JP7462555B2 - 湾曲した反射型偏光子フィルム及び成形方法 - Google Patents

湾曲した反射型偏光子フィルム及び成形方法 Download PDF

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Description

反射型偏光子フィルムなどの光学フィルムは、様々な光学システムで使用される。場合によっては、光学フィルムは湾曲していてもよい。
本明細書のいくつかの態様では、交互配置された複数のポリマー層を含む光学フィルムを成形する方法が提供される。この方法は、光学フィルムの外周の少なくとも一部分を第１の平面内に固定して、固定された部分が互いに対して移動しないようにする工程と、光学フィルムの半径方向及び円周方向での延伸の一方が光学フィルムの中心から外周まで実質的に一定となり、かつ光学フィルムの半径方向及び円周方向での延伸の他方が光学フィルムの中心から外周まで実質的に変化するように、光学フィルムの一部分を第１の平面に垂直な少なくとも第１の方向に沿って変位させることによって、光学フィルムを延伸させる工程と、を含む。
本明細書のいくつかの態様では、交互配置された複数のポリマー層を備える光学フィルムを成形する方法が提供される。この方法は、光学フィルムの少なくとも第１の部分が湾曲した成形型表面に隣接する第１の平面内に実質的に配置されるように、光学フィルムを配置する工程と、光学フィルムを延伸させて、光学フィルムの第１の部分を湾曲した成形型表面の少なくとも一部分に適合させ、第１の部分の各点が、延伸する工程の前の第１の平面内の点の位置に頂点を有する円錐内にある湾曲した表面上の位置を有するようにする工程であって、円錐が、第１の平面に垂直な軸に沿って中心があり、１０度以下の円錐角を有する、工程と、を含む。
本明細書のいくつかの態様では、本明細書の方法によって成形された光学フィルムは、反射型偏光子である。本明細書のいくつかの態様では、光学フィルムを成形する本明細書に記載の方法から得られる成形された反射型偏光子が提供される。
本明細書のいくつかの態様では、湾曲した反射型偏光子が提供される。反射型偏光子は、少なくとも直交する第１及び第２の方向に沿って延伸され成形されて、湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置が、第１及び第２の方向のそれぞれに沿って、約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する、複数のポリマー層を備える。所定の波長を有する垂直入射光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約７０％より大きい最大反射率、及び直交する通過偏光状態について約７０％より大きい最大透過率を有する。反射型偏光子の厚さは、少なくとも１つの縁部位置よりも反射型偏光子の中心において少なくとも５％大きい。反射型偏光子の厚さは、反射型偏光子の中心から少なくとも１つの縁部位置まで実質的に単調に減少する。
本明細書のいくつかの態様では、湾曲した反射型偏光子が提供される。反射型偏光子は、少なくとも直交する第１及び第２の方向に沿って延伸され成形されて、湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置が、第１及び第２の方向のそれぞれに沿って、約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する、複数のポリマー層を備える。所定の波長を有する垂直入射光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約７０％より大きい最大反射率、及び直交する通過偏光状態について約７０％より大きい最大透過率を有する。反射型偏光子の厚さは、少なくとも１つの縁部位置よりも反射型偏光子の中心において少なくとも５％小さい。反射型偏光子の厚さは、反射型偏光子の中心から少なくとも１つの縁部位置まで実質的に単調に増加する。
本明細書のいくつかの態様では、湾曲した反射型偏光子が提供される。反射型偏光子は、少なくとも直交する第１及び第２の方向に沿って延伸され成形されて、湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置が、第１及び第２の方向のそれぞれに沿って、約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する、複数のポリマー層を備える。第１の反射帯域内の所定の波長を有する入射光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約７０％より大きい最大反射率及び約５％未満の対応する最小透過率、並びに直交する通過偏光状態について約７０％より大きい最大透過率を有する。第１の反射帯域は、少なくとも１つの縁部位置よりも反射型偏光子の中心において少なくとも５％大きい長波長帯域端を有する。反射型偏光子の長波長帯域端は、反射型偏光子の中心から少なくとも１つの縁部位置まで実質的に単調に減少する。
本明細書のいくつかの態様では、湾曲した反射型偏光子が提供される。反射型偏光子は、少なくとも直交する第１及び第２の方向に沿って延伸され成形されて、湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置が、第１及び第２の方向のそれぞれに沿って、約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する、複数のポリマー層を備える。第１の反射帯域内の所定の波長を有する入射光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約７０％より大きい最大反射率及び約５％未満の対応する最小透過率、並びに直交する通過偏光状態について約７０％より大きい最大透過率を有する。第１の反射帯域は、少なくとも１つの縁部位置よりも反射型偏光子の中心において少なくとも５％小さい長波長帯域端を有する。反射型偏光子の長波長帯域端は、反射型偏光子の中心から少なくとも１つの縁部位置まで実質的に単調に増加する。
本明細書のいくつかの態様では、湾曲した反射型偏光子が提供される。反射型偏光子は、交互配置された複数のポリマー干渉層を備える。各ポリマー干渉層は、主に光干渉によって光を反射又は透過する。湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置は、約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する。所定の波長を有し、中心位置において反射型偏光子に垂直な、かつ反射型偏光子を通過する軸に平行な方向に沿って反射型偏光子に入射する光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約７０％より大きい最大反射率、直交する通過偏光状態について約７０％より大きい最大透過率、及びブロック偏光状態について最小透過率を有し、反射型偏光子の中心位置で互いに交差する直交する第１の軸及び第２の軸、並びに反射型偏光子の中心位置で互いに交差する直交する第３の軸及び第４の軸に関して、第１の軸と第３の軸との間の角度は、約４５度であり、ブロック偏光状態に対する反射型偏光子の最小透過率は、反射型偏光子の中心位置と第１の縁部との間の第１の軸に沿った第１の位置では、Ｔ１であり、反射型偏光子の中心位置と第２の縁部との間の第２の軸に沿った第２の位置では、Ｔ２であり、反射型偏光子の中心位置と第３の縁部との間の第３の軸に沿った第３の位置では、Ｔ３であり、反射型偏光子の中心位置と第４の縁部との間の第４の軸に沿った第４の位置では、Ｔ４であるようになっている。Ｔ１及びＴ２の最大値は、Ｔ３及びＴ４の最小値未満である。
本明細書のいくつかの態様では、湾曲した反射型偏光子が提供される。反射型偏光子は、交互配置された複数のポリマー干渉層を備える。各ポリマー干渉層は、主に光干渉によって光を反射又は透過する。湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置は、約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する。所定の波長を有し、中心位置において反射型偏光子に垂直な、かつ反射型偏光子を通過する軸に平行な方向に沿って反射型偏光子に入射する光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約７０％より大きい最大反射率、直交する通過偏光状態について約７０％より大きい最大透過率、及びブロック偏光状態について最小透過率を有する。反射型偏光子の異なる第１の縁部と第２の縁部との間に延びる、反射型偏光子の最大横寸法の少なくとも３％の最小幅を有し、かつ反射型偏光子の分離した第２及び第３の部分を画定する、反射型偏光子の連続する第１の部分に関して、ブロック偏光状態に対する反射型偏光子の最小透過率は、第２の部分の少なくとも７０％内の各位置及び第３の部分の少なくとも７０％内の各位置よりも第１の部分の少なくとも７０％内の各位置において高い。
本明細書のいくつかの態様では、複数のポリマー層を備える湾曲した反射型偏光子が提供される。湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置は、約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する。所定の波長を有し、中心位置において反射型偏光子に垂直な、かつ反射型偏光子を通過する光軸に平行な方向に沿って反射型偏光子に入射する光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約０．７より大きい最大反射率、直交する通過偏光状態について約０．７より大きい最大透過率、及びブロック偏光状態について最小透過率を有する。光軸からの半径Ｒ内の反射型偏光子の領域は、約０．００１～約０．００５の範囲のブロック偏光状態の最小透過率の最大変動を有する。反射型偏光子は、光軸からの最大半径Ｒｍを有し、Ｒは、Ｒｍの０．４～０．７倍の範囲である。
本明細書のいくつかの態様では、複数のポリマー層を備える湾曲した反射型偏光子が提供される。湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置は、約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する。所定の波長を有し、かつ、中心位置において反射型偏光子に垂直な、かつ反射型偏光子を通過する軸に平行な方向に沿って反射型偏光子に入射する光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約０．７より大きい最大反射率、及び直交する通過偏光状態について約０．７より大きい最大透過率を有する。少なくとも１つの第１及び第２の位置の通過偏光状態に対する最大透過率は、少なくとも３．８％だけ互いに異なり、少なくとも１つの第１及び第２の位置は、反射型偏光子の縁部付近にあり、中心位置において約７０度～約１１０度の範囲の角度を画定する。
本明細書のいくつかの態様では、複数のポリマー層を備える湾曲した反射型偏光子が提供される。湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置は、約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する。所定の波長を有し、かつ、中心位置において反射型偏光子に垂直な、かつ反射型偏光子を通過する軸に平行な方向に沿って反射型偏光子に入射する光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約０．７より大きい最大反射率、及び直交する通過偏光状態について約０．７より大きい最大透過率を有する。少なくとも１つの第１及び第２の位置であって、反射型偏光子の中心位置付近の少なくとも１つの第１の位置及び縁部付近の少なくとも１つの第２の位置の通過偏光状態に対する最大透過率は、少なくとも３．８％だけ互いに異なる。
本明細書のいくつかの態様では、複数のポリマー層を備える湾曲した反射型偏光子が提供される。湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置は、約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する。所定の波長を有し、中心位置において反射型偏光子に垂直な、かつ反射型偏光子を通過する軸に平行な方向に沿って反射型偏光子に入射する光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約７０％より大きい最大反射率、及び直交する通過偏光状態について約７０％より大きい最大透過率を有する。平面視で、中心を実質的に中心にした実質的に矩形の領域内の位置の少なくとも７０％のそれぞれにおける通過偏光状態に対する最大透過率は、反射型偏光子の中心における通過偏光状態に対する最大透過率の１．５％以内であり、実質的に矩形の領域の外側の反射型偏光子の位置の少なくとも大部分の通過偏光状態に対する最大透過率は、反射型偏光子の中心における通過偏光状態に対する最大透過率よりも少なくとも１．５％低い。
本明細書のいくつかの態様では、交互配置された複数のポリマー干渉層を備える湾曲した反射型偏光子が提供される。各ポリマー干渉層は、主に光干渉によって光を反射又は透過する。湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置は、約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する。所定の波長を有する光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約７０％より大きい最大反射率、直交する通過偏光状態について約７０％より大きい最大透過率、及びブロック偏光状態に対する最小透過率を有する。反射型偏光子の中心位置で互いに交差する直交する第１の軸及び第２の軸に関して、通過偏光状態に対する反射型偏光子の最大透過率は、中心位置では、Ｔｃであり、反射型偏光子の第１の縁部付近の第１の軸に沿った第１の縁部位置では、Ｔ１であり、反射型偏光子の第１の縁部の反対側の第２の縁部付近の第１の軸に沿った第２の縁部位置では、Ｔ２であり、反射型偏光子の第３の縁部付近の第２の軸に沿った第３の縁部位置では、Ｔ３であり、反射型偏光子の第３の縁部の反対側の第４の縁部付近の第２の軸に沿った第４の縁部位置では、Ｔ４である。Ｔｃは、Ｔ１及びＴ２の最大値より大きく、Ｔ３及びＴ４の最小値未満である。
本明細書のいくつかの態様では、湾曲した反射型偏光子が提供される。反射型偏光子は、少なくとも直交する第１及び第２の方向に沿って延伸され成形されて、湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置が、第１及び第２の方向のそれぞれに沿って、約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する、複数のポリマー層を備える。所定の波長を有し、かつ、中心位置において反射型偏光子に垂直な、かつ反射型偏光子を通過する軸に平行な方向に沿って反射型偏光子に入射する光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約７０％より大きい最大反射率、及び約５％未満の対応する最小透過率を有する。反射型偏光子の中心において反射型偏光子に接する平面上への投影で、少なくとも１つの第１の縁部位置のブロック偏光状態は、反射型偏光子の中心におけるブロック偏光状態から時計回りに回転され、少なくとも１つの第２の縁部位置のブロック偏光状態は、反射型偏光子の中心におけるブロック偏光状態から反時計回りに回転され、少なくとも１つの第１及び第２の縁部位置は、反射型偏光子の中心において約７０度～約１１０度の範囲の角度を画定する。
本明細書のいくつかの態様では、湾曲した反射型偏光子が提供される。反射型偏光子は、少なくとも直交する第１及び第２の方向に沿って延伸され成形されて、湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置が、第１及び第２の方向のそれぞれに沿って、約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する、複数のポリマー層を備える。所定の波長を有し、かつ、反射型偏光子の中心において反射型偏光子に垂直な、かつ反射型偏光子を通過する軸に平行な方向に沿って反射型偏光子に入射する光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約７０％より大きい最大反射率、及び約５％未満の対応する最小透過率を有する。反射型偏光子の中心において反射型偏光子に接する平面上への投影で、少なくとも１つの第１及び第２の縁部位置のブロック偏光状態は、互いに対して２度より大きく回転され、少なくとも１つの第１及び第２の縁部位置は、反射型偏光子の中心において約７０度～約１１０度の範囲の角度を画定する。
本明細書のいくつかの態様では、湾曲した反射型偏光子が提供される。反射型偏光子は、少なくとも直交する第１及び第２の方向に沿って延伸され成形されて、湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置が、第１及び第２の方向のそれぞれに沿って、約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する、複数のポリマー層を備える。所定の波長を有し、かつ、反射型偏光子の中心において反射型偏光子に垂直な、かつ反射型偏光子を通過する光軸に平行な方向に沿って反射型偏光子に入射する光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約７０％より大きい最大反射率、及び約５％未満の対応する最小透過率を有し、光軸から半径Ｒ内の反射型偏光子の領域は、反射型偏光子の中心において反射型偏光子に接する平面上への投影におけるブロック偏光状態の最大変動が、Ｒ１未満のＲに対して約１度未満であり、Ｒ２より大きいＲに対して、約２度より大きくなっている。反射型偏光子は、光軸からの最大半径Ｒｍを有する。Ｒ１は、少なくとも０．４Ｒｍであり、Ｒ２は、Ｒ１より大きく、かつ０．９５Ｒｍ以下である。
本明細書のいくつかの態様では、交互配置された複数のポリマー干渉層を備える湾曲した反射型偏光子が提供される。各ポリマー干渉層は、主に光干渉によって光を反射又は透過する。湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置は、約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する。所定の波長を有し、かつ、反射型偏光子の中心において反射型偏光子に垂直な、かつ反射型偏光子を通過する光軸に平行な方向に沿って反射型偏光子に入射する光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約７０％より大きい最大反射率、直交する通過偏光状態について約７０％より大きい最大透過率、及び円形減衰を有する。反射型偏光子の中心位置で互いに交差する直交する第１の軸及び第２の軸に関して、反射型偏光子の円形減衰は、中心位置では、ＣＤｃであり、反射型偏光子の第１の縁部付近の第１の軸に沿った第１の縁部位置では、ＣＤ１であり、反射型偏光子の第１の縁部の反対側の第２の縁部付近の第１の軸に沿った第２の縁部位置では、ＣＤ２であり、反射型偏光子の第３の縁部付近の第２の軸に沿った第３の縁部位置では、ＣＤ３であり、反射型偏光子の第３の縁部の反対側の第４の縁部付近の第２の軸に沿った第４の縁部位置では、ＣＤ４である。ＣＤｃは、ＣＤ３及びＣＤ４の最小値未満であり、ＣＤ１及びＣＤ１の最大値よりも大きい。
本明細書のいくつかの態様では、湾曲した反射型偏光子が提供される。反射型偏光子は、少なくとも直交する第１及び第２の方向に沿って延伸され成形されて、湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置が、第１及び第２の方向のそれぞれに沿って、約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する、複数のポリマー層を備える。所定の波長を有し、かつ、反射型偏光子の中心において反射型偏光子に垂直な、かつ反射型偏光子を通過する光軸に平行な方向に沿って反射型偏光子に入射する光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約７０％より大きい最大反射率、及び約５％未満の対応する最小透過率を有する。反射型偏光子の総面積以下の面積を有する反射型偏光子の領域は、少なくとも０．０４である円形減衰の最大変動を有する。
本明細書のいくつかの態様では、湾曲した反射型偏光子が提供される。反射型偏光子は、少なくとも直交する第１及び第２の方向に沿って延伸され成形されて、湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置が、第１及び第２の方向のそれぞれに沿って、約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する、複数のポリマー層を備える。所定の波長を有し、かつ、反射型偏光子の中心において反射型偏光子に垂直な、かつ反射型偏光子を通過する光軸に平行な方向に沿って反射型偏光子に入射する光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約７０％より大きい最大反射率、及び約５％未満の対応する最小透過率を有し、反射型偏光子の総面積の半分より大きい面積を有する反射型偏光子の領域が有する円形減衰の最大変動は、０．０１５以下になっている。
本明細書のいくつかの態様では、湾曲した反射型偏光子が提供される。反射型偏光子は、少なくとも直交する第１及び第２の方向に沿って延伸され成形されて、湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置が、第１及び第２の方向のそれぞれに沿って、約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する、複数のポリマー層を備える。所定の波長を有し、かつ、反射型偏光子の中心において反射型偏光子に垂直な、かつ反射型偏光子を通過する光軸に平行な方向に沿って反射型偏光子に入射する光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約７０％より大きい最大反射率、及び約５％未満の対応する最小透過率を有し、反射型偏光子の総面積の半分より大きい面積を有する反射型偏光子の領域が有する円形減衰の最大絶対値は、０．００７以下になっている。
本明細書のいくつかの態様では、湾曲した反射型偏光子が提供される。反射型偏光子は、少なくとも直交する第１及び第２の方向に沿って延伸され成形されて、湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置が、第１及び第２の方向のそれぞれに沿って、約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する、複数のポリマー層を備える。所定の波長を有し、かつ、反射型偏光子の中心において反射型偏光子に垂直な、かつ反射型偏光子を通過する光軸に平行な方向に沿って反射型偏光子に入射する光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約７０％より大きい最大反射率、及び約５％未満の対応する最小透過率を有し、光軸から半径Ｒ内の反射型偏光子の領域が有する、反射型偏光子の中心において反射型偏光子に接する平面上への投影におけるブロック偏光状態の最大変動が、０．８Ｒｍ未満のＲに対して約１度未満になっている。
光学フィルムの概略断面図である。 光学フィルムの概略正面図である。 湾曲した成形型表面を有する第１の成形型の概略断面図である。 図３Ａの第１の成形型と第２の成形型との間に配置された光学フィルムの概略断面図である。 図３Ａの第１の成形型と第２の成形型との間に配置された光学フィルムの概略断面図である。 第１の成形型の湾曲した成形型表面に適合する、図３Ｂ～図３Ｃの光学フィルムの一部分を示す概略断面図である。 図３Ｄに示す形成された光学フィルムの概略断面図である。 湾曲した成形型表面を有する第１の成形型の概略断面図である。 光学フィルムの概略上面図である。 成形型の上に配置された図４Ａの光学フィルムの概略側面図である。 光学フィルムの一部分が湾曲した成形型表面の少なくとも一部分に適合する、図４Ａ～図４Ｂの光学フィルムの概略側面図である。 成形型の上に配置された光学フィルムの概略側面図である。 成形型の概略側面図である。 湾曲した反射型偏光子の概略正面図である。 中心位置から縁部位置までの反射型偏光子の厚さの概略図である。 中心位置から縁部位置までの別の反射型偏光子の厚さの概略図である。 反射型偏光子に関する反射率対波長の概略図である。 反射型偏光子に関する透過率対波長の概略図である。 中心位置から縁部位置までの反射型偏光子の長波長帯域端の概略図である。 中心位置から縁部位置までの別の反射型偏光子の長波長帯域端の概略図である。 一体的に形成された反射型偏光子の概略断面図である。 正面平面視での反射型偏光子の最小透過率（Ｔｍｉｎ）の概略図である。 正面平面視での反射型偏光子の最小透過率（Ｔｍｉｎ）の概略図である。 正面平面視での反射型偏光子の最小透過率（Ｔｍｉｎ）の概略図である。 反射型偏光子の概略正面図である。 反射型偏光子の中心と反射型偏光子に垂直な反射型偏光子の中心を通過する光軸からの半径Ｒとの間の反射型偏光子の領域内のＴｍｉｎの最大変動の概略図である。 ブロック偏光状態のあり得る変動を示す反射型偏光子の概略正面平面図である。 ブロック偏光状態のあり得る変動を示す反射型偏光子の概略正面平面図である。 反射型偏光子の中心と反射型偏光子に垂直な反射型偏光子の中心を通過する光軸からの半径Ｒとの間の反射型偏光子の領域内のブロック軸配向の最大変動の概略図である。 正面平面視での反射型偏光子の最大透過率（Ｔｍａｘ）のあり得るパターンを概略的に示す。 正面平面視での反射型偏光子の最大透過率（Ｔｍａｘ）のあり得るパターンを概略的に示す。 正面平面視での反射型偏光子の所定の波長での円形減衰の概略図である。 反射型偏光子の中心と反射型偏光子に垂直な反射型偏光子の中心を通過する光軸からの半径Ｒとの間の反射型偏光子の領域の円形減衰の最大変動の概略図である。 光学システムの概略断面図である。 光学システムの概略断面図である。 形成された反射型偏光子の厚さと形成前のその対応する厚さとの比のグラフである。 加圧プロセスで成形された光学フィルムの半径方向及び円周方向の延伸比のグラフである。 プルダウンプロセスで成形された光学フィルムの半径方向及び円周方向の延伸比のグラフである。 ５つのサンプルが反射型偏光子から切り取られた、成形された反射型偏光子の斜視図である。 加圧プロセスで成形された反射型偏光子から切り取られたサンプルのブロック状態透過率のグラフである。 プルダウンプロセスで成形された反射型偏光子から切り取られたサンプルのブロック状態透過率のグラフである。 プルダウンプロセスで成形された反射型偏光子サンプルの減衰配向のグラフである。 プルダウンプロセスで成形された反射型偏光子サンプルの減衰配向のグラフである。 プルダウンプロセスで成形された反射型偏光子サンプルの減衰配向のグラフである。 プルダウンプロセスで成形された反射型偏光子サンプルの減衰配向のグラフである。 加圧プロセスで成形された反射型偏光子サンプルの減衰配向のグラフである。 加圧プロセスで成形された反射型偏光子サンプルの減衰配向のグラフである。 加圧プロセスで成形された反射型偏光子サンプルの減衰配向のグラフである。 加圧プロセスで成形された反射型偏光子サンプルの減衰配向のグラフである。 プルダウンプロセスで成形された反射型偏光子フィルムの通過軸変動の拡大したグラフである。 加圧プロセスで成形された反射型偏光子フィルムの通過軸変動の拡大したグラフである。 反射型偏光子サンプルの減衰配向の半径Ｒを有する領域内の平均のグラフである。 反射型偏光子サンプルの減衰配向の半径Ｒを有する領域内の最大変動のグラフである。 プルダウンプロセスで成形された反射型偏光子サンプルの通過軸透過率のグラフである。 プルダウンプロセスで成形された反射型偏光子サンプルの通過軸透過率のグラフである。 プルダウンプロセスで成形された反射型偏光子サンプルの通過軸透過率のグラフである。 プルダウンプロセスで成形された反射型偏光子サンプルの通過軸透過率のグラフである。 加圧プロセスで成形された反射型偏光子サンプルの通過軸透過率のグラフである。 加圧プロセスで成形された反射型偏光子サンプルの通過軸透過率のグラフである。 加圧プロセスで成形された反射型偏光子サンプルの通過軸透過率のグラフである。 加圧プロセスで成形された反射型偏光子サンプルの通過軸透過率のグラフである。 反射型偏光子サンプルの最大通過軸透過率の半径Ｒを有する領域内の平均のグラフである。 反射型偏光子サンプルの通過軸透過率の半径Ｒを有する領域内の最大変動のグラフである。 プルダウンプロセスで成形された反射型偏光子サンプルのブロック軸透過率のグラフである。 プルダウンプロセスで成形された反射型偏光子サンプルのブロック軸透過率のグラフである。 プルダウンプロセスで成形された反射型偏光子サンプルのブロック軸透過率のグラフである。 プルダウンプロセスで成形された反射型偏光子サンプルのブロック軸透過率のグラフである。 加圧プロセスで成形された反射型偏光子サンプルのブロック軸透過率のグラフである。 加圧プロセスで成形された反射型偏光子サンプルのブロック軸透過率のグラフである。 加圧プロセスで成形された反射型偏光子サンプルのブロック軸透過率のグラフである。 加圧プロセスで成形された反射型偏光子サンプルのブロック軸透過率のグラフである。 反射型偏光子サンプルの最大ブロック軸透過率の半径Ｒを有する領域内の平均のグラフである。 反射型偏光子サンプルのブロック軸透過率の半径Ｒを有する領域内の最大変動のグラフである。 プルダウンプロセスで成形された反射型偏光子サンプルの線形減衰のグラフである。 プルダウンプロセスで成形された反射型偏光子サンプルの線形減衰のグラフである。 プルダウンプロセスで成形された反射型偏光子サンプルの線形減衰のグラフである。 プルダウンプロセスで成形された反射型偏光子サンプルの線形減衰のグラフである。 加圧プロセスで成形された反射型偏光子サンプルの線形減衰のグラフである。 加圧プロセスで成形された反射型偏光子サンプルの線形減衰のグラフである。 加圧プロセスで成形された反射型偏光子サンプルの線形減衰のグラフである。 加圧プロセスで成形された反射型偏光子サンプルの線形減衰のグラフである。 反射型偏光子サンプルの最大線形減衰の半径Ｒを有する領域内の平均のグラフである。 反射型偏光子サンプルの線形減衰の半径Ｒを有する領域内の最大変動のグラフである。 プルダウンプロセスで成形された反射型偏光子サンプルの円形減衰のグラフである。 プルダウンプロセスで成形された反射型偏光子サンプルの円形減衰のグラフである。 プルダウンプロセスで成形された反射型偏光子サンプルの円形減衰のグラフである。 プルダウンプロセスで成形された反射型偏光子サンプルの円形減衰のグラフである。 加圧プロセスで成形された反射型偏光子サンプルの円形減衰のグラフである。 加圧プロセスで成形された反射型偏光子サンプルの円形減衰のグラフである。 反射型偏光子サンプルの円形減衰の半径Ｒを有する領域内の平均のグラフである。 反射型偏光子サンプルの円形減衰の半径Ｒを有する領域内の最大変動のグラフである。 干渉層の２つのパケットを含む反射型偏光子の層厚さ対層数のグラフである。 光学積層体の概略断面図である。
