JP2008230228A - 微小印セキュリティ強化物品 - Google Patents

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Abstract

【課題】 微小印セキュリティ強化物品を提供する。
【解決手段】 本発明は、基板上に直接またはそれによって支持される追加の層の上にイメージ形成される第１の印と、基板内のまたは基板によって支持されるフレーク上にイメージ形成される第２の印との関連性によって与えられる、強化されたセキュリティ特徴を有する物品を提供する。少なくとも第２の印は拡大によってのみ識別できる。
【選択図】図１

Description

関連出願の相互参照
本発明は、２００６年１２月１５日出願の米国特許出願第６０／８７５０４１号からの優先権を主張し、これを参照により本明細書に採用する。
本発明は、光学デバイス、そのようなデバイスの製作方法、およびそのようなデバイスを組み込む物品に関する。本発明はまた、そのようなデバイスを用いる物品、文書等の認証方法にまで及ぶ。
紙幣への印刷、押印等、高価格品の包装、容器用のシールのために、および市販品への直接応用のためにさえ、様々な偽造防止デバイスが開発されてきた。
１つの偽造防止方法は層状の顔料フレーク上の微小記号を用いる。これらの記号は、反射率等（複数の）光学特性の局所的変化による多層色シフト顔料フレークの層のうちの少なくとも１つの層の上に形成される。
米国特許第７２４１４８９号は、エンボス加工されたフレーム、記号、および任意選択の格子を有する堆積基板上に（複数の）薄膜層を堆積させることによって形成される不透明なフレークを教示している。米国特許第７２５８９１５号は、それらの中またはそれらの上に記号を有する、隠しタゲント（ｔａｇｇｅｎｔ）またはタガント（ｔａｇｇａｎｔ）、透明なフレークを含むフレーク、光学的に可変なフレーク、および「銀」タゲント・フレークを教示している。光学的に可変な回折顔料は、米国特許第５１３５８１２号、第６６９２８３０号、第６７４９７７７号、第６７４９９３６号、第６８１５０６５号、第６８４１２３８号、および第６９０２８０７号に記載されている。
隠しセキュリティ用途のためのフレークは、何気ない観察によっては一般的に分からず、例えば、顕微鏡のもとでの検査を必要とする。ときには、印（しるし）を含む隠しフレークは、バルク顔料またはそれらが混合される他の物質の視覚的特徴と実質的に合致し、隠し顔料フレークの割合は、顕微鏡検査のもとでさえ隠し顔料フレークが容易に見つからないように、十分に少ない。例えば、インク組成が、顔料の全重量の１％未満に調合された隠し顔料フレークを有する場合、または、例えば、隠し顔料が（１％より高い濃度であっても）、インク組成を形成する顔料の残部に似た光学デザインを有する場合である。
もう１つの偽造防止方法は、パターンまたはウインドウを形成した基板によって支持されるまたはそれを支持する特殊効果の被覆または層と一緒に、パターンまたはウインドウを形成した基板を有する光学構造、すなわちクロマグラム（Ｃｈｒｏｍａｇｒａｍ）を使用する。様々なデザインのクロマグラムは、全てＰｈｉｌｌｉｐｓらの名前で米国特許第７２２４５２８号および米国特許出願公開第２００６０２８５１８４号、第２００７０２０６２４９号に記載されている。
Ｐｈｉｌｌｉｐｓらの名前での米国特許第６９８７５９０号は、ホログラムの形でその上に適用された表面レリーフ・パターンを有する光透過基板を含む光学デバイスを開示しており、反射材料のパターン形成された層は、英数字、バーコード、または絵もしくは図のデザインを形成するように、表面レリーフ・パターンの部分を覆って適用される。光学的にアクティブな被覆は、表面レリーフ・パターンの露出される部分に所望の光学効果を提供するために、反射材料のパターン形成された層および表面レリーフ・パターンの露出される部分を覆うインクまたは塗料として堆積されまたは適用される。Ａｒｇｏｉｔｉａらの名前での米国特許出願第２００６００７７４９６号は、英数字、バーコード、または図形もしくは絵のデザインなどのパターン、およびこのようなパターンの周りの領域内の付加的光学効果を示すクロマグラムを教示している。
