JP7463875B2 - Optical laminate, and polarizing plate, display panel, and image display device using the same - Google Patents

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Description

本発明は、光学積層体、並びに、これを用いた偏光板、表示パネル及び画像表示装置に関する。 The present invention relates to an optical laminate, and a polarizing plate, a display panel, and an image display device using the same.

画像表示装置等に適用される光学フィルムとして、入射した光に所望の位相差を付与する光学積層体がある。例えば、λ/4位相差層と直線偏光板とを組み合わせてなる円偏光板は、画像表示装置の反射防止のために用いられている。 As an optical film applied to image display devices, etc., there is an optical laminate that imparts a desired phase difference to incident light. For example, a circular polarizing plate that combines a λ/4 phase difference layer and a linear polarizing plate is used to prevent reflection in image display devices.

このような光学積層体は、全ての波長に対して同様の効果をもたらすものではないことがよく知られている。
例えば、λ/4位相差層と直線偏光板とを積層してなる円偏光板は、波長550nmの光を円偏光として外光反射を大幅に抑制することができるが、550nmよりも長い波長及び短い波長の光は楕円偏光となるため、反射防止機能が低下するという問題がある。
この点を解決する手法として、円偏光板の位相差層を、λ/4位相差層とλ/2位相差層との組み合わせにする方法が提案されている。
It is well known that such optical stacks do not provide equal effectiveness at all wavelengths.
For example, a circular polarizing plate formed by laminating a λ/4 retardation layer and a linear polarizing plate can circularly polarize light of a wavelength of 550 nm and significantly suppress external light reflection, but light of wavelengths longer and shorter than 550 nm becomes elliptically polarized light, resulting in a problem of reduced anti-reflection function.
As a method for solving this problem, a method has been proposed in which the retardation layer of the circular polarizer is a combination of a λ/4 retardation layer and a λ/2 retardation layer.

しかし、λ/4位相差層及びλ/2位相差層等のポジティブA層を有する画像表示装置は、斜め方向から視認した際に、表示品質(例えばコントラスト)が低下するという問題があった。
このため、ポジティブA層とポジティブC層とを組み合わせてなる光学積層体が提案されている(特許文献1、2)。
However, image display devices having positive A layers such as a λ/4 retardation layer and a λ/2 retardation layer have a problem in that display quality (for example, contrast) is degraded when viewed from an oblique direction.
For this reason, an optical laminate comprising a combination of a positive A layer and a positive C layer has been proposed (Patent Documents 1 and 2).

特開2006-215221号公報JP 2006-215221 A 特開2016-4142号公報JP 2016-4142 A

特許文献1では、基材上に液晶組成物を面内に配向させた層と、基材上に液晶組成物を垂直に配向させた層とをそれぞれ作製し、これらの層をそれぞれ基材から剥離して積層する必要がある。このため、特許文献1の光学積層体は、工程が複雑化するという問題がある。また、特許文献1では、ポジティブA層とポジティブC層とを接着剤層又は粘着剤層を介して積層しているため、接着剤層又は粘着剤層の分だけ厚みが増し、薄型化に支障があるものである。 In Patent Document 1, a layer in which the liquid crystal composition is oriented in-plane on the substrate and a layer in which the liquid crystal composition is oriented vertically on the substrate must be prepared, and these layers must be peeled off from the substrate and laminated. For this reason, the optical laminate in Patent Document 1 has the problem that the process becomes complicated. In addition, in Patent Document 1, the positive A layer and the positive C layer are laminated via an adhesive layer or pressure-sensitive adhesive layer, so the thickness increases by the amount of the adhesive layer or pressure-sensitive adhesive layer, which hinders thinning.

特許文献2では、ポジティブA層と、ポジティブC層とを、接着剤層又は粘着剤層を介することなく直接積層しているため、薄型化の問題を解消し得るものである。
しかし、特許文献2の光学積層体は、他の部材に貼り合わせる際に、ポジティブA層と、ポジティブC層との界面で剥離する事例が多発した。また、特許文献2の光学積層体のうち、剥離可能な基材上にポジティブC層及びポジティブA層を形成し、他の部材にポジティブC層及びポジティブA層を転写する実施形態のものは、転写時に、ポジティブA層と、ポジティブC層とが剥離する事例が多発した。
In Patent Document 2, the positive A layer and the positive C layer are directly laminated without an adhesive or pressure-sensitive adhesive layer therebetween, which can solve the problem of thinning.
However, when the optical laminate of Patent Document 2 was attached to another member, there were many cases where the positive A layer and the positive C layer peeled off at the interface. Also, among the optical laminates of Patent Document 2, in an embodiment in which the positive C layer and the positive A layer are formed on a peelable substrate and the positive C layer and the positive A layer are transferred to another member, there were many cases where the positive A layer and the positive C layer peeled off during transfer.

本発明は、ポジティブC層等の配向層と、ポジティブA層とを直接積層してなり、かつ、配向層とポジティブA層との密着性に優れた光学積層体、並びに、これを用いた表示パネル及び画像表示装置を提供することを目的とする。 The present invention aims to provide an optical laminate that is formed by directly laminating an alignment layer, such as a positive C layer, and a positive A layer and has excellent adhesion between the alignment layer and the positive A layer, as well as a display panel and an image display device that use the same.

本発明は、以下の[1]~[4]を提供する。
[1]配向層及びポジティブA層を有する光学積層体であって、前記配向層と前記ポジティブA層とが接してなり、前記ポジティブA層は化合物aを含み、前記配向層は、前記ポジティブA層から移行してなる前記化合物aと、その他の化合物とを含み、前記化合物aは、前記その他の化合物が実質的に含有しない原子Xを含み、前記ポジティブA層内の前記原子Xの平均検出量を質量基準で100と規格化したときに、前記配向層内の前記原子Xの平均検出量が23以上である、光学積層体。
[2]偏光子と、前記偏光子の一方の側に配置されてなる透明保護板Aと、前記偏光子の他方の側に配置されてなる透明保護板Bとを有する偏光板であって、前記透明保護板A及び前記透明保護板Bの何れか一方が、前記[1]に記載の光学積層体である、偏光板。
[3]表示素子の光出射面上に、前記[1]に記載の光学積層体を配置してなる、表示パネル。
[4]前記[3]に記載の表示パネルを備えてなる、画像表示装置。
The present invention provides the following [1] to [4].
[1] An optical laminate having an alignment layer and a positive A layer, the alignment layer and the positive A layer being in contact with each other, the positive A layer containing a compound a, the alignment layer containing the compound a transferred from the positive A layer and other compounds, the compound a containing an atom X that is substantially not contained in the other compounds, and when the average detected amount of the atom X in the positive A layer is standardized to 100 on a mass basis, the average detected amount of the atom X in the alignment layer is 23 or more.
[2] A polarizing plate having a polarizer, a transparent protective plate A arranged on one side of the polarizer, and a transparent protective plate B arranged on the other side of the polarizer, wherein either the transparent protective plate A or the transparent protective plate B is the optical laminate described in [1].
[3] A display panel comprising the optical laminate according to [1] above disposed on a light exit surface of a display element.
[4] An image display device comprising the display panel according to [3] above.

本発明の光学積層体、並びに、これを用いた表示パネル及び画像表示装置によれば、配向層とポジティブA層とが直接積層されてなるため、光学積層体を薄型化することができ、かつ、配向層とポジティブA層との密着性に優れるため、作業性及び経時安定性等を良好にすることができる。 According to the optical laminate of the present invention, and the display panel and image display device using the same, the alignment layer and the positive A layer are directly laminated, so that the optical laminate can be made thin, and the alignment layer and the positive A layer have excellent adhesion to each other, so that the workability and stability over time can be improved.

本発明の光学積層体の一実施形態を示す断面図である。1 is a cross-sectional view showing one embodiment of an optical laminate of the present invention. 本発明の偏光板の一実施形態を示す断面図である。1 is a cross-sectional view showing one embodiment of a polarizing plate of the present invention. 本発明の表示パネルの一実施形態を示す断面図である。1 is a cross-sectional view showing an embodiment of a display panel of the present invention.

以下、本発明の実施形態を説明する。
本明細書において、「AA~BB」との表記は、「AA以上BB以下」であることを意味する。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described.
In this specification, the expression "AA to BB" means "at least AA and at most BB."

また、本明細書において、「波長450nmにおける面内位相差」を「Re(450)」、「波長550nmにおける面内位相差」を「Re(550)」、「波長650nmにおける面内位相差」を「Re(650)」、「波長550nmにおける厚み方向の位相差」を「Rth(550)」と表記する場合がある。
面内位相差(Re)及び厚み方向の位相差(Rth)は、Nx、Ny、Nz及び位相差層の厚みd(nm)から、下記式により算出できる。
面内位相差(Re)=(Nx-Ny)×d
厚み方向の位相差(Rth)=((Nx+Ny)/2-Nz)×d
In addition, in this specification, "in-plane retardation at a wavelength of 450 nm" may be expressed as "Re(450)", "in-plane retardation at a wavelength of 550 nm" may be expressed as "Re(550)", "in-plane retardation at a wavelength of 650 nm" may be expressed as "Re(650)", and "retardation in the thickness direction at a wavelength of 550 nm" may be expressed as " Rth (550)".
The in-plane retardation (Re) and the retardation in the thickness direction (Rth) can be calculated from Nx, Ny, Nz and the thickness d (nm) of the retardation layer by the following formula.
In-plane retardation (Re) = (Nx - Ny) x d
Retardation in the thickness direction (Rth) = ((Nx + Ny) / 2 - Nz) x d

また、本明細書において、ポジティブA層とは、層の面内に沿った最も屈折率の高い軸方向であるX軸方向の屈折率をNx、層の面内に沿った方向でX軸に直交するY軸方向の屈折率をNy、層の厚み方向の屈折率をNzとしたとき、Nx>Ny≒Nzの関係を満たす層である。また、本明細書において、ポジティブC層とは、Nx≒Ny<Nzの関係を満たす層である。 In addition, in this specification, a positive A layer is a layer that satisfies the relationship Nx>Ny≒Nz, where Nx is the refractive index in the X-axis direction, which is the axial direction along the plane of the layer that has the highest refractive index, Ny is the refractive index in the Y-axis direction along the plane of the layer that is perpendicular to the X-axis, and Nz is the refractive index in the thickness direction of the layer.In addition, in this specification, a positive C layer is a layer that satisfies the relationship Nx≒Ny<Nz.

[光学積層体]
本発明の光学積層体は、配向層及びポジティブA層を有してなり、前記配向層と前記ポジティブA層とが接してなり、前記ポジティブA層は化合物aを含み、前記配向層は、前記ポジティブA層から移行してなる前記化合物aと、その他の化合物とを含み、
前記化合物aは、前記その他の化合物が実質的に含有しない原子Xを含み、
前記ポジティブA層内の前記原子Xの平均検出量を質量基準で100と規格化したときに、前記配向層内の前記原子Xの平均検出量が23以上であるものである。
[Optical laminate]
The optical laminate of the present invention comprises an alignment layer and a positive A layer, the alignment layer and the positive A layer being in contact with each other, the positive A layer contains a compound a, and the alignment layer contains the compound a transferred from the positive A layer and other compounds,
The compound a contains an atom X that is not substantially contained in the other compounds,
When the average detectable amount of the X atoms in the positive A layer is standardized to 100 on a mass basis, the average detectable amount of the X atoms in the alignment layer is 23 or more.

図1は、本発明の光学積層体の実施の形態を示す断面図である。
図1の光学積層体100は、配向層20及びポジティブA層30を有し、配向層20とポジティブA層30とが接している。また、図1の光学積層体は、配向層20及びポジティブA層30が、基材10上に形成されている。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an embodiment of an optical laminate of the present invention.
The optical laminate 100 in Fig. 1 has an alignment layer 20 and a positive A layer 30, and the alignment layer 20 and the positive A layer 30 are in contact with each other. In addition, in the optical laminate in Fig. 1, the alignment layer 20 and the positive A layer 30 are formed on a substrate 10.

本発明の光学積層体は、配向層及びポジティブA層を有してなり、配向層とポジティブA層とが接してなるものである。このように、本発明の光学積層体は、配向層とポジティブA層とが、接着剤層等を介することなく、直接積層されているため、光学積層体を薄型化することができるとともに、光学積層体を簡易に製造することができる。 The optical laminate of the present invention has an alignment layer and a positive A layer, and the alignment layer and the positive A layer are in contact with each other. In this way, the alignment layer and the positive A layer of the optical laminate of the present invention are directly laminated without an adhesive layer or the like, so that the optical laminate can be made thin and can be easily manufactured.

