KR100913200B1 - 표시판 및 그 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 표시판 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 표시판 제조 방법은 박판 상부에 금속층 및 포토레지스트층을 적층 형성하는 단계와, 구별 가능한 외곽선을 갖는 표시 패턴과 표시 패턴 사이에 복수의 미세 패턴이 형성된 패턴 마스크를 이용하여 포토레지스트층을 패터닝하는 단계와, 패터닝된 포토레지스트층을 이용하여 금속층을 식각하여 구별 가능한 외곽선을 갖는 표시 패턴과 표시 패턴 사이에 복수의 미세 패턴을 형성하는 단계를 포함한다.
본 발명에 의하면, 친환경 제품의 표시판을 생산할 수 있을 뿐만 아니라, 내마모성, 적용성 및 확장성을 향상시킬 수 있고, 동일한 마스크를 이용하여 반복적인 포토리소그라피 공정을 실시하여 미세 패턴을 형성함으로써 생산성과 경제성을 향상시킬 수 있다. 또한, 홀로그램 전사지를 이용한 핫 스탬핑 방식의 단점을 극복하고, 사용 재료, 색상 및 다양한 패턴의 적용으로 다양한 시각적인 효과 및 각기 다른 패턴 및/또는 다른 선폭을 갖는 패턴의 중첩에 의한 중첩적인 홀로그램 현상을 발생시킬 수 있다.
표시판, 홀로그램, 포토리소그래피, 친환경, 표시 패턴, 미세 패턴
Description
본 발명은 표시판 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 특히 포토리소그래피 공정으로 형성된 미세 패턴에 의한 빛의 반사와 간섭 현상을 이용하여 심미감있는 문자를 표현할 수 있고, 친환경적으로 상품의 외장에 문자 또는 문양을 형성하는 표시판 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
홀로그램은 빛의 굴절 및 간섭에 의해 입체적인 형상이 나타나게 하는 것이다. 이러한 홀로그램은 각종 통신용 단말기, 전자 제품 등의 상품에 적용되어 미관을 미려하게 할 뿐만 아니라 위조 방지를 위해 인식표, 신용 카드 및 지폐 등에 사용되는 등 그 적용 범위가 상당히 넓어지고 있다.
이러한 홀로그램을 형성하는 종래의 방법으로 금속을 기계 가공하여 홀로그램 문양을 형성한 후 전기적으로 니켈을 증착하는 방법과, 홀로그램 전사지를 이용한 핫 스탬핑(Hot Stamping) 방법이 있다.
그런데, 홀로그램 문양이 가공된 금속 표면에 니켈을 전기적으로 증착시키는 방법은 니켈이 납, 수은 등과 함께 환경 유해 물질로 규정됨으로써 생산이 불가능해졌으므로 친환경적인 재료의 선택이 필요한 상황이다.
또한, 핫 스탬핑 방식에 의해 형성된 홀로그램 제품은 내마모성이 떨어지고 알코올에 의해 쉽게 지워지며 일정 온도 이상에서 변색되는 단점이 있다. 따라서, 제품의 표면에 형성될 수 없고, 투명 외장재의 배면 또는 제품 내부의 타 재료에 적용할 수 밖에 없는 제약이 있다.
본 발명은 내마모성을 향상시켜 상품의 외장에 형성할 수 있어 적용 범위를 확장시킬 수 있고, 사용 재료, 색상 및 미세 패턴의 형상에 따라 빛의 반사와 간섭 현상 이용한 다양한 홀로그램과 유사한 효과를 표현할 수 있는 표시판 및 그 제조 방법을 제공한다.
본 발명은 스테인리스 스틸과 크롬 등 환경 친화적인 물질에 포토리소그래피 공정을 적용하여 다양한 형상의 미세 패턴을 형성함으로써 빛의 반사와 간섭 현상을 극대화하고 환경 친화적으로 제조할 수 있는 표시판 및 그 제조 방법을 제공한다.
