として記した。なお、縦軸の最大値は８Ｅ^－１０［Ａ］である。

＜酸化セリウム増量テスト＞
それぞれの製造例について、製造例Ａと同様の方法で熱コンダクタンスを測定した。図２１に、１５質量部の酸化セリウム粉末を用いた場合の熱コンダクタンスを１として、熱コンダクタンスの比を示した。

還元温度が２００℃の酸化セリウム粉末の場合、酸化セリウム量を増やすことで熱コンダクタンスが上昇している。また、還元温度が５５０℃の酸化セリウム粉末の場合、酸化セリウム量を増やすことで熱コンダクタンスはほぼ変化がないものの微増している。一方、還元温度が６５０℃を超える酸化セリウム粉末の場合、熱コンダクタンス値は低下している。これは、Ｃｕ－ＺＳＭ５の酸化銅が酸素を放出し始める温度が２５０℃程度からであり、還元された銅イオンサイトに窒素やメタン等の難吸着性ガスを吸着することと関係している。

２００℃から還元が始まる製造例１４、１５の酸化セリウム粉末では、２００℃から酸素が放出されてしまうため、Ｃｕ－ＺＳＭ５の酸化銅の還元を大きく阻害してしまう。５５０℃で還元される酸化セリウム粉末の場合、単体では２５０℃で放出される酸素はほとんどないが、Ｃｕ－ＺＳＭ５の還元作用でわずかに酸素を放出し、やはりＣｕ－ＺＳＭ５の酸化銅の還元をわずかに阻害する。６５０℃より高い温度でも還元されない酸化セリウムの場合、酸素を脱離させるエネルギーが高いため、Ｃｕ－ＺＳＭ５と混合しても還元されず、Ｃｕ－ＺＳＭ５に悪影響を与えない。その結果、酸化セリウムを増やすことで純粋にＣＯ_２吸着量を増やすことができ、Ｃｕ－ＺＳＭ５の吸着サイトがＣＯ_２で埋まってしまうことを防ぎ、その分だけ窒素やメタンの吸着量を高く保つことができる。このため、Ｃｕ－ＺＳＭ５に悪影響を与えないためには、還元温度は２５０℃以上が望ましく、さらには５５０℃以上であることが特に望ましい。

なお、図２０において、酸素放出開始温度（還元が始まる温度）は酸素放出カーブの立ち上がり（傾きが正になる）位置での温度である。また、２００℃以下のピーク（最大点）は物理吸着による微量の酸素放出と考えられる。また２５０℃（または３００℃、５００℃、５５０℃）での酸素放出カーブの傾きが負になっている。したがって、酸素放出開始温度は、３００℃以上、５００℃以上、５５０℃以上がより望ましい。

Ｃｕ－ＺＳＭ５に悪影響を与えない酸化セリウムが有用な理由は主に３つある。

１つ目は、Ｃｕ－ＺＳＭ５の吸着能力を悪化させないので、トータルの吸着能力が高くなりやすいことである。例えば、還元温度２００℃の酸化セリウム粉末を用いた製造例１５の熱コンダクタンスは３．８Ｗ／ｍ^２Ｋである。還元温度５５０℃の酸化セリウム粉末を用いた製造例１７の熱コンダクタンスは１．３Ｗ／ｍ^２Ｋである。還元温度６５０℃以上の酸化セリウム粉末を用いた製造例１９の熱コンダクタンスは１．０Ｗ／ｍ^２Ｋである。

２つ目は、酸化セリウム濃度の精度条件が緩和される点である。酸化セリウム濃度が少し高くなってしまったために熱コンダクタンスが大幅に悪化するような場合は、濃度調整に精密さが求められる。