<配向層の原子Xの平均検出量>
本発明の光学積層体は、下記(1)~(3)の構成を有し、かつ、配向層の原子Xの平均検出量が下記(4)の条件を満たすことを要する。
(1)ポジティブA層が化合物aを含む。
(2)配向層が、ポジティブA層から移行してなる前記化合物aと、その他の化合物とを含む。
(3)前記化合物aは、前記その他の化合物が実質的に含有しない原子Xを含む。
(4)前記ポジティブA層内の前記原子Xの平均検出量を質量基準で100と規格化したときに、前記配向層内の前記原子Xの平均検出量が23以上である。
<Average detected amount of X atoms in the alignment layer>
The optical layered body of the present invention is required to have the following configurations (1) to (3), and the average detectable amount of atoms X in the alignment layer must satisfy the following condition (4).
(1) The positive A layer contains compound a.
(2) The alignment layer contains the compound a transferred from the positive A layer and other compounds.
(3) The compound a contains an atom X which is not substantially contained in the other compounds.
(4) When the average detectable amount of the X atoms in the positive A layer is normalized to 100 on a mass basis, the average detectable amount of the X atoms in the alignment layer is 23 or more.

化合物aは、ポジティブA層に含まれる液晶化合物を意味する。化合物aに含まれる原子Xとしては、硫黄原子及び窒素原子が挙げられる。
また、その他の化合物は、配向層を構成する化合物から化合物aを除いた全ての化合物を意味する。
また、本明細書において、上記(4)の平均検出量のことを「配向層の平均検出量」と称する場合がある。
Compound a means a liquid crystal compound contained in the positive layer A. Examples of the atom X contained in compound a include a sulfur atom and a nitrogen atom.
The other compounds refer to all compounds constituting the alignment layer except for compound a.
In this specification, the average detection amount in (4) above may be referred to as the "average detection amount of the alignment layer."

配向層の平均検出量が上記(4)の条件を満たすことは、ポジティブA層の化合物aが、所定の割合を超えて配向層に浸透していることを意味している。このように、ポジティブA層の化合物aが、所定の割合を超えて配向層に浸透した場合、ポジティブA層と配向層との親和性が増すとともに、投錨効果が生じることになる。したがって、上記(1)~(3)の構成を有し、かつ、上記(4)の条件を満たす本発明の光学積層体は、ポジティブA層と配向層との密着性を良好にすることができる。
一方、上記(4)の条件を満たさない光学積層体は、ポジティブA層と配向層との密着性を良好にすることができず、貼り合わせ作業及び転写作業等の作業時に生じる応力により、ポジティブA層と配向層との界面で剥離が生じてしまう。
The average detection amount of the alignment layer satisfying the above condition (4) means that the compound a of the positive A layer has penetrated into the alignment layer in excess of a predetermined ratio. In this way, when the compound a of the positive A layer has penetrated into the alignment layer in excess of a predetermined ratio, the affinity between the positive A layer and the alignment layer increases and an anchoring effect occurs. Therefore, the optical laminate of the present invention having the above configurations (1) to (3) and satisfying the above condition (4) can improve the adhesion between the positive A layer and the alignment layer.
On the other hand, an optical laminate that does not satisfy the above condition (4) cannot achieve good adhesion between the positive A layer and the alignment layer, and peeling occurs at the interface between the positive A layer and the alignment layer due to stress generated during operations such as lamination and transfer.

配向層の平均検出量は、27以上であることが好ましく、30以上であることがより好ましく、33以上であることがさらに好ましい。
配向層の平均検出量を多くするほど密着性は徐々に向上するが、密着性の向上には限界がある。また、化合物aは配向層の配向構造の隙間に入り込むため、配向層に浸透した化合物aによって配向層の配向は影響を受けにくい。しかし、配向層の平均検出量が多くなりすぎると、ポジティブA層が配向しにくくなったり、配向層の諸物性が変化することによる不具合が生じたりする可能性がある。このため、平均検出量は、60以下であることが好ましく、50以下であることがより好ましく、40以下であることがさらに好ましい。
The average detectable amount of the alignment layer is preferably 27 or more, more preferably 30 or more, and even more preferably 33 or more.
The more the average detection amount of the alignment layer is increased, the more gradually the adhesion improves, but there is a limit to the improvement of adhesion. In addition, since compound a penetrates into the gaps of the alignment structure of the alignment layer, the alignment of the alignment layer is not easily affected by compound a that has penetrated into the alignment layer. However, if the average detection amount of the alignment layer is too large, the positive A layer may become difficult to align, or problems may occur due to changes in the physical properties of the alignment layer. For this reason, the average detection amount is preferably 60 or less, more preferably 50 or less, and even more preferably 40 or less.

配向層の平均検出量は、例えば、ポジティブA層の化合物aの分子量、配向層とポジティブA層との親和性、ポジティブA層形成用塗布液の溶剤等により増減できる。具体的には、化合物aの分子量が小さいほど平均検出量は多くなり、化合物aの分子量が大きいほど平均検出量が少なくなる傾向がある。また、配向層とポジティブA層との親和性が高いほど平均検出量は多くなり、親和性が低いほど平均検出量は少なくなる傾向がある。また、ポジティブA層形成用塗布液の溶剤の配向層への浸透性が高いほど平均検出量は多くなり、該溶剤の配向層への浸透性が低いほど平均検出量は少なくなる傾向がある。また、ポジティブA層形成用塗布液の溶剤の質量割合が多いほど平均検出量は多くなり、該塗布液の溶剤の質量割合が低いほど平均検出量は少なくなる傾向がある(塗布液の溶剤の質量割合≒塗布液の全量-塗布液の固形分の質量割合)。
また、後述するように、ポジティブC層等の配向層を構成する化合物として、特定の液晶化合物を用い、化合物aが硫黄原子を含む化合物の場合、平均検出量を多くしやすくできる。また、後述するように、化合物aが動きやすい分子構造を有する場合、平均検出量を多くしやすくできる。
The average detection amount of the alignment layer can be increased or decreased by, for example, the molecular weight of the compound a in the positive A layer, the affinity between the alignment layer and the positive A layer, the solvent of the coating liquid for forming the positive A layer, etc. Specifically, the smaller the molecular weight of the compound a, the greater the average detection amount, and the greater the molecular weight of the compound a, the smaller the average detection amount. In addition, the higher the affinity between the alignment layer and the positive A layer, the greater the average detection amount, and the lower the affinity, the smaller the average detection amount. In addition, the higher the permeability of the solvent of the coating liquid for forming the positive A layer into the alignment layer, the greater the average detection amount, and the lower the permeability of the solvent into the alignment layer, the smaller the average detection amount. In addition, the higher the mass ratio of the solvent in the coating liquid for forming the positive A layer, the greater the average detection amount, and the lower the mass ratio of the solvent in the coating liquid, the smaller the average detection amount (mass ratio of the solvent in the coating liquid ≒ total amount of coating liquid - mass ratio of the solid content of the coating liquid).
In addition, as described later, when a specific liquid crystal compound is used as a compound constituting an alignment layer such as a positive C layer, and compound a is a compound containing a sulfur atom, the average detection amount can be easily increased. In addition, as described later, when compound a has a molecular structure that is easily movable, the average detection amount can be easily increased.

ポジティブA層内及び配向層内の原子Xの質量基準の検出量は、光学積層体を垂直方向に切断した薄片の測定用サンプルを作製し、当該サンプルの断面側から、走査型電子顕微鏡-エネルギー分散型X線分光法(SEM-EDX)により測定することができる。なお、測定用サンプルは20個作製し、20個の測定値の平均値を原子Xの検出量に関する各種のパラメータとすることが好ましい。
薄片の測定用サンプルは、例えば、光学積層体を所定の大きさに切断したカットサンプルを作製し、当該カットサンプルをダイヤモンドナイフで垂直に切断して作製することができる。薄片の測定用サンプルの厚みは40nm~160nmとすることが好ましい。
The mass-based detection amount of the atom X in the positive A layer and the alignment layer can be measured by preparing a measurement sample of a thin slice cut vertically into the optical laminate and measuring the cross-sectional side of the sample using a scanning electron microscope-energy dispersive X-ray spectroscopy (SEM-EDX). It is preferable to prepare 20 measurement samples and use the average values of the 20 measurements as various parameters related to the detection amount of the atom X.
The sample for measuring the thin section can be prepared, for example, by cutting the optical laminate to a predetermined size to prepare a cut sample, and then cutting the cut sample vertically with a diamond knife. The thickness of the sample for measuring the thin section is preferably 40 nm to 160 nm.

SEM-EDX分析装置による測定では、各装置に固有の定量条件(例えば、日立ハイテクノロジーズ製のSEM“SU8000”とオックスフォード・インストゥルメンツ製のEDX“XMAX80”では加速電圧30kV、焦点距離15mm、試料傾斜0度)に合わせ、照射電流や測定時間を目的元素が十分検出できるように適時調整して特性X線スペクトルを取得することが好ましい。また、各元素の濃度は、ZAF補正法(各元素の相対強度に原子番号補正Z、吸収補正A、蛍光補正Fを施して各元素の含有量を求める方法)によって、求めることができる。 When measuring with an SEM-EDX analyzer, it is preferable to obtain a characteristic X-ray spectrum by adjusting the irradiation current and measurement time appropriately to ensure that the target element is sufficiently detected, in accordance with the quantitative conditions specific to each device (for example, for the SEM "SU8000" manufactured by Hitachi High-Technologies and the EDX "XMAX80" manufactured by Oxford Instruments, the acceleration voltage is 30 kV, the focal length is 15 mm, and the sample tilt is 0 degrees). In addition, the concentration of each element can be determined by the ZAF correction method (a method in which the content of each element is determined by applying atomic number correction Z, absorption correction A, and fluorescence correction F to the relative intensity of each element).

本明細書において、上述した原子Xの検出量に関する測定、並びに、その他の測定及び評価は、特に断りのない限り、温度23℃±5℃、湿度40%~65%の雰囲気で実施するものとする。また、測定及び評価の前に、前記雰囲気にサンプルを30分以上晒すものとする。 In this specification, the above-mentioned measurements regarding the amount of detected X atoms, as well as other measurements and evaluations, are performed in an atmosphere with a temperature of 23°C ± 5°C and a humidity of 40% to 65%, unless otherwise specified. Furthermore, the sample is exposed to the above atmosphere for 30 minutes or more before the measurements and evaluations.

<検出量の変動係数、バラツキの比>
本発明の光学積層体は、前記配向層内の前記原子Xの検出量が下記の条件1を満たすことが好ましい。
(条件1)
前記配向層内の前記原子Xの量を、前記配向層と前記ポジティブA層との界面から厚み方向に200nmの位置において、前記界面と平行な方向に26nmごとに100箇所で検出する。前記100箇所の前記原子Xの検出量の質量基準の変動係数が0.16以上である。
<Coefficient of variation of detection amount, variation ratio>
In the optical laminate of the present invention, it is preferable that the detected amount of the atom X in the alignment layer satisfies the following condition 1.
(Condition 1)
The amount of the atom X in the alignment layer is detected at 100 points every 26 nm in a direction parallel to the interface at a position 200 nm in the thickness direction from the interface between the alignment layer and the positive A layer. The mass-based coefficient of variation of the amount of the atom X detected at the 100 points is 0.16 or more.

条件1を満たすことは、配向層に浸透した化合物Aの量が、配向層の場所ごとでバラついており、かつ、バラツキの程度が所定以上であることを意味している。このように、配向層の場所ごとに化合物Aの浸透性をバラつかせることにより、配向層とポジティブA層との密着性をより良好にすることができる。
条件1の変動係数は0.20以上であることが好ましく、0.25以上であることがより好ましい。
条件1の変動係数の上限は、微細領域における物性の変動を抑制する観点から、0.60以下であることが好ましく、0.50以下であることがより好ましく、0.40以下であることがさらに好ましく、0.35以下であることがよりさらに好ましい。
なお、変動係数とは、標準偏差(バラツキ)を平均値で割った無次元のパラメータである。
Satisfying condition 1 means that the amount of compound A permeated into the alignment layer varies from place to place in the alignment layer, and the degree of variation is greater than or equal to a predetermined value. In this way, by varying the permeability of compound A from place to place in the alignment layer, the adhesion between the alignment layer and the positive A layer can be improved.
The coefficient of variation in condition 1 is preferably 0.20 or more, and more preferably 0.25 or more.
From the viewpoint of suppressing variations in physical properties in fine regions, the upper limit of the coefficient of variation in Condition 1 is preferably 0.60 or less, more preferably 0.50 or less, even more preferably 0.40 or less, and even more preferably 0.35 or less.
The coefficient of variation is a dimensionless parameter obtained by dividing the standard deviation (variation) by the average value.

