JP7436438B2 - 半導体装置の製造方法、基板処理方法、基板処理装置、およびプログラム - Google Patents
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- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45523—Pulsed gas flow or change of composition over time
- C23C16/45525—Atomic layer deposition [ALD]
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- H01L29/66227—Multistep manufacturing processes of devices having semiconductor bodies comprising group 14 or group 13/15 materials the devices being controllable only by the electric current supplied or the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched, e.g. three-terminal devices
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- H01L29/66477—Unipolar field-effect transistors with an insulated gate, i.e. MISFET
- H01L29/66833—Unipolar field-effect transistors with an insulated gate, i.e. MISFET with a charge trapping gate insulator, e.g. MNOS transistors
Description
(a)基板に対してシリコンを含む第1ガスを供給して第1層を形成する工程と、
(b)基板に対してシリコンを含み前記第1ガスとは分子構造の異なる第2ガスを供給して第2層を形成する工程と、
(c)基板に対して所定の元素を含む第3ガスを供給する工程と、
(d)基板に対して窒素を含む第4ガスを供給して前記第1層および前記第2層を改質する工程と、
を含むサイクルを所定回数行うことで、前記基板上にシリコン、前記所定の元素、および窒素を含む膜を形成する工程を有し、
前記所定の元素として、前記膜中に欠陥を形成することが可能な元素を用い、
前記サイクルでは、(a)~(d)の各工程を、(a)(c)(b)(d)、(c)(a)(b)(d)、または(c)(a)(c)(b)(d)のいずれかの順に行う技術が提供される。
以下、本開示の一態様について、主に、図1~図4を参照しつつ説明する。なお、以下の説明において用いられる図面は、いずれも模式的なものであり、図面に示される、各要素の寸法の関係、各要素の比率等は、現実のものとは必ずしも一致していない。また、複数の図面の相互間においても、各要素の寸法の関係、各要素の比率等は必ずしも一致していない。
図1に示すように、処理炉202は温度調整器(加熱部)としてのヒータ207を有する。ヒータ207は円筒形状であり、保持板に支持されることにより垂直に据え付けられている。ヒータ207は、ガスを熱で活性化(励起)させる活性化機構(励起部)としても機能する。
上述の基板処理装置を用い、半導体装置の製造工程の一工程として、基板としてのウエハ200に対し処理を行うシーケンス例、すなわち、ウエハ200上に膜を形成する成膜シーケンス例について、主に、図4を用いて説明する。以下の説明において、基板処理装置を構成する各部の動作はコントローラ121により制御される。
ウエハ200に対してSiを含む第1ガスを供給して第1層を形成するステップaと、
ウエハ200に対してSiを含み第1ガスとは分子構造の異なる第2ガスを供給して第2層を形成するステップbと、
ウエハ200に対して所定の元素として例えばCを含む第3ガスを供給するステップcと、
ウエハ200に対してNを含む第4ガスを供給して第1層および第2層を改質するステップdと、