본 발명은 동일한 마스크로 반복적인 포토리소그라피 공정을 실시하여 미세 패턴을 형성함으로써 생산성과 경제성을 향상시킬 수 있는 표시판 및 그 제조 방법을 제공한다.
본 발명의 일 양태에 따른 표시판은 박판; 상기 박판 상부에 형성된 금속층; 상기 금속층에 형성되고 구별 가능한 외곽선을 가지는 표시 패턴; 및 상기 표시 패턴의 외곽선 내에 형성된 복수의 미세 패턴을 포함한다.
상기 박판은 금속 또는 비금속 소재를 포함하고, 상기 박판은 가공면이 경면 처리 및 레벨링 처리되며, 상기 박판은 염색 또는 채색될 수 있다.
상기 금속은 크롬을 포함하며, 0.3 내지 1.0㎛의 두께로 형성되고, 상기 크롬은 실버, 다크블루, 골드, 로즈골드 또는 블랙중 어느 하나 또는 2종 이상 혼합한 색상을 갖는다.
상기 표시 패턴은 문자, 숫자, 문양 등을 포함하고, 상기 미세 패턴은 다양한 선들 각각 또는 선들의 조합, 다양한 도형 각각 또는 이들의 조합, 선들과 도형의 조합으로 마이크로 단위 또는 나노 단위의 폭 및 간격으로 형성된다.
본 발명의 다른 양태에 따른 표시판 제조 방법은 박판 상부에 금속층 및 포토레지스트층을 적층 형성하는 단계; 구별 가능한 외곽선을 갖는 표시 패턴과 상기 표시 패턴 사이에 복수의 미세 패턴이 형성된 패턴 마스크를 이용하여 상기 포토레지스트층을 패터닝하는 단계; 상기 패터닝된 포토레지스트층을 이용하여 상기 금속층을 식각하여 구별 가능한 외곽선을 갖는 상기 표시 패턴과 상기 표시 패턴 사이에 복수의 미세 패턴을 형성하는 단계를 포함한다.
상기 박판은 금속 또는 비금속 소재를 포함하며, 상기 박판은 가공면이 경면 처리 및 레벨링 처리되고, 상기 박판은 염색 또는 채색될 수 있다.
상기 금속층은 크롬을 포함하며, 0.3 내지 1.0㎛의 두께로 형성되고, 상기 크롬은 실버, 다크블루, 골드, 로즈골드 또는 블랙중 어느 하나 또는 2종 이상 혼합한 색상을 갖는다.
상기 패턴 마스크는 투명 기판 상부에 금속층 및 포토레지스트층을 적층 형성하는 단계; 상기 표시 패턴과 상기 표시 패턴 사이에 복수의 미세 패턴을 도안한 후 상기 표시 패턴 및 미세 패턴에 따라 패턴 제러네이터의 빔을 조사하여 상기 포토레지스트층을 패터닝하는 단계; 및 상기 패터닝된 포토레지스트층을 식각 마스크로 상기 금속층을 식각하여 상기 표시 패턴과 상기 표시 패턴 사이에 복수의 미세 패턴을 형성하는 단계에 의해 제작된다.
상기 표시 패턴은 문자, 숫자, 문양 등을 포함하고, 상기 미세 패턴은 다양한 선들 각각 또는 선들의 조합, 다양한 도형 각각 또는 이들의 조합, 선들과 도형의 조합으로 형성되며, 상기 미세 패턴은 마이크로 단위 또는 나노 단위의 폭 및 간격으로 형성된다.
본 발명에 의하면, 투명 기판상에 패턴 제너레이터를 이용한 포토리소그라피 공정으로 다양한 문자, 숫자, 문양 등의 표시 패턴과 그 사이에 미세 패턴이 형성된 마스크를 제작하고, 이러한 마스크를 이용한 포토리소그라피 공정으로 금속 박판상에 금속층으로 다양한 문자, 숫자, 문양 등의 표시 패턴과 그 사이에 미세 패턴을 형성한다. 따라서, 동일한 마스크를 이용하여 반복적인 포토리소그라피 공정을 실시하여 미세 패턴을 형성함으로써 생산성과 경제성을 향상시킬 수 있다. 그리고, 미세 패턴을 형성하는 금속층으로 크롬 등의 친환경 물질을 이용함으로써 친환경 제품을 생산할 수 있을 뿐만 아니라, 내마모성, 적용성 및 응용성을 향상시킬 수 있다.
