JP7430226B2 - 少なくとも部分的に透明の物体内に偽造防止マーキングを構成する方法 - Google Patents
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Description
‐むき出しの状態の上記少なくとも部分的に透明の物体を得るステップ;
‐上記少なくとも部分的に透明の物体の上記上面又は上記底面のうちの一方に、構成したい上記偽造防止マーキングのプロファイルに輪郭が対応する少なくとも1つの開口を画定するマスクを設けるステップであって、上記マスクは、上記少なくとも部分的に透明の物体の表面の、構成対象でないエリアを覆う、ステップ;
‐上記マスクの上記少なくとも1つの開口を通して、上記少なくとも部分的に透明の物体に1価又は多価イオンビームを衝突させることによって、上記偽造防止マーキングを構成するステップであって、上記マスクの機械的特性は、上記少なくとも部分的に透明の物体の表面の、この表面が上記マスクで覆われているエリアを、上記イオンビームのイオンがエッチングするのを防止するために十分なものである、ステップ;
‐上記マスクを除去するステップ;
‐上記少なくとも部分的に透明の物体を、アルカリ性pHの浴に入れるステップ
を含む。
‐上記少なくとも部分的に透明の物体の上記表面上に堆積させられる上記マスクは、メタライゼーションによって形成される金属コートであり;
‐上記メタライゼーションは、以下の技法:物理蒸着(Physical Vapour Deposition:PVD)、化学蒸着(Chemical Vapour Deposition:CVD)、プラズマ強化化学蒸着のうちの1つを用いた蒸着によって実施され;
‐上記金属コートは、厚さが1~1500nmの窒化クロムCrNのコートであり;
‐上記少なくとも部分的に透明の物体に構成されることになる上記偽造防止マーキングの上記プロファイルに上記輪郭が対応する上記少なくとも1つの開口は、フォトリソグラフィーによって上記金属コートに配設される。
2 上面
4 底面
6 マスク
8 開口
10 マスキングコート
12 光感受性樹脂のコート
12a 光感受性樹脂のコートの露光された部分
12b 光感受性樹脂のコートの露光されていない部分
14 イオンビーム
16 浴
18 偽造防止マーキング
20 光源
22、24 反射防止コート
Claims (16)
- 少なくとも部分的に透明の非晶質、半結晶性又は結晶性材料から作製された物体(1)の厚み内に偽造防止マーキング(18)を構成する方法であって、前記少なくとも部分的に透明の物体(1)は、上面(2)と、前記上面(2)からある距離に延在する底面(4)とを備え、前記方法は、以下の連続するステップ:
‐むき出しの状態の前記少なくとも部分的に透明の物体(1)を得るステップ;
‐前記少なくとも部分的に透明の物体(1)の前記上面(2)及び前記底面(4)のうちの一方に、構成したい前記偽造防止マーキングのプロファイルに輪郭が対応する少なくとも1つの開口(8)を画定するマスク(6)を設けるステップであって、前記マスク(6)は、前記少なくとも部分的に透明の物体(1)の表面の、構成対象でないエリアを覆う、ステップ;
‐前記マスク(6)の前記少なくとも1つの開口(8)を通して、前記少なくとも部分的に透明の物体(1)に1価又は多価イオンビーム(14)を衝突させることによって、前記偽造防止マーキングを構成するステップであって、前記マスク(6)の機械的特性は、前記少なくとも部分的に透明の物体(1)の前記表面の、前記表面が前記マスク(6)で覆われているエリアを、前記イオンビーム(14)のイオンがエッチングするのを防止するために十分なものである、ステップ;
‐前記マスク(6)を除去するステップ;
‐前記少なくとも部分的に透明の物体(1)を、アルカリ性pHの浴(16)に入れるステップ
を含み、
前記偽造防止マーキング(18)が、裸眼で知覚不可能であるものの、白色発光ダイオードタイプの光源を用いて検知可能になるように、前記イオンビーム(14)の衝突が前記物体(1)の反射率の変化を誘発することを特徴とする、方法。 - 少なくとも1つの反射防止コート(22、24)を、前記物体の前記上面(2)及び前記底面(4)のうちの少なくとも一方の上に堆積させることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも部分的に透明の物体(1)は、好ましくは合成の、サファイア、ルビー、又はダイヤモンド製であることを特徴とする、請求項1及び2のいずれか1項に記載の方法。
- 前記少なくとも部分的に透明の物体(1)は、半結晶性有機材料製であることを特徴とする、請求項1及び2のいずれか1項に記載の方法。
- 前記少なくとも部分的に透明の物体(1)は、無機ガラス又は非晶質有機材料製であることを特徴とする、請求項1及び2のいずれか1項に記載の方法。