以下の説明では、本明細書の一部を構成し、様々な実施形態が実例として示される、添付図面が参照される。図面は、必ずしも正確な比率の縮尺ではない。本開示の範囲又は趣旨から逸脱することなく、他の実施形態が想到され、実施可能である点を理解されたい。したがって、以下の発明を実施するための形態は、限定的な意味では解釈されないものとする。
フィルムを成形型表面上に延伸することによって光学フィルムを熱成形することが知られている。本明細書のいくつかの態様によれば、光学フィルムの延伸に対する特定の制約を提供することにより、フィルムの所望の光学特性をもたらすことができることが見出されている。いくつかの実施形態によれば、フィルムが有用な形状に延伸される際に、光学フィルムの半径方向及び円周方向の延伸のうちの一方が実質的に一定であるが、他方が実質的に一定でない、光学フィルムを成形する方法が提供される。いくつかの実施形態では、光学フィルムは、反射型偏光子である。他の実施形態では、光学フィルムは、例えば、ミラーフィルムであってもよい。半径方向での延伸が実質的に一定であるように反射型偏光子が延伸されるとき、本明細書の他の箇所で更に説明される、結果として得られる成形され湾曲した反射型偏光子の様々な特性は、いくつかの用途に望ましく、円周方向での延伸が実質的に一定であるように反射型偏光子が延伸されるとき、本明細書の他の箇所で更に説明される、結果として得られる成形され湾曲した反射型偏光子の様々な特性は、いくつかの用途に望ましいことが見出されている。半径方向での延伸を実質的に一定に保つことから得られる特性の一部は、円周方向での延伸を一定に保つことから得られる特性とは異なることがあるが、他の特性は、同様であってもよい。
光学フィルムの中心から外周までの実質的に一定の延伸は、中心から外周までの最大歪みが、中心から外周までの最小歪みよりも５％未満大きいことを意味すると理解することができる。光学フィルムの中心から外周までの実質的に変化する延伸は、中心から外周までの最大歪みが、中心から外周までの最小歪みよりも少なくとも５％大きいことを意味すると理解することができる。いくつかの実施形態では、光学フィルムの中心から外周まで実質的に一定である光学フィルムの延伸は、中心から外周まで５パーセント未満、又は４パーセント未満、又は３パーセント未満、又は２パーセント未満、又は１パーセント未満の延伸の変動を有する。いくつかの実施形態では、光学フィルムの中心から外周まで実質的に変化する光学フィルムの延伸は、中心から外周まで少なくとも５パーセント、又は少なくとも８パーセント、又は少なくとも１０パーセント、又は少なくとも１５パーセント、又は少なくとも２０パーセントの延伸の変動を有する。
光学フィルム（例えば、反射型偏光子）は、例えば、２つの直交軸周りに湾曲した形状に形成されてもよく、レンズ表面の湾曲形状を有してもよい。光学フィルムが成形された後、光学レンズは、例えば、インサート成形によって光学フィルム上に形成することができる。光学フィルムを有するレンズは、例えば、米国特許第９，５５７，５６８号（Ｏｕｄｅｒｋｉｒｋら）に記載されているものなどの屈曲光路を利用する光学システムに使用することができ、同文献は、本明細書と矛盾しない範囲で参照により本明細書に組み込まれる。そのような光学システムは、典型的には、反射型偏光子に隣接し、かつ離間した部分反射体と、部分反射体と反射型偏光子との間に配置されたリターダと、を含む。光線が部分反射体を透過し、反射型偏光子から部分反射体に向かって反射して戻り、部分反射体から反射し、次いで反射型偏光子を透過することができるため、そのような光学システムは、屈曲光路を備える。多くの場合、そのような光学システム内の反射型偏光子は、２つの直交軸周りに湾曲していることが望ましい。本明細書に記載される方法は、屈曲光学システム、又は（例えば、偏光ビームスプリッタ内のプリズムの曲面上に）湾曲した反射型偏光子が所望される他の光学システムでの使用に好適な反射型偏光子を提供することができる。反射型偏光子が２つの直交軸周りに成形された湾曲に形成される場合、反射型偏光子の様々な光学特性（例えば、ブロック偏光状態を有する光の最小透過率、ブロック軸、線形減衰、円形減衰、反射型偏光子の厚さ、及び帯域端のうちの１つ以上の位置による変動）は、典型的には、形成プロセスによって変更される。場合によっては、変更された光学特性の一部のパターンは、他のパターンよりも好ましい。どのパターンが好ましいかは、光学システムの設計に依存し得る。例えば、反射型偏光子の特性（単数又は複数）の空間的変動は、光学システム内の他の光学素子の特性の空間的変動を補償する、又は部分的に補償することができ、反射型偏光子の特性（単数又は複数）の好ましい空間的変動は、光学システム内の他の光学素子に依存し得る。
図１は、成形された光学フィルム１００の概略断面図である。光学フィルム１００は、中心１０５と、外周１０７と、境界部分１０８と、を有する。外周１０７は、例えば、光学システムで使用されるときに光学フィルム１００のアクティブ部分である、又はそれを含むことができる、光学フィルム１００の部分１０６の外周である。境界部分１０８は、外周１０７に隣接しており、光学フィルム１００が成形されるときにクランプされる、又は別の方法で固定される、光学フィルム１００の部分であってもよい。中心１０５を通過する軸１１１及び軸１１１に垂直な平面１１２が示されている。軸は、中心１０５において光学フィルム１００に対して垂直である。光学フィルム１００は、２Ｒｍの最大横寸法及びＳの最大サグを有する。光学フィルム１００の輪郭に沿った中心１０５からの半径方向距離は、ｒである。半径方向は、この半径方向距離に沿っている。円周方向は、半径方向に垂直な光学フィルムの輪郭に沿った方向である。図示した断面における円周方向は、図１のｘ－ｙ－ｚ座標系を参照して、ｙ軸に平行である。光学フィルム上の点は、半径方向弧長距離ｒを使用して、軸１１１からの円柱座標半径Ｒを使用して、又は軸１１１と光学フィルム１００の曲率中心から光学フィルム１００上の点までの線分との間の角度φを使用して、説明することができる。図示した実施形態では、光学フィルム１００は、曲率半径Ｒｃを有する。いくつかの実施形態では、光学フィルム１００は、非球面であり、ｒ又はＲにより変化する曲率半径を有する。角度φは、最大値φｍａｘを有する。いくつかの実施形態では、光学フィルムは、光学システムで使用され、軸１１１は、光学システムの光軸である。角度２φｍａｘは、光学フィルム１００の視野（field of view、ＦＯＶ）であると理解することができる。いくつかの実施形態では、光学フィルム１００の境界部分１０８は、光学システムで光学フィルム１００を使用する前に除去される。
光学フィルムの特性は、光学フィルムに垂直入射する光、又は中心位置で光学フィルムに垂直な、かつ光学フィルムを通過する軸に平行な方向に沿って光学フィルムに入射する光に対して、指定することができる。例えば、位置１１０における光学フィルム１００の特性は、位置１１０において光学フィルム１００に垂直な光１９９に対して指定されてもよく、及び／又は、軸１１１に平行な方向に沿って位置１１０において光学フィルム１００に入射する光１９８に対して指定されてもよい。場合によっては、反射型偏光子の特性は、垂直入射光１９９に対して、及び軸１１１に平行な方向に沿って光学フィルム１００に入射する光１９８に対して指定されてもよい。例えば、ブロック軸及び通過軸に沿って偏光された光に対する透過率及び反射率は、光１９９及び光１９８の両方に対して指定されてもよい。反射率及び透過率又は他の光学特性は、光学フィルム１００のいずれかの側から光学フィルム１００に入射する光に対して判定されてもよい。図示した実施形態では、光学フィルム１００は、入射光１９８及び入射光１９９に向かって凸状である。入射光の方向が指定されていない場合、光はフィルムに垂直入射すると仮定することができる。異なって示される場合を除き、透過率及び反射率又は他の光学特性は、反射型偏光子が図１に示すように入射光に向かって凸状である、反射型偏光子の側から反射型偏光子に入射する光に対して判定される。
湾曲した光学フィルムの中心位置は、基準平面から最大距離にある光学フィルム上の点とすることができ、基準平面は、光学フィルムと交差しない平面であり、光学フィルムの少なくとも大部分が基準平面に向かって凹状になるように配置され、基準平面は、光学フィルムが基準平面内に最大投影面積を有するようなものである。
図２は、２つの相互に直交する軸（ｘ軸及びｙ軸）周りに湾曲している光学フィルム２００の概略正面図である。光学フィルム２００は、中心２０５及び外周２０７を有する。半径方向２０４は、中心２０５から外周２０７に概ね向かっている。円周方向２０６は、半径方向２０４に直交している。光学フィルム２００の中心２０５は、光学フィルム２００の光軸又は光学フィルム２００を含む光学システムの光軸が光学フィルム２００と交差する位置と一致してもよい。方位角φが示されている。場合によっては、方位角平均厚さ、又は方位角平均帯域端波長などの方位角平均量の観点から、光学フィルム２００を特徴付けることが望ましい場合がある。方位角平均量は、固定半径（中心２０５からの距離）に対する方位角にわたる量の非加重平均である。方位範囲は、半径に依存し得る。例えば、図示した実施形態における小さい半径に関して、方位角φは、０～２?の範囲であり、方位角平均量は、０～２?のφにわたるその量の積分を２?で割ったものとして表すことができる。大きな半径に関して、方位角φは、０～２?の範囲のなんらかのサブセット（単数又は複数）にわたってのみ延びてもよい。例えば、図示した実施形態におけるプラス及びマイナスｘ方向の縁部付近の半径に関して、方位角φの範囲は、０及び?ラジアン周りを中心とする比較的狭い範囲である。
半径方向の延伸は、λｒ＝１＋εｒとして半径方向歪みεｒに関連する半径方向での延伸比λｒによって特徴付けられてもよい。同様に、円周方向の延伸は、λθ＝１＋εθとして円周方向歪みεθに関連する円周方向での延伸比λθによって特徴付けることができる。いくつかの実施形態では、成形される前の光学フィルムは、円板形状である、又は曲率半径Ｒｃを有する球面の部分に適合するように成形された円板形状部分を有する。軸対称変形の場合、半径方向での延伸比λｒ及び円周方向での延伸比λθは、以下の式によって関連する。
Figure 0007462555000001
 より一般的な変形では、延伸比λｒ及びλθは、式１を満たさなくてもよい。従来の熱成形方法では、λｒ及びλθの両方は、中心２０５から外周２０７まで変化する。本明細書のいくつかの実施形態によれば、形成プロセス中にλｒ及びλθの一方が実質的に一定であるが、他方が実質的に一定ではない形成プロセスを利用することが有利であることが見出されている。
いくつかの実施形態では、光学フィルム２００は、中心２０５において光学フィルム２００に対して垂直である中心２０５を通る軸周りに回転対称でなくてもよい。この場合、λｒ及びλθの一方は、中心２０５から外周２０７までの少なくとも１つの方向に沿って実質的に一定であってもよいが、他方は、実質的に一定でなくてもよい。いくつかの実施形態では、λｒ及びλθの一方は、中心２０５から外周２０７までのそれぞれの方向に沿って実質的に一定であるが、他方は、実質的に一定ではない。これは、例えば、光学フィルム２００が中心２０５を通る軸周りに回転対称である場合であってもよい。
いくつかの実施形態では、光学フィルムを成形する方法で、成形型が使用される。いくつかの実施形態では、光学フィルムの外周の少なくとも一部分は、第１の成形型の部分と第２の成形型の部分との間に光学フィルムの境界部分の少なくとも一部分を固定することによって、平面内に固定される。いくつかの実施形態では、第１の成形型は、湾曲した成形型表面を有し、圧力（例えば、空気圧）を使用して、光学フィルムの一部分を、湾曲した成形型表面に適合するように変位させる。フィルムを適切な位置に配置すること及び／又は光学フィルムの一部分を固定することは、典型的には、光学フィルムを延伸する前に予備成形される。
図３Ａは、湾曲した成形型表面３６２を有する第１の成形型３６０の概略断面図である。第１の成形型３６０は、機械加工作業によって（例えば、ダイヤモンド旋削を使用して）作製することができる。成形型３６０及び本明細書に記載される他の成形型は、例えば、アルミニウム若しくはアルミニウム合金、ステンレス鋼、工具鋼、又は他の好適な合金で作製されてもよい。いくつかの実施形態では、成形型は、空気が成形型を通って流れることを可能にする（例えば、真空を適用することによって）ために、開孔セルを含む多孔質材料（例えば、多孔質アルミニウム）から作製される。湾曲した成形型表面３６２は、最大横寸法Ｄ、最大サグＳ、及びＳ／Ｄのサグと直径との比を有する。いくつかの実施形態では、Ｓ／Ｄは、少なくとも０．０５、又は少なくとも０．１、又は少なくとも０．２であり、０．５未満又は０．４未満であってもよい。いくつかの実施形態では、湾曲した成形型表面３６２は、いくつかの実施形態では約３０ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲にある、第１のベストフィット曲率半径Ｒｓを有する。いくつかの実施形態では、サグＳと第１のベストフィット曲率半径Ｒｓとの比は、約０．０２～約０．２の範囲、又は約０．０２～約０．１５の範囲、又は約０．０２～約０．１２の範囲、又は約０．０３～約０．１２の範囲、又は約０．０４～約０．１２の範囲にある。いくつかの実施形態では、光学フィルム３００は、湾曲形状に形成された後に、これらの範囲のいずれかのサグと半径との比を有する。
図３Ｂは、光学フィルム３００が第１の成形型３６０と第２の成形型３７０との間に配置され、光学フィルム３００の外周３０７の少なくとも一部分が第１の平面３１２内に固定されて、固定された部分が互いに対して移動しないようになった、第１の成形型３６０、及び成形型表面３７２を有する第２の成形型３７０の概略断面図である。いくつかの実施形態では、固定された部分は、外周３０７全体である。外周３０７は、光学フィルム３００の境界部分３０８が第１及び第２の成形型３６０及び３７０の部分の間に固定されることにより、固定される。他の実施形態では、外周３０７の一部分のみが固定される。例えば、第１及び第２の成形型３６０は、外周３０７が固定されていない１つ以上のチャネルを含んでもよい。これは、例えば、チャネル３８１が示され、チャネル３８１の真上の光学フィルム３００の部分が第１の成形型３６０と第２の成形型３７０との間に固定されていない、図３Ｃの断面に示されている。図示した実施形態では、境界部分３０８は、第１の平面３１２内に配置されている。他の実施形態では、外周３０７又は外周３０７の少なくとも一部分は、平面３１２内に配置されるが、境界部分３０８は、例えば、境界部分３０８に沿った第１及び第２の成形型３６０及び３７０の斜面により、第１の平面３１２内に完全に配置されない。
いくつかの実施形態では、第２の成形型３７０は、加熱され、第１の成形型３６０と光学フィルム３００との間の空間３８０に圧力が加えられて、光学フィルム３００を第２の成形型３７０の成形型表面３７２に接触させ、それによって、光学フィルム３００を加熱する。圧力（例えば、空気圧）は、第１の成形型３６０と光学フィルム３００との間のチャネル（図示せず）を介して加えることができる。他の実施形態では、光学フィルム３００は、第１の成形型３６０と第２の成形型３７０との間に配置される前に予熱される、及び／又は第１の成形型３６０は、加熱されて、光学フィルムが湾曲した成形型表面３６２に適合されたときに、光学フィルムを加熱する。
いくつかの実施形態では、光学フィルム３００は、フィルムを延伸及び形成する前に、光学フィルム３００のガラス転移温度よりも高い温度まで加熱される。光学フィルム３００のガラス転移温度は、光学フィルム３００の任意の層のガラス転移温度を指してもよい。例えば、光学フィルム３００のガラス転移温度は、光学フィルム３００の層のいずれかの最高ガラス転移温度であってもよく、光学フィルム３００の層のいずれかの最低ガラス転移温度であってもよく、光学フィルム３００が交互の非複屈折層及び複屈折層を含む場合、光学フィルム３００の複屈折干渉層のガラス転移温度であってもよく、又は光学フィルム３００が交互の高屈折率干渉層及び低屈折率干渉層を含む場合、光学フィルム３００の高屈折率干渉層のガラス転移温度であってもよい。
いくつかの実施形態では、光学フィルム３００は、光学フィルムの半径方向での延伸が光学フィルム３００の中心３０５から外周３０７まで実質的に一定となり、かつ光学フィルムの円周方向での延伸が光学フィルム３００の中心３０５から外周３０７まで実質的に変化するように、光学フィルム３００の一部分を第１の平面３１２に対して垂直な少なくとも第１の方向（ｚ方向）に沿って変位させることによって延伸される。外周３０７に対して変位される光学フィルムの部分は、典型的には、光学フィルム３００の中心３０５付近の部分を含む。いくつかの実施形態では、光学フィルム３００の一部分を変位させるために、圧力が使用される。いくつかの実施形態では、光学フィルム３００を加熱した後に、チャネル３８１を介して光学フィルム３００と第２の成形型３７０との間の空間３８２内に圧力（例えば、空気圧）が加えられて、図３Ｄに示すように、光学フィルム３００を湾曲した成形型表面３６２に適合させる、又は少なくとも部分的に適合させる。いくつかの実施形態では、第１の成形型３６０は、多孔質である。いくつかの実施形態では、光学フィルム３００を湾曲した成形型表面３６２に適合させるのを助けるために、真空又は部分真空が第１の成形型３６０を介して引かれる。この場合、光学フィルム３００と第１の成形型３６０との間の空間３８０に、真空又は部分真空が引かれる。
光学フィルム３００は、その後、第１及び第２の成形型３６０及び３７０から取り外される。結果として得られる成形された光学フィルム３００を、図３Ｅに示す。後続の処理工程では、レンズ又は他の光学素子を、光学フィルム３００上に射出成形することができる。光学フィルム３００の境界部分３０８は、射出成形工程の前又は後に除去することができる。
いくつかの実施形態では、光学フィルム３００上の少なくとも１つの位置３１０は、約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲、又は約１２ｍｍ～約５００ｍｍの範囲の、直交する第１及び第２の方向（例えば、ｘ及びｙ方向）のそれぞれに沿った曲率半径Ｒ１を有する。いくつかの実施形態では、光学フィルム３００上の各位置は、約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲、又は約１２ｍｍ～約５００ｍｍの範囲の、直交する第１及び第２の方向（例えば、ｘ及びｙ方向）のそれぞれに沿った曲率半径を有する。いくつかの実施形態では、第１及び第２の方向に沿った曲率半径は、異なるが、それぞれ約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲、又は約１２ｍｍ～約５００ｍｍの範囲である。いくつかの実施形態では、第１及び第２の方向に沿った曲率半径は、ほぼ等しい。
図３Ｆは、第１の成形型３６０に対応し、かつ第１の成形型３６０の代わりに使用することができる、成形型３６０ｂの概略図である。成形型３６０ｂは、湾曲した成形型表面３６２ｂ及び少なくとも１つの遷移領域３６４を有する。少なくとも１つの遷移領域３６４は、例えば、湾曲した成形型表面３６２ｂの縁部の周囲の単一の連続領域であってもよい。少なくとも１つの遷移領域３６４は、典型的には、湾曲した成形型表面３６２ｂから平坦な境界部分３９６まで滑らかに変化する曲率を有する。少なくとも１つの遷移領域３６４は、光学フィルム内の応力集中を防止又は低減するために含まれてもよい。これにより、少なくとも１つの遷移領域３６４を含まない成形型を使用する場合と比較して、光学フィルムを、低減した圧力で形成することが可能になることが見出されている。成形型３６０ｂは、例えば、第１の成形型３６０に関して記載したように、多孔質であってもよい。
いくつかの実施形態では、光学フィルムを成形する方法で、成形型が使用される。いくつかの実施形態では、光学フィルムの外周の少なくとも一部分は、光学フィルムの一部分をクランプして、固定された部分が互いに対して移動しないようにすることによって、平面内に固定される。いくつかの実施形態では、成形型は、湾曲した成形型表面を有し、光学フィルムが湾曲した成形型表面に適合するように、外周の固定された部分に対して光学フィルムの一部分を変位させるために、成形型及び光学フィルムは、互いに対して移動される。
図４Ａは、中心４０５と、外周４０７と、境界部分４０８と、を有する光学フィルム４００の概略上面図である。図４Ｂは、成形型４６０の上に配置された光学フィルム４００の概略側面図である。境界部分４０８の少なくとも一部分は、第１の平面４１２（ｘ－ｙ平面に平行）内に外周４０７の少なくとも一部分を固定するために、クランプ４７３内にクランプされる。成形型４６０は、湾曲した成形型表面４６２を有する。
いくつかの実施形態では、光学フィルム４００は、光学フィルムの円周方向での延伸が光学フィルム４００の中心４０５から外周４０７まで実質的に一定となり、かつ光学フィルム４００の半径方向での延伸が光学フィルム４００の中心４０５から外周４０７まで実質的に変化するように、光学フィルム４００の一部分を第１の平面４１２に対して垂直な少なくとも第１の方向（ｚ方向）に沿って変位させることによって延伸される。いくつかの実施形態では、光学フィルム４００の中心付近の光学フィルム４００の部分は、少なくとも光学フィルム４００の中心４０５付近の光学フィルム４００の部分が湾曲した成形型表面４６２と接触するように、第１の方向に沿って湾曲した成形型表面４６２と光学フィルム４００の外周４０７との間の距離を変化させることによって、変位される。湾曲した成形型表面４６２と外周４０７との間の距離は、成形型４６０を光学フィルム４００に向かって移動させることによって、及び／又は外周４０７の少なくとも一部分を固定しているクランプ４７３を成形型４６０に向かって移動させることによって、変更することができる。図４Ｃは、クランプ４７３及び成形型４６０及び成形型が互いに対して移動された後の光学フィルム４００及び成形型４６０の概略側面図である。光学フィルム４００の少なくとも一部分は、湾曲した成形型表面４６２の少なくとも一部分に適合する。いくつかの実施形態では、成形型４６０と光学フィルム４００との間の領域４７７内で、真空又は部分真空が引かれる。いくつかの実施形態では、成形型４６０は、密閉チャンバ４９３内にあり、成形型４６０の反対側の光学フィルム４００に圧力が加えられる。例えば、空気圧を領域４９１内に加えることができる。光学フィルム４００を湾曲した成形型表面４６２に適合させるのを助けるために、真空引き及び／又は圧力の印加を行うことができる。
いくつかの実施形態では、光学フィルム４００は、本明細書の他の箇所に記載される範囲のいずれかの曲率半径を有する。例えば、光学フィルム４００上の少なくとも１つの位置は、光学フィルム３００に関して説明したように、約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の直交する第１及び第２の方向のそれぞれに沿った曲率半径を有してもよい。
図４Ｄは、本明細書のいくつかの実施形態による、光学フィルム４００内の点が湾曲した成形型表面４６２上の点にどのようにマッピングされるかの概略図である。光学フィルム４００の第１の部分４８８は、光学フィルム４００の延伸において、湾曲した成形型表面４６２の少なくとも一部分４６８に適合される。いくつかの実施形態では、光学フィルム４００は、少なくとも第１の部分４８８が、湾曲した成形型表面４６２に隣接する第１の平面４１２内に実質的に配置されるように、配置される。第１の平面４１２は、湾曲した成形型表面４６２のサグの、又は湾曲した成形型表面４６２の一部分４６８のサグの０～１００倍の配置にある、湾曲した成形型表面４６２上の最も近い点からの距離に（図４Ｄのｚ方向に）配置されてもよい。いくつかの実施形態では、光学フィルム４００はその後、光学フィルムの第１の部分４８８を湾曲した成形型表面４６２の少なくとも一部分４６８に適合させるように、延伸される。この延伸は、図４Ａ～図４Ｃに関して示し説明したように実施することができる。いくつかの実施形態では、延伸は、第１の部分４８８の各点４８０が、延伸前の第１の平面４１２内の点４８０の位置４８１に頂点４８５を有する円錐４８４内にある湾曲した成形型表面４６２上の位置４８２を有するようなものである。いくつかの実施形態では、円錐４８４は、第１の平面４１２に垂直な軸４８６に沿って中心があり、１０度以下、又は５度以下の円錐角σを有する。
フィルム又はフィルムの一部分は、フィルム若しくは一部分が平面内にある場合、又はフィルム若しくは一部分の平面からの最大偏位が、フィルム若しくは一部分の最大横寸法（正面平面視での最大寸法）の２０％以下である場合に、実質的に平面内にあると言うことができる。いくつかの実施形態では、フィルム又は一部分の平面からの最大偏位は、最大横寸法の１０％以下又は５％以下である。
図４Ｅは、成形型４６０に対応し、かつ成形型４６０の代わりに使用することができる、成形型４６０ｂの概略図である。成形型４６０ｂは、湾曲した成形型表面４６２ｂ及び少なくとも１つの遷移領域４６４を有する。少なくとも１つの遷移領域４６４は、例えば、湾曲した成形型表面４６２ｂの縁部の周囲の単一の連続領域であってもよい。少なくとも１つの遷移領域４６４は、湾曲した成形型表面４６２ｂから境界部分４９６まで滑らかに変化する曲率を有してもよい。少なくとも１つの遷移領域４６４は、光学フィルム内の応力集中を防止又は低減するために含まれてもよい。遷移領域４６４の所望の形状は、光学フィルム４００が湾曲した成形型表面４６２ｂに少なくとも部分的に適合されたときのクランプ４７３の位置に依存し得る。これにより、少なくとも１つの遷移領域４６４を含まない成形型を使用する場合と比較して、光学フィルムを低減した圧力で形成することが可能になることが見出されている。
光学フィルム３００又は光学フィルム４００は、反射型偏光子又はミラーフィルム（例えば、３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｓｔ．Ｐａｕｌ，ＭＮ）から入手可能なＥｎｈａｎｃｅｄ Ｓｐｅｃｕｌａｒ Ｒｅｆｌｅｃｔｏｒ（ＥＳＲ）などの可視光ミラー、又は近赤外反射体）であってもよい。反射型偏光子又はミラーフィルムは、本明細書の他の箇所で更に説明されるように、交互配置された複数の干渉層を含んでもよい（例えば、図１２を参照）。
図５は、湾曲した反射型偏光子５００の概略正面図である。いくつかの実施形態では、少なくとも直交する第１の方向５２０及び第２の方向５３０に沿って延伸され成形されて、湾曲した反射型偏光子５００は、湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置が、第１及び第２の方向５２０及び５３０のそれぞれに沿って、約６ｍｍ～約１０００ｍｍ又は約１２ｍｍ～約５００ｍｍの範囲の曲率半径を有する、複数のポリマー層を含む。いくつかの実施形態では、反射型偏光子５００上の各位置１０は、ブロック偏光状態２０に対して約７０％より大きい最大反射率を有する。いくつかの実施形態では、反射型偏光子５００上の各位置１０は、直交する通過偏光状態３０に対して約７０％より大きい最大透過率を有する。いくつかの実施形態では、反射型偏光子５００上の各位置１０は、ブロック偏光状態２０に対して約５％未満の最小透過率を有する。最大反射率、最大透過率、及び最小透過率は、所定の波長の、所定の波長範囲内の、若しくは所定の複数の波長（例えば、４００ｎｍ～７００ｎｍの波長範囲）の、又は反射型偏光子５００の反射帯域にわたる垂直入射光に対して、これらの範囲内であってもよい。代わりに又は加えて、最大反射率、最大透過率、及び最小透過率は、反射型偏光子の中心において反射型偏光子に垂直な、かつ反射型偏光子を通過する軸に平行な方向に沿って反射型偏光子に入射する、所定の波長の、所定の波長範囲内の、若しくは所定の複数の波長の、又は反射型偏光子５００の反射帯域にわたる光に対して、これらの範囲内であってもよい。反射率及び透過率は、パーセントの代わりに、割合として表すことができる。例えば、７０％の反射率又は透過率は、０．７の反射率又は透過率それぞれと同等である。
所定の波長範囲は、光学フィルムを含む光学システムが動作するように設計された波長範囲であってもよい。例えば、所定の波長範囲は、可視範囲（４００ｎｍ～７００ｎｍ）であってもよい。別の例として、所定の波長範囲は、１つ以上の可視波長範囲を含んでもよい。例えば、所定の波長範囲は、２つ以上の狭い波長範囲の結合（例えば、ディスプレイパネルの発光色に対応する、分離した赤色、緑色、及び青色の波長範囲の結合）であってもよい。そのような波長範囲については、米国特許出願公開第２０１７／００６８１００号（Ｏｕｄｅｒｋｉｒｋら）で更に説明されており、同文献は、本明細書と矛盾しない範囲で参照により本明細書に組み込まれる。いくつかの実施形態では、所定の波長範囲は、他の波長範囲（例えば、赤外（例えば、近赤外（約７００ｎｍ～約２５００ｎｍ））、又は紫外線（例えば、近紫外（約３００ｎｍ～約４００ｎｍ））、並びに可視波長範囲を含む。所定の波長は、所定の波長範囲の任意の波長であってもよい。例えば、所定の波長範囲は、４００ｎｍ～７００ｎｍであってよく、所定の波長は、５００ｎｍであってもよい。
いくつかの実施形態では、反射型偏光子５００の厚さは、少なくとも１つの縁部位置（例えば、縁部６０、６１、６２、及び６３それぞれの付近にある縁部位置５０、５１、５２、及び５３）よりも、反射型偏光子の中心５０５において少なくとも５％大きい。例えば、いくつかの実施形態では、厚さは、円周方向での延伸が実質的に一定であり、かつ半径方向での延伸が半径方向位置により実質的に変化するプロセスで反射型偏光子５００が成形されるとき、少なくとも１つの縁部位置よりも中心５０５において大きい。好適なプロセスとしては、図４Ａ～図４Ｅに示すように説明したものが挙げられる。いくつかの実施形態では、反射型偏光子５００の厚さは、反射型偏光子５００の中心５０５から少なくとも１つの縁部位置まで実質的に単調に減少する。