또한, 홀로그램 전사지를 이용한 핫 스탬핑 방식의 단점을 극복하고, 사용 재료, 색상 및 다양한 패턴을 적용하여 다양한 시각적인 효과를 넣을 수 있고, 서로 다른 패턴 및/또는 서로 다른 선폭을 갖는 패턴의 중첩에 의하여 중첩적인 홀로그램 현상을 발생시킬 수 있다.
그리고, 표시 패턴과 그 사이에 미세 패턴이 형성된 마스크를 이용하여 표시판을 제조함으로써 유사품을 제조하기 어려울 뿐만 아니라 공정 또는 기술적이나 비용 측면에서 위조 제품, 모조품 제조를 억제할 수 있으므로 본 발명에 따른 표시판을 정품 인식표로 사용할 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예를 상세히 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시 예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이다. 도면에서 여러 층 및 각 영역을 명확하게 표현하기 위하여 두께를 확대하여 표현하였으며 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭하도록 하였다. 또한, 층, 막, 영역, 판 등의 부분이 다른 부분 “상부에” 또는 “위에” 있다고 표현되는 경우는 각 부분이 다른 부분의 “바로 상부” 또는 “바로 위에” 있는 경우뿐만 아니라 각 부분과 다른 부분의 사이에 또 다른 부분이 있는 경우도 포함한다.
도 1(a) 내지 도 1(d)는 본 발명의 일 실시 예에 따른 표시판 제조에 이용되 는 미세 패턴을 갖는 패턴 마스크의 제조 과정을 설명하기 위한 단면도이고, 도 2(a) 내지 도 2(c)는 패턴 마스크의 평면 및 단면 개략도이다. 또한, 도 3(a) 내지 도 3(d)는 이러한 패턴 마스크를 이용하여 미세 패턴의 표시판을 제조하는 과정을 설명하기 위한 단면도이고, 도 4 및 도 5는 본 발명에 따라 제조된 표시판의 평면 개략도 및 표시판의 일부 문자의 단면도이다. 이하, 도 1(a) 내지 도 1(d)를 이용하여 패턴 마스크의 제조 과정을 설명하고, 도 3(a) 내지 도 3(d)를 이용하여 표시판 제조 과정을 설명한다.
도 1(a)을 참조하면, 투명 기판(11) 상부에 예를들어 크롬을 도금하여 제 1 금속층(12)을 형성한 후 제 1 금속층(12) 상부에 제 1 포토레지스트층(13)을 형성한다. 여기서, 투명 기판(11)은 유리, 석영 또는 수정을 이용할 수 있다. 그리고, 제 1 포토레지스트층(13)은 특정 파장의 빛을 받으면 반응하는 일종의 감광 고분자 화합물(Photosensitive Polymer)로서, 이용되는 빛의 파장에 따라 선택하여 이용할 수 있다. 제 1 포토레지스트층(13)은 적정한 두께로 형성하며 두께 균일성을 확보하는 것이 중요하다. 이를 위해 본 실시 예에서는 포토레지스트 AZ7210을 4000rpm의 회전 속도로 10초간 스핀 코팅(spin coating)하고, 핫플레이트 또는 오븐에서 90℃의 온도로 1분 30초간 건조하여 제 1 포토레지스트층(13)을 형성한다. 