３つ目は、ＣＯ_２吸着能力を自由に設計できることである。例えば、真空断熱ガラスに紫外線が照射されると、ＣＯ_２が多く放出される場合がある。これを見越して酸化セリウム粉末の量のみ多くできれば、ガス吸着体の全体量はそれほど増やさなくてもよい。一方、酸化セリウムがＣｕ－ＺＳＭ５に悪影響を与えている場合、濃度を増やせないので、酸化セリウムとＣｕ－ＺＳＭ５の両方を同じ比率で増やす必要があり、ガス吸着体の全体量が余計に増えることがある。

酸化セリウム粉末の還元温度の調整は、添加物の種類と量、細孔分布、粒子径などに影響を受ける。一般に金属や希土類等の添加、細孔径分布の微細化等で酸化セリウム粉末の二酸化炭素吸着能力は高まるが、反対に還元温度は低下する傾向にある。このため、還元温度が２５０℃以上となるように、二酸化炭素吸着能力を適切に調整することが望ましい。

また、還元温度２５０℃以下または５５０℃以下の酸化セリウム粉末を微量のみ、例えば１０％以下、さらに望ましくは５％以下のみ混合し、それに加えてさらに還元温度の高い別の酸化セリウム粉末を加える。このことで、よりＣｕ－ＺＳＭ５への悪影響を抑制した上で、より自由度高く二酸化炭素吸着能力を設計できる。この場合、還元温度の異なる２種類の酸化セリウム粉末のうち、還元温度の低い酸化セリウム粉末の割合が還元温度の高い酸化セリウム粉末より小さくなっていることが望ましい。

（変形例）
本開示の実施形態は、第１～４実施形態に限定されない。第１～４実施形態は、本開示の目的を達成できれば、設計等に応じて種々の変更が可能である。以下に、第１～４実施形態の変形例を列挙する。なお、以下の説明において、第１～４実施形態を基本例とする。

基本例では、第１及び第２ガラス板２００、３００のうち、第１ガラス板２００だけが低放射膜２２０を備えているが、変形例では第２ガラス板３００も低放射膜を備えてもよい。すなわち、第１及び第２ガラス板２００、３００の両方が低放射膜を備えてもよい。このため、第１及び第２ガラス板２０、３０の両方も低放射膜を備えてもよい。

基本例では、第１及び第２ガラス板２００、３００のうち、第１ガラス板２００は低放射膜２２０を備え、第２ガラス板３００は低放射膜を備えていない。しかし、変形例では第２ガラス板３００が低放射膜を備え、第１ガラス板２００が低放射膜２２０を備えなくてもよい。このため、変形例のガラスパネルユニット１０でも、第２ガラス板３０が低放射膜を備え、第１ガラス板２０が低放射膜２２０を備えなくてもよい。

基本例では、排気工程は第１溶融工程後に開始しているが、変形例では、第１溶融時間ｔｍ１が経過した後で、かつ溶融炉内の温度が第１軟化点よりも低ければ、排気工程は第１溶融工程の途中で開始してもよい。

基本例では、排気工程は第２溶融工程の終了とともに終了しているが、変形例では、排気工程は、第１溶融工程の後に開始し、第２溶融工程の前に終了してもよい。

基本例では、ガラスパネルユニット１０は矩形状であるが、変形例では、ガラスパネルユニット１０は、円形状や多角形状など所望の形状であってもよい。つまり、第１ガラス板２０、及び第２ガラス板３０は、矩形状ではなく、円形状や多角形状など所望の形状であってもよい。

第１及び第２ガラス板２０，３０は同じ平面形状および平面サイズを有していなくてもよい。また、第１ガラス板２０は、第２ガラス板３０と同じ厚みを有していなくてもよい。これらの点は、第１及び第２ガラス板２００，３００についても同様である。

周壁４１０は、第１及び第２ガラス板２００，３００と同じ平面形状を有していなくてもよい。

周壁４１０は、芯材等の他の要素をさらに備えていてもよい。

また、組立て品１００では、周壁４１０は第１及び第２ガラス板２００，３００の間にあるだけでこれらを接合していない。しかしながら、組立て品１００の段階で、周壁４１０が第１及び第２ガラス板２００，３００同士を接合していてもよい。要するに、組立て品１００では、周壁４１０は第１及び第２ガラス板２００，３００の間にあればよく、これらを接合していることは必須ではない。