縁部付近の縁部位置は、反射型偏光子の中心よりも縁部に近い反射型偏光子上の位置を指す。いくつかの実施形態では、縁部から縁部位置までの弧長は、中心から縁部位置までの弧長の５０％未満、又は４０％未満、又は３０％未満、又は２０％未満、又は１０％未満である。
いくつかの実施形態では、反射型偏光子５００の厚さは、少なくとも１つの縁部位置（例えば、縁部５０、５１、５２、及び５３）よりも、反射型偏光子の中心５０５において少なくとも５％小さい。例えば、いくつかの実施形態では、厚さは、半径方向での延伸が実質的に一定であり、かつ円周方向での延伸が半径方向位置により実質的に変化するプロセスで反射型偏光子５００が成形されるとき、少なくとも１つの縁部位置よりも中心５０５において小さい。いくつかの実施形態では、この成形プロセスは、図３Ａ～図３Ｆに記載し示すようなものである。いくつかの実施形態では、反射型偏光子５００の厚さは、反射型偏光子５００の中心５０５から少なくとも１つの縁部位置まで実質的に単調に増加する。
いくつかの実施形態では、所定の波長を有し、かつ中心５０５で反射型偏光子に垂直な、かつ反射型偏光子を通過する軸（ｚ軸）に平行な方向に沿って反射型偏光子５００に入射する光に対して、反射型偏光子５００上の各位置１０は、少なくとも１つの第１の位置（例えば、位置５２又は５５）及び少なくとも１つの第２の位置（例えば、位置５０）の通過偏光状態３０に対する最大透過率が、少なくとも３．８％、又は少なくとも４％、又は少なくとも４．２％、又は少なくとも４．４％、又は少なくとも４．５％だけ互いに異なるように、ブロック偏光状態２０に対して約０．７より大きい最大反射率、及び直交する通過偏光状態３０に対して約０．７より大きい最大透過率を有する。いくつかの実施形態では、少なくとも１つの第１の位置及び少なくとも１つの第２の位置の通過偏光状態３０に対する最大透過率は、６％以下、又は５．５％以下、又は５．０％以下だけ（例えば、（大きい方から小さい方をマイナスしたもの）／大きい方×１００パーセント）、互いに異なる。例えば、最大透過率は、第１の位置で０．９０、かつ第２の位置で０．８６であってもよい。この場合、最大透過率は、約４．４％である（０．９０－０．８６）／０．９０＊１００％だけ互いに異なる。
いくつかの実施形態では、少なくとも１つの第１の位置及び第２の位置（例えば、位置５２及び５０）は、反射型偏光子５００の縁部（６０及び６２それぞれ）付近にあり、中心５０５において約７０度～約１１０度の範囲の角度θを画定する。この場合、最大透過率変動は、半径方向での延伸が実質的に一定である反射型偏光子を形成するプロセスに特有である。いくつかの実施形態では、第１の位置（例えば、位置５２）の通過偏光状態３０の最大透過率は、０．８３以上であり、第２の位置（例えば、位置５０）の通過偏光状態の最大透過率は、０．８１以下である。
いくつかの実施形態では、少なくとも１つの第１の位置（例えば、位置５５）は、中心位置５０５付近にあり（最も近い縁部よりも中心位置５０５に近い）、少なくとも１つの第２の位置（例えば、位置５０）は、反射型偏光子５００の縁部付近にある。この場合、最大透過率変動は、円周方向での延伸が実質的に一定である反射型偏光子を形成するプロセスに特有である。いくつかの実施形態では、拳（fist）位置の通過偏光状態に対する最大透過率は、０．８９以上であり、第２の位置の通過偏光状態に対する最大透過率は、０．８７以下である。
図６は、中心位置から縁部位置までの反射型偏光子の厚さの概略図である。中心位置は、Ｔｃの厚さを有し、縁部位置は、Ｔｅの厚さを有する。いくつかの実施形態では、ＴＣは、Ｔｅよりも少なくとも５％大きい。この条件は、（Ｔｃ－Ｔｅ）／Ｔｅ≧０．０５として表すことができる。いくつかの実施形態では、（Ｔｃ－Ｔｅ）／Ｔｅ≧０．１、又は０．１５、又は０．２である。図示した実施形態では、厚さは、中心から縁部位置まで実質的に単調に減少する。いくつかの実施形態では、この厚さの変動は、円周方向での延伸が実質的に一定であるプロセスで反射型偏光子を形成することに起因する。好適なプロセスとしては、プルダウンプロセスと呼ばれることがある、図４Ａ～図４Ｅに記載し示すものが挙げられる。いくつかの実施形態では、厚さは、中央から少なくとも１つの縁部位置の各位置の弧に沿って、中心から少なくとも１つの縁部位置まで実質的に単調に減少する。いくつかの実施形態では、厚さは、中心から縁部付近の各位置の弧に沿って、中心から縁部まで実質的に単調に減少する。場合によっては、厚さの方位角平均の観点から厚さを特徴付けることが有用である。いくつかの実施形態では、方位角平均厚さは、少なくとも１つの縁部位置の縁部位置よりも反射型偏光子の中心で大きい。いくつかの実施形態では、方位角平均厚さは、反射型偏光子の中心から縁部位置まで実質的に単調に減少する。いくつかの実施形態では、方位角平均厚さは、図６に示す厚さに対応する。
厚さ又は帯域端波長などの量は、範囲内の任意のより大きな中間点における量が、その範囲内の任意のより小さい中間点における量よりも少ない、又はそれにほぼ等しい場合、範囲の第１の端点（例えば、反射型偏光子の中心位置）から範囲の第２の端点（例えば、反射型偏光子の縁部位置）までの範囲にわたって実質的に単調に減少すると言うことができる。同様に、量は、範囲内の任意のより大きな中間点における量が、その範囲内の任意のより小さい中間点における量よりも大きい、又はそれにほぼ等しい場合、範囲の第１の端点から範囲の第２の端点までの範囲にわたって実質的に単調に増加すると言うことができる。ある範囲にわたって位置により変化する量（例えば、中心位置から縁部位置までの位置の範囲にわたる厚さ又は帯域端波長）に関して、ある点における量は、その点における量がある値に等しい場合、又はその点における量がその範囲にわたるその量の最大値から最小値を引いたもののプラス若しくはマイナス５％の値の範囲である場合、その値（例えば、別の点における量）にほぼ等しいということができる。実質的に単調に減少する又は実質的に単調に増加するものとして記載される量は、それぞれ単調に減少する又は単調に増加することができる。実質的に単調に減少する又は実質的に単調に増加するものとして記載される量は、それぞれ厳密に単調に減少する又は厳密に単調に増加することができる。変数ｘの関数ｆ（ｘ）は、任意のｘ１及びｘ２に対してｘ２≧ｘ１、ｆ（ｘ２）≦ｆ（ｘ１）を満たす場合、単調に減少する。変数ｘの関数ｆ（ｘ）は、任意のｘ１及びｘ２に対してｘ２＞ｘ１、ｆ（ｘ２）＜ｆ（ｘ１）を満たす場合、厳密に単調に減少する。同様に、変数ｘの関数ｆ（ｘ）は、任意のｘ１及びｘ２に対してｘ２≧ｘ１、ｆ（ｘ２）≧ｆ（ｘ１）を満たす場合、単調に増加し、変数ｘの関数ｆ（ｘ）は、範囲内の任意のｘ１及びｘ２に対してｘ２＞ｘ１、ｆ（ｘ２）＞ｆ（ｘ１）を満たす場合、厳密に単調に増加する。
図７は、中心位置から縁部位置までの反射型偏光子の厚さの概略図である。中心位置は、Ｔｃの厚さを有し、縁部位置は、Ｔｅの厚さを有する。いくつかの実施形態では、Ｔｃは、Ｔｅよりも少なくとも５％小さい。この条件は、（Ｔｅ－Ｔｃ）／Ｔｅ≧０．０５として表すことができる。いくつかの実施形態では、（Ｔｅ－Ｔｃ）／Ｔｅ≧０．１、又は０．１５、又は０．２である。図示した実施形態では、厚さは、中心から縁部位置まで実質的に単調に増加する。いくつかの実施形態では、この厚さの変動は、半径方向での延伸が実質的に一定であるプロセスで反射型偏光子を形成することに起因する。好適なプロセスとしては、加圧プロセスと呼ばれることがある、図３Ａ～図３Ｆに記載し示すものが挙げられる。場合によっては、厚さの方位角平均の観点から厚さを特徴付けることが有用である。いくつかの実施形態では、方位角平均厚さは、少なくとも１つの縁部位置の縁部位置よりも反射型偏光子の中心で小さい。いくつかの実施形態では、方位角平均厚さは、反射型偏光子の中心から縁部位置まで実質的に単調に増加する。いくつかの実施形態では、方位角平均厚さは、図７に示す厚さに対応する。
図８は、ブロック偏光状態又は通過偏光状態のいずれかで反射型偏光子に垂直入射する光に対する反射型偏光子に関する反射率対波長の概略図である。λ１～λ２の所定の波長範囲が示されている。ブロック偏光状態を有する垂直入射光に対する所定の波長の平均反射率は、少なくとも７０パーセント、又は少なくとも８０パーセント、又は少なくとも８５パーセント、又は少なくとも９０パーセントであり得る、Ｒｂである。通過偏光状態を有する垂直入射光に対する所定の波長の平均反射率は、２０パーセント未満、又は１５パーセント未満、又は１０パーセント未満、又は５パーセント未満であり得る、Ｒｐである。反射型偏光子は、長波長帯域端λ３を有する反射帯域８４７を有する。反射帯域は、典型的には、反射率が急速に低下する長波長帯域端及び短波長帯域端の両方を有する。図示した実施形態では、短波長帯域端は、λ１未満であり、長波長帯域端λ３は、λ２よりも大きい。帯域端は、入射光に向かって凸状である反射型偏光子への垂直入射光に対して判定されてもよい。
図９は、ブロック偏光状態又は通過偏光状態のいずれかで反射型偏光子に垂直入射する光に対する反射型偏光子に関する透過率対波長の概略図である。通過偏光状態を有する垂直入射光に対する所定の波長（λ１～λ２）の平均透過率は、少なくとも７０パーセント、又は少なくとも８０パーセント、又は少なくとも８５パーセント、又は少なくとも９０パーセントであり得る、Ｔｐである。ブロック偏光状態を有する垂直入射光に対する所定の波長の平均透過率は、１０パーセント未満、又は５パーセント未満、又は３パーセント未満、又は２パーセント未満、又は１パーセント未満、又は０．５パーセント未満であり得る、Ｔｂである。
帯域端の正確な波長は、いくつかの異なる基準を使用して定義することができる。帯域端によって示される空間的変動パターン（例えば、半径により単調に減少する又は単調に増加する）は、典型的には、使用される正確な基準に依存しない。帯域端の波長は、おそらく、例えば、ブロック偏光状態を有する垂直入射光に対する反射率が１?２Ｒｂまで低下する波長、又はブロック偏光状態を有する垂直入射光に対する透過率が１０％まで増加する波長とすることができる。異なって示される場合を除き、帯域端は、ブロック偏光状態を有する垂直入射光に対する透過率が１０％まで増加する波長を指すと理解することができる。
図１０は、中心位置から縁部位置までの反射型偏光子の長波長帯域端の概略図である。中心位置は、λｃの長波長帯域端を有し、縁部位置は、λｅの長波長帯域端を有する。いくつかの実施形態では、λｃは、λｅより少なくとも５％大きい。この条件は、（λｃ－λｅ）／λｅ≧０．０５として表すことができる。いくつかの実施形態では、（λｃ－λｅ）／λｅ≧０．１、又は０．１５、又は０．２である。図示した実施形態では、長波長帯域端は、中心から縁部位置まで実質的に単調に減少する。いくつかの実施形態では、この長波長帯域端の変動は、円周方向での延伸が実質的に一定であるプロセスで反射型偏光子を形成することに起因する。好適なプロセスとしては、図４Ａ～図４Ｅに記載し示すものが挙げられる。場合によっては、長波長帯域端の方位角平均の観点から長波長帯域端を特徴付けることが有用である。いくつかの実施形態では、方位角平均長波長帯域端は、少なくとも１つの縁部位置の縁部位置よりも反射型偏光子の中心で大きい。いくつかの実施形態では、方位角平均長波長帯域端は、反射型偏光子の中心から縁部位置まで実質的に単調に減少する。いくつかの実施形態では、方位角平均長波長帯域端は、図１０に示す長波長帯域端に対応する。
図１１は、中心位置から縁部位置までの反射型偏光子の長波長帯域端の概略図である。中心位置は、λｃの長波長帯域端を有し、縁部位置は、λｅの長波長帯域端を有する。いくつかの実施形態では、λｃは、λｅより少なくとも５％小さい。この条件は、（λｅ－λｃ）／λｅ≧０．０５として表すことができる。いくつかの実施形態では、（λｅ－λｃ）／λｅ≧０．１、又は０．１５、又は０．２である。図示した実施形態では、長波長帯域端は、中心から縁部位置まで実質的に単調に増加する。いくつかの実施形態では、この長波長帯域端の変動は、半径方向での延伸が実質的に一定であるプロセスで反射型偏光子を形成することに起因する。好適なプロセスとしては、図３Ａ～図３Ｆに記載し示すものが挙げられる。いくつかの実施形態では、方位角平均長波長帯域端は、少なくとも１つの縁部位置の縁部位置よりも反射型偏光子の中心で小さい。いくつかの実施形態では、方位角平均長波長帯域端は、反射型偏光子の中心から縁部位置まで実質的に単調に増加する。いくつかの実施形態では、方位角平均長波長帯域端は、図１１に示す長波長帯域端に対応する。
図１２は、複数の干渉層１２３４及び非干渉層１２３３を含む、一体的に形成された反射型偏光子１２００の概略断面図である。いくつかの実施形態では、複数の干渉層は、交互のポリマー層１２３６及び１２３７を含む。図示した実施形態では、単一の非干渉層１２３３が含まれている。干渉層は、干渉層の反射率及び透過率を光干渉によって合理的に説明することができる、又は光干渉からもたらされるものとして合理的に正確にモデル化することができるとき、主に光干渉によって光を反射又は透過するものとして説明することができる。そのような干渉層は、例えば、米国特許第５，８８２，７７４号（Ｊｏｎｚａら）及び米国特許第６，６０９，７９５号（Ｗｅｂｅｒら）に記載されている。異なる屈折率を有する干渉層の隣接する対は、その対が光の１／２波長の組み合わせた光学的厚さ（屈折率×物理的厚さ）を有する場合、光干渉によって光を反射する。干渉層は、典型的には、約２００ナノメートル未満の物理的厚さを有する。非干渉層は、干渉による可視光の反射に寄与するためには大きすぎる光学的厚さを有する。典型的には、非干渉層は、少なくとも１マイクロメートルの物理的厚さを有する。いくつかの実施形態では、１つより多くの非干渉層が含まれる。いくつかの実施形態では、複数の干渉層１２３４は、少なくとも１つの非干渉層１２３３の同じ側に配置される。いくつかの実施形態では、少なくとも１つの非干渉層（図示した実施形態では、非干渉層１２３３）は、複数の干渉層１２３４と一体的に形成され、主に光干渉によって光を反射又は透過しない。いくつかの実施形態では、非干渉層１２３３は、本明細書の他の箇所で更に説明されるような非接着性可撓性光学層である。
反射型偏光子１２００などの反射型偏光子フィルム内の高屈折率干渉層に好適な材料としては、例えば、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ＰＥＮ及びポリエステルを含有するコポリマー（例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）又はジ安息香酸）、グリコール変性ポリエチレンテレフタレートが挙げられる。反射型偏光子１２００などの反射型偏光子フィルム内の低屈折率干渉層に好適な材料としては、例えば、ＰＥＮベースのコポリエステル、ＰＥＴベースのコポリエステル、ポリカーボネート（ＰＣ）、又はこれらの３つの部類の材料のブレンドが挙げられる。所望の数の層により高い反射率を達成するために、隣接するミクロ層は、例えば、少なくとも０．２の、ブロック軸に沿って偏光された光に対する屈折率の差を呈することができる。
本明細書で使用するとき、第２の要素と「一体的に形成された」第１の要素は、第１及び第２の要素が、別個に作製されその後接合されるのではなく、一緒に作製されることを意味する。一体的に形成されたは、第１の要素を作製し、続いて第２の要素を第１の要素上に作製することを含む。複数の層を含む反射型偏光子は、層が別個に作製されその後接合されるのではなく、一緒に作製される（例えば、フィルムを組み合わせた溶融ストリームからキャスティングし、次いで、キャストフィルムを配向する）場合に、一体的に形成される。
いくつかの実施形態では、反射型偏光子１２００は、本明細書の他の箇所で更に説明されるように、第２の主側面１２３９から入射するブロック状態の光に対してとは、第１の主側面１２３８から入射するブロック状態の光に対して異なる反射率を有する。
複数の干渉層１２３４の平均全厚さは、Ｔｉｎｔであり、少なくとも１つの非干渉層１２３３の平均全厚さは、Ｔｎｏｎである。いくつかの実施形態では、Ｔｉｎｔは、約２０マイクロメートル～約７０マイクロメートルの範囲であり、Ｔｎｏｎは、約４０マイクロメートル～約１００マイクロメートルの範囲である。全厚さは、例えば、１つ以上の非干渉層の表面が構造化される場合、変化し得る。全厚さはまた、例えば、通常の製造変動に起因して変化し得る。平均全厚さは、層の面積にわたる厚さの非加重平均である。いくつかの実施形態では、反射型偏光子の平均全厚さ（Ｔｉｎｔ＋Ｔｎｏｎ）は、少なくとも５０マイクロメートル、又は少なくとも６０マイクロメートル、又は少なくとも７０マイクロメートルである。
いくつかの実施形態では、干渉層のうちの少なくとも１つは、フィルムを湾曲形状に形成する前に、実質的に一軸配向される。例えば、層１２３７のそれぞれは、実質的に一軸配向されてもよい。反射型偏光子又は反射型偏光子内の層は、実質的に１つの面内方向に配向され、かつ直交する面内方向に実質的に配向されず、かつ厚さ方向に実質的に配向されない場合、実質的に一軸配向される。実質的に一軸配向された反射偏光子は、３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから商品名Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｐｏｌａｒｉｚｉｎｇ Ｆｉｌｍ又はＡＰＦで入手可能である。他の種類の多層光学フィルム反射偏光子（例えば、３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから入手可能なＤｕａｌ Ｂｒｉｇｈｔｎｅｓｓ Ｅｎｈａｎｃｅｍｅｎｔ Ｆｉｌｍ又はＤＢＥＦ）も使用することができる。ＤＢＥＦフィルムは、直交する面内方向よりも実質的に１つの面内方向に配向され、また、厚さ方向の配向も呈する。ＤＢＥＦフィルムは、本明細書で「実質的に一軸配向された」が使用されるようには、実質的に一軸配向されていない。
いくつかの実施形態では、湾曲形状に形成する前の反射型偏光子は、少なくとも０．７、又は少なくとも０．８、又は少なくとも０．８５の一軸特性度Ｕを有するという点で実質的に一軸配向され、ここで、Ｕ＝（１／ＭＤＤＲ－１）／（ＴＤＤＲ１／２－１）であり、ＭＤＤＲは、縦方向での延伸比として定義され、ＴＤＤＲは、横方向での延伸比として定義される。そのような実質的に一軸配向の多層光学フィルムは、本明細書と矛盾しない範囲で本明細書に組み込まれる、米国特許出願公開第２０１０／０２５４００２号（Ｍｅｒｒｉｌｌら）で説明されており、交互配置された複数の第１のポリマー層及び第２のポリマー層を含むことができ、第１のポリマー層は、実質的に同じであるが、幅方向（例えば、ｙ方向）での屈折率とは実質的に異なる、長さ方向（例えば、ｘ方向）及び厚さ方向（例えば、ｚ方向）での屈折率を有する。例えば、ｘ方向とｚ方向との屈折率の差の絶対値は、０．０２未満又は０．０１未満とすることができ、ｘ方向とｙ方向との屈折率の差の絶対値は、０．０５超又は０．１０超とすることができる。屈折率とは、別段の指定のない限り、５５０ｎｍの波長での屈折率を指す。湾曲形状に形成された後、反射型偏光子は、少なくとも１つの位置において実質的に一軸配向された少なくとも１つの層を有してもよい。いくつかの実施形態では、少なくとも１つの位置における少なくとも１つの層は、層の厚さに沿った第１の方向での第１の屈折率、第１の方向に直交する第２の方向での第２の屈折率、並びに第１及び第２の方向に直交する第３の方向での第３の屈折率を有し、第１の屈折率と第３の屈折率との差の絶対値は、約０．０２未満、又は約０．０１未満であり、第２の屈折率と第３の屈折率との差の絶対値は、約０．０５より大きい、又は約０．１０より大きい。いくつかの実施形態では、湾曲形状に形成された後、反射型偏光子は、複数の位置において実質的に一軸配向された少なくとも１つの層を有する。
実質的に一軸配向されていない反射型偏光子フィルム（例えば、ＤＢＥＦフィルム）は、１００マイクロメートルより大きい全厚さを有することができるが、実質的に一軸配向されたフィルム（例えば、ＡＰＦフィルム）は、典型的には、はるかに薄い。例えば、ＡＰＦフィルムは、典型的には約３５マイクロメートル未満の厚さである。本明細書によれば、厚い（例えば、約５０マイクロメートルより大きい厚さの）実質的に一軸配向された反射型偏光子フィルムは、湾曲形状に形成されて、本明細書の他の箇所で更に説明されるような光学システムに使用されるとき、改善された特性を提供することが見出されている。改善された特性としては、改善された機械的特性及び改善された光学特性が挙げられる。改善された機械的特性としては、フィルムに欠陥を生じさせることなく、より高い曲率又はより高いサグと直径との比に対する改善された成形性が挙げられる。改善された光学特性としては、本明細書の他の箇所で更に説明されるような屈曲光学設計を利用する光学システムに使用されるときの、改善された偏光コントラストが挙げられる。厚い反射型偏光子フィルムを使用することに加えて、又はその代わりに、形成前に非接着性可撓性光学フィルムを反射型偏光子に結合することは、物理的特性を改善することが見出されている。反射型偏光子の厚さは、所与の厚さ範囲内の追加の干渉層を含むことによって、及び／又は非干渉層の厚さを増加させることによって、増加させることができる。
いくつかの実施形態では、反射型偏光子は、高コントラストを提供するために、交互のポリマー干渉層の２つ以上のパケットを含む。そのような反射型偏光子は、２０１７年３月６日出願の米国特許仮出願第６２／４６７７１２号（Ｈａａｇら）に更に記載されており、同文献は、本明細書に矛盾しない範囲で参照により本明細書に組み込まれる。いくつかの実施形態では、反射型偏光子は、複数のパケットを含み、各パケットは、実質的に連続曲線である層厚さ対層数を有する。図５０は、２つのパケット（パケット１及びパケット２）を含む反射型偏光子の層厚さ対層数を示す。いくつかの実施形態では、厚さプロファイルは、実質的に重なり合う（例えば、パケット１の厚さ範囲の５０パーセントより多くが、パケット２の厚さ範囲の５０パーセントより多くと重なり合う）。他の実施形態では、重なり合いは、厚さ範囲内にほとんど又は全く存在しない。
反射型偏光子が成形された後、以前に一軸配向された層（単数又は複数）は、全ての位置において、もはや一軸配向されなくてもよい。しかしながら、いくつかの実施形態では、形成後、少なくとも１つの層は、少なくとも１つの位置において実質的に一軸配向される。例えば、反射型偏光子フィルムは、フィルムの形成において、かつ反射型偏光子の中心位置から曲線に沿った位置で、半径方向に延伸されてもよい。例えば、図１９を参照して、いくつかの実施形態では、少なくとも１つの層（例えば、図１２に示す層１２３７及び／又は層１２３６に対応する）は、中心１９０５及び位置１９１０－５において実質的に一軸配向される。図１９に示す実施形態では、位置１９１０－５における配向は、ｘ－ｙ平面上への投影では中心１９０５におけるブロック軸１９０５ｂに平行である、ブロック軸１９１０ｂ－５に沿っている。いくつかの実施形態では、反射型偏光子は、反射型偏光子の中心位置で、及び反射型偏光子の中心位置から離れた少なくとも１つの位置で、実質的に一軸配向される。
いくつかの実施形態では、所定の波長を有し、かつ反射型偏光子に垂直入射する、又は反射型偏光子に垂直な反射型偏光子の中心を通過する軸に平行な方向に沿って入射する、のいずれかの光に対して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態に対する最大反射率、直交する通過偏光状態に対するより大きい最大透過率、及びブロック偏光状態に対する最小透過率を有する。いくつかの実施形態では、最大反射率は、約７０％より大きい。いくつかの実施形態では、最大透過率は、約７０％より大きい。いくつかの実施形態では、最小透過率は、約５％未満である。
図１３は、本明細書のいくつかの実施形態による、反射型偏光子１３００の所定の波長（例えば、約５５０ｎｍ）におけるブロック偏光状態の透過率である最小透過率（Ｔｍｉｎ）の概略図である。図示したＴｍｉｎは、入射光に向かって凸状である反射型偏光子への、ｚ軸に平行な光に対して、又は垂直入射光に対して判定することができる。一定のＴｍｉｎの等高線１３７２が示されている。図示した等高線１３７２は、いくつかの実施形態による、円周方向での延伸が実質的に一定であるプロセスを使用して湾曲形状に形成された反射型偏光子フィルムに特有であることが見出されている。
反射型偏光子１３００の中心位置１３０５で互いに交差する直交する第１の軸１３２０及び第２の軸１３３０、並びに反射型偏光子１３００の中心位置１３０５で互いに交差する直交する第３の軸１３２５及び第４の軸１３３５が示されている。第１の軸１３２０と第３の軸１３２５との間の角度?は、約４５度である。いくつかの実施形態では、Ｔｍｉｎは、小さく、第１及び第２の軸１３２０及び１３３０に沿ってほぼ一定であり、第３及び第４の軸１３２５及び１３３５のそれぞれに沿って中心位置１３０５から離れる方向に概ね増加する。いくつかの実施形態では、中心位置１３０５における反射型偏光子１３００のブロック軸は、第２の軸１３３０に沿っている。
いくつかの実施形態では、ブロック偏光状態に対する反射型偏光子１３００の最小透過率は、反射型偏光子１３００の中心位置１３０５と第１の縁部１３６０との間の第１の軸１３２０に沿った第１の位置１３１３では、Ｔ１であり、反射型偏光子１３００の中心位置１３０５と第２の縁１３６２との間の第２の軸１３３０に沿った第２の位置１３１５では、Ｔ２であり、反射型偏光子の中心位置１３０５と第３の縁部１３７４との間の第３の軸１３２５に沿った第３の位置１３１７では、Ｔ３であり、反射型偏光子１３００の中心位置１３０５と第４の縁部１３７８との間の第４の軸１３３５に沿った第４の位置１３１９では、Ｔ４である。いくつかの実施形態では、Ｔ１及びＴ２の最大値は、Ｔ３及びＴ４の最小値未満である。いくつかの実施形態では、ブロック偏光状態に対する反射型偏光子１３００の最小透過率は、反射型偏光子１３００の中心位置１３０５と第１の縁部１３６０の反対側の第５の縁部１３６１との間の第１の軸１３２０に沿った第５の位置１３１４では、Ｔ５であり、反射型偏光子の中心位置１３０５と第２の縁部１３６２の反対側の第６の縁部１３６３との間の第２の軸１３３０に沿った第６の位置１３１６では、Ｔ６であり、反射型偏光子１３００の中心位置１３０５と第３の縁部１３７４の反対側の第７の縁部１３７５との間の第３の軸１３２５に沿った第７の位置１３１８では、Ｔ７であり、反射型偏光子１３００の中心位置１３０５と第４の縁部１３７８の反対側の第８の縁部１３７９との間の第４の軸１３３５に沿った第８の位置１３２１では、Ｔ８である。いくつかの実施形態では、Ｔ１、Ｔ２、Ｔ５、及びＴ６の最大値は、Ｔ３、Ｔ４、Ｔ７、及びＴ８の最小値未満である。
いくつかの実施形態では、ブロック偏光状態に対する反射型偏光子１３００の最小透過率Ｔｍｉｎは、反射型偏光子に垂直な反射型偏光子１３００の中心位置１３０５を通過する光軸（ｚ軸に対して平行）周りに実質的に４倍の回転対称である。量は、３６０度／ｎに対する全ての回転下で対称である場合、ｎ倍の回転対称であり、式中、ｎは１より大きい整数である。反射型偏光子を特徴付ける量は、反射型偏光子の表面積の少なくとも７０パーセント内の各点における量が、その量の最大変動の２０パーセント以下だけ対称動作によって判定される対応する点における量とは異なる場合、対称動作（例えば、軸又は平面周りの反射又は角度による回転）下で実質的に対称として説明することができる。例えば、反射型偏光子１３００の最小透過率（Ｔｍｉｎ）は、反射型偏光子の表面積の少なくとも７０パーセント内の各点におけるＴｍｉｎが、Ｔｍｉｎの最大変動の２０パーセント以下だけ光軸周りに９０度、１８０度、及び２７０度のそれぞれの回転によって判定される対応点における最小透過率とは異なる場合、光軸周りに実質的に４倍対称である。Ｔｍｉｎの最大変動は、反射型偏光子にわたる最大Ｔｍｉｎ－最小Ｔｍｉｎである。いくつかの実施形態では、反射型偏光子の表面積の少なくとも７０％、又は少なくとも８０％、又は少なくとも９０％、又は少なくとも９５％内の各点における量は、その量の最大変動の２０パーセント以下、又は１５パーセント以下、又は１０パーセント以下、又は５パーセント以下だけ対称動作よって判定される対応点における量とは異なる。
いくつかの実施形態では、Ｔｍｉｎは、第１、第２、第３、及び第４の軸１３２０、１３３０、１３２５、及び１３３５のうちのいずれか１つ以上周りの反射下で実質的に対称である。軸周りの反射とは、平面視での、又は反射型偏光子の中心を通り、かつ反射型偏光子に垂直な光軸に垂直な平面上への投影での、軸周りの反射を指す。反射対称はまた、平面周りの反射によって特徴付けられてもよい。軸周りの対称又は反対称として説明される量はまた、反射型偏光子の軸及び光軸を含む平面周りに対称又は反対称であってもよい。いくつかの実施形態では、Ｔｍｉｎは、光軸、並びに第１、第２、第３、及び第４の軸１３２０、１３３０、１３２５、及び１３３５のうちのいずれかを含む１つ以上の平面のそれぞれ周りの反射下で実質的に対称である。
他の実施形態では、Ｔｍｉｎは、第３の軸１３２５に沿った反射型偏光子の第１の部分において比較的大きく、第４の軸１３３５に沿った部分から離れる方向に減少する。このことは図１４に概略的に示されている。