그리고, 제 1 포토레지스트층(13)에 구현하고자 하는 문자, 숫자, 문양 등의 다양한 표시 패턴과 그 표시 패턴 사이의 미세 패턴을 오토캐드(Auto CAD) 등의 프로그램을 사용하여 도안하고, 도안된 패턴대로 패턴 제너레이터(Pattern Generator)(14)의 빔(15)을 제 1 포토레지스트(13)에 조사한다. 여기서, 표시 패턴 사이의 미세 패턴 은 직선, 곡선, 여러 각도의 사선 및/또는 이들의 조합, 삼각형, 사각형, 다각형, 원형 및/또는 이들의 조합, 선들과 다각형간의 조합등을 모두 포함한다. 이러한 미세 패턴은 마이크로 단위 또는 나노 단위의 폭 및 간격을 갖는데, 서로 다른 폭 및 간격을 가질 수도 있고 동일 폭 및 간격을 가질 수도 있다. 예를들어 상품명 또는 로고를 구현하기 위해서는 상품명 또는 로고의 외곽선에 대응하는 표시 패턴이 형성되고, 표시 패턴 내에 마이크로 단위 또는 나노 단위로 상기 다양한 미세 패턴이 형성된다. 이때, 상기 표시 패턴은 표시판에 형성하고자 하는 문자, 숫자, 문양 등과 거울상으로 형성된다. 따라서, 제 1 포토레지스트층(13)은 마이크로 단위 또는 나노 단위의 패턴으로 노광된다. 또한, 패턴 제너레이터(14)는 이-빔 리소그래퍼(E-beam lithographer) 또는 UV 레이저를 이용할 수 있다.
도 1(b)를 참조하면, 부분적으로 노광된 제 1 포토레지스트층(13)을 현상액을 도포하거나 현상액에 침지한다. 따라서, 제 1 포토레지스트층(13)중에서 노광되지 않은 부분이 제거되어 제 1 금속층(12)을 선택적으로 노출시키는 제 1 포토레지스트 패턴(13A)이 형성된다. 여기서, 현상액은 CDP-18 또는 AZ300mif(2.38%)를 사용할 수 있으며, 현상 시간은 10∼20초 동안 실시하는 것이 바람직한데, 현상 시간이 길면 포토레지스트 패턴(13A)이 일부 손상될 수 있으며, 현상 시간이 짧으면 노광되지 않은 부분의 제 1 포토레지스트층(13)을 완전히 제거할 수 없다.
도 1(c)를 참조하면, 제 1 포토레지스트 패턴(13A)을 식각 마스크로 제 1 금속층(12)을 식각한다. 식각 공정은 2∼3분 동안 실시하는 것이 바람직하며, 습식 식각 공정 또는 건식 식각 공정을 이용할 수 있다.
도 1(d)를 참조하면, 아세톤 등을 이용하여 제 1 포토레지스트 패턴(13A)을 제거한다. 따라서, 투명 기판(11) 상부에 제 1 금속층 패턴(12A)이 형성된 패턴 마스크(20)가 제조된다. 즉, 패턴 마스크(20)에는 도 2(a) 내지 도 2(c)에 도시된 바와 같이 형성하고자 하는 표시판의 패턴과 거울상의 패턴이 제 1 금속층 패턴(12A)에 의해 형성된다. 여기서, 도 2(a)는 패턴 마스크(20)의 평면 개략도이고, 도 2(b)는 패턴 마스크(20)의 일 부분(A)의 확대 평면 개략도이며, 도 2(c)는 도 2(b)의 Ⅰ-Ⅰ' 라인을 절취한 상태의 단면도이다. 즉, 제 1 금속층 패턴(12A)에 의해 표시 패턴이 형성되고, 표시 패턴 내에 제 1 금속층 패턴(12A)으로 미세 마스크 패턴(21)이 형성된다.
상기와 같은 과정으로 제조된 패턴 마스크(20)를 노광 마스크로 이용한 포토리소그라피 공정 및 식각 공정으로 표시판을 제조하는데, 이러한 표시판 제조 과정을 도 3(a) 내지 도 3(d)를 이용하여 설명하면 다음과 같다.