また、基本例では、仕切り４２０は、周壁４１０に接していない。これによって、仕切り４２０の両端と周壁４１０との隙間が、通気路６１０，６２０を形成している。ただし、仕切り４２０は、その両端の一方のみが周壁４１０に連結されていてもよく、この場合、仕切り４２０と周壁４１０との間に一つの通気路６００が形成されうる。あるいは、仕切り４２０は、その両端が周壁４１０に連結されていてもよい。この場合、通気路６００は、仕切り４２０に形成された貫通孔であってもよい。あるいは、通気路６００は、仕切り４２０と第１ガラス板２００と間の隙間であってもよい。あるいは、仕切り４２０は、間隔をあけて配置された２以上の仕切りで形成されていてもよい。この場合、通気路６００は、２以上の仕切りの間に介在する隙間であってもよい。

基本例では、通気路６００は２つの通気路６１０，６２０を備えているが、通気路６００は、一つの通気路だけで構成されていてもよいし、３以上の通気路で構成されていてもよい。また、通気路６００の形状は、特に限定されない。

また、基本例では、内部空間５００は、一つの第１空間５１０と一つの第２空間５２０とに仕切られている。ただし、内部空間５００は、仕切り４２０によって、１以上の第１空間５１０と１以上の第２空間５２０とに仕切られていてもよい。内部空間５００が２以上の第１空間５１０を有する場合、１つの仕掛り品１１０から２以上のガラスパネルユニット１０を得ることができる。

基本例では、第１空間５１０を真空空間５０としているが、真空空間５０の代わりに、減圧空間としてもよい。減圧空間は、減圧状態となった第１空間５１０である。減圧状態とは、圧力が大気圧より低い状態であればよい。

基本例では、堰部材４７の形状は、Ｃ字状であるが、一部が切り欠かれた多角形の環状であってもよい。また、堰部材はなくてもよい。

基本例では、隔壁４２又は孔封止材４３で真空空間５０を外部空間から空間的に分離している。しかし変形例では、排気口７００に接続された排気管の途中を溶融切断することで形成される封止部により真空空間５０を外部空間から空間的に分離してもよい。すなわち、真空空間５０を外部空間から空間的に分離する部材として、隔壁４２又は孔封止材４３は必須ではない。

また、排気口７００は第１ガラス板または第２ガラス板に形成されている場合に限定されず、例えば、第１ガラス板２００と第２ガラス板３００の間にある周壁４１０に形成されていても良い。また、排気口７００からガスを排気する際には、必ずしも排気管を接続する必要はなく、例えば、真空チャンバ内に封止前のガラスパネルユニット１０の組立て品１００を入れ、真空チャンバ全体を真空排気することで、周壁４１０の隙間からガラスパネルユニット１０内部を排気して真空空間５０を形成し、その後、周壁４１０を加熱することで封止してもよい。

（まとめ）
上記基本例及び変形例から明らかなように、本開示は、下記の態様を含む。

第１態様は、ガラスパネルユニット（１０；１０Ａ）であって、第１ガラス板（２０）と、第２ガラス板（３０）と、枠体（４０）と、真空空間（５０）と、ガス吸着体（６０）とを備える。第２ガラス板（３０）は、第１ガラス板（２０）に対向する。枠体（４０）は、第１ガラス板（２０）と第２ガラス板（３０）とを気密に接合する。真空空間（５０）は、第１ガラス板（２０）と、第２ガラス板（３０）と、枠体（４０）とで囲まれる。ガス吸着体（６０）は、真空空間（５０）内に配置される。ガス吸着体（６０）は、少なくとも、ゼオライトからなる粒子と、セリウム化合物からなる粒子と、有している。

第１態様によれば、ガス吸着体（６０）がゼオライトからなる粒子とセリウム化合物からなる粒子とを含有することで、真空空間（５０）内にガスが残りにくくすることができる。