全ての意図および目的のために、これまでまたはこれから先に記載される全ての参考文献は、参照により本明細書で採用する。
米国特許第７２４１４８９号 米国特許第７２５８９１５号 米国特許第５１３５８１２号 米国特許第６６９２８３０号 米国特許第６７４９７７７号 米国特許第６７４９９３６号 米国特許第６８１５０６５号 米国特許第６８４１２３８号 米国特許第６９０２８０７号 米国特許第７２２４５２８号 米国特許出願公開第２００６０２８５１８４号 米国特許出願公開第２００７０２０６２４９号 米国特許第６９８７５９０号
多数のセキュリティ特徴が当技術分野で知られているにもかかわらず、偽造者の精巧さは絶えず成長している。したがって、偽造することがさらに困難なセキュリティ特徴が望ましく、それゆえに、本発明の目的は、強化された隠し特徴を備え、製造が容易で、発見および偽造が困難なセキュリティ・デバイスを提供することである。
本発明の目的はまた、論理的関連性によって相互に結合される２つのセキュリティ特徴を提供することである。これは、物体を認証することができるシステムを提供する。
したがって、本発明は、基板と、その基板内のまたはその基板によって支持される１つまたは複数のフレークとを含む物品であって、基板は、その上に直接またはそれによって支持される追加の層の上にイメージ形成される第１の印を有し、各フレークは第２の印をもち、第１および第２の印は拡大によってのみ識別でき、第１の印は、物品の証明を与えるために第２の印と関連性を有することを特徴とする物品を提供する。
本発明は、それの好ましい実施形態を表す添付の図面を参照してより詳細に記述されるであろう。
本出願の目的のために、印（しるし）は、文字、数字、商標、ロゴ、任意の言語記号、バーコード等から選択される１つまたは複数の記号として理解される。国旗または遊戯カードの印等の記号的イメージもまた、印と想定される。もちろん、印は、色または質感によって、例えば印刷または押印によってイメージ形成されるが、印は単に色または特定の質感にとどまらない。印は普通の意味をもった視覚標識と理解される。
本発明によれば、物品に対するセキュリティ特徴は、物品内のもう１つの印と関連する印をもつフレークによって提供される。一例として、物品は、それにホット・スタンプされたクロマグラム内に第１の印を有し、物品上に印刷された色シフト・インク内に分散されたフレーク上に第２の印を有し、第１および第２の印は同じイメージを分け与える。
第１および第２の印の間の関連性は、異なるレンダリング技術および材料に関連して、寸法、フォント、色、および鮮明さが任意選択的に異なるにもかかわらず、両方の印が同じ記号、ロゴ等であるというように、第１および第２の印が「グループを成す」、という結論に観察者を導くイメージまたは記号間の関係として理解される。図１を参照してさらに論じられる一例として、フレーク上の
Figure 2008230228
記号は、回折構造上の
Figure 2008230228
記号と関連する。
別法として、第１および第２の印は、「１」と「ｏｎｅ」、「ｌｏｖｅ」とハート型の記号等のように、同じ含意を有する記号的表現の異なる記号である。例えば、カナダ国旗をもつフレークは、「Ｃａｎａｄａ」という単語と関連する。
別法として、第１および第２の印は、単語または物品の記号的表現を形成するために相互に組み合わされる異なる記号である。一例として、「ＵＮＤＥＲＳＴＡＮＤＩＮ」と「Ｇ」のように、第１の印は１つの文字を欠く単語を与え、第２の印はその欠けている文字である。別法として、第１の印は１片が欠けた不完全なパズルであり、第２の印はその欠けている１片である。
別法として、第１および第２の印は、例えば錠と鍵のイメージのように、互いの不足を相互に供給するまたは互いに補完する逆の記号である。
本発明は、人の裸眼では識別できない微小印をもつフレークを用いる隠しセキュリティ特徴を提供する。すなわち、その印を見るためには、約１００倍以上の拡大が必要とされる。微小印は２００ミクロン未満および好ましくは５０ミクロン未満の直径を有する印である。