도 3(a)를 참조하면, 소정 크기의 금속 또는 비금속 소재의 박판(31)을 준비하고, 박판(32)의 일면 상부에 예를들어 크롬을 도금하여 제 2 금속층(32)을 형성한 후 제 2 금속층(32) 상부에 제 2 포토레지스트층(33)을 형성한다. 여기서, 박판(31)은 금속 소재를 이용할 경우 제 2 금속층(32)에 대해 수용성, 내열성, 내식각성을 갖는 재료를 이용하는데, 스테인리스 스틸(Stainless steel), 알루미늄 또는 티타늄을 이용하는 것이 바람직하다. 또한, 박판(31)의 두께 균일도(Thickness uniformity)와 표면 평탄도(Surface flatness) 및 반사 효과를 최대화하고, 박 판(31) 가공에 따른 휨(Warp)을 최소화하는 것이 제품의 성능 및 양산성에 결정적인 영향을 미치므로 가공면을 폴리싱(polishing). 래핑(lapping) 또는 거울면을 증착하여 경면처리 및 레벨링(Leveling) 처리한다. 한편, 박판(31)은 필요에 따라 염색 또는 채색할 수 있다. 그리고, 제 2 금속층(32)은 0.3∼1.0㎛의 두께로 형성하는 것이 바람직하다. 즉, 제 2 금속층(32)의 두께가 얇을수록 제 2 금속층(32)에 형성되는 미세 패턴에 의한 빛의 굴절, 분산 및 반사 효과에 따르는 홀로그램과 유사한 시각적 효과가 저하되는 반면, 제 2 금속층(32)의 두께가 두꺼울수록 생산성 및 내마모성이 떨어지게 된다. 따라서, 원하는 표시판의 특성이나 재료 및 공정 조건에 따라 제 2 금속층(32)을 적절한 두께로 형성한다. 또한, 제 2 금속층(32)은 실버(silver), 다크블루(Dark blue), 골드(Gold), 로즈골드(Rose-gold) 또는 블랙(Black)의 색상을 가질 수 있으며, 필요에 따라 2 색상 이상을 혼용할 수 있다. 한편, 제 2 금속층(32)은 박판(31)과 식각률이 다른 금속 물질을 이용하여 형성할 수 있으며, 도금 뿐만 아니라 화학 증착 및 물리 증착을 포함하는 증착 공정으로 형성할 수 있다. 그리고, 제 2 포토레지스트층(33)은 적정한 두께로 형성하며 두께 균일성을 확보하는 것이 중요한데, 이를 위해 본 실시 예에서는 포토레지스트 AZ7210을 4,000rpm의 회전 속도로 10초간 스핀 코팅하고, 핫플레이트 또는 오븐에서 90℃의 온도로 1분 30초간 건조하여 제 2 포로레지스트층(33)을 형성한다.
도 3(b)를 참조하면, 다양한 문자, 숫자 및 문양의 외곽선에 해당하는 표시 패턴이 형성되고 표시 패턴 사이에 복수의 미세 패턴이 형성된 패턴 마스크(20)를 제 1 금속층 패턴(12A)이 하부로 향하도록 하여 제 2 포토레지스트층(33)과 정렬시 키고 노광 장치(34)를 이용하여 빛(35)을 조사한다. 따라서, 패턴 마스크(20)에 형성된 표시 패턴 및 미세 패턴이 제 2 포토레지스트층(33)에 전사되어 노광된다. 여기서, 노광 장치(34)는 패턴의 폭과 양산성 및 생산 원가, 그리고 재료에 따른 노광 방법에 따라 선택할 수 있으며, 얼라이너(Aligner) 또는 스테퍼(Stepper)를 이용할 수 있다.
도 3(c)를 참조하면, 제 2 포토레지스트(33)를 현상하여 제 2 금속층(32)의 소정 영역을 노출시키는 제 2 포토레지스트 패턴(33A)을 형성한다. 여기서, 현상액은 CDP-18 또는 AZ300mif(2.38%)을 이용할 수 있으며, 현상 시간은 10∼20초 동안 실시하는 것이 바람직하다.