第２態様は、第１態様のガラスパネルユニット（１０；１０Ａ）であって、前記セリウム化合物の割合は、ガス吸着体（６０）が有するゲッタ材の全質量に対して、５０質量％以下である。

第２態様によれば、セリウム化合物から酸素が脱離する量を少なくできるため、この酸素が封止工程後の真空空間（５０）内に残りにくくなる。

第３態様は、第１又は第２態様のガラスパネルユニット（１０；１０Ａ）であって、前記ガス吸着体（６０）は、前記ゼオライトを前記セリウム化合物よりも多く含有する。

第３態様によれば、セリウム化合物から酸素が脱離する量を少なくできるため、この酸素が封止工程後の真空空間（５０）内に残りにくくなる。

第４態様は、第１～第３態様のいずれか１つのガラスパネルユニット（１０；１０Ａ）であって、前記ゼオライトは、銅イオン交換ゼオライトを含む。

第４態様によれば、真空空間（５０）内にガスが残りにくくすることができる。

第５態様は、第１～第４態様のいずれか１つのガラスパネルユニット（１０；１０Ａ）であって、前記セリウム化合物が酸化セリウムであり、前記セリウム化合物からなる粒子は、３０℃／ｍｉｎで昇温したときの昇温脱離ガス分析において、酸素放出量が最大点となる温度を持つ酸素放出カーブを示す。前記酸素放出カーブは、前記酸素放出カーブの前記最大点が２００℃以下であるか、または、前記酸素放出カーブの前記最大点が２５０℃以上であり、かつ酸素放出開始温度が２５０℃以上である。

第５態様によれば、前記ゼオライトと前記セリウム化合物とを含有するガス吸着体（６０）であっても、前記ゼオライトと前記セリウム化合物の各々のガス吸着性能に影響が生じにくい。

第６態様は、第１～第５態様のいずれか１つのガラスパネルユニット（１０；１０Ａ）であって、ガス吸着体（６０）は、前記ゼオライトからなる粒子と、前記セリウム化合物からなる粒子と、の混合物を有している。

第６態様によれば、真空空間（５０）内にガスが残りにくくすることができる。

第７態様は、第１～第５態様のいずれか１つのガラスパネルユニット（１０；１０Ａ）であって、ガス吸着体（６０）は、前記ゼオライトからなる粒子を含有する第１のガス吸着体（６１、６０１）と、前記セリウム化合物からなる粒子を含有する第２のガス吸着体（６２、６０２）と、を有している。第１のガス吸着体（６１，６０１）と第２のガス吸着体（６２、６０２）とは、それぞれ、真空空間（５０）内に別々に配置されている。

第７態様によれば、第１のガス吸着体（６１、６０１）がゼオライトを含有し、第２のガス吸着体（６２、６０２）がセリウム化合物を含有することで、真空空間（５０）内にガスが残りにくくすることができる。またゼオライトを含有する第１のガス吸着体（６１、６０１）と、セリウム化合物を含有する第２のガス吸着体（６２、６０２）とを別々に形成することで、ゼオライト及びセリウム化合物の各々が互いのガス吸着性能に影響を与えにくくなる。しかも第１のガス吸着体（６１、６０１）と第２のガス吸着体（６２、６０２）との配置位置の自由度が増し、デザイン性に優れる。

第８態様は、第７態様のガラスパネルユニット（１０；１０Ａ）であって、第１のガス吸着体（６１、６０１）と第２のガス吸着体（６２、６０２）とは、離れて配置されている。

第８態様によれば、ゼオライト及びセリウム化合物の各々が互いのガス吸着性能に影響を与えにくくなる。

第９態様は、第７又は第８の態様のガラスパネルユニット（１０；１０Ａ）であって、第１のガス吸着体（６１，６０１）及び第２のガス吸着体（６２，６０２）のいずれか一方が、第１ガラス板（２０）及び第２ガラス板（３０）の少なくとも一方の全面に配置されている。第１のガス吸着体（６１，６０１）及び第２のガス吸着体（６２，６０２）のいずれか他方が、第１ガラス板（２０）及び第２ガラス板（３０）の少なくとも一方の外周に沿って配置されている。

