JP7446400B1 - フラットパネルディスプレイ用ブランクマスク及びフォトマスク - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の実施例に係るブランクマスクを製造し、これを用いてフォトマスクを製造した後、任意に静電気を印加してパターンの破壊程度を確認した。
図1のようなブランクマスクを作製するために、透明基板202上に、クロム(Cr)ターゲットを用いたDCマグネトロン反応性スパッタリング装備で後面反射率調節層216を形成し、その上に、遮光層214、帯電防止層212、反射層210、及び反射率調節層208を順次に形成して金属薄膜201を完成した。
透明基板202上に、クロム(Cr)ターゲットを用いたDCマグネトロン反応性スパッタリング装備で遮光層214を形成し、その上部に、帯電防止層212、反射層210、反射率調節層208を順次に形成して金属薄膜201を完成した。
208:反射率調節層 210:反射層
212:帯電防止層 214:遮光層
216:後面反射率調節層 220:レジスト膜
Claims (13)
- 透明基板上に備えられた金属薄膜を含み、
前記金属薄膜は、電荷が蓄積されることを防止する帯電防止層、露光光を遮断するための遮光層、及び露光光の一部を反射させる反射層を含み、
前記帯電防止層は、前記遮光層と前記反射層との間に形成されることを特徴とする、フラットパネルディスプレイ用ブランクマスク。 - 前記帯電防止層は、クロム(Cr)、窒素(N)、酸素(O)を含むことを特徴とする、請求項1に記載のフラットパネルディスプレイ用ブランクマスク。
- 前記帯電防止層は、クロム(Cr)30~60at%、窒素(N)20~60at%、酸素(O)10~40at%、炭素(C)0~10at%を含むことを特徴とする、請求項2に記載のフラットパネルディスプレイ用ブランクマスク。
- 前記金属薄膜は、特定波長の露光光に対して反射率を調節し、電荷の移動と蓄積を防止する反射率調節層をさらに含むことを特徴とする、請求項3に記載のフラットパネルディスプレイ用ブランクマスク。
- 前記金属薄膜は、前記透明基板上に、前記遮光層、前記帯電防止層、前記反射層、前記反射率調節層の順序で積層して形成されることを特徴とする、請求項4に記載のフラットパネルディスプレイ用ブランクマスク。
- 前記金属薄膜は、前記透明基板と前記遮光層との間に形成され、露光装置から照射された露光光の反射を防止するための後面反射率調節層をさらに含むことを特徴とする、請求項5に記載のフラットパネルディスプレイ用ブランクマスク。
- 透明基板上に備えられた金属薄膜を含み、
前記金属薄膜は、電荷が蓄積されることを防止する帯電防止層、露光光を遮断するための遮光層、及び露光光の一部を反射させる反射層を含み、
前記帯電防止層は、クロム(Cr)30~60at%、窒素(N)20~60at%、酸素(O)10~40at%、炭素(C)0~10at%を含み、
前記反射層はクロム(Cr)を含むか、或いはクロム(Cr)及び窒素(N)を含むことを特徴とする、フラットパネルディスプレイ用ブランクマスク。 - 前記反射層は、クロム(Cr)50~100at%、窒素(N)0~50at%、炭素(C)0~10at%を含むことを特徴とする、請求項7に記載のフラットパネルディスプレイ用ブランクマスク。
- 前記反射率調節層は、クロム(Cr)、窒素(N)、酸素(O)を含むことを特徴とする、請求項4に記載のフラットパネルディスプレイ用ブランクマスク。
- 前記遮光層は、クロム(Cr)、又はクロム(Cr)に窒素(N)、酸素(O)、炭素(C)のうち一つ以上を含むクロム(Cr)化合物で構成されることを特徴とする、請求項3に記載のフラットパネルディスプレイ用ブランクマスク。
- 透明基板上に備えられた金属薄膜を含み、
前記金属薄膜は、電荷が蓄積されることを防止する帯電防止層、露光光を遮断するための遮光層、露光光の一部を反射させる反射層、及び特定波長の露光光に対して反射率を調節し、電荷の移動と蓄積を防止する反射率調節層を含み、
前記帯電防止層は、クロム(Cr)30~60at%、窒素(N)20~60at%、酸素(O)10~40at%、炭素(C)0~10at%を含み、
前記帯電防止層は500~1500Åの厚さを有し、前記反射層は50~1000Åの厚さを有し、前記反射率調節層は50~500Åの厚さを有することを特徴とする、フラットパネルディスプレイ用ブランクマスク。 - 前記帯電防止層は、100Ω/□以上の面抵抗を有することを特徴とする、請求項3に記載のフラットパネルディスプレイ用ブランクマスク。
- 請求項1~12のいずれか一項に記載のフラットパネルディスプレイ用ブランクマスクを用いて製造されたフラットパネルディスプレイ用フォトマスク。
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