第１および第２の印の間の関連性は、物品またはそれらの部品が２つの製造場所の間で輸送され、その過程で盗まれる可能性がある場合に、特に有用な隠しセキュリティ特徴である。準備ができた物品の認証には顕微鏡または拡大鏡のもとでの拡大を必要とする。一実施形態では、拡大および特定のフィルターまたは波長が拡大で必要とされる。
本発明の一実施形態では、互いに関連する第１および第２の印を有する物品はクロマグラムである。従来のクロマグラムは、色シフト・インクの光学薄膜干渉および同じデバイス内のホログラムからの回折干渉による２つの明白な検出の形態を一緒にもたらす。本発明によると、新規のクロマグラム・デバイスは、回折フォイル構造の上および色シフト・インクの中の両方に、ホログラム上のエンボス加工された微細構造およびインク内の印をもつフレーク等のような、適合する隠し特徴を有する。このことは、同じ領域内でのセキュリティ特徴の積層化、および認証ならびに偽造防止目的のための二重認識を可能とする。この方法に基づく積層化はまた、一般人による認識がもっと容易であるさらに簡単なホログラムを可能とする。
図１から図３を参照して、本発明の一実施形態を次に記述する。一例として、物品１０１は、格子状の
Figure 2008230228
微小記号を有するユーロ・モチーフを備えるホログラムである。図１は、２つの視覚的に識別できる領域を含む物品１０１の前面を示す。第１の領域１１０では、回折構造１１３は基板１００によって支持され、外側のリング部分１１２は格子状の
Figure 2008230228
記号１１１の形で印をもつ。第２の領域１２０では、基板１００は、その中に分散された１つまたは複数のフレーク１２１を有する被覆１２２を支持し、そのフレーク１２１は
Figure 2008230228
印１２３をもつ。フレーク１２１の直径は３ミクロンと２００ミクロンとの間であり、いくつかの実施形態では、フレークは拡大なしで識別できるほどに十分に大きいが、しかしながら、印は拡大のもとでのみ見ることができる。
印１１１および１２３は、それらの寸法のために人の裸眼では見えないが、しかし拡大鏡または顕微鏡を用いて検出することができる。図２は、回折印１１１が拡大後に識別できるように、回折構造１１３の境界部分１２６の拡大されたイメージ１２５を示す。
図３によって例示される一例として、回折構造１１３は、
Figure 2008230228
記号１１１を含む格子状パターン５２２で基板１００をエンボス加工することによって形成され、フレーク１２１は、イメージ１２３でエンボス加工された複製基板上に単層または多層の被覆を真空堆積し、その単層または多層の被覆を複製基板からフレーク１２１に分離することによって形成される。基板１００および複製基板のエンボス加工は、ダイアモンド彫刻、マスキング、直接レーザ書き込み、電子ビーム書き込み、レーザ干渉、リソグラフィおよびホログラフィ法等の異なる技術によって実施することができる。
第１の印１１１および第２の印１２３は同じ記号
Figure 2008230228
を分け与えるが、しかしフレーク１２１上の印１２３は、リング１１２の印１１１とは異なる技術によって得ることができ、したがって、印１２３および１１１のうちの１つはもう一方よりも鮮明に見えることがある。
さらに一例として、印１１１は、回折リング１１２を生成するために格子状にできるかもしれない。
さらに、第１の印１１１および第２の印１２３は寸法が異なってもよく、それでもなお両方とも拡大なしでは見えない程度に十分小さい。しかしながら、第１および第２の印の間の関連性は、顕微鏡または拡大鏡を用いる観察者によって容易に認識されるであろう。
さらに、図１は、第１の印のもう１つの型すなわち回折構造１１３内の単語「ｅｕｒｏ」を例示しており、これは「ｅｕｒｏ」記号１２３と同じ含意を有する。