図１４は、本明細書のいくつかの実施形態による、反射型偏光子１４００の所定の波長におけるブロック偏光状態の最小透過率（Ｔｍｉｎ）の概略図である。図示したＴｍｉｎは、入射光に向かって凸状である反射型偏光子への、ｚ軸に平行な光に対して、又は垂直入射光に対して判定することができる。一定のＴｍｉｎの等高線１４７２ａ及び１４７２ｂが示されている。反射型偏光子１４００の連続的な第１の部分１４７１は、反射型偏光子１４００の第１の端部１４７４と第２の端部１４７５との間に延び、反射型偏光子１４００の最大横寸法Ｄ（正面平面視での最大寸法）の少なくとも３％、又は少なくとも５％、又は少なくとも８％、又は少なくとも１０％である最小幅Ｗを有する。いくつかの実施形態では、幅Ｗは、Ｄの８０％以下、又は７０％以下、又は６０％以下、又は５０％以下、又は４０％以下である。第１の部分１４７１は、第１の部分１４７１に含まれない反射型偏光子１４００の部分として、反射型偏光子１４００の分離した第２の部分１４６６及び第３の部分１４７６を画定する。いくつかの実施形態では、Ｔｍｉｎは、第１の部分１４７１において概ねより大きく、第２の部分１４６６及び第３の部分１４７６において概ねより小さい。Ｔｍｉｎのこの挙動は、いくつかの実施形態による、半径方向での延伸が実質的に一定であるプロセスを使用して湾曲形状に形成された反射型偏光子フィルムに特有であることが見出されている。第１の部分１４７１において概ねより大きく、第２の部分１４６６及び第３の部分１４７６において概ねより小さいＴｍｉｎは、ブロック偏光状態に対する反射型偏光子１４００の最小透過率が、第２の部分１４６６の５０％より大きい内の各位置、及び第３の部分１４７６の５０％より大きい内の各位置よりも、第１の部分１４７１の５０％より大きい内の各位置において大きいことを意味すると理解することができる。換言すれば、第１の領域が第１の部分１４７１の総面積の５０％より大きく、第２の領域が第２の部分１４６６の総面積の５０％よりも大きく、かつ第３の領域が第３の部分１４７６の総面積の５０％より大きい、第１の部分１４７１内の第１の領域、第２の部分１４６６内の第２の領域、及び第３の部分１４７６内の第３の領域に関して、ブロック偏光状態に対する反射型偏光子１４００の最小透過率は、第２及び第３の領域内の各位置よりも第１の領域内の各位置において高い。第１、第２、及び／又は第３の領域は、連続的、又は不連続であってもよい。いくつかの実施形態では、ブロック偏光状態に対する反射型偏光子１４００の最小透過率は、第２の部分１４６６の６０％、７０％、又は８０％、又は９０％よりも大きい内の各位置、及び第３の部分１４７６の６０％、７０％、又は８０％、又は９０％より大きい内の各位置よりも、第１の部分１４７１の６０％、又は７０％、又は８０％、又は９０％よりも大きい内の各位置において高い。
第１の部分１４７１は、図１４に概略的に示されるように、実質的に一定の方向に沿って延びてもよく、又は第１の部分１４７１は、湾曲形状を有してもよい。第１の部分１４７１が実質的に一定方向に沿って延びる実施形態では、ブロック偏光状態の最小透過率（Ｔｍｉｎ）は、一定方向周りの反射下で実質的に対称であってもよく、又は光軸（ｚ軸に対して平行）及び一定方向を含む平面周りの反射下で実質的に対称であってもよい。第１の部分が湾曲形状を有する実施形態では、Ｔｍｉｎは、対称軸又は対称面を有しなくてもよい。図１５は、本明細書のいくつかの実施形態による、反射型偏光子１５００の所定の波長におけるＴｍｉｎの概略図である。要素１５７１、１５７４、１５７５、１５７２ａ、１５７２ｂ、１５６６、及び１５７６は、第１の部分１５７１が反射型偏光子１５００の第１の端部１５７４と第２の端部１５７５との間に曲線に沿って延びることを除いて、要素１５７１、１５７４、１５７５、１５７２ａ、１５７２ｂ、１５６６、及び１５７６それぞれについて説明したようなものである。図１４及び図１５の反射型偏光子は、ｙ軸に平行な、反射型偏光子の中心におけるブロック軸を有してもよい。
場合によっては、本明細書の反射型偏光子は、領域の関数としての領域にわたる量の範囲によって特徴付けることができる。領域にわたる量の範囲は、領域内の量の最大値から領域内の量の最小値を差し引いた値であり、領域にわたる量の最大変動と呼ばれることがある。場合によっては、反射型偏光子の中心の弧長ｒ内又は反射型偏光子の中心の半径Ｒ（反射型偏光子の中心を通る軸からの円柱座標距離（例えば、図１を参照））内の領域を考慮することが有用である。図１６は、中心位置１６０５を有し、かつ反射型偏光子１６００に垂直な反射型偏光子１６００の中心１６０５を通過する光軸から半径Ｒ内の領域１６２７を有する、反射型偏光子１６００の概略正面平面図である。反射型偏光子１６００は、光軸からの最大半径Ｒｍを有する。場合によっては、領域１６２７は、半径Ｒではなく、反射型偏光子１６００の領域１６２７の面積（曲面の面積）の観点から特徴付けられてもよい。
図１７は、反射型偏光子の中心と反射型偏光子に垂直な反射型偏光子の中心を通過する光軸からの半径Ｒとの間の反射型偏光子の領域内のＴｍｉｎの最大変動の概略図である。曲線１７２６は、フィルムの円周方向での延伸が実質的に一定であるプロセスを使用して湾曲形状に形成された反射型偏光子の半径Ｒを有する領域（例えば、図１６に示す領域１６２７を参照）内のＴｍｉｎの範囲である。曲線１７２３は、フィルムの半径方向での延伸が実質的に一定であるプロセスを使用して湾曲形状に形成された反射型偏光子の半径Ｒを有する領域内のＴｍｉｎの範囲である。いくつかの実施形態では、ブロック偏光状態の最小透過率の最大変動（パーセントではなく割合として表される）は、最大半径Ｒｍの０．４～０．７倍の範囲内のＲに対して、約０．００１～約０．００５の範囲である。いくつかの実施形態では、ブロック偏光状態の最小透過率の最大変動は、約０．６のＲ／Ｒｍに対して約０．００１～約０．００３の範囲である（例えば、曲線１７２３に関して）。いくつかの実施形態では、ブロック偏光状態の最小透過率の最大変動は、約０．６のＲ／Ｒｍに対して約０．００１～約０．００３の範囲である（例えば、曲線１７２６に関して）。
反射型偏光子を特徴付けるために使用することができる別の量は、ブロック偏光状態の変動である。例えば、異なる位置におけるブロック軸の相対的な配向を指定することができ、及び／又は反射型偏光子の中心と反射型偏光子に垂直な反射型偏光子の中心を通過する光軸からの半径Ｒとの間の反射型偏光子の領域内のブロック偏光状態の最大変動を指定することができる。ブロック偏光状態又はブロック軸は、反射型偏光子に垂直な反射型偏光子の中心を通過する光軸に垂直な平面上への投影における方向又は配向によって、説明することができる。この方向の角度変動は、ブロック偏光状態の変動であり、度で表すことができる。ブロック軸は、反射型偏光子が入射光に向かって凸状である、反射型偏光子の中心を通過し、かつ中心に垂直な軸に平行な光に対して判定することができる。
図１８は、ブロック偏光状態のあり得る変動を示す反射型偏光子１８００の概略正面平面図である。反射型偏光子１８００の中心１８０５は、ブロック軸１８０５ｂによって特徴付けられるブロック偏光状態を有する。位置１８１０－１、１８１０－２、１８１０－３、及び１８１０－４は、ブロック軸１８１０ｂ－１、１８１０ｂ－２、１８１０ｂ－３、及び１８１０ｂ－４それぞれによって特徴付けられるブロック偏光状態を有する。ブロック軸の変動は、反射型偏光子１８００に垂直な中心１８０５を通過する軸に直交する平面（ｘ－ｙ平面）上への投影で判定されるような、ブロック軸と中心１８０５におけるブロック軸１８０５ｂとの間の角度によって定量化することができる。この平面は、中心１８０５において反射型偏光子１８００に接する平面とすることができる。ブロック軸１８１０ｂ－１及び１８１０ｂ－２の角度α１及びα２が示されている。ブロック軸１８０５ｂに対する時計回りの回転は、図示された実施形態ではα１が正であり、α２が負であるように、正とすることができる。位置１９１０－１、１９１０－２、１９１０－３、及び１９１０－４は、縁部位置（中心１８０５よりも反射型偏光子１８００の縁部に近い）であってもよい。第１の位置１８１０－１及び第２の位置１８１０－２は、反射型偏光子１８００の中心１８０５において約７０度～約１１０度の範囲であり得る、角度θを画定する。第３の位置１８１０－３及び第４の位置１８１０－４、並びに／又は第２の位置１８１０－２及び第３の位置１８１０－３、並びに／又は第１の位置１８１０－１及び第４の位置１８１０－４は、同様に、反射型偏光子の中心１８０５において約７０度～約１１０度の範囲の角度を画定してもよい。
図１９は、ブロック偏光状態の別のあり得る変動を示す反射型偏光子１９００の概略正面平面図である。反射型偏光子１９００の中心１９０５は、ブロック軸１９０５ｂによって特徴付けられるブロック偏光状態を有する。位置１９１０－１、１９１０－２、１９１０－３、１９１０－４、及び１９１０－５は、ブロック軸１９１０ｂ－１、１９１０ｂ－２、１９１０ｂ－３、１９１０ｂ－４、及び１９１０ｂ－４それぞれによって特徴付けられるブロック偏光状態を有する。ブロック軸１９１０ｂ－１及び１８１０ｂ－２の角度α１及びα２が示されている。図１９に示す実施形態では、角度α１及びα２は、図１８に示す実施形態の対応する角度とは反対の符号を有する。図１８の実施形態は、半径方向での延伸が実質的に一定であるプロセスを使用して成形された反射型偏光子を表し、図１９の実施形態は、円周方向での延伸が実質的に一定であるプロセスを使用して成形された反射型偏光子を表す。いくつかの実施形態では、反射型偏光子１９００内の少なくとも１つの層は、本明細書の他の箇所で更に説明されるように、中心１９０５及び位置１９１０－５において実質的に一軸配向される。同様に、いくつかの実施形態では、反射型偏光子１８００内の少なくとも１つの層は、少なくとも１つの位置において実質的に一軸配向される。
いくつかの実施形態では、少なくとも１つの第１の縁部位置のブロック偏光状態は、反射型偏光子の中心におけるブロック偏光状態から時計回りに回転され、少なくとも１つの第２の縁部位置のブロック偏光状態は、反射型偏光子の中心におけるブロック偏光状態から反時計回りに回転され、少なくとも１つの第１の位置及び第２の位置は、反射型偏光子の中心において約７０度～約１１０度の範囲の角度θを画定する。いくつかの実施形態では、第２の位置は、角度θによる第１の位置の反射型偏光子の中心を通る光軸周りの時計回りの回転によって画定される。例えば、位置１８１０－２は、角度θによる位置１８１０－１の反射型偏光子１８００の中心１８０５を通る光軸（ｚ軸に平行）周りの時計回りの回転によって画定されてもよい。いくつかの実施形態では、第２の位置は、角度θによる第１の位置の反射型偏光子の中心を通る光軸周りの反時計回りの回転によって画定される。例えば、位置１９１０－１は、角度θによる位置１９１０－２の反射型偏光子１９００の中心１９０５を通る光軸（ｚ軸に平行）周りの反時計回りの回転によって画定されてもよい。
いくつかの実施形態では、少なくとも１つの第１の縁部位置のブロック偏光状態は、反射型偏光子の中心におけるブロック偏光状態から、少なくとも０．２度、又は少なくとも０．５度、又は少なくとも１度、又は少なくとも１．５度だけ時計回りに回転される。いくつかの実施形態では、少なくとも１つの第１の縁部位置のブロック偏光状態は、反射型偏光子の中心におけるブロック偏光状態から、４度以下、又は３．５度以下、又は３度以下だけ時計回りに回転される。いくつかの実施形態では、少なくとも１つの第２の縁部位置のブロック偏光状態は、反射型偏光子の中心におけるブロック偏光状態から、少なくとも０．２度、又は少なくとも０．５度、又は少なくとも１度、又は少なくとも１．５度だけ反時計回りに回転される。いくつかの実施形態では、少なくとも１つの第２の縁部位置のブロック偏光状態は、反射型偏光子の中心におけるブロック偏光状態から、４度以下、又は３．５度以下、又は３度以下だけ時計回りに回転される。いくつかの実施形態では、少なくとも１つの第１及び第２の縁部位置のブロック偏光状態は、２度より大きく、又は２．５度より大きくだけ互いに対して回転される。互いに対する回転は、異なる指示がない限り、非負の回転を指す。いくつかの実施形態では、少なくとも１つの第１及び第２の縁部位置のブロック偏光状態は、７度以下、又は６度以下、又は５度以下だけ互いに対して回転される。いくつかの実施形態では、少なくとも１つの第３及び第４の縁部位置のブロック偏光状態は、２度未満、又は１．５度未満だけ互いに対して回転される。
いくつかの実施形態では、少なくとも１つの第３の縁部位置のブロック偏光状態は、反射型偏光子の中心におけるブロック偏光状態から時計回りに回転され、少なくとも１つの第４の縁部位置のブロック偏光状態は、反射型偏光子の中心におけるブロック偏光状態から反時計回りに回転される。例えば、ブロック偏光軸１８１０ｂ－３は、中心１８０５におけるブロック偏光軸１８０５ｂから時計回りに回転され、ブロック偏光軸１８１０ｂ－４は、中心１８０５におけるブロック偏光軸１８０５ｂから反時計回りに回転される。別の例として、ブロック偏光軸１９１０ｂ－４は、中心１９０５におけるブロック偏光軸１９０５ｂから時計回りに回転され、ブロック偏光軸１９１０ｂ－３は、中心１９０５におけるブロック偏光軸１９０５ｂから反時計回りに回転される。いくつかの実施形態では、少なくとも１つの第１の位置及び第３の位置は、反射型偏光子の中心において約１６０度～約１８０度の範囲の角度を画定し、少なくとも１つの第２の位置及び第４の位置は、反射型偏光子の中心において約１６０度～約１８０度の範囲の角度を画定する。
図２０は、反射型偏光子の中心と反射型偏光子に垂直な反射型偏光子の中心を通過する光軸からの半径Ｒとの間の反射型偏光子の領域内のブロック軸の最大変動のグラフである。曲線２０２６は、フィルムの円周方向での延伸が実質的に一定であるプロセスを使用して湾曲形状に形成された反射型偏光子の半径Ｒを有する領域（例えば、図１６に示す領域１６２７を参照）内のブロック偏光状態の最大変動である。曲線２０２３は、フィルムの半径方向での延伸が実質的に一定であるプロセスを使用して湾曲形状に形成された反射型偏光子の半径Ｒを有する領域内のブロック偏光状態の最大変動である。いくつかの実施形態では、ブロック偏光状態の最大変動は、Ｒ１未満のＲに対して約１度未満であり、Ｒ２よりも大きいＲに対して約２度よりも大きく、Ｒ１は、少なくとも０．４Ｒｍであり、Ｒ２は、Ｒ１より大きく、かつ０．９５Ｒｍ以下、又は０．９Ｒｍ以下である。いくつかの実施形態では、Ｒ１は、約０．４５Ｒｍであり、Ｒ２は、約０．７Ｒｍである。いくつかの実施形態では、最大変動は、０．７５Ｒｍより大きいＲに対して、約３度より大きい。いくつかの実施形態では、最大変動は、０．８５Ｒｍより大きいＲに対して、約３．５度より大きい。いくつかの実施形態では、Ｒ１は、約１８ｍｍであり、Ｒ２は、約２８ｍｍであり、Ｒｍは、約４１．５ｍｍである。いくつかの実施形態では、Ｒｍに等しいＲに対する最大変動は、７度以下、又は６度以下、又は５度以下である。
いくつかの実施形態では、反射型偏光子は、反射型偏光子の光軸から半径Ｒ以内の反射型偏光子の領域にわたって、約１度未満、又は約０．８度未満、又は約０．６度未満、又は約０．５度未満、又は約０．４度未満、又は約０．３度未満のブロック偏光状態の最大変動を有し、Ｒは、０．８Ｒｍ未満、又は０．９Ｒｍ未満、又はＲｍ以下である。これは、例えば、反射型偏光子の中心付近の反射型偏光子の一部分（例えば、反射型偏光子の中心からＲ１の半径内の反射型偏光子２０２６の部分）を切り取ることによって達成することができる。いくつかの実施形態では、反射型偏光子又は反射型偏光子の切り取られた部分は、約０．１以上、又は約０．１５以上、又は約０．１８以上の最大サグと直径との比を有する。
図２１～２２は、本明細書のいくつかの実施形態による、反射型偏光子の所定の波長における通過偏光状態に対して生じる最大透過率（Ｔｍａｘ）のあり得るパターンを概略的に示す。図示したＴｍａｘは、入射光に向かって凸状である反射型偏光子への、ｚ軸に平行な光に対して、又は垂直入射光に対して判定することができる。図２１の実施形態は、円周方向での延伸が実質的に一定であるプロセスを使用して成形された反射型偏光子を表し、図２２の実施形態は、いくつかの実施形態による、半径方向での延伸が実質的に一定であるプロセスを使用して成形された反射型偏光子を表す。
図２１は、本明細書のいくつかの実施形態による、反射型偏光子２１００の所定の波長における通過偏光状態の最大透過率の概略図である。実質的に矩形の形状を有し、かつ反射型偏光子２１００の中心２１０５を実質的に中心にした、一定のＴｍａｘの等高線２１７２が示されている。実質的に矩形の形状は、一般に、幅が長さ以下の長さ及び幅を有する。実質的に矩形の形状は、辺の曲率半径が、辺の長さの少なくとも５倍であり、丸みを帯びた角部の曲率半径が、矩形の幅の１／５以下である、丸みを帯びた角部及び／又は湾曲した辺を有してもよい、矩形又はほぼ矩形の形状である。実質的に矩形の形状は、反射型偏光子の中心と実質的に矩形の形状の中心との間の距離が矩形の幅の１／５以下である場合、反射型偏光子の中心を実質的に中心にしている。いくつかの実施形態では、等高線２１７２内の領域２１２７内の位置の少なくとも７０％、又は少なくとも８０％、又は少なくとも９０％、又は１００％のそれぞれにおける通過偏光状態に対する最大透過率は、反射型偏光子２１００の中心２１０５における通過偏光状態に対する最大透過率の２％以内、又は１．５％以内、又は１．０％以内である。例えば、中心２１０５は、０．９０の最大透過率を有してもよく、領域２１２７内の各位置は、領域２１２７内の各位置が、反射型偏光子２１００の中心２１０５における通過偏光状態に対する最大透過率の１．１１％（０．０１／０．９０＊１００％）以内の最大透過率を有するように、０．８９～０．９１の範囲の最大透過率を有してもよい。
領域内の少なくとも指定されたパーセンテージの位置は、特性が、領域の総面積の少なくとも指定されたパーセンテージの面積全体にわたって満足される場合、その特性を有する。例えば、領域全体にわたる通過偏光状態に対する最大透過率は、領域内の十分な数の点における最大透過率を測定して、最大透過率が測定される点間の補間によって領域全体にわたる最大透過率を判定することによって、判定することができる。例えば、このようにして判定された最大透過率が、領域の総面積の少なくとも７０％の面積（連続又は不連続）の中心点における最大透過率の１パーセント以内である場合、最大透過率は、領域内の位置の少なくとも７０％の中心点における最大透過率の１パーセント以内である。
いくつかの実施形態では、領域２１２７の外側の反射型偏光子２１００の位置の少なくとも大部分、又は少なくとも６０％、又は少なくとも７０％、又は少なくとも８０％の通過偏光状態に対する最大透過率は、反射型偏光子２１００の中心２１０５における通過偏光状態に対する最大透過率よりも少なくとも１％低い、又は少なくとも１．５％、又は少なくとも２％低い。
いくつかの実施形態では、反射型偏光子２１００の中心２１０５におけるブロック軸は、第２の軸２１３０に沿っている。いくつかの実施形態では、領域２１２７は、反射型偏光子２１００の最大横寸法Ｄの少なくとも半分のブロック偏光状態と実質的に平行な長さＬを有する。いくつかの実施形態では、矩形領域２１２７は、反射型偏光子２１００の最大横寸法Ｄの少なくとも２５％の通過偏光状態と実質的に平行な幅Ｗを有する。
図２２は、本明細書のいくつかの実施形態による、反射型偏光子２２００の所定の波長（例えば、約５５０ｎｍ）における通過偏光状態の最大透過率の概略図である。一定のＴｍａｘの等高線２２７２が示されている。直交する第１の軸２２２０及び第２の軸２２３０は、反射型偏光子２２００の中心位置２２０５で互いに交差する。いくつかの実施形態では、通過偏光状態に対する反射型偏光子の最大透過率は、中心位置２２０５では、Ｔｃであり、反射型偏光子２２００の第１の縁部２２６０付近の第１の軸２２２０に沿った第１の縁部位置２２１３では、Ｔ１であり、反射型偏光子２２００の第１の縁部２２６０の反対側の第２の縁部２２６１付近の第１の軸２２２０に沿った第２の縁部位置２２１４では、Ｔ２であり、反射型偏光子の第３の縁部２２６２付近の第２の軸２２３０に沿った第３の縁部位置２２１５では、Ｔ３であり、反射型偏光子２２００の第３の縁部２２６２の反対側の第４の縁部２２６３付近の第２の軸２２３０に沿った第４の縁部位置２２１６では、Ｔ４である。いくつかの実施形態では、Ｔｃは、Ｔ１及びＴ２の最大値より大きく、Ｔ３及びＴ４の最小値未満である。
いくつかの実施形態では、Ｔｍａｘは、第１及び第２の軸２２２０及び２２３０の一方又は両方周りの反射下で実質的に対称である。いくつかの実施形態では、Ｔｍａｘは、中心位置２２０５においてｚ軸に平行な光軸を含み、かつ第１及び第２の軸２２２０及び２２３０のうちの１つを含む、一方又は両方の平面周りの反射下で実質的に対称である。いくつかの実施形態では、反射型偏光子２２００の中心２２０５におけるブロック軸は、第２の軸２２３０に沿っている。
線形減衰は、（Ｔｍａｘ－Ｔｍｉｎ）／（Ｔｍａｘ＋Ｔｍｉｎ）によって与えられる。いくつかの実施形態では、線形減衰の空間的変動は、Ｔｍｉｎの空間的変動によって支配される。線形減衰の等高線グラフは、比較的低い線形減衰の領域に対応する比較的高いＴｍｉｎの領域及び比較的高い線形減衰の領域に対応する比較的低いＴｍｉｎの領域を有する、Ｔｍｉｎの等高線グラフと同様に見える場合がある。いくつかの実施形態では、反射型偏光子に垂直な反射型偏光子の中心を通過する光軸から半径Ｒ内の反射型偏光子の領域に関して、線形減衰は、Ｒが少なくとも約０．４Ｒｍ、又は少なくとも約０．５Ｒｍ、又は少なくとも約０．６Ｒｍ、又はＲｍの０．４～０．７倍の範囲であるとき、約０．９８以上、又は約０．９８５以上、又は０．９９以上である。いくつかの実施形態では、反射型偏光子に垂直な反射型偏光子の中心を通過する光軸から半径Ｒ内の反射型偏光子の領域に関して、線形減衰の最大変動は、Ｒが少なくとも約０．４Ｒｍ、又は少なくとも約０．５Ｒｍ、又は少なくとも約０．６Ｒｍ、又はＲｍの０．４～０．７倍の範囲であるとき、約０．０１５以下、又は約０．０１以下、又は０．００８以下である。
図２３は、本明細書のいくつかの実施形態による、反射型偏光子２３００の所定の波長における円形減衰の概略図である。円形減衰は、（ＴＲ－ＴＬ）／（ＴＲ＋ＴＬ）を指し、式中、ＴＲ及びＴＬは、それぞれ右円偏光及び左円偏光である入射光の透過率である。図示した円形減衰は、入射光に向かって凸状である反射型偏光子への、ｚ軸に平行な光に対して、又は垂直入射光に対して判定することができる。一定の円形減衰の等高線２３７２が示されている。図示した等高線２３７２は、いくつかの実施形態による、円周方向での延伸が実質的に一定であるプロセスを使用して湾曲形状に形成された反射型偏光子フィルムに特有であることが見出されている。
反射型偏光子２３００の中心位置２３０５で互いに交差する直交する第１の軸２３２５及び第２の軸２３３５、並びに反射型偏光子２３００の中心位置２３０５で互いに交差する直交する第３の軸２３２０及び第４の軸２３３０が示されている。図示した実施形態では、中心位置２３０５におけるブロック状態は、第４の軸２３３０に沿っている。第１の軸２３２５と第３の軸２３２０との間の角度?は、約４５度である。いくつかの実施形態では、円形ｄｉａａｔｅｎｔｕａｔｉｏｎは、第３及び第４の軸２３２０及び２３３０に沿ってほぼゼロかつほぼ一定であり、第１の軸２３２５に沿った各方向に沿って中心位置２３０５から離れる方向に概ね減少し、第２の軸２３３５に沿った各方向に沿って中心位置２３０５から離れる方向に概ね増加する。いくつかの実施形態では、反射型偏光子２３００の円形減衰は、中心位置では、ＣＤｃであり、反射型偏光子の第１の縁部２３７４付近の第１の軸２３２５に沿った第１の縁部位置２３１７では、ＣＤ１であり、反射型偏光子２３００の第１の縁部２３７４の反対側の第２の縁部２３７５付近の第１の軸２３２５に沿った第２の縁部位置２３１８では、ＣＤ２であり、反射型偏光子の第３の縁部２３７８付近の第２の軸２３３５に沿った第３の縁部位置２３１９では、ＣＤ３であり、反射型偏光子の第３の縁部の反対側の第４の縁部２３７９付近の第２の軸２３３５に沿った第４の縁部位置２３２１では、ＣＤ４である。いくつかの実施形態では、Ｔｃは、ＣＤ３及びＣＤ４の最小値未満であり、ＣＤ１及びＣＤ２の最大値よりも大きい。いくつかの実施形態では、ＣＤ１及びＣＤ２のそれぞれは、負であり、ＣＤ３及びＣＤ４のそれぞれは、正である。
いくつかの実施形態では、円形減衰は、第１の軸２３２５周りの反射下で実質的に対称である。いくつかの実施形態では、円形減衰は、第２の軸２３３５周りの反射下で実質的に対称である。いくつかの実施形態では、円形減衰は、第１及び第２の軸２３２５及び２３３５のそれぞれ周りの反射下で実質的に対称である。いくつかの実施形態では、円形減衰は、第３の軸２３２０周りの反射下で実質的に反対称である。いくつかの実施形態では、円形減衰は、第４軸２３３０周りの反射下で実質的に反対称である。いくつかの実施形態では、円形減衰は、第３及び第４の軸２３２０及び２３３０のそれぞれ周りの反射下で実質的に反対称である。
図２４は、反射型偏光子の中心と反射型偏光子に垂直な反射型偏光子の中心を通過する光軸からの半径Ｒとの間の反射型偏光子の領域の円形減衰の最大変動の概略図である。曲線２４２６は、フィルムの円周方向での延伸が実質的に一定であるプロセスを使用して湾曲形状に形成された反射型偏光子の半径Ｒを有する領域（例えば、図１６に示す領域１６２７を参照）内の円形減衰の最大変動である。曲線２４２３は、フィルムの半径方向での延伸が実質的に一定であるプロセスを使用して湾曲形状に形成された反射型偏光子の半径Ｒを有する領域内の円形減衰の最大変動である。反射型偏光子の領域は、半径Ｒではなく反射型偏光子の領域の面積の観点から定義することができる。領域は、円形であってもよく、又はなくてもよく、反射型偏光子の中心を中心としてもよく、又は中心としなくてもよい。
いくつかの実施形態では、反射型偏光子の総面積以下の面積を有する反射型偏光子の領域は、少なくとも０．０４、又は少なくとも０．０６、又は少なくとも０．０７、又は少なくとも０．０８、又は少なくとも０．０９である円形減衰の最大変動を有する。いくつかの実施形態では、円形減衰の最大変動は、領域の面積が反射型偏光子の総面積に等しい場合、０．１５以下又は０．１２以下である。例えば、反射型偏光子は、曲線２４２６で示されるような円形減衰の最大変動を有してもよく、半径Ｒ３内の領域は、反射型偏光子の総面積の半分より大きい面積を有してもよく、少なくとも０．０４の円形減衰の最大変動を有してもよい。いくつかの実施形態では、領域の面積は、総面積の約０．３倍であり、最大変動は、少なくとも０．０６である。いくつかの実施形態では、領域の面積は、総面積の約０．５倍であり、最大変動は、少なくとも０．０７である。いくつかの実施形態では、領域の面積は、総面積であり、最大変動は、少なくとも０．０９である。
いくつかの実施形態では、反射型偏光子の総面積の半分よりも大きい面積を有する反射型偏光子の領域は、０．０１５以下、又は０．０１以下、又は０．００８以下、又は０．００６以下である円形減衰の最大変動を有する。例えば、反射型偏光子は、曲線２４２３で示されるような円形減衰の最大変動を有してもよく、半径Ｒ３内の領域は、反射型偏光子の総面積の半分より大きい面積を有してもよく、０．０１５以下の円形減衰の最大変動を有してもよい。いくつかの実施形態では、領域内の円形減衰の最大絶対値は、０．００７以下、又は０．００５以下、又は０．００４以下、又は０．００３以下である。いくつかの実施形態では、最大円形減衰は、最小円形減衰の負にほぼ等しく、円形減衰の最大絶対値は、円形減衰の最大変動の約半分である。いくつかの実施形態では、領域の面積は、反射型偏光子の総面積の少なくとも７０パーセント、又は少なくとも８０％である。いくつかの実施形態では、領域の面積は、反射型偏光子の総面積であり、円形減衰の最大変動又は円形減衰の最大絶対値は、対応する上記範囲のいずれかにある。いくつかの実施形態では、領域の面積は、反射型偏光子の総面積であり、円形減衰の最大変動は、０．０１以下である。いくつかの実施形態では、領域の面積は、反射型偏光子の総面積であり、円形減衰の最大絶対値は、０．００５以下である。
いくつかの実施形態では、円周方向での延伸が実質的に一定であるプロセスで形成された反射型偏光子の円形減衰の範囲は、未形成フィルムの範囲よりも実質的に大きい。いくつかの実施形態では、半径方向での延伸が実質的に一定であるプロセスで形成された反射型偏光子の円形減衰の範囲は、未形成フィルムの範囲と実質的に同じである。
いくつかの実施形態では、本明細書の反射型偏光子は、反射型偏光子と、反射型偏光子に結合された少なくとも１つの非接着性可撓性光学層と、を含む光学積層体に使用される。いくつかの実施形態では、光学システムは、光学素子の湾曲した第１の主表面に結合され、かつそれに適合する光学積層体を含む。光学システムは、反射型偏光子に隣接し、かつ離間した部分反射体を更に含んでもよく、反射型偏光子と部分反射体との間に配置されたリターダを含んでもよい。いくつかの実施形態では、光学システムは、本明細書の反射型偏光子（非接着性可撓性光学層を有する又は有さない）を含み、反射型偏光子に隣接し、かつ離間した部分反射体を更に含み、反射型偏光子と部分反射体との間に配置されたリターダを含んでもよい。
本明細書に記載の反射型偏光子のうちのいずれかは、ベストフィット曲率半径によって特徴付けられた形状を有してもよい。ある表面のベストフィット曲率半径とは、ある球体に対する法線に沿った球体から表面への距離の二乗が最小になる、球体の半径である。ベストフィット曲率半径は、従来の最小二乗適合技法を使用して決定することができる。反射型偏光子フィルムなどの光学フィルムのベストフィット曲率半径は、フィルムの主表面のベストフィット曲率半径である。いくつかの実施形態では、反射型偏光子は、少なくとも６ｍｍ、又は少なくとも１０ｍｍ、又は少なくとも１５ｍｍ、又は少なくとも２０ｍｍ、又は少なくとも２５ｍｍ、又は少なくとも３０ｍｍのベストフィット曲率半径を有する。いくつかの実施形態では、反射型偏光子は、１０００ｍｍ以下、又は５００ｍｍ以下、又は２５０ｍｍ以下、又は２００ｍｍ以下、又は１５０ｍｍ以下のベストフィット曲率半径を有する。
図２５は、湾曲した第１の主表面２５１１及び反対側の第２の主表面２５１２を有する第１の光学素子２５１０と、第１の光学素子２５１０の湾曲した第１の主表面２５１１に結合され、かつそれに適合する光学積層体２５２０と、を含む光学システム２５００の概略断面図である。いくつかの実施形態では、光学積層体２５２０は、任意選択の接着剤層２５３２を介して光学素子２５１０に結合される。いくつかの実施形態では、光学積層体２５２０は、例えば、インサート成形プロセスによって光学素子２５１０が光学積層体２５２０上に一体的に形成されることにより、光学素子２５１０に結合され、任意選択の接着剤層２５３２は、省略される。光学積層体２５２０は、第１の層２５２２と、第２の層２５２６と、を含む。第１の層２５２２は、反対側にある第１の主表面２５２３及び第２の主表面２５２４を有し、第２の層２５２６は、反対側にある第１の主表面２５２７及び第２の主表面２５２８を有する。いくつかの実施形態では、第１の層２５２２及び第２の層２５２６は、任意選択の接着剤層２５３０を介して互いに結合される。いくつかの実施形態では、第１の層２５２２及び第２の層２５２６は、互いに一体的に形成されることによって互いに結合され、任意選択の接着剤層２５３０は、省略される。
いくつかの実施形態では、第１の層２５２２は、本明細書の反射型偏光子であり、第２の層２５２６は、反射型偏光子に結合され、かつ実質的に平行な反対側にある第１の主表面２５２７及び第２の主表面２５２８を有する、非接着性可撓性光学層である。いくつかの実施形態では、第２の層２５２６は、本明細書の反射型偏光子であり、第１の層２５２２は、反射型偏光子に結合され、かつ実質的に平行な反対側にある第１の主表面２５２３及び第２の主表面２５２４を有する、非接着性可撓性光学層である。