도 3(d)를 참조하면, 제 2 포토레지스트 패턴(33A)을 식각 마스크로 제 2 금속층(32)을 식각한 후 제 2 포토레지스트 패턴(33A)을 제거한다. 제 2 금속층(32)의 식각 공정은 1∼4분 동안 실시하는 것이 바람직하며, 제 2 포토레지스트 패턴(33A)은 아세톤을 이용하여 제거한다. 또한, 식각 공정은 에천트(Etchant) CR7-SK에서 제 2 금속층(32)의 두께에 따라 24Å/sec 기준으로 실시한다. 따라서, 금속 또는 비금속 박판(31) 상부에 다양한 문자, 숫자 또는 문양의 표시 패턴과 표시 패턴 내에는 마이크로 단위 또는 나노 단위의 미세 패턴이 제 2 금속층 패턴(32A)으로 형성된다.
도 4는 본 발명의 일 실시 예에 따라 제조된 표시판의 평면도이고, 도 5는 표시판의 일 문자의 일부를 가로 방향으로 절취한 상태의 단면도이다. 도시된 바와 같이 경면 가공된 박판(31) 상에 제 2 금속층 패턴(32A)으로 표시 패턴이 형성되고, 표시 패턴 내에 마이크로 단위 또는 나노 단위의 미세 패턴(41)이 형성되어 문자, 숫자, 문양 등의 표시판(40)이 형성된다. 이러한 표시판(40)은 문자, 숫자, 문양 등의 크기에 따라 미세 패턴(41)의 수가 결정되며, 미세 패턴(41)의 폭 및 간격은 동일할 수도 있고, 서로 다를 수도 있다.
이러한 경면 가공된 박판(31) 표면 및 미세 패턴(41)에 의해 빛이 반사와 간섭을 일으켜 보는 각도 및/또는 조사되는 빛의 각도에 따라 중첩적인 홀로그램 현상을 포함한 다양한 홀로그램과 유사한 시각적인 효과를 나타낼 수 있다. 미세 패턴에 따른 시각적 효과는 미세 패턴의 형태에 따라 크게 4가지로 구분되어 나타난다. 즉, 직선, 사선 및 이들의 조합에 의한 미세 패턴의 경우에는 전체가 일체형으로 깨끗하게 보이고, 하나의 다각형 및 별 형상의 미세 패턴을 형성하는 경우에는 각 면이 구분되어 나타나게 된다. 또한, 하나의 원형 패턴을 형성하는 경우에는 빙글빙글 도는 효과를 보이고, 다수의 작은 원과 다각형으로 패턴을 형성하는 경우에는 각각의 초점이 작은 보석알을 박아놓은 것처럼 반짝이는 효과를 나타낸다.
도 1(a) 내지 도 1(d)는 본 발명의 일 실시 예에 따른 표시 패턴 및 미세 패턴을 갖는 패턴 마스크 제조 과정을 설명하기 위한 단면도.
도 2(a) 내지 도 2(c)는 본 발명에 따라 제조된 패턴 마스크의 평면 및 단면 개략도.
도 3(a) 내지 도 3(d)는 본 발명의 일 실시 예에 따른 패턴 마스크를 이용하여 표시판 제조 과정을 설명하기 위한 단면도.
도 4 및 도 5는 본 발명에 따라 제조된 표시판의 평면도 및 일부분의 단면도.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
11 : 투명 기판 12 : 제 1 금속층
13 : 제 1 포토레지스트층 14 : 패턴 제너레이터
12A : 제 1 금속층 패턴 13A : 제 1 포토레지스트 패턴
20 : 패턴 마스크 21 : 미세 마스크 패턴
31 : 박판 32 : 제 2 금속층
33 : 제 2 포토레지스트층 34 : 노광 장치
32A : 제 2 금속층 패턴 33A : 제 2 포토레지스트 패턴
40 : 표시판 41 : 미세 패턴
Claims (19)
- 금속 소재의 박판;상기 박판 상부에 형성된 금속층;상기 금속층에 형성되고 구별 가능한 외곽선을 가지는 표시 패턴; 및상기 표시 패턴의 외곽선 내에 형성된 복수의 미세 패턴을 포함하는 표시판.
