JP7431307B2 - 真空計 - Google Patents

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Description

本発明は、静電容量の変化を検出することで圧力を計測する真空計に関する。
静電容量式の隔膜真空計などの圧力センサは、ダイアフラム(隔膜)を含むセンサチップを測定対象のガスが流れる配管などに取り付けて、圧力を受けたダイアフラムのたわみ量、すなわち変位を静電容量値に変換し、静電容量値から圧力値を出力する。この圧力センサは、ガス種依存性が少ないことから、半導体設備をはじめ、工業用途で広く使用されている(特許文献1参照)。
上述した隔膜真空計などの圧力センサのセンサチップは、図5に示すように、絶縁体からなる基台401と、基台401の上に支持部401aによって支持されて可動領域402aで基台401と離間して配置され、可動領域402aで基台401の方向に変位可能とされた絶縁体からなり、測定対象からの圧力を受けるダイアフラム402と、可動領域402aにおけるダイアフラム402と基台401との間に形成された気密室403とを備える。各部分はサファイアから構成されている。
また、ダイアフラム402の可動領域402aに形成された可動感圧電極404と、基台401の上に可動感圧電極404に向かい合って形成された固定感圧電極405とを備える。また、ダイアフラム402の可動領域402aにおいて可動感圧電極404の周囲に形成された可動参照電極406と、固定感圧電極405の周囲の基台401の上に形成され、可動参照電極406に向かい合って形成された固定参照電極407とを備える。
以上のように構成されたセンサチップでは、可動感圧電極404と固定感圧電極405とで容量が形成される。ダイアフラム402が外部との圧力差により中央部が基台401の方向あるいは逆方向に変位すれば、可動感圧電極404と固定感圧電極405との間隔が変化し、これらの間の容量が変化する。この容量変化を検出すれば、ダイアフラム402に受けた圧力を検出することができる。
また、可動参照電極406と、固定参照電極407との間にも容量が形成される。ただし、可動参照電極406は、支持部401aに近い所に設けられているため、ダイアフラム402の反りによる変位量は、より中央部に配置された可動感圧電極404より小さい。従って、固定参照電極407と可動参照電極406との間の容量変化を基準として固定感圧電極405と可動感圧電極404との間の容量変化をとらえることで、ダイアフラム402の変位量がばらつきを抑制して検出できるようになる。
ところで、ダイアフラムや基台を絶縁体から構成した場合、感圧電極と参照電極との間には、絶縁体の表面が露出することになる。この領域がセンサ稼働中に帯電することにより隔膜にクーロン力が作用する。上述した圧力センサで絶対圧を計測する場合は、ダイアフラムや基台の表面が真空に曝されるので、帯電電荷の漏えいがしにくい状況となる。低圧レンジを測定するなど高感度を必要とする場合、ダイアフラムが非常に薄いため、上述したクーロン力の影響により、センサ出力の誤差要因となりやすい。
ダイアフラムや基台を絶縁材料から構成し、例えばこれらの表面抵抗が1014Ω/□以上の場合、感圧電極と参照電極の間隔が広いと、絶縁体表面の露出面積が多く、互いの表面の接近や接触ないしは交流駆動などで帯電しやすい。この結果、ダイアフラムに帯電によるクーロン力が作用する。ここで、参照電極の内径と感圧電極の外径との比率に対する上述した静電引力の大きさは、図6Bに示すように変化する。図6Bは、ダイアフラムの厚さが異なる2つの圧力センサの結果を示し、黒四角は、黒丸の厚さの0.8倍とされている。
図6Bからわかるように、内径と外形との比率が1に近いほど、言い換えると感圧電極と参照電極の間隔が小さいほど、静電引力の大きさが小さい。このため、図6Aに示すように、感圧電極501と参照電極502との間隔を所定の範囲で狭くし、これらの間の領域が、容易に帯電しないように、あるいは帯電しても電荷が早期に漏えいするようにしている。