を含むサイクルを所定回数(n回、nは1以上の整数)行うことで、ウエハ200上にSi、C、およびNを含む膜として、シリコン炭窒化膜(SiCN膜、或いは、CがドープされたSiN膜)を形成する工程を行う。
複数枚のウエハ200がボート217に装填(ウエハチャージ)されると、シャッタ開閉機構115sによりシャッタ219sが移動させられて、マニホールド209の下端開口が開放される(シャッタオープン)。その後、図1に示すように、複数枚のウエハ200を支持したボート217は、ボートエレベータ115によって持ち上げられて処理室201内へ搬入(ボートロード)される。この状態で、シールキャップ219は、Oリング220bを介してマニホールド209の下端をシールした状態となる。このようにして、ウエハ200は、処理室201内に提供されることとなる。
ボートロードが終了した後、処理室201内、すなわち、ウエハ200が存在する空間が所望の圧力(真空度)となるように、真空ポンプ246によって真空排気(減圧排気)される。この際、処理室201内の圧力は圧力センサ245で測定され、この測定された圧力情報に基づきAPCバルブ244がフィードバック制御される。また、処理室201内のウエハ200が所望の処理温度となるように、ヒータ207によって加熱される。この際、処理室201内が所望の温度分布となるように、温度センサ263が検出した温度情報に基づきヒータ207への通電具合がフィードバック制御される。また、回転機構267によるウエハ200の回転を開始する。処理室201内の排気、ウエハ200の加熱および回転は、いずれも、少なくともウエハ200に対する処理が終了するまでの間は継続して行われる。
その後、以下のステップa~dをa,c,b,dの順に実行する。
ステップaでは、処理室201内のウエハ200に対して第1ガスを供給する。
処理温度:450~750℃、好ましくは650~700℃
処理圧力:20~133Pa、好ましくは40~70Pa
第1ガス供給流量:0.01~2slm、好ましくは0.1~1slm
第1ガス供給時間:6~60秒、好ましくは10~30秒
不活性ガス供給流量(ガス供給管毎):0~20slm
が例示される。圧力を133Pa以下とすることにより、温度等他の要因も関係するがガスの分解を防ぐことが可能となる。
不活性ガス供給流量(ガス供給管毎):0.5~20slm
不活性ガス供給時間:1~60秒、好ましくは2~20秒
が例示される。他の処理条件は、本ステップにて第1ガスを供給する際における処理条件と同様にする。
ステップcでは、処理室201内のウエハ200、すなわち、ウエハ200上に形成された第1層に対して第3ガスを供給する。
処理圧力:10~50Pa、好ましくは15~30Pa
第3ガス供給流量:0.05~6slm、好ましくは0.5~2slm
第3ガス供給時間:2~60秒、好ましくは4~30秒
が例示される。他の処理条件は、ステップaにて第1ガスを供給する際における処理条件と同様にする。
ステップbでは、処理室201内のウエハ200、すなわち、ウエハ200上に形成されたCが吸着した第1層(又は、Cを含む第1層、又は表面にC含有層が形成された第1層とも言う)に対して第2ガスを供給する。
処理圧力:20~133Pa、好ましくは40~70Pa
第2ガス供給流量:0.01~1.5slm、好ましくは0.1~0.8slm
第2ガス供給時間:6~30秒、好ましくは10~20秒
が例示される。他の処理条件は、ステップaにて第1ガスを供給する際における処理条件と同様にする。
ステップdでは、処理室201内のウエハ200に対して第4ガスを供給する。
処理圧力:133~1330Pa、好ましくは650~950Pa
第4ガス供給流量:1.0~9slm、好ましくは3.0~7slm
第4ガス供給時間:10~60秒、好ましくは20~50秒
が例示される。他の処理条件は、ステップaにて第1ガスを供給する際における処理条件と同様にする。