本発明の光学積層体は、前前記ポジティブA層内及び前記配向層内の前記原子Xの検出量が下記の条件2を満たすことが好ましい。
(条件2)
前記ポジティブA層内の前記原子Xの量を、前記ポジティブA層と前記配向層との界面から厚み方向に200nmの位置において、前記界面と平行な方向に26nmごとに100箇所で検出する。検出した前記原子Xの質量基準の変動係数をCV1と定義する。
前記配向層内の前記原子Xの量を、前記配向層と前記ポジティブA層との界面から厚み方向に200nmの位置において、前記界面と平行な方向に26nmごとに100箇所で検出する。検出した前記原子Xの質量基準の変動係数をCV2と定義する。
前記CV1と前記CV2との比(CV2/CV1)が2.00以上を示す。
In the optical laminate of the present invention, it is preferable that the detected amount of the atom X in the positive A layer and the alignment layer satisfies the following condition 2.
(Condition 2)
The amount of the atom X in the positive A layer is detected at 100 points every 26 nm in a direction parallel to the interface at a position 200 nm in the thickness direction from the interface between the positive A layer and the alignment layer. The mass-based coefficient of variation of the detected atom X is defined as CV1.
The amount of the atom X in the alignment layer is detected at 100 points every 26 nm in a direction parallel to the interface at a position 200 nm in the thickness direction from the interface between the alignment layer and the positive A layer. The mass-based coefficient of variation of the detected atom X is defined as CV2.
The ratio of the CV1 to the CV2 (CV2/CV1) is 2.00 or more.

条件2を満たすことは、条件1と同様に、配向層に浸透した化合物Aの量が、配向層の場所ごとでバラついており、かつ、バラツキの程度が所定以上であることを意味している。このように、配向層の場所ごとに化合物Aの浸透性をバラつかせることにより、配向層とポジティブA層との密着性をより良好にすることができる。
条件2の比は2.10以上であることが好ましく、2.20以上であることがより好ましい。
条件2の比の上限は、微細領域における物性の変動を抑制する観点から、4.00以下であることが好ましく、3.00以下であることがより好ましく、2.50以下であることがさらに好ましい。
Satisfying condition 2 means that the amount of compound A permeated into the alignment layer varies from place to place in the alignment layer, and the degree of variation is equal to or greater than a predetermined level, as in condition 1. In this way, by varying the permeability of compound A from place to place in the alignment layer, the adhesion between the alignment layer and the positive A layer can be improved.
The ratio in condition 2 is preferably 2.10 or more, and more preferably 2.20 or more.
The upper limit of the ratio in Condition 2 is preferably 4.00 or less, more preferably 3.00 or less, and even more preferably 2.50 or less, from the viewpoint of suppressing fluctuations in physical properties in the fine regions.

条件1及び2は、例えば、配向層の配向度合いの面内均一性により調整できる。具体的には、配向層の配向度合いの面内均一性が低いほど、条件1の変動係数及び条件2の比が大きくなる傾向があり、配向層の配向度合いの面内均一性が高いほど、条件1の変動係数及び条件2の比が小さくなる傾向がある。 Conditions 1 and 2 can be adjusted, for example, by the in-plane uniformity of the orientation degree of the orientation layer. Specifically, the lower the in-plane uniformity of the orientation degree of the orientation layer, the larger the coefficient of variation of condition 1 and the ratio of condition 2 tend to be, and the higher the in-plane uniformity of the orientation degree of the orientation layer, the smaller the coefficient of variation of condition 1 and the ratio of condition 2 tend to be.

<配向層>
配向層は、光学積層体の厚み方向において、ポジティブA層と接する位置に配置される。
基材上に、配向層及びポジティブA層を形成する場合、基材上に先に配向層を形成し、その後、ポジティブA層を形成することが好ましい。
<Orientation Layer>
The alignment layer is disposed at a position in contact with the positive A layer in the thickness direction of the optical laminate.
When an alignment layer and a positive A layer are formed on a substrate, it is preferred that the alignment layer is first formed on the substrate, and then the positive A layer is formed.

また、配向層は、ポジティブA層から移行してなる化合物aと、その他の化合物とを含む。その他の化合物は、配向層を構成する化合物から化合物aを除いた全ての化合物である。その他の化合物の主成分は液晶化合物であり、当該液晶化合物は、感光性基を有する液晶化合物であることが好ましい。
その他の化合物は、化合物aに含まれる原子Xを実質的に含有しないものである。本明細書において、その他の化合物が原子Xを実質的に含有しないとは、その他の化合物の全量の0.1質量%以下を意味し、より好ましくは0.01質量%以下である。
The alignment layer contains compound a transferred from the positive A layer and other compounds. The other compounds are all compounds excluding compound a from the compounds constituting the alignment layer. The main component of the other compounds is a liquid crystal compound, and the liquid crystal compound is preferably a liquid crystal compound having a photosensitive group.
The other compounds are those that do not substantially contain the atom X contained in the compound a. In this specification, "the other compounds do not substantially contain the atom X" means that the other compounds contain 0.1% by mass or less, more preferably 0.01% by mass or less, of the total amount of the other compounds.

配向層としては、例えば、ホメオトロピック配向層が挙げられる。
ホメオトロピック配向とは、液晶化合物が層の法線方向に対し、平行かつ一様に配向した状態、すなわち、垂直配向した状態をいう。
ホメオトロピック配向層の代表例はポジティブC層である。すなわち、配向層としては、ポジティブC層が挙げられる。
以下、主として、配向層の代表例であるポジティブC層の実施形態を説明する。
The alignment layer may be, for example, a homeotropic alignment layer.
The homeotropic alignment refers to a state in which liquid crystal compounds are aligned parallel and uniformly to the normal direction of the layer, that is, a state in which they are aligned vertically.
A typical example of a homeotropic alignment layer is a positive C layer. That is, the alignment layer may be a positive C layer.
Hereinafter, an embodiment of a positive C layer, which is a typical example of an alignment layer, will be mainly described.

ポジティブC層の液晶化合物は、液晶性ポリマーからなる材料であっても、液晶性モノマーからなる材料であってもよい。
ポジティブC層の液晶化合物は、ポジティブC層上に形成するポジティブA層の配向性の観点から、感光性基を有する液晶化合物であることが好ましい。すなわち、配向層は、その他の化合物として感光性基を有する液晶化合物を含むことが好ましい。
The liquid crystal compound of the positive C layer may be a material made of a liquid crystal polymer or a material made of a liquid crystal monomer.
The liquid crystal compound of the positive C layer is preferably a liquid crystal compound having a photosensitive group from the viewpoint of the alignment of the positive A layer formed on the positive C layer. That is, the alignment layer preferably contains a liquid crystal compound having a photosensitive group as another compound.

本明細書において感光性基とは、光照射により他の分子と結合する官能基をいう。また、本明細書において、液晶化合物とは、材料単独に物理的な外部刺激(加熱、冷却、電場、磁場、せん断の印加等)を与えた時に液晶性を示すか、または溶媒や非液晶性成分との混合により液晶性を発現する材料をいう。 In this specification, a photosensitive group refers to a functional group that bonds with other molecules when irradiated with light. In addition, in this specification, a liquid crystal compound refers to a material that exhibits liquid crystallinity when the material alone is subjected to a physical external stimulus (such as heating, cooling, application of an electric field, a magnetic field, or shear), or that exhibits liquid crystallinity when mixed with a solvent or a non-liquid crystal component.

感光性基を有する液晶化合物としては、例えば、下記(i)と(ii)とをスペーサーを介してまたは介さず結合した構造を含む側鎖を有する感光性側鎖型液晶性ポリマーが挙げられる。このような感光性基を有する液晶化合物は、特開2016-4142号公報に記載されたものを用いることもできる。
(i)シンナモイル基、カルコン基、シンナミリデン基、ビフェニルアクリロイル基、フリルアクリロイル基、ナフチルアクリロイル基(または、それらの誘導体)などの感光性基。
(ii)液晶性ポリマーのメソゲン成分として多用されているビフェニル、ターフェニル、フェニルベンゾエート、アゾベンゼンなどの置換基。
Examples of the liquid crystal compound having a photosensitive group include a photosensitive side-chain type liquid crystal polymer having a side chain containing a structure in which the following (i) and (ii) are bonded with or without a spacer. As the liquid crystal compound having such a photosensitive group, those described in JP2016-4142A can also be used.
(i) Photosensitive groups such as a cinnamoyl group, a chalcone group, a cinnamylidene group, a biphenylacryloyl group, a furylacryloyl group, a naphthylacryloyl group (or a derivative thereof).
(ii) Substituents such as biphenyl, terphenyl, phenylbenzoate, and azobenzene, which are often used as mesogenic components of liquid crystal polymers.

感光性側鎖型液晶性ポリマーとしては、側鎖末端にカルボキシル基を有する感光性の側鎖を有し、該側鎖末端のカルボキシル基の水素結合による2量化により剛直な構造を形成し、側鎖自体にメソゲン基を構造に含まず液晶性を発現するポリマーも挙げられる。
感光性側鎖型液晶性ポリマーを構成する主鎖としては、上記側鎖をスペーサーを介して結合した炭化水素、アクリレート、メタクリレート、シロキサン、マレインイミド、N-フェニルマレインイミドなどが挙げられる。これらのポリマーは同一の繰り返し単位からなる単一重合体または構造の異なる側鎖を有する複数の単位からなる共重合体、あるいは感光性基を含む側鎖を有する単位に、感光性基を含まない側鎖を有する単位を液晶性を損なわない程度に配合して得られる共重合体のいずれであってもよい。また、配向を増強するために低分子化合物を添加しても構わない。
Examples of the photosensitive side chain type liquid crystalline polymer include a polymer which has a photosensitive side chain having a carboxyl group at the side chain terminal, forms a rigid structure by dimerization through hydrogen bonding of the carboxyl group at the side chain terminal, and exhibits liquid crystallinity without including a mesogenic group in the structure of the side chain itself.
Examples of the main chain constituting the photosensitive side-chain type liquid crystal polymer include hydrocarbons, acrylates, methacrylates, siloxanes, maleimides, and N-phenylmaleimides, to which the above-mentioned side chains are bonded via a spacer. These polymers may be either single polymers consisting of the same repeating units, copolymers consisting of a plurality of units having side chains with different structures, or copolymers obtained by blending units having side chains containing photosensitive groups with units having side chains not containing photosensitive groups to an extent that does not impair liquid crystallinity. In addition, a low molecular weight compound may be added to enhance the alignment.

感光性側鎖型液晶性ポリマーは、耐熱性を向上することなどを目的として、イソシアネート材料及びエポキシ材料などの架橋剤により架橋構造を導入したポリマーであってもよい。 The photosensitive side-chain liquid crystal polymer may be a polymer in which a crosslinked structure is introduced using a crosslinking agent such as an isocyanate material or an epoxy material, for the purpose of improving heat resistance, etc.

感光性側鎖型液晶性ポリマーは、下記の一般式(1)~(3)で示される側鎖を有するモノマーを用いて形成されるポリマーが好ましい。
なお、下記の一般式(1)~(3)で示される側鎖を有するモノマーを用いて形成されるポリマーは、硫黄原子を含む化合物との親和性が高い。すなわち、ポジティブC層等の配向層が下記の一般式(1)~(3)で示される側鎖を有するモノマーを用いて形成されるポリマーを含み、ポジティブA層の化合物aが硫黄原子を含む場合、化合物aがポジティブC層に浸透しやすくなり、原子X(例えば硫黄)の検出量が上記範囲を満たしやすくなる点で好ましい。
The photosensitive side-chain type liquid crystal polymer is preferably a polymer formed using a monomer having a side chain represented by the following general formulas (1) to (3).
In addition, polymers formed using monomers having side chains represented by the following general formulas (1) to (3) have high affinity with compounds containing sulfur atoms. That is, when an alignment layer such as a positive C layer contains a polymer formed using a monomer having a side chain represented by the following general formulas (1) to (3) and compound a in a positive A layer contains a sulfur atom, compound a is more likely to penetrate into the positive C layer, which is preferable in that the amount of atom X (e.g., sulfur) detected is more likely to satisfy the above range.