なお、上述した感圧電極と参照電極との間隔によって2つの電極間の表面抵抗値が決まるが、計測時に電極に印加される交流電圧の周期よりも時定数τが十分大きくなるように間隔の最小値を設計すればよい。感圧電極と参照電極の間の抵抗をR、静電容量をC、さらに計測電圧の交流の振動周期をT(振動数fの逆数)としたとき、RC≫Tであることが望ましい。
一方で、ダイアフラム表面への副生成物堆積は、センサ出力誤差発生の原因となることが知られているが、現在これを検知するために圧力センサのゼロ点容量値を監視している。この値がある閾値を超えた場合に、計測回路からアラームが発報されるように構成されている。このアラーム発報に伴い、エンドユーザ自身が判断し、圧力センサのゼロ点をリセットして調整している。ただし、調整可能範囲を超えた場合に、この操作は不可能となる。例えば、半導体製造プロセスなどでの真空計測誤差の増大といった不具合低減は特に重要であり、さらなる改善が求められている。
これに対し、図7Aに示すように、感圧電極601の外径と参照電極602と内径との差を大きくすることで、図7Bに示すように、ダイアフラム表面に対する異物堆積がない場合の正常な圧力感度の値に対して、異物堆積による出力変化の割合が小さい(=SN比が大きい)ことが判明している。なお、図7Bにおいても、ダイアフラムの厚さが異なる2つの圧力センサの結果を示し、黒四角は、黒丸の厚さの0.8倍とされている。なお、これは、感圧電極から計測される感圧容量値と参照電極から計測される参照容量値との差分をセンサ出力として用いる構成の場合である。
特許第3339565号公報
しかしながら、上述したように、帯電の問題に対しては、感圧電極の外径と参照電極の内径との差を小さくして感圧電極と参照電極との間隔を小さくしているが、異物堆積に対しては、感圧電極の外径と参照電極と内径との差を大きくしている。このため、単純には、帯電問題への対策と異物堆積への対策とが、相反する関係となっている。
本発明は、以上のような問題点を解消するためになされたものであり、帯電による問題と異物堆積による問題との両者に対応できるようにすることを目的とする。
本発明に係る真空計は、絶縁体からなる基台と、基台の上に支持部によって支持されて可動領域で基台と離間して配置され、可動領域で基台の方向あるいは逆方向に変位可能とされた絶縁体からなり、測定対象からの圧力を受ける受圧部と、可動領域における受圧部と基台との間に形成された圧力室と、圧力室の内部で受圧部の可動領域および基台の上の各々に、互いに向かい合って形成された感圧電極と、圧力室の内部で受圧部の可動領域および基台の上の各々の、感圧電極が形成されていない領域で互いに向かい合って形成された参照電極とを備え、受圧部の可動領域および基台の上の少なくとも一方の感圧電極は、圧力室の中央部に配置された中央部分と、中央部分より中心部より離れる方向に放射状に延びた複数の羽根部とから構成され、受圧部の可動領域および基台の上の少なくとも一方の参照電極は、圧力室の周縁部に配置された周縁部分と、周縁部分より複数の羽根部の間の領域に入り込む状態に配置された複数の突入部分とから構成され、複数の羽根部と複数の突入部分とは、咬合する状態に配置されている。
上記真空計において、受圧部の可動領域および基台の上の両方の感圧電極は、中央部分と、複数の羽根部とから構成され、受圧部の可動領域および基台の上の両方の参照電極は、周縁部分と、複数の突入部分とから構成されている。
上記真空計において、受圧部の可動領域および基台の上の一方の感圧電極は、中央部分と、複数の羽根部とから構成され、受圧部の可動領域および基台の上の一方の参照電極は、周縁部分と、複数の突入部分とから構成され、受圧部の可動領域および基台の上の他方の感圧電極および参照電極は、一体に形成されているようにしてもよい。
上記真空計において、複数の羽根部および複数の突入部分は、周方向に等しい間隔で形成されているとよい。
上記真空計において、感圧電極および参照電極は、回転対称に形成されているとよい。
上記真空計において、複数の羽根部と複数の突入部分とは、等しい面積とされているとよい。
上記真空計において、複数の羽根部および複数の突入部は、各々偶数設けられている。
上記真空計において、中央部分は、円形状に形成されている。
上記真空計において、羽根部は、扇状に形成されている。
上記真空計において、周縁部分は、円環状に形成されている。