上述したステップa~dを非同時に、すなわち、同期させることなく行うサイクルを所定回数(n回、nは1以上の整数)行うことにより、図7に示すように、ウエハ200上に、1サイクルあたりに形成される上述のSiCN層を所定の数だけ積層して、SiCN膜を形成することができる。より具体的には、その組成として、Si、NおよびC等を含み、Cが添加されたことにより、膜中に欠陥が形成されたSiCN膜を、ウエハ200上に形成することができる。SiCN膜では、第1層が窒化されてなる層中に形成される欠陥の密度は、第2層が窒化されてなる層中に形成される欠陥の密度よりも高くなっている。上述のサイクルは、複数回繰り返すことが好ましい。すなわち、1サイクルあたりに形成されるSiCN層の厚さを所望の膜厚よりも薄くし、SiCN層を積層することで形成されるSiCN膜の膜厚が所望の膜厚になるまで、上述のサイクルを複数回繰り返すことが好ましい。
上述の成膜処理が終了した後、ノズル249a~249cのそれぞれからパージガスとしての不活性ガスを処理室201内へ供給し、排気口231aより排気する。これにより、処理室201内がパージされ、処理室201内に残留するガスや反応副生成物等が処理室201内から除去される(アフターパージ)。その後、処理室201内の雰囲気が不活性ガスに置換され(不活性ガス置換)、処理室201内の圧力が常圧に復帰される(大気圧復帰)。
その後、ボートエレベータ115によりシールキャップ219が下降され、マニホールド209の下端が開口される。そして、処理済のウエハ200が、ボート217に支持された状態でマニホールド209の下端から反応管203の外部に搬出(ボートアンロード)される。ボートアンロードの後は、シャッタ219sが移動させられ、マニホールド209の下端開口がOリング220cを介してシャッタ219sによりシールされる(シャッタクローズ)。処理済のウエハ200は、反応管203の外部に搬出された後、ボート217より取り出される(ウエハディスチャージ)。
本態様によれば、以下に示す1つ又は複数の効果が得られる。
本態様における成膜シーケンスは、以下に示す変形例のように変更することができる。これらの変形例は、任意に組み合わせることができる。特に説明がない限り、各変形例の各ステップにおける処理手順、処理条件は、上述の成膜シーケンスの各ステップにおける処理手順、処理条件と同様とすることができる。
図5および以下に示す成膜シーケンスのように、ステップa~dの各工程を、ステップc,a,b,dの順に非同時に行うようにしてもよい。具体的には、ステップaを行う直前にステップcを行うようにしてもよい。図5では、ステップa,b,c,dの実施期間をそれぞれa,b,c,dと表している。
以下に示す成膜シーケンスのように、ステップa~dの各工程を、ステップc,a,c,b,dの順に非同時に行うようにしてもよい。具体的には、ステップaを行う直前とステップaを行った直後にステップcを行うようにしてもよい。
上述の態様では、ステップaの実施期間とステップcの実施期間とを重複させない例について説明したが、本開示はこれに限定されない。例えば、ステップaにおいて第1ガスの供給を継続したままの状態でステップcを開始して第2ガスを供給し、ステップaの実施期間の少なくとも一部と、ステップcの実施期間の少なくとも一部と、を重複させてもよい。このようにすることにより、上述の効果に加えて、サイクルタイムを短縮させて成膜処理の生産性を向上させることができる。
図6および以下に示す成膜シーケンスのように、ステップaの実施期間の少なくとも一部と、ステップcの実施期間と、を重複させつつ、ステップa,b,dの工程を、この順に行うようにしてもよい。図6では、ステップa,b,dの実施期間をそれぞれa,b,dと表している。
以下に示す成膜シーケンスのように、ステップaの実施期間の少なくとも一部と、ステップcの実施期間を重複させつつ、ステップa~dの各工程を、ステップa,c,b,dの順に行うようにしてもよい。
以下に示す成膜シーケンスのように、ステップaの実施期間の少なくとも一部と、ステップcの実施期間と、を重複させつつ、ステップa~dの各工程を、ステップc,a,b,dの順に行うようにしてもよい。
以下に示す成膜シーケンスのように、ステップaの実施期間の少なくとも一部と、ステップcの実施期間と、を重複させつつ、ステップa~dの各工程を、ステップc,a,c,b,dの順に行うようにしてもよい。
以上、本開示の態様を具体的に説明した。しかしながら、本開示は上述の態様に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。