図１から図３を参照すると、第１の印は格子状パターン５２２の一部分である。一般に回折格子は、峰と谷の構造を形成するために材料内の線または溝からなる本質的に繰り返し構造である。回折格子が反射面上にミリメータ当たり数百本から数千本の範囲の一定の間隔の溝を有すると、可視スペクトル範囲内で所望の光学効果が生じる。表面レリーフ・パターン５２２を形成するために使用できる方法は当業者には既知である。例えば、基板１００の表面は、加熱されたニッケルのエンボス加工シムと接触させてそれを高圧で押し付けるなどの既知の方法によってエンボス加工できる。その他の方法には、フォトリソグラフィおよびパターン形成された表面に対するプラスチック基板の成型が含まれる。
一方法では、基板１００は、フィルムの表面を加熱軟化させ、次いでそのフィルムを、軟化した表面上に回折格子またはホログラフィ・イメージを与えるエンボス加工ローラーに通すことによってエンボス加工された熱可塑性フィルムである。このようにして、その上に回折格子またはホログラフィ・イメージを備える、事実上無制限の長さのシートを形成することができる。別法として、光学構造１１３は、ＰＭＭＡ等の紫外線（ＵＶ）硬化性ポリマーで被覆されたプラスチック・フィルムのロールを１組のＵＶ透明ローラーに通すことによって作ることができ、これによりローラーはＵＶ硬化性ポリマー内にパターンを配置し、ポリマーは、ＵＶ透明ローラーを通過するＵＶ光によって硬化される。
任意選択的に、格子パターン５２２は、厚さ約５から２００ｎｍの反射層５２４を形成するために、５０％より高い、好ましくは７０％より高い反射率を有する材料、例えばアルミニウムで、または、ＺｎＳ、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２材料等の約１．６５以上の屈折率を有する誘電体材料からなり、厚さが１０から２００ｎｍの範囲にある高反射率（ＨＲＩ）層で被覆される。反射層５２４は、例えば、米国特許第５３１４７６７号、第６６１６１９０号、および第７０８１８１９号で記載されているように、非金属化ホログラムを形成するために任意選択的に非金属化される。非金属化は異なる方法で実施できる。もっとも普通の方法は、Ａｌ層を真空被覆し、次いでマスキングおよびエッチングすることである。もう１つのより新しい技術では、Ａｌ層は所望の領域にのみ真空下で堆積させることができる。
図４は、図１から図３を参照して記述されるものに似ているが、しかしながら、エンボス加工可能な樹脂層２２１が基板２００によって支持され、
Figure 2008230228
記号１１１を含む格子状パターン２２２が樹脂層２２１上にエンボス加工され、場合により、上述の従来技術で教示されるような他の材料の１つまたは複数の層で被覆され、このようにして回折構造２２０を形成するという点で異なる、一実施形態を例示する。回折構造２２０は、基板２００上に被覆され、またはそれに接着接合される。一例として、図４で示す物品は紙の文書であり、その基板２００は紙の基板である。
図５によって例示される一実施形態では、第１の印１７１は、基板１７０上に直接または基板によって支持される追加の層、例えば図示されない背景着色層上のどちらかにインク印刷されるが、一方、第１の印と関連する第２の印をもつフレーク１２１は、基板１６０によって支持される、または図８を参照してさらに議論されるように基板１６０内に分散される。
別法として、第１の印は、反射層５２４等の基板上に被覆された反射層の非金属化によってイメージ形成され、この場合、格子５２２は任意選択である。非金属化反射層は、基板によって支持されるクロマグラム内にあってもよい。一実施形態では、非金属化反射層は、例えば米国特許出願第２００７０２０６２４９号で記載されているように、反射層上に真空被覆された誘電体層および吸収体層を有する色シフト・フォイルの一部分である。
別法として、第１の印は、例えば米国特許第５９８２５４５号および第５３７８５０８号で記載されているように、レーザ書き込みによってイメージ形成される。
別法として、第１の印は、ダイアモンド彫刻、マスキング、電子ビーム書き込み、レーザ干渉、ドライ・エッチング、接触露光等の様々な異なる微細構造化技術のうちの１つまたは組合せによって形成することができる。