以上説明したことにより、本発明によれば、帯電による問題と異物堆積による問題との両者に対応できるという優れた効果が得られる。
図1は、本発明の実施の形態における真空計の構成を示す断面図である。 図2Aは、本発明の実施の形態における真空計の一部構成を示す平面図である。 図2Bは、本発明の実施の形態における真空計の一部構成を示す平面図である。 図2Cは、本発明の実施の形態における真空計の一部構成を示す平面図である。 図3は、本発明の実施の形態における他の真空計の一部構成を示す平面図である。 図4は、本発明の実施の形態における他の真空計の一部構成を示す平面図である。 図5は、一般的な真空計の構成を示す斜視図である。 図6Aは、真空計の一部構成を示す平面図である。 図6Bは、参照電極の内径と感圧電極の外径との比率に対するダイアフラムに作用する静電引力の変化を示す特性図である。 図7Aは、真空計の一部構成を示す平面図である。 図7Bは、参照電極の内径と感圧電極の外径との比率に対する異物堆積の影響の変化を示す特性図である。
以下、本発明の実施の形態おける真空計について図1、図2A、図2B、図2Cを参照して説明する。この真空計は、基台101、ダイアフラム102、圧力室103、感圧電極104、参照電極105を備える。
受圧部となるダイアフラム102は、絶縁体からなる基台101の上に支持部101aによって支持されて可動領域102aで基台101と離間して配置されている。ダイアフラム102は、可動領域102aの外側の接合領域102bで、支持部101aの上面に接合されている。また、ダイアフラム102は、可動領域102aで基台101の方向あるいは逆方向に変位可能とされ、測定対象からの圧力を受ける。この例では、ダイアフラム102および可動領域102aは、平面視で円形に形成している。また、圧力室103も、平面視で略円形としている。
ダイアフラム102も、基台101と同様に絶縁体から構成されている。基台101およびダイアフラム102は、例えば、サファイアやアルミナセラミックから構成されている。なお、ダイアフラム102と支持部101aとを一体に形成し、支持部101aの下面を、基台101に接合する構成としてもよい。
可動領域102aにおけるダイアフラム102と基台101との間に圧力室103が形成され、圧力室103の内部に、感圧電極104、参照電極105が形成されている。感圧電極104と参照電極105とは、絶縁分離されている。感圧電極104は、感圧固定電極104aおよび感圧可動電極104bから構成され、これらが、基台101およびダイアフラム102の可動領域102aの上の各々に、互いに向かい合って形成されている。感圧固定電極104aと感圧可動電極104bとは、例えば、平面視で同一の形状とされている。なお、感圧固定電極104aと感圧可動電極104bとは、同じ大きさ(面積)である必要は無い。
感圧可動電極104bは、ダイアフラム102の可動領域102aに形成されている。感圧固定電極104aは、基台101の上に感圧可動電極104bに向かい合って形成されている。よく知られているように、静電容量式の真空計は、感圧固定電極104aと感圧可動電極104bとの間に形成される容量の変化により、ダイアフラム102の受圧領域で受けた圧力を測定する。
参照電極105は、参照固定電極105aおよび参照可動電極105bから構成され、これらが、圧力室103の内部でダイアフラム102の基台101および可動領域102aの上の各々の、感圧電極104が形成されていない領域で互いに向かい合って形成されている。参照固定電極105aと参照可動電極105bとは、例えば、平面視で同一の形状とされている。なお、参照固定電極105aと参照可動電極105bとは、同じ大きさ(面積)である必要は無い。
ここで、図2Aに示すように、感圧電極104(感圧固定電極104a,感圧可動電極104bの各々)は、圧力室103の中央部に配置された中央部分141と、中央部分141より中心部より離れる方向に放射状に延びた複数の羽根部142とから構成されている。この例では、複数の羽根部142を、周方向に等しい間隔で形成している。また、この例では、平面視円形のダイアフラム102(可動領域102a)の形状に合わせ、中央部分141は、円形に形成し、羽根部142は、扇状に形成している。