サンプル2:(第3ガス→第1ガス→第2ガス→第4ガス)×n
サンプル3:(第1ガス→第2ガス→第4ガス)×n
サンプル4:(第1ガス→第2ガス→第3ガス→第4ガス)×n
以下、本開示の好ましい態様について付記する。
本開示の一態様によれば、
(a)基板に対してシリコンを含む第1ガスを供給して第1層を形成する工程と、
(b)基板に対してシリコンを含み前記第1ガスとは分子構造の異なる第2ガスを供給して第2層を形成する工程と、
(c)基板に対して所定の元素を含む第3ガスを供給する工程と、
(d)基板に対して窒素を含む第4ガスを供給して前記第1層および前記第2層を改質する工程と、
を含むサイクルを所定回数行うことで、前記基板上にシリコン、前記所定の元素、および窒素を含む膜を形成する工程を有し、
前記所定の元素として、前記膜中に欠陥を形成することが可能な元素を用い、
前記サイクルでは、(a)~(d)の各工程を、(a)(c)(b)(d)、(c)(a)(b)(d)、または(c)(a)(c)(b)(d)のいずれかの順に行う半導体装置の製造方法、または、基板処理方法が提供される。
本開示の他の態様によれば、
(a)基板に対してシリコンを含む第1ガスを供給して第1層を形成する工程と
(b)基板に対してシリコンを含み前記第1ガスとは分子構造の異なる第2ガスを供給して第2層を形成する工程と、
(c)基板に対して所定の元素を含む第3ガスを供給する工程と、
(d)基板に対して窒素を含む第4ガスを供給して前記第1層および前記第2層を改質する工程と、
を含むサイクルを所定回数行うことで、前記基板上にシリコン、前記所定の元素、及び窒素を含む膜を形成する工程を有し、
前記所定の元素として、前記膜中に欠陥を形成することが可能な元素を用い、
(a)の実施期間の少なくとも一部と、(c)の実施期間の少なくとも一部と、を重複させる半導体装置の製造方法、または、基板処理方法が提供される。
付記2に記載の方法であって、
(c)の実施期間と、(b)の実施期間と、を重複させない。
付記2または3に記載の方法であって、
(c)の実施期間と、(d)の実施期間と、を重複させない。
付記2~4のいずれか1項に記載の方法であって、
前記サイクルでは、(a)(b)(d)の工程を、この順に行う。
付記2~4のいずれか1項に記載の方法であって、
前記サイクルでは、(a)~(d)の各工程を、(a)(c)(b)(d)の順に行う。
付記2~4のいずれか1項に記載の方法であって、
前記サイクルでは、(a)~(d)の各工程を、(c)(a)(b)(d)の順に行う。
付記2~4のいずれか1項に記載の方法であって、
前記サイクルでは、(a)~(d)の各工程を、(c)(a)(c)(b)(d)の順に行う。
本開示のさらに他の態様によれば、
基板に対して、シリコンを含む第1ガス、シリコンを含み前記第1ガスとは分子構造の異なる第2ガス、所定の元素を含む第3ガス、窒素を含む第4ガスを供給し、前記基板上に、前記第1ガスが供給されることで形成される第1層が改質されてなる層と、前記第2ガスが供給されることで形成される第2層が改質されてなる層と、を交互に積層して、シリコン、前記所定の元素、及び窒素を含む膜を形成する工程を有し、
前記所定の元素として、前記膜中に欠陥を形成することが可能な元素を用い、
前記第1層が改質されてなる層における前記所定の元素の濃度を、前記第2層が改質されてなる層における前記所定の元素の濃度よりも高くし、
前記第1ガスとして、前記第2ガスが有する熱分解温度よりも高い熱分解温度を有するガスを用いる半導体装置の製造方法、または、基板処理方法が提供される。
付記9に記載の方法であって、
前記第1層が改質されてなる層中に形成される欠陥の密度を、前記第2層が改質されてなる層中に形成される欠陥の密度よりも高くする。
付記1~10のいずれか1項に記載の方法であって、
前記第1ガスとして、Si-Si結合を含まないガスを用い、
前記第2ガスとして、Si-Si結合を含むガスを用いる。
付記1~11のいずれか1項に記載の方法であって、
前記所定の元素として、炭素またはホウ素のうち少なくともいずれかを用いる。
付記1~12のいずれか1項に記載の方法であって、
前記第3ガスとして、炭化水素系ガス、アミン系ガス、塩化ホウ素系ガス、および、水素化ホウ素系ガスからなる群より選択される少なくともいずれかのガスを用いる。