前記化学式1および化学式2のそれぞれにおいて、nは1~12、mは1~12の整数をそれぞれ示し、XまたはYは、none、-COO、-OCO-、-N=N-、-C=C-または-C64-をそれぞれ表し、W1はシンナモイル基、カルコン基、シンナミリデンキ基、ビフェニルアクリロイル基、フリルアクリロイル基、ナフチルアクリロイル基もしくはそれらの誘導体を表すか、または、-H、-OH、もしくは-CNを表し、W2は、シンナモイル基、カルコン基、シンナミリデンキ基、ビフェニルアクリロイル基、フリルアクリロイル基、ナフチルアクリロイル基もしくはそれらの誘導体を表すか、または、-H、-OHもしくは-CNを表す。 前記一般式(1)及び一般式(2)のそれぞれにおいて、nは1~12の整数を示し、mは1~12の整数を示し、XまたはYは、単結合、-COO、-OCO-、-N=N-、-C=C-または-C-を示し、Wは、シンナモイル基、カルコン基、シンナミリデン基、ビフェニルアクリロイル基、フリルアクリロイル基、ナフチルアクリロイル基及びこれらの誘導体、又は、-H、-OH及び-CNを示し、Wは、シンナモイル基、カルコン基、シンナミリデン基、ビフェニルアクリロイル基、フリルアクリロイル基、ナフチルアクリロイル基及びこれらの誘導体、又は、-H、-OH及び-CNを示す。 In each of Chemical Formula 1 and Chemical Formula 2, n is an integer of 1 to 12, m is an integer of 1 to 12, X or Y is none, -COO, -OCO-, -N=N-, -C=C- or -C6H4- , W1 is a cinnamoyl group, a chalcone group, a cinnamylidene group, a biphenylacryloyl group, a furylacryloyl group, a naphthylacryloyl group or a derivative thereof, or is -H, -OH or -CN, and W2 is a cinnamoyl group, a chalcone group, a cinnamylidene group, a biphenylacryloyl group, a furylacryloyl group, a naphthylacryloyl group or a derivative thereof, or is -H, -OH or -CN. In each of general formula (1) and general formula (2), n represents an integer of 1 to 12, m represents an integer of 1 to 12, X or Y represents a single bond, -COO, -OCO-, -N=N-, -C=C- or -C6H4- , W1 represents a cinnamoyl group, a chalcone group, a cinnamylidene group, a biphenylacryloyl group, a furylacryloyl group, a naphthylacryloyl group and derivatives thereof, or -H, -OH and -CN, and W2 represents a cinnamoyl group, a chalcone group, a cinnamylidene group, a biphenylacryloyl group, a furylacryloyl group, a naphthylacryloyl group and derivatives thereof, or -H, -OH and -CN.

上記の式で表わされる側鎖のなかで、W及びWが、-H、-OH及び-CNで表わされる側鎖を有するモノマーは感光性を示さないが、側鎖に感光性基を有するモノマーと共重合することにより、感光性基を有する液晶性ポリマーを得ることができる。共重合する場合において、上記の式で表わされる感光性を示さないモノマーの割合が高いほどホメオトロピック配向しやすいポリマーを得やすいが、共重合割合はホメオトロピック配向性と液晶性とのバランスを見て適宜設定することができる。 Among the side chains represented by the above formula, monomers having side chains represented by -H, -OH, and -CN as W1 and W2 do not exhibit photosensitivity, but can be copolymerized with a monomer having a photosensitive group in the side chain to obtain a liquid crystal polymer having a photosensitive group. In the case of copolymerization, the higher the ratio of monomers not exhibiting photosensitivity represented by the above formula, the easier it is to obtain a polymer that is likely to be homeotropically aligned, but the copolymerization ratio can be appropriately set in consideration of the balance between homeotropic alignment and liquid crystallinity.

一般式(3)において、sは0または1を表し、tは1~3の整数を表し、RはH、アルキル基,アルキルオキシ基またはハロゲンを表す。 In general formula (3), s represents 0 or 1, t represents an integer from 1 to 3, and R represents H, an alkyl group, an alkyloxy group, or a halogen.

ポジティブC層等の配向層は、本発明の効果を阻害しない範囲で、光安定剤及び酸化防止剤等の添加剤を含有してもよい。 Alignment layers such as the positive C layer may contain additives such as light stabilizers and antioxidants to the extent that they do not impair the effects of the present invention.

ポジティブC層は、例えば、ポジティブC層を構成する成分(例えば、一般式(1)~(3)で表わされる側鎖を有するモノマー単位から形成される液晶性ポリマー、添加剤)を溶剤に溶解又は希釈してなるポジティブC層用塗布液を調製し、当該塗布液を基材上に塗布、乾燥することにより形成することができる。 The positive C layer can be formed, for example, by preparing a coating liquid for the positive C layer by dissolving or diluting the components constituting the positive C layer (e.g., a liquid crystalline polymer formed from monomer units having side chains represented by general formulas (1) to (3), and additives) in a solvent, and then coating and drying the coating liquid on a substrate.

ポジティブC層用塗布液の溶剤としては、ジオキサン、ジクロロエタン、シクロヘキサノン、トルエン、テトラヒドロフラン、o-ジクロロベンゼン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどが挙げられ、これらの溶媒は、単独または混合して用いられる。 Solvents for the coating solution for the positive C layer include dioxane, dichloroethane, cyclohexanone, toluene, tetrahydrofuran, o-dichlorobenzene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, etc., and these solvents are used alone or in combination.

ポジティブC層用塗布液を基材上に塗布して、溶剤を除去する過程において、ポジティブC層はホメオトロピック配向を示し始め、乾燥後、さらに加熱を行うことによりホメオトロピック配向は増強される。具体的には、液晶相転移温度以上であって等方性転移温度以下(好ましくは等方性転移温度未満)の温度に加熱して冷却することによってホメオトロピック配向が誘起される。
さらに、ホメオトロピック配向した層に対して、直線偏光性紫外線を照射する。直線偏光性紫外線を照射することにより、感光性基を有する液晶性ポリマーの感光性基の光反応が異方的に進行し、ポジティブA層の液晶化合物を配向させる液晶配向能が付与される。照射光の波長は200nm~500nmが好ましく、250nm~400nmがより好ましい。このような直線偏光性の紫外線照射がなされても、ホメオトロピック配向層の配向は実質的に影響されない。
In the process of applying the coating solution for the positive C layer onto the substrate and removing the solvent, the positive C layer begins to show homeotropic alignment, and the homeotropic alignment is enhanced by further heating after drying. Specifically, the homeotropic alignment is induced by heating to a temperature equal to or higher than the liquid crystal phase transition temperature and equal to or lower than the isotropic transition temperature (preferably lower than the isotropic transition temperature) and then cooling.
Furthermore, the homeotropically aligned layer is irradiated with linearly polarized ultraviolet light. By irradiating with linearly polarized ultraviolet light, the photoreaction of the photosensitive group of the liquid crystal polymer having a photosensitive group proceeds anisotropically, and the liquid crystal alignment ability to align the liquid crystal compound in the positive A layer is imparted. The wavelength of the irradiated light is preferably 200 nm to 500 nm, more preferably 250 nm to 400 nm. Even if such linearly polarized ultraviolet light is irradiated, the alignment of the homeotropic alignment layer is not substantially affected.

ポジティブC層に直線偏光性紫外線を照射した後であって、ポジティブC層上にポジティブA層を形成した後に、非偏光性の紫外線を照射することが好ましい。非偏光性紫外線を照射すると、感光性基を有する液晶性ポリマーの二量化が進行し、配向が固定され、安定したホモジニアス配向層が形成される。なお、ポジティブA層のホメオトロピック配向は非偏光性の紫外線の照射前に完了しているため、非偏光性紫外線によってポジティブA層のホメオトロピック配向は実質的に乱されることはないといえる。また、非偏光性の紫外線を照射することで、ポジティブC層の感光性基とポジティブA層との感光性基とが反応し、密着性がより向上することが期待できる。 After irradiating the positive C layer with linearly polarized UV light and forming the positive A layer on the positive C layer, it is preferable to irradiate with non-polarized UV light. When irradiated with non-polarized UV light, dimerization of the liquid crystal polymer having a photosensitive group progresses, the orientation is fixed, and a stable homogeneous orientation layer is formed. Note that since the homeotropic orientation of the positive A layer is completed before irradiation with non-polarized UV light, it can be said that the homeotropic orientation of the positive A layer is not substantially disturbed by the non-polarized UV light. In addition, by irradiating with non-polarized UV light, the photosensitive group of the positive C layer and the photosensitive group of the positive A layer react with each other, and it is expected that the adhesion will be further improved.

ポジティブC層等の配向層は、Rth(550)が-100nm~-50nmであることが好ましく、-90nm~-60nmであることがより好ましい。配向層のRth(550)を当該範囲とすることにより、斜め方向の視認性を良好にしやすくできる。 The alignment layer such as the positive C layer preferably has an R th (550) of −100 nm to −50 nm, more preferably −90 nm to −60 nm. By setting the R th (550) of the alignment layer in this range, visibility in oblique directions can be easily improved.

ポジティブC層等の配向層は、Re(550)が小さいことが好ましく、好ましくは20nm以下、より好ましくは10nm以下、更に好ましくは5nm以下、より更に好ましくは1nm以下である。 It is preferable that the Re(550) of an alignment layer such as a positive C layer is small, preferably 20 nm or less, more preferably 10 nm or less, even more preferably 5 nm or less, and even more preferably 1 nm or less.

本明細書において、面内位相差、厚み方向の位相差、ヘイズ及び全光線透過率は、16箇所の測定値の平均値を意味する。16の測定箇所は、測定サンプルの外縁から1cmの領域を余白として、該余白よりも内側の領域に関して、縦方向及び横方向を5等分する線を引いた際の、交点の16箇所を測定の中心とすることが好ましい。測定サンプルが四角形の場合には、四角形の外縁から1cmの領域を余白として、該余白よりも内側の領域を縦方向及び横方向に5等分した線の交点の16箇所を中心として測定を行い、その平均値を算出することが好ましい。なお、測定サンプルが円形、楕円形、三角形、五角形等の四角形以外の形状の場合、これらの形状に内接する最大面積の四角形を書き、該四角形に関して、上記手法により16箇所の測定を行うことが好ましい。
面内位相差及び厚み方向の位相差は、例えば、王子計測(株)製の商品名「KOBRA-WR」で測定できる。
In this specification, the in-plane retardation, thickness retardation, haze and total light transmittance refer to the average value of the measured values at 16 points. The 16 measurement points are preferably centered on 16 intersections of lines drawn on the inner area of the margin, with a margin of 1 cm from the outer edge of the measurement sample, dividing the area inside the margin into 5 equal parts in the vertical and horizontal directions. When the measurement sample is a rectangle, it is preferable to measure the 16 intersections of lines drawn on the inner area of the margin, with a margin of 1 cm from the outer edge of the rectangle, and calculate the average value. In addition, when the measurement sample is a shape other than a rectangle, such as a circle, an ellipse, a triangle, or a pentagon, it is preferable to draw a rectangle with the maximum area inscribed in these shapes, and measure 16 points on the rectangle using the above method.
The in-plane retardation and the retardation in the thickness direction can be measured, for example, by using a product called "KOBRA-WR" manufactured by Oji Measurement Co., Ltd.

ポジティブC層等の配向層の厚みは、好ましくは100nm~5μmであり、より好ましくは50nm~3μm、さらに好ましくは100nm~2μmである。
ポジティブC層等の配向層、ポジティブA層及び基材等の各層の厚みは、例えば、光学積層体の断面像を、走査型透過電子顕微鏡(STEM)等で観察し、20箇所の平均値として算出できる。
The thickness of an alignment layer such as a positive C layer is preferably from 100 nm to 5 μm, more preferably from 50 nm to 3 μm, and further preferably from 100 nm to 2 μm.
The thickness of each layer, such as the alignment layer such as the positive C layer, the positive A layer, and the substrate, can be calculated, for example, as the average value of 20 points by observing a cross-sectional image of the optical laminate with a scanning transmission electron microscope (STEM) or the like.