非接着性可撓性光学層は、例えば、ポリマーフィルム、反射防止コーティング、吸収型偏光子、中性密度フィルタ、リターダ、染色フィルム、光学フィルタ、電気回路を含むフィルム、電極、赤外線反射フィルム、多層光学フィルム、及び拡散体のうちの１つ以上である、又はそれを含むことができる。いくつかの実施形態では、非接着性可撓性光学層は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）又はポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）又はポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）などの光学的に透明なフィルム基材である。フィルム又は接着剤層は、少なくとも８０パーセントの所定の波長範囲（例えば、４００ｎｍ～７００ｎｍ）内の非偏光垂直入射光の透過率を有し、かつ２０パーセント未満のヘイズを有する場合、光学的に透明であると説明することができる。いくつかの実施形態では、非接着性可撓性光学層は、少なくとも８５パーセントの４００ｎｍ～７００ｎｍの波長範囲内の非偏光垂直入射光の透過率を有し、かつ１０パーセント未満のヘイズを有する、光学的に透明なフィルムである。いくつかの実施形態では、非接着性可撓性光学層は、染色フィルム及び／又は光学フィルタであり、透過光のなんらかの様相（例えば、色又は強度）を調整するために使用される。例えば、中性密度フィルタを含めることにより、フィルタを透過した全ての可視光の強度を低減することができる。例えば、電気回路を使用して、ディスプレイ素子又はタッチ感知素子を制御することができる。電極は、例えば、液晶ディスプレイ素子を暗くするために含まれてもよい。
いくつかの実施形態では、非接着性可撓性光学層の少なくとも１つの位置は、約１００ｎｍ未満、又は約８０ｎｍ未満、又は約６０ｎｍ未満、又は約４０ｎｍ未満、又は約３０ｎｍ未満、又は約２０ｎｍ未満、又は約１０ｎｍ未満、又は約５ｎｍ未満の光学的リターダンスを有する。いくつかの実施形態では、非接着性可撓性光学層の少なくとも１つの位置は、約２００ｎｍより大きい、又は約４００ｎｍより大きい、又は約８００ｎｍより大きい、又は約１０００ｎｍより大きい、又は約２０００ｎｍより大きい、又は約３０００ｎｍより大きい、又は約４０００ｎｍより大きい光学的リターダンスを有する。ある層のある位置における光学的リターダンスは、その位置でその層に垂直入射する、その層を透過する光線の位相リターダンスである。層が偏光子である場合、位相リターダンスは、偏光子の通過偏光状態を有する垂直入射光に対して判定される。入射光線の波長は、別段の指定がない限り、約５５０ｎｍである。リターダンスは、例えば、通常の製造変動に起因して、位置によって変化し得る。いくつかの実施形態では、非接着性可撓性光学層の各位置は、少なくとも１つの位置に関して上述した範囲のうちの１つの光学的リターダンスを有する。
いくつかの実施形態では、光学素子２５１０は、光学レンズであり、光学システム２５００は、レンズアセンブリである。いくつかの実施形態では、光学レンズは、少なくとも１つの方向に屈折力を有する。例えば、光学レンズは、図２５のｘ－ｙ－ｚ座標系を参照して、ｙ方向に屈折力を有するシリンドリカルレンズであってもよい。別の例として、光学レンズは、２つの相互に直交する方向（例えば、ｘ方向及びｙ方向）に湾曲していてもよく、２つの相互に直交する方向（例えば、ｘ方向及びｙ方向）に屈折力を有してもよい。いくつかの実施形態では、光学レンズは、実質的に平坦な表面を有する（例えば、第２の主表面２５１２は、平面であってもよい）。
図２６は、レンズアセンブリ２６００を含む光学システム２６０１の概略断面図である。レンズアセンブリ２６００は、光学構成要素２５００に対応してもよく、第１のレンズ２６１０と、第１のレンズ２６１０の湾曲した主表面上に配置され、かつそれに適合する光学積層体２６２０と、を含む。光学積層体２６２０は、第１の層２６２２及び第２の層２６２６を含む。任意選択の接着剤層は、第１の層２６２２と第２の層２６２６との間、及び／又は光学積層体２６２０と第１のレンズ２６１０との間に配置してもよい。いくつかの実施形態では、第１の層２６２２及び第２の層２６２６のうちの１つは、本明細書の反射型偏光子であり、第１の層２６２２及び第２の層２６２６の他方は、非接着性可撓性光学層である。光学システム２６０１は、リターダ２６３５と、リターダ２６３９と、第２のレンズ２６４０の主表面上に配置された部分反射体２６４２を有する第２のレンズ２６４０と、を更に含む。いくつかの実施形態では、光学システム２６０１は、ディスプレイ２６５０によって放出された画像を観察位置２６６５に表示するように適合される。
接着剤層のいずれも、約１マイクロメートル～約５０マイクロメートルの平均厚さを有してもよい。接着剤層は、例えば、感圧接着剤、ホットメルト接着剤、熱硬化性接着剤、溶媒系接着剤、及び水系接着剤のうちの１つ以上であってもよく、又はこれらを含んでもよい。いくつかの実施形態では、接着剤層は、直接隣接する層と実質的に屈折率が一致する。いくつかの実施形態では、接着剤層は、光学的に透明な接着剤層である。好適な光学的に透明な接着剤としては、例えば、３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから入手可能なもの（例えば、３Ｍ Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｌｅａｒ Ａｄｈｅｓｉｖｅ ８１７１及び８１７２（それぞれ、厚さ１ｍｉｌ及び２ｍｉｌ））、及びＮｏｒｌａｎｄ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ Ｉｎｃ．（Ｃｒａｎｂｕｒｙ，ＮＪ）から入手可能なＮｏｒｌａｎｄ Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｄｈｅｓｉｖｅｓが挙げられる。
いくつかの実施形態では、非接着性可撓性光学層は、実質的に平行な第１の主表面及び第２の主表面を有する。非接着性可撓性光学層の第１の主表面及び第２の主表面は、非接着性可撓性光学層が無視できる屈折力を有するように、主表面が十分に平行に近い場合、又は第１の主表面及び第２の主表面の少なくとも８０％にわたる両側の点の対のそれぞれにおける傾斜が３０度以下だけ異なる場合に、実質的に平行として説明することができる。いくつかの実施形態では、第１及び第２の主表面の少なくとも８０％、又は少なくとも８５％、又は少なくとも９０％にわたる、両側の点のそれぞれの対の傾斜は、２０度以下、又は３０度以下だけ異なる。両側の点は、非接着性可撓性光学層の厚さ方向に沿った線に沿った点を指し、線は、第１の主表面及び第２の主表面のうちの少なくとも１つに垂直である。
いくつかの実施形態では、第１のレンズ２６１０及び第１の光学積層体２６２０は、第２のレンズ２６４０から離間している。いくつかの実施形態では、第１のレンズ２６１０は、実質的に非平行な第１及び第２の主表面を有する第１の光学素子であり、第２のレンズ２６４０は、実質的に非平行な第１及び第２の主表面を有する第２の光学素子である。レンズの第１の主表面及び第２の主表面は、レンズが無視できない屈折力を有するように、主表面が十分異なる場合、又は第１及び第２の主表面上の両側の点の少なくとも１対における傾斜が少なくとも１０度だけ異なる場合に、実質的に非平行であると説明することができる。いくつかの実施形態では、第１及び第２の主表面上の両側の点の少なくとも１対における傾斜は、少なくとも２０度又は少なくとも３０度だけ異なる。両側の点は、レンズの厚さ方向に沿った線に沿った点を指し、線は、第１の主表面及び第２の主表面のうちの１つに垂直である。プリズムの第１の主表面及び第２の主表面は、表面間の角度が少なくとも約２０度である場合、実質的に非平行である。
光学システム２６０１の他の構成が可能である。いくつかの実施形態では、リターダ２６３５は、第１のレンズ２６１０の反対側の光学積層体２６２０上に配置されてもよく、又は部分反射体２６４２の反対側の第２のレンズ２６４０上に配置することができる。いくつかの実施形態では、リターダ２６３９は、部分反射体２６４２上に配置することができ、又はディスプレイ２６５０上に配置することができる。いくつかの実施形態では、第１のレンズ２６１０及び第２のレンズ２６４０は、単一のレンズ（例えば、１つの主表面上の部分反射体２６４２及び反対側の主表面上の光学積層体２６２０を有する）と置き換えられる。更に他の実施形態では、３つ以上のレンズが含まれる。光学システムの他の可能な構成は、米国特許出願公開第２０１７／００６８１００（Ｏｕｄｅｒｋｉｒｋら）に記載されている。光学積層体２６２０は、米国特許出願公開第２０１７／００６８１００号（Ｏｕｄｅｒｋｉｒｋら）に記載されている実施形態のいずれかの反射型偏光子の代わりに使用することができる。
いくつかの実施形態では、ディスプレイ２６５０は、反射型偏光子のブロック偏光状態の光を放出し、リターダ２６３５及び２６３９は、ディスプレイによって放出された光が最初にブロック偏光状態で反射型偏光子に入射するように配置される。例えば、リターダ２６３５及び２６３９は、互いに対して約９０度に配向された速軸を有してもよい。リターダ２６３５及び２６３９は、それぞれ、所定の波長範囲内の少なくとも１つの波長における１／４波長リターダであってもよい。他の構成もまた可能である。例えば、リターダ２６３５及び２６３９は、それぞれの速軸が整列された１／４波長リターダであってもよい。この場合、ディスプレイ２６５０は、光が最初にブロック状態で反射型偏光子に入射するように、反射型偏光子の通過偏光状態の光を放出することができる。
リターダ２６３５及び／又は２６３９は、基材若しくはレンズ上のコーティングであってもよく、又はリターダフィルムであってもよく、例えば、米国特許出願公開第２００２／０１８０９１６号（Ｓｃｈａｄｔら）、同第２００３／０２８０４８号（Ｃｈｅｒｋａｏｕｉら）、及び同第２００５／００７２９５９号（Ｍｏｉａら）に記載されている線状光重合性ポリマー（ＬＰＰ）材料及び液晶ポリマー（ＬＣＰ）材料を含む、任意の好適な材料から形成されてもよい。適切なＬＰＰ材料としては、ＲＯＰ－１３１ ＥＸＰ ３０６ ＬＰＰが、適切なＬＣＰ材料には、ＲＯＦ－５１８５ ＥＸＰ ４１０ ＬＣＰが挙げられ、両方ともスイスのアルシュヴィルにあるＲｏｌｉｃ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓから入手可能である。いくつかの実施形態では、リターダ２６３５は、所定の波長範囲（例えば、４００ｎｍ～７００ｎｍ）内の少なくとも１つの波長で、１／４波長リターダである。
部分反射体２６４２は、任意の好適な部分反射体であってもよい。例えば、部分反射体は、透明基材（例えば、次にレンズに接着することができるフィルム、又は基材はレンズであってもよい）上に金属（例えば、銀又はアルミニウム）の薄層をコーティングすることによって構築されてもよい。この部分反射体はまた、例えば、レンズ基材の表面上に薄膜誘電体コーティングを堆積させることによって、又はレンズ基材の表面上に、金属コーティングと誘電体コーティングとの組み合わせを堆積させることによって、形成することもできる。いくつかの実施形態では、部分反射体は、それぞれ２０％～８０％の範囲内にある、又はそれぞれ３０％～７０％の範囲内にある、又はそれぞれ４０％～６０％の範囲内にある、又はそれぞれ４５％～５５％の範囲内にある、所定の波長又は所定の波長範囲内で平均光反射率及び平均光透過率を有する。部分反射体は、例えばハーフミラーであってよい。所定の波長範囲内の平均光反射率及び平均光透過率は、特に指示がない限り、垂直入射で測定された、所定の波長範囲にわたる、並びに光反射率及び光透過率それぞれの偏光にわたる、非加重平均を指す。いくつかの実施形態では、部分反射体は、反射偏光子であってもよく、又は偏光依存反射率を有してもよい。しかしながら、通常、垂直入射光反射率及び光透過率は、入射光の偏光状態とは独立している、又は実質的に独立していることが好ましい。そのような偏光独立性は、例えば、実質的に等方性の金属層及び／又は誘電体層を使用して得ることができる。
いくつかの実施形態では、第１及び第２のレンズ２６１０及び２６４０のそれぞれは、少なくとも１つの方向にゼロより大きい屈折力を有する。いくつかの実施形態では、部分反射体２６４２は、所定の波長範囲内の実質的に垂直入射する光に対して少なくとも３０％の平均光反射率を有する。いくつかの実施形態では、反射型偏光子（第１及び第２の層２６２２及び２６２６のうちの１つ）は、所定の波長範囲内の第１の偏光状態を有する光を実質的に透過し、所定の波長範囲内の直交する第２の偏光状態を有する光を実質的に反射する。光学システム２６０１は、光軸２６６０を有し、光軸２６６０は、光軸２６６０に沿って伝播する光線２６６１が、実質的に屈折することなく、第１のレンズ２６１０、第２のレンズ２６４０、部分反射体２６４２、及び反射型偏光子を通過する軸であると理解することができる。実質的には屈折せず、とは、表面に入射する光線と、その表面を通って透過される光線との間の角度が、１５度以下であることを意味する。いくつかの実施形態では、光軸２６６０に沿って伝播する光線は、光学システム２６０１の任意の主表面で、１０度よりも大きく、又は５度よりも大きく、又は３度よりも大きく、又は２度よりも大きく屈折することなく、第１のレンズ２６１０、第２のレンズ２６４０、部分反射体２６４２、及び反射型偏光子を通過する。
いくつかの実施形態では、光学システム２６０１は、入射光を受光し、観察位置２６６５の観察者に光を伝送するように適合される。光学システム２６０１を出る光は、第１及び第２の光成分２６５５及び２６５７によって概略的に示されている。
本明細書の光学積層体及び反射型偏光子は、光学システムが従来の光学システムよりも高い偏光コントラストを達成することを可能にすることが見出されている。いくつかの実施形態では、約１００度～約１６０度の全円錐角θを有する、第２の偏光状態（反射型偏光子のブロック状態）及び所定の波長範囲内の波長を有し、かつ光軸２６６０上に中心に置く光２６５３の入射円錐に関して、入射光は、第１の偏光状態（反射型偏光子の通過状態）を有する第１の光成分２６５５、及び第２の偏光状態を有する第２の光成分２６５７を有して光学システムを出て、第１の光成分２６５５の平均強度と第２の光成分２６５７の平均強度との比は、約１００より大きい、又は約１１０より大きい、又は約１２０より大きい、又は約１３０より大きい。
本明細書の反射型偏光子のいずれかは、本明細書に矛盾しない範囲で参照により本明細書に組み込まれる、２０１７年１０月９日に出願された「ＯＰＴＩＣＡＬ ＣＯＭＰＯＮＥＮＴＳ ＡＮＤ ＯＰＴＩＣＡＬ ＳＹＳＴＥＭＳ」という名称の米国特許仮出願第６２／５６９９４２号に記載の光学構成要素及び光学システムのいずれかに使用することができる。
光学フィルムのいずれかは、光学フィルムの一方の側面に剥離ライナー、又は光学フィルムの両側の２つの側面のそれぞれに剥離ライナーを含むことができる。例えば、光学フィルム１００、３００、及び４００のいずれかは、剥離ライナー（単数又は複数）を含んでもよい。別の例として、反射型偏光子１２００の層１２３３は、干渉層１２３４と共押出された層の代わりに、剥離ライナーであってもよい。光学フィルムを湾曲形状に形成する前に、剥離ライナー（単数又は複数）を光学フィルムに適用して、光学フィルムを保護する（例えば、成形型からの表面テクスチャが光学フィルム上にエンボス加工されないように）ことができる。
光学フィルムに結合されるが、光学フィルムを実質的に損傷することなく、光学フィルムからきれいに除去することができるライナーは、光学フィルムに剥離可能に結合されるものとして説明することができ、剥離ライナーとして説明することができる。いくつかの実施形態では、光学フィルムに剥離可能に結合されたライナーは、光学フィルムへの目に見える損傷を伴わずに光学フィルムから除去することができる。剥離可能に結合されたライナーは、基材に強く結合するが光学フィルムに弱く結合する接着剤層を有する基材を含んでもよい。例えば、ライナーは、接着剤への結合を増大させるために処理された表面を有する基材に適用された低粘着性接着剤の薄層を含んでもよい。他の好適なライナーとしては、例えば、米国特許第６，９９１，６９５号（Ｔａｉｔら）に記載されているような、光学フィルムに静電結合するものが挙げられる。好適なライナーの一例は、Ｓｕｎ Ａ Ｋａｋｅｎ Ｃｏ，Ｌｔｄから入手可能なＯＣＰＥＴ ＮＳＡ３３Ｔである。
図５１は、反射型偏光子であってもよい光学フィルム５１００と、光学フィルム５１００に適合する第１及び第２の追加層５１１１及び５１２２と、を含む、光学フィルムとしても説明することができる光学積層体５０００の概略断面図である。光学積層体５０００は、本明細書の他の箇所に記載される方法のいずれかを使用して、図示された湾曲形状に形成することができる。いくつかの実施形態では、第１の追加層５１１１及び第２の追加層５１２２の一方は、省略される。いくつかの実施形態では、第１の追加層５１１１及び第２の追加層５１２２の一方又は両方は、光学フィルム５１００と一体的に形成されない。いくつかの実施形態では、第１の追加層５１１１及び第２の追加層５１２２の一方又は両方は、光学フィルム５１００に適合し、かつ光学フィルム５１００に剥離可能に結合されたライナーである。光学フィルム５１００は、例えば、本明細書の他の箇所に記載される反射型偏光子のうちのいずれかであってもよい。
「約、ほぼ（about）」などの用語は、それらが本発明の記載に使用され記載されている文脈において、当業者によって理解されるだろう。特徴部の形状、量、及び物理的性質を表す量に適用される「約、ほぼ」の使用が、本発明の記載に使用され記載されている文脈において、当業者にとって明らかではない場合、「約、ほぼ」は、特定の値の１０パーセント以内を意味すると理解されるだろう。特定の値の約、ほぼとして与えられる量は、正確に特定の値であり得る。例えば、本発明の記載に使用され記載されている文脈において、当業者にとって明らかではない場合、約１の値を有する量は、０．９～１．１の値を有する量かつその値が１であり得ることを意味する。
「実質的に（substantially）」などの用語は、それらが本発明の記載に使用され記載されている文脈において、当業者によって理解されるだろう。「実質的に平行な（substantially parallel）」の使用が、本明細書に使用され記載されている文脈において、当業者にとって明らかではない場合、「実質的に平行な」は、平行の３０度以内を意味することになる。お互いに実質的に平行であるとして記載される方向又は表面は、いくつかの実施形態では、２０度以内、又は１０度以内の平行であり得るか、又は平行若しくは名目上平行であり得る。
以下は、本明細書の例示的な実施形態の列挙である。
実施形態１は、湾曲した反射型偏光子であって、少なくとも直交する第１及び第２の方向に沿って延伸され成形されて、湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置が、第１及び第２の方向のそれぞれに沿って約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する、複数のポリマー層を備え、所定の波長を有する垂直入射光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約７０％より大きい最大反射率、及び直交する通過偏光状態について約７０％より大きい最大透過率を有し、反射型偏光子の厚さは、少なくとも１つの縁部位置よりも反射型偏光子の中心において少なくとも５％大きく、反射型偏光子の厚さは、反射型偏光子の中心から少なくとも１つの縁部位置まで実質的に単調に減少する。
実施形態２は、少なくとも１つの縁部位置の縁部位置よりも反射型偏光子の中心において大きい方位角平均厚さを有する、実施形態１の反射型偏光子である。
実施形態３は、方位角平均厚さが、反射型偏光子の中心から縁部位置まで実質的に単調に減少する、実施形態２の反射型偏光子である。
実施形態４は、ブロック偏光状態を有する垂直入射光に関して、反射型偏光子が、長波長帯域端を有する反射帯域を有し、所定の波長が、反射帯域内にあり、長波長帯域端が、少なくとも１つの縁部位置よりも反射型偏光子の中心において少なくとも５％大きい、実施形態１の反射型偏光子である。
実施形態５は、反射型偏光子の長波長帯域端の方位角平均が、反射型偏光子の中心から少なくとも１つの縁部位置まで実質的に単調に減少する、実施形態４の反射型偏光子である。
実施形態６は、所定の波長を有し、反射型偏光子の中心において反射型偏光子に垂直な、かつ反射型偏光子を通過する軸に平行な方向に沿って反射型偏光子に入射する光に関して、反射型偏光子上の各位置が、約５％未満のブロック偏光状態に対する最小透過率を有する、実施形態１の反射型偏光子である。
実施形態７は、反射型偏光子の中心位置において互いに交差する直交する第１の軸及び第２の軸、並びに反射型偏光子の中心位置において互いに交差する直交する第３及び第４の軸に関して、第１の軸と第３の軸との間の角度が、約４５度であり、ブロック偏光状態に対する反射型偏光子の最小透過率が、
反射型偏光子の中心位置と第１の縁部との間の第１の軸に沿った第１の位置では、Ｔ１であり、
反射型偏光子の中心位置と第２の縁部との間の第２の軸に沿った第２の位置では、Ｔ２であり、
反射型偏光子の中心位置と第３の縁部との間の第３の軸に沿った第３の位置では、Ｔ３であり、
反射型偏光子の中心位置と第４の縁部との間の第４の軸に沿った第４の位置では、Ｔ４であり、
Ｔ１及びＴ２の最大値が、Ｔ３及びＴ４の最小値未満である、実施形態６の反射型偏光子である。
実施形態８は、ブロック偏光状態に対する反射型偏光子の最小透過率が、
反射型偏光子の中心位置と第１の縁部の反対側の第５の縁部との間の第１の軸に沿った第５の位置では、Ｔ５であり、
反射型偏光子の中心位置と第２の縁部の反対側の第６の縁部との間の第２の軸に沿った第６の位置では、Ｔ６であり、
反射型偏光子の中心位置と第３の縁部の反対側の第７の縁部との間の第３の軸に沿った第７の位置では、Ｔ７であり、
反射型偏光子の中心位置と第４の縁部の反対側の第８の縁部との間の第４の軸に沿った第８の位置では、Ｔ８であり、
Ｔ１、Ｔ２、Ｔ５、及びＴ６の最大値が、Ｔ３、Ｔ４、Ｔ７、及びＴ８の最小値未満である、実施形態７の反射型偏光子である。
実施形態９は、反射型偏光子に垂直な反射型偏光子の中心を通過する光軸から半径Ｒ内の反射型偏光子の領域が、約０．００１～約０．００５の範囲のブロック偏光状態の最小透過率の最大変動を有し、
反射型偏光子が、光軸からの最大半径Ｒｍを有し、Ｒが、Ｒｍの０．４～０．７倍の範囲である、実施形態８の反射型偏光子である。
実施形態１０は、所定の波長を有し、かつ反射型偏光子に垂直に入射する光に関して、反射型偏光子上の各位置が、約５％未満のブロック偏光状態に対する最小透過率を有する、実施形態１の反射型偏光子である。
実施形態１１は、反射型偏光子の中心位置において互いに交差する直交する第１の軸及び第２の軸、並びに反射型偏光子の中心位置において互いに交差する直交する第３及び第４の軸に関して、第１の軸と第３の軸との間の角度が、約４５度であり、ブロック偏光状態に対する反射型偏光子の最小透過率が、
反射型偏光子の中心位置と第１の縁部との間の第１の軸に沿った第１の位置では、Ｔ１であり、
反射型偏光子の中心位置と第２の縁部との間の第２の軸に沿った第２の位置では、Ｔ２であり、
反射型偏光子の中心位置と第３の縁部との間の第３の軸に沿った第３の位置では、Ｔ３であり、
反射型偏光子の中心位置と第４の縁部との間の第４の軸に沿った第４の位置では、Ｔ４であり、
Ｔ１及びＴ２の最大値が、Ｔ３及びＴ４の最小値未満である、実施形態１０の反射型偏光子である。
実施形態１２は、ブロック偏光状態に対する反射型偏光子の最小透過率が、
反射型偏光子の中心位置と第１の縁部の反対側の第５の縁部との間の第１の軸に沿った第５の位置では、Ｔ５であり、
反射型偏光子の中心位置と第２の縁部の反対側の第６の縁部との間の第２の軸に沿った第６の位置では、Ｔ６であり、
反射型偏光子の中心位置と第３の縁部の反対側の第７の縁部との間の第３の軸に沿った第７の位置では、Ｔ７であり、
反射型偏光子の中心位置と第４の縁部の反対側の第８の縁部との間の第４の軸に沿った第８の位置では、Ｔ８であり、
Ｔ１、Ｔ２、Ｔ５、及びＴ６の最大値が、Ｔ３、Ｔ４、Ｔ７、及びＴ８の最小値未満である、実施形態１１の反射型偏光子である。
実施形態１３は、反射型偏光子に垂直な反射型偏光子の中心を通過する光軸から半径Ｒ内の反射型偏光子の領域が、約０．００１～約０．００５の範囲のブロック偏光状態の最小透過率の最大変動を有し、
反射型偏光子が、光軸からの最大半径Ｒｍを有し、Ｒが、Ｒｍの０．４～０．７倍の範囲である、実施形態１０の反射型偏光子である。
実施形態１４は、反射型偏光子に垂直な反射型偏光子の中心を通過する光軸から半径Ｒ内の反射型偏光子の領域が、約０．０１以下の線形減衰の最大変動を有し、
反射型偏光子が、光軸からの最大半径Ｒｍを有し、Ｒが、Ｒｍの０．４～０．７倍の範囲である、実施形態１の反射型偏光子である。
実施形態１５は、反射型偏光子に垂直な反射型偏光子の中心を通過する光軸から半径Ｒ内の反射型偏光子の領域全体にわたる反射型偏光子の線形減衰が、少なくとも約０．９９であり、反射型偏光子が、光軸からの最大半径Ｒｍを有し、Ｒが、少なくとも０．４Ｒｍである、実施形態１の反射型偏光子である。
実施形態１６は、平面視で、中心を実質的に中心にした実質的に矩形の領域内の位置の少なくとも７０％のそれぞれにおける通過偏光状態に対する最大透過率が、反射型偏光子の中心における通過偏光状態に対する最大透過率の１．５％以内であり、実質的に矩形の領域の外側の反射型偏光子の位置の少なくとも大部分の通過偏光状態に対する最大透過率が、反射型偏光子の中心における通過偏光状態に対する最大透過率よりも少なくとも１．５％低い、実施形態１１の反射型偏光子である。
実施形態１７は、反射型偏光子の中心において反射型偏光子に接する平面上への投影で、少なくとも１つの第１の縁部位置のブロック偏光状態が、反射型偏光子の中心におけるブロック偏光状態から時計回りに回転され、少なくとも１つの第２の縁部位置のブロック偏光状態が、反射型偏光子の中心におけるブロック偏光状態から反時計回りに回転され、少なくとも１つの第１及び第２の縁部位置が、反射型偏光子の中心において約７０度～約１１０度の範囲の角度を画定する、実施形態１の反射型偏光子である。
実施形態１８は、少なくとも１つの第１の縁部位置のブロック偏光状態が、反射型偏光子の中心におけるブロック偏光状態から、少なくとも０．２度、又は少なくとも０．５度、又は少なくとも１度だけ時計回りに回転される、実施形態１７の反射型偏光子である。
実施形態１９は、反射型偏光子の中心において反射型偏光子に接する平面上への投影で、少なくとも１つの第１及び第２の縁部位置のブロック偏光状態が、互いに対して２度より大きく回転され、少なくとも１つの第１及び第２の位置が、反射型偏光子の中心において約７０度～約１１０度の範囲の角度を画定する、実施形態１の反射型偏光子である。
実施形態２０は、反射型偏光子に垂直な反射型偏光子の中心を通過する光軸から半径Ｒ内の反射型偏光子の領域が、反射型偏光子の中心において反射型偏光子に接する平面上への投影におけるブロック偏光状態の最大変動であって、
Ｒ１未満のＲに対して約１度未満であり、
Ｒ２より大きいＲに対して、約２度より大きい、
最大変動を有し、
反射型偏光子が、光軸からの最大半径Ｒｍを有し、Ｒ１が、少なくとも０．４Ｒｍであり、Ｒ２が、Ｒ１より大きく、かつ０．９５Ｒｍ以下である、実施形態１の反射型偏光子である。
実施形態２１は、反射型偏光子上の各位置が、所定の波長を有し、反射型偏光子の中心において反射型偏光子に垂直な、かつ反射型偏光子を通過する軸に平行な方向に沿って反射型偏光子に入射する光に対して円形減衰を有し、反射型偏光子の中心で互いに交差する直交する第１及び第２の軸に関して、反射型偏光子の円形減衰が、
中心位置では、ＣＤｃであり、
反射型偏光子の第１の縁部付近の第１の軸に沿った第１の縁部位置では、ＣＤ１であり、
反射型偏光子の第１の縁部の反対側の第２の縁部付近の第１の軸に沿った第２の縁部位置では、ＣＤ２であり、
反射型偏光子の第３の縁部付近の第２の軸に沿った第３の縁部位置では、ＣＤ３であり、
反射型偏光子の第３の縁部の反対側の第４の縁部付近の第２の軸に沿った第４の縁部位置では、ＣＤ４であり、
ＣＤｃが、ＣＤ３及びＣＤ４の最小値未満であり、ＣＤ１及びＣＤ１の最大値よりも大きい、実施形態１の反射型偏光子である。
実施形態２２は、反射型偏光子の総面積以下の面積を有する反射型偏光子の領域が、少なくとも０．０４である円形減衰の最大変動を有する、実施形態１の反射型偏光子である。
実施形態２３は、反射型偏光子の総面積以下の面積を有する反射型偏光子の領域が、少なくとも０．０２である円形減衰の最大絶対値を有する、実施形態１の反射型偏光子である。
実施形態２４は、湾曲した反射型偏光子であって、少なくとも直交する第１及び第２の方向に沿って延伸され成形されて、湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置が、第１及び第２の方向のそれぞれに沿って約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する、複数のポリマー層を備え、所定の波長を有する垂直入射光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約７０％より大きい最大反射率、及び直交する通過偏光状態について約７０％より大きい最大透過率を有し、反射型偏光子の厚さは、少なくとも１つの縁部位置よりも反射型偏光子の中心において少なくとも５％小さく、反射型偏光子の厚さは、反射型偏光子の中心から少なくとも１つの縁部位置まで実質的に単調に増加する。
実施形態２５は、ブロック偏光状態を有する垂直入射光に関して、反射型偏光子が、長波長帯域端を有する反射帯域を有し、所定の波長が、反射帯域内にあり、長波長帯域端が、少なくとも１つの縁部位置よりも反射型偏光子の中心において少なくとも５％小さい、実施形態２４の反射型偏光子である。
実施形態２６は、反射型偏光子の長波長帯域端が、反射型偏光子の中心から少なくとも１つの縁部位置まで実質的に単調に増加する、実施形態２５の反射型偏光子である。
実施形態２７は、反射型偏光子の長波長帯域端の方位角平均が、反射型偏光子の中心から少なくとも１つの縁部位置まで実質的に単調に増加する、実施形態２５の反射型偏光子である。
実施形態２８は、反射型偏光子に垂直な反射型偏光子の中心を通過する光軸から半径Ｒ内の反射型偏光子の領域が、約０．００１～約０．００５の範囲のブロック偏光状態の最小透過率の最大変動を有し、
反射型偏光子が、光軸からの最大半径Ｒｍを有し、Ｒが、Ｒｍの０．４～０．７倍の範囲である、実施形態２４の反射型偏光子である。
実施形態２９は、反射型偏光子に垂直な反射型偏光子の中心を通過する光軸から半径Ｒ内の反射型偏光子の領域が、約０．０１以下の線形減衰の最大変動を有し、
反射型偏光子が、光軸からの最大半径Ｒｍを有し、Ｒが、Ｒｍの０．４～０．７倍の範囲である、実施形態２４の反射型偏光子である。