付記1~13のいずれか1項に記載の方法であって、
前記膜中における前記所定の元素の濃度を5原子%以下とする。
好ましくは1原子%以上5原子%以下、より好ましくは1.5原子%以上4原子%以下、より好ましくは2原子%以上3原子%以下とする。
付記1~14のいずれか1項に記載の方法であって、
前記膜は、不揮発性メモリセルのチャージトラップ膜である。
付記1~8のいずれか1項に記載の方法であって、
(a)における前記基板の温度を、前記基板が存在する空間に前記第1ガスが単独で存在した場合に前記第1ガスが熱分解する温度以下の温度、または、前記第1ガスが熱分解する温度よりも低い温度とし、
(b)における前記基板の温度を、前記基板が存在する空間に前記第2ガスが単独で存在した場合に前記第2ガスが熱分解する温度以上の温度、または、前記第2ガスが熱分解する温度よりも高い温度とする。
具体的には、基板の温度を、450℃以上750℃以下、好ましくは650℃以上750℃以下にする。
本開示のさらに他の態様によれば、
基板上に膜を形成する処理が行われる処理室と、
前記処理室内の基板に対して、シリコンを含む第1ガスを供給する第1ガス供給系と、
前記処理室内の基板に対して、シリコンを含み前記第1ガスとは分子構造の異なる第2ガスを供給する第2ガス供給系と、
前記処理室内の基板に対して、前記膜中に欠陥を形成することが可能な所定の元素を含む第3ガスを供給する第3ガス供給系と、
前記処理室内の基板に対して、窒素を含む第4ガスを供給する第4ガス供給系と、
前記処理室内において、付記1の各処理(各工程)を行わせるように、前記第1ガス供給系、前記第2ガス供給系、前記第3ガス供給系、および前記第4ガス供給系を制御することが可能なよう構成される制御部と、を有する基板処理装置が提供される。
本開示のさらに他の態様によれば、
付記1の各手順(各工程)をコンピュータによって基板処理装置に実行させるプログラム、または、該プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体が提供される。
Claims (20)
- (a)基板に対して、シリコンを含み、且つSi-Si結合を含まない第1ガスを供給して第1層を形成する工程と、
(b)前記基板に対して、シリコンを含み、且つSi-Si結合を含む第2ガスを供給して第2層を形成する工程と、
(c)前記基板に対して所定の元素を含む第3ガスを供給する工程と、
(d)前記基板に対して窒素を含む第4ガスを供給して前記第1層および前記第2層を改質する工程と、
を含むサイクルを所定回数行うことで、前記基板上にシリコン、前記所定の元素、および窒素を含む膜を形成する工程を有し、
前記所定の元素として、前記膜中に欠陥を形成することが可能な元素を用い、
前記サイクルでは、(a)~(d)の各工程を、(a)(c)(b)(d)、(c)(a)(b)(d)、または(c)(a)(c)(b)(d)のいずれかの順に行う基板処理方法。 - (a)の実施期間の少なくとも一部と、(c)の実施期間の少なくとも一部と、を重複させる、請求項1に記載の基板処理方法。
- 前記サイクルでは、(a)~(d)の各工程を、(a)(c)(b)(d)の順に行う、請求項1に記載の基板処理方法。
- 前記サイクルでは、(a)~(d)の各工程を、(c)(a)(b)(d)の順に行う、請求項1に記載の基板処理方法。
- 前記サイクルでは、(a)~(d)の各工程を、(c)(a)(c)(b)(d)の順に行う、請求項1に記載の基板処理方法。
- 前記所定の元素として、炭素またはホウ素のうち少なくともいずれかを用いる、請求項1に記載の基板処理方法。
- 前記第3ガスとして、炭化水素系ガス、アミン系ガス、塩化ホウ素系ガス、および、水素化ホウ素系ガスからなる群より選択される少なくともいずれかのガスを用いる、請求項1に記載の基板処理方法。
- (a)基板に対してシリコンを含む第1ガスを供給して第1層を形成する工程と、
(b)前記基板に対してシリコンを含み、前記第1ガスとは分子構造の異なる第2ガスを供給して第2層を形成する工程と、
(c)前記基板に対して所定の元素を含む第3ガスを供給する工程と、
(d)前記基板に対して窒素を含む第4ガスを供給して前記第1層および前記第2層を改質する工程と、