また、図2Bに示すように、参照電極105(参照固定電極105a,参照可動電極105bの各々)は、圧力室103の周縁部に配置された周縁部分151と、周縁部分151より複数の突入部分152とから構成されている。この例では、複数の突入部分152を、周方向に等しい間隔で形成している。また、周縁部分151は、ダイアフラム102や可動領域102aの形状に合わせて円環状に形成している。
図2Cに示すように、複数の突入部分152は、複数の羽根部142の間の領域に入り込む状態に配置され、複数の羽根部142と複数の突入部分152とは、咬合する状態に配置されている。なお、複数の羽根部142と複数の突入部分152とは、等しい面積とされているとよい。参照電極に対する感圧電極の信号比率の調整が容易となる。
また、この真空計は、圧力値出力部108を備える。圧力値出力部108は、参照固定電極105aと参照可動電極105bとの間の容量を基準とし、ダイアフラム102の反り(変位)による感圧固定電極104aと感圧可動電極104bとの間の容量変化を検出する。圧力値出力部108は、検出した容量変化を、設定されているセンサ感度を用いて圧力値に変換して出力する。
上述した実施の形態によれば、感圧電極104の複数の羽根部142と、参照電極105の複数の突入部分152とを、互いに入り組んだ形状としているので、感圧電極104と参照電極105との間の差分において、双方の電極の中間領域成分が相殺される。この結果、静電引力の影響を低減でき、圧力感度を下げることなく、異物堆積による影響が低減できるようになる。
なお、上述では、4つの羽根部142および4つの突入部分152から構成したが、これに限るものではない。図3に示すように、まず、感圧電極は、中央部分241より周方向に等しい間隔で、中心部より離れる方向に放射状に延びた8つの羽根部242を設ける形状としてもよい。また、参照電極は、周縁部分251より周方向に等しい間隔で配置された8の突入部分252を設ける形状としてもよい。
また、ダイアフラム(可動領域)は、平面視円形に限るものではなく、平面視矩形としてもよく、この場合、図4に示すように、まず、感圧電極は、矩形状の中央部分341より中心部より離れる方向に放射状に延びた複数の羽根部342を設けた形状としてもよい。また、参照電極は、矩形の枠状の周縁部分351より複数の突入部分352を設けるようにしてもよい。この場合においても、複数の突入部分352は、複数の羽根部342の間の領域に入り込む状態に配置され、複数の羽根部342と複数の突入部分352とは、咬合する状態に配置されている。この例において、羽根部342および突入部分352の各々は、正方形とされたダイアフラムの中心と頂点とを通る線に対して線対称な形状とされている。
なお、いずれにおいても、感圧電極および参照電極は、回転対称に形成されていればよい。また、複数の羽根部および複数の突入部は、各々偶数設けられているとよい。感圧電極および参照電極が形成されたダイアフラムが、ダイアフラム中心に対して均一に圧力が加わり、受圧によりダイアフラム中心に対して均一に変形可能な状態とされていればよい。
また、上述した実施の形態では、受圧部の可動領域および基台の上の両方の感圧電極を、中央部分と、複数の羽根部とから構成し、受圧部の可動領域および基台の上の両方の参照電極を、周縁部分と、複数の突入部分とから構成したが、これに限るものではない。受圧部の可動領域および基台の上の少なくとも一方の感圧電極を、中央部分と羽根部とから構成し、受圧部の可動領域および基台の上の少なくとも一方の参照電極を、周縁部分と複数の突入部分とから構成すればよい。
例えば、受圧部の可動領域および基台の上の一方の感圧電極は、中央部分と、複数の羽根部とから構成し、受圧部の可動領域および基台の上の一方の参照電極は、周縁部分と、複数の突入部分とから構成し、受圧部の可動領域および基台の上の他方の感圧電極および参照電極は、一体に形成されているようにしてもよい。
以上に説明したように、本発明によれば、感圧電極を円形の中央部分と複数の羽根部とから構成し、参照電極を周縁部分と複数の突入部分とから構成し、複数の羽根部と、突入部分を、互いに入り組んだ形状としたので、帯電による問題と異物堆積による問題との両者に対応できるようになる。