<ポジティブA層>
ポジティブA層は、光学積層体の厚み方向において、ポジティブC層と接する位置に配置される。また、ポジティブA層は化合物aを含む。
<Positive A layer>
The positive A layer is disposed in a position in the thickness direction of the optical laminate so as to be in contact with the positive C layer. The positive A layer contains a compound a.

化合物aは、ポジティブC層に含まれるその他の化合物が実質的に含有しない原子Xを含む。化合物aが含む原子Xとしては硫黄原子及び窒素原子が挙げられ、硫黄原子が好ましい。
ポジティブA層は液晶化合物から形成することが好ましい。液晶化合物は重合性液晶化合物であることが好ましい。すなわち、化合物aは、液晶化合物であることが好ましく、重合性液晶化合物であることがより好ましい。また、化合物aは、前記原子Xとしての硫黄原子又は窒素原子を含む重合性液晶化合物であることが好ましく、前記原子Xとしての硫黄原子を含む重合性液晶化合物であることがより好ましい。
Compound a contains an atom X that is not substantially contained in other compounds contained in the positive C layer. Examples of the atom X contained in compound a include a sulfur atom and a nitrogen atom, and a sulfur atom is preferable.
The positive A layer is preferably formed from a liquid crystal compound. The liquid crystal compound is preferably a polymerizable liquid crystal compound. That is, the compound a is preferably a liquid crystal compound, more preferably a polymerizable liquid crystal compound. In addition, the compound a is preferably a polymerizable liquid crystal compound containing a sulfur atom or a nitrogen atom as the atom X, more preferably a polymerizable liquid crystal compound containing a sulfur atom as the atom X.

ポジティブA層はホモジニアス配向を示す層である。ホモジニアス配向とは、液晶性材料が層面に対して平行に、かつ同一方位に配列している状態(光学的一軸性)をいう。ホモジニアス配向し得る液晶化合物は、液晶性ポリマーからなる材料であっても液晶性モノマーからなる材料であってもよい。
上述したように、ホメオトロピック配向したポジティブC層に対して、直線偏光性紫外線を照射すると、感光性基を有する液晶性ポリマーの感光性基の光反応が異方的に進行し、ポジティブA層の液晶化合物を配向させる液晶配向能が付与される。このため、ポジティブC層上に、ポジティブA層用塗布液を直接塗布、乾燥及び硬化しても、ホメオトロピック配向したポジティブC層上に、ホモジニアス配向してなるポジティブA層を得ることができる。
The positive A layer is a layer that exhibits homogeneous alignment. Homogeneous alignment refers to a state in which the liquid crystal material is aligned parallel to the layer surface and in the same direction (optical uniaxiality). The liquid crystal compound that can be homogeneously aligned may be a material made of a liquid crystal polymer or a material made of a liquid crystal monomer.
As described above, when the homeotropically aligned positive C layer is irradiated with linearly polarized ultraviolet light, the photoreaction of the photosensitive group of the liquid crystal polymer having the photosensitive group proceeds anisotropically, and the liquid crystal alignment ability to align the liquid crystal compound of the positive A layer is imparted. Therefore, even if the coating liquid for the positive A layer is directly applied onto the positive C layer, dried and cured, a homogeneously aligned positive A layer can be obtained on the homeotropically aligned positive C layer.

ポジティブA層は、Re(450)、Re(550)及びRe(650)が、下記(i)の関係を満たすことが好ましい。すなわち、ポジティブA層は逆分散性を有することが好ましい。ポジティブA層として、下記(i)の関係を満たす逆分散性のものを用いることにより、ポジティブA層及びポジティブC層を含む光学積層体全体としても逆分散性を付与しやすくすることができ、550nmから外れた波長域における視認性及び反射防止性等を良好にしやすくできる。
Re(450)<Re(550)<Re(650) (i)
The positive A layer preferably has Re(450), Re(550) and Re(650) satisfying the following relationship (i). That is, the positive A layer preferably has reverse dispersion. By using a positive A layer having reverse dispersion satisfying the following relationship (i), it is possible to easily impart reverse dispersion to the entire optical laminate including the positive A layer and the positive C layer, and it is possible to easily improve visibility and antireflection properties in wavelength ranges outside 550 nm.
Re(450)<Re(550)<Re(650) (i)

ポジティブA層のRe(450)、Re(550)及びRe(650)は、特に限定されないが、ポジティブA層をλ/4位相差層とする場合には下記の範囲として、ポジティブA層をλ/2位相差層とする場合には下記の範囲とすることが好ましい。 There are no particular limitations on the Re(450), Re(550), and Re(650) of the positive A layer, but if the positive A layer is a λ/4 retardation layer, it is preferable that they are in the following ranges, and if the positive A layer is a λ/2 retardation layer, they are in the following ranges.

《λ/4位相差層の場合》
Re(450)は82nm~143nmであることが好ましく、90nm~135nmであることがより好ましい。Re(550)は100nm~175nmであることが好ましく、110nm~165nmであることがより好ましい。Re(650)は119nm~206nmであることが好ましく、130nm~195nmであることがより好ましい。
また、ポジティブA層(λ/4位相差層)とポジティブC層の積層体は、Rth(550)が-40nm~40nmであることが好ましく、-25nm~25nmであることがより好ましい。
<<In the case of λ/4 retardation layer>>
Re(450) is preferably 82 nm to 143 nm, more preferably 90 nm to 135 nm. Re(550) is preferably 100 nm to 175 nm, more preferably 110 nm to 165 nm. Re(650) is preferably 119 nm to 206 nm, more preferably 130 nm to 195 nm.
Moreover, the laminate of the positive A layer (λ/4 retardation layer) and the positive C layer preferably has an Rth(550) of −40 nm to 40 nm, more preferably −25 nm to 25 nm.

《λ/2位相差層の場合》
Re(450)は165nm~286nmであることが好ましく、180nm~270nmであることがより好ましい。Re(550)は201nm~349nmであることが好ましく、220nm~230nmであることがより好ましい。Re(650)は237nm~412nmであることが好ましく、260nm~390nmであることがより好ましい。
また、ポジティブA層(λ/2位相差層)とポジティブC層の積層体は、Rth(550)が-50nm~50nmであることが好ましく、-30nm~30nmであることがより好ましい。
<<In the case of λ/2 retardation layer>>
Re(450) is preferably 165 nm to 286 nm, more preferably 180 nm to 270 nm. Re(550) is preferably 201 nm to 349 nm, more preferably 220 nm to 230 nm. Re(650) is preferably 237 nm to 412 nm, more preferably 260 nm to 390 nm.
Moreover, the laminate of the positive A layer (λ/2 retardation layer) and the positive C layer preferably has Rth(550) of −50 nm to 50 nm, more preferably −30 nm to 30 nm.

ポジティブA層の厚みは、好ましくは100nm~5μmであり、より好ましくは500nm~4μm、さらに好ましくは1.5μm~3.0μmである。 The thickness of the positive A layer is preferably 100 nm to 5 μm, more preferably 500 nm to 4 μm, and even more preferably 1.5 μm to 3.0 μm.

逆分散性のポジティブA層は、逆分散性を示す液晶化合物から形成することができる。このような液晶化合物は、重合性を有するものが好ましい。
逆分散性を示す重合性液晶化合物としては、例えば、特開2019-73712号公報の一般式(1)で表されるもの、国際公開番号WO2017/043438の一般式(II)で表されるものが挙げられる。
The reverse dispersion positive A layer can be formed from a liquid crystal compound exhibiting reverse dispersion, and such a liquid crystal compound is preferably polymerizable.
Examples of the polymerizable liquid crystal compound exhibiting reverse dispersion include those represented by general formula (1) in JP-A-2019-73712 and those represented by general formula (II) in International Publication No. WO2017/043438.

逆分散性を示す重合性液晶化合物の具体例としては、下記化学式(4)~(29)に示す化合物が挙げられる。下記化学式(4)~(29)に示す化合物は、何れも分子中に硫黄原子及び窒素原子を含んでいる。
下記化学式(4)~(29)に示す化合物は、ビフェニル基を中心として分子構造の左右がそれぞれ動きやすい構造を有しているため、配向膜の中に染み込みやすく、配向膜中の原子Xの平均検出量を上記範囲にしやすい点で好ましい。
Specific examples of the polymerizable liquid crystal compound exhibiting reverse dispersion include the compounds represented by the following chemical formulas (4) to (29). All of the compounds represented by the following chemical formulas (4) to (29) contain a sulfur atom and a nitrogen atom in the molecule.
The compounds represented by the following chemical formulas (4) to (29) have a structure in which the left and right sides of the molecular structure are easily movable with the biphenyl group at the center, and are therefore preferred in that they easily permeate into the alignment film and the average detectable amount of atom X in the alignment film can be easily adjusted to the above-mentioned range.


ポジティブA層は、本発明の効果を阻害しない範囲で、光安定剤及び酸化防止剤等の添加剤を含有してもよい。 The positive A layer may contain additives such as light stabilizers and antioxidants to the extent that they do not impair the effects of the present invention.

ポジティブA層は、例えば、ポジティブA層を構成する成分を溶剤に溶解又は希釈してなるポジティブA層用塗布液を調製し、当該塗布液をポジティブC層上に塗布、乾燥し、必要に応じて電離放射線を照射して硬化することにより形成することができる。 The positive A layer can be formed, for example, by preparing a coating liquid for the positive A layer by dissolving or diluting the components constituting the positive A layer in a solvent, coating the coating liquid on the positive C layer, drying it, and curing it by irradiating it with ionizing radiation as necessary.

ポジティブA層用塗布液の溶剤は、例えば、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等)、エーテル類(ジオキサン、テトラヒドロフラン、1,3-ジオキソラン等)、脂肪族炭化水素類(ヘキサン等)、脂環式炭化水素類(シクロヘキサン等)、芳香族炭化水素類(トルエン、キシレン等)、ハロゲン化炭素類(ジクロロメタン、ジクロロエタン等)、エステル類(酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等)、アルコール類(イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等)、セロソルブ類(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等)、グリコールエーテル類(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート等)、セロソルブアセテート類、スルホキシド類(ジメチルスルホキシド等)、アミド類(ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等)等が例示でき、これらの混合物であってもよい。 Examples of solvents for the coating solution for the positive A layer include ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.), ethers (dioxane, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane, etc.), aliphatic hydrocarbons (hexane, etc.), alicyclic hydrocarbons (cyclohexane, etc.), aromatic hydrocarbons (toluene, xylene, etc.), halogenated carbons (dichloromethane, dichloroethane, etc.), esters (methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, etc.), alcohols (isopropanol, butanol, cyclohexanol, etc.), cellosolves (methyl cellosolve, ethyl cellosolve, etc.), glycol ethers (propylene glycol monomethyl ether acetate, etc.), cellosolve acetates, sulfoxides (dimethyl sulfoxide, etc.), amides (dimethylformamide, dimethylacetamide, etc.), and mixtures of these may also be used.

上記溶剤の中でも、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、1,3-ジオキソラン、トルエンなどを含むことが好ましく、中でも、極性が高く配向層に浸透しやすいシクロヘキサノン及び1,3-ジオキソランを含むことがより好ましい。 Among the above solvents, it is preferable to use methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, 1,3-dioxolane, toluene, etc., and it is more preferable to use cyclohexanone and 1,3-dioxolane, which have high polarity and easily penetrate into the alignment layer.

ポジティブA層用塗布液中の溶剤の割合は、70質量%~95質量%であることが好ましく、75質量%~90質量%であることがより好ましい。 The proportion of solvent in the coating solution for the positive A layer is preferably 70% to 95% by mass, and more preferably 75% to 90% by mass.

<基材>
光学積層体は、基材を有していてもよい。
基材としては、プラスチックフィルムが好ましい。
プラスチックフィルムを構成するポリマーとしては、セルロースアシレート、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体(AS樹脂)等のスチレン系ポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン-プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー及びエポキシ系ポリマー等が挙げられる。
<Substrate>
The optical laminate may have a substrate.
The substrate is preferably a plastic film.
Examples of polymers constituting the plastic film include cellulose acylate, polycarbonate-based polymers, polyester-based polymers such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, acrylic-based polymers such as polymethyl methacrylate, styrene-based polymers such as polystyrene and acrylonitrile-styrene copolymers (AS resins), polyolefin-based polymers such as polyethylene, polypropylene and ethylene-propylene copolymers, vinyl chloride-based polymers, amide-based polymers such as nylon and aromatic polyamide, imide-based polymers, sulfone-based polymers, polyethersulfone-based polymers, polyetheretherketone-based polymers, polyphenylene sulfide-based polymers, vinylidene chloride-based polymers, vinyl alcohol-based polymers, vinyl butyral-based polymers, arylate-based polymers, polyoxymethylene-based polymers, and epoxy-based polymers.