を含むサイクルを所定回数行うことで、前記基板上にシリコン、前記所定の元素、および窒素を含む、不揮発性メモリセルのチャージトラップ膜を形成する工程を有し、
前記所定の元素として、前記膜中に欠陥を形成することが可能な元素を用い、
前記サイクルでは、(a)~(d)の各工程を、(a)(c)(b)(d)、(c)(a)(b)(d)、または(c)(a)(c)(b)(d)のいずれかの順に行う基板処理方法。 - (c)は、前記基板に対して炭素を含む第3ガスを供給する期間と、前記基板に対してホウ素を含む第3ガスを供給する期間とを含み、
炭素を含む第3ガスを供給する期間の少なくとも一部と、ホウ素を含む第3ガスを供給する期間の少なくとも一部と、を重複させる、請求項6に記載の基板処理方法。 - (c)は、前記基板に対して炭素を含む第3ガスを供給する期間と、前記基板に対してホウ素を含む第3ガスを供給する期間とを含み、
炭素を含む第3ガスまたはホウ素を含む第3ガスのいずれか一方の第3ガスを供給する期間が終了した直後に他の一方の第3ガスを供給する期間を開始させる、請求項6に記載の基板処理方法。 - (a)基板に対してシリコンを含む第1ガスを供給して第1層を形成する工程と、
(b)前記基板に対してシリコンを含み、前記第1ガスとは分子構造の異なる第2ガスを供給して第2層を形成する工程と、
(c)前記基板に対して所定の元素を含む第3ガスを供給する工程と、
(d)前記基板に対して窒素を含む第4ガスを供給して前記第1層および前記第2層を改質する工程と、
を含むサイクルを所定回数行うことで、前記基板上にシリコン、前記所定の元素、および窒素を含む膜を形成する工程を有し、
前記所定の元素として、前記膜中に欠陥を形成することが可能な元素を用い、
(a)における前記基板の温度を、前記基板が存在する空間に前記第1ガスが単独で存在した場合に前記第1ガスが熱分解する温度以下の温度、または、前記第1ガスが熱分解する温度よりも低い温度とし、
(b)における前記基板の温度を、前記基板が存在する空間に前記第2ガスが単独で存在した場合に前記第2ガスが熱分解する温度以上の温度、または、前記第2ガスが熱分解する温度よりも高い温度とし、
前記サイクルでは、(a)~(d)の各工程を、(a)(c)(b)(d)、(c)(a)(b)(d)、または(c)(a)(c)(b)(d)のいずれかの順に行う基板処理方法。 - (a)基板に対して、シリコンを含み、且つSi-Si結合を含まない第1ガスを供給して第1層を形成する工程と、
(b)前記基板に対して、シリコンを含み、且つSi-Si結合を含む第2ガスを供給して第2層を形成する工程と、
(c)前記基板に対して所定の元素を含む第3ガスを供給する工程と、
(d)前記基板に対して窒素を含む第4ガスを供給して前記第1層および前記第2層を改質する工程と、
を含むサイクルを所定回数行うことで、前記基板上にシリコン、前記所定の元素、および窒素を含む膜を形成する工程を有し、
前記所定の元素として、前記膜中に欠陥を形成することが可能な元素を用い、
前記サイクルでは、(a)~(d)の各工程を、(a)(c)(b)(d)、(c)(a)(b)(d)、または(c)(a)(c)(b)(d)のいずれかの順に行う半導体装置の製造方法。 - (a)基板に対してシリコンを含む第1ガスを供給して第1層を形成する工程と、
(b)前記基板に対してシリコンを含み、前記第1ガスとは分子構造の異なる第2ガスを供給して第2層を形成する工程と、
(c)前記基板に対して所定の元素を含む第3ガスを供給する工程と、
(d)前記基板に対して窒素を含む第4ガスを供給して前記第1層および前記第2層を改質する工程と、
を含むサイクルを所定回数行うことで、前記基板上にシリコン、前記所定の元素、および窒素を含む、不揮発性メモリセルのチャージトラップ膜を形成する工程を有し、
前記所定の元素として、前記膜中に欠陥を形成することが可能な元素を用い、
前記サイクルでは、(a)~(d)の各工程を、(a)(c)(b)(d)、(c)(a)(b)(d)、または(c)(a)(c)(b)(d)のいずれかの順に行う半導体装置の製造方法。 - (a)基板に対してシリコンを含む第1ガスを供給して第1層を形成する工程と、
(b)前記基板に対してシリコンを含み、前記第1ガスとは分子構造の異なる第2ガスを供給して第2層を形成する工程と、