なお、本発明は以上に説明した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想内で、当分野において通常の知識を有する者により、多くの変形および組み合わせが実施可能であることは明白である。
101…基台、101a…支持部、102…ダイアフラム、102a…可動領域、102b…接合領域、103…圧力室、104…感圧電極、104a…感圧固定電極、104b…感圧可動電極、105…参照電極、105a…参照固定電極、105b…参照可動電極、108…圧力値出力部、141…中央部分、142…羽根部、151…周縁部分、152…突入部分。

Claims (9)

  1. 絶縁体からなる基台と、
    前記基台の上に支持部によって支持されて可動領域で前記基台と離間して配置され、前記可動領域で前記基台の方向あるいは逆方向に変位可能とされた絶縁体からなり、測定対象からの圧力を受ける受圧部と、
    前記可動領域における前記受圧部と前記基台との間に形成された圧力室と、
    前記圧力室の内部で前記受圧部の前記可動領域および前記基台の上の各々に、互いに向かい合って形成された感圧電極と、
    前記圧力室の内部で前記受圧部の前記可動領域および前記基台の上の各々の、前記感圧電極が形成されていない領域で互いに向かい合って形成された参照電極と
    を備え、
    前記受圧部の前記可動領域および前記基台の上の少なくとも一方の前記感圧電極は、前記圧力室の中央部に配置された中央部分と、前記中央部分より中心部より離れる方向に放射状に延びた複数の羽根部とから構成され、
    前記受圧部の前記可動領域および前記基台の上の少なくとも一方の前記参照電極は、前記圧力室の周縁部に配置された周縁部分と、前記周縁部分より前記複数の羽根部の間の領域に入り込む状態に配置された複数の突入部分とから構成され、
    前記複数の羽根部と前記複数の突入部分とは、互いに咬合する状態に配置され、
    前記複数の羽根部の面積と前記複数の突入部分の面積とは、互いに等しい面積とされている
    ことを特徴とする真空計。
  2. 請求項1記載の真空計において、
    前記受圧部の前記可動領域および前記基台の上の両方の前記感圧電極は、前記中央部分と、前記複数の羽根部とから構成され、
    前記受圧部の前記可動領域および前記基台の上の両方の前記参照電極は、前記周縁部分と、前記複数の突入部分とから構成されている
    ことを特徴とする真空計。
  3. 請求項1記載の真空計において、
    前記受圧部の前記可動領域および前記基台の上の一方の前記感圧電極は、前記中央部分と、前記複数の羽根部とから構成され、
    前記受圧部の前記可動領域および前記基台の上の一方の前記参照電極は、前記周縁部分と、前記複数の突入部分とから構成され、
    前記受圧部の前記可動領域および前記基台の上の他方の前記感圧電極および前記参照電極は、一体に形成されている
    ことを特徴とする真空計。
  4. 請求項1~3のいずれか1項に記載の真空計において、
    前記複数の羽根部および前記複数の突入部分は、周方向に等しい間隔で形成されていることを特徴とする真空計。
  5. 請求項4記載の真空計において、
    前記感圧電極および前記参照電極は、回転対称に形成されていることを特徴とする真空計。
  6. 請求項1~5のいずれか1項に記載の真空計において、
    前記複数の羽根部および前記複数の突入部分は、各々偶数設けられていることを特徴とする真空計。
  7. 請求項1~6のいずれか1項に記載の真空計において、
    前記中央部分は、円形状に形成されていることを特徴とする真空計。
  8. 請求項1~7のいずれか1項に記載の真空計において、
    前記羽根部は、扇状に形成されていることを特徴とする真空計。
  9. 請求項1~8のいずれか1項に記載の真空計において、
    前記周縁部分は、円環状に形成されていることを特徴とする真空計。
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