- 前記少なくとも部分的に透明の物体(1)は、事前洗浄されることを特徴とする、請求項1及び2のいずれか1項に記載の方法。
- 前記1価又は多価イオンビーム(14)は、ECR電子サイクロトロン共鳴型1価又は多価イオン源によって生成されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも部分的に透明の物体(1)に対して、窒素N、酸素O、ヘリウムHe、炭素C、アルゴンAr、キセノンXe、又は四フッ化炭素CF4若しくはメタンCH4をイオン化することによって得られた炭素Cイオンを用いて衝撃を発生させることを特徴とする、請求項7に記載の方法。
- 前記イオンは、10kV~40kVの電圧で加速され、イオン注入量は3×1016~6×1016イオン/cm2であることを特徴とする、請求項8に記載の方法。
- 前記少なくとも部分的に透明の物体(1)に対して、28kVの電圧で1.53s/cm2の持続時間にわたって加速された、窒素Nイオンを用いて、衝撃を発生させ、イオン注入量は3.5×1016イオン/cm2であり、イオンビーム強度は5.5mAであることを特徴とする、請求項9に記載の方法。
- 前記マスク(6)は、前記偽造防止マーキングの前記輪郭が切り取られた材料のシートであり、前記材料のシートは、前記プロファイルを構成したい前記少なくとも部分的に透明の物体(1)の前記上面(2)又は前記底面(4)に固定されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも部分的に透明の物体(1)の前記上面(2)又は前記底面(4)上に堆積させられる前記マスク(6)は、メタライゼーションによって形成される金属コートであることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記メタライゼーションは、以下の技法:物理蒸着(Physical Vapour Deposition:PVD)、化学蒸着(Chemical Vapour Deposition:CVD)、プラズマ強化化学蒸着のうちの1つを用いた蒸着によって実施されることを特徴とする、請求項12に記載の方法。
- 前記金属コートは、厚さが1~1500nmの窒化クロムCrNのコートであることを特徴とする、請求項13に記載の方法。
- 前記少なくとも部分的に透明の物体(1)に構成されることになる前記偽造防止マーキングの前記プロファイルに前記輪郭が対応する前記少なくとも1つの開口(8)は、フォトリソグラフィーによって前記金属コートに配設されることを特徴とする、請求項12に記載の方法。
- 前記少なくとも部分的に透明の物体(1)は、腕時計風防であることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
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JP2019192633A (ja) | 2018-04-19 | 2019-10-31 | コマディール・エス アー | 少なくとも部分的に光透過性のアモルファス、半結晶性又は結晶性の材料によって作られた物に装飾パターン又は技術的パターンを形成する方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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CN101398950B (zh) * | 2007-09-25 | 2010-12-22 | 中国印钞造币总公司 | 一种用于鉴定有价证券真伪的方法 |
CN110079783A (zh) * | 2014-03-18 | 2019-08-02 | 3D-奥克赛茨公司 | 标签装置、其用途和用于标签装置的包装 |
KR102595036B1 (ko) * | 2015-11-23 | 2023-10-27 | 에꼴 뽈리떼끄닉 뻬데랄 드 로잔느 (으뻬에프엘) | 투명한 포토루미네선트 라벨로 제품을 라벨링하는 방법 및 투명한 포토루미네선트 라벨 |
CN106977113A (zh) * | 2016-01-19 | 2017-07-25 | 精工爱普生株式会社 | 透光性部件、钟表及透光性部件的制造方法 |
CN108375894A (zh) * | 2017-01-30 | 2018-08-07 | 精工爱普生株式会社 | 钟表用部件以及钟表 |
JP7448916B2 (ja) * | 2020-05-26 | 2024-03-13 | 信越化学工業株式会社 | 個体認証方法 |
-
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