第９態様によれば、第１のガス吸着体（６１、６０１）と第２のガス吸着体（６２、６０２）との配置位置の自由度が増し、デザイン性に優れる。

第１０態様は、第１～第９態様のガラスパネルユニット（１０）であって、第１ガラス板（２０）及び第２ガラス板（３０）に排気口（７００）を備えない。

第１０態様によれば、ガス吸着体（６０）がゼオライトとセリウム化合物とを含有することで、真空空間（５０）内にガスが残りにくくすることができる。また排気口（７００）による外観の低下を低減することができる。

第１１態様は、複合ゲッタ材であって、ゼオライトからなる粒子と、セリウム化合物からなる粒子と、を含有する。

第１１態様によれば、複合ゲッタ材が真空空間（５０）内に配置された場合、この真空空間（５０）内にガスが残りにくくすることができる。

第１２態様は、第１１態様の複合ゲッタ材であって、前記セリウム化合物の割合は、前記複合ゲッタ材の質量に対して、５０質量％以下である。

第１２態様によれば、複合ゲッタ材が真空空間（５０）内に配置された場合に、セリウム化合物から酸素が脱離する量を少なくできるため、この酸素が真空空間（５０）内に残りにくくなる。

第１３態様は、ゲッタペーストであって、第１１又は第１２態様の複合ゲッタ材と溶媒との混合物である。

第１３態様によれば、ゲッタペーストでは溶媒が、前記ゼオライトからなる粒子及び前記セリウム化合物からなる粒子を覆うようにして存在するため、前記ゼオライトからなる粒子及び前記セリウム化合物からなる粒子は空気と接しにくくなる。これにより、前記ゼオライトからなる粒子及び前記セリウム化合物からなる粒子は空気を吸着しにくくなる。したがって、ゲッタペーストの保存が容易になる。また、溶媒が水の場合、アルコールやテルピネオールなどの有機溶媒を用いる場合と比べて、ゼオライト、特に銅イオン交換ゼオライト(Ｃｕ－ＺＳＭ５)に脱離しにくい有機成分が残留しない。このため、排気工程での温度が低くてもゼオライトから十分にガスを脱離させることができ、高い吸着性能を得られる。

第１４態様は、ガラスパネルユニット（１０；１０Ａ）の製造方法であって、加工工程と、組立工程と、接合工程と、排気工程とを含む。前記加工工程は、ゼオライトからなる粒子と、セリウム化合物からなる粒子と、を含有する複合ゲッタ材を得る複合ゲッタ材作製工程を含む。前記組立工程は、組立て品（１００；１０１）を用意する工程である。前記組立て品（１００；１０１）は、第１ガラス板（２００；２０）と、第２ガラス板（３００；３０）と、枠状の周壁（４１０）と、内部空間（５００）と、ガス吸着体（６０）と、排気口（７００）とを備える。第２ガラス板（３００；３０）は、第１ガラス板（２００；２０）に対向する。周壁（４１０）は、第１ガラス板（２００；２０）と第２ガラス板（３００；３０）との間にある。内部空間（５００）は、第１ガラス板（２００；２０）と、第２ガラス板（３００；３０）と、周壁（４１０）とで囲まれる。ガス吸着体（６０）は、内部空間（５００）内に配置され、かつ前記複合ゲッタ材を含有する。排気口（７００）は、前記内部空間（５００）と外部空間とをつなぐ。前記接合工程は、周壁（４１０）を溶融させて第１ガラス板（２００；２０）と第２ガラス板（３００；３０）とを気密に接合させる工程である。前記排気工程は、排気口（７００）を介して内部空間（５００）を排気して真空空間（５０）とする工程である。