画像表示装置の薄型化を考慮すると、基材は、配向層及びポジティブA層を剥離可能なものが好ましい。剥離可能な基材を用いることにより、画像表示装置の他の部材に、配向層及びポジティブA層を転写することができる。
本発明の光学積層体は、配向層とポジティブA層との密着性が良好であるため、転写時に生じる応力で配向層とポジティブA層との界面が剥離することを抑制できるため、剥離可能な基材を適用しやすい点で好ましい。
剥離可能な基材は、例えば、上記プラスチックフィルムそのもの、又は、上記プラスチックフィルムの表面を汎用の離型剤等で離型処理したものが挙げられる。
Considering the need to make the image display device thinner, the substrate is preferably one from which the alignment layer and the positive A layer can be peeled off. By using a peelable substrate, the alignment layer and the positive A layer can be transferred to other members of the image display device.
The optical laminate of the present invention has good adhesion between the alignment layer and the positive A layer, and therefore peeling at the interface between the alignment layer and the positive A layer due to stress generated during transfer can be suppressed, making it preferable in that a peelable substrate can be easily used.
The peelable substrate may be, for example, the above-mentioned plastic film itself, or the above-mentioned plastic film whose surface has been subjected to a release treatment with a general-purpose release agent or the like.

基材の厚みは、通常25μm~150μm程度であり、好ましくは30μm~125μm、より好ましくは40μm~100μmである。 The thickness of the substrate is usually about 25 μm to 150 μm, preferably 30 μm to 125 μm, and more preferably 40 μm to 100 μm.

<その他の層>
光学積層体は、本発明の効果を阻害しない範囲で、その他の層を有していてもよい。その他の層としては、ガスバリア層、接着剤層、位相差層等が挙げられる。
<Other demographics>
The optical laminate may have other layers, such as a gas barrier layer, an adhesive layer, and a retardation layer, as long as the effects of the present invention are not impaired.

<光学積層体の物性>
本発明の光学積層体は、光学積層体の波長450nmにおける面内位相差をRe(450)、光学積層体の波長550nmにおける面内位相差をRe(550)、光学積層体の波長650nmにおける面内位相差をRe(650)と定義した際に、下記式(A)の関係を満たすことが好ましい。
Re(450)<Re(550)<Re(650) (A)
<Physical Properties of Optical Laminate>
The optical laminate of the present invention preferably satisfies the relationship of the following formula (A) when the in-plane retardation of the optical laminate at a wavelength of 450 nm is defined as Re(450), the in-plane retardation of the optical laminate at a wavelength of 550 nm is defined as Re(550), and the in-plane retardation of the optical laminate at a wavelength of 650 nm is defined as Re(650).
Re(450)<Re(550)<Re(650) (A)

式(A)を満たすことにより、光学積層体全体として逆波長分散特性を示すことになり、550nmから外れた波長域における視認性及び反射防止性等を良好にしやすくできる。 By satisfying formula (A), the optical laminate as a whole will exhibit reverse wavelength dispersion characteristics, making it easier to improve visibility and anti-reflection properties in wavelength ranges outside 550 nm.

光学積層体は、JIS K7136:2000のヘイズが1.0%以下であることが好ましく、0.9%以下であることがより好ましく、0.8%以下であることがさらに好ましい。
また、光学積層体は、JIS K7361-1:1997の全光線透過率が80%以上であることが好ましく、85%以上であることがより好ましく、90%以上であることがさらに好ましい。
The optical laminate preferably has a haze according to JIS K7136:2000 of 1.0% or less, more preferably 0.9% or less, and even more preferably 0.8% or less.
Furthermore, the optical laminate preferably has a total light transmittance according to JIS K7361-1:1997 of 80% or more, more preferably 85% or more, and even more preferably 90% or more.

光学積層体の総厚みは特に限定されないが、取り扱い性及び機械的強度を良好にする観点から、15μm~300μmであることが好ましく、20μm~200μmであることがより好ましく、25μm~100μmであることがさらに好ましい。 The total thickness of the optical laminate is not particularly limited, but from the viewpoint of improving handleability and mechanical strength, it is preferably 15 μm to 300 μm, more preferably 20 μm to 200 μm, and even more preferably 25 μm to 100 μm.

<大きさ、形状等>
光学積層体は枚葉状であってもよいしロール状であってもよい。
また、枚葉の大きさは特に限定されないが、一般的には、大きさは対角で2インチから500インチ程度である。ロール状の幅及び長さは特に限定されないが、一般的には、幅は500mmから3000mm、長さは500mから5000m程度である。
また、枚葉の形状も特に限定されず、例えば、多角形(三角形、四角形、五角形等)や円形であってもよいし、ランダムな不定形であってもよい。
<Size, shape, etc.>
The optical laminate may be in the form of a sheet or a roll.
The size of the sheet is not particularly limited, but generally, the size is about 2 inches to 500 inches diagonally. The width and length of the roll are not particularly limited, but generally, the width is about 500 mm to 3000 mm, and the length is about 500 m to 5000 m.
The shape of the sheets is not particularly limited either, and may be, for example, polygonal (triangle, square, pentagon, etc.) or circular, or may be a random, indeterminate shape.

[偏光板]
本発明の偏光板は、偏光子と、前記偏光子の一方の側に配置されてなる透明保護板Aと、前記偏光子の他方の側に配置されてなる透明保護板Bとを有する偏光板であって、前記透明保護板A及び前記透明保護板Bの何れか一方が、上述した本発明の光学積層体であるものである。
[Polarizer]
The polarizing plate of the present invention has a polarizer, a transparent protective plate A arranged on one side of the polarizer, and a transparent protective plate B arranged on the other side of the polarizer, and either the transparent protective plate A or the transparent protective plate B is the optical laminate of the present invention described above.

図2は、本発明の偏光板の実施の形態を示す断面図である。
図2の偏光板200は、偏光子50と、前記偏光子の一方の側に配置されてなる透明保護板A(61)と、前記偏光子の他方の側に配置されてなる透明保護板B(62)とを有している。また、図2の透明保護板A(61)は、光学積層体100である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing an embodiment of the polarizing plate of the present invention.
The polarizing plate 200 in Fig. 2 includes a polarizer 50, a transparent protective plate A (61) disposed on one side of the polarizer, and a transparent protective plate B (62) disposed on the other side of the polarizer. The transparent protective plate A (61) in Fig. 2 is an optical laminate 100.

<偏光子>
偏光子としては、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン-酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等のシート型偏光子、平行に並べられた多数の金属ワイヤからなるワイヤーグリッド型偏光子、リオトロピック液晶や二色性ゲスト-ホスト材料を塗布した塗布型偏光子、多層薄膜型偏光子等が挙げられる。なお、これらの偏光子は、透過しない偏光成分を反射する機能を備えた反射型偏光子であってもよい。
<Polarizer>
Examples of polarizers include sheet-type polarizers such as polyvinyl alcohol films, polyvinyl formal films, polyvinyl acetal films, and saponified ethylene-vinyl acetate copolymer films dyed with iodine or the like and stretched, wire-grid-type polarizers made of a large number of metal wires arranged in parallel, coating-type polarizers coated with lyotropic liquid crystal or a dichroic guest-host material, and multilayer thin-film-type polarizers. These polarizers may be reflective polarizers that have a function of reflecting polarized components that are not transmitted.

<透明保護板>
偏光子の一方の側には透明保護板A、他方の側には透明保護板Bが配置される。透明保護板A及び透明保護板Bの一方は、上述した本発明の光学積層体である。
<Transparent protective plate>
On one side of the polarizer, a transparent protective plate A is disposed, and on the other side, a transparent protective plate B. One of the transparent protective plate A and the transparent protective plate B is the above-mentioned optical laminate of the present invention.

光学積層体以外の透明保護板A及び透明保護板Bとしては、プラスチックフィルム及びガラス等が挙げられる。プラスチックフィルムとしては、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、シクロオレフィンポリマーフィルム及びアクリルフィルムが挙げられ、機械的強度の観点から、これらの延伸フィルムが好ましい。ガラスは、アルカリガラス、窒化ガラス、ソーダ石灰ガラス、ホウ珪酸塩ガラス及び鉛ガラス等が挙げられる。また、偏光子を保護する透明保護板としてのガラスは、画像表示装置の他の部材(例えば、液晶表示素子のガラス基板、画像表示装置の表面板)と兼用することが好ましい。
なお、偏光子と透明保護板とは、接着剤を介して貼り合わせることが好ましい。接着剤は汎用の接着剤を用いることができ、PVA系接着剤が好ましい。
Examples of the transparent protective plate A and the transparent protective plate B other than the optical laminate include plastic films and glass. Examples of the plastic film include polyester films, polycarbonate films, cycloolefin polymer films, and acrylic films, and from the viewpoint of mechanical strength, stretched films of these films are preferred. Examples of the glass include alkali glass, nitride glass, soda-lime glass, borosilicate glass, and lead glass. In addition, it is preferable that the glass as the transparent protective plate for protecting the polarizer is also used as other members of the image display device (for example, the glass substrate of the liquid crystal display element, the front panel of the image display device).
The polarizer and the transparent protective plate are preferably attached to each other via an adhesive. A general-purpose adhesive can be used as the adhesive, and a PVA-based adhesive is preferable.

本発明の偏光板は、表示素子の光出射面側に配置する偏光板として用いることが好ましい。また、前記のように用いる際に、偏光子を基準として光入射面側の透明保護板を上述した本発明の光学積層体とすることが好ましい。なお、偏光板を円偏光板として機能させる観点から、偏光子の吸収軸に対する、ポジティブA層の遅相軸の向きは30°~60°の範囲とすることが好ましく、40°~50°の範囲とすることがより好ましい。 The polarizing plate of the present invention is preferably used as a polarizing plate arranged on the light exit surface side of a display element. When used as described above, it is preferable that the transparent protective plate on the light incident surface side based on the polarizer is the optical laminate of the present invention described above. From the viewpoint of making the polarizing plate function as a circular polarizing plate, the orientation of the slow axis of the positive A layer relative to the absorption axis of the polarizer is preferably in the range of 30° to 60°, and more preferably in the range of 40° to 50°.

[表示パネル]
本発明の表示パネルは、表示素子の光出射面側の面上に、上述した本発明の光学積層体が配置されてなるものである。
[Display panel]
The display panel of the present invention comprises the above-mentioned optical layered body of the present invention disposed on the light-emitting surface side of a display element.

図3は、本発明の表示パネル500の実施の形態を示す断面図である。図3の表示パネル500は、表示素子300の光出射面側の面上に、光学積層体100が積層されている。 Figure 3 is a cross-sectional view showing an embodiment of a display panel 500 of the present invention. The display panel 500 in Figure 3 has an optical laminate 100 laminated on the light-emitting surface side of the display element 300.

表示パネルの表示素子が液晶表示素子である場合、液晶表示素子の背面には図示しないバックライトが必要である。バックライトとしては、エッジライト型バックライト、直下型バックライトの何れも用いることができる。また、バックライトの光源としては、LED、CCFL等が挙げられるが、光源として量子ドットを用いたバックライトは色再現性を高めやすい点で好ましい。 When the display element of the display panel is a liquid crystal display element, a backlight (not shown) is required on the rear side of the liquid crystal display element. Either an edge-lit backlight or a direct-type backlight can be used as the backlight. In addition, examples of light sources for the backlight include LEDs and CCFLs, but a backlight using quantum dots as the light source is preferable because it is easy to improve color reproducibility.

表示パネルは、光学積層体の表示素子とは反対側の面に偏光子を有することが好ましい。かかる構成を採用することで、画像表示装置に外光反射防止機能を付与するとともに、斜めから視認した際に色味が損なわれることを抑制できる。 It is preferable that the display panel has a polarizer on the surface of the optical laminate opposite the display element. By adopting such a configuration, it is possible to provide the image display device with an anti-reflection function for external light and to suppress loss of color when viewed from an oblique angle.