さらに、クロマグラムを形成するために、本明細書で記載されている第１の印をもつ任意の構造に対して、もっと多くの層を追加することができる。
本発明の一実施形態では、第１の印は、約１００倍以上の拡大によってのみ識別できる微小印である。
第１または第２の印が前述の技術のうちの１つを用いて形成されると、それは、エンボス加工、非金属化、エッチング、インク印刷、押印、彫刻等によってイメージ形成される印の直接または逆のイメージのどちらかであり、表面レリーフ素子の作製に関係するこれらの技術は、半導体およびホログラムの業界には既知である。図６および図７は、
Figure 2008230228
記号の直接イメージ６２０および周囲の領域６１１によって形成される同じ記号の逆イメージ６１０を示す。領域６２０および６１１は、基板もしくは基板によって支持される追加の層の表面上、または各フレーク上の回折格子の領域である。
図１を参照すると、フレーク１２１は、例えば米国特許第７２４１４８９号で教示されるようなエンボス加工ベース上に形成される第２の印１２３の直接または逆のイメージの隆起したパターンを有する１つまたは複数の層で構成することができる。別法として、第２の印１２３をイメージ形成する場合、第１の印の場合と同じ方法を用いることができ、その方法とは、プレフレークのシートをフレークの大きさにするまたはフレークをベースから分離する前に、そのシートを非金属化、レーザ書き込み、エッチング、押印、または彫刻する方法である。
一実施形態では、フレーク１２１は回折格子および印の両方を有し、この場合、印は直接レーザ書き込みによってイメージ形成される。もう１つの実施形態では、記号
Figure 2008230228
および格子の組合せは、レーザ干渉に続くマスキング加工によって得ることができる。
一実施形態では、インク組成１２２は、顔料の全重量の１％未満に調合される隠し顔料フレーク１２１を有する。別法として、図３で示すように、隠し顔料１２１は、もっと高い濃度であっても、インク組成１２２を形成する顔料５１２の残部に似た光学デザインを有する。
第１の印の直接または逆のイメージは、インク印刷イメージ、レーザ書き込みイメージ、電子ビーム書き込みイメージ、エンボス加工イメージ、エッチング・イメージ、押印イメージ、彫刻イメージ、塗布イメージ、および非金属化イメージ、またはこのようなイメージの組合せとすることができる。第２の印の直接または逆のイメージは、レーザ書き込みイメージ、電子ビーム書き込みイメージ、エンボス加工イメージ、エッチング・イメージ、押印イメージ、彫刻イメージ、および非金属化イメージ、またはこのようなイメージの組合せとすることができる。
図８を参照すると、本発明の一実施形態は、図１で示すフレーク１２１に似た印担持フレーク７１１が組み込まれた透明基板７００を有する。回折構造７２０は回折構造２２０に似ている。しかしながら、第１の印がフレーク７１１上の第２の印と関連している限り、構造２２０の代わりに、第１の印をもつ任意の前述の構造を本実施形態で使用することができる。別法として図９で示すように、フレーク７１１は基板７００の表面上に分散することができ、この場合には、この基板は透明である必要はない。一例として、フレーク７１１は、第１の印をもつ構造を被覆するまたは接着接合する前に、基板に流され、静電的に貼り付けられる。
本出願全体にわたって、基板は、保護を必要とする任意の物体、またはこのような物体の一部分であると理解されたい。具体的には、透明基板が必要な図８で示す実施形態を例外として、基板は紙、ボール紙、またはプラスチックで作ることができる。
一実施形態では、本発明の物品は、米国特許出願第２００７０１９５３９２号、第２００６００７７４９６号および第２００７００５８２２７号で教示されるように、回折構造および色シフト構造を有するクロマグラムである。さらに、このクロマグラムは、上述したように回折構造上にイメージ形成された第１の印を有し、色シフト・インクの被覆内に分散されたフレーク上に第２の印を有し、ここで、第１および第２の印は上で論じたように相互に関連し、例えば同じ記号を分け与える。