実施形態３０は、反射型偏光子に垂直な反射型偏光子の中心を通過する光軸から半径Ｒ内の反射型偏光子の領域全体にわたる反射型偏光子の線形減衰が、少なくとも約０．９９であり、反射型偏光子が、光軸からの最大半径Ｒｍを有し、Ｒが、少なくとも０．４Ｒｍである、実施形態２４の反射型偏光子である。
実施形態３１は、所定の波長を有し、反射型偏光子の中心において反射型偏光子に垂直な、かつ反射型偏光子を通過する軸に平行な方向に沿って反射型偏光子に入射する光に関して、反射型偏光子上の各位置が、約７０％より大きい通過偏光状態に対する第２の最小透過率を有する、実施形態２４の反射型偏光子である。
実施形態３２は、反射型偏光子の縁部付近の少なくとも１つの第１及び第２の位置の通過偏光状態に対する第２の最大透過率が、少なくとも３．８％だけ互いに異なり、少なくとも１つの第１の位置及び少なくとも１つの第２の位置が、反射型偏光子の中心において約７０度～約１１０度の範囲の角度を画定する、実施形態３１の反射型偏光子である。
実施形態３３は、反射型偏光子の中心で互いに交差する直交する第１の軸及び第２の軸に関して、通過偏光状態に対する反射型偏光子の第２の最大透過率が、
中心では、Ｔｃであり、
反射型偏光子の第１の縁部付近の第１の軸に沿った第１の縁部位置では、Ｔ１であり、
反射型偏光子の第１の縁部の反対側の第２の縁部付近の第１の軸に沿った第２の縁部位置では、Ｔ２であり、
反射型偏光子の第３の縁部付近の第２の軸に沿った第３の縁部位置では、Ｔ３であり、
反射型偏光子の第３の縁部の反対側の第４の縁部付近の第２の軸に沿った第４の縁部位置では、Ｔ４であり、
Ｔｃが、Ｔ１及びＴ２の最大値より大きく、Ｔ３及びＴ４の最小値未満である、実施形態３１の反射型偏光子である。
実施形態３４は、反射型偏光子の中心において反射型偏光子に接する平面上への投影で、少なくとも１つの第１及び第２の縁部位置のブロック偏光状態が、互いに対して２度より大きく回転され、少なくとも１つの第１及び第２の縁部位置が、反射型偏光子の中心において約７０度～約１１０度の範囲の角度を画定する、実施形態２４の反射型偏光子である。
実施形態３５は、反射型偏光子に垂直な反射型偏光子の中心を通過する光軸から半径Ｒ内の反射型偏光子の領域が、反射型偏光子の中心において反射型偏光子に接する平面上への投影におけるブロック偏光状態の最大変動であって、
Ｒ１未満のＲに対して約１度未満であり、
Ｒ２より大きいＲに対して、約２度より大きい、
最大変動を有し、
反射型偏光子が、光軸からの最大半径Ｒｍを有し、Ｒ１が、少なくとも０．４Ｒｍであり、Ｒ２が、Ｒ１より大きく、かつ０．９５Ｒｍ以下である、実施形態２４の反射型偏光子である。
実施形態３６は、湾曲した反射型偏光子であって、少なくとも直交する第１及び第２の方向に沿って延伸され成形されて、湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置が、第１及び第２の方向のそれぞれに沿って約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する、複数のポリマー層を備え、第１の反射帯域内の所定の波長を有する垂直入射光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約７０％より大きい最大反射率及び約５％未満の対応する最小透過率、並びに直交する通過偏光状態について約７０％より大きい最大透過率を有し、第１の反射帯域は、少なくとも１つの縁部位置よりも反射型偏光子の中心において少なくとも５％大きい長波長帯域端を有し、
反射型偏光子の長波長帯域端は、反射型偏光子の中心から少なくとも１つの縁部位置まで実質的に単調に減少する。
実施形態３７は、少なくとも１つの縁部位置の縁部位置よりも反射型偏光子の中心において大きい方位角平均長波長帯域端を有する、実施形態３６の反射型偏光子である。
実施形態３８は、方位角平均長波長帯域端が、反射型偏光子の中心から縁部位置まで実質的に単調に減少する、実施形態３７の反射型偏光子である。
実施形態３９は、湾曲した反射型偏光子であって、少なくとも直交する第１及び第２の方向に沿って延伸され成形されて、湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置が、第１及び第２の方向のそれぞれに沿って約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する、複数のポリマー層を備え、第１の反射帯域内の所定の波長を有する垂直入射光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約７０％より大きい最大反射率及び約５％未満の対応する最小透過率、並びに直交する通過偏光状態について約７０％より大きい最大透過率を有し、第１の反射帯域は、少なくとも１つの縁部位置よりも反射型偏光子の中心において少なくとも５％小さい長波長帯域端を有し、反射型偏光子の長波長帯域端は、反射型偏光子の中心から少なくとも１つの縁部位置まで実質的に単調に増加する。
実施形態４０は、少なくとも１つの縁部位置の縁部位置よりも反射型偏光子の中心において小さい方位角平均長波長帯域端を有する、実施形態３９の反射型偏光子である。
実施形態４１は、方位角平均長波長帯域端が、反射型偏光子の中心から縁部位置まで実質的に単調に増加する、実施形態４０の反射型偏光子である。
実施形態４２は、交互配置された複数のポリマー干渉層を備える湾曲した反射型偏光子であって、各ポリマー干渉層は、主に光干渉によって光を反射又は透過し、湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置は、約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有し、所定の波長を有し、ついて約中心位置において反射型偏光子に垂直な、かつ反射型偏光子を通過する軸に平行な方向に沿って反射型偏光子に入射する光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態に７０％より大きい最大反射率、直交する通過偏光状態について約７０％より大きい最大透過率、及びブロック偏光状態に対する最小透過率を有し、反射型偏光子の中心位置で互いに交差する直交する第１の軸及び第２の軸、並びに反射型偏光子の中心位置で互いに交差する直交する第３の軸及び第４の軸に関して、第１の軸と第３の軸との間の角度は、約４５度であり、ブロック偏光状態に対する反射型偏光子の最小透過率は、
反射型偏光子の中心位置と第１の縁部との間の第１の軸に沿った第１の位置では、Ｔ１であり、
反射型偏光子の中心位置と第２の縁部との間の第２の軸に沿った第２の位置では、Ｔ２であり、
反射型偏光子の中心位置と第３の縁部との間の第３の軸に沿った第３の位置では、Ｔ３であり、
反射型偏光子の中心位置と第４の縁部との間の第４の軸に沿った第４の位置では、Ｔ４であるようになっており、
Ｔ１及びＴ２の最大値は、Ｔ３及びＴ４の最小値未満である。
実施形態４３は、ブロック偏光状態に対する反射型偏光子の最小透過率が、
反射型偏光子の中心位置と第１の縁部の反対側の第５の縁部との間の第１の軸に沿った第５の位置では、Ｔ５であり、
反射型偏光子の中心位置と第２の縁部の反対側の第６の縁部との間の第２の軸に沿った第６の位置では、Ｔ６であり、
反射型偏光子の中心位置と第３の縁部の反対側の第７の縁部との間の第３の軸に沿った第７の位置では、Ｔ７であり、
反射型偏光子の中心位置と第４の縁部の反対側の第８の縁部との間の第４の軸に沿った第８の位置では、Ｔ８であり、
Ｔ１、Ｔ２、Ｔ５、及びＴ６の最大値が、Ｔ３、Ｔ４、Ｔ７、及びＴ８の最小値未満である、実施形態４２の反射型偏光子である。
実施形態４４は、ブロック偏光状態に対する反射型偏光子の最小透過率が、第１及び第２の軸のそれぞれ周りの反射下で実質的に対称である、実施形態４２の反射型偏光子である。
実施形態４５は、ブロック偏光状態に対する反射型偏光子の最小透過率が、反射型偏光子に垂直な反射型偏光子の中心位置を通過する光軸周りに実質的に４倍の回転対称である、実施形態４２の反射型偏光子である。
実施形態４６は、交互配置された複数のポリマー干渉層を備える湾曲した反射型偏光子であって、各ポリマー干渉層は、主に光干渉によって光を反射又は透過し、湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置は、約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有し、所定の波長を有し、中心位置において反射型偏光子に垂直な、かつ反射型偏光子を通過する軸に平行な方向に沿って反射型偏光子に入射する光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約７０％より大きい最大反射率、直交する通過偏光状態について約７０％より大きい最大透過率、及びブロック偏光状態について最小透過率を有し、反射型偏光子の異なる第１の縁部と第２の縁部との間に延びる、反射型偏光子の最大横寸法の少なくとも３％の最小幅を有し、かつ反射型偏光子の分離した第２及び第３の部分を画定する反射型偏光子の連続する第１の部分に関して、ブロック偏光状態について反射型偏光子の最小透過率は、第２の部分の少なくとも７０％内の各位置及び第３の部分の少なくとも７０％内の各位置よりも第１の部分の少なくとも７０％内の各位置において高い。
実施形態４７は、ブロック偏光状態に対する反射型偏光子の最小透過率が、第２の部分の少なくとも８０％内の各位置及び第３の部分の少なくとも８０％内の各位置よりも第１の部分の少なくとも８０％内の各位置において高い、実施形態４６の反射型偏光子である。
実施形態４８は、第１の部分の最小幅が、反射型偏光子の最大横寸法の少なくとも５％である、実施形態４６の反射型偏光子である。
実施形態４９は、第１の部分の最小幅が、反射型偏光子の最大横寸法の８０％以下である、実施形態４６の反射型偏光子である。
実施形態５０は、複数のポリマー層を備える湾曲した反射型偏光子であって、湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置は、約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有し、所定の波長を有し、中心位置において反射型偏光子に垂直な、かつ反射型偏光子を通過する光軸に平行な方向に沿って反射型偏光子に入射する光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約０．７より大きい最大反射率、直交する通過偏光状態について約０．７より大きい最大透過率、及びブロック偏光状態について最小透過率を有し、光軸から半径Ｒ内の反射型偏光子の領域が有する、ブロック偏光状態の最小透過率の最大変動が、約０．００１～約０．００５の範囲になっており、
反射型偏光子は、光軸からの最大半径Ｒｍを有し、Ｒは、Ｒｍの０．４～０．７倍の範囲である。
実施形態５１は、複数のポリマー層を備える湾曲した反射型偏光子であって、湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置は、約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有し、所定の波長を有し、中心位置において反射型偏光子に垂直な、かつ反射型偏光子を通過する軸に平行な方向に沿って反射型偏光子に入射する光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約０．７より大きい最大反射率、及び直交する通過偏光状態について約０．７より大きい最大透過率を有し、反射型偏光子の縁部付近にある少なくとも１つの第１及び第２の位置の通過偏光状態についての最大透過率は、少なくとも３．８％だけ互いに異なり、少なくとも１つの第１の位置及び少なくとも１つの第２の位置は、中心位置において約７０度～約１１０度の範囲の角度を画定する。
実施形態５２は、少なくとも１つの第１及び第２の位置の通過偏光状態に対する最大透過率が、６．０％以下だけ互いに異なる、実施形態５１の反射型偏光子である。
実施形態５３は、複数のポリマー層を備える湾曲した反射型偏光子であって、湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置は、約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有し、所定の波長を有し、中心位置において反射型偏光子に垂直な、かつ反射型偏光子を通過する軸に平行な方向に沿って反射型偏光子に入射する光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約０．７より大きい最大反射率、及び直交する通過偏光状態について約０．７より大きい最大透過率を有し、少なくとも１つの第１及び第２の位置であって、反射型偏光子の中心位置付近にある少なくとも１つの第１の位置及び縁部付近の少なくとも１つの第２の位置の通過偏光状態に対する最大透過率は、少なくとも３．８％だけ互いに異なる。
実施形態５４は、少なくとも１つの第１及び第２の位置の通過偏光状態に対する最大透過率が、６．０％以下だけ互いに異なる、実施形態５３の反射型偏光子である。
実施形態５５は、複数のポリマー層を備える湾曲した反射型偏光子であって、湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置は、約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有し、所定の波長を有し、中心位置において反射型偏光子に垂直な、かつ反射型偏光子を通過する軸に平行な方向に沿って反射型偏光子に入射する光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約７０％より大きい最大反射率、及び直交する通過偏光状態について約７０％より大きい最大透過率を有し、平面視で、中心を実質的に中心にした実質的に矩形の領域内の位置の少なくとも７０％のそれぞれにおける通過偏光状態についての最大透過率は、反射型偏光子の中心における通過偏光状態についての最大透過率の１．５％以内であり、実質的に矩形の領域の外側にある、反射型偏光子の位置の少なくとも大部分における通過偏光状態についての最大透過率は、反射型偏光子の中心における通過偏光状態についての最大透過率よりも少なくとも１．５％低い。
実施形態５６は、実質的に矩形の領域が、反射型偏光子の最大横寸法の少なくとも半分のブロック偏光状態と実質的に平行な長さを有する、実施形態５５の反射型偏光子である。
実施形態５７は、実質的に矩形の領域が、反射型偏光子の最大横寸法の少なくとも２５％の通過偏光状態と実質的に平行な幅を有する、実施形態５５の反射型偏光子である。
実施形態５８は、交互配置された複数のポリマー干渉層を備える湾曲した反射型偏光子であって、各ポリマー干渉層は、主に光干渉によって光を反射又は透過し、湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置は、約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有し、所定の波長を有する光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約７０％より大きい最大反射率、直交する通過偏光状態について約７０％より大きい最大透過率、及びブロック偏光状態について最小透過率を有し、反射型偏光子の中心位置で互いに交差する直交する第１の軸及び第２の軸に関して、通過偏光状態についての反射型偏光子の最大透過率は、
中心位置では、Ｔｃであり、
反射型偏光子の第１の縁部付近の第１の軸に沿った第１の縁部位置では、Ｔ１であり、
反射型偏光子の第１の縁部の反対側にある、第２の縁部付近の第１の軸に沿った第２の縁部位置では、Ｔ２であり、
反射型偏光子の第３の縁部付近の第２の軸に沿った第３の縁部位置では、Ｔ３であり、
反射型偏光子の第３の縁部の反対側にある、第４の縁部付近の第２の軸に沿った第４の縁部位置では、Ｔ４であるようになっており、
Ｔｃは、Ｔ１及びＴ２の最大値より大きく、Ｔ３及びＴ４の最小値未満である。
実施形態５９は、最大透過率が、第１の軸周りの反射下で実質的に対称であり、第２の軸周りの反射下で実質的に対称である、実施形態５８の湾曲した反射型偏光子である。
実施形態６０は、湾曲した反射型偏光子であって、少なくとも直交する第１及び第２の方向に沿って延伸され成形されて、湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置が、第１及び第２の方向のそれぞれに沿って約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する、複数のポリマー層を備え、所定の波長を有し、中心位置において反射型偏光子に垂直な、かつ反射型偏光子を通過する軸に平行な方向に沿って反射型偏光子に入射する光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約７０％より大きい最大反射率、及び約５％未満の対応する最小透過率を有し、反射型偏光子の中心において反射型偏光子に接する平面上への投影で、少なくとも１つの第１の縁部位置のブロック偏光状態は、反射型偏光子の中心におけるブロック偏光状態から時計回りに回転され、少なくとも１つの第２の縁部位置のブロック偏光状態は、反射型偏光子の中心におけるブロック偏光状態から反時計回りに回転され、少なくとも１つの第１及び第２の縁部位置は、反射型偏光子の中心において約７０度～約１１０度の範囲の角度を画定する。
実施形態６１は、少なくとも１つの第２の縁部位置の第２の縁部位置が、角度θによる少なくとも１つの第１の位置の第１の位置の反射型偏光子の中心を通る光軸周りの時計回りの回転によって画定される、実施形態６０の反射型偏光子である。
実施形態６２は、少なくとも１つの第２の縁部位置の第２の縁部位置が、角度θによる少なくとも１つの第１の位置の第１の位置の反射型偏光子の中心を通る光軸周りの反時計回りの回転によって画定される、実施形態６０の反射型偏光子である。
実施形態６３は、反射型偏光子の中心において反射型偏光子に接する平面上への投影で、少なくとも１つの第３の縁部位置のブロック偏光状態が、反射型偏光子の中心におけるブロック偏光状態から時計回りに回転され、少なくとも１つの第４の縁部位置のブロック偏光状態が、反射型偏光子の中心におけるブロック偏光状態から反時計回りに回転され、少なくとも１つの第１及び第３の位置が、反射型偏光子の中心において約１６０度～約１８０度の範囲の角度を画定し、少なくとも１つの第２及び第４の位置が、反射型偏光子の中心において約１６０度～約１８０度の範囲の角度を画定する、実施形態６０の反射型偏光子である。
実施形態６４は、湾曲した反射型偏光子であって、少なくとも直交する第１及び第２の方向に沿って延伸され成形されて、湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置が、第１及び第２の方向のそれぞれに沿って約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する、複数のポリマー層を備え、所定の波長を有し、反射型偏光子の中心において反射型偏光子に垂直な、かつ反射型偏光子を通過する軸に平行な方向に沿って反射型偏光子に入射する光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約７０％より大きい最大反射率、及び約５％未満の対応する最小透過率を有し、反射型偏光子の中心において反射型偏光子に接する平面上への投影で、少なくとも１つの第１及び第２の縁部位置におけるブロック偏光状態は、互いに対して２度より大きくだけ回転され、少なくとも１つの第１及び第２の縁部位置は、反射型偏光子の中心において約７０度～約１１０度の範囲の角度を画定する。
実施形態６５は、反射型偏光子の中心において反射型偏光子に接する平面上への投影で、少なくとも１つの第３及び第４の縁部位置のブロック偏光状態が、互いに対して２度未満だけ回転され、少なくとも１つの第３及び第４の位置が、反射型偏光子の中心において約７０度～約１１０度の範囲の角度を画定する、実施形態６４の反射型偏光子である。
実施形態６６は、反射型偏光子の中心において反射型偏光子に接する平面上への投影で、少なくとも１つの第１及び第２の縁部位置のブロック偏光状態が、互いに対して７度以下だけ回転される、実施形態６４の反射型偏光子である。
実施形態６７は、少なくとも１つの第１の縁部位置のブロック偏光状態が、反射型偏光子の中心におけるブロック偏光状態に対して時計回りに回転され、少なくとも１つの第２の縁部位置のブロック偏光状態が、反射型偏光子の中心におけるブロック偏光状態に対して反時計回りに回転される、実施形態６４の反射型偏光子である。
実施形態６８は、湾曲した反射型偏光子であって、少なくとも直交する第１及び第２の方向に沿って延伸され成形されて、湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置が、第１及び第２の方向のそれぞれに沿って約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する、複数のポリマー層を備え、所定の波長を有し、反射型偏光子の中心において反射型偏光子に垂直な、かつ反射型偏光子を通過する光軸に平行な方向に沿って反射型偏光子に入射する光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約７０％より大きい最大反射率、及び約５％未満の対応する最小透過率を有し、光軸から半径Ｒ内の反射型偏光子の領域が有する、反射型偏光子の中心において反射型偏光子に接する平面上への投影におけるブロック偏光状態の最大変動が、
Ｒ１未満のＲについて約１度未満であり、
Ｒ２より大きいＲについて、約２度より大きい、
最大変動を有するようになっており、
反射型偏光子は、光軸からの最大半径Ｒｍを有し、Ｒ１は、少なくとも０．４Ｒｍであり、Ｒ２は、Ｒ１より大きく、かつ０．９５Ｒｍ以下である。
実施形態６９は、Ｒ１が、約０．４５Ｒｍであり、Ｒ２が、約０．７Ｒｍである、実施形態６８の反射型偏光子である。
実施形態７０は、最大変動が、０．７５Ｒｍより大きいＲに対して約３度より大きい、実施形態６８の反射型偏光子である。
実施形態７１は、Ｒｍに等しいＲに対する最大変動が、７度以下である、実施形態６８の反射型偏光子である。
実施形態７２は、交互配置された複数のポリマー干渉層を備える湾曲した反射型偏光子であって、各ポリマー干渉層は、主に光干渉によって光を反射又は透過し、湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置は、約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有し、所定の波長を有し、かつ、反射型偏光子の中心において反射型偏光子に垂直な、かつ反射型偏光子を通過する光軸に平行な方向に沿って反射型偏光子に入射する光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約７０％より大きい最大反射率、直交する通過偏光状態について約７０％より大きい最大透過率、及び円形減衰を有し、反射型偏光子の中心位置で互いに交差する直交する第１の軸及び第２の軸に関して、反射型偏光子の円形減衰は、
中心位置では、ＣＤｃであり、
反射型偏光子の第１の縁部付近の第１の軸に沿った第１の縁部位置では、ＣＤ１であり、
反射型偏光子の第１の縁部の反対側にある、第２の縁部付近の第１の軸に沿った第２の縁部位置では、ＣＤ２であり、
反射型偏光子の第３の縁部付近の第２の軸に沿った第３の縁部位置では、ＣＤ３であり、
反射型偏光子の第３の縁部の反対側にある、第４の縁部付近の第２の軸に沿った第４の縁部位置では、ＣＤ４であり、
ＣＤｃは、ＣＤ３及びＣＤ４の最小値未満であり、ＣＤ１及びＣＤ１の最大値よりも大きい。
実施形態７３は、円形減衰が、第１及び第２の軸のそれぞれ周りの反射下で実質的に対称である、実施形態７２の反射型偏光子である。
実施形態７４は、反射型偏光子の中心位置で互いに交差する直交する第３及び第４の軸に関して、第１の軸と第３の軸との間の角度が、約４５度であり、円形減衰が、第３及び第４の軸のそれぞれ周りの反射下で実質的に反対称である、実施形態７２の反射型偏光子である。
実施形態７５は、湾曲した反射型偏光子であって、少なくとも直交する第１及び第２の方向に沿って延伸され成形されて、湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置が、第１及び第２の方向のそれぞれに沿って約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する、複数のポリマー層を備え、所定の波長を有し、反射型偏光子の中心において反射型偏光子に垂直な、かつ反射型偏光子を通過する光軸に平行な方向に沿って反射型偏光子に入射する光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約７０％より大きい最大反射率、及び約５％未満の対応する最小透過率を有し、反射型偏光子の総面積以下の面積を有する反射型偏光子の領域が有する円形減衰の最大変動が、少なくとも０．０４である。
実施形態７６は、湾曲した反射型偏光子であって、少なくとも直交する第１及び第２の方向に沿って延伸され成形されて、湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置が、第１及び第２の方向のそれぞれに沿って約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する、複数のポリマー層を備え、所定の波長を有し、反射型偏光子の中心において反射型偏光子に垂直な、かつ反射型偏光子を通過する光軸に平行な方向に沿って反射型偏光子に入射する光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約７０％より大きい最大反射率、及び約５％未満の対応する最小透過率を有し、反射型偏光子の総面積の半分より大きい面積を有する反射型偏光子の領域が有する円形減衰の最大変動が、０．０１５以下である。
実施形態７７は、湾曲した反射型偏光子であって、少なくとも直交する第１及び第２の方向に沿って延伸され成形されて、湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置が、第１及び第２の方向のそれぞれに沿って約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する、複数のポリマー層を備え、所定の波長を有し、反射型偏光子の中心において反射型偏光子に垂直な、かつ反射型偏光子を通過する光軸に平行な方向に沿って反射型偏光子に入射する光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約７０％より大きい最大反射率、及び約５％未満の対応する最小透過率を有し、反射型偏光子の総面積の半分より大きい面積を有する反射型偏光子の領域が有する円形減衰の最大変動が、０．００７以下である。
実施形態７８は、反射型偏光子が、１つ以上の位置において実質的に一軸配向された少なくとも１つの層を備える、実施形態１～７７のいずれか一項に記載の反射型偏光子である。
実施形態７９は、反射型偏光子が、少なくとも１つの層の厚さに沿った第１の方向の第１の屈折率と直交する第２の方向の第２の屈折率との間の差の絶対値が約０．０２未満であり、かつ第２の屈折率と第１及び第２の方向に直交する第３の方向の第３の屈折率との間の差の絶対値が約０．０５より大きい、少なくとも１つの位置を有する少なくとも１つの層を備える、実施形態１～７７のいずれか一項に記載の反射型偏光子である。
実施形態８０は、光学システムであって、
第１のレンズと、
第２のレンズであって、第１及び第２のレンズのそれぞれが、少なくとも１つの方向にゼロより大きい屈折力を有する、第２のレンズと、
所定の波長範囲内の実質的に垂直入射する光に対して少なくとも３０％の平均光反射率を有する部分反射体と、
実施形態１～７９のいずれか一項に記載の反射型偏光子と、
を備え、光学システムは、光学軸を有し、光軸に沿って伝搬する光線は、実質的に屈折することなく第１のレンズ、第２のレンズ、部分反射体、及び反射型偏光子を通過し、約１００度～約１６０度の全円錐角を有する、ブロック偏光状態、及び所定の波長範囲内の波長を有し、かつ光軸上に中心を置く光の入射円錐に関して、入射光は、通過偏光状態を有する第１の光成分、及びブロック偏光状態を有する第２の光成分を有して光学システムから出て、第１の光成分の平均強度と第２の光成分の平均強度との比は、約１００より大きいようになっている。
実施形態８１は、交互配置された複数のポリマー層を備える光学フィルムを成形する方法であって、方法は、
光学フィルムの外周の少なくとも一部分を第１の平面内に固定して、固定された部分が互いに対して移動しないようにする工程と、
光学フィルムの半径方向及び円周方向での延伸の一方が光学フィルムの中心から外周まで実質的に一定となり、かつ光学フィルムの半径方向及び円周方向での延伸の他方が光学フィルムの中心から外周まで実質的に変化するように、光学フィルムの一部分を第１の平面に垂直な少なくとも第１の方向に沿って変位させることによって、光学フィルムを延伸させる工程と、
を含む。
実施形態８２は、光学フィルムを光学フィルムのガラス転移温度よりも高い温度に加熱することを更に含む、実施形態８１の方法である。
実施形態８３は、交互配置された複数のポリマー層を備える光学フィルムを成形する方法であって、方法は、
光学フィルムの少なくとも第１の部分が湾曲した成形型表面に隣接する第１の平面内に実質的に配置されるように、光学フィルムを配置する工程と、
光学フィルムを延伸させて、光学フィルムの第１の部分を湾曲した成形型表面の少なくとも一部分に適合させ、第１の部分の各点が、延伸する工程の前の第１の平面内の点の位置に頂点を有する円錐内にある湾曲した表面上の位置を有するようにする工程であって、円錐が、第１の平面に垂直な軸に沿って中心があり、１０度以下の円錐角を有する、工程と、
を含む。
実施形態８４は、延伸する工程が、光学フィルムを延伸させて、光学フィルムの円周方向での延伸が光学フィルムの中心から光学フィルムの外周まで実質的に一定となり、かつ光学フィルムの半径方向での延伸が光学フィルムの中心から外周まで実質的に変化するようにする工程を含む、実施形態８３の方法である。