第１４態様によれば、ガス吸着体（６０）がゼオライトとセリウム化合物とを含有することで、真空空間（５０）内にガスが残りにくくすることができる。

第１５態様は、第１４態様のガラスパネルユニット（１０；１０Ａ）の製造方法であって、前記加工工程は、前記複合ゲッタ材と溶媒とを混合してゲッタペーストを得る混合工程をさらに含む。

第１５態様によれば、溶媒が前記ゼオライトからなる粒子及び前記セリウム化合物からなる粒子を覆うようにして存在するため、前記ゼオライトからなる粒子及び前記セリウム化合物からなる粒子は空気と接しにくくなる。これにより、ゲッタ材は空気を吸着しにくくなる。したがって、ゲッタペーストの保存が容易となり、ガラスパネルユニット（１０；１０Ａ）を製造する際の煩雑性を軽減できる。

第１６態様は、ガラスパネルユニット（１０；１０Ａ）の製造方法であって、加工工程と、組立工程と、接合工程と、排気工程とを含む。前記加工工程は、ゼオライトからなる粒子を含有する第１のゲッタペーストと、セリウム化合物からなる粒子を含有する第２のゲッタペーストと、をそれぞれ得るゲッタペースト作製工程を含む。前記組立工程は、組立て品（１００；１０１）を用意する工程である。前記組立て品（１００；１０１）は、第１ガラス板（２００；２０）と、第２ガラス板（３００；３０）と、枠状の周壁（４１０）と、内部空間（５００）と、第１のガス吸着体（６１；６０１）と、第２のガス吸着体（６２；６０２）と、排気口（７００）とを備える。第２ガラス板（３００；３０）は、第１ガラス板（２００；２０）に対向する。周壁（４１０）は、第１ガラス板（２００；２０）と第２ガラス板（３００；３０）との間にある。内部空間（５００）は、第１ガラス板（２００；２０）と、第２ガラス板（３００；３０）と、周壁（４１０）とで囲まれる。第１のガス吸着体（６１；６０１）は、内部空間（５００）内に配置され、かつ前記第１のゲッタペーストから形成される。第２のガス吸着体（６２；６０２）は、内部空間（５００）内に配置され、かつ前記第２のゲッタペーストから形成される。排気口（７００）は、前記内部空間（５００）と外部空間とをつなぐ。前記接合工程は、周壁（４１０）を溶融させて第１ガラス板（２００；２０）と第２ガラス板（３００；３０）とを気密に接合させる工程である。前記排気工程は、排気口（７００）を介して内部空間（５００）を排気して真空空間（５０）とする工程である。

第１６態様によれば、第１のガス吸着体（６１；６０１）がゼオライトを含有し、第２のガス吸着体（６２；６０２）がセリウム化合物を含有することで、真空空間（５０）内にガスが残りにくくすることができる。またゼオライトを含有する第１のガス吸着体（６１；６０１）と、セリウム化合物を含有する第２のガス吸着体（６２；６０２）とを別々に形成することで、ゼオライト及びセリウム化合物の各々が互いのガス吸着性能に影響を与えにくくなる。しかも第１のガス吸着体（６１；６０１）と第２のガス吸着体（６２；６０２）との配置位置の自由度が増し、デザイン性に優れる。

第１７態様は、第１５又は第１６態様のガラスパネルユニット（１０；１０Ａ）の製造方法であって、前記組立工程は、前記各ゲッタペーストを乾燥させて各ガス吸着体（６０；６１；６０１；６２；６０２）を得る乾燥工程を含む。

第１７態様によれば、前記各ゲッタペーストを乾燥させることで各ガス吸着体（６０；６１；６０１；６２；６０２）のガス吸着性を回復させることができる。

第１８態様は、第１４～第１７態様のいずれか１つのガラスパネルユニット（１０；１０Ａ）の製造方法であって、周壁（４１０）は、有機バインダ及び有機溶剤のうちの一方または両方を含有する。