本実施形態では、第２の印をもつフレークは、クロマグラムの２つの部分、すなわち、米国特許出願第２００７０２０６２４９号で教示されるように、回折構造および色シフト・フォイルを結合する接着層内に分散され、ここで、このフレークは、回折構造または色シフト・フォイル内の透明ウインドウを通して見ることができ、第１の印は、前述の技術のうちの１つを用いて、２つの部分のどちらか一方の上にイメージ形成される。図１０を参照すると、基板９６４は反射層９２２、誘電体層９２０および吸収体層９１８で被覆されて、光学的に可変な色シフト・フォイル９２３を形成する。樹脂／ハードコート層とすることができる基板９１２は、光がそこを貫通するのを防止するために、格子９１４の部分と接触する高反射被覆９１６のパターンで部分的に被覆される格子９１４をその上に有する。樹脂層９１２は、印刷された不透明な印９１９を備える光透過保護層９２８で任意選択的に被覆される。
図１０は、２つの光学構造を接着結合して一緒にした結果である。好ましくは、格子９１４が基板９１２上にエンボス加工され、パターン化された非金属化アルミニウム９１６で被覆され、次いで、その中に分散され、反射層９１６内で基板９１２がアルミニウムで被覆されていないウインドウを通じて識別できる微小印をもつフレーク９３０を有する透明なホット・スタンプ接着層９６２を用いて、デメット・ホログラムが光学スタックにホット・スタンプまたはホット・ロール・ニップされる。フレーク９３０上の第２の印は、保護層９２８の上部、または基板９１２の上、または基板９６４の上に印刷された第１の印９１９と、上で論じた任意の方法で関連付けられる。別法として、第１の印は、反射層９１６または９２２内のパターンによって、または格子９１４によって形成される。
一実施形態では、第２の印をもつフレークは、色シフト構造の完全なまたは部分的なファブリ・ペロー・デザインを真空被覆する前に回折フォイルに取り付けられ、例えば、フレークはフォイルに流れ、静電的に貼り付く。図１１を参照すると、回折フォイルは、格子パターン８１５でエンボス加工され、第１の印をイメージ形成する部分８２５を有する非金属化反射層８２０で被覆された基板８００を含み、その上にフレーク８５１が配置されている。結果として生じる構造は、例えば米国特許第７２２４５２８号で記載されているように、誘電体層８３０および吸収体層８４０で被覆されて、色シフト・ファブリ・ペロー構造を形成する。別法として、第１の印は格子パターン８１５によってイメージ形成され、反射層８２０の非金属化は任意選択である。
本発明の一実施形態では、第１および第２の印をもつ物品は、例えば非金属化ホログラムの裏側に配置された反射体／誘電体／吸収体型の３層デザインを有するクロマグラム・フォイルである。第１の印は、表面レリーフ微細構造を作製する初期段階の間にホログラム上に直接エンボス加工され、任意選択的に非金属化される。エンボス加工は、ダイアモンド彫刻、マスキング、直接レーザ書き込み、電子ビーム書き込み、レーザ干渉、リソグラフィおよびホログラフィ法等の異なる技術を用いて実施することができる。第１の印は、クロマグラム・フォイルの色シフト被覆領域上に容易に置くことができる。
一実施形態では、色シフト・フレークは、非金属化ホログラムに着手するために印刷される。
要約すると、印をもつフレークは、図９で示すように基板に対して第１の印をもつ層の下側に、例えばエンボス加工可能な樹脂層２２１内のように第１の印をもつ層内に、または図１１で示すように第１の印をもつ層の上に、配置できる。
例示的な実施形態を参照して特定の発明が記載されてきたが、この記載は、限定する意味に解釈することを意図していない。本発明が記載されてきたが、本明細書に添付の特許請求の範囲に列挙されているように、本発明の精神から逸脱することなくこの記載を参照すると、例示の実施形態の様々な変更形態および組合せが、本発明の追加の実施形態と同様に、当業者には明らかであることが理解されよう。