<表示素子>
表示素子としては、液晶表示素子、有機EL表示素子、無機EL表示素子、プラズマ表示素子、電子ペーパー表示素子、LED表示素子(マイクロLEDなど)、量子ドットを用いた表示素子等が挙げられる。これら表示素子は、表示素子の内部にタッチパネル機能を有していてもよい。
<Display element>
Examples of the display element include a liquid crystal display element, an organic EL display element, an inorganic EL display element, a plasma display element, an electronic paper display element, an LED display element (such as a micro LED), a display element using quantum dots, etc. These display elements may have a touch panel function inside the display element.

[画像表示装置]
本発明の画像表示装置は、本発明の表示パネルを備えるものであれば特に限定されないが、本発明の表示パネルと、該表示パネルに電気的に接続された駆動制御部と、これらを収容する筐体とを備えることが好ましい。
[Image display device]
The image display device of the present invention is not particularly limited as long as it is equipped with the display panel of the present invention, but it preferably comprises the display panel of the present invention, a drive control unit electrically connected to the display panel, and a housing that accommodates these.

画像表示装置は、フォルダブル型の画像表示装置、ローラブル型の画像表示装置であってもよい。また、画像表示装置は、タッチパネル付きの画像表示装置であってもよい。 The image display device may be a foldable image display device or a rollable image display device. The image display device may also be an image display device with a touch panel.

次に、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。なお、「部」及び「%」は特に断りのない限り質量基準とする。 Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Note that "parts" and "%" are based on mass unless otherwise specified.

1.測定、評価
実施例及び比較例で得られた光学積層体について、下記の測定、評価を行った。結果を表1に示す。
The optical laminates obtained in the examples and comparative examples were subjected to the following measurements and evaluations. The results are shown in Table 1.

1-1.硫黄原子の測定
実施例及び比較例の光学積層体を所定の大きさに切断したカットサンプルを作製し、当該カットサンプルをエポキシ樹脂で包埋してなる包埋サンプルを作製した。次いで、当該包埋サンプルをダイヤモンドナイフで垂直に切断してなる、薄片の測定用サンプル(厚み0.08μm)を20個ずつ作製した。
次いで、走査型電子顕微鏡-エネルギー分散型X線分光法(SEM-EDX)により、測定用サンプルのポジティブA層内及び配向層内の硫黄原子の質量基準の検出量を測定した。測定結果を元に、ポジティブA層内の硫黄原子の平均検出量を質量基準で100と規格化したときの、配向層(ポジティブC層)内の原子Xの平均検出量を算出し、20個のサンプルの平均値を算出した。結果を表1に示す。
さらに、上記測定結果を元に、明細書本文の「条件1の変動係数」及び「条件2の比」を算出した。結果を表1に示す。
SEM-EDXの測定装置は、日立ハイテクノロジーズ社製のSEM“SU8000”、オックスフォード・インストゥルメンツ製のEDX“XMAX80”を用いた。また、同装置の測定条件は下記のように設定した。
<測定条件>
加速電圧30kV、焦点距離15mm、(試料傾斜0度)に合わせ、照射電流や測定時間を目的元素が十分検出できるように適時調整して特性X線スペクトルを取得した。各元素の濃度は、ZAF補正法(各元素の相対強度に原子番号補正Z、吸収補正A、蛍光補正Fを施して各元素の含有量を求める方法)によって算出した。
1-1. Measurement of sulfur atoms Cut samples were prepared by cutting the optical laminates of the examples and comparative examples to a predetermined size, and embedded samples were prepared by embedding the cut samples in epoxy resin. Next, 20 pieces of each thin measurement sample (thickness 0.08 μm) were prepared by cutting the embedded samples vertically with a diamond knife.
Next, the mass-based detection amount of sulfur atoms in the positive A layer and the alignment layer of the measurement sample was measured by scanning electron microscope-energy dispersive X-ray spectroscopy (SEM-EDX). Based on the measurement results, the average detection amount of X atoms in the alignment layer (positive C layer) was calculated when the average detection amount of sulfur atoms in the positive A layer was normalized to 100 by mass, and the average value of 20 samples was calculated. The results are shown in Table 1.
Furthermore, based on the above measurement results, the "coefficient of variation under condition 1" and the "ratio under condition 2" in the specification were calculated. The results are shown in Table 1.
The SEM-EDX measuring devices used were SEM "SU8000" manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation and EDX "XMAX80" manufactured by Oxford Instruments. The measuring conditions for the devices were set as follows:
<Measurement conditions>
The characteristic X-ray spectrum was obtained by adjusting the irradiation current and measurement time appropriately so that the target elements could be sufficiently detected, with an acceleration voltage of 30 kV and a focal length of 15 mm (sample tilt of 0 degrees). The concentration of each element was calculated by the ZAF correction method (a method of calculating the content of each element by applying atomic number correction Z, absorption correction A, and fluorescence correction F to the relative intensity of each element).

1-2.密着性
実施例及び比較例の光学積層体の中間体を、23℃、相対湿度50%の環境下で24時間保管した後に、実施例及び比較例の光学積層体の中間体の配向層(ポジティブC層)及びポジティブA層を粘着層付ガラスに転写してガラス積層体とし、そのガラス積層体の配向層(ポジティブC層)側から刃を入れ、100マスの碁盤目状(縦10マス×横10マス)に、刃先が粘着層まで到達するようにクロスカットした。碁盤目のカット間隔は、1mmのものと、2mmのものとの2種類を準備した。
上記クロスカットを施したサンプルの、クロスカットを施した表面に、粘着テープ(ニチバン株式会社製、製品名「3M社製、Scotch はってはがせるテープ、CAT.NO.811-3-18)を貼り付けし、JIS K5600-5-6:1999に規定されるクロスカット法に準拠し剥離試験を行った。カット間隔1mm及び2mmのそれぞれについて、剥がれた目の数をマイクロスコープ(キーエンス社製のデジタルマイクロスコープVH5500、設定倍率100倍)で評価した。結果を表1に示す。なお、「0/100」は剥がれた目の数が0であり、配向層(ポジティブC層)とポジティブA層との密着性が最良であることを示し、「100/100」は全ての目が剥がれ、配向層(ポジティブC層)とポジティブA層との密着性が乏しいことを示している。
1-2. Adhesion The intermediates of the optical laminates of the Examples and Comparative Examples were stored for 24 hours under an environment of 23°C and 50% relative humidity, and then the alignment layer (positive C layer) and the positive A layer of the intermediates of the optical laminates of the Examples and Comparative Examples were transferred to glass with an adhesive layer to form a glass laminate, and a blade was inserted from the alignment layer (positive C layer) side of the glass laminate to cross-cut into a grid of 100 squares (10 squares vertically x 10 squares horizontally) so that the tip of the blade reached the adhesive layer. Two types of grid cut intervals, 1 mm and 2 mm, were prepared.
An adhesive tape (manufactured by Nichiban Co., Ltd., product name "3M Scotch Removable Tape, CAT. NO. 811-3-18) was applied to the cross-cut surface of the cross-cut sample, and a peel test was performed in accordance with the cross-cut method specified in JIS K5600-5-6:1999. For each cut interval of 1 mm and 2 mm, the number of peeled meshes was evaluated using a microscope (Keyence Corporation's digital microscope VH5500, set magnification 100 times). The results are shown in Table 1. Note that "0/100" indicates that the number of peeled meshes is 0, and the adhesion between the alignment layer (positive C layer) and the positive A layer is the best, and "100/100" indicates that all meshes have peeled off, and the adhesion between the alignment layer (positive C layer) and the positive A layer is poor.

1-3.転写作業性
実施例及び比較例の光学積層体(実施例及び比較例の光学積層体の中間体の配向層(ポジティブC層)及びポジティブA層をガラスに転写した積層体)に関して、ポジティブA層とポジティブC層との界面で剥離が生じているか否かをマイクロスコープ(キーエンス社製デジタルマイクロスコープVH5500、設定倍率100倍)で評価した。剥離が確認できないものを「A」、剥離が確認できたものを「C」とした。結果を表1に示す。
1-3. Transferability The optical laminates of the Examples and Comparative Examples (laminates in which the alignment layer (positive C layer) and positive A layer of the intermediates of the optical laminates of the Examples and Comparative Examples were transferred to glass) were evaluated using a microscope (Keyence Corporation digital microscope VH5500, set magnification 100x) to see whether peeling occurred at the interface between the positive A layer and the positive C layer. Those in which peeling was not observed were rated "A," and those in which peeling was observed were rated "C." The results are shown in Table 1.

2.配向層の化合物の合成
2-1.実施例で用いる化合物の合成
(単量体1)
4,4’-ビフェニルジオールと2-クロロエタノールを、アルカリ条件下で加熱することにより、4-ヒドロキシ-4’-ヒドロキシエトキシビフェニルを合成した。この生成物に、アルカリ条件下で1,6-ジブロモヘキサンを反応させ、4-(6-ブロモヘキシルオキシ)-4’-ヒドロキシエトキシビフェニルを合成した。次いで、リチウムメタクリレートを反応させ、下記の化学式(30)で示される単量体1を合成した。
2. Synthesis of compounds for alignment layer 2-1. Synthesis of compounds used in the examples (monomer 1)
4-Hydroxy-4'-hydroxyethoxybiphenyl was synthesized by heating 4,4'-biphenyldiol and 2-chloroethanol under alkaline conditions. This product was reacted with 1,6-dibromohexane under alkaline conditions to synthesize 4-(6-bromohexyloxy)-4'-hydroxyethoxybiphenyl. Then, lithium methacrylate was reacted to synthesize Monomer 1 represented by the following chemical formula (30).

(単量体2)
単量体1に、塩基性の条件下において、塩化シンナモイルを加え、下記の化学式(31)で示される単量体2を合成した。
(Monomer 2)
Cinnamoyl chloride was added to Monomer 1 under basic conditions to synthesize Monomer 2 represented by the following chemical formula (31).

(重合体1)
単量体1と単量体2をモル比3:7でテトラヒドロフラン中に溶解し、反応開始剤としてAIBN(アゾビスイソブチロニトリル)を添加して、70℃で24時間重合することにより感光性の重合体1を得た。この重合体1は液晶性を呈した。
(Polymer 1)
Monomer 1 and monomer 2 were dissolved in tetrahydrofuran in a molar ratio of 3:7, and AIBN (azobisisobutyronitrile) was added as a reaction initiator, followed by polymerization at 70° C. for 24 hours to obtain a photosensitive polymer 1. This polymer 1 exhibited liquid crystallinity.

2-2.比較例で用いる化合物の準備
比較例の配向膜にはポリシンナメート系化合物を含有する配向膜形成組成物を使用した。
2-2. Preparation of Compounds Used in Comparative Examples For the alignment film of the comparative examples, an alignment film-forming composition containing a polycinnamate compound was used.

3.ポジティブA層の化合物の合成
特開2019-73712号公報の実施例の製造例10の記載に準じて、下記の硫黄原子を含む化合物a(化学式(5)の化合物)を合成した。
3. Synthesis of Compound for Positive A Layer According to the description of Production Example 10 in the Examples of JP-A-2019-73712, the following compound a containing a sulfur atom (compound represented by chemical formula (5)) was synthesized.