第１８態様によれば、封止工程後に有機バインダに由来するガスが真空空間（５０）に放出されても、このガスをガス吸着体（６０）が吸着することにより、真空空間（５０）内にガスが残りにくくなる。

第１９態様は、ゲッタペーストをディスペンサでガラスパネル内側の外周付近に塗布するか、あるいはスプレー塗布機等の装置で散布する。

第１９態様によれば、ゲッタ材が目立たず外観に優れるガラスパネルを実現できる。

１０ ガラスパネルユニット
１０Ａ ガラスパネルユニット
１００ 組立て品
１０１ 組立て品
２０ 第１ガラス板
２００ 第１ガラス板（第１ガラス基板）
３０ 第２ガラス板
３００ 第２ガラス板（第２ガラス基板）
４０ 枠体
５０ 真空空間
６０ ガス吸着体
６１ 第１のガス吸着体
６２ 第２のガス吸着体
４１０ 周壁
５００ 内部空間
７００ 排気口

Claims (8)

1. 第１ガラス板と、
   前記第１ガラス板に対向する第２ガラス板と、
   前記第１ガラス板と前記第２ガラス板とを気密に接合する枠体と、
   前記第１ガラス板と、前記第２ガラス板と、前記枠体とで囲まれた真空空間と、
   前記真空空間内に配置されたガス吸着体と、を備え、
   前記ガス吸着体は、少なくとも、ゼオライトからなる粒子と、セリウム化合物からなる粒子と、を含有する混合物である複合ゲッタ材を有し、
   前記セリウム化合物が酸化セリウム（ＩＶ）であり、
   前記セリウム化合物からなる粒子は、平均粒子径１０ｎｍ以上３０μｍ以下である、
   ガラスパネルユニット。
2. 前記セリウム化合物の割合は、前記複合ゲッタ材の全質量に対して、５０質量％以下である、
   請求項１に記載のガラスパネルユニット。
3. 前記ガス吸着体は、前記ゼオライトを前記セリウム化合物よりも多く有する、
   請求項１又は２に記載のガラスパネルユニット。
4. 前記ゼオライトは、銅イオン交換ゼオライトを含む、
   請求項１～３のいずれか１項に記載のガラスパネルユニット。
5. 前記第１ガラス板及び前記第２ガラス板に排気口を備えない、
   請求項１～４のいずれか１項に記載のガラスパネルユニット。
6. 加工工程と、組立工程と、接合工程と、排気工程とを含み、
   前記加工工程は、ゼオライトからなる粒子と、セリウム化合物からなる粒子と、を含有する混合物である複合ゲッタ材を得る複合ゲッタ材作製工程を含み、前記セリウム化合物が酸化セリウム（ＩＶ）であり、前記セリウム化合物からなる粒子は、平均粒子径１０ｎｍ以上３０μｍ以下であり、
   前記組立工程は、組立て品を用意する工程であり、
   前記組立て品は、
   第１ガラス板と、
   前記第１ガラス板に対向する第２ガラス板と、
   前記第１ガラス板と前記第２ガラス板との間にある枠状の周壁と、
   前記第１ガラス板と、前記第２ガラス板と、前記周壁とで囲まれた内部空間と、
   前記内部空間内に配置され、かつ前記複合ゲッタ材を含有するガス吸着体と、
   前記内部空間と外部空間とをつなぐ排気口とを備え、
   前記接合工程は、前記周壁を溶融させて前記第１ガラス板と前記第２ガラス板とを気密に接合させる工程であり、
   前記排気工程は、前記排気口を介して前記内部空間を排気して真空空間とする工程である、
   ガラスパネルユニットの製造方法。
7. 前記加工工程は、前記複合ゲッタ材と溶媒とを混合してゲッタペーストを得る混合工程をさらに含む、
   請求項６に記載のガラスパネルユニットの製造方法。
8. 前記周壁は、有機バインダ及び有機溶剤のうちの一方または両方を含有する、
   請求項６又は７に記載のガラスパネルユニットの製造方法。

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