したがって、添付の特許請求の範囲は、本発明の真の範囲に入るような、任意の変更形態または組合せを含むであろうことが意図されている。
本発明による物品の概略描写図である。 図１に示す物品の拡大部分図である。 図１に示す物品の概略断面図である。 本発明の一実施形態による物品の概略断面図である。 本発明の一実施形態による物品の概略描写図である。 ユーロ記号の直接イメージを示す図である。 周囲の回折領域によって形成されるユーロ記号の逆イメージを示す図である。 本発明の一実施形態による物品の概略断面図である。 本発明の一実施形態による物品の概略断面図である。 本発明の一実施形態によるクロマグラムの概略断面図である。 本発明の一実施形態によるクロマグラムの概略断面図である。

Claims (15)

  1. 基板と、前記基板内のまたは前記基板によって支持される１つまたは複数のフレークとを含む物品であって、
    前記基板が、それの上に直接またはそれによって支持される追加の層の上にイメージ形成される第１の印を有し、
    前記１つまたは複数のフレークの各々が、拡大によってのみ識別できる第２の印をもち、
    前記第１および第２の印が、同じ記号、または逆の記号、または同じ含意を有する記号的表現である異なる記号であること、または
    前記第１および第２の印が、単語または物品の記号的表現を形成するために相互に組み合わされる異なる記号であること、を特徴とする物品。
  2. 前記１つまたは複数のフレークの各々が、前記第２の印の直接または逆のイメージの隆起パターンを有する層を含む、請求項１に記載の物品。
  3. 前記第１または第２の印の直接または逆のイメージが、前記基板または前記追加の層の表面上、または前記フレークの各々の上に、１つまたは複数の回折領域によってそれぞれ形成される、請求項１に記載の物品。
  4. それの前記表面上に第１および第２の領域を含み、前記第１の領域が前記第２の領域と視覚的に異なり、前記第１の印が前記第１の領域内で拡大のもとで可視でき、前記第２の印が前記第２の領域内で拡大のもとで可視できる、請求項１に記載の物品。
  5. 前記基板が透明で、前記１つまたは複数のフレークがその中に配置される、請求項１に記載の物品。
  6. 前記追加の層を含み、前記１つまたは複数のフレークが、前記追加の層の下、中、または上にある、請求項１に記載の物品。
  7. 前記第１の印が前記基板の第１の面上にあり、前記第２の印が前記基板の前記第１の面とは反対側の第２の面上にある、請求項１に記載の物品。
  8. 前記第１の印が拡大によってのみ識別できる、請求項１に記載の物品。
  9. 前記追加の層を含み、前記追加の層が、背景顔料層、保護被覆、エンボス加工可能な樹脂層、反射層、および前記基板によって支持される色シフト・フォイルの層のうちの１つである、請求項１に記載の物品。
  10. 前記第１および第２の印が同じ記号である、請求項１に記載の物品。
  11. 前記第１および第２の印が逆の記号である、請求項１に記載の物品。
  12. 前記第１および第２の印が、同じ含意を有する記号的表現である異なる記号である、請求項１に記載の物品。
  13. 前記第１および第２の印が、単語または物品の記号的表現を形成するために相互に組み合わされる異なる記号である、請求項１に記載の物品。
  14. 前記第１の印の直接または逆のイメージが、インク印刷イメージ、レーザ書き込みイメージ、電子ビーム書き込みイメージ、エンボス加工イメージ、エッチング・イメージ、押印イメージ、彫刻イメージ、塗布イメージ、非金属化イメージ、およびそれらの組合せの群から選択される１つである、請求項１に記載の物品。
  15. 前記第２の印の直接または逆のイメージが、レーザ書き込みイメージ、電子ビーム書き込みイメージ、エンボス加工イメージ、エッチング・イメージ、押印イメージ、彫刻イメージ、非金属化イメージ、およびそれらの組合せの群から選択される１つである、請求項１に記載の物品。
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