(c)前記基板に対して所定の元素を含む第3ガスを供給する工程と、
(d)前記基板に対して窒素を含む第4ガスを供給して前記第1層および前記第2層を改質する工程と、
を含むサイクルを所定回数行うことで、前記基板上にシリコン、前記所定の元素、および窒素を含む膜を形成する工程を有し、
前記所定の元素として、前記膜中に欠陥を形成することが可能な元素を用い、
(a)における前記基板の温度を、前記基板が存在する空間に前記第1ガスが単独で存在した場合に前記第1ガスが熱分解する温度以下の温度、または、前記第1ガスが熱分解する温度よりも低い温度とし、
(b)における前記基板の温度を、前記基板が存在する空間に前記第2ガスが単独で存在した場合に前記第2ガスが熱分解する温度以上の温度、または、前記第2ガスが熱分解する温度よりも高い温度とし、
前記サイクルでは、(a)~(d)の各工程を、(a)(c)(b)(d)、(c)(a)(b)(d)、または(c)(a)(c)(b)(d)のいずれかの順に行う半導体装置の製造方法。 - 基板に対して、シリコンを含み、且つSi-Si結合を含まない第1ガスを供給する第1ガス供給系と、
前記基板に対して、シリコンを含み、且つSi-Si結合を含む第2ガスを供給する第2ガス供給系と、
前記基板に対して、前記基板上に形成される膜中に欠陥を形成することが可能な所定の元素を含む第3ガスを供給する第3ガス供給系と、
前記基板に対して、窒素を含む第4ガスを供給する第4ガス供給系と、
(a)前記基板に対して前記第1ガスを供給して第1層を形成する処理と、(b)前記基板に対して前記第2ガスを供給して第2層を形成する処理と、(c)前記基板に対して前記第3ガスを供給する工程と、(d)前記基板に対して前記第4ガスを供給して前記第1層および前記第2層を改質する工程と、を含むサイクルを所定回数行うことで、前記膜として、前記基板上にシリコン、前記所定の元素、および窒素を含む膜を形成する処理を行わせ、前記サイクルでは、(a)~(d)の各工程を、(a)(c)(b)(d)、(c)(a)(b)(d)、または(c)(a)(c)(b)(d)のいずれかの順に行うように、前記第1ガス供給系、前記第2ガス供給系、前記第3ガス供給系、および前記第4ガス供給系を制御することが可能なよう構成される制御部と、
を有する基板処理装置。 - 基板に対して、シリコンを含む第1ガスを供給する第1ガス供給系と、
前記基板に対して、シリコンを含み前記第1ガスとは分子構造の異なる第2ガスを供給する第2ガス供給系と、
前記基板に対して、前記基板上に形成される膜中に欠陥を形成することが可能な所定の元素を含む第3ガスを供給する第3ガス供給系と、
前記基板に対して、窒素を含む第4ガスを供給する第4ガス供給系と、
(a)前記基板に対して前記第1ガスを供給して第1層を形成する処理と、(b)前記基板に対して前記第2ガスを供給して第2層を形成する処理と、(c)前記基板に対して前記第3ガスを供給する工程と、(d)前記基板に対して前記第4ガスを供給して前記第1層および前記第2層を改質する工程と、を含むサイクルを所定回数行うことで、前記膜として、前記基板上にシリコン、前記所定の元素、および窒素を含む、不揮発性メモリセルのチャージトラップ膜を形成する処理を行わせ、前記サイクルでは、(a)~(d)の各工程を、(a)(c)(b)(d)、(c)(a)(b)(d)、または(c)(a)(c)(b)(d)のいずれかの順に行うように、前記第1ガス供給系、前記第2ガス供給系、前記第3ガス供給系、および前記第4ガス供給系を制御することが可能なよう構成される制御部と、
を有する基板処理装置。 - 基板に対して、シリコンを含む第1ガスを供給する第1ガス供給系と、
前記基板に対して、シリコンを含み前記第1ガスとは分子構造の異なる第2ガスを供給する第2ガス供給系と、
前記基板に対して、前記基板上に形成される膜中に欠陥を形成することが可能な所定の元素を含む第3ガスを供給する第3ガス供給系と、
前記基板に対して、窒素を含む第4ガスを供給する第4ガス供給系と、