実施形態８５は、湾曲した反射型偏光子であって、少なくとも直交する第１及び第２の方向に沿って延伸され成形されて、湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置が、第１及び第２の方向のそれぞれに沿って約６ｍｍ～約１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する、複数のポリマー層を備え、所定の波長を有し、反射型偏光子の中心において反射型偏光子に垂直な、かつ反射型偏光子を通過する光軸に平行な方向に沿って反射型偏光子に入射する光に関して、反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について約７０％より大きい最大反射率、及び約５％未満の対応する最小透過率を有し、光軸から半径Ｒ内の反射型偏光子の領域が有する、反射型偏光子の中心において反射型偏光子に接する平面上への投影におけるブロック偏光状態の最大変動が、０．８Ｒｍ未満のＲに対して約１度未満になっている。
図３Ａ～図３Ｆに示す加圧プロセスを使用して、及び図４Ａ～図４Ｃに示すプルダウンプロセスを使用して、反射型偏光子フィルムを、基部８のレンズ形状に熱成形した。
反射型偏光子フィルムは、以下のように作製した。２つの多層光学パケットは、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）及び低屈折率の等方性層の３２５個の交互層から構成される各パケットと共押出しされ、これは屈折率が約１．５７であり、一軸方向で実質的に等方性を維持するように、ポリカーボネートとコポリエステル（ＰＣ：ｃｏＰＥＴ）とのブレンドを用いて製造され、ＰＣ：ｃｏＰＥＴのモル比は約４２．５ｍｏｌ％ＰＣ及び５７．５ｍｏｌ％ｃｏＰＥＴであり、そして摂氏１０５℃のＴｇを有する。この等方性材料は、２つの非延伸方向における屈折率を伸張させた後、非延伸方向における複屈折材料の屈折率と実質的に整合したままとなるように選択され、一方で延伸方向において、複屈折層と非複屈折層との間には屈折率の実質的な不整合が存在する。ＰＥＮ及びＰＣ／ｃｏＰＥＴポリマーは、別個の押出機から多層の共押出フィードブロックに供給され、これらは、合計６５２層に対して、積層された光学パケットの外側で、ＰＣ／ｃｏＰＥＴのより厚い保護境界層を加えて、３２５個の交互する光学層（それぞれ「パケット１」及び「パケット２」）のパケットに組み立てられた。フィルムを、米国特許第６，９１６，４４０号（Ｊａｃｋｓｏｎら）に記載されているように放物線状テンターで実質的に一軸延伸した。フィルムを約１５０℃の温度で約６の延伸比まで延伸した。結果として得られた反射型偏光子の層厚さプロファイルを、パケット１及び２を示す、図５０に示す。反射型偏光子は、約６５μｍの静電容量ゲージで測定した結果、得られた全厚さを有した。保護オレフィンライナーを、反射型偏光子の各側面に適用した。
基部８のレンズ形状は、６５．３ｍｍの曲率半径Ｒｃ（図１を参照）、８３ｍｍの直径２Ｒｍ、３９．５度のφｍａｘ、１４．９ｍｍのサグＳ、及び０．１７９のサグと直径との比を有した。
加圧プロセス及びプルダウンプロセスで使用した成形型は、基部８のレンズ形状に対応する湾曲した主表面を提供するように機械加工されたアルミニウム成形型であった。成形型を介して真空を引くことができるように、第１の成形型３６０に多孔質アルミニウムを使用した。プルダウンプロセスでは、領域４７７内に真空を適用し、領域４９１内に正圧を加えなかった。
加圧プロセスは、Ｈｙ－Ｔｅｃｈ Ｆｏｒｍｉｎｇ Ｓｙｓｔｅｍｓ（ＵＳＡ），Ｉｎｃ．（Ｐｈｏｅｎｉｘ，ＡＺ）製の成形機上で実施した。２枚の厚さ２．５ｍｉｌの追加ライナーを、反射型偏光子フィルムの両側に積層した。６インチ×６インチより大きいフィルム片を、積層反射型偏光子フィルムから切断した。フィルム片を、多孔質アルミニウムから機械加工された雌型を含む底部プラテン（platten）の上部に成形機内に配置し、８０°Ｆの温度に維持した。次いで、３５０°Ｆまで予熱した上部平板プラテンを、下部プラテン上に閉じて、フィルムの縁部を定位置にクランプした。６０ｐｓｉの圧力をフィルムの底面側に適用して（多孔質アルミニウムを介して）、上の平坦な加熱されたプラテンに対してフィルムを押圧した。この圧力を６秒間維持した。底面側の圧力を解放し、４７５ｐｓｉの圧力をフィルムの上側に適用して、フィルムを下の雌型内に膨張させた。圧力を６秒間維持し、その後、形成された部分（形成されたライナーを有する）を機械から除去した。
プルダウンプロセスは、ＭＡＡＣ Ｍａｃｈｉｎｅｒｙ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｃａｒｏｌ Ｓｔｒｅａｍ，ＩＬ）製の真空成形機上で実施した。反射型偏光子の８インチ×８インチの正方形片を切り取り、オレフィンライナーを除去した。フィルムを１組の４つのグリップ内に配置し、フィルムの４つの縁部全体をクランプした。フィルム及びグリップを後方に摺動させて、３８０°Ｆの温度まで予熱した加熱したプラテンの下に配置した。次いで、フィルムを有するフレームを摺動させて、１００°Ｆの温度に保持した（雄）基部８型の上に、フィルムの中心を配置した（平坦な基部のわずかに上方に配置した）。次いで、フィルムが基部と接触するまで、フィルム内に型（及び基部）を上方に移動させた。型がその最終位置に到達した後、（型と平坦な基部との間の合わせ目に配置されたポートにより）真空が引かれて、フィルムを型に対してよりしっかりと引っ張った。数秒の接触後、グリップを開き、形成された部分を除去した。
初期厚さで除した厚さ及び式１に基づいてモデル化して判定された延伸比を図２７～図２９に示す。図２８は、プルダウンプロセスで成形されたフィルムの延伸比を示し、図２９は、加圧プロセスで成形されたフィルムの延伸比を示す。モデリングの目的で、φｍａｘを４５度まで延ばした。加圧プロセスは、角度φとともに厚さが単調に増加する厚さを有する、中心で最も薄いフィルムをもたらす。プルダウンプロセスは、φとともに厚さが単調に減少する、中心で最も厚いフィルムをもたらす。加圧プロセスで形成されたフィルムでは、延伸比は、半径方向で実質的に一定であったが、円周方向では実質的に一定ではなかった。プルダウンプロセスで形成されたフィルムでは、延伸比は、円周方向で実質的に一定であったが、半径方向では実質的に一定ではなかった。
加圧プロセスによって形成された反射型偏光子サンプルの測定された厚さは、反射型偏光子の中心付近で約５２マイクロメートルから、反射型偏光子の縁部により近い約５７マイクロメートルまでの範囲であった。プルダウンプロセスによって形成された反射型偏光子サンプルの測定された厚さは、反射型偏光子の中心付近で約６５マイクロメートルから、反射型偏光子の縁部により近い約５２マイクロメートルまでの範囲であった。表１は、加圧プロセス及びプルダウンプロセスに従って形成されたサンプルに関して判定された厚さを列挙している。厚さは、円柱半径方向座標Ｒ及び方位角のｘ座標及びｙ座標のいずれかによって判定される異なる位置に列挙されている。ブロック軸は、サンプルの中心でｙ軸に沿っていた。
Figure 0007462555000002
図３０に示すような中心（Ｃ）、北（Ｎ）、南（Ｓ）、東（Ｅ）、及び西（Ｗ）のパターン内の形成された反射型偏光子サンプルから、直径２２ｍｍの部分を切断した。反射型偏光子のブロック方向である横断方向（transverse direction、ＴＤ）は、中心で東西方向に沿っていた。ブロック状態の透過率は、Ｌａｍｂｄａ ９５０分光光度計（ＰｅｒｋｉｎＥｌｍｅｒ（Ｗａｌｔｈａｍ，ＭＡ）から入手可能）を使用して、波長の関数として垂直入射で測定した。図３１～図３２は、加圧プロセス及びプルダウンプロセスそれぞれを使用して形成されたサンプルの中心、北、南、東、及び西の位置の長波長帯域端付近のブロック状態透過率のグラフを示す。長波長帯域端は、ブロック状態透過率が１０％に到達した波長として判定した。ｎｍでの長波長帯域端の結果を表２に報告する。
Figure 0007462555000003
加圧プロセス及びプルダウンプロセスによって形成された反射型偏光子の光学特性は、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ ＡｘｏＳｃａｎ（商標）Ｍｕｌｌｅｒ マトリックス偏光計（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ，Ｉｎｃ．（Ｈｕｎｔｓｖｉｌｌｅ，ＡＬ）から入手可能）を使用して更に特徴付けられた。反射型偏光子が入射光に向かって凸状である（例えば、図１の入射光１９８）、フィルムの中心を通る光軸に平行な方向に沿って形成されたフィルムに向かって向けられた光源を用いて、測定を行った。様々な量をｘ軸及びｙ軸に対してプロットした。反射型偏光子サンプルは、サンプルの中心でｙ軸に沿って横断方向（ＴＤ）で配向されていた。実施例の等高線及び三次元表面のグラフにおけるｘ軸及びｙ軸は、成形フィルムの中心からの平面視での距離をｍｍで測定したデカルト座標である。第１及び第２のサンプルは、加圧プロセス及びプルダウンプロセスの両方で形成した。サンプルは、同じ反射型偏光子フィルムの異なる部分からのものであった。測定した各量について、直径約２ｍｍのビームを使用して、２０個の測定値を各位置で取り、平均した。この平均値は、ある位置での各値を、その位置を中心とする３×３のグリッド内の９つの測定値の平均で置き換えることによって平滑化した。報告されたデータは、形成されたサンプルの中心から３０ｍｍ以内の形成されたサンプルの領域をカバーしている。
プルダウンプロセスで形成された反射型偏光子サンプルの減衰配向を図３３Ａ～図３３Ｄに示す。図３３Ａ及び図３３Ｂは、それぞれ、第１の形成されたサンプルの等高線グラフ及び三次元表面グラフであり、図３３Ｃ及び図３３Ｄは、それぞれ、第２の形成されたサンプルの等高線グラフ及び三次元表面グラフである。減衰配向は、通過軸方向と同等である。
加圧プロセスで形成された反射型偏光子サンプルの減衰配向を図３４Ａ～図３４Ｄに示す。図３４Ａ及び図３４Ｂは、それぞれ、第１の形成されたサンプルの等高線グラフ及び三次元表面グラフであり、図３４Ｃ及び図３４Ｄは、それぞれ、第２の形成されたサンプルの等高線グラフ及び三次元表面グラフである。
図３５～図３６は、プルダウンプロセス及び加圧プロセスそれぞれで形成された反射型偏光子サンプルの通過軸変動を示す。角度シフトは、変動が明確に見えるように、１０の係数によってスケーリングされている（例えば、垂直から１０度に見える線は、成形されたフィルムにおいて垂直から１度に配向されている）。
図３７Ａは、加圧プロセス（Ｐｒｅｓ）及びプルダウンプロセス（ＰＤ）によって形成されたサンプルの領域の、円柱半径方向座標Ｒ（例えば、図１を参照）の関数としての、形成された反射型偏光子サンプルの領域内の平均減衰配向（単位：度）のグラフである。図３７Ｂは、円柱半径方向座標Ｒの関数としての、領域内の反射型偏光子サンプルの中心における減衰配向に対する減衰配向（単位：度）の最大変動（最大マイナス最小）のグラフである。
プルダウンプロセスで形成された反射型偏光子サンプルの通過軸透過率（Ｔｍａｘ）を図３８Ａ～図３８Ｄに示す。図３８Ａ及び図３８Ｂは、それぞれ、第１の形成されたサンプルの等高線グラフ及び三次元表面グラフであり、図３８Ｃ及び図３８Ｄは、それぞれ、第２の形成されたサンプルの等高線グラフ及び三次元表面グラフである。グラフは、数がパーセントを表すように、１００を乗じたＴｍａｘを示す。
加圧プロセスで形成された反射型偏光子フィルムの通過軸透過率（Ｔｍａｘ）を図３９Ａ～図３９Ｄに示す。図３９Ａ及び図３９Ｂは、それぞれ、第１の形成されたサンプルの等高線グラフ及び三次元表面グラフであり、図３９Ｃ及び図３９Ｄは、それぞれ、第２の形成されたサンプルの等高線グラフ及び三次元表面グラフである。グラフは、数がパーセントを表すように、１００を乗じたＴｍａｘを示す。
図４０Ａは、加圧プロセス（Ｐｒｅｓ）及びプルダウンプロセス（ＰＤ）によって形成されたサンプルの領域の、円柱半径方向座標Ｒ（例えば、図１を参照）の関数としての、形成された反射型偏光子サンプルの領域内の平均Ｔｍａｘ（×１００％）のグラフである。図４０Ｂは、円柱半径方向座標Ｒの関数としての、領域内のＴｍａｘの最大変動（最大Ｔｍａｘパーセント－最小Ｔｍａｘパーセント）のグラフである。
プルダウンプロセスで形成された反射型偏光子サンプルのブロック軸透過率（Ｔｍｉｎ）を図４１Ａ～図４１Ｄに示す。図４１Ａ及び図４１Ｂは、それぞれ、第１の形成されたサンプルの等高線グラフ及び三次元表面グラフであり、図４１Ｃ及び図４１Ｄは、それぞれ、第２の形成されたサンプルの等高線グラフ及び三次元表面グラフである。グラフは、数がパーセントを表すように、１００を乗じたＴｍｉｎを示す。Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ偏光計からのＴｍｉｎの測定値は、測定器の報告されたノイズフロアの下であった。しかしながら、グラフに示されるＴｍｉｎの相対的な変動は、主に、測定誤差ではなく反射型偏光子サンプルの特性の結果であったと考えられる。
加圧プロセスで形成された反射型偏光子フィルムのブロック軸透過率（Ｔｍｉｎ）を図４２Ａ～図４２Ｄに示す。図４２Ａ及び図４２Ｂは、それぞれ、第１の形成されたサンプルの等高線グラフ及び三次元表面グラフであり、図４２Ｃ及び図４２Ｄは、それぞれ、第２の形成されたサンプルの等高線グラフ及び三次元表面グラフである。グラフは、数がパーセントを表すように、１００を乗じたＴｍｉｎを示す。
図４３Ａは、加圧プロセス（Ｐｒｅｓ）及びプルダウンプロセス（ＰＤ）によって形成されたサンプルの領域の、円柱半径方向座標Ｒ（例えば、図１を参照）の関数としての、形成された反射型偏光子サンプルの領域内の平均Ｔｍｉｎ（×１００％）のグラフである。図４３Ｂは、円柱半径方向座標Ｒの関数としての、領域内のＴｍｉｎの最大変動（最大Ｔｍｉｎパーセント－最小Ｔｍｉｎパーセント）のグラフである。
プルダウンプロセスで形成された反射型偏光子サンプルの線形減衰を図４４Ａ～図４４Ｄに示す。図４４Ａ及び図４４Ｂは、それぞれ、第１の形成されたサンプルの等高線グラフ及び三次元表面グラフであり、図４４Ｃ及び図４４Ｄは、それぞれ、第２の形成されたサンプルの等高線グラフ及び三次元表面グラフである。グラフは、線形減衰に１００を乗じたものを示す。
加圧プロセスで形成された反射型偏光子フィルムの線形減衰を図４５Ａ～図４５Ｄに示す。図４５Ａ及び図４５Ｂは、それぞれ、第１の形成されたサンプルの等高線グラフ及び三次元表面グラフであり、図４５Ｃ及び図４５Ｄは、それぞれ、第２の形成されたサンプルの等高線グラフ及び三次元表面グラフである。グラフは、線形減衰に１００を乗じたものを示す。
図４６Ａは、加圧プロセス（Ｐｒｅｓ）及びプルダウンプロセス（ＰＤ）によって形成されたサンプルの領域の、円柱半径方向座標Ｒ（例えば、図１を参照）の関数としての、形成された反射型偏光子サンプルの領域内の平均線形減衰のグラフである。図４６Ｂは、円柱半径方向座標Ｒの関数としての、領域内の線形減衰の最大変動（最大マイナス最小）のグラフである。
プルダウンプロセスで形成された反射型偏光子サンプルの円形減衰を図４７Ａ～図４７Ｄに示す。図４７Ａ及び図４７Ｂは、それぞれ、第１の形成されたサンプルの等高線グラフ及び三次元表面グラフであり、図４７Ｃ及び図４７Ｄは、それぞれ、第２の形成されたサンプルの等高線グラフ及び三次元表面グラフである。グラフは、円形減衰に１００を乗じたものを示す。
プルダウンプロセスで形成された反射型偏光子サンプルの円形減衰を図４８Ａ～図４８Ｂに示す。図４８Ａは、第１の形成されたサンプルの三次元表面グラフであり、図４８Ｂは、第２の形成されたサンプルの三次元表面グラフである。グラフは、円形減衰に１００を乗じたものを示す。
図４９Ａは、加圧プロセス（Ｐｒｅｓ）及びプルダウンプロセス（ＰＤ）によって形成されたサンプルの領域の、円柱半径方向座標Ｒ（例えば、図１を参照）の関数としての、形成された反射型偏光子サンプルの領域内の平均円形減衰のグラフである。図４９Ｂは、円柱半径方向座標Ｒの関数としての、領域内の円形減衰の最大変動（最大マイナス最小）のグラフである。
図中の要素の説明は、別段の指示がない限り、他の図中の対応する要素に等しく適用されるものと理解されたい。具体的な実施形態を本明細書において例示し記述したが、様々な代替及び／又は同等の実施により、図示及び記載した具体的な実施形態を、本開示の範囲を逸脱することなく置き換え可能であることが、当業者には理解されるであろう。本出願は、本明細書において説明した具体的な実施形態のあらゆる適合例又は変形例を包含することを意図する。したがって、本開示は、特許請求の範囲及びその同等物によってのみ限定されるものとする。

Claims (15)

  1. 交互配置された複数のポリマー干渉層を備える湾曲した反射型偏光子であって、各ポリマー干渉層は、主に光干渉によって光を反射又は透過し、前記湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置は、６ｍｍ～１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有し、所定の波長を有し、中心位置において前記反射型偏光子に垂直な、かつ前記反射型偏光子を通過する軸に平行な方向に沿って前記反射型偏光子に入射する光に関して、前記反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について７０％より大きい最大反射率、直交する通過偏光状態について７０％より大きい最大透過率、及び前記ブロック偏光状態について最小透過率を有し、前記反射型偏光子の中心位置で互いに交差する直交する第１の軸及び第２の軸、並びに前記反射型偏光子の前記中心位置で互いに交差する直交する第３の軸及び第４の軸に関して、前記中心位置での前記ブロック偏光状態は前記第４の軸に沿ったものであり、前記第１の軸と前記第３の軸との間の角度は、４５度であり、前記ブロック偏光状態について前記反射型偏光子の前記最小透過率は、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第１の縁部との間の前記第１の軸に沿った第１の位置では、Ｔ１であり、ここで、前記第１の縁部から前記第１の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第１の位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第２の縁部との間の前記第２の軸に沿った第２の位置では、Ｔ２であり、ここで、前記第２の縁部から前記第２の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第２の位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第３の縁部との間の前記第３の軸に沿った第３の位置では、Ｔ３であり、ここで、前記第３の縁部から前記第３の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第３の位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第４の縁部との間の前記第４の軸に沿った第４の位置では、Ｔ４であるようになっており、ここで、前記第４の縁部から前記第４の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第４の位置までの弧長の２０％未満であり、
    Ｔ１及びＴ２のうちの最大値は、Ｔ３及びＴ４のうちの最小値未満である、
    湾曲した反射型偏光子。
  2. 交互配置された複数のポリマー干渉層を備える湾曲した反射型偏光子であって、各ポリマー干渉層は、主に光干渉によって光を反射又は透過し、前記湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置は、６ｍｍ～１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有し、所定の波長を有し、中心位置において前記反射型偏光子に垂直な、かつ前記反射型偏光子を通過する軸に平行な方向に沿って前記反射型偏光子に入射する光に関して、前記反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について７０％より大きい最大反射率、直交する通過偏光状態について７０％より大きい最大透過率、及び前記ブロック偏光状態について最小透過率を有し、前記反射型偏光子の異なる縁部の間に延び、前記反射型偏光子の最大横寸法の少なくとも３％の最小幅を有し、かつ前記反射型偏光子の分離した第２及び第３の部分を画定する前記反射型偏光子の連続する第１の部分に関して、前記ブロック偏光状態について前記反射型偏光子の前記最小透過率は、前記第２の部分の少なくとも７０％内の各位置及び前記第３の部分の少なくとも７０％内の各位置よりも前記第１の部分の少なくとも７０％内の各位置において高く、前記反射型偏光子の中心位置で互いに交差する直交する第１の軸及び第２の軸に関して、前記中心位置での前記ブロック偏光状態は前記第２の軸に沿ったものであり、前記通過偏光状態について前記反射型偏光子の前記最大透過率は、
    前記中心位置では、Ｔｃであり、
    前記反射型偏光子の第１の縁部付近の前記第１の軸に沿った第１の縁部位置では、Ｔ１であり、ここで、前記第１の縁部から前記第１の縁部位置までの弧長は、前記中心位置から前記第１の縁部位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記第１の縁部の反対側にある、第２の縁部付近の前記第１の軸に沿った第２の縁部位置では、Ｔ２であり、ここで、前記第２の縁部から前記第２の縁部位置までの弧長は、前記中心位置から前記第２の縁部位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の第３の縁部付近の前記第２の軸に沿った第３の縁部位置では、Ｔ３であり、ここで、前記第３の縁部から前記第３の縁部位置までの弧長は、前記中心位置から前記第３の縁部位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記第３の縁部の反対側にある、第４の縁部付近の前記第２の軸に沿った第４の縁部位置では、Ｔ４であるようになっており、ここで、前記第４の縁部から前記第４の縁部位置までの弧長は、前記中心位置から前記第４の縁部位置までの弧長の２０％未満であり、
    Ｔｃは、Ｔ１及びＴ２のうちの最大値より大きく、Ｔ３及びＴ４のうちの最小値未満である、
    湾曲した反射型偏光子。
  3. 複数のポリマー層を備える湾曲した反射型偏光子であって、前記湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置は、６ｍｍ～１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有し、所定の波長を有し、中心位置において前記反射型偏光子に垂直な、かつ前記反射型偏光子を通過する光軸に平行な方向に沿って前記反射型偏光子に入射する光に関して、前記反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について０．７より大きい最大反射率、直交する通過偏光状態について０．７より大きい最大透過率、及び前記ブロック偏光状態について最小透過率を有し、前記光軸から半径Ｒ内の前記反射型偏光子の領域の有する、前記ブロック偏光状態の前記最小透過率の最大変動が、０．００１～０．００５の範囲にあり、
    前記反射型偏光子は、前記光軸からの最大半径Ｒｍを有し、Ｒは、Ｒｍの０．４～０．７倍の範囲であり、前記反射型偏光子の中心位置で互いに交差する直交する第１の軸及び第２の軸、並びに前記反射型偏光子の前記中心位置で互いに交差する直交する第３の軸及び第４の軸に関して、前記中心位置での前記ブロック偏光状態は前記第４の軸に沿ったものであり、前記第１の軸と前記第３の軸との間の角度は、４５度であり、前記ブロック偏光状態について前記反射型偏光子の前記最小透過率は、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第１の縁部との間の前記第１の軸に沿った第１の位置では、Ｔ１であり、ここで、前記第１の縁部から前記第１の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第１の位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第２の縁部との間の前記第２の軸に沿った第２の位置では、Ｔ２であり、ここで、前記第２の縁部から前記第２の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第２の位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第３の縁部との間の前記第３の軸に沿った第３の位置では、Ｔ３であり、ここで、前記第３の縁部から前記第３の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第３の位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第４の縁部との間の前記第４の軸に沿った第４の位置では、Ｔ４であるようになっており、ここで、前記第４の縁部から前記第４の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第４の位置までの弧長の２０％未満であり、
    Ｔ１及びＴ２のうちの最大値は、Ｔ３及びＴ４のうちの最小値未満である、
    湾曲した反射型偏光子。
  4. 複数のポリマー層を備える湾曲した反射型偏光子であって、前記湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置は、６ｍｍ～１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有し、所定の波長を有し、中心位置において前記反射型偏光子に垂直な、かつ前記反射型偏光子を通過する軸に平行な方向に沿って前記反射型偏光子に入射する光に関して、前記反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について０．７より大きい最大反射率、及び直交する通過偏光状態について０．７より大きい最大透過率を有し、前記反射型偏光子の縁部付近にある少なくとも１つの第１及び第２の位置における前記通過偏光状態についての最大透過率は、少なくとも３．８％だけ互いに異なり、前記少なくとも１つの第１の位置及び前記少なくとも１つの第２の位置は、前記中心位置において７０度～１１０度の範囲の角度を画定し、前記反射型偏光子の中心位置で互いに交差する直交する第１の軸及び第２の軸に関して、前記中心位置での前記ブロック偏光状態は前記第２の軸に沿ったものであり、前記通過偏光状態について前記反射型偏光子の前記最大透過率は、
    前記中心位置では、Ｔｃであり、
    前記反射型偏光子の第１の縁部付近の前記第１の軸に沿った第１の縁部位置では、Ｔ１であり、ここで、前記第１の縁部から前記第１の縁部位置までの弧長は、前記中心位置から前記第１の縁部位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記第１の縁部の反対側にある、第２の縁部付近の前記第１の軸に沿った第２の縁部位置では、Ｔ２であり、ここで、前記第２の縁部から前記第２の縁部位置までの弧長は、前記中心位置から前記第２の縁部位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の第３の縁部付近の前記第２の軸に沿った第３の縁部位置では、Ｔ３であり、ここで、前記第３の縁部から前記第３の縁部位置までの弧長は、前記中心位置から前記第３の縁部位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記第３の縁部の反対側にある、第４の縁部付近の前記第２の軸に沿った第４の縁部位置では、Ｔ４であるようになっており、ここで、前記第４の縁部から前記第４の縁部位置までの弧長は、前記中心位置から前記第４の縁部位置までの弧長の２０％未満であり、
    Ｔｃは、Ｔ１及びＴ２のうちの最大値より大きく、Ｔ３及びＴ４のうちの最小値未満である、
    湾曲した反射型偏光子。
  5. 複数のポリマー層を備える湾曲した反射型偏光子であって、前記湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置は、６ｍｍ～１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有し、所定の波長を有し、中心位置において前記反射型偏光子に垂直な、かつ前記反射型偏光子を通過する軸に平行な方向に沿って前記反射型偏光子に入射する光に関して、前記反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について０．７より大きい最大反射率、及び直交する通過偏光状態について０．７より大きい最大透過率を有し、前記反射型偏光子の前記中心位置付近にある少なくとも１つの位置Ａ、及び前記反射型偏光子の縁部付近にある少なくとも１つの位置Ｂにおける、前記通過偏光状態についての最大透過率は、少なくとも３．８％だけ互いに異なり、ここで、前記縁部から前記位置Ｂまでの弧長は、前記中心位置から前記位置Ｂまでの弧長の２０％未満であり、前記反射型偏光子の中心位置で互いに交差する直交する第１の軸及び第２の軸、並びに前記反射型偏光子の前記中心位置で互いに交差する直交する第３の軸及び第４の軸に関して、前記中心位置での前記ブロック偏光状態は前記第４の軸に沿ったものであり、前記第１の軸と前記第３の軸との間の角度は、４５度であり、前記ブロック偏光状態について前記反射型偏光子の最小透過率は、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第１の縁部との間の前記第１の軸に沿った第１の位置では、Ｔ１であり、ここで、前記第１の縁部から前記第１の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第１の位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第２の縁部との間の前記第２の軸に沿った第２の位置では、Ｔ２であり、ここで、前記第２の縁部から前記第２の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第２の位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第３の縁部との間の前記第３の軸に沿った第３の位置では、Ｔ３であり、ここで、前記第３の縁部から前記第３の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第３の位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第４の縁部との間の前記第４の軸に沿った第４の位置では、Ｔ４であるようになっており、ここで、前記第４の縁部から前記第４の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第４の位置までの弧長の２０％未満であり、