4.光学積層体の作製
[実施例1]
上記2-1で得た重合体1をシクロヘキサノンに溶解し、光重合開始剤(東京化成社の4、4’-ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン)を添加し、ポジティブC層用塗布液1を調製した。ポジティブC層用塗布液1中の光重合開始剤の含有量は、100質量部の重合体1に対して2重量部とした。
基材(厚み100μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、製品名「A4100」、東洋紡社)上に、ポジティブC層用塗布液1をミヤバーを用いて0.6μmの厚みとなるよう塗布し、室温(約25℃)で乾燥した。次いで、130℃まで加熱した後冷却し、ホメオトロピック配向層であるポジティブC層を形成した。ポジティブC層のRe(550)は3.2nm、Rth(550)は-73nmであった。
次いで、ポジティブC層に直線偏光性紫外線(高圧水銀灯の光を、グランテラープリズムを介して直線偏光性を付与してなる紫外線)を15秒間照射し、重合体1の感光性基の光反応を異方的に進行させた。
次いで、ポジティブC層上に、下記のポジティブA層用塗布液1を硬化後の厚みが2μmになるように塗布し、成膜した。その後、120℃で60秒間乾燥させた後に、Fusion社製のHバルブを用いて、紫外線(非偏光の紫外線)を照射量400mJ/cmで照射し、ポジティブA層を形成し、実施例1の光学積層体の中間体を得た。ポジティブA層のRe(550)は161nm、積層体のRth(550)は-5nmであった。
次いで、ガラス基材上に透明粘着剤層(パナック社製、商品名:パナクリーンPD-S1、厚み25μm)を形成し、実施例及び比較例の光学積層体のポジティブA層側の面を当該透明粘着剤層に貼り合わせた。次いで、剥離可能な基材(PETフィルム)を剥離し、ガラス基材、透明粘着剤層、ポジティブA層、ポジティブC層をこの順に有する、実施例1の光学積層体を得た。光学積層体は、Re(450)が136nm、Re(550)が161nm、Re(650)が164nm、Rth(550)が-5nmであった。
4. Preparation of optical laminate [Example 1]
The polymer 1 obtained in 2-1 above was dissolved in cyclohexanone, and a photopolymerization initiator (4,4'-bis(diethylamino)benzophenone from Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added to prepare a coating solution for a positive C layer 1. The content of the photopolymerization initiator in the coating solution for a positive C layer 1 was 2 parts by weight per 100 parts by weight of the polymer 1.
On a substrate (a 100 μm-thick polyethylene terephthalate (PET) film, product name "A4100", Toyobo Co., Ltd.), the coating solution 1 for the positive C layer was applied to a thickness of 0.6 μm using a Mayer bar, and dried at room temperature (about 25° C.). Next, the coating solution was heated to 130° C. and then cooled to form a positive C layer, which is a homeotropic alignment layer. The Re(550) of the positive C layer was 3.2 nm, and the Rth(550) was −73 nm.
Next, the positive C layer was irradiated with linearly polarized ultraviolet light (ultraviolet light obtained by linearly polarizing light obtained by passing light from a high-pressure mercury lamp through a Glan-Teller prism) for 15 seconds, thereby causing the photoreaction of the photosensitive group of polymer 1 to proceed anisotropically.
Next, the following coating solution 1 for positive A layer was applied onto the positive C layer so that the thickness after curing was 2 μm, forming a film. After that, it was dried at 120° C. for 60 seconds, and then irradiated with ultraviolet light (non-polarized ultraviolet light) at an irradiation dose of 400 mJ/cm 2 using an H bulb manufactured by Fusion, to form a positive A layer, and an intermediate of the optical laminate of Example 1 was obtained. The Re(550) of the positive A layer was 161 nm, and the Rth(550) of the laminate was −5 nm.
Next, a transparent adhesive layer (manufactured by PANAC, product name: Panaclean PD-S1, thickness 25 μm) was formed on the glass substrate, and the surface of the positive A layer side of the optical laminate of the examples and comparative examples was attached to the transparent adhesive layer. Next, the peelable substrate (PET film) was peeled off to obtain the optical laminate of Example 1 having the glass substrate, the transparent adhesive layer, the positive A layer, and the positive C layer in this order. The optical laminate had Re(450) of 136 nm, Re(550) of 161 nm, Re(650) of 164 nm, and Rth(550) of -5 nm.

<ポジティブA層用塗布液1>
・上記3で得た硫黄原子を含む化合物a 100質量部
・光重合開始剤 4質量部
(2-メチル-1-(4-メチルチオフェニル)-2-モルフォリノプロパン-1-オン、IGM Resins B.V.社、商品名「Omnirad 907」)
・トルエン 70質量部
・シクロヘキサノン 30質量部
<Positive A layer coating solution 1>
100 parts by mass of the compound a containing a sulfur atom obtained in 3 above; 4 parts by mass of a photopolymerization initiator (2-methyl-1-(4-methylthiophenyl)-2-morpholinopropan-1-one, IGM Resins BV, product name "Omnirad 907")
Toluene 70 parts by weight Cyclohexanone 30 parts by weight

[比較例1]
ポジティブC層用塗布液1を、下記のポジティブC層用塗布液2に変更した以外は、実施例1と同様にして、比較例1の光学積層体を得た。比較例1のポジティブC層は、Re(550)が0.5nm、Rth(550)が-0.2nmであった。
[Comparative Example 1]
An optical laminate of Comparative Example 1 was obtained in the same manner as in Example 1, except that the coating solution 1 for the positive C layer was changed to the following coating solution 2 for the positive C layer. The positive C layer of Comparative Example 1 had an Re(550) of 0.5 nm and an Rth(550) of −0.2 nm.

<ポジティブC層用塗布液2>
・重合性液晶化合物 4質量部
(ポリシンナメート系化合物)
・プロピレングリコールモノメチルエーテル 96質量部
<Positive C layer coating solution 2>
Polymerizable liquid crystal compound: 4 parts by weight (polycinnamate compound)
Propylene glycol monomethyl ether 96 parts by mass

実施例の結果から、実施例の光学積層体は、配向層とポジティブA層とが直接積層されてなるため、薄型化に寄与し得るものであり、かつ、配向層とポジティブA層との密着性に優れたものであることが確認できる。 The results of the examples confirm that the optical laminate of the examples can contribute to a thinner product because the alignment layer and the positive A layer are directly laminated together, and that the alignment layer and the positive A layer have excellent adhesion to each other.

10:基材
20:配向層
30:ポジティブA層
50:偏光子
61:透明保護板A
62:保護保護板B
100:光学積層体
200:偏光板
300:表示素子
500:表示パネル
10: Substrate 20: Orientation layer 30: Positive A layer 50: Polarizer 61: Transparent protective plate A
62: Protective protective plate B
100: Optical laminate 200: Polarizing plate 300: Display element 500: Display panel

Claims (11)

配向層及びポジティブA層を有する光学積層体であって、
前記配向層と前記ポジティブA層とが接してなり、
前記ポジティブA層は化合物aを含み、
前記配向層は、前記ポジティブA層から移行してなる前記化合物aと、その他の化合物とを含み、
前記化合物aは、前記その他の化合物が実質的に含有しない原子Xを含み、
前記ポジティブA層内の前記原子Xの平均検出量を質量基準で100と規格化したときに、前記配向層内の前記原子Xの平均検出量が23以上50以下であり、
前記配向層内の前記原子Xの検出量が下記の条件1を満たす、光学積層体。
(条件1)
前記配向層内の前記原子Xの量を、前記配向層と前記ポジティブA層との界面から厚み方向に200nmの位置において、前記界面と平行な方向に26nmごとに100箇所で検出する。前記100箇所の前記原子Xの検出量の質量基準の変動係数が0.16以上である。
An optical stack having an orientation layer and a positive A layer,
the alignment layer and the positive A layer are in contact with each other,
The positive A layer contains compound a,
the alignment layer contains the compound a transferred from the positive A layer and other compounds,
The compound a contains an atom X that is not substantially contained in the other compounds,
When the average detectable amount of the atom X in the positive A layer is normalized to 100 on a mass basis, the average detectable amount of the atom X in the alignment layer is 23 or more and 50 or less;
An optical laminate , wherein the amount of the atom X detected in the alignment layer satisfies the following condition 1 .
(Condition 1)
The amount of the atom X in the alignment layer is detected at 100 points every 26 nm in a direction parallel to the interface at a position 200 nm in the thickness direction from the interface between the alignment layer and the positive A layer. The mass-based coefficient of variation of the amount of the atom X detected at the 100 points is 0.16 or more.
配向層及びポジティブA層を有する光学積層体であって、An optical stack having an orientation layer and a positive A layer,
前記配向層と前記ポジティブA層とが接してなり、the alignment layer and the positive A layer are in contact with each other,
前記ポジティブA層は化合物aを含み、The positive A layer contains compound a,
前記配向層は、前記ポジティブA層から移行してなる前記化合物aと、その他の化合物とを含み、the alignment layer contains the compound a transferred from the positive A layer and other compounds,
前記化合物aは、前記その他の化合物が実質的に含有しない原子Xを含み、The compound a contains an atom X that is not substantially contained in the other compounds,
前記ポジティブA層内の前記原子Xの平均検出量を質量基準で100と規格化したときに、前記配向層内の前記原子Xの平均検出量が23以上50以下であり、When the average detectable amount of the atom X in the positive A layer is normalized to 100 on a mass basis, the average detectable amount of the atom X in the alignment layer is 23 or more and 50 or less;
前記ポジティブA層内及び前記配向層内の前記原子Xの検出量が下記の条件2を満たす、光学積層体。An optical laminate, wherein the amount of the atom X detected in the positive A layer and the alignment layer satisfies the following condition 2.
(条件2)(Condition 2)
前記ポジティブA層内の前記原子Xの量を、前記ポジティブA層と前記配向層との界面から厚み方向に200nmの位置において、前記界面と平行な方向に26nmごとに100箇所で検出する。検出した前記原子Xの質量基準の変動係数をCV1と定義する。The amount of the atom X in the positive A layer is detected at 100 points every 26 nm in a direction parallel to the interface at a position 200 nm in the thickness direction from the interface between the positive A layer and the alignment layer. The mass-based coefficient of variation of the detected atom X is defined as CV1.
前記配向層内の前記原子Xの量を、前記配向層と前記ポジティブA層との界面から厚み方向に200nmの位置において、前記界面と平行な方向に26nmごとに100箇所で検出する。検出した前記原子Xの質量基準の変動係数をCV2と定義する。The amount of the atom X in the alignment layer is detected at 100 points every 26 nm in a direction parallel to the interface at a position 200 nm in the thickness direction from the interface between the alignment layer and the positive A layer. The mass-based coefficient of variation of the detected atom X is defined as CV2.
前記CV1と前記CV2との比(CV2/CV1)が2.00以上を示す。The ratio of the CV1 to the CV2 (CV2/CV1) is 2.00 or more.
前記原子Xが硫黄原子である、請求項1又は2に記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 1 or 2 , wherein the atom X is a sulfur atom. 前記化合物aが、前記原子Xとしての硫黄原子を含む重合性液晶化合物である、請求項1~の何れかに記載の光学積層体。 4. The optical laminate according to claim 1 , wherein the compound a is a polymerizable liquid crystal compound containing a sulfur atom as the atom X. 前記配向層がポジティブC層である、請求項1~の何れかに記載の光学積層体。 The optical laminate according to any one of claims 1 to 4 , wherein the alignment layer is a positive C layer. 前記その他の化合物が、感光性基を有する液晶化合物を含む、請求項1~の何れかに記載の光学積層体。 The optical laminate according to any one of claims 1 to 5 , wherein the other compounds include a liquid crystal compound having a photosensitive group. 前記配向層の波長550nmにおける厚み方向の位相差をRth(550)と定義した際に、Rth(550)が-100nm~-50nmである、請求項1~に記載の光学積層体。 7. The optical laminate according to claim 1 , wherein, when the retardation in the thickness direction of the alignment layer at a wavelength of 550 nm is defined as Rth(550), Rth(550) is −100 nm to −50 nm. 前記光学積層体の波長450nmにおける面内位相差をRe(450)、前記光学積層体の波長550nmにおける面内位相差をRe(550)、前記光学積層体の波長650nmにおける面内位相差をRe(650)と定義した際に、下記式(A)の関係を満たす、請求項1~の何れかに記載の光学積層体。
Re(450)<Re(550)<Re(650) (A)
The optical laminate according to any one of claims 1 to 7, wherein the in-plane retardation of the optical laminate at a wavelength of 450 nm is defined as Re(450), the in-plane retardation of the optical laminate at a wavelength of 550 nm is defined as Re(550), and the in-plane retardation of the optical laminate at a wavelength of 650 nm is defined as Re( 650 ), and the relationship of the following formula (A) is satisfied.
Re(450)<Re(550)<Re(650) (A)
偏光子と、前記偏光子の一方の側に配置されてなる透明保護板Aと、前記偏光子の他方の側に配置されてなる透明保護板Bとを有する偏光板であって、前記透明保護板A及び前記透明保護板Bの何れか一方が、請求項1~のいずれかに記載の光学積層体である、偏光板。 A polarizing plate having a polarizer, a transparent protective plate A arranged on one side of the polarizer, and a transparent protective plate B arranged on the other side of the polarizer, wherein either the transparent protective plate A or the transparent protective plate B is an optical laminate according to any one of claims 1 to 8 . 表示素子の光出射面上に、請求項1~のいずれかに記載の光学積層体を配置してなる、表示パネル。 A display panel comprising the optical laminate according to any one of claims 1 to 8 disposed on a light exit surface of a display element. 請求項10に記載の表示パネルを備えてなる、画像表示装置。 An image display device comprising the display panel according to claim 10 .
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