(a)前記基板に対して前記第1ガスを供給して第1層を形成する処理と、(b)前記基板に対して前記第2ガスを供給して第2層を形成する処理と、(c)前記基板に対して前記第3ガスを供給する工程と、(d)前記基板に対して前記第4ガスを供給して前記第1層および前記第2層を改質する工程と、を含むサイクルを所定回数行うことで、前記膜として、前記基板上にシリコン、前記所定の元素、および窒素を含む膜を形成する処理を行わせ、前記サイクルでは、(a)~(d)の各工程を、(a)(c)(b)(d)、(c)(a)(b)(d)、または(c)(a)(c)(b)(d)のいずれかの順に行うように、前記第1ガス供給系、前記第2ガス供給系、前記第3ガス供給系、および前記第4ガス供給系を制御することが可能なよう構成される制御部と、
を有し、
(a)における前記基板の温度は、前記基板が存在する空間に前記第1ガスが単独で存在した場合に前記第1ガスが熱分解する温度以下の温度、または、前記第1ガスが熱分解する温度よりも低い温度とし、
(b)における前記基板の温度は、前記基板が存在する空間に前記第2ガスが単独で存在した場合に前記第2ガスが熱分解する温度以上の温度、または、前記第2ガスが熱分解する温度よりも高い温度とする基板処理装置。 - (a)基板に対して、シリコンを含み、且つSi-Si結合を含まない第1ガスを供給して第1層を形成する手順と、
(b)前記基板に対して、シリコンを含み、且つSi-Si結合を含む第2ガスを供給して第2層を形成する手順と、
(c)前記基板に対して、前記基板上に形成される膜中に欠陥を形成することが可能な所定の元素を含む第3ガスを供給する手順と、
(d)前記基板に対して窒素を含む第4ガスを供給して前記第1層および前記第2層を改質する手順と、
を含むサイクルを所定回数行うことで、前記膜として、前記基板上にシリコン、前記所定の元素、および窒素を含む膜を形成する手順と、
前記サイクルにおいて、(a)~(d)の各工程を、(a)(c)(b)(d)、(c)(a)(b)(d)、または(c)(a)(c)(b)(d)のいずれかの順に行う手順と、
をコンピュータによって基板処理装置に実行させるプログラム。 - (a)基板に対してシリコンを含む第1ガスを供給して第1層を形成する手順と、
(b)前記基板に対してシリコンを含み前記第1ガスとは分子構造の異なる第2ガスを供給して第2層を形成する手順と、
(c)前記基板に対して、前記基板上に形成される膜中に欠陥を形成することが可能な所定の元素を含む第3ガスを供給する手順と、
(d)前記基板に対して窒素を含む第4ガスを供給して前記第1層および前記第2層を改質する手順と、
を含むサイクルを所定回数行うことで、前記膜として、前記基板上にシリコン、前記所定の元素、および窒素を含む不揮発性メモリセルのチャージトラップ膜を形成する手順と、
前記サイクルにおいて、(a)~(d)の各工程を、(a)(c)(b)(d)、(c)(a)(b)(d)、または(c)(a)(c)(b)(d)のいずれかの順に行う手順と、
をコンピュータによって基板処理装置に実行させるプログラム。 - (a)基板に対してシリコンを含む第1ガスを供給して第1層を形成する手順と、
(b)前記基板に対してシリコンを含み前記第1ガスとは分子構造の異なる第2ガスを供給して第2層を形成する手順と、
(c)前記基板に対して、前記基板上に形成される膜中に欠陥を形成することが可能な所定の元素を含む第3ガスを供給する手順と、
(d)前記基板に対して窒素を含む第4ガスを供給して前記第1層および前記第2層を改質する手順と、
を含むサイクルを所定回数行うことで、前記膜として、前記基板上にシリコン、前記所定の元素、および窒素を含む膜を形成する手順と、
前記サイクルにおいて、(a)~(d)の各工程を、(a)(c)(b)(d)、(c)(a)(b)(d)、または(c)(a)(c)(b)(d)のいずれかの順に行う手順と、
を有し、
(a)における前記基板の温度は、前記基板が存在する空間に前記第1ガスが単独で存在した場合に前記第1ガスが熱分解する温度以下の温度、または、前記第1ガスが熱分解する温度よりも低い温度とし、
(b)における前記基板の温度は、前記基板が存在する空間に前記第2ガスが単独で存在した場合に前記第2ガスが熱分解する温度以上の温度、または、前記第2ガスが熱分解する温度よりも高い温度とする手順を、コンピュータによって基板処理装置に実行させるプログラム。
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