    Ｔ１及びＴ２のうちの最大値は、Ｔ３及びＴ４のうちの最小値未満である、
    湾曲した反射型偏光子。
  6. 複数のポリマー層を備える湾曲した反射型偏光子であって、前記湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置は、６ｍｍ～１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有し、所定の波長を有し、中心位置において前記反射型偏光子に垂直な、かつ前記反射型偏光子を通過する軸に平行な方向に沿って前記反射型偏光子に入射する光に関して、前記反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について７０％より大きい最大反射率、及び直交する通過偏光状態について７０％より大きい最大透過率を有し、平面視で、前記中心を実質的に中心にした実質的に矩形の領域内の位置の少なくとも７０％のそれぞれにおける前記通過偏光状態についての最大透過率は、前記反射型偏光子の前記中心における前記通過偏光状態についての最大透過率の１．５％以内であり、前記実質的に矩形の領域の外側にある、前記反射型偏光子の位置の少なくとも大部分における前記通過偏光状態についての最大透過率は、前記反射型偏光子の前記中心における前記通過偏光状態についての最大透過率よりも少なくとも１．５％低く、前記反射型偏光子の中心位置で互いに交差する直交する第１の軸及び第２の軸、並びに前記反射型偏光子の前記中心位置で互いに交差する直交する第３の軸及び第４の軸に関して、前記中心位置での前記ブロック偏光状態は前記第４の軸に沿ったものであり、前記第１の軸と前記第３の軸との間の角度は、４５度であり、前記ブロック偏光状態について前記反射型偏光子の最小透過率は、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第１の縁部との間の前記第１の軸に沿った第１の位置では、Ｔ１であり、ここで、前記第１の縁部から前記第１の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第１の位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第２の縁部との間の前記第２の軸に沿った第２の位置では、Ｔ２であり、ここで、前記第２の縁部から前記第２の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第２の位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第３の縁部との間の前記第３の軸に沿った第３の位置では、Ｔ３であり、ここで、前記第３の縁部から前記第３の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第３の位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第４の縁部との間の前記第４の軸に沿った第４の位置では、Ｔ４であるようになっており、ここで、前記第４の縁部から前記第４の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第４の位置までの弧長の２０％未満であり、
    Ｔ１及びＴ２のうちの最大値は、Ｔ３及びＴ４のうちの最小値未満である、
    湾曲した反射型偏光子。
  7. 交互配置された複数のポリマー干渉層を備える湾曲した反射型偏光子であって、各ポリマー干渉層は、主に光干渉によって光を反射又は透過し、前記湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置は、６ｍｍ～１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有し、所定の波長を有する光に関して、前記反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について７０％より大きい最大反射率、直交する通過偏光状態について７０％より大きい最大透過率、及び前記ブロック偏光状態について最小透過率を有し、前記反射型偏光子の中心位置で互いに交差する直交する第１の軸及び第２の軸に関して、前記中心位置での前記ブロック偏光状態は前記第２の軸に沿ったものであり、前記通過偏光状態についての前記反射型偏光子の前記最大透過率は、
    前記中心位置では、Ｔｃであり、
    前記反射型偏光子の第１の縁部付近の前記第１の軸に沿った第１の縁部位置では、Ｔ１であり、
    前記反射型偏光子の前記第１の縁部の反対側にある、第２の縁部付近の前記第１の軸に沿った第２の縁部位置では、Ｔ２であり、
    前記反射型偏光子の第３の縁部付近の前記第２の軸に沿った第３の縁部位置では、Ｔ３であり、
    前記反射型偏光子の前記第３の縁部の反対側にある、第４の縁部付近の前記第２の軸に沿った第４の縁部位置では、Ｔ４であるようになっており、
    Ｔｃは、Ｔ１及びＴ２のうちの最大値より大きく、Ｔ３及びＴ４のうちの最小値未満である、
    湾曲した反射型偏光子。
  8. 湾曲した反射型偏光子であって、少なくとも直交する第１及び第２の方向に沿って延伸され成形されて、前記湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置が、前記第１及び第２の方向のそれぞれに沿って６ｍｍ～１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する、複数のポリマー層を備え、所定の波長を有し、中心位置において前記反射型偏光子に垂直な、かつ前記反射型偏光子を通過する軸に平行な方向に沿って前記反射型偏光子に入射する光に関して、前記反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について７０％より大きい最大反射率、及び５％未満の対応する最小透過率を有し、前記反射型偏光子の中心において前記反射型偏光子に接する平面上への投影で、少なくとも１つの第１の縁部位置のブロック偏光状態は、前記反射型偏光子の前記中心におけるブロック偏光状態から時計回りに回転されており、少なくとも１つの第２の縁部位置のブロック偏光状態は、前記反射型偏光子の前記中心における前記ブロック偏光状態から反時計回りに回転されており、前記少なくとも１つの第１及び第２の縁部位置は、前記反射型偏光子の前記中心において７０度～１１０度の範囲の角度を画定し、前記反射型偏光子の中心位置で互いに交差する直交する第１の軸及び第２の軸、並びに前記反射型偏光子の前記中心位置で互いに交差する直交する第３の軸及び第４の軸に関して、前記中心位置での前記ブロック偏光状態は前記第４の軸に沿ったものであり、前記第１の軸と前記第３の軸との間の角度は、４５度であり、前記ブロック偏光状態について前記反射型偏光子の前記最小透過率は、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第１の縁部との間の前記第１の軸に沿った第１の位置では、Ｔ１であり、ここで、前記第１の縁部から前記第１の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第１の位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第２の縁部との間の前記第２の軸に沿った第２の位置では、Ｔ２であり、ここで、前記第２の縁部から前記第２の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第２の位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第３の縁部との間の前記第３の軸に沿った第３の位置では、Ｔ３であり、ここで、前記第３の縁部から前記第３の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第３の位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第４の縁部との間の前記第４の軸に沿った第４の位置では、Ｔ４であるようになっており、ここで、前記第４の縁部から前記第４の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第４の位置までの弧長の２０％未満であり、
    Ｔ１及びＴ２のうちの最大値は、Ｔ３及びＴ４のうちの最小値未満である、
    湾曲した反射型偏光子。
  9. 湾曲した反射型偏光子であって、少なくとも直交する第１及び第２の方向に沿って延伸され成形されて、前記湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置が前記第１及び第２の方向のそれぞれに沿って６ｍｍ～１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する、複数のポリマー層を備え、所定の波長を有し、前記反射型偏光子の中心において前記反射型偏光子に垂直な、かつ前記反射型偏光子を通過する軸に平行な方向に沿って前記反射型偏光子に入射する光に関して、前記反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について７０％より大きい最大反射率、及び５％未満の対応する最小透過率を有し、前記反射型偏光子の前記中心において前記反射型偏光子に接する平面上への投影で、少なくとも１つの第１及び第２の縁部位置におけるブロック偏光状態は、互いに対して２度より大きく回転されており、前記少なくとも１つの第１及び第２の縁部位置は、前記反射型偏光子の前記中心において７０度～１１０度の範囲の角度を画定し、前記反射型偏光子の中心位置で互いに交差する直交する第１の軸及び第２の軸、並びに前記反射型偏光子の前記中心位置で互いに交差する直交する第３の軸及び第４の軸に関して、前記中心位置での前記ブロック偏光状態は前記第４の軸に沿ったものであり、前記第１の軸と前記第３の軸との間の角度は、４５度であり、前記ブロック偏光状態について前記反射型偏光子の前記最小透過率は、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第１の縁部との間の前記第１の軸に沿った第１の位置では、Ｔ１であり、ここで、前記第１の縁部から前記第１の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第１の位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第２の縁部との間の前記第２の軸に沿った第２の位置では、Ｔ２であり、ここで、前記第２の縁部から前記第２の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第２の位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第３の縁部との間の前記第３の軸に沿った第３の位置では、Ｔ３であり、ここで、前記第３の縁部から前記第３の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第３の位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第４の縁部との間の前記第４の軸に沿った第４の位置では、Ｔ４であるようになっており、ここで、前記第４の縁部から前記第４の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第４の位置までの弧長の２０％未満であり、
    Ｔ１及びＴ２のうちの最大値は、Ｔ３及びＴ４のうちの最小値未満である、
    湾曲した反射型偏光子。
  10. 湾曲した反射型偏光子であって、少なくとも直交する第１及び第２の方向に沿って延伸され成形されて、前記湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置が前記第１及び第２の方向のそれぞれに沿って６ｍｍ～１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する、複数のポリマー層を備え、所定の波長を有し、前記反射型偏光子の中心において前記反射型偏光子に垂直な、かつ前記反射型偏光子を通過する光軸に平行な方向に沿って前記反射型偏光子に入射する光に関して、前記反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について７０％より大きい最大反射率、及び５％未満の対応する最小透過率を有し、前記光軸から半径Ｒ内の前記反射型偏光子の領域が有する、前記反射型偏光子の前記中心において前記反射型偏光子に接する平面上への投影における前記ブロック偏光状態の最大変動が、
    Ｒ１未満のＲについて１度未満であり、
    Ｒ２より大きいＲについて２度より大きい最大変動を有するようになっており、
    前記反射型偏光子は、前記光軸からの最大半径Ｒｍを有し、Ｒ１は、少なくとも０．４Ｒｍであり、Ｒ２は、Ｒ１より大きく、かつ０．９５Ｒｍ以下であり、前記反射型偏光子の中心位置で互いに交差する直交する第１の軸及び第２の軸、並びに前記反射型偏光子の前記中心位置で互いに交差する直交する第３の軸及び第４の軸に関して、前記中心位置での前記ブロック偏光状態は前記第４の軸に沿ったものであり、前記第１の軸と前記第３の軸との間の角度は、４５度であり、前記ブロック偏光状態について前記反射型偏光子の前記最小透過率は、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第１の縁部との間の前記第１の軸に沿った第１の位置では、Ｔ１であり、ここで、前記第１の縁部から前記第１の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第１の位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第２の縁部との間の前記第２の軸に沿った第２の位置では、Ｔ２であり、ここで、前記第２の縁部から前記第２の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第２の位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第３の縁部との間の前記第３の軸に沿った第３の位置では、Ｔ３であり、ここで、前記第３の縁部から前記第３の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第３の位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第４の縁部との間の前記第４の軸に沿った第４の位置では、Ｔ４であるようになっており、ここで、前記第４の縁部から前記第４の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第４の位置までの弧長の２０％未満であり、
    Ｔ１及びＴ２のうちの最大値は、Ｔ３及びＴ４のうちの最小値未満である、
    湾曲した反射型偏光子。
  11. 交互配置された複数のポリマー干渉層を備える湾曲した反射型偏光子であって、各ポリマー干渉層は、主に光干渉によって光を反射又は透過し、前記湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置は、６ｍｍ～１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有し、所定の波長を有し、前記反射型偏光子の中心において前記反射型偏光子に垂直な、かつ前記反射型偏光子を通過する光軸に平行な方向に沿って前記反射型偏光子に入射する光に関して、前記反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について７０％より大きい最大反射率、直交する通過偏光状態について７０％より大きい最大透過率、及び円形減衰を有し、前記反射型偏光子の中心位置で互いに交差する直交する第１の軸及び第２の軸に関して、前記反射型偏光子の前記円形減衰は、
    前記中心位置では、ＣＤｃであり、
    前記反射型偏光子の第１の縁部付近の前記第１の軸に沿った第１の縁部位置では、ＣＤ１であり、ここで、前記第１の縁部から前記第１の縁部位置までの弧長は、前記中心位置から前記第１の縁部位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記第１の縁部の反対側にある、第２の縁部付近の前記第１の軸に沿った第２の縁部位置では、ＣＤ２であり、ここで、前記第２の縁部から前記第２の縁部位置までの弧長は、前記中心位置から前記第２の縁部位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の第３の縁部付近の前記第２の軸に沿った第３の縁部位置では、ＣＤ３であり、ここで、前記第３の縁部から前記第３の縁部位置までの弧長は、前記中心位置から前記第３の縁部位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記第３の縁部の反対側にある、第４の縁部付近の前記第２の軸に沿った第４の縁部位置では、ＣＤ４であり、ここで、前記第４の縁部から前記第４の縁部位置までの弧長は、前記中心位置から前記第４の縁部位置までの弧長の２０％未満であり、
    ＣＤｃは、ＣＤ３及びＣＤ４の最小値未満であり、ＣＤ１及びＣＤ１の最大値よりも大きく、
    前記反射型偏光子の前記中心位置で互いに交差する直交する第３の軸及び第４の軸に関して、前記中心位置での前記ブロック偏光状態は前記第４の軸に沿ったものであり、前記第１の軸と前記第３の軸との間の角度は、４５度であり、前記ブロック偏光状態について前記反射型偏光子の最小透過率は、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第１の縁部との間の前記第１の軸に沿った第１の位置では、Ｔ１であり、ここで、前記第１の縁部から前記第１の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第１の位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第２の縁部との間の前記第２の軸に沿った第２の位置では、Ｔ２であり、ここで、前記第２の縁部から前記第２の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第２の位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第３の縁部との間の前記第３の軸に沿った第３の位置では、Ｔ３であり、ここで、前記第３の縁部から前記第３の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第３の位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第４の縁部との間の前記第４の軸に沿った第４の位置では、Ｔ４であるようになっており、ここで、前記第４の縁部から前記第４の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第４の位置までの弧長の２０％未満であり、
    Ｔ１及びＴ２のうちの最大値は、Ｔ３及びＴ４のうちの最小値未満である、
    湾曲した反射型偏光子。
  12. 湾曲した反射型偏光子であって、少なくとも直交する第１及び第２の方向に沿って延伸され成形されて、前記湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置が前記第１及び第２の方向のそれぞれに沿って６ｍｍ～１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する、複数のポリマー層を備え、所定の波長を有し、前記反射型偏光子の中心において前記反射型偏光子に垂直な、かつ前記反射型偏光子を通過する光軸に平行な方向に沿って前記反射型偏光子に入射する光に関して、前記反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について７０％より大きい最大反射率、及び５％未満の対応する最小透過率を有し、前記反射型偏光子の総面積以下の面積を有する前記反射型偏光子の領域が有する円形減衰の最大変動が、少なくとも０．０４であり、前記反射型偏光子の中心位置で互いに交差する直交する第１の軸及び第２の軸、並びに前記反射型偏光子の前記中心位置で互いに交差する直交する第３の軸及び第４の軸に関して、前記中心位置での前記ブロック偏光状態は前記第４の軸に沿ったものであり、前記第１の軸と前記第３の軸との間の角度は、４５度であり、前記ブロック偏光状態について前記反射型偏光子の前記最小透過率は、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第１の縁部との間の前記第１の軸に沿った第１の位置では、Ｔ１であり、ここで、前記第１の縁部から前記第１の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第１の位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第２の縁部との間の前記第２の軸に沿った第２の位置では、Ｔ２であり、ここで、前記第２の縁部から前記第２の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第２の位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第３の縁部との間の前記第３の軸に沿った第３の位置では、Ｔ３であり、ここで、前記第３の縁部から前記第３の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第３の位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第４の縁部との間の前記第４の軸に沿った第４の位置では、Ｔ４であるようになっており、ここで、前記第４の縁部から前記第４の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第４の位置までの弧長の２０％未満であり、
    Ｔ１及びＴ２のうちの最大値は、Ｔ３及びＴ４のうちの最小値未満である、
    湾曲した反射型偏光子。
  13. 湾曲した反射型偏光子であって、少なくとも直交する第１及び第２の方向に沿って延伸され成形されて、前記湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置が第１及び第２の方向のそれぞれに沿って６ｍｍ～１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する、複数のポリマー層を備え、所定の波長を有し、前記反射型偏光子の中心において前記反射型偏光子に垂直な、かつ前記反射型偏光子を通過する光軸に平行な方向に沿って前記反射型偏光子に入射する光に関して、前記反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について７０％より大きい最大反射率、及び５％未満の対応する最小透過率を有し、前記反射型偏光子の総面積の半分より大きい面積を有する前記反射型偏光子の領域が有する円形減衰の最大変動が、０．０１５以下であり、前記反射型偏光子の中心位置で互いに交差する直交する第１の軸及び第２の軸に関して、前記中心位置での前記ブロック偏光状態は前記第２の軸に沿ったものであり、通過偏光状態について前記反射型偏光子の最大透過率は、
    前記中心位置では、Ｔｃであり、
    前記反射型偏光子の第１の縁部付近の前記第１の軸に沿った第１の縁部位置では、Ｔ１であり、
    前記反射型偏光子の前記第１の縁部の反対側にある、第２の縁部付近の前記第１の軸に沿った第２の縁部位置では、Ｔ２であり、
    前記反射型偏光子の第３の縁部付近の前記第２の軸に沿った第３の縁部位置では、Ｔ３であり、
    前記反射型偏光子の前記第３の縁部の反対側にある、第４の縁部付近の前記第２の軸に沿った第４の縁部位置では、Ｔ４であるようになっており、
    Ｔｃは、Ｔ１及びＴ２のうちの最大値より大きく、Ｔ３及びＴ４のうちの最小値未満である、
    湾曲した反射型偏光子。
  14. 湾曲した反射型偏光子であって、少なくとも直交する第１及び第２の方向に沿って延伸され成形されて、前記湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置が前記第１及び第２の方向のそれぞれに沿って６ｍｍ～１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する、複数のポリマー層を備え、所定の波長を有し、前記反射型偏光子の中心において前記反射型偏光子に垂直な、かつ前記反射型偏光子を通過する光軸に平行な方向に沿って前記反射型偏光子に入射する光に関して、前記反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について７０％より大きい最大反射率、及び５％未満の対応する最小透過率を有し、前記反射型偏光子の総面積の半分より大きい面積を有する前記反射型偏光子の領域が有する円形減衰の最大絶対値が、０．００７以下であり、前記反射型偏光子の中心位置で互いに交差する直交する第１の軸及び第２の軸、並びに前記反射型偏光子の前記中心位置で互いに交差する直交する第３の軸及び第４の軸に関して、前記中心位置での前記ブロック偏光状態は前記第４の軸に沿ったものであり、前記第１の軸と前記第３の軸との間の角度は、４５度であり、前記ブロック偏光状態について前記反射型偏光子の前記最小透過率は、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第１の縁部との間の前記第１の軸に沿った第１の位置では、Ｔ１であり、ここで、前記第１の縁部から前記第１の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第１の位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第２の縁部との間の前記第２の軸に沿った第２の位置では、Ｔ２であり、ここで、前記第２の縁部から前記第２の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第２の位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第３の縁部との間の前記第３の軸に沿った第３の位置では、Ｔ３であり、ここで、前記第３の縁部から前記第３の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第３の位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第４の縁部との間の前記第４の軸に沿った第４の位置では、Ｔ４であるようになっており、ここで、前記第４の縁部から前記第４の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第４の位置までの弧長の２０％未満であり、
    Ｔ１及びＴ２のうちの最大値は、Ｔ３及びＴ４のうちの最小値未満である、
    湾曲した反射型偏光子。
  15. 湾曲した反射型偏光子であって、前記反射型偏光子は、前記光軸からの最大半径Ｒｍを有し、少なくとも直交する第１及び第２の方向に沿って延伸され成形されて、前記湾曲した反射型偏光子上の少なくとも１つの位置が前記第１及び第２の方向のそれぞれに沿って６ｍｍ～１０００ｍｍの範囲の曲率半径を有する、複数のポリマー層を備え、所定の波長を有し、前記反射型偏光子の中心において前記反射型偏光子に垂直な、かつ前記反射型偏光子を通過する光軸に平行な方向に沿って前記反射型偏光子に入射する光に関して、前記反射型偏光子上の各位置は、ブロック偏光状態について７０％より大きい最大反射率、及び５％未満の対応する最小透過率を有し、前記光軸から半径Ｒ内の前記反射型偏光子の領域が有する、前記反射型偏光子の前記中心において前記反射型偏光子に接する平面上への投影における前記ブロック偏光状態の最大変動が、０．８Ｒｍ未満のＲに対して１度未満であり、前記反射型偏光子の中心位置で互いに交差する直交する第１の軸及び第２の軸、並びに前記反射型偏光子の前記中心位置で互いに交差する直交する第３の軸及び第４の軸に関して、前記中心位置での前記ブロック偏光状態は前記第４の軸に沿ったものであり、前記第１の軸と前記第３の軸との間の角度は、約４５度であり、前記ブロック偏光状態について前記反射型偏光子の前記最小透過率は、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第１の縁部との間の前記第１の軸に沿った第１の位置では、Ｔ１であり、ここで、前記第１の縁部から前記第１の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第１の位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第２の縁部との間の前記第２の軸に沿った第２の位置では、Ｔ２であり、ここで、前記第２の縁部から前記第２の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第２の位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第３の縁部との間の前記第３の軸に沿った第３の位置では、Ｔ３であり、ここで、前記第３の縁部から前記第３の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第３の位置までの弧長の２０％未満であり、
    前記反射型偏光子の前記中心位置と第４の縁部との間の前記第４の軸に沿った第４の位置では、Ｔ４であるようになっており、ここで、前記第４の縁部から前記第４の位置までの弧長は、前記中心位置から前記第４の位置までの弧長の２０％未満であり、
    Ｔ１及びＴ２のうちの最大値は、Ｔ３及びＴ４のうちの最小値未満である、
    湾曲した反射型偏光子。
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