- 삭제
- 제 1 항에 있어서, 상기 박판은 가공면이 경면 처리 및 레벨링 처리된 표시판.
- 제 1 항에 있어서, 상기 박판은 염색 또는 채색된 표시판.
- 제 1 항에 있어서, 상기 금속은 크롬을 포함하며, 크롬이 0.3 내지 1.0㎛의 두께로 형성된 표시판.
- 제 5 항에 있어서, 상기 크롬은 실버, 다크블루, 골드, 로즈골드 또는 블랙중 어느 하나 또는 2종 이상 혼합한 색상을 갖는 표시판.
- 제 1 항에 있어서, 상기 표시 패턴은 문자, 숫자, 문양 등을 포함하는 표시판.
- 제 1 항에 있어서, 상기 미세 패턴은 다양한 선들 각각 또는 선들의 조합, 다양한 도형 각각 또는 이들의 조합, 선들과 도형의 조합으로 형성되는 표시판.
- 제 8 항에 있어서, 상기 미세 패턴은 마이크로 단위 또는 나노 단위의 폭 및 간격으로 형성된 표시판.
- 투명 기판 상부에 금속층으로 구별 가능한 외곽선을 갖는 표시 패턴과 상기 표시 패턴 사이의 복수의 미세 패턴이 형성된 패턴 마스크를 제작하는 단계;금속 소재의 박판 상부에 금속층 및 포토레지스트층을 적층 형성하는 단계;구별 가능한 외곽선을 갖는 표시 패턴과 상기 표시 패턴 사이에 복수의 미세 패턴이 형성된 상기 패턴 마스크를 이용하여 상기 포토레지스트층을 패터닝하는 단계;상기 패터닝된 포토레지스트층을 이용하여 상기 금속층을 식각하여 구별 가능한 외곽선을 갖는 상기 표시 패턴과 상기 표시 패턴 사이에 복수의 미세 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 표시판 제조 방법.
- 삭제
- 제 10 항에 있어서, 상기 박판은 가공면이 경면 처리 및 레벨링 처리된 표시판 제조 방법.
- 제 10 항에 있어서, 상기 박판은 염색 또는 채색된 표시판 제조 방법.
- 제 10 항에 있어서, 상기 금속층은 크롬을 포함하며, 크롬이 0.3 내지 1.0㎛의 두께로 형성된 표시판 제조 방법.
- 제 14 항에 있어서, 상기 크롬은 실버, 다크블루, 골드, 로즈골드 또는 블랙중 어느 하나 또는 2종 이상 혼합한 색상을 갖는 표시판 제조 방법.
- 제 10 항에 있어서, 상기 패턴 마스크는 투명 기판 상부에 금속층 및 포토레지스트층을 적층 형성하는 단계;상기 표시 패턴과 상기 표시 패턴 사이에 복수의 미세 패턴을 도안한 후 상기 표시 패턴 및 미세 패턴에 따라 패턴 제러네이터의 빔을 조사하여 상기 포토레지스트층을 패터닝하는 단계; 및상기 패터닝된 포토레지스트층을 식각 마스크로 상기 금속층을 식각하여 상기 표시 패턴과 상기 표시 패턴 사이에 복수의 미세 패턴을 형성하는 단계에 의해 제작되는 표시판 제조 방법.
- 제 16 항에 있어서, 상기 표시 패턴은 문자, 숫자, 문양 등을 포함하는 표시판 제조 방법.
- 제 16 항에 있어서, 상기 미세 패턴은 다양한 선들 각각 또는 선들의 조합, 다양한 도형 각각 또는 이들의 조합, 선들과 도형의 조합으로 형성되는 표시판 제조 방법.
- 제 18 항에 있어서, 상기 미세 패턴은 마이크로 단위 또는 나노 단위의 폭 및 간격으로 형성하는 표시판